KR20130002354A - 일방향성 전자기 강판의 제조 방법 - Google Patents
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- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 122
- 239000010959 steel Substances 0.000 title claims abstract description 122
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 13
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims abstract description 123
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 62
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 claims abstract description 35
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 33
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 claims description 49
- 229910000976 Electrical steel Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 238000005261 decarburization Methods 0.000 claims description 29
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 23
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 claims description 20
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 20
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 claims description 13
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 13
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 23
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 15
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 15
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 12
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 7
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 230000003190 augmentative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1244—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties the heat treatment(s) being of interest
- C21D8/1255—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties the heat treatment(s) being of interest with diffusion of elements, e.g. decarburising, nitriding
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
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- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1244—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties the heat treatment(s) being of interest
- C21D8/1272—Final recrystallisation annealing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/001—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing N
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/02—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/04—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing manganese
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/06—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/02—Pretreatment of the material to be coated
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/14766—Fe-Si based alloys
- H01F1/14775—Fe-Si based alloys in the form of sheets
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
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Abstract
질화 처리(스텝 S7)를 포함하는 소위 저온 슬래브 가열을 채용한 일방향성 전자기 강판의 제조 방법에 있어서, 열간 압연(스텝 S2)의 마무리 압연의 종료 온도를 950℃ 이하로 하고, 마무리 압연의 종료부터 2초간 이내에 냉각을 개시하고, 700℃ 이하의 온도에서 권취를 행한다. 또한, 마무리 압연의 종료부터 권취를 행할 때까지 사이의 냉각 속도를 10℃/sec 이상으로 한다. 열간 압연 강대의 어닐링(스텝 S3)에서는, 800℃ 내지 1000℃의 온도 범위 내에서의 승온 속도를 5℃/sec 이상으로 한다.
Description
본 발명은, 전기 기기의 철심 등에 적합한 일방향성 전자기 강판의 제조 방법에 관한 것이다.
일방향성 전자기 강판은, 트랜스 등의 전기 기기의 철심의 재료로서 사용되고 있다. 일방향성 전자기 강판에 있어서는, 여자 특성 및 철손 특성이 양호한 것이 중요하다. 최근에는, 특히, 환경 문제로 인하여 에너지의 손실이 적은 철손이 낮은 일방향성 전자기 강판에 대한 요구가 강해지고 있다. 일반적으로, 자속 밀도가 높은 강판은, 철손이 낮고, 또한, 철심을 작게 할 수 있으므로, 매우 중요한 개발 목표이다.
일방향성 전자기 강판의 자속 밀도의 향상을 위해서는, 결정립을 고스(Goss) 방위라고 불리는 {110} <001> 방위에 고도로 집적시키는 것이 중요하다. 결정립의 방위의 제어는, 2차 재결정이라고 불리는 이상립 성장 현상을 이용하여 행해지고 있다. 2차 재결정의 제어에는, 2차 재결정 전의 1차 재결정에 의해 얻어지는 조직(1차 재결정 조직)의 조정 및 억제제라고 불리는 AlN 등의 미세 석출물 또는 입계 편석 원소의 조정이 중요하다. 억제제는, 1차 재결정 조직 중에서, {110} <001> 방위의 결정립을 우선적으로 성장시켜, 다른 결정립의 성장을 억제하는 기능을 갖는다.
또한, 억제제의 생성에 관해서는, 2차 재결정을 발생시키는 어닐링 전에 질화 처리를 행하여 AlN을 석출시키는 방법이 알려져 있다(특허문헌 5 등). 또한, 이 방법과는 전혀 다른 기구를 채용한 방법으로서, 질화 처리를 행하지 않고, 열간 압연과 냉간 압연 사이의 어닐링(열연판 어닐링) 시에 AlN을 석출시키는 방법도 알려져 있다(특허문헌 6 등).
그러나, 이들 종래의 기술에 의해서도, 효과적으로 자속 밀도를 향상시키는 것이 곤란하다.
본 발명은, 효과적으로 자속 밀도를 향상시킬 수 있는 일방향성 전자기 강판의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 질화 처리를 포함하는 일방향성 전자기 강판의 제조 방법에 있어서, 1차 재결정 조직의 제어를 목적으로 하고, 열간 압연에 있어서의 마무리 압연의 조건에 주목했다. 그리고, 본 발명자들은, 상세한 것은 후술하겠지만, 마무리 압연의 종료 온도를 950℃ 이하로 하고, 마무리 압연의 종료부터 냉각 개시까지의 시간을 2초간 이내로 하고, 냉각 속도를 10℃/sec 이상으로 하고, 권취 온도를 700℃ 이하로 하는 것이 중요하다는 것을 발견했다. 이러한 조건이 만족되면, 어닐링 전의 재결정 및 입자 성장을 억제할 수 있다. 또한, 본 발명자들은, 마무리 압연의 종료 온도를 950℃ 이하로 한 경우에는, 열간 압연 후의 어닐링(열연판 어닐링)에 있어서 소정의 온도 범위(800℃ 이상 1000℃ 이하) 내에서의 승온 속도를 5℃/sec 이상으로 하는 것이 중요하다는 것도 발견했다. 이러한 승온을 행함으로써, 효과적으로 재결정립의 미세화를 도모할 수 있다. 그리고, 본 발명자들은, 이들 여러 조건의 조합에 의해, 1차 재결정 집합 조직에 있어서 소재 입계 근방으로부터 발생하는 {111} <112> 방위를 증가시킬 수 있어, 그 결과, {110} <001> 방위의 2차 재결정의 집적도가 상승하여, 효과적으로 자기 특성이 우수한 일방향성 전자기 강판을 제조할 수 있는 것에 상도했다. 또한, 종래의 질화 처리를 포함하는 일방향성 전자기 강판의 제조 방법(특허문헌 5 등)에서는, 열연판 어닐링의 승온 속도는, 설비에 가해지는 부담 및 온도 제어의 곤란성 등의 관점에서, 생산성 및 안정성을 고려한 속도로 되어 있다.
본 발명의 요지는, 이하와 같다.
