JPH0277525A - 磁気特性、皮膜特性ともに優れた一方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気特性、皮膜特性ともに優れた一方向性電
磁鋼板の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

一方向性電磁鋼板は、主として変圧器、発電機その他の
電気機器の鉄芯材料として用いられ、磁気特性として励
磁特性と鉄損特性が良好でなければならないことの他良
好な皮膜を有するものでなければならない。

一方向性電磁鋼板は、二次再結晶現象を利用して圧延面
に（１１０　）面、圧延方向に＜００１　、＞軸をもつ
所謂ゴス方位を有する結晶粒を発達させることによって
得られる。

前記二次再結晶現象は、周知のように、仕上焼鈍過程で
生じるが、二次再結晶の発現を十分なものとするために
は、仕上焼鈍過程における二次再結晶発現温度域まで一
次再結晶粒の成長を抑制するＡ　ｅ　Ｎ、　ＭｎＳ、　
ＭｎＳｅ等の微細な析出物所謂インヒビターを鋼中に存
在させる必要がある。従って、を磁鋼スラブは、インヒ
ビター形成元素、例えば＾ｊ’＋　Ｍｎ、　　ｓ、　Ｓ
ｅ、　Ｎ等を完全に固溶させるために、１３５０〜１４
００℃といった高温に加熱される。前記スラブ中に完全
に固溶せしめられたインヒビター形成元素は、熱延板或
は最終冷間圧延前の中間板厚の段階で焼鈍によって、Ａ
　Ｉ２　Ｎ、　ＭｎＳ。

ＭｎＳｅとして微細に析出せしめられる。

このようなプロセスを採るとき、電磁鋼スラブは前述の
ように高温に加熱されるから、溶融スケールの発生が多
量なものとなり、加熱炉補修の頻度を高め、メインテナ
ンスコストを高くするのみならず設備稼動率を低下せし
めさらに、燃料原単位を高くする等の問題がある。

このような問題を解決すべく、電磁鋼スラブの加熱温度
を低いものとし得る一方向性電磁鋼板の製造方法の研究
が進められている。

例えば、特開昭５２−２４１１６号公報には、Ｍの他に
、Ｚｒ、　Ｔｉ＋　　Ｂ、　Ｎｂ、　Ｔａ、　　Ｖ、　
Ｃｒ、　Ｍｏ等の窒化物形成元素を鋼中に含有させるこ
とにより、電磁鋼スラブの加熱温度を１１００〜１２６
０℃とする製造方法が提案されている。

また、特開昭５９−１９０３２４号公報には、Ｃ含有量
を０．０１％以下の低いものとし、５ＩＳｅ、　　さら
にＭとＢを選択的に含有させた電磁鋼スラブを素材とし
、冷間圧延後の一次再結晶焼鈍時に鋼板表面を短時間繰
返し高温加熱する所謂パルス焼鈍を行うことにより、電
磁鋼スラブの加熱温度を１３００℃以下とすることが提
案されている。

さらに、特公昭６１−６０８９６号公報には、Ｍｎ含有
量を０．０８〜０．４５％、Ｓ含有量をＯ，ＯＯ７％以
下として（Ｍｎ）（Ｓ　）積を低くし、さらにＡ７．　
　Ｐ。

Ｎを含有せしめた電磁鋼スラブを素材とすることにより
、スラブ加熱温度を１２８０℃未満とする製造プロセス
が提案されている。

しかしながら、これら先行技術によって一方向性電磁鋼
板を製造するときは、最終製品のグラス皮膜に°“しも
ふり°゛、“ペアスポッピ゛と呼ばれる欠陥が散見され
ることがある。

（発明が解決しようとする課題〕 本発明は、電磁鋼スラブの加熱温度を１２８０℃未満の
低いものとして、スラブ加熱のためのエネルギ消費を少
なくするとともに、高温スラブ加熱に起因するメインテ
ナンスコストの上昇、設備稼動率の低下さらには生産性
の低下を抑え、高生産性下に優れた磁気特性と皮膜特性
を有する一方向性電磁鋼板を工業的に安定して生産し得
る製造方法を提供することを目的としてなされた。

