JP2009249355A - フッ素化されたフルオレン誘導体およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明により、フルオレン構造を有するフルオレン誘導体の有機化合物において、前記フルオレン環の1, 3, 4, 5, 6, 8位がフッ素で置換された構成単位を有する前記有機化合物が提供される。
【選択図】なし
Description
(I)フルオレン環構造を有するフルオレン誘導体の有機化合物において、前記フルオレン環の1, 3, 4, 5, 6, 8位がフッ素で置換された一般式(1)で表される構成単位を含有するものであることを特徴とするフルオレン誘導体の有機化合物:
R1、R2およびR3は、水素原子、置換または無置換のC1−20アルキル基、置換または無置換のC1−20フルオロアルキル基(当該フルオロアルキル基は、1またはそれ以上のフッ素原子を含んでいてもよい)、置換または無置換のC3−20シクロアルキル基、置換または無置換のトリ(C1−20アルキル)シリル基、置換または無置換のC1−20アルコキシ基、置換または無置換のC1−20アルキルチオ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のアリールC1−20アルキル基、置換または無置換のアリールC1−20アルコキシ基、置換または無置換のアリールC1−20アルキルチオ基、置換または無置換のC2−20アルケニル基、置換または無置換のC3−20シクロアルケニル基、置換または無置換のC2−20アルキニル基、置換または無置換のC7−20アラルキル基、置換または無置換のアミノ基、置換または無置換のN−C1−20アルキルアミド基、置換または無置換のC1−20アルカンカルボキサミド基、置換または無置換のアゾ基、置換または無置換のカルボキシル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のC1−20アルコキシカルボニル基、置換または無置換のカルバモイル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、置換または無置換のボリル基、置換または無置換のホスフィノ基、置換または無置換のアリールスルホニルオキシ基、置換または無置換のC1−20アルキルスルホニルオキシ基、ハロゲン原子、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のオリゴアリール基、1価の置換または無置換の複素環基、または1価の置換または無置換のオリゴ複素環基であり、R1、R2、およびR3は同一であっても異なっていてもよく、nは1〜10の整数であり、mは2、3または4である]。
(IV)フルオレン環構造を有するフルオレン誘導体の有機化合物において、前記フルオレン環の1, 3, 4, 5, 6, 7, 8位がフッ素で置換された一般式(4)で表される構成単位を含有するものであることを特徴とするフルオレン誘導体の有機化合物:
まず、本発明のフッ素化フルオレン誘導体について説明する。
本発明のフッ素化フルオレン誘導体は、上記一般式(1)で示される。具体的には、以下に例示する化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換または無置換のC1−20アルキル基としては、炭素数1〜20のであって、直鎖でもよいし分岐を有していてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基等が挙げられる。これらのアルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアリールC1−20アルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
縮合多環芳香族基としては、置換基を有していてもよく、例えば、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフチル基、フルオレニル基、フェナントリル基、アントラニル基、ピレニル基等が挙げられる。これらの縮合多環芳香族基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアリールアルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
1,2,3,4,5,6,7,8-オクタフルオロフルオレンを原料として、新規な2-ハロゲノ-1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロフルオレン(式(3))を製造する方法としては、1,2,3,4,5,6,7,8-オクタフルオロフルオレンをヒドラジンでヒドラジノ化した後、ハロゲン化銅と反応させる方法が挙げられる。
次に、フッ素化フルオレン誘導体の9位に置換基を導入する方法として、前記式(3)または(4)のフルオレン誘導体と少なくとも2モルのR-X とを、相間移動触媒の存在または無存在下、アルカリ金属塩の存在下において反応させることにより製造できることができる。この方法の1つの形態は反応式1で示される。
R−Y、およびアルカリ金属塩の使用量は好ましくはフッ素化フルオロフルオレン誘導体に対して2〜10倍モルである。2倍モル当量より少ない場合、生成物の収率が低下する。逆にその使用量が10倍モル当量より多い場合、副生成物の生成量が多くなり、生成物との分離が困難である。この反応の溶媒としては、ジエチルエーテル、THFなどのエーテル系溶媒、DMF、等を使用することができる。その使用量は、原料1グラムに対して1〜100mlである。1mlより少ない場合には撹拌と温度の制御が難しく、100mlより多い場合には反応時間が遅くなる。