(1)
질량%로, Si: 0.8% 내지 7% 및 산 가용성 Al: 0.01% 내지 0.065%를 함유하고, C 함유량이 0.085% 이하이고, N 함유량이 0.012% 이하이고, Mn 함유량이 1% 이하이고, S 함유량(%)을 [S], Se 함유량(%)을 [Se]로 나타냈을 때, 「Seq.=[S]+0.406×[Se]」로 정의되는 S당량 Seq.가 0.015% 이하이고, 잔량부가 Fe 및 불가피적 불순물로 이루어지는 규소 강 슬래브를 1280℃ 이하의 온도에서 가열하는 공정과,
가열된 상기 규소 강 슬래브의 열간 압연을 행하여 열간 압연 강대를 얻는 공정과,
상기 열간 압연 강대의 어닐링을 행하여 어닐링 강대를 얻는 공정과,
상기 어닐링 강대를 냉간 압연하여 냉간 압연 강대를 얻는 공정과,
상기 냉간 압연 강대의 탈탄 어닐링을 행하여, 1차 재결정이 발생한 탈탄 어닐링 강대를 얻는 공정과,
어닐링 분리제를 상기 탈탄 어닐링 강대에 도포하는 공정과,
상기 탈탄 어닐링 강대의 마무리 어닐링을 행하여, 2차 재결정을 발생시키는 공정을 갖고,
상기 탈탄 어닐링의 개시부터 마무리 어닐링에 있어서의 2차 재결정의 발현까지의 사이에, 상기 탈탄 어닐링 강대의 N 함유량을 증가시키는 질화 처리를 행하는 공정을 더 갖고,
상기 열간 압연을 행하여 열간 압연 강대를 얻는 공정은,
종료 온도가 950℃ 이하인 마무리 압연을 행하는 공정과,
상기 마무리 압연의 종료부터 2초간 이내에 냉각을 개시하고, 700℃ 이하의 온도에서 권취를 행하는 공정을 갖고,
상기 어닐링을 행하여 어닐링 강대를 얻는 공정에서의 상기 열간 압연 강대의 800℃ 내지 1000℃의 온도 범위 내에서의 승온 속도를 5℃/sec 이상으로 하고,
상기 마무리 압연의 종료부터 상기 권취를 행할 때까지 사이의 냉각 속도를 10℃/sec 이상으로 하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
(2)
상기 마무리 압연에 있어서의 누적 압하율을 93% 이상으로 하는 것을 특징으로 하는 (1)에 기재된 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
(3)
상기 마무리 압연에 있어서의 최종 3패스의 누적 압하율을 40% 이상으로 하는 것을 특징으로 하는 (1) 또는 (2)에 기재된 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
(4)
상기 규소 강 슬래브는, Cu: 0.4질량%를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (3) 중 어느 한 항에 기재된 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
(5)
상기 규소 강 슬래브는, 질량%로, Cr: 0.3% 이하, P: 0.5% 이하, Sn: 0.3% 이하, Sb: 0.3% 이하, Ni: 1% 이하, Bi: 0.01% 이하, B: 0.01% 이하, Ti: 0.01% 이하 및 Te: 0.01% 이하로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (4) 중 어느 한 항에 기재된 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
본 발명에 따르면, 다양한 조건의 조합에 의해, 열간 압연 강대 등의 조직을 고스 방위의 결정립의 형성에 적합한 것으로 하여, 1차 재결정 및 2차 재결정에 의해 고스 방위의 집적도를 높일 수 있다. 따라서, 효과적으로 자속 밀도를 향상시켜 철손을 저감시킬 수 있다.
도 1은 일방향성 전자기 강판의 제조 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 2는 제1 실험의 결과를 도시하는 도면이다.
도 3은 제2 실험의 결과를 도시하는 도면이다.
도 2는 제1 실험의 결과를 도시하는 도면이다.
도 3은 제2 실험의 결과를 도시하는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서, 첨부된 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다. 도 1은, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법을 나타내는 흐름도이다.
우선, 도 1에 도시한 바와 같이, 스텝 S1에 있어서, 소정의 조성의 규소 강 소재(슬래브)를 소정의 온도로 가열하고, 스텝 S2에 있어서, 가열한 규소 강 소재의 열간 압연을 행한다. 열간 압연에 의해, 열간 압연 강대가 얻어진다. 그 후, 스텝 S3에 있어서, 열간 압연 강대의 어닐링(열연판 어닐링)을 행하여, 열간 압연 강대 내의 조직의 균일화 및 억제제의 석출의 조정을 행한다. 어닐링(열연판 어닐링)에 의해, 어닐링 강대가 얻어진다. 계속해서, 스텝 S4에 있어서, 어닐링 강대의 냉간 압연을 행한다. 냉간 압연은 1회만 행해도 좋고, 복수회의 냉간 압연을, 사이에 중간 어닐링을 행하면서 행해도 좋다. 냉간 압연에 의해, 냉간 압연 강대가 얻어진다. 또한, 중간 어닐링을 행하는 경우, 냉간 압연 전의 열연 강대의 어닐링을 생략하고, 중간 어닐링에 있어서 어닐링(스텝 S3)을 행해도 좋다. 즉, 어닐링(스텝 S3)은, 열연 강대에 대하여 행해도 좋고, 한번 냉간 압연한 후의 최종 냉간 압연 전의 강대에 대하여 행해도 좋다.
냉간 압연 후에는, 스텝 S5에 있어서, 냉간 압연 강대의 탈탄 어닐링을 행한다. 이 탈탄 어닐링 시에 1차 재결정이 발생한다. 또한, 탈탄 어닐링에 의해, 탈탄 어닐링 강대가 얻어진다. 계속해서, 스텝 S6에 있어서, MgO(마그네시아)를 주성분으로 하는 어닐링 분리제를 탈탄 처리 강대의 표면에 도포하여, 마무리 어닐링을 행한다. 이 마무리 어닐링 시에, 2차 재결정이 발생하여, 강대의 표면에 포르스테라이트를 주성분으로 하는 유리 피막이 형성되어, 순화가 행해진다. 2차 재결정의 결과, 고스 방위에 정렬된 2차 재결정 조직이 얻어진다. 마무리 어닐링에 의해, 마무리 어닐링 강대가 얻어진다. 또한, 탈탄 어닐링의 개시부터 마무리 어닐링에 있어서의 2차 재결정의 발현까지의 사이에는, 강대의 질소량을 증가시키는 질화 처리를 행해 둔다(스텝 S7).
이와 같이 하여 일방향성 전자기 강판을 얻을 수 있다.
여기서, 본 실시 형태에서 사용하는 규소 강 슬래브의 성분의 한정 이유에 대하여 설명한다. 이하, %는, 질량%를 의미한다.
본 실시 형태에서 사용하는 규소 강 슬래브는, Si: 0.8% 내지 7% 및 산 가용성 Al: 0.01% 내지 0.065%를 함유하고, C 함유량이 0.085% 이하이고, N 함유량이 0.012% 이하이고, Mn 함유량이 1% 이하이고, S 함유량(%)을 [S], Se 함유량(%)을 [Se]로 나타냈을 때, 「Seq.=[S]+0.406×[Se]」로 정의되는 S당량 Seq.가 0.015% 이하이고, 잔량부가 Fe 및 불가피적 불순물로 이루어진다. 또한, 이러한 규소 강 슬래브에, Cu: 0.4% 이하가 함유되어 있어도 좋다. 또한, Cr: 0.3% 이하, P: 0.5% 이하, Sn: 0.3% 이하, Sb: 0.3% 이하, Ni: 1% 이하, Bi: 0.01% 이하, B: 0.01% 이하, Ti: 0.01% 이하 및 Te: 0.01% 이하로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종이 함유되어 있어도 좋다.
