KR20130096605A - 액정표시장치 및 액정표시장치의 리페어 방법 - Google Patents

액정표시장치 및 액정표시장치의 리페어 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따르는 액정표시장치는 플로팅된 전극을 통하여 화소전극과 공통전극의 전위를 동일하게 함으로써 리페어 성공율을 향상시키는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르는 액정표시장치는 제 1 기판 및 상기 제 1 기판에 대향 합착되는 제 2 기판; 상기 제 1 기판 상에 형성되는 게이트전극과 화소전극; 상기 게이트전극과 화소전극이 형성된 제 1 기판 상에 형성되는 제 1 절연층; 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 액티브층; 상기 액티브층의 상부에 형성되는 소스전극; 상기 액티브층의 상부에 형성되며, 상기 소스전극과 이격하고 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되는 드레인전극; 상기 소스 및 드레인전극이 형성된 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 제 2 절연층; 및 상기 제 2 절연층의 상부에서 상기 화소전극 및 드레인전극과 중첩하도록 형성되며, 상기 화소전극과 프린지 필드 전계를 형성하는 공통전극;을 포함하며, 휘점(Hot pixel)에서 상기 드레인전극은 상기 화소전극과 연결된 드레인전극의 일 영역이 전기적으로 플로팅되도록(floated) 절단되고, 상기 플로팅된 드레인전극은 상기 공통전극과 중첩영역에서 용접되어(welded), 상기 휘점이 암점(Dead pixel)으로 변환된 것을 특징으로 한다.

Description

액정표시장치 및 액정표시장치의 리페어 방법{Liquid Crystal Display Device and the method of repairing thereof}
본 발명의 실시예들은 액정표시장치 및 액정표시장치의 리페어 방법 에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 휘점(Hot pixel)이 암점(Dead pixel)으로 리페어된 액정표시장치 및 액정표시장치의 리페어 방법에 관한 것이다.
정보화 사회가 발전함에 따라 표시 장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔다. 그 중에, 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력의 특징 및 장점으로 인하여 액정표시장치(LCD)가 가장 많이 사용되고 있으며, 컴퓨터의 모니터, 텔레비젼 등과 같은 전자제품의 용도로 다양하게 개발되고 있다.
액정표시장치는 서로 대향된 제 1, 제 2 기판과, 제 1 기판에 형성된스위칭소자, 제 1, 제 2 기판 사이에 개재된 액정층, 화소전극, 공통전극 등으로 구성된다. 이때, 스위칭 소자가 외부 구동회로로부터 액정층을 구동하기 위한 전압을 선택적으로 화소전극으로 전달하게 되며, 화소전극과 공통전극이 형성하는 전계에 의해 액정층이 구동됨으로써 화상이 구현될 수 있다.
한편, 이러한 액정 표시 장치는 상기 스위칭 소자의 형성시 스위칭소자를 구성하는 소스 및 드레인전극의 패터닝이 정상적으로 이루어지지 않아 소스 및 드레인전극이 분리 되지 않거나, 액정패널 내에 남겨진 전도성 이물질에 의해 박막 트랜지스터의 구동 불량 등이 발생하게 되어, 휘점(Hot pixel) 또는 암점(Dead pixel)이 발생할 수 있다.
일반적으로 높은 그레이(화이트 상태)를 구현하는 경우 빛샘에 의해 일 영역이 어둡게 보이는 것을 암점이라 하고, 낮은 그레이(블랙 상태)를 구현하는 경우 빛샘에 의해 일 영역이 밝게 보이는 것을 휘점이라 한다.
도 1은 종래기술의 액정표시장치에 대한 개략도이다.
도 1 의 화소(P)들은 정상적인 화소(N)와 휘점(H)으로 구분되는데 블랙 상태에서 정상적인 화소(N)들은 어두운 색으로 구현 되는 데에 반해 휘점(H)은 밝게 구현된다.
사람의 눈은 밝은 상태에서 나타난 암점보다는 어두운 상태에서 나타난 휘점(H)을 상대적으로 더욱 민감하게 인식한다. 따라서, 액정 패널의 양불 판정시 암점보다는 휘점(H) 불량에 더 엄격한 기준이 부여된다. 이에 따라, 휘점(H)에 의한 패널의 불량률을 최소화하기 위한 방안이 요구되고 있다.
이 경우, 휘점에 대한 리페어 방법은 해당 화소에 대해 리워크(rework) 공정을 진행하거나 휘점을 암점으로 변환시키는 방법이 있다. 그러나, 상기 리워크 공정의 경우, 스위칭 소자에 이물질이 남아 스위칭 소자의 정상적인 구동이 이루어지지 않을 수도 있고, 이물질이 남은 상태로 상기 제 1, 제 2 기판이 합착된 상태에서는 리워크(rework)가 불가하다는 문제점이 있다.
따라서, 주로 휘점을 암점으로 변환시키는 방법이 사용된다.
도 2는 종래기술의 액정표시장치의 리페어된 화소를 나타낸 도면이다.
도 2는 프린지 필드 스위칭(FFS) 방식의 액정표시장치에 대한 것으로서, a와 b영역에서 리페어가 진행되었다.
a 영역에서의 리페어는 드레인전극(42)의 일부를 절단하는 방식으로 이루어진다. 본래 드레인전극(42)은 소스전극(41)으로부터 액티브층(30)의 채널에 의해 전압을 인가받기 때문에 절단된 드레인전극(42)과 연결된 화소전극(15)에는 전압이 인가되지 않는다. 즉, 화소전극(15)이 플로팅(floating)된다. 그러나 화소전극(15)이 플로팅 되더라도 공통전극(60)에 대하여 전위차가 존재하므로, 여전히 휘점으로 동작할 여지가 남기 때문에 b 영역에 대해서도 리페어를 진행한다.
b 영역에서의 리페어는 화소전극(15)과 공통전극(60)을 쇼팅(shorting)하는 방식으로 이루어진다. b 영역의 리페어된 단면도는 도 3에 도시된 바와 같다. 도 3을 참조하면, b 영역의 리페어는 공통전극(60)의 상부에서 용접(welding)을 실행하여, 공통전극(60) 하부로 화소전극(15)과 접촉하는 통로를 형성함으로써 화소전극(15)과 공통전극(60)을 접촉시킨다. 이때, 화소전극(15)과 공통전극(60)은 전기적으로 연결하게 되어 전위가 동일하게 된다.
그 결과, 리페어된 화소전극(15)과 공통전극(60)은 전위차가 없기 때문에 수평전계를 형성할 수 없게 되므로, 리페어된 화소에 대응하는 액정분자는 분자배열이 바뀌지 않는다. 즉, 블랙 상태에서 암점으로 관측될 수 있다.
그러나, 이러한 리페어 바로 후에 액정표시장치를 구동할 때는 리페어된 화소가 암점으로 관측되나, 지속적인 구동이 이루어진 후 리페어된 화소에서 발생하는 전압이나 열 등에 의하여 화소전극(15)과 공통전극(60)을 연결하는 통로가 닫혀짐으로써 리페어된 화소가 다시 휘점으로 될 수 있다.