2-ハロゲノ-1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロフルオレン(式(3))を原料として、新規な2,7-ジハロゲノ-1,3,4,5,6,8-ヘキサフルオロフルオレン(式(4))を製造する方法としては、2-ハロゲノ-1,3,4,5,6,8-ヘキサヘキサフルオロフルオレン(式(3))をヒドラジンでヒドラジノ化した後、ハロゲン化銅と反応させる方法が挙げられる。
次に一般式(1)の化合物の製造方法を説明する。
式(7)のフルオレン誘導体と式(8)の化合物を金属銅、各種銅塩、パラジウム触媒、またはそれらの組み合わせの存在化で反応させることにより、前記式(2)の化合物を得る(反応式3)。
フルオレン構造を有するフルオレン誘導体の有機化合物において、前記フルオレン環の1,3,4,5,6,8位がフッ素で置換された一般式(2)で表される構成単位を含有するものであることを特徴とするフルオレン誘導体の有機化合物の合成法としては、例えばパラジウム触媒を用いた鈴木カップリング法(例えば Chem. Rev. 1995, 95, 2457-2483)、ニッケル触媒を用いた山本法(例えば Macromolecules. 1992, 25, 1241)、アリールスズ化合物を用いたStille カップリング法(例えばAngew. Chem. Int. Ed., 2003, 42, 3900)、アリール銅化合物を用いた Ullmann カップリング法(例えば Org. Syn. Vol. VI, 875)等が挙げられる。
例えば、Pd(PPh3)4存在下に2-ブロモ-1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロ-9,9-ビス(トリフルオロメチル)フルオレンと5,5’-ビス(トリ-n-ブチルスタニル)-2,2’-ジチオフェンとのカップリング反応によって、化合物[23]が得られる(スキーム4)。
<実施例1>化合物[12](2-ブロモ-1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロフルオレン)の製造
コンデンサーを付した三口フラスコに1,2,3,4,5,6,7,8-オクタフルオロフルオレン(1.00 g, 3.22 mmol)、ヒドラジン一水和物(360 mg, 7.19 mmol)およびエタノール 10ml を仕込んだ後、24時間加熱還流した。反応液を室温に戻した後、減圧下で溶媒を留去した。析出した固体をろ過し、ヘキサンで洗浄した後、減圧下で乾燥した。
19F−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:ヘキサフルオロベンゼン)
δ 47.87 (d, J = 18.8 Hz, 1F), 35.37 (d, J = 18.8 Hz, 1F), 27.12 (dtd, J = 70.6 and 18.8 and 4.7 Hz, 1F), 25.86 (dt, J = 70.6 and 18.8 Hz, 1F), 20.44 ( t, J = 18.8 Hz, 1F), 8.22 ( t, J = 18.8 Hz, 1F), 7.13 ( t, J = 18.8 Hz, 1F);
1H−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:テトラメチルシラン)
δ 4.09 (s, 2H)
質量分析 MS (EI) m/z = 370 [M+].
元素分析 計算値(C13H2BrF7): C, 42.08; H, 0.54.;実測値: C, 42.07; H, 0.69.
<実施例2>化合物[18](2-ブロモ-1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロ-9,9-ビス(トリフルオロメチル)フルオレン)の製造
滴下ロートを付した三口フラスコに、アルゴン雰囲気下、55% NaH (150 mg, 3.38 mmol)および DMF 5 ml を仕込んだ後、氷冷下、2-ブロモ-1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロフルオレン (500 mg, 1.35 mmol)と15-crown-5 (750 mg, 3.38 mmol)を含む DMF 溶液5 mlを滴下した後、1時間撹拌した。反応液を−40℃に冷却した後、5-(トリフルオロメチル)ジベンゾチオフェニウム テトラフルオロボレート (1.20 g, 3.38 mmol)の DMF 溶液 15 ml を加えた。反応液を4時間かけて室温まで昇温した後、エーテルと水を加えて反応を停止した。有機相を分離した後、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行ない2-ブロモ-1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロ-9,9-ビス(トリフルオロメチル)フルオレン を(364 mg, 53%)得た。
δ 96.52 (t, J = 23.5 Hz, 6F), 59.65-59.89 (m, 1F), 44.36 (dd, J = 18.8 and 3.3 Hz, 1F), 30.74-31.26 (m, 2F), 29.52 (dt, J = 98.8 and 18.8 Hz, 1F), 14.86 (td, J = 18.8 and 9.4 Hz, 1F), 13.29 (t, J =18.8 Hz, 1F)
質量分析MS (EI) m/z = 506 [M+]
高分解能質量分析 計算値(C15BrF13): 505.8976;実測値: 505.8970.