〔課題を解決するだめの手段〕

本発明の要旨とする処は、重量％で、Ｃ：０．０２５〜
０．０７５％、Ｓｉ：２．５〜４．５％、Ｓ≦０．０１
２％、酸化溶性Ａ１：ｏ、ｏｔｏ〜０．０６０％、Ｎ≦
０．０１０％、Ｍｎ：　０．０８〜０．４５％、Ｐ：０
．０１５〜０．０４５％を含有し、残部Ｆｅおよび不可
避的不純物からなる電磁鋼スラブを、１２００℃以下の
温度に加熱した後、熱間圧延し、１回または中間焼鈍を
介挿する２回以上の冷間圧延をして最終板厚とし、次い
で脱炭焼鈍をした後、ストリップを走行せしめる状態下
で窒化処理をし、焼鈍分離剤を塗布した後高温仕上焼鈍
することを特徴とする特許 性電磁鋼板の製造方法にある。

以下に、本発明を詳細に説明する。

本発明者等は、電磁鋼スラブの加熱温度を１２８０゛Ｃ
以下の低いものとして、磁気特性、皮膜特性ともに優れ
た一方向性電磁鋼板を安定して製造し得るプロセスにつ
いて研究を重ねた。その結果、スラブ加熱段階では、イ
ンヒビター形成元素、例えばＡ７，　ＮＩ　Ｍｎ．　　
Ｓの鋼中への固溶を完全にせず、脱炭焼鈍後、材料を強
還元雰囲気中、ストリップを走行させる状態下で窒化処
理することによって、（Ａ／，Ｓｉ）Ｎを主組成とする
インヒビターが形成され、仕上焼鈍時には雰囲気の露点
を特に制約しなくとも、密着性、外観ともに優れ、′″
しもふり′等の欠陥のないグラス皮膜が形成されること
を見出した。

本発明において、出発材料とする電磁鋼スラブの成分組
成の限定理由は、以下の通りである。

Ｃは、その含有量が０．０２５％未満になると、二次再
結晶が不安定となりかつ、二次再結晶した場合でも製品
の磁束密度（Ｂ、。値）が１．８０　Ｔｅ５ｌａと低い
ものとなる。

一方、Ｃの含有量が０．０７５％を超えて多くなり過ぎ
ると、脱炭焼鈍時間が長大なものとなり、生産性を著し
く損なう。

Ｓｉは、その含有量が２．５％未満になると、製品厚み
０．３０　ｗｎで、Ｗ　、　、、、。で１．０５Ｗ／ｋ
ｇ以下の最高等級の鉄損特性を有する製品を得ることが
できない。この観点からＳｉ含有量の下限は、望ましく
は３．２％である。

一方、Ｓｉの含有量が４．５％を超えて多くなり過ぎる
と、冷間圧延時に、材料の割れ、破断が多発し、安定し
た冷間圧延作業を不可能にする。

本発明の出発材料の成分系における特徴の−っは、Ｓを
０．０１２％以下、好ましくは０．００７０％以下とす
る点にある。従来、公知の技術、例えば特公昭４０−１
５６４４号公報或いは特公昭４７−２５２５０号公報に
開示されている技術においては、Ｓは二次再結晶を生起
させるに必要な析出物の一つであるＭｎＳの形成元素と
して必須であった。前記公知技術において、Ｓが最も効
果を発現する含有量範囲があり、それは熱間圧延に先立
って行なわれるスラブの加熱段階でＭｎＳを固溶できる
量として規定されていた。しかしながら、Ｓの含有が二
次再結晶に有害であるということは、従来、全く知られ
ていなかった。本発明者等は、二次再結晶に必要な析出
物として（Ａ／、５ｉ）Ｎを用いる一方向性電磁鋼板の
製造プロセスにおいて、素材中のＳｉ含有量が多いスラ
ブを低温度で加熱し、熱間圧延する場合、Ｓが二次再結
晶不良を助長することを見出した。