또한, 화소전극(15)과 공통전극(60) 사이에는 패시베이션층과 게이트 절연막이 형성되어 있어, 두꺼운 막을 관통해야하며, 화소전극(15)과 공통전극(60)은 300Å~400Å의 얇은 막으로 형성되어 용접이 어려우므로 리페어 성공률이 상당히 낮다는 문제점이 있었다.
따라서 위와 같은 문제를 해결하기 위하여 본 발명의 실시예들은 플로팅된 전극을 통하여 화소전극과 공통전극을 전기적으로 접촉시켜 리페어 성공률을 높이는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 후술되는 발명을 실시하기 위한 구체적 내용 및 특허청구범위에서 설명될 것이다.
이와 같은 본 발명의 해결 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따르는 액정표시장치는 제 1 기판 및 상기 제 1 기판에 대향 합착되는 제 2 기판; 상기 제 1 기판 상에 형성되는 게이트전극과 화소전극; 상기 게이트전극과 화소전극이 형성된 제 1 기판 상에 형성되는 제 1 절연층; 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 액티브층; 상기 액티브층의 상부에 형성되는 소스전극; 상기 액티브층의 상부에 형성되며, 상기 소스전극과 이격하고 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되는 드레인전극; 상기 소스 및 드레인전극이 형성된 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 제 2 절연층; 및 상기 제 2 절연층의 상부에서 상기 화소전극 및 드레인전극과 중첩하도록 형성되며, 상기 화소전극과 프린지 필드 전계를 형성하는 공통전극;을 포함하며, 휘점(Hot pixel)에서 상기 드레인전극은 상기 화소전극과 연결된 드레인전극의 일 영역이 전기적으로 플로팅되도록(floated) 절단되고, 상기 플로팅된 드레인전극은 상기 공통전극과 중첩영역에서 용접되어(welded), 상기 휘점이 암점(Dead pixel)으로 변환된 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 암점의 상기 화소전극과 공통전극의 전위는 상기 플로팅된 드레인전극을 통해 동일한 값을 가지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 드레인전극은 상기 액티브층의 채널영역에 배치되는 제 1 드레인전극부; 상기 제 1 드레인전극부에서 연장되고 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되는 제 2 드레인전극부; 및 상기 제 2 드레인전극부로부터 일 방향으로 연장되어 상기 공통전극과 중첩하는 제 3 드레인전극부;로 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 휘점에서 상기 제 1 드레인전극부가 절단되고, 상기 제 3 드레인전극부와 공통전극이 용접되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 1 드레인전극부는 상기 게이트전극과 중첩하는 영역과 상기 게이트전극과 중첩하지 않는 영역으로 구분되며, 상기 게이트전극과 중첩하지 않는 영역에서 상기 제 1 드레인 전극부의 형성 방향과 수직하게 절단되는 것을 특징으로 한다.
또한, 용접된 지점(spot welded)은 하나 이상인 것을 특징으로 한다.
또한, 용접된 지점(spot welded)의 직경은 상기 드레인전극과 공통 전극이 중첩하는 영역의 폭보다 작은 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 드레인전극의 두께는 2500Å~3000Å이며 상기 드레인전극과 공통전극 사이에 형성된 제 2 절연층의 두께는 5000Å~6000Å인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 드레인전극과 상기 화소전극은 상기 컨택홀 내부에 형성되는 연결패턴을 통해 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 컨택홀은 상기 제 1 절연층, 액티브층, 드레인전극, 제 2 절연층을 관통하며 상기 연결패턴은 상기 공통전극과 함께 ITO(Indium Tin Oxide)로 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 드레인전극과 상기 컨택홀은 일부 중첩하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 액티브층의 채널 영역 상부이며, 상기 소스 및 드레인전극의 하부에 형성되는 에치스탑퍼를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.
한편, 본 발명의 다른 일 실시예에 따르는 액정표시장치는 제 1 기판 및 상기 제 1 기판에 대향 합착되는 제 2 기판; 상기 제 1 기판 상에 형성되는 게이트라인 및 게이트전극과 화소전극; 상기 게이트전극과 화소전극이 형성된 제 1 기판 상에 형성되는 제 1 절연층; 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 액티브층; 상기 액티브층의 상부에 형성되는 소스전극; 상기 액티브층의 상부에서 상기 소스전극과 이격되어 형성되며, 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되고, 상기 게이트라인의 일 영역과 중첩하는 드레인전극; 상기 소스 및 드레인전극이 형성된 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 제 2 절연층; 상기 제 2 절연층의 상부에 형성되며, 상기 화소전극과 프린지 필드 전계를 형성하는 공통전극; 및 상기 공통전극에서 연장되어 상기 게이트라인의 타 영역과 중첩하는 공통전극 연결라인;을 포함하며, 휘점(Hot pixel)에서 상기 드레인전극은 상기 화소전극과 연결된 드레인전극의 일 영역이 전기적으로 플로팅되도록 절단되고, 상기 게이트라인은 상기 드레인전극 및 공통전극 연결라인과 중첩하는 상기 게이트라인의 일 영역과 타 영역이 전기적으로 플로팅되도록 절단되며, 상기 플로팅된 드레인전극과 상기 플로팅된 게이트라인이 용접되고(welded) 상기 공통전극 연결라인과 상기 플로팅된 게이트라인이 용접되어, 상기 휘점이 암점(Dead pixel)으로 변환되는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 드레인전극은 상기 액티브층의 채널영역에 배치되는 제 1 드레인전극부; 상기 제 1 드레인전극부에서 연장되어 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되는 제 2 드레인전극부; 및 상기 제 2 드레인전극부로부터 일 방향으로 연장되어 상기 게이트라인의 일 영역과 중첩되는 제 3 드레인전극부로 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 휘점에서 상기 제 1 드레인전극부가 절단되고, 상기 제 3 드레인전극부가 상기 게이트라인의 일 영역과 용접되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 게이트라인과 공통전극 연결라인이 중첩하는 게이트라인의 타 영역은 상기 게이트라인과 공통전극 연결라인이 수직으로 교차하여 형성되는 것을 특징으로 한다.