<実施例3>化合物[2](PF-2F)の製造
アンプルに2-ブロモ-1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロ-9,9-ビス(トリフルオロメチル)フルオレン (1.10 g, 2.17 mmol) および金属銅 (830 mg, 13.0 mmol ) を仕込み、アルゴン置換した後、封管した。200 ℃で3日間加熱した後、ジクロロメタンで抽出した。金属銅等の不溶物をろ別した後、減圧下で溶媒を留去した。得られた固体をカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、目的のPF-2F (2.88 g, 72%) 2.88 g を得た(収率 72 %)。
19F−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:ヘキサフルオロベンゼン)
δ 96.58 (t, J = 23.5 Hz, 12F), 53.98-54.22 (m, 2F), 38.51-38.59 (m, 2F), 31.66 (dm, J = 98.8 Hz, 2F), 30.96-31.26 (m, 2F), 28.45 (dt, J = 98.8 and 18.8 Hz, 2F), 15.13 (td, J = 18.8 and 9.4 Hz, 2F), 14.21 (t, J= 18.8 Hz, 2F)
質量分析MS (EI) m/z = 854 [M+].
元素分析 計算値(C30F26): C, 42.18;実測値: C, 41.68.
高分解能質量分析 計算値(C30F26): 853.9585;実測値: C, 853.9597.
<実施例4>化合物[14](2,7-ジブロモ-1,3,4,5,6,8-ヘキサフルオロフルオレン)の製造
コンデンサーを付した三口フラスコに2-ブロモ-1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロフルオレン (900 mg, 2.43 mmol)、ヒドラジン一水和物(240 mg, 4.85 mmol)およびジオキサン 20ml を仕込んだ後、24時間加熱還流した。反応液を室温に戻した後、減圧下で溶媒を留去した。析出した固体をろ過し、ヘキサンで洗浄した後、減圧下で乾燥した。
19F−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:ヘキサフルオロベンゼン)
δ47.99 (t, J = 9.4 Hz, 2F), 35.61 (t, J= 9.4 Hz, 2F), 26.19-26.27 (m, 2F)
1H−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:テトラメチルシラン)
δ 4.08 (s, 2H)
質量分析 MS (EI) m/z =430 [M+].
元素分析 計算値(C13H2Br2F6): C, 36.15; H, 0.47;実測値: 36.04; H, 0.56.
<実施例5>化合物[20](2,7-ジブロモ-1,3,4,5,6,7,8-ヘキサフルオロ-9,9-ビス(トリフルオロメチル)フルオレン)の製造
上記実施例2の方法と同様に、2,7-ジブロモ-1,3,4,5,6,8-ヘキサフルオロフルオレン (1.00 g, 2.32 mmol)、15-crown-5 (1.28 g, 5.79 mmol)、 55% NaH(230 mg, 5.33 mmol),、5-(トリフルオロメチル)ジベンゾチオフェニウム テトラフルオロボレート (1.97 g, 5.79 mmol)、および DMF (50 mL)を用いて反応を行ない、2,7-ジブロモ-1,3,4,5,6,7,8-ヘキサフルオロ-9,9-ビス(トリフルオロメチル)フルオレンを得た(670 mg, 50%)。
19F NMR (CDCl3)
δ 96.75 (t, J = 23.5 Hz, 6F), 60.08-60.27 (m, 2F), 44.37-44.43 (m, 2F), 29.83-29.91 (m, 1F)
質量分析MS (EI) m/z = 566 [M+].
高分解能質量分析 計算値(C15Br2F12): 565.8175.;実測値: 565.8171.