素材中のＳｉ含有量が４．５％以下である場合、Ｓ含有
量は０．０１２％以下、好ましくは０．００７０％以下
であれば、二次再結晶不良は全く発生しない。

本発明では、二次再結晶に必要な析出物として（Ａｌ１
，５ｉ）Ｎを用いる。

従って、必要最低量のＡ２Ｎを確保するためには、酸可
溶性Ａｌとしてｏ、ｏｉｏ％以上、Ｎが０．００３０％
以上必要である。しかしながら、酸可溶性Ａｆが０．０
６０％を超えると、熱延板中の八ｌＮが不適切となり、
二次再結晶が不安定となる。

Ｎの含有量が０．０１０％を超えると、ブリスターと呼
ばれる鋼板表面の脹れが発生する。また、Ｎの含有量が
０．０１０％を超えると、−成典結晶粒の粒径が調整で
きない。

本発明の出発材料の成分系におけるもう一つの特徴は、
Ｍｎ、　　Ｐにある。

本発明では、最高等級の鉄損特性を有する製品を得るた
めに、素材中のＳｉ量を２．５％以上としている。この
高Ｓｉ材を低温スラブ加熱とその後の熱間圧延を含むプ
ロセスとしたときに発生する二次再結晶不良の問題を、
本発明ではＳ含有量を極めて低い水準とすることによっ
て解決している。従って、二次再結晶に対する析出物と
してのＭｎＳの働きがなくなるので、得られる製品の磁
束密度が比較的低い。

本発明では、ＭｎとＰをそれぞれ適切な量に制御するこ
とによって、ＢＩＧ値力月、８９　Ｔｅ５ｌａ以上の磁
束密度を有する製品が得られるようにしている。

Ｍｎ量が少なくなると、二次再結晶が不安定となり、多
くなるとＢ、。値が高くなるが、一定量以上添加しても
改善効果がな（コストの面でも不利となる。

Ｐについては、少ないと製品のＢ１０値が低くなり、多
過ぎると冷間圧延時に材料に割れが発生する頻度が高く
なり、また、二次再結晶不良の発生頻度も高くなる。

上述の理由から、Ｂ１０値が１．８９　Ｔｅ５ｌａ以上
の磁束密度の製品が得られかつ、二次再結晶が安定して
おり、圧延時に材料の割れの問題の少ない範囲として、
Ｍｎ：　０．０８〜０．４５％、Ｐ：０．Ｏ１５〜０、
０４５％とした。

次に、製造プロセスについて説明する。

電磁鋼スラブは、転炉或は電気炉等の溶解炉で鋼を溶製
し、必要に応じて溶鋼を真空脱ガス処理し、次いで、連
続鋳造によって或は造塊後分塊圧延することによって得
られる。然る後、熱間圧延に先立つスラブ加熱がなされ
る。本発明のプロセスにおいては、スラブの加熱温度は
１２００℃以下の低いものとして加熱エネルギ消費量を
少なくするとともに、鋼中のＡｆｆＮを完全には固溶さ
せず不完全固溶状態とする。

また、さらに固溶温度の高いＭｎＳは、上記スラブ加熱
温度では当然のことながら不完全固溶状態である。

加熱後、電磁鋼スラブは熱間圧延され、そのまま或は必
要に応じて焼鈍された後、１回または中間焼鈍を介挿す
る２回以上の冷間圧延を施され、最終板厚とされる。

処で、本発明においては、電磁鋼スラブは１２００℃以
下の低い温度に加熱される。

従って、鋼中の／／２．Ｍｎ、Ｓ等を不完全固溶状態と
しており、このままでは、鋼板中に二次再結晶を発現さ
せるための（Ａｆ、５ｔ）Ｎ　、　ＭｎＳ等のインヒビ
ターが存在しない。故に、二次再結晶発現以前に、鋼中
にＮを侵入させ、インヒビターとして機能する（＾ｆｆ
ｉ、５ｉ）Ｎを形成する必要がある。