또 한편, 본 발명의 다른 일 실시예에 따르는 액정표시장치 제조방법은 기판; 상기 기판 상부에 형성되는 게이트전극과 화소전극; 상기 게이트전극과 화소전극을 포함하는 기판의 상부에 형성되는 제 1 절연층; 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 액티브층; 상기 액티브층의 상부에 형성되는 소스전극; 상기 액티브층의 상부에 형성되며, 상기 소스전극과 이격하고 컨택홀을 통하여 상기 화소전극과 전기적으로 연결되는 드레인전극; 상기 소스 및 드레인전극이 형성된 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 제 2 절연층; 및 상기 제 2 절연층의 상부에서 상기 화소전극 및 드레인전극과 중첩하도록 형성되며, 상기 화소전극과 프린지필드전계를 형성하는 공통전극;을 포함하는 박막트랜지스터 어레이 기판을 제공하는 단계; 휘점(Hot pixel)에서 상기 화소전극과 연결된 드레인전극의 일 영역이 전기적으로 플로팅되도록(floated) 상기 드레인전극을 절단하는 단계; 및 상기 휘점에서 상기 플로팅된 드레인전극과 상기 공통전극을 중첩영역에서 용접하는(welding) 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 절단하는 단계와 용접하는 단계는 레이저에 의해 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 레이저의 레이저 스팟의 직경은 상기 드레인전극과 공통 전극이 중첩하는 영역의 폭보다 작은 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 드레인전극은 상기 액티브층의 채널영역에 배치되는 제 1 드레인전극부; 상기 제 1 드레인전극부에서 연장되고 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되는 제 2 드레인전극부; 및 상기 제 2 드레인전극부로부터 일 방향으로 연장되어 상기 공통전극과 중첩하는 제 3 드레인전극부;로 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 절단하는 단계는 상기 제 1 드레인전극부를 절단하되, 상기 제 1 드레인전극부가 형성된 방향과 수직하게 절단하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 절단하는 단계는 상기 제 1 드레인전극부가 상기 게이트전극과 중첩하는 영역과 상기 게이트전극과 중첩하지 않는 영역으로 구분될 때, 상기 제 1 드레인전극부가 상기 게이트전극과 중첩하지 않는 영역을 절단하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 용접하는 단계는 상기 제 3 드레인전극부와 공통전극을 용접하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 용접하는 단계는 하나의 이상의 지점에서 용접하는 것을 특징으로 한다.
한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따르는 액정표시장치 리페어 방법은 기판; 상기 기판 상에 형성되는 게이트라인, 게이트전극과 화소전극; 상기 게이트라인, 게이트전극과 화소전극이 형성된 기판 상에 형성되는 제 1 절연층; 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 액티브층; 상기 액티브층의 상부에 형성되는 소스전극; 상기 액티브층의 상부에서 상기 소스전극과 이격되어 형성되며, 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되고, 상기 게이트라인의 일 영역과 중첩하는 드레인전극; 상기 소스 및 드레인전극이 형성된 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 제 2 절연층; 상기 제 2 절연층의 상부에 형성되어 상기 화소전극과 프린지 필드 전계를 형성하는 공통전극; 및 상기 공통전극에서 연장되어 상기 게이트라인의 타 영역과 중첩하는 공통전극 연결라인;을 포함하는 박막트랜지스터 어레이 기판을 제공하는 단계; 휘점(Hot pixel)에서 상기 드레인전극의 화소전극과 연결된 일 영역이 전기적으로 플로팅되도록(floated) 상기 드레인전극을 절단하는 단계; 상기 휘점에서 상기 플로팅된 드레인전극 및 상기 공통전극 연결라인과 중첩하는 게이트라인의 일 영역과 타 영역을 전기적으로 플로팅시키기 위하여 상기 게이트라인을 절단하는 단계; 상기 플로팅된 드레인전극과 상기 플로팅된 게이트라인을 용접하는(welding) 단계; 및 상기 공통전극 연결라인과 상기 플로팅된 게이트라인을 용접하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 드레인전극은 상기 액티브층의 채널영역에 배치되는 제 1 드레인전극부; 사기 제 1 드레인전극부에서 연장되어 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되는 제 2 드레인전극부; 및 상기 제 2 드레인전극부로부터 일 방향으로 연장되어 상기 게이트라인의 일 영역과 중첩되는 제 3 드레인전극부로 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 1 드레인전극부가 절단되고, 상기 제 3 드레인전극부가 상기 플로팅된 게이트라인 영역과 용접되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 게이트라인을 절단하는 단계는 상기 게이트라인의 일 영역과 타 영역이 포함되는 영역의 양측을 절단하는 것을 특징으로 한다.
상기와 같이 구성되는 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 관련된 액정표시장치 및 액정표시장치 리페어 방법은 화소전극과 공통전극을 직접적으로 연결하지 않고 플로팅된 전극을 매개체로 하여 연결함으로써, 리페어 성공률을 높일 수 있다.
그에 따라, 휘점을 암점으로 변환시키는 리페어의 성공률을 100%개선시킬 수 있으며, 액정표시장치의 신뢰성도 100%개선시킬 수 있다.
도 1은 종래기술의 액정표시장치에 대한 개략도이다.
도 2는 종래기술의 액정표시장치의 리페어된 화소를 나타낸 도면이다.
도 3은 도 2의 b 영역에 대한 단면도이다.
도 4a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 액정표시장치의 단위 화소에 대한 평면도이다.
도 4b는 도 4a에서 I~I’, Ⅱ~Ⅱ’영역의 단면도이다.
도 5a와 도 6a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 액정표시장치 리페어 과정의 평면도이다.
도 5b와 도 6b는 도 5a, 도 6b의 Ⅰ~Ⅰ’영역과 Ⅱ~Ⅱ’영역의 단면도이다.
도 7a와 도 8a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 액정표시장치 및 액정표시장치 리페어 과정의 평면도이다.
도 7b와 도 8b는 도 7a, 도 8b의 Ⅰ~Ⅰ’과 Ⅱ~Ⅱ’ 에 대한 단면도이다.
이하, 본 발명의 실시예에 따르는 액정표시장치 및 액정표시장치 제조방법에 대하여 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.
본 명세서에서는 서로 다른 실시예라도 동일, 유사한 구성에 대해서는 동일, 유사한 참조번호를 부여하고, 그 설명은 처음 설명으로 갈음한다.
본 명세서에서 사용되는 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함할 수 있다.
그리고, 본 명세서에 첨부된 도면의 구성요소들은 설명의 편의를 위해 확대 또는 축소되어 도시되어 있을 수 있음이 고려되어야 한다.
또한, 본 명세서에서 사용되는 제 1, 제 2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될수 있으나 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용되므로 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지 않는다.
도 4a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 액정표시장치의 단위 화소에 대한 평면도이며, 도 4b는 도 4a에서 I~I’, Ⅱ~Ⅱ’영역의 단면도이다.
본 발명의 제 1 실시예에 따르는 액정표시장치는, 액정패널(미도시), 백라이트 유닛(미도시), 구동회로부(미도시)로 구성된다. 여기서 상기 액정패널은 제 1 기판(100), 상기 제 1 기판(100)과 대향 합착되는 제 2 기판(미도시), 액정층(미도시)으로 구성된다. 상기 도면에서는 제 1 기판(100)에 대해서만 도시되었으며, 이하의 설명에서 제 1 기판(100)에 대하여 상세히 설명한다.
먼저 도 4a를 보면, 상기 제 1 기판(100)은 게이트라인(111), 데이터라인(140), 게이트 패드(미도시), 데이터 패드(미도시), 복수의 화소로 구성될 수 있으며, 각 단위화소는 스위칭 소자, 화소전극(115), 공통전극(160)을 포함한다.