Si는, 전기 저항을 높여 철손을 저감시킨다. Si 함유량이 0.8% 미만이면 이 효과를 충분히 얻지 못하는 경우가 있다. 또한, 마무리 어닐링(스텝 S6) 시에 γ 변태가 발생하여, 결정 방위를 충분히 제어할 수 없다. Si 함유량이 7%를 초과하면, 냉간 압연(스텝 S4)이 지극히 곤란해져, 냉간 압연 시에 강대가 깨져 버린다. 따라서, Si 함유량은 0.8% 내지 7%로 한다. 공업 생산성을 고려하면, Si 함유량은 4.8% 이하인 것이 바람직하고, 4.0% 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기의 효과를 고려하면, Si 함유량은 2.8% 이상인 것이 바람직하다.
산 가용성 Al은, N과 결합하여, 억제제로서 기능하는 (Al, Si)N을 형성한다. 산 가용성 Al의 함유량이 0.01% 미만이면 억제제의 형성량이 불충분해진다. 산 가용성 Al의 함유량이 0.065%를 초과하면, 2차 재결정이 불안정해진다. 따라서, 산 가용성 Al의 함유량은, 0.01% 내지 0.065%로 한다. 또한, 산 가용성 Al의 함유량은, 0.0018% 이상인 것이 바람직하고, 0.022% 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.035% 이하인 것이 바람직하다.
C는, 1차 재결정 조직을 제어하는 데 있어서 유효한 원소이나, 자기 특성에 악영향을 미친다. 이로 인해, 탈탄 어닐링(스텝 S5)을 행하지만, C 함유량이 0.085%를 초과하면, 탈탄 어닐링에 필요로 하는 시간이 길어져, 생산성이 손상되어 버린다. 따라서, C 함유량은 0.085% 이하로 하고, 0.08% 이하인 것이 바람직하다. 또한, 1차 재결정 조직의 제어의 관점에서, C 함유량은 0.05% 이상인 것이 바람직하다.
N은, 억제제로서 기능하는 AlN 등을 형성한다. 그러나, N 함유량이 0.012%를 초과하면, 냉간 압연(스텝 S4) 시에 강대 중에 블리스터라고 불리는 구멍이 발생한다. 따라서, N 함유량은 0.012% 이하로 하고, 0.01% 이하인 것이 바람직하다. 또한, 억제제의 형성의 관점에서, N 함유량은 0.004% 이상인 것이 바람직하다.
Mn은, 비저항을 높여 철손을 저감시킨다. 또한, Mn은, 열간 압연(스텝 S2)에 있어서의 깨짐의 발생을 억제한다. 그러나, Mn 함유량이 1%를 초과하면, 자속 밀도가 저하한다. 따라서, Mn 함유량은 1% 이하로 하고, 0.8% 이하인 것이 바람직하다. 또한, 철손의 저감 등의 관점에서 Mn 함유량은 0.05% 이상인 것이 바람직하다. 또한, Mn은, S 및/또는 Se와 결합하여 자기 특성의 향상에 기여한다. 이로 인해, Mn 함유량(질량%)을 [Mn]으로 나타냈을 때, 「[Mn]/([S]+ [Se])≥4」의 관계가 성립되는 것이 바람직하다.
S 및 Se는, Mn과 결합하여 강대 중에 존재하여, 자기 특성의 향상에 기여한다. 그러나, 「Seq.=[S]+0.406×[Se]」로 정의되는 S당량 Seq.가 0.015%를 초과하면, 자기 특성에 악영향이 미친다. 따라서, S당량 Seq.는 0.015% 이하로 한다.
상술한 바와 같이, 규소 강 슬래브에 Cu를 함유시켜도 좋다. Cu는 억제제 구성 원소이다. 그러나, Cu 함유량이 0.4%를 초과하면, 석출물의 분산이 불균일해지기 쉬워, 철손을 저감시키는 효과가 포화되어 버린다. 따라서, Cu 함유량은 0.4% 이하로 하고, 0.3% 이하인 것이 바람직하다. 또한, 억제제의 형성의 관점에서, Cu 함유량은 0.05 이상인 것이 바람직하다.
또한, 상술한 바와 같이, 규소 강 슬래브에, Cr: 0.3% 이하, P: 0.5% 이하, Sn: 0.3% 이하, Sb: 0.3% 이하, Ni: 1% 이하, Bi: 0.01% 이하, B: 0.01% 이하, Ti: 0.01% 이하 및 Te: 0.01로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종을 함유시켜도 좋다.
Cr은, 탈탄 어닐링(스텝 S5) 시에 강대의 표면에 형성되는 산화층의 개선에 유효하다. 산화층이 개선되면, 이 산화층을 기점으로 하여 마무리 어닐링(스텝 S6) 시에 형성되는 유리 피막이 양호한 것으로 된다. 그러나, Cr 함유량이 0.3%를 초과하면, 자기 특성이 악화된다. 따라서, Cr 함유량은 0.3% 이하로 한다. 또한, 산화층 개선의 관점에서, Cr 함유량은 0.02% 이상인 것이 바람직하다.
P는, 비저항을 높여 철손을 저감시킨다. 그러나, P 함유량이 0.5%를 초과하면, 냉간 압연(스텝 S4)이 곤란해진다. 따라서, P 함유량은 0.5% 이하로 하고, 0.3% 이하인 것이 바람직하다. 또한, 철손의 저감의 관점에서, P 함유량은 0.02% 이상인 것이 바람직하다.
Sn 및 Sb는, 입계 편석 원소이다. 본 실시 형태에서는, 규소 강 슬래브에 산 가용성 Al이 함유되어 있으므로, 마무리 어닐링(스텝 S6)의 조건에 따라서는, 어닐링 분리제로부터 방출되는 수분에 의해 Al이 산화되는 경우가 있다. Al이 산화되면, 코일 형상으로 감긴 강대 내의 부위간에서, 억제제 강도가 변동하여 자기 특성이 변동하는 경우가 있다. 이에 대해, 입계 편석 원소인 Sn 및/또는 Sb가 포함되어 있으면, Al의 산화를 억제하여, 자기 특성의 변동을 억제할 수 있다. 그러나, Sn 함유량이 0.3%를 초과하면, 탈탄 어닐링(스텝 S5) 시에 산화층이 형성되기 어려워져 유리 피막의 형성이 불충분해진다. 또한, 탈탄 어닐링(스텝 S5)에 의한 탈탄이 현저하게 곤란해진다. Sb 함유량이 0.3%를 초과하는 경우도 마찬가지이다. 따라서, Sn 함유량 및 Sb 함유량은 0.3% 이하로 한다. 또한, Al의 산화 억제의 관점에서, Sn 함유량 및 Sb 함유량은 0.02% 이상인 것이 바람직하다.
Ni는, 비저항을 높여 철손을 저감시킨다. 또한, Ni는, 열간 압연 강대의 금속 조직을 제어하여, 자기 특성을 향상시키는 데 있어서 유효한 원소이기도 하다. 그러나, Ni 함유량이 1%를 초과하면, 마무리 어닐링(스텝 S6) 시의 2차 재결정이 불안정해진다. 따라서, Ni 함유량은 1% 이하로 하고, 0.3% 이하인 것이 바람직하다. 또한, 철손의 저감 등의 자기 특성의 향상의 관점에서, Ni 함유량은 0.02% 이상인 것이 바람직하다.