<実施例6>化合物[3](PF-3F) の製造
コンデンサーを付した三口フラスコに、2-ブロモ-1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロ-9,9-ビス(トリフルオロメチル)フルオレン (3.00 g, 5.90 mmol) およびTHF 30 ml を仕込んだ後、氷冷下、1.0 M エチルマグネシウムブロミド のTHF溶液 (5.9 mL, 5.9 mmol) を滴下した。1時間撹拌した後、2当量の CuBr (1.69 g, 11.8 mmol) を添加し、室温で1時間撹拌した。引き続き、室温でジオキサン (7.5 mL) を加え1時間撹拌した後、2,7-ジブロモ-1,3,4,5,6,8-ヘキサフルオロ-9,9-ビス(トリフルオロメチル)フルオレン (840 mg, 1.47 mmol)のトルエン溶液 (30 mL) を加え、90℃で4日間撹拌した。反応後、不溶物をろ過した後、減圧下で溶媒を留去した。残渣をジクロロメタンに溶解し、塩酸および食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、カラムクロマトグラフィーおよび昇華により精製を行ない、フッ素化フルオレン3量体(980 mg, 52%) を得た。
融点: 280℃
19F−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:ヘキサフルオロベンゼン)
δ 96.83 (t, J = 23.5 Hz, 6F), 96.63 (t, J = 23.5 Hz, 12F), 54.60-54.76 (m, 2F), 54.13-54.26 (m, 2F), 38.71-38.84 (m, 4F), 31.75 (dm, J = 98.8 Hz, 2F), 31.02-31.32 (m, 2F), 29.37-29.45 ( m, 2F), 28.58 (dt, J = 98.8 and 18.8 Hz, 2F), 15.23 (td, J = 18.8 and 9.4 Hz, 2F), 14.33(t, J = 18.8 Hz, 2F)
質量分析MS (EI) m/z = 1262 [M+].
元素分析 計算値(C45F38): C, 42.81.;実測値: C, 42.47.
<実施例7>化合物[14](2-ブロモ-1,3,4,5,6,8-ヘキサフルオロフルオレン)の製造
コンデンサーを付した三口フラスコに、2-ブロモ-1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロフルオレン (3.00 g, 8.09 mmol)、ジオキサン 30 ml、およびヒドラジン一水和物(810 mg, 16.2 mmol)を添加した後、24時間加熱還流した。反応液を室温に戻した後、析出した固体をろ過し、エタノールで洗浄した後、減圧下で乾燥した。
19F−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:ヘキサフルオロベンゼン)
δ 45.75 (d, J = 18.8 Hz, 1F), 43.00 (dd, J = 18.8 and 8.0 Hz, 1F), 35.07 (d, J = 18.8 Hz, 1F), 28.23 (dd, J = 18.8 and 10.0 Hz, 1F), 26.06 (dtd, J =70.6 and 18.8 and 18.8 Hz, 1F), 22.53 (dtd, J = 70.6 and 18.8 and 5.0 Hz, 1F)
1H−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:テトラメチルシラン)
δ 7.03 (ddd, J = 10.0 and 8.0 and 5.0 Hz, 1H), 4.03 (s, 2H)
質量分析MS (EI) m/z = 352 [M+].
元素分析 計算値(C13H3BrF6): C, 44.22; H, 0.86.;実測値: C, 44.40; H, 1.04.
<実施例8> 2-ブロモ-1,3,4,5,6,8-ヘキサフルオロ-9,9-ビス(トリフルオロメチル)フルオレンの製造
上記実施例2の方法と同様に、2-ブロモ-1,3,4,5,6,8-ヘキサフルオロフルオレン (700 mg, 1.98 mmol)、15-crown-5 (1.10 g, 4.96 mmol)、55% NaH (220 mg, 4.96 mmol)、 5-(トリフルオロメチル)ジベンゾチオフェニウム テトラフルオロボレート (1.69 g, 4.96 mmol)、およびDMF (40 mL) を用いて反応を行ない、2-ブロモ-1,3,4,5,6,8-ヘキサフルオロ-9,9-ビス(トリフルオロメチル)フルオレン を得た (440 mg, 45%)。
δ 96.59 (t, J = 23.5 Hz, 6F), 59.72-59.97 (m, 1F), 54.09-54.37 (m, 1F), 43.97 (dd, J = 18.8 and 5.0 Hz, 1F), 36.05 (td, J = 18.8 and 9.4 Hz, 1F), 29.75 (ddd, J = 98.8 and 18.8 and 18.8 Hz, 1F), 26.76 (dtd, J = 98.8 and 18.8 and 5.0 Hz,1F)
1H−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:テトラメチルシラン)
δ 7.16 (td, J = 9.5 and 5.0 Hz, 1H)
質量分析MS (EI) m/z = 488 [M+].