珪素鋼の低温スラブ加熱材から得られた最終板厚の材料
を二次再結晶する前に窒化する技術は、たとえば特公昭
６２−４５２８５号公報に開示されている。しかしなが
ら、本発明のように、ストリップを走行せしめる状態下
に短時間で窒化せしめようとするときは、材料の最表層
のバリアーを除去すべく窒化（Ｎ１１．＋含有）雰囲気
中にＨ２ガスが混合せしめられていることが必須である
。また、材料を窒化処理するときの酸化ポテンシャルも
後述するように、仕上焼鈍工程における二次再結晶に対
して重要である。

即ち、鋼板の窒化は、ドライな雰囲気（低露点のガス）
下で遂行することが、以下に述べるように健全な二次再
結晶粒を得るために重要である。

従来、鋼板の窒化は、占積率が９０％程度のタイトなス
トリップコイルの形態でなされていたつこのようなタイ
トなストリップコイルの状態では、板間の間隙は１０μ
ｍ以下と狭く、通気性が非常に悪い。従って、板間の雰
囲気をドライな雰囲気に置換するのに長時間を要するの
みならず、窒化源としてのＮ２が板間に侵入、拡散する
ためにも長時間を必要とする。これを改善する手段とし
て、ルーズなストリップコイルとして鋼板の窒化処理を
行うことが試みられているけれども、鋼板の窒化処理を
ストリップコイルの形態で行うときの問題である、コイ
ル内温度の不均一さに起因する窒化の不均一さは解決さ
れず、十分とは言えない。

かかる問題を解決するために、本発明においては、脱炭
焼鈍後にＮＨ３雰囲気中でストリップを走行させる状態
下で鋼板の窒化処理を行うことによって、インヒビター
として機能する微細な（八２゜５ｉ）Ｎを鋼中に形成さ
せる。

一方向性電磁鋼板には、脱炭焼鈍後、その表面に脱炭焼
鈍皮膜が形成され、無垢の全屈表面を窒化する場合とは
異なり、窒化が困難である。

而して、インラインで鋼板（ストリップ）を窒化するこ
とを考える場合、短時間（３０秒間〜１分間）に鋼板を
窒化処理できることが不可欠である。

本発明者等は、脱炭焼鈍後の鋼板（ストリップ）を短時
間に窒化処理する方法について種々検討した結果、鋼板
の窒化が、Ｎ１１３ガスに混合するガスの種類に大きく
依存することを見出した。この知見をさらに究明した結
果、Ｎ１１３ガスが鋼中に侵入する際、脱炭焼鈍過程で
形成される皮膜の最表面に形成される２０ＯＡ程度の厚
さのＦｅ−３ｉ系酸化物が窒素侵入のバリアーとなって
おり、これを除去するような還元性ガスをＮ１（、ガス
に混合すれば、極めて短時間に鋼板を窒化させ得ること
が判った。

具体的には、ＮＨ３ガス中にＨ２ガスを混合することに
より目的は達成される。さらに、この窒化処理を行うと
きの酸化ポテンシャルが重要な意味をもっており、ｐＨ
□Ｏ／　Ｐ　Ｈ，≦０，０４のドライな雰囲気とするこ
とが重要である。

この上限値を越える酸化ポテンシャルの高い状態で窒化
処理を行うと、薄膜状のシリカ皮膜が材料の最表層全面
を覆い、後の仕上焼鈍におけるインヒビターの抜けに悪
影響を及ぼし、健全な二次再結晶が行われないで細粒組
織となることがわかった。実炉においては、炉壁煉瓦中
からの水分の放出が多いから、十分に注意する必要があ
る。

第１図は、Ｎ１１３ガスに混合するガスを種々変化させ
たときの、脱炭焼鈍後の鋼板（ストリップ）の窒化時間
と鋼中窒素量との関係を、Ｎ２とＮ２の組成比率をパラ
メータにプロットしたものである。

第１図から、混合ガス中の１１□比率が高くなるに従っ
て、鋼板の窒化が短時間に起こることがわかる。

ストリップが走行している状態下で窒化せしめる本発明
のような場合は、極めて短時間に窒化を完了する必要が
あり、従って、混合ガス中の１１□比率は、７５％以上
であることが望ましい。