데이터라인(140)과 게이트라인(111)은 상기 제 1 기판(100) 상에 서로 교차하여 형성되는 것으로 상기 데이터라인(140)과 게이트라인(111)에 의해 복수의 화소가 매트릭스형태로 정의될 수 있다. 이때, 도면에서와 같이 상기 데이터라인(140)은 소정의 각을 가지며 굴곡된 S자 모양으로 형성될 수 있다.
도면에 도시되지는 않았으나, 게이트패드(미도시)는 게이트 구동전압을 외부회로로부터 인가받아 게이트라인(111)으로 전송하며, 데이터패드(미도시)는 데이터 구동전압을 외부회로로부터 인가받아 데이터라인(140)으로 전송한다.
스위칭 소자는 박막트랜지스터로서 게이트전극(110), 액티브층(130), 소스 및 드레인전극(141, 142)으로 구성될 수 있다.
상기 게이트전극(110)은 게이트라인(111)에서 연장된 것으로 제 1 기판(100)의 상부에 형성되며, 게이트 전압의 원활한 전달과 백라이트 유닛(미도시)의 입사광에 의한 손상(신뢰성 및 수명저하)을 방지하기 위해 액티브층(130)의 면적보다 넓게 형성될 수 있다. 그리고, 액티브층(130)은 제 1 절연층(120)을 사이에 두고 게이트전극(110)과 중첩하는 영역에 형성된다. 상기 액티브층(130)은 전하가 이동하는 채널 영역을 형성하기 위한 것으로서 비정질 실리콘 또는 산화물 반도체로 형성될 수 있다. 이때, 액티브층(130)이 비정질 실리콘으로 형성되는 경우 액티브층(130)과 소스 및 드레인전극(141, 142)과의 전기적 접촉을 원활히 하기 위하여 오믹접촉층(미도시)이 액티브층(130)의 상부에 형성될 수 있며, 산화물 반도체로 형성되는 경우 상기 액티브층(130)의 채널영역이 식각에 의해 손상되는 것을 방지하기 위해 에치스탑퍼(미도시)가 상기 액티브층(130)의 상부에 형성될 수 있다. 이어서, 소스 및 드레인전극(141, 142)이 상기 액티브층(130)의 상부에 중첩하여 형성된다. 이때, 도 4a에서 상기 소스전극(141)은 데이터라인(140)의 일 영역에서 게이트라인(111)의 방향으로 연장 형성되며, U자형으로 형성되며, 드레인전극(142)은 U자 내에 삽입되어 형성된다. 이러한 모양으로 형성하는 이유는 W(채널의 폭)/L(채널의 길이)을 조절하여 액티브층(130)의 채널 특성을 좋게 하기 위함이다. 따라서, 소스 및 드레인전극(141, 142)의 형상은 반드시 이에 한정하지 않으며 다양한 형상이 될 수 있다.
여기서, 상기 드레인전극(142)은 제 1 드레인전극부(142a), 제 2 드레인전극부(142b) 및 제 3 드레인전극부(142c)로 구성될 수 있다.
제 1 드레인전극부(142a)는 소스전극(141)과 인접하는 것으로서 일부가 채널영역과 중첩하여 데이터라인(140)을 통해 전달된 데이터 전압을 소스전극(141)으로부터 인가받을 수 있다. 그리고 제 2 드레인전극부(142b)는 상기 제 1 드레인전극부(142a)에서 연장되고 제 1 컨택홀(155)을 통하여 제 2 드레인전극부(142b)의 하부에 형성된 화소전극(115)과 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 제 3 드레인전극부(142c)는 상기 제 2 드레인전극부(142b)에서 일 방향으로 연장되어 공통전극(160)과 중첩하며, 일정한 굴곡을 가지며 형성될 수 있다.
한편, 상기 도 4b를 참조하면, 액티브층(130)이 드레인전극(142)과 전체적으로 중첩하도록 형성되어 있으나, 이것은 드레인전극(142)과 액티브층(130)의 형성시 동일한 마스크를 이용하였기 때문이다. 다만 본 발명의 제 1 실시예는 반드시 이에 한정되지 않으며 상기 액티브층(130)은 드레인전극(142)과 일부분만 중첩하게 형성될 수도 있다.
상기 화소전극(115)은, 도 4a를 참조하면, 단일패턴으로 형성되어 단위화소의 투과영역에 대응되어 형성된다. 그리고 화소전극(115)은, 도 4b를 참조하면,제 1 기판(100)의 상부에서 게이트전극(110)과 동일한 층에 형성될 수 있다. 상기 화소전극(115)은 제 1 컨택홀(155)에 형성된 연결패턴(161)을 통하여 드레인전극(142)과 전기적으로 연결되어, 상기 드레인전극(142)으로부터 데이터전압을 인가받을 수 있다.
여기서 상기 제 1 컨택홀(155)은 제 1 절연층(120), 액티브층(130), 드레인전극(142), 제 2 절연층(150)을 관통하여 형성될 수 있다. 그리고 상기 연결패턴(161)은 제 1 컨택홀(155)의 내부에 형성되므로 제 1 컨택홀(155)의 내측면에서 상기 제 2 드레인전극부(142b)와 접촉하고 제 1 컨택홀(155)의 하면에서 화소전극(115)과 접촉한다. 한편, 도 4a를 참조하면, 제 1 컨택홀(155)은 제 2 드레인전극부(142b)의 일부분에만 중첩하도록 형성될 수도 있다.
상기 공통전극(160)은, 도 4a를 참조하면, 화소전극(115)과 중첩하는 영역에 복수의 슬릿을 포함한 형태로 형성되어 화소전극(115)과 함께 프린지 필드 전계를 형성한다. 공통전극(160)은 도 4b를 참조하면, 제 2 절연층(150)의 상부에 형성된다. 이와 같은 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 액정표시장치는 상기 화소전극(115)과 공통전극(160) 사이에 제 1 절연층(120)과 제 2 절연층(150)을 포함하여, 상기 화소전극(115)과 공통전극(160)의 거리를 최대한 멀게함으로써 상기 두 전극 사이에서 발생할 수 있는 기생커패시터에 의한 영향을 최소화할 수 있다.
그리고, 상기 공통전극(160)은 제 2 컨택홀(156)을 통해 공통전압배선(117)과 전기적으로 연결되어 공통전압을 인가받을 수 있다. 여기서, 도 4a 상에서 아래방향으로 연장된 공통전극(160) 연결라인과 도 4a 상에서 좌우 방향으로 연장된 공통전극(160) 부분은 실제로 이웃하는 화소의 공통전극(160)과 연결된 것이다. 따라서, 이러한 연결을 통해 각 화소의 공통전극(160)은 공통전압을 원활히 인가받을 수 있다.