高分解能質量分析 計算値(C15HBrF12): 487.9070.;実測値: 487.9081.
<実施例9> 1,3,4,5,6,8,1’,3’,4’,5’,6’,8’-ドデカフルオロ-9,9,9’,9’-テトラ(トリフルオロメチル)-[2,2’]ビフルオレン の製造
アンプルに2-ブロモ-1,3,4,5,6,8-ヘキサフルオロ-9,9-ビス(トリフルオロメチル)フルオレン (1.36 g, 2.80 mmol) および金属銅 (1.10 g, 17.3 mmol)を仕込み、アルゴン置換した後、封管した。200 ℃で5日間加熱した後、ジクロロメタンで抽出した。金属銅等の不溶物をろ別した後、減圧下で溶媒を留去した。得られた固体をカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、目的物を得た(800 mg, 70%)。
19F−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:ヘキサフルオロベンゼン)
96.53 (t, J = 23.5 Hz, 12F), 53.96-54.43 (m, 4F), 38.01-38.09 (m, 2F), 36.16 (dt, J = 18.8 and 9.4 Hz, 2F), 28.48 (dt, J = 98.8 and 18.8 Hz, 2F), 27.25 (dtd, J = 98.8 and 18.8 and 5.0 Hz, 2F)
1H−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:テトラメチルシラン)
7.21 (td, J =10.0 and 5.0 Hz, 2H)
質量分析MS (EI) m/z = 818 [M+].
高分解能質量分析 計算値(C30H2F24): 817.9773;実測値: 817.9758.
<実施例10> 7,7’-ジロモジブロモ-1,3,4,5,6,8,1’,3’,4’,5’,6’,8’-ドデカフルオロ-9,9,9’,9’-テトラ(トリフルオロメチル)-[2,2’]ビフルオレン の製造
コンデンサーを付した三口フラスコに臭素(3.20 g, 20.0 mmol)、臭化アルミニウム(80 mg, 0.60 mmol)および60%発煙硫酸(0.7 mL)を順次仕込み、1,3,4,5,6,8,1’,3’,4’,5’,6’,8’-ドデカフルオロ-9,9,9’,9’-テトラ(トリフルオロメチル)-[2,2’]ビフルオレン (800 mg, 0.978 mmol)を添加した後、60℃で三日間撹拌した。反応液を水に注ぎ、反応を停止した後、析出した固体をろ過した後、炭酸ナトリウム水溶液、亜硫酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した。ジクロロメタンに溶解した後、カラムクロマトグラフィーおよび昇華精製を行ない、目的物を得た(870 mg, 90%)。
19F−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:ヘキサフルオロベンゼン)
δ 96.74 (t, J = 23.5 Hz, 12F), 60.20-60.44 (m, 2F), 54.26-54.60 (m, 2F), 44.55-44.64 (m, 2F), 38.52-38.57 (m, 2F), 30.40 (dt, J = 98.8 and 18.8 Hz, 2F), 28.73 (dt, J = 98.8 and 18.8 Hz, 2F)
質量分析MS (EI) m/z = 974 [M+].
高分解能質量分析 計算値(C30Br2F24): 973.7983.;実測値: 973.7994.
<実施例10>化合物[4](PF-4F)の製造
上記実施例6の方法と同様に、2-ブロモ-1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロ-9,9-ビス(トリフルオロメチル)フルオレン (2.20 g, 4.40 mmol)、THF (20 mL)、 1.0 M エチルマグネシウムブロミドのTHF溶液 (4.4 mL, 4.4 mmol)、 臭化銅(I) (1.27 g, 8.85 mmol、ジオキサン (5.5 mL)、7,7’-ジブロモ-1,3,4,5,6,8,1’,3’,4’,5’,6’,8’-ドデカフルオロ-9,9,9’,9’-テトラ(トリフルオロメチル)-[2,2’]ビフルオレン (1.09 g, 1.10 mmol)、およびトルエン (35 mL).を用いて反応を行ない、目的物を得た (860 mg, 46%)。
96.85 (t, J = 23.5 Hz, 12F), 96.64 (t, J = 23.5 Hz, 12F), 54.65-54.86 (m, 4F), 54.14-54.32 (m, 2F), 38.86-38.98 (m, 2F), 38.66-38.75 (m, 4F), 31.76 (dm, J = 98.8 Hz, 2F), 31.04-31.32 (m, 2F), 29.41-29.51 (m, 4F), 28.58 (dm, J = 98.8 Hz, 2F), 15.22 (td, J= 18.8 and 9.4 Hz, 2F), 14.33 (t, J = 18.8 Hz, 2F)
質量分析MS (EI) m/z =1670 [M+].