第１図に示す結果は、ＮＨ３１度が体積率で１０００ｐ
ｐｎ＋　、窒化処理温度が８００℃のときのものである
。

二次再結晶に必要な窒化処理時間は、１０秒間以上であ
り、好ましくは３０秒間以上である。このようにＮＨ，
ガスに混合するガスの種類を変化させることにより、窒
化処理時間を短かくすることができるから、極めて均一
な窒化を可能にするとともに、高い生産性下に低温スラ
ブ加熱を基軸とする一方向性電磁鋼板の製造プロセスを
確立しさらに、優れたグラス皮膜を有する製品を得るこ
とができる。

次に、窒素が最も鋼中に入り易い１１□ガスとＮ１１３
ガスの混合ガスを雰囲気として、３０秒間窒化処理を行
った後、仕上焼鈍して得られた製品が良好な二次再結晶
を示す領域を、窒化処理温度とＮＨ３濃度（ＮＨ３／Ｈ
ｚ体積率）に対してプロットしたものを、第２図に示す
。第２図から明らかな如く、同−ＮＩ＋３１度であれば
、７５０〜８５０℃の温度域で、最も短時間に窒化が起
こる。９００℃以上では、集合組織が変化するため、二
次再結晶不良となる。

前述の如き窒化処理を鋼板に対して行っても、脱炭焼鈍
によって形成される皮膜の極く表層部が還元されるだけ
で、シリカは十分な量存在するので、仕上焼鈍後、鋼板
表面には良好なフォルステライト皮膜が形成される。

上述のようにして作成した窒素量の異なる切板試料を、
仕上焼鈍温度８８０℃までの所謂炉中窒化温度域でＮ２
ガスの含有比率を変えた雰囲気（ＮＺ以外はＮ２）で仕
上焼鈍を行い、８８０〜１２００℃までは通常の条件で
仕上焼鈍を行った。

このときの二次再結晶良好域を、第３図に示す。

第３図から明らかな如く、二次再結晶を良好に行わしめ
るには、仕上焼鈍炉中のＮ２含有比率の低下に伴って鋼
中の窒素量を仕上焼鈍以前に増やしておく必要がある。

タイトなストリップコイルの形態でなされる実際の仕上
焼鈍においては、板間の間隙が部位によって異なるため
、炉内雰囲気と板間における雰囲気が異なり、Ｎｚ＋Ｉ
Ｉｚ混合ガスのドライな雰囲気下で鋼板の窒化を行って
も、良好な二次再結晶を行わしめるに必要なインヒビタ
ーが形成されていない場合がある。

１８０ｐｐｍ以上の窒素が鋼中に含有されていれば、二
次再結晶を良好に行わしめることができる。

従って、仕上焼鈍雰囲気からストリップコイルの板間に
窒素が供給されるような場合には、鋼中に必ずしも１８
０ｐｐｍ以上の窒素を含有せしめてお（必要はない。し
かしながら、仕上焼鈍雰囲気からストリップコイルの板
間に窒素が供給される場合でも、通常の仕上焼鈍条件で
は、１１００ｐｐ以上の窒素を鋼中に雰囲気ガスから供
給する以外の手段で侵入せしめておく必要がある。

本発明によれば、仕上焼鈍過程の前半に全く鋼板の窒化
が起こらない状況であったとしても、脱炭焼鈍後の、ス
トリップが走行する状態の下での窒化処理によって、１
８０ｐｐｍ以上の窒素を鋼中に存在させておくことが容
易であり、安定して二次再結晶を起こさせることができ
る。

上述の手段によって、従来、ＭｇＯを主成分とする焼鈍
分離剤中に窒化源を添加するという手段によるよりも、
安定して均一な窒化を行うことができる。

このような効果の他に、従来、鋼板の窒化を行うために
厳密に制御されていた、仕上焼鈍過程前半の雰囲気用ガ
スの組成、露点、温度等が、仕上焼鈍以前に鋼板の窒化
を終えていることにより、密着性に優れた良好なグラス
皮膜形成のためにのみ自由にコントロールできるという
効果がある。