Bi, B, Ti 및 Te는, 황화물 등의 석출물을 안정화하여, 당해 석출물의 억제제로서의 기능을 강화한다. 그러나, Bi 함유량이 0.01%를 초과하면, 유리 피막의 형성에 악영향이 미친다. B 함유량이 0.01%를 초과하는 경우, Ti 함유량이 0.01%를 초과하는 경우 및 Te 함유량이 0.01%를 초과하는 경우도 마찬가지이다. 따라서, Bi 함유량, B 함유량, Ti 함유량 및 Te 함유량은 0.01% 이하로 한다. 또한, 억제제 강화의 관점에서, Bi 함유량, B 함유량, Ti 함유량 및 Te 함유량은 0.0005% 이상인 것이 바람직하다.
규소 강 슬래브에, 자기 특성을 손상시키지 않는 범위에서, 상기 이외의 원소 및/또는 다른 불가피적 불순물이 더 함유되어 있어도 좋다.
이어서, 본 실시 형태에 있어서의 각 스텝의 조건 등에 대하여 설명한다.
스텝 S1의 슬래브 가열에서는, 1280℃ 이하의 온도에서, 규소 강 슬래브를 가열한다. 즉, 본 실시 형태에서는, 소위 저온 슬래브 가열을 행한다. 규소 강 슬래브의 제작 시에는, 예를 들어 상기의 성분을 함유하는 강을 전로(轉爐) 또는 전기로 등에 의해 용제하여 용강을 얻는다. 계속해서, 필요에 따라 용강의 진공 탈가스 처리를 행하고, 용강의 연속 주조, 또는 조괴, 분괴 및 압연을 행함으로써 얻을 수 있다. 규소 강 슬래브의 두께는, 예를 들어 150mm 내지 350mm로 하고, 바람직하게는 220mm 내지 280mm로 한다. 규소 강 슬래브로서, 두께가 30mm 내지 70mm인 박 슬래브를 제작해도 좋다. 박 슬래브를 사용하는 경우에는, 열간 압연(스텝 S2)에 있어서의 마무리 압연 전의 조압연을 생략하는 것이 가능하게 된다.
슬래브 가열의 온도를 1280℃ 이하로 함으로써, 규소 강 슬래브 내의 석출물을 충분히 석출시켜, 형태를 균일화하여, 스키드 마크의 형성을 피하는 것이 가능하게 된다. 스키드 마크는, 2차 재결정 거동의 코일 내의 변동의 전형적인 예이다. 또한, 보다 높은 온도에서의 슬래브 가열(소위 고온 슬래브 가열)을 행하는 경우의 여러 문제를 피할 수도 있다. 고온 슬래브 가열을 행하는 경우의 여러 문제로서는, 전용 가열로가 필요하게 되는 것 및 용융 스케일의 양이 많은 것 등을 들 수 있다.
슬래브 가열의 온도가 낮을수록, 자기 특성이 양호해진다. 이로 인해, 슬래브 가열의 온도의 하한은 특별히 한정되지 않지만, 슬래브 가열의 온도가 지나치게 낮은 경우, 슬래브 가열에 이어 행해지는 열간 압연이 곤란해져 생산성이 저하되는 경우가 있다. 따라서, 슬래브 가열의 온도는, 생산성을 고려한 후 1280℃ 이하의 범위로 설정하는 것이 바람직하다.
스텝 S2의 열간 압연에서는, 예를 들어 규소 강 슬래브의 조압연을 행하고, 계속해서, 마무리 압연을 행한다. 상술한 바와 같이, 박 슬래브를 사용하는 경우에는 조압연을 생략할 수 있다. 본 실시 형태에서는, 마무리 압연의 종료 온도를 950℃ 이하로 한다. 마무리 압연의 종료 온도를 950℃ 이하로 하면, 이하에 나타내는 제1 실험에서 명백해진 바와 같이, 효과적으로 자기 특성이 향상한다.
(제1 실험)
여기서, 제1 실험에 대하여 설명한다. 제1 실험에서는, 열간 압연에 있어서의 마무리 압연의 종료 온도와 자속 밀도 B8의 관계에 대하여 조사했다. 자속 밀도 B8은, 50Hz에서 800A/m의 자장이 인가되었을 때에, 일방향성 전자기 강판에 발생하는 자속 밀도이다.
우선, 질량%로, Si: 3.24%, C: 0.054%, 산 가용성 Al: 0.028%, N: 0.006%, Mn: 0.05% 및 S: 0.007%를 함유하고, 잔량부가 Fe 및 불가피적 불순물로 이루어지는 두께가 40mm인 규소 강 슬래브를 제작했다. 계속해서, 규소 강 슬래브를 1150℃의 온도에서 가열하고, 그 후, 열간 압연에 의해 두께가 2.3mm인 열간 압연 강대를 얻었다. 이때, 마무리 압연의 종료 온도를 750℃ 내지 1020℃의 범위에서 변화시켰다. 또한, 마무리 압연의 누적 압하율은 94.3%, 마무리 압연의 최종 3패스의 누적 압하율은 45%로 했다. 그리고, 마무리 압연의 종료부터 1초간 경과한 시점에서 냉각을 개시하고, 540℃ 내지 560℃의 권취 온도에서 강대를 코일 형상으로 권취했다. 냉각의 개시부터 권취를 행할 때까지의 냉각 속도는 16℃/sec로 했다.
계속해서, 열간 압연 강대의 어닐링을 행했다. 이 어닐링에서는, 열간 압연 강대의 온도가 800℃ 내지 1000℃의 범위 내에 있는 동안의 승온 속도를 7.2℃/sec로 하여 가열하고, 1100℃의 온도로 유지했다. 그 후, 어닐링 후의 강대를 0.23mm의 두께로 될 때까지 냉간 압연하여 냉간 압연 강대를 얻었다. 계속해서, 냉간 압연 강대에 대하여, 850℃에서의 탈탄 어닐링을 행하여 1차 재결정을 발생시키고, 또한, 암모니아 함유 분위기에서의 어닐링을 질화 처리로서 행했다. 질화 처리에 의해, 강대의 N 함유량을 0.019질량%로 증가시켰다. 계속해서, MgO를 주성분으로 하는 어닐링 분리제를 도포하고, 그 후, 1200℃에서 20시간의 마무리 어닐링을 실시하여 2차 재결정을 발생시켰다.
그리고, 마무리 어닐링 후의 강대의 자기 특성으로서 자속 밀도 B8을 측정했다. 자속 밀도 B8의 측정으로는, 60mm×300mm의 단판 시료를 사용한, JIS C 2556에 기재된 단판 자기 특성 시험 방법(SST 시험법)을 채용했다. 이 결과를 도 2에 도시한다. 도 2로부터, 마무리 압연의 종료 온도를 950℃ 이하로 함으로써, 1.91T 이상의 높은 자속 밀도 B8이 얻어지는 것을 알 수 있다.