이때, 공통전극(160) 연결라인 부근의 공통전극(160)의 일 영역은 제 3 드레인전극부(142c)와 중첩하도록 형성될 수 있다. 상기 공통전극(160)의 일 영역이 제 3 드레인전극부(142c)와 중첩하도록 형성되는 이유는 리페어 과정에서 용접시 제 3 드레인전극(142)과 전기적으로 접촉하기 용이하게 하기 위함이다.
또한, 상기 공통전극(160)은 연결패턴(161)과 동일한 마스크를 통해 형성될 수 있으며, 공통전극(160), 연결패턴(161), 화소전극(115)은 모두 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 투명 도전성 물질로 형성될 수 있다.
한편, 전술한 바와 같이 제 1 기판(100) 상에 이물질이 삽입되거나 박막트랜지스터의 소스 및 드레인전극(141, 142)의 패턴에 불량이 있을 경우 해당하는 화소는 휘점(Hot pixel)으로 동작할 수 있다.
이하, 이러한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 액정표시장치의 리페어 방법에 대하여 상세히 설명한다.
도 5a, 도 6a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 액정표시장치 리페어 과정의 평면도이며, 도 5b, 도 6b는 도 5a, 도 6b의 Ⅰ~Ⅰ’영역과 Ⅱ~Ⅱ’영역의 단면도이다.
상기 휘점을 리페어하기 위해, 먼저 도 5a에 도시된 바와 같이 휘점에 형성된 제 1 드레인전극부(142a)를 절단한다.
절단 도구는 다양한 것이 사용될 수 있으나, 레이저가 사용되는 것이 바람직하다. 이때 사용되는 레이저의 레이저 스팟(laser spot)은 3.5μm ~ 4.5μm 가 될 수 있다.
그리고 절단 위치는 A1 영역이 될 수 있다. 여기서 상기 A1 영역은 제 1 드레인전극부(142a)가 게이트전극(110)과 중첩하지 않는 임의의 영역을 말한다. 만약 제 1 드레인전극부(142a)가 게이트전극(110)과 중첩하는 영역에서 레이저로 절단 과정을 진행할 때 절단이 드레인전극(142)이 형성된 위치를 넘어 게이트전극(110)의 위치까지 과도하게 진행될 경우, 레이저에 의해 녹은 드레인전극(142)이 게이트전극(110)과 접촉하게 되어 상기 두 전극에 쇼트(short)가 발생될 수 있다. 따라서, A1 영역은 게이트전극(110)과 중첩되지 않는 것이 바람직하다. 한편, 상기 A1 영역의 폭(d1)은 게이트전극(110)과 드레인전극(142) 간의 전기적 간섭을 피하기 위하여 적어도 7.5μm가 되도록 형성될 수 있다.
또한 절단 방향은 제 1 드레인전극부(142a)가 형성된 방향과 수직한 방향이될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 제 1 드레인전극부(142a)의 전기적 연결을 단절시키기 위한 방향이라면 다양한 방향이 될 수도 있다.
또한, 절단 깊이는 도 5b에 도시된 바와 같이 제 1 드레인전극부(142a)를 절단하기 위한 깊이이면 충분하다. 이때, 상기 제 1 드레인전극부(142a)를 절단하기 위하여 제 2 절연층(150)을 먼저 절단하게 된다. 상기 제 2 절연층(150)의 두께는 5000Å~6000Å가 될 수 있다.
이와 같이 제 1 드레인전극부(142a)를 절단하게 될 경우, 제 2 및 제 3 드레인전극부(142c)와 화소전극(115)은 플로팅(floating) 상태가 될 수 있다. 여기서 플로팅 상태란 전기적으로 고립되어 전극에 전압이 인가되지 않는 상태를 의미한다.
이때, 화소전극(115)이 플로팅되는 이유는 절단된 제 1 드레인전극부(142a)가 제 2 및 제 3 드레인전극부(142c), 화소전극(115)과 전기적으로 연결되어 있기 때문이다. 따라서, 절단과정에 의해 소스전극(141)으로부터 전달된 데이터 전압이 제 2 및 제 3 드레인전극부(142c), 화소전극(115)으로 인가될 통로가 사라지게 되므로 화소전극(115)과 제 2 및 제 3 드레인전극부(142c)는 플로팅 상태가 될 수 있다.
이어서, 도 6a와 같이 제 3 드레인전극부(142c)와 공통전극(160)이 중첩하는 B1영역에서 용접(welding)을 실행한다.
상기 용접 또한 레이저에 의하여 진행될 수 있으며, 이때 레이저 스팟은 3.5μm ~ 4.5μm가 될 수 있다.
여기서, 제 3 드레인전극부(142c)와 공통전극(160)이 용접된 형상은 도 6a에서 점으로 도시되었으나, 소정의 선(line) 또는 소정의 면(face)이 될 수도 있다.
상기 용접 형상이 점이 될 경우, 용접 위치는 적어도 하나의 지점에서 이루어질 수 있다. 도 6a 와 도 6b에서는 두 개의 지점에서 용접이 이루어진 것으로 도시되었다.
그리고, 상기 B1 영역의 면적은 레이저 스팟의 폭보다 큰 것이 바람직하다. 따라서, 용접되는 지점의 면적에 따라 상기 B1 영역의 면적도 다르게 설계되어야한다. 여기서 상기 B1 영역의 면적의 결정은 레이저 유닛 등의 장비와 제 1 기판(100)을 얼라인하는 공정마진 등도 고려대상이 되어야 한다.
예를 들어, 도 6a에서는 두 개의 지점에서 점의 형태로 용접이 진행되었다. 이 경우, 레이저 스팟의 폭이 3.5μm ~ 4.5μm이므로 용접된 지점의 폭도 3.5μm ~ 4.5μm이 될 수 있다. 이때, 공정마진까지 고려하여 상기 B1 영역의 가로폭(d2)과 세로폭(d2)은 각각 5μm이상로 설계되는 것이 바람직하다.
이하, 도 6b를 참조하여, 용접이 진행된 B1 영역의 단면을 살펴보면, 상기 공통전극(160)은 제 2 절연층(150)을 관통하여 제 3 드레인전극부(142c)와 전기적으로 접촉해 있다. 즉, 제 2 절연층(150)에 레이저가 조사되면 일정한 폭의 통로가 형성되는데, 상기 통로를 통해 상기 레이저에 의해 녹은 공통전극(160)이 제 3 드레인전극부(142c)의 상부로 흐르게 되어 상기 제 3 드레인전극부(142c)와 접촉하게 되는 것이다.
이와 같이 제 3 드레인전극부(142c)와 공통전극(160)을 전기적으로 접촉시킬 경우 제 3 드레인전극부(142c)는 공통전극(160)과 동일한 전위를 가질 수 있다. 이때, 상기 제 3 드레인전극부(142c)는 제 2 드레인전극부(142b)를 통하여 화소전극(115)과 연결되어 있으며, 상기 화소전극(115)은 플로팅되어 있다. 따라서, 상기 플로팅된 제 2 및 제 3 드레인전극부(142c)를 통해 화소전극(115)과 공통전극(160)이 전기적으로 연결되므로 상기 화소전극(115)과 공통전극(160)은 동일한 전위를 가질 수 있다.