第１表に、仕上焼鈍過程前半の雰囲気ガス（１１□ニア
５％＋Ｎ２：２５％）の露点を、−２０℃１−１０℃１
０℃１１０℃ｌ２Ｏ゛Ｃ１３０℃としたときの仕上焼鈍
後の製品のグラス皮膜の密着性、皮膜張力、製品の磁気
特性を示す。

雰囲気ガスの露点が、−２０℃１−１０℃のものに比し
、ｏ　’ｃ、１０℃ｌ２Ｏ℃の弱酸化性のものは、皮膜
特性、磁気特性ともに優れていることがわかる。

このように、ストリップが走行する状態下で窒化処理を
行うことにより、グラス皮膜特性、磁気特性ともに優れ
た製品を製造することが可能である。

本発明は、従来、仕上焼鈍炉中で行っていた鋼板の窒化
とグラス皮膜形成過程を分離することにより、優れた磁
気特性と良好なグラス皮膜を併せ有する製品を得ること
を同時に達成できる掻めて優れた一方向性電磁鋼板の製
造方法である。

〔実施例〕

実施例１ 重量で、Ｃ：　０．０５０％、Ｓｉ　：　３．２％、Ｍ
ｎ：０．０７％、　八ｆ：ｏ、０２５％、Ｓ　　：　Ｏ
，ＯＯ７％、残部Ｆｅおよび不可避的不純物からなる電
磁鋼スラブを、１２００℃に加熱した後、熱間圧延し、
２．３謳厚さの熱延板とした。

この熱延板を１１２０℃Ｘ３分間焼鈍した後、冷間圧延
し０．３０ｍｍ厚さの最終板厚とした。次いで、露点＝
６０℃，）Ｉｔニア５％＋Ｎ２：２５％の混合ガス雰囲
気中、８５０　’ＣＸ　２分間の脱炭焼鈍をストリップ
に施した後、１５００ｐｐｍ　　（（（Ｎｌ１３）／（
ｌ（２ニア５％十Ｎｚ：２５％））一体積比）のＮＨ３
を含むＨｚニア５％＋Ｎ２：２５％混合ガスのドライな
雰囲気下に、８００℃×３０秒間の窒化処理を行った。

然る後、ストリップを冷却し、次いで焼鈍分離剤に水を
添加してスラリー状とし、ロールコータ−で塗布した後
、乾燥炉でストリップ温度が１５０℃となるまで昇温さ
せて水分を除去し、巻き取ってストリップコイルとした
。

このストリップコイルを仕上焼鈍炉に装入し、通常の仕
上焼鈍を行った。

得られた製品の磁気特性、グラス皮膜特性を第２表に示
す。

比較材は、仕上焼鈍炉中で、雰囲気ガスおよび焼鈍分離
剤中に添加した窒化源から窒素を供給して鋼板を窒化し
たものである。

実施例２ 重量で、Ｃ：　０．０６％、Ｓｉ：３．２％、Ｍｎ：０
．１％、Ａｊ！：０．０３％、Ｓ　：　Ｏ，ＯＯ８％、
残部Ｆｅおよび不可避的不純物からなる電磁スラブを、
１２００℃に加熱した後、熱間圧延し、２．３　ｍｍ厚
さの熱延板とした。

この熱延板を１１５０℃Ｘ３分間焼鈍した後、冷間圧延
し、０．２３ｍｍ厚さの最終板厚とした。次いで、露点
：５５℃，Ｉｈニア５％＋ＮＺ：２５％の混合ガス雰囲
気中、８３０℃×３分間の脱炭焼鈍をストリップに施し
た後、２０００ｐｐｍ　　（（（Ｎｉｂ）／　（ｔｌｚ
　　：　７５　＋Ｎｚ　：　２５％）〕＝体積比）のＮ
１１３を含むＨ，：　１００％のドライな雰囲気下に、
８５０’ＣＸ　１５秒間の窒化処理を行った。