마무리 압연의 종료 온도를 950℃ 이하로 함으로써 높은 자속 밀도가 얻어지는 이유는, 충분히 해명되어 있지는 않지만, 이하와 같이 생각할 수 있다. 즉, 열간 압연에 의해 변형이 강대 내에 축적되고, 마무리 압연의 종료 온도가 950℃ 이하이면 이 변형이 유지된다. 그리고, 이러한 변형의 축적에 수반하여, 탈탄 처리(스텝 S5)에 있어서, 고스 방위의 결정립의 생성에 기여하는 1차 재결정 조직(집합 조직)이 얻어진다. 여기서, 고스 방위의 결정립의 생성에 기여하는 1차 재결정 조직으로서는, {111} <112> 방위의 집합 조직을 들 수 있다.
마무리 압연의 종료 온도가 낮을수록, 자기 특성이 양호해진다. 이로 인해, 종료 온도의 하한은 특별히 한정되지 않지만, 종료 온도가 지나치게 낮은 경우, 마무리 압연이 곤란해져 생산성이 저하되는 경우가 있다. 따라서, 종료 온도는, 생산성을 고려한 후 950℃ 이하의 범위로 설정하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 종료 온도는 750℃ 이상으로 하는 것이 바람직하고, 900℃ 이하로 하는 것이 바람직하다.
또한, 마무리 압연의 누적 압하율은 93% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 마무리 압연의 누적 압하율을 93% 이상으로 함으로써, 자기 특성이 향상하기 때문이다. 또한, 최종 3패스의 누적 압하율은 40% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 45% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다. 최종 3패스의 누적 압하율을 40% 이상, 특히 45% 이상으로 함으로써도, 자기 특성이 향상하기 때문이다. 이것도, 누적 압하율의 상승에 수반하여, 열간 압연에 의해 도입되는 변형의 축적이 증대하기 때문이라고 생각되어진다. 또한, 압연 능력 등의 관점에서, 마무리 압연의 누적 압하율은 97% 이하로 하는 것이 바람직하고, 최종 3패스의 누적 압하율은 60% 이하로 하는 것이 바람직하다.
본 실시 형태에서는, 마무리 압연의 종료부터 2초간 이내에 냉각을 개시한다. 마무리 압연의 종료부터 냉각을 개시할 때까지의 시간이 2초간을 초과하면, 강대의 길이 방향(압연 방향) 및 폭 방향의 온도의 편차에 따라 불균일하게 재결정이 발생하기 쉬워져, 열간 압연에 의해 증대된 변형의 축적이 해방되어 버린다. 따라서, 마무리 압연의 종료부터 냉각을 개시할 때까지의 시간은 2초간 이하로 한다.
본 실시 형태에서는, 700℃ 이하의 온도에서 강대의 권취를 행한다. 즉, 권취 온도를 700℃ 이하로 한다. 권취 온도가 700℃를 초과하면, 강대의 길이 방향 및 폭 방향의 온도의 편차에 따라 불균일하게 재결정이 발생하기 쉬워져, 열간 압연에 의해 증대된 변형의 축적이 해방되어 버린다. 따라서, 권취 온도는 700℃ 이하로 한다.
권취 온도가 낮을수록, 자기 특성이 양호해진다. 이로 인해, 권취 온도의 하한은 특별히 한정되지 않지만, 권취 온도가 지나치게 낮은 경우, 권취를 개시할 때까지의 시간이 길어져 생산성이 저하되는 경우가 있다. 따라서, 권취 온도는, 생산성을 고려한 후 700℃ 이하의 범위로 설정하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 권취 온도는 450℃ 이상으로 하는 것이 바람직하고, 600℃ 이하로 하는 것이 바람직하다.
그리고, 본 실시 형태에서는, 마무리 압연의 종료부터 권취를 행할 때까지 사이의 냉각 속도(예를 들어, 평균 냉각 속도)를 10℃/sec 이상으로 한다. 이 냉각 속도가 10℃/sec 미만이면 강대의 길이 방향 및 폭 방향의 온도의 편차에 따라 불균일하게 재결정이 발생하기 쉬워져, 열간 압연에 의해 증대된 변형의 축적이 해방되어 버린다. 따라서, 냉각 속도는 10℃/sec 이상으로 한다. 냉각 속도의 상한은, 특별히 한정되지 않지만, 냉각 설비 능력 등을 고려한 후 10℃/sec 이상의 범위에서 설정하는 것이 바람직하다.
스텝 S3의 어닐링, 예를 들어 연속 어닐링에서는, 열간 압연 강대의 800℃ 내지 1000℃의 온도 범위 내에서의 승온 속도(예를 들어, 평균 승온 속도)를 5℃/sec 이상으로 한다. 800℃ 내지 1000℃의 온도 범위 내에서의 승온 속도를 5℃/sec 이상으로 하면, 이하에 나타내는 제2 실험에서 명백해진 바와 같이, 효과적으로 자기 특성이 향상한다.
(제2 실험)
여기서, 제2 실험에 대하여 설명한다. 제2 실험에서는, 어닐링(스텝 S2)의 승온 속도와 자속 밀도 B8의 관계에 대하여 조사했다.
우선, 질량%로, Si: 3.25%, C: 0.057%, 산 가용성 Al: 0.027%, N: 0.004%, Mn: 0.06%, S: 0.011% 및 Cu: 0.1%를 함유하고, 잔량부가 Fe 및 불가피적 불순물로 이루어지는 두께가 40mm인 규소 강 슬래브를 제작했다. 계속해서, 규소 강 슬래브를 1150℃의 온도에서 가열하고, 그 후, 열간 압연에 의해 두께가 2.3mm인 열간 압연 강대를 얻었다. 이때, 마무리 압연의 종료 온도를 830℃로 했다. 또한, 마무리 압연의 누적 압하율은 94.3%, 마무리 압연의 최종 3패스의 누적 압하율은 45%로 했다. 그리고, 마무리 압연의 종료부터 1초간 경과한 시점에서 냉각을 개시하고, 530℃ 내지 550℃의 권취 온도에서 강대를 코일 형상으로 권취했다. 냉각의 개시부터 권취를 행할 때까지의 냉각 속도는 16℃/sec로 했다.
계속해서, 열간 압연 강대의 어닐링을 행했다. 이 어닐링에서는, 열간 압연 강대의 온도가 800℃ 내지 1000℃의 범위 내에 있는 동안의 승온 속도를 3℃/sec 내지 8℃/sec로 하여 가열하고, 1100℃의 온도로 유지했다. 그 후, 어닐링 후의 강대를 0.23mm의 두께로 될 때까지 냉간 압연하여 냉간 압연 강대를 얻었다. 계속해서, 냉간 압연 강대에 대하여, 850℃에서의 탈탄 어닐링을 행하여 1차 재결정을 발생시키고, 또한, 암모니아 함유 분위기에서의 어닐링을 질화 처리로서 행했다. 질화 처리에 의해, 강대의 N 함유량을 0.017질량%로 증가시켰다. 계속해서, MgO를 주성분으로 하는 어닐링 분리제를 도포하고, 그 후, 1200℃에서 20시간의 마무리 어닐링을 실시하여 2차 재결정을 발생시켰다.