元素分析 計算値(C60F50): C, 43.14.;実測値: C, 42.68.
<実施例11>化合物[7](5,5’-ビス(1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロ-2-フルオロ-2-フルオレニル)-2,2’-ジチオフェン)の製造
コンデンサーを付した三口フラスコに2-ブロモ-1,3,4,5,6,7,8-ヘプタフルオロ-9,9-ビス(トリフルオロメチル)フルオレン (3.00 g, 5.90 mmol)、5,5’-ビス(トリ-n-ブチルスタニル)-2,2’-ジチオフェン (80 mg, 0.60 mmol)、Pd(PPh3)4 (10 mg, 0.6mmol) およびトルエン(0.7 mL)を順次仕込み、三日間加熱還流した。反応液を冷却した後、析出した固体をろ過した後、ヘキサンおよびエーテルで数回洗浄した。得られた粗生成物を昇華精製することにより、目的物を得た(870 mg, 90%)。
融点 333 ℃
19F−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:ヘキサフルオロベンゼン)
δ 96.74 (t, J = 23.5 Hz, 12F), 60.20-60.44 (m, 2F), 54.26-54.60 (m, 2F), 44.55-44.64 (m, 2F), 38.52-38.57 (m, 2F), 30.40 (dt, J = 98.8 and 18.8 Hz, 2F), 28.73 (dt, J = 98.8 and 18.8 Hz, 2F)
質量分析MS (EI) m/z =1019 [M+].
高分解能質量分析 計算値(C38H4F26S2): 1017.9339.;実測値: 1017.9335.
Claims (4)
- フルオレン環構造を有するフルオレン誘導体の有機化合物において、前記フルオレン環の1, 3, 4, 5, 6, 8位がフッ素で置換された一般式(1)で表される構成単位を含有するものであることを特徴とするフルオレン誘導体の有機化合物:
- フルオレン環構造を有するフルオレン誘導体の有機化合物において、前記フルオレン環の1, 3, 4, 5, 6, 8位がフッ素で置換された一般式(2)で表される構成単位を含有するものであることを特徴とするフルオレン誘導体の有機化合物:
R1、R2およびR3は、水素原子、置換または無置換のC1−20アルキル基、置換または無置換のC1−20フルオロアルキル基(当該フルオロアルキル基は、1またはそれ以上のフッ素原子を含んでいてもよい)、置換または無置換のC3−20シクロアルキル基、置換または無置換のトリ(C1−20アルキル)シリル基、置換または無置換のC1−20アルコキシ基、置換または無置換のC1−20アルキルチオ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のアリールC1−20アルキル基、置換または無置換のアリールC1−20アルコキシ基、置換または無置換のアリールC1−20アルキルチオ基、置換または無置換のC2−20アルケニル基、置換または無置換のC3−20シクロアルケニル基、置換または無置換のC2−20アルキニル基、置換または無置換のC7−20アラルキル基、置換または無置換のアミノ基、置換または無置換のN−C1−20アルキルアミド基、置換または無置換のC1−20アルカンカルボキサミド基、置換または無置換のアゾ基、置換または無置換のカルボキシル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のC1−20アルコキシカルボニル基、置換または無置換のカルバモイル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、置換または無置換のボリル基、置換または無置換のホスフィノ基、置換または無置換のアリールスルホニルオキシ基、置換または無置換のC1−20アルキルスルホニルオキシ基、ハロゲン原子、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のオリゴアリール基、1価の置換または無置換の複素環基、または1価の置換または無置換のオリゴ複素環基であり、R1、R2、およびR3は同一であっても異なっていてもよく、nは1〜10の整数であり、mは2、3または4である]。
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JP2009249355A true JP2009249355A (ja) | 2009-10-29 |
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JP (1) | JP2009249355A (ja) |
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