然る後、ストリップを冷却し、次いで焼鈍分離剤に水を
添加してスラリー状とし、ロールコータ−で塗布した後
、乾燥炉でストリップ温度が１５０゛Ｃとなるまで昇温
させて水分を除去し、巻き取ってストリップコイルとし
た。

次いで、このストリップコイルを仕上焼鈍炉に装入し、
８５０℃までの昇温過程を１０”Ｃの露点をもつ雰囲気
下に置き、後雰囲気をドライにして仕上焼鈍を継続した
。

得られた製品の磁気特性およびグラス皮膜特性を第３表
に示す。

比較材は、仕上焼鈍炉中で雰囲気ガスから窒素を供給し
て鋼板を窒化し、仕上焼鈍過程前半を完全ドライの雰囲
気中で処理したものである。

第３表から明らかな如（、本発明によるものは、比較材
に比し、磁気特性のみならず皮膜特性が著しく向上して
いることがわかる。

第　　　１　　　表 （０，２３ｍｍ厚） 注）密着性：１８０°曲げて剥離しない直径筒　　　２
　　　　表 ネ）斑点上でフォルステライト皮膜の存在しない部分で
きらきら光り、金属光沢を有する。

〔発明の効果〕

本発明は、従来、仕上焼鈍炉中で行っていた鋼板の窒化
処理を、仕上焼鈍以前にスｌ−ＩＪツブが走行している
状態下に行うようにしたから、磁気特性、グラス皮膜特
性の双方を向上させる画期的な効果を奏し、その工業的
価値は極めて高い。

【図面の簡単な説明】

第１図は混合ガス種を変化させた時の脱炭焼鈍板の窒化
時間と鋼中窒素量との関係を混合ガス種、量、をパラメ
ーターにプロットした図、第２図はＨ２ガスにＮ１１．
ガスを混合して、３０秒間窒化した試料が仕上焼鈍以前
好な二次再結晶を示す領域を、窒化温度、ＮＨｊ　ｆｉ
度に対して示した図、第３図は二次再結晶良好域を仕上
焼鈍炉中のガス雰囲気と鋼中窒素量との関係で示した図
である。 第１図 窒化時１？Ｉ　（ＢＯＯ”ＣＮＨＪ／の０ｐｐｙｎ）第
２図 ５００　　　　ω０　　７００　　　８００　　９００
　（”Ｃ）窒化逼虜（窒化時開３０形つ 第３図 ！ｔＪｘｊ００％プ　　イ土上刃←含屯力ら　（８８０
”Ｃまて”）中′ｊｊ′ズ雰児負 手続補正書（自発） 平成　１年５　月２９日

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）重量％で、Ｃ：０．０２５〜０．０７５％、Ｓｉ
   ：２．５〜４．５％、Ｓ≦０．０１２％、酸可溶性Ａｌ
   ：０．０１０〜０．０６０％、Ｎ≦０．０１０％、Ｍｎ
   ：０．０８〜０．４５％、Ｐ：０．０１５〜０．０４５
   ％を含有し、残部Ｆｅおよび不可避的不純物からなる電
   磁鋼スラブを、１２００℃以下の温度に加熱した後、熱
   間圧延し、１回または中間焼鈍を介挿する２回以上の冷
   間圧延をして最終板厚とし、次いで脱炭焼鈍をした後、
   ストリップを走行せしめる状態下で窒化処理をし、焼鈍
   分離剤を塗布した後高温仕上焼鈍することを特徴とする
   磁気特性、皮膜特性ともに優れた一方向性電磁鋼板の製
   造方法。
2. （２）ストリップを走行せしめる状態下でなされる窒化
   処理が、水素ガスおよび窒素ガスを含む混合ガスに濃度
   １０００ｐｐｍ以上のＮＨ＿３を混合しかつ、酸化ポテ
   ンシャル：ＰＨ＿２Ｏ／ＰＨ＿２≦０．０４の雰囲気中
   、５００〜９００℃の温度域でなされるものである請求
   項１記載の方法。
3. （３）高温仕上焼鈍が、６００〜８５０℃の温度域にお
   ける雰囲気を弱酸化性のものとしてなされるものである
   請求項１或は２記載の方法。