액정층을 구동하기 위해서는 액정분자의 분자배열방향을 변화시키기 위한 전계를 형성하여야한다. 이때, 상기 전계는 화소전극(115)과 공통전극(160)의 전위차에 의해 형성된다. 따라서, 본 발명의 제 1 실시예에 따라 리페어된 단위화소는 공통전극(160)과 화소전극(115)의 전위차가 없게 되므로, 액정층을 구동할 수 없어 블랙상태에서 빛을 투과시키지 않는다. 즉, 휘점이 암점으로 변환될 수 있다.
본 발명의 제 1 실시예에서 드레인전극(142)은 2500Å~3000Å의 두께를 가지는 데에 반해 화소전극(115)은 300Å~400Å의 두께를 가질 수 있다. 그리고 제 1 절연층(120)의 두께는 약 4000Å가 될 수 있으며, 제 2 절연층(150)의 두께는 5000Å~6000Å이 될 수 있다. 종래에는 화소전극(115)과 공통전극(160)을 용접하기 위해 약 10,000Å 깊이가 되는 제 1 절연층(120)과 제 2 절연층(150)을 관통해야 했고, 얇은 화소전극(115)에 대하여 용접을 진행하여야 했다. 그리고하여 종래기술에서는 리페어가 성공이 되었더라도 용접이 완벽하게 되지 않았기 때문에 액정표시장치의 지속적인 구동 후에 리페어된 화소가 다시 불량으로 되는 현상이 있었다.
그러나 본 발명의 제 1 실시예는 제 1 절연층(120)을 관통할 필요가 없어 5000Å~6000Å 두께의 제 2 절연층(150)만 관통하면 되고, 두꺼운 드레인전극(142)에 대하여 용접을 진행하게 되므로, 종래기술보다 더욱 원활한 용접을 할 수 있다. 즉, 드레인전극(142)과 공통전극(160)의 전기적 접촉이 완전하게 이루어질 수 있어 리페어 성공률을 높일 수 있다. 그리고 그에 따라 액정표시장치의 지속적인 구동 후에도 불량이 발생하지 않으므로 제품의 신뢰성을 더욱 향상시킬 수 있다.
이하, 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 액정표시장치의 리페어 방법에 대하여 상세히 설명한다.
도 7a, 도 8a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 액정표시장치 및 액정표시장치 리페어 과정의 평면도이며, 도 7b, 도 8b는 도 7a, 도 8b의 Ⅰ~Ⅰ’과 Ⅱ~Ⅱ’ 에 대한 단면도이다.
본 발명의 제 2 실시예에 따르는 액정표시장치는 제 3 드레인전극부(242c)의 형상을 제외하고 제 1 실시예에 따르는 액정표시장치와 나머지 구성이 동일하다. 도 7a를 참조하면, 제 2 실시예에 따르는 제 3 드레인전극부(242c)는 게이트라인(211)과 중첩되도록 형성될 수 있다. 상기 중첩되는 게이트라인(211)은 다른 게이트라인(211) 영역보다 게이트라인(211) 형성 방향과 수직한 방향으로 연장 형성될 수 있다. 그리고 상기 제 3 드레인전극부(242c)는 제 1 실시예와 달리 굴곡없이 형성될 수 있으며, 제 2 드레인전극부(242b)에서 게이트라인(211) 형성방향과 동일한 방향으로 연장되어 형성될 수 있다. 도 7b를 참조하면, 상기 제 3 드레인전극(242)과 게이트라인(211)은 제 1 절연층(220)을 사이에 두고 중첩되게 배치되어 있다.
이하, 제 2 실시예에 따르는 액정표시장치의 나머지 구성에 대한 설명은 제 1 실시예의 설명으로 갈음하며, 제 1 실시예와 대비되는 도면부호는 같은 구성을 의미한다. 예를 들어 제 1 실시예의 도면부호 242에 대한 구성은 제 2 실시예의 도면부호 242에 대한 구성과 동일한 것이다.
본 발명의 제 2 실시예에 다르는 액정표시장치는 드레인전극(242) 뿐만 아니라 게이트라인(211)을 이용하여 화소전극(215)과 공통전극(260)을 등전위로 연결하는 것을 특징으로 한다. 이하, 제 2 실시예에 따르는 리페어 방법을 설명한다.
도 7a와 도 7b를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 액정표시장치 리페어 과정은 먼저 휘점에 형성된 드레인전극(242)을 절단하는 것부터 시작한다. 여기서 절단은 레이저에 의해 이루어질 수 있다.
상기 드레인전극(242)은 제 1 드레인전극부(242a), 제 2 드레인전극부(242b) 및 제 3 드레인전극부(242c)로 구성될 수 있는데, 상기 제 1 드레인전극부(242a)가 절단되는 경우, 제 1 드레인전극부(242a)와 연결된 제 2 및 제 3 드레인전극부(242c)는 플로팅상태가 될 수 있다. 이때, 상기 제 2 드레인전극부(242b)가 화소전극(215)과 연결되므로 화소전극(215) 역시 플로팅상태가 될 수 있다.
그리고 절단되는 영역은 A2 영역으로서 제 1 드레인전극부(242a)가 형성된 영역이 될 수 있다. 그리고 상기 A2 영역은 제 1 드레인전극부(242a)가 형성된 영역 중에 게이트전극(210)과 중첩하지 않는 영역이 될 수 있다.
이어서, 상기 게이트라인(211)을 절단한다. 이때, 게이트라인(211)이 절단되는 영역은 B2와 C2 영역이 되며, 상기 게이트라인(211)의 절단에 의해 플로팅된 게이트라인(211)이 형성될 수 있다. 상기 플로팅된 게이트라인(211)은, 도 7a를 참조하면, 제 3 드레인전극부(242c)와 공통전극 연결라인(260a)의 일 영역과 중첩한 위치에 형성된 부분을 의미한다. 그리고 도 7b를 참조하면, 상기 플로팅된 게이트라인(211)은 제 3 드레인전극부(242c)에 대해 제 1 절연층(220)을 사이에 두고 있으며, 공통전극 연결라인(260a)에 대해 제 1 및 제 2 절연층(220, 250)을 사이에 두고 있다.
이때, B2 영역에서는 게이트라인(211)만 절단될 수도 있고 7a와 같이 공통전극 연결라인(260a)과 게이트라인(211)이 함께 절단될 수도 있다. 공통전극 연결라인(260a)이 절단되더라도 다른 영역을 통해 공통전압을 인가받을 수 있으므로 리페어 과정 상에 문제가 발생하지 않기 때문이다.
그리고, C2 영역에서는 플로팅 게이트라인(211)을 형성하기 위한 하나의 게이트라인(211)만 절단되어야 한다.
A2, B2, C2 영역의 절단은 모두 제 1 실시예와 같은 레이저에 의해 이루어질 수 있다. 이때, A2 영역은 제 2 절연층(250)과 드레인전극(242)이 절단되며, B2와 C2 영역은 제 1 및 제 2 절연층(250)과 게이트라인(211)이 절단될 수 있다.