그리고, 제1 실험과 마찬가지로 하여, 마무리 어닐링 후의 강대의 자기 특성으로서 자속 밀도 B8을 측정했다. 이 결과를 도 3에 도시한다. 도 3로부터, 열간 압연 강대의 800℃ 내지 1000℃의 온도 범위 내에서의 승온 속도를 5℃/sec 이상으로 함으로써, 1.91T 이상의 높은 자속 밀도 B8이 얻어지는 것을 알 수 있다.
승온 속도를 5℃/sec 이상으로 함으로써 높은 자속 밀도가 얻어지는 이유는, 충분히 해명되어 있지는 않지만, 이하와 같이 생각할 수 있다. 즉, 5℃/sec 이상의 급속 가열에 의해, 열간 압연 시에 축적된 변형이 활용되어 재결정립의 미세화가 촉진되어, 고스 방위의 결정립의 생성에 기여하는 집합 조직이 얻어지기 때문이라고 생각되어진다.
스텝 S3의 어닐링의 온도는 특별히 한정되지 않지만, 열간 압연에서 발생한 온도 이력의 차에 의한 결정 조직 및 석출물의 분산의 불균일성을 해소하기 위해서, 1000℃ 내지 1150℃의 온도 범위로 행하는 것이 바람직하다. 이 어닐링 온도가 150℃를 초과하면, 억제제가 용해되는 경우가 있다. 또한, 이들 관점에서, 이 어닐링 온도는 1050℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, 1100℃ 이하인 것도 보다 바람직하다.
스텝 S4의 냉간 압연의 횟수는, 제조하고자 하는 일방향성 전자기 강판에 요구되는 특성 및 비용에 따라 적절히 선택하는 것이 바람직하다. 또한, 최종 냉간 압연율은 80% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 이것은, 탈탄 어닐링(스텝 S5) 시에 {111} 등의 1차 재결정의 방위를 발달시켜, 고스 방위의 2차 재결정의 집적도를 높이기 위해서이다.
스텝 S5의 탈탄 어닐링은, 냉간 압연 강대에 포함되는 C를 제거하기 위해, 예를 들어 습윤 분위기 중에서 행한다. 탈탄 어닐링 시에 1차 재결정이 발생한다. 탈탄 어닐링의 온도는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 800℃ 내지 900℃로 함으로써, 1차 재결정립 직경이 7㎛ 내지 18㎛ 정도로 되고, 2차 재결정을 보다 안정되게 발현할 수 있게 된다. 즉, 더 우수한 일방향성 전자기 강판을 제조할 수 있다.
스텝 S7의 질화 처리는, 스텝 S6의 마무리 어닐링에 있어서의 2차 재결정의 발현 전에 행한다. 이 질화 처리에 의해, 강대 중에 N을 침입시켜, 억제제로서 기능하는 (Al, Si)N을 형성한다. (Al, Si)N의 형성에 의해, 자속 밀도가 높은 일방향성 전자기 강판을 안정되게 제조할 수 있다. 질화 처리로서는, 탈탄 어닐링에 이어 암모니아 등의 질화능이 있는 가스를 함유하는 분위기 중에서 어닐링하는 처리, MnN 등의 질화능이 있는 분말을 어닐링 분리제 중에 첨가하는 것 등에 의해 마무리 어닐링 중에 행하는 처리 등을 들 수 있다.
스텝 S6에서는, 예를 들어 마그네시아를 주성분으로 하는 어닐링 분리제를 강대에 도포하여, 마무리 어닐링을 행함으로써, {110} <001> 방위(고스 방위)의 결정립을 2차 재결정에 의해 우선 성장시킨다.
이와 같이, 본 실시 형태에서는, 열간 압연(스텝 S2)의 마무리 압연의 종료 온도를 950℃ 이하로 하고, 마무리 압연의 종료부터 2초간 이내에 냉각을 개시하는 것으로 하고, 700℃ 이하의 온도에서 권취를 행하는 것으로 하고, 어닐링(스텝 S3)에 있어서의 800℃ 내지 1000℃의 온도 범위 내에서의 승온 속도를 5℃/sec 이상으로 하고, 마무리 압연의 종료부터 권취를 행할 때까지 사이의 냉각 속도를 10℃/sec 이상으로 하고 있다. 그리고, 이들 여러 조건의 조합에 의해, 지극히 우수한 자기 특성이 얻어진다. 이 이유는, 상술되어 있기는 하지만, 이하와 같이 생각할 수 있다.
즉, 마무리 압연의 종료 온도를 950℃ 이하, 냉각 개시까지의 시간을 2초간 이내, 냉각 속도를 10℃/sec 이상으로 하고, 권취 온도를 700℃ 이하로 함으로써, 열간 압연으로 축적된 변형이 유지되어, 어닐링(스텝 S3)까지 재결정이 억제된다. 즉, 압연 가공 강화 및 재결정의 억제에 의해 압연 변형이 유지된다. 그리고, 800℃ 내지 1000℃의 온도 범위 내에서의 승온 속도를 5℃/sec 이상으로 함으로써, 재결정립의 미세화가 촉진된다. 또한, 연속 어닐링에 의해, 강대의 길이 방향(압연 방향) 및 폭 방향에 있어서의 온도의 편차가 억제되어 균일한 재결정이 발생한다. 그리고, 냉간 압연(스텝 S4) 후의 탈탄 어닐링(스텝 S5) 시에 1차 재결정이 발생하지만, 이때에, 결정립계의 근방으로부터 {111} <112> 방위의 결정립이 성장하기 쉽다. {111} <112> 방위의 결정립은 {110} <001> 방위(고스 방위)의 결정립의 우선 성장에 기여한다. 즉, 양호한 1차 재결정 조직이 얻어진다. 이로 인해, 마무리 어닐링(스텝 S6)에 의해 2차 재결정이 발생하면, {110} <001> 방위(고스 방위)에 집적된 지극히 자기 특성의 향상에 적합한 조직을 안정되게 얻을 수 있다.
실시예
이어서, 본 발명자들이 행한 실험에 대하여 설명한다. 이들 실험에 있어서의 조건 등은, 본 발명의 실시 가능성 및 효과를 확인하기 위하여 채용한 예이며, 본 발명은, 이들 예에 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
실시예 1에서는, 표 1에 나타내는 성분을 함유하고, 잔량부가 Fe 및 불가피적 불순물로 이루어지는 강 S1 내지 S7을 사용하여 두께가 40mm인 규소 강 슬래브를 제작했다. 계속해서, 규소 강 슬래브를 1150℃의 온도에서 가열하고, 그 후, 열간 압연에 의해 두께가 2.3mm인 열간 압연 강대를 얻었다. 이때, 마무리 압연의 종료 온도를 845℃ 내지 855℃의 범위에서 변화시켰다. 또한, 마무리 압연의 누적 압하율은 94%, 마무리 압연의 최종 3패스의 누적 압하율은 45%로 했다. 그리고, 마무리 압연의 종료부터 1초간 경과한 시점에서 냉각을 개시하고, 490℃ 내지 520℃의 권취 온도에서 강대를 코일 형상으로 권취했다. 냉각의 개시부터 권취를 행할 때까지의 냉각 속도는 13℃/sec 내지 14℃/sec로 했다.