그 후, 도 8a 및 도 8b에 따라, 상기 플로팅된 제 3 드레인전극부(242c)와 플로팅된 게이트라인(211)을 용접하고, 공통전극 연결라인(260a)과 플로팅된 게이트라인(211)을 용접할 수 있다.
상기 플로팅된 제 3 드레인전극부(242c)가 플로팅된 게이트라인(211)과 용접될 경우, 하나의 플로팅 전극이 형성될 수 있다. 그리고 이어서 진행되는 공통전극 연결라인(260a)에 대한 용접은 상기 플로팅 전극과 이루어지게 된다. 따라서, 상기 플로팅 전극은 공통전극 연결라인(260a) 및 화소전극(215)을 전기적으로 연결시켜주는 매개체 역할을 하게 된다.
도 8b에 도시된 기판의 단면을 통하여 구체적으로 살펴보면, Ⅰ~Ⅰ’에서 제2 드레인전극(242)부는 화소전극(215)과 전기적으로 연결된다. 그리고 Ⅱ~Ⅱ’에서 제 3 드레인전극부(242c)와 공통전극 연결라인(260a)은 플로팅된 게이트라인(211)을 통하여 서로 전기적으로 연결된다. 그런데, 제 2 드레인전극부(242b)와 제 3 드레인전극부(242c)는 서로 전기적으로 연결되어 있므로 화소전극(215)과 공통전극(260)이 전기적으로 연결될 수 있다.
여기서 상기 용접은 제 3 드레인전극부(242c)와 플로팅된 게이트라인(211)이 중첩하는 D2 영역과 공통전극 연결라인(260a)과 플로팅된 게이트라인(211)이 중첩하는 E2 영역에서 진행될 수 있다. 상기 E2 영역은 공통전극 연결라인(260a)가 게이트라인과 수직으로 교차하며 형성된 영역이다.
그리고 상기 용접은 레이저에 의해 진행될 수 있는 것으로서 점, 선또는 면의 형상으로 이루어질 수 있다. 점의 형상으로 용접될 경우, 용접은 적어도 하나의 점에서 진행될 수 있다. 이때, 상기 레이저의 레이저 스팟이 3.5μm~4.5μm이고 두 개의 점에서 용접이 진행되는 경우, D2와 E2 영역의 세로폭과 가로폭은 각각 적어도 5.0μm이상이 될 수 있다.
이상으로 설명한 바와 같이 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 액정표시장치 리페어 방법에서, 제 2 및 제 3 드레인전극부(142c)와 플로팅된 게이트라인(111)이 플로팅 전극이되어 화소전극(115)과 공통전극(160)의 전기적 연결 매개체 역할을 하게 되므로 휘점의 공통전극(160)과 화소전극(115)은 동일한 전위를 이룰 수 있다. 그에 따라, 휘점이 암점으로 변환될 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시 예들에 대하여 상세하게 설명하였지만, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다.
따라서, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것이 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
100, 200 : 제 1 기판 110, 210 : 게이트전극
111, 211 : 게이트라인 115, 215 : 화소전극
120, 220 : 제 1 절연층 130, 230 : 액티브층
141, 241 : 소스전극 142, 242 : 드레인전극
142a, 242a : 제 1 드레인전극부 142b, 242b : 제 2 드레인전극부
142c, 242c : 제 3 드레인전극부 150, 250 : 제 2 절연층
160, 260 : 공통전극 161, 261 : 연결패턴
260a : 공통전극 연결라인

Claims (28)

  1. 제 1 기판 및 상기 제 1 기판에 대향 합착되는 제 2 기판;
    상기 제 1 기판 상에 형성되는 게이트전극과 화소전극;
    상기 게이트전극과 화소전극이 형성된 제 1 기판 상에 형성되는 제 1 절연층;
    상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 액티브층;
    상기 액티브층의 상부에 형성되는 소스전극;
    상기 액티브층의 상부에 형성되며, 상기 소스전극과 이격하고 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되는 드레인전극;
    상기 소스 및 드레인전극이 형성된 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 제 2 절연층; 및
    상기 제 2 절연층의 상부에서 상기 화소전극 및 드레인전극과 중첩하도록 형성되며, 상기 화소전극과 프린지 필드 전계를 형성하는 공통전극;을 포함하며,
    휘점(Hot pixel)에서 상기 드레인전극은 상기 화소전극과 연결된 드레인전극의 일 영역이 전기적으로 플로팅되도록(floated) 절단되고, 상기 플로팅된 드레인전극은 상기 공통전극과 중첩영역에서 용접되어(welded), 상기 휘점이 암점(Dead pixel)으로 변환된 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 암점의 상기 화소전극과 공통전극의 전위는 상기 플로팅된 드레인전극을 통해 동일한 값을 가지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 드레인전극은 상기 액티브층의 채널영역에 배치되는 제 1 드레인전극부; 상기 제 1 드레인전극부에서 연장되고 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되는 제 2 드레인전극부; 및 상기 제 2 드레인전극부로부터 일 방향으로 연장되어 상기 공통전극과 중첩하는 제 3 드레인전극부;로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 휘점에서 상기 제 1 드레인전극부가 절단되고, 상기 제 3 드레인전극부와 공통전극이 용접되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 1 드레인전극부는 상기 게이트전극과 중첩하는 영역과 상기 게이트전극과 중첩하지 않는 영역으로 구분되며, 상기 게이트전극과 중첩하지 않는 영역에서 상기 제 1 드레인 전극부의 형성 방향과 수직하게 절단되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    용접된 지점(spot welded)은 하나 이상인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    용접된 지점(spot welded)의 직경은 상기 드레인전극과 공통 전극이 중첩하는 영역의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 드레인전극의 두께는 2500Å~3000Å이며 상기 드레인전극과 공통전극 사이에 형성된 제 2 절연층의 두께는 5000Å~6000Å인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 드레인전극과 상기 화소전극은 상기 컨택홀 내부에 형성되는 연결패턴을 통해 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 컨택홀은 상기 제 1 절연층, 액티브층, 드레인전극, 제 2 절연층을 관통하며 상기 연결패턴은 상기 공통전극과 함께 ITO(Indium Tin Oxide)로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 드레인전극과 상기 컨택홀은 일부 중첩하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 액티브층의 채널 영역 상부이며, 상기 소스 및 드레인전극의 하부에 형성되는 에치스탑퍼를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  13. 제 1 기판 및 상기 제 1 기판에 대향 합착되는 제 2 기판;
    상기 제 1 기판 상에 형성되는 게이트라인 및 게이트전극과 화소전극;
    상기 게이트전극과 화소전극이 형성된 제 1 기판 상에 형성되는 제 1 절연층;
    상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 액티브층;
    상기 액티브층의 상부에 형성되는 소스전극;
    상기 액티브층의 상부에서 상기 소스전극과 이격되어 형성되며, 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되고, 상기 게이트라인의 일 영역과 중첩하는 드레인전극;
    상기 소스 및 드레인전극이 형성된 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 제 2 절연층; 및