계속해서, 열간 압연 강대의 어닐링을 행했다. 이 어닐링에서는, 열간 압연 강대의 온도가 800℃ 내지 1000℃의 범위 내에 있는 동안의 승온 속도를 7℃/sec로 하여 가열하고, 1100℃의 온도로 유지했다. 그 후, 어닐링 후의 강대를 0.23mm의 두께로 될 때까지 냉간 압연하여 냉간 압연 강대를 얻었다. 계속해서, 냉간 압연 강대에 대하여, 850℃에서의 탈탄 어닐링을 행하여 1차 재결정을 발생시키고, 또한, 암모니아 함유 분위기에서의 어닐링을 질화 처리로서 행했다. 질화 처리에 의해, 강대의 N 함유량을 0.016질량%로 증가시켰다. 계속해서, MgO를 주성분으로 하는 어닐링 분리제를 도포하고, 그 후, 1200℃에서 20시간의 마무리 어닐링을 실시하여 2차 재결정을 발생시켰다.
그리고, 제1 실험 및 제2 실험과 마찬가지로 하여, 마무리 어닐링 후의 강대의 자기 특성으로서 자속 밀도 B8을 측정했다. 이 결과를 표 2에 나타낸다.
표 2에 나타낸 바와 같이, 시험 No.1-1 내지 No.1-7은, 모두 본 발명에서 규정하는 조건을 만족하고 있기 때문에, 높은 자속 밀도 B8이 얻어졌다.
<실시예 2>
실시예 2에서는, 표 3에 나타내는 성분을 함유하고, 잔량부가 Fe 및 불가피적 불순물로 이루어지는 강 S11을 사용하여 두께가 40mm인 규소 강 슬래브를 제작했다. 계속해서, 규소 강 슬래브를 1150℃의 온도에서 가열하고, 그 후, 열간 압연에 의해 두께가 2.3mm인 열간 압연 강대를 얻었다. 이때, 마무리 압연의 누적 압하율, 최종 3패스의 누적 압하율 및 종료 온도를 표 4에 나타내는 것으로 했다. 그리고, 마무리 압연의 종료부터 표 4에 나타내는 시간만큼 경과한 시점에서 냉각을 개시하고, 표 4에 나타내는 권취 온도에서 강대를 코일 형상으로 권취했다. 냉각의 개시부터 권취를 행할 때까지의 냉각 속도는 표 4에 나타내는 것으로 했다.
계속해서, 열간 압연 강대의 어닐링을 행했다. 이 어닐링에서는, 열간 압연 강대의 온도가 800℃ 내지 1000℃의 범위 내에 있는 동안의 승온 속도를 표 4에 나타내는 것으로 하여 가열하고, 1100℃의 온도로 유지했다. 그 후, 어닐링 후의 강대를 0.23mm의 두께로 될 때까지 냉간 압연하여 냉간 압연 강대를 얻었다. 계속해서, 냉간 압연 강대에 대하여, 850℃에서의 탈탄 어닐링을 행하여 1차 재결정을 발생시키고, 또한, 암모니아 함유 분위기에서의 어닐링을 질화 처리로서 행했다. 질화 처리에 의해, 강대의 N 함유량을 0.016질량%로 증가시켰다. 계속해서, MgO를 주성분으로 하는 어닐링 분리제를 도포하고, 그 후, 1200℃에서 20시간의 마무리 어닐링을 실시하여 2차 재결정을 발생시켰다.
그리고, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 마무리 어닐링 후의 강대의 자기 특성으로서 자속 밀도 B8을 측정했다. 이 결과를 실시예 1의 결과와 함께 표 4에 나타낸다.
표 4에 나타낸 바와 같이, 본 발명에서 규정하는 조건을 만족하는 시험 No.2-1 내지 No.2-9에서는, 높은 자속 밀도 B8이 얻어졌다. 한편, 본 발명에서 규정하는 조건의 어느 하나를 만족하지 않는 시험 No.2-11 내지 No.2-15에서는, 자속 밀도 B8이 낮았다.
또한, 상기 실시 형태는, 모두 본 발명을 실시하는 데 있어서 구체화의 예를 나타낸 것에 지나지 않고, 이들에 의해 본 발명의 기술적 범위가 한정적으로 해석되어서는 안되는 것이다. 즉, 본 발명은 그 기술 사상, 또는 그 주요한 특징으로부터 일탈하지 않고, 여러 형태로 실시할 수 있다.
<산업상 이용가능성>
본 발명은, 예를 들어 전자기 강판 제조 산업 및 전자기 강판 이용 산업에 있어서 이용할 수 있다.
Claims (16)
- 질량%로, Si: 0.8% 내지 7% 및 산 가용성 Al: 0.01% 내지 0.065%를 함유하고, C 함유량이 0.085% 이하이고, N 함유량이 0.012% 이하이고, Mn 함유량이 1% 이하이고, S 함유량(%)을 [S], Se 함유량(%)을 [Se]로 나타냈을 때, 「Seq.=[S]+0.406×[Se]」로 정의되는 S당량 Seq.가 0.015% 이하이고, 잔량부가 Fe 및 불가피적 불순물로 이루어지는 규소 강 슬래브를 1280℃ 이하의 온도로 가열하는 공정과,
가열된 상기 규소 강 슬래브의 열간 압연을 행하여 열간 압연 강대를 얻는 공정과,
상기 열간 압연 강대의 어닐링을 행하여 어닐링 강대를 얻는 공정과,
상기 어닐링 강대를 냉간 압연하여 냉간 압연 강대를 얻는 공정과,
상기 냉간 압연 강대의 탈탄 어닐링을 행하여, 1차 재결정이 발생한 탈탄 어닐링 강대를 얻는 공정과,
어닐링 분리제를 상기 탈탄 어닐링 강대에 도포하는 공정과,
상기 탈탄 어닐링 강대의 마무리 어닐링을 행하여, 2차 재결정을 발생시키는 공정을 갖고,
상기 탈탄 어닐링의 개시부터 마무리 어닐링에 있어서의 2차 재결정의 발현까지의 사이에, 상기 탈탄 어닐링 강대의 N 함유량을 증가시키는 질화 처리를 행하는 공정을 더 갖고,
상기 열간 압연을 행하여 열간 압연 강대를 얻는 공정은,
종료 온도가 950℃ 이하인 마무리 압연을 행하는 공정과,
상기 마무리 압연의 종료부터 2초간 이내에 냉각을 개시하고, 700℃ 이하의 온도에서 권취를 행하는 공정을 갖고,
상기 어닐링을 행하여 어닐링 강대를 얻는 공정에서의 상기 열간 압연 강대의 800℃ 내지 1000℃의 온도 범위 내에서의 승온 속도를 5℃/sec 이상으로 하고,
상기 마무리 압연의 종료부터 상기 권취를 행할 때까지 사이의 냉각 속도를 10℃/sec 이상으로 하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법. - 제1항에 있어서, 상기 마무리 압연에 있어서의 누적 압하율을 93% 이상으로 하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 마무리 압연에 있어서의 최종 3패스의 누적 압하율을 40% 이상으로 하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 마무리 압연에 있어서의 최종 3패스의 누적 압하율을 40% 이상으로 하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 규소 강 슬래브는, Cu: 0.4질량%를 더 함유하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 규소 강 슬래브는, Cu: 0.4질량%를 더 함유하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 규소 강 슬래브는, Cu: 0.4질량%를 더 함유하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제4항에 있어서, 상기 규소 강 슬래브는, Cu: 0.4질량%를 더 함유하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 규소 강 슬래브는, 질량%로, Cr: 0.3% 이하, P: 0.5% 이하, Sn: 0.3% 이하, Sb: 0.3% 이하, Ni: 1% 이하, Bi: 0.01% 이하, B: 0.01% 이하, Ti: 0.01% 이하 및 Te: 0.01% 이하로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종을 더 함유하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 규소 강 슬래브는, 질량%로, Cr: 0.3% 이하, P: 0.5% 이하, Sn: 0.3% 이하, Sb: 0.3% 이하, Ni: 1% 이하, Bi: 0.01% 이하, B: 0.01% 이하, Ti: 0.01% 이하 및 Te: 0.01% 이하로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종을 더 함유하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 규소 강 슬래브는, 질량%로, Cr: 0.3% 이하, P: 0.5% 이하, Sn: 0.3% 이하, Sb: 0.3% 이하, Ni: 1% 이하, Bi: 0.01% 이하, B: 0.01% 이하, Ti: 0.01% 이하 및 Te: 0.01% 이하로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종을 더 함유하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제4항에 있어서, 상기 규소 강 슬래브는, 질량%로, Cr: 0.3% 이하, P: 0.5% 이하, Sn: 0.3% 이하, Sb: 0.3% 이하, Ni: 1% 이하, Bi: 0.01% 이하, B: 0.01% 이하, Ti: 0.01% 이하 및 Te: 0.01% 이하로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종을 더 함유하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제5항에 있어서, 상기 규소 강 슬래브는, 질량%로, Cr: 0.3% 이하, P: 0.5% 이하, Sn: 0.3% 이하, Sb: 0.3% 이하, Ni: 1% 이하, Bi: 0.01% 이하, B: 0.01% 이하, Ti: 0.01% 이하 및 Te: 0.01% 이하로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종을 더 함유하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제6항에 있어서, 상기 규소 강 슬래브는, 질량%로, Cr: 0.3% 이하, P: 0.5% 이하, Sn: 0.3% 이하, Sb: 0.3% 이하, Ni: 1% 이하, Bi: 0.01% 이하, B: 0.01% 이하, Ti: 0.01% 이하 및 Te: 0.01% 이하로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종을 더 함유하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제7항에 있어서, 상기 규소 강 슬래브는, 질량%로, Cr: 0.3% 이하, P: 0.5% 이하, Sn: 0.3% 이하, Sb: 0.3% 이하, Ni: 1% 이하, Bi: 0.01% 이하, B: 0.01% 이하, Ti: 0.01% 이하 및 Te: 0.01% 이하로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종을 더 함유하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
- 제8항에 있어서, 상기 규소 강 슬래브는, 질량%로, Cr: 0.3% 이하, P: 0.5% 이하, Sn: 0.3% 이하, Sb: 0.3% 이하, Ni: 1% 이하, Bi: 0.01% 이하, B: 0.01% 이하, Ti: 0.01% 이하 및 Te: 0.01% 이하로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종을 더 함유하는 것을 특징으로 하는, 일방향성 전자기 강판의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2010-119482 | 2010-05-25 | ||
JP2010119482 | 2010-05-25 | ||
PCT/JP2011/061510 WO2011148849A1 (ja) | 2010-05-25 | 2011-05-19 | 一方向性電磁鋼板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130002354A true KR20130002354A (ko) | 2013-01-07 |
KR101272353B1 KR101272353B1 (ko) | 2013-06-07 |
Family
ID=45003840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020127030730A KR101272353B1 (ko) | 2010-05-25 | 2011-05-19 | 일방향성 전자기 강판의 제조 방법 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8778095B2 (ko) |
EP (1) | EP2578706B1 (ko) |
JP (1) | JP5037728B2 (ko) |
KR (1) | KR101272353B1 (ko) |
CN (1) | CN102906283B (ko) |
BR (1) | BR112012029861B1 (ko) |
PL (1) | PL2578706T3 (ko) |
RU (1) | RU2503728C1 (ko) |
WO (1) | WO2011148849A1 (ko) |
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JPH0277525A (ja) | 1988-04-25 | 1990-03-16 | Nippon Steel Corp | 磁気特性、皮膜特性ともに優れた一方向性電磁鋼板の製造方法 |
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JPH075975B2 (ja) | 1988-06-08 | 1995-01-25 | 住友金属工業株式会社 | 方向性電磁鋼板の製造方法 |
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-
2011
- 2011-05-19 EP EP11786548.5A patent/EP2578706B1/en active Active
- 2011-05-19 PL PL11786548.5T patent/PL2578706T3/pl unknown
- 2011-05-19 US US13/699,526 patent/US8778095B2/en active Active
- 2011-05-19 BR BR112012029861-5A patent/BR112012029861B1/pt active IP Right Grant
- 2011-05-19 KR KR1020127030730A patent/KR101272353B1/ko active IP Right Grant
- 2011-05-19 WO PCT/JP2011/061510 patent/WO2011148849A1/ja active Application Filing
- 2011-05-19 RU RU2012152089/02A patent/RU2503728C1/ru active
- 2011-05-19 JP JP2011539197A patent/JP5037728B2/ja active Active
- 2011-05-19 CN CN201180025599.9A patent/CN102906283B/zh active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
PL2578706T3 (pl) | 2016-12-30 |
EP2578706B1 (en) | 2016-06-08 |
EP2578706A1 (en) | 2013-04-10 |
JPWO2011148849A1 (ja) | 2013-07-25 |
CN102906283B (zh) | 2016-12-07 |
WO2011148849A1 (ja) | 2011-12-01 |
US8778095B2 (en) | 2014-07-15 |
KR101272353B1 (ko) | 2013-06-07 |
EP2578706A4 (en) | 2014-06-18 |
JP5037728B2 (ja) | 2012-10-03 |
US20130061985A1 (en) | 2013-03-14 |
CN102906283A (zh) | 2013-01-30 |
BR112012029861B1 (pt) | 2021-06-29 |
BR112012029861A2 (pt) | 2020-10-06 |
RU2503728C1 (ru) | 2014-01-10 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190516 Year of fee payment: 7 |