    상기 제 2 절연층의 상부에 형성되며, 상기 화소전극과 프린지 필드 전계를 형성하는 공통전극; 및
    상기 공통전극에서 연장되어 상기 게이트라인의 타 영역과 중첩하는 공통전극 연결라인;을 포함하며,
    휘점(Hot pixel)에서 상기 드레인전극은 상기 화소전극과 연결된 드레인전극의 일 영역이 전기적으로 플로팅되도록 절단되고, 상기 게이트라인은 상기 드레인전극 및 공통전극 연결라인과 중첩하는 상기 게이트라인의 일 영역과 타 영역이 전기적으로 플로팅되도록 절단되며, 상기 플로팅된 드레인전극과 상기 플로팅된 게이트라인이 용접되고(welded) 상기 공통전극 연결라인과 상기 플로팅된 게이트라인이 용접되어, 상기 휘점이 암점(Dead pixel)으로 변환되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 드레인전극은 상기 액티브층의 채널영역에 배치되는 제 1 드레인전극부; 상기 제 1 드레인전극부에서 연장되어 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되는 제 2 드레인전극부; 및 상기 제 2 드레인전극부로부터 일 방향으로 연장되어 상기 게이트라인의 일 영역과 중첩되는 제 3 드레인전극부로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 휘점에서 상기 제 1 드레인전극부가 절단되고, 상기 제 3 드레인전극부가 상기 게이트라인의 일 영역과 용접되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  16. 제 13 항에 있어서,
    상기 게이트라인과 공통전극 연결라인이 중첩하는 게이트라인의 타 영역은 상기 게이트라인과 공통전극 연결라인이 수직으로 교차하여 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  17. 기판; 상기 기판 상부에 형성되는 게이트전극과 화소전극; 상기 게이트전극과 화소전극을 포함하는 기판의 상부에 형성되는 제 1 절연층; 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 액티브층; 상기 액티브층의 상부에 형성되는 소스전극; 상기 액티브층의 상부에 형성되며, 상기 소스전극과 이격하고 컨택홀을 통하여 상기 화소전극과 전기적으로 연결되는 드레인전극; 상기 소스 및 드레인전극이 형성된 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 제 2 절연층; 및 상기 제 2 절연층의 상부에서 상기 화소전극 및 드레인전극과 중첩하도록 형성되며, 상기 화소전극과 프린지필드전계를 형성하는 공통전극;을 포함하는 박막트랜지스터 어레이 기판을 제공하는 단계;
    휘점(Hot pixel)에서 상기 화소전극과 연결된 드레인전극의 일 영역이 전기적으로 플로팅되도록(floated) 상기 드레인전극을 절단하는 단계; 및
    상기 휘점에서 상기 플로팅된 드레인전극과 상기 공통전극을 중첩영역에서 용접하는(welding) 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 리페어 방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 절단하는 단계와 용접하는 단계는 레이저에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 리페어 방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 레이저의 레이저 스팟의 직경은 상기 드레인전극과 공통 전극이 중첩하는 영역의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 액정표시장치 리페어 방법.
  20. 제 17 항에 있어서,
    상기 드레인전극은 상기 액티브층의 채널영역에 배치되는 제 1 드레인전극부; 상기 제 1 드레인전극부에서 연장되고 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되는 제 2 드레인전극부; 및 상기 제 2 드레인전극부로부터 일 방향으로 연장되어 상기 공통전극과 중첩하는 제 3 드레인전극부;로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 리페어 방법.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 절단하는 단계는 상기 제 1 드레인전극부를 절단하되, 상기 제 1 드레인전극부가 형성된 방향과 수직하게 절단하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 리페어 방법.
  22. 제 20 항에 있어서,
    상기 절단하는 단계는 상기 제 1 드레인전극부가 상기 게이트전극과 중첩하는 영역과 상기 게이트전극과 중첩하지 않는 영역으로 구분될 때, 상기 제 1 드레인전극부가 상기 게이트전극과 중첩하지 않는 영역을 절단하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 리페어 방법.
  23. 제 20 항에 있어서,
    상기 용접하는 단계는 상기 제 3 드레인전극부와 공통전극을 용접하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 리페어 방법.
  24. 제 23 항에 있어서,
    상기 용접하는 단계는 하나의 이상의 지점에서 용접하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 리페어 방법.
  25. 기판; 상기 기판 상에 형성되는 게이트라인, 게이트전극과 화소전극; 상기 게이트라인, 게이트전극과 화소전극이 형성된 기판 상에 형성되는 제 1 절연층; 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 액티브층; 상기 액티브층의 상부에 형성되는 소스전극; 상기 액티브층의 상부에서 상기 소스전극과 이격되어 형성되며, 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되고, 상기 게이트라인의 일 영역과 중첩하는 드레인전극; 상기 소스 및 드레인전극이 형성된 상기 제 1 절연층의 상부에 형성되는 제 2 절연층; 상기 제 2 절연층의 상부에 형성되어 상기 화소전극과 프린지 필드 전계를 형성하는 공통전극; 및 상기 공통전극에서 연장되어 상기 게이트라인의 타 영역과 중첩하는 공통전극 연결라인;을 포함하는 박막트랜지스터 어레이 기판을 제공하는 단계;
    휘점(Hot pixel)에서 상기 드레인전극의 화소전극과 연결된 일 영역이 전기적으로 플로팅되도록(floated) 상기 드레인전극을 절단하는 단계;
    상기 휘점에서 상기 플로팅된 드레인전극 및 상기 공통전극 연결라인과 중첩하는 게이트라인의 일 영역과 타 영역을 전기적으로 플로팅시키기 위하여 상기 게이트라인을 절단하는 단계;
    상기 플로팅된 드레인전극과 상기 플로팅된 게이트라인을 용접하는(welding) 단계; 및
    상기 공통전극 연결라인과 상기 플로팅된 게이트라인을 용접하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 리페어 방법.
  26. 제 25 항에 있어서,
    상기 드레인전극은 상기 액티브층의 채널영역에 배치되는 제 1 드레인전극부; 사기 제 1 드레인전극부에서 연장되어 컨택홀을 통하여 화소전극과 전기적으로 연결되는 제 2 드레인전극부; 및 상기 제 2 드레인전극부로부터 일 방향으로 연장되어 상기 게이트라인의 일 영역과 중첩되는 제 3 드레인전극부로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 리페어 방법.
  27. 제 26항에 있어서,
    상기 제 1 드레인전극부가 절단되고, 상기 제 3 드레인전극부가 상기 플로팅된 게이트라인 영역과 용접되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 리페어 방법.
  28. 제 26 항에 있어서,
    상기 게이트라인을 절단하는 단계는 상기 게이트라인의 일 영역과 타 영역이 포함되는 영역의 양측을 절단하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 리페어 방법.
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