KR20120133967A - 버퍼 유닛, 기판 처리 설비 그리고 기판 처리 방법 - Google Patents

버퍼 유닛, 기판 처리 설비 그리고 기판 처리 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 버퍼 유닛에 관한 것으로, 베이스 플레이트와, 베이스 플레이트에 서로 이격되어 설치되는 제1수직 플레이트와 제2수직 플레이트를 갖는 프레임; 포토 마스크가 놓여지고, 제1,2 수직 플레이트 사이에 반전 가능하게 설치되는 제1버퍼; 및 제1,2수직 플레이트 바깥쪽에 설치되고, 제1버퍼에 놓인 포토 마스크를 그립하고, 반전되도록 제1버퍼를 구동시키는 구동부를 포함한다.

Description

버퍼 유닛, 기판 처리 설비 그리고 기판 처리 방법{buffer unit and substrate cleaning apparatus and substrate processing method}
본 발명은 기판 처리 설비에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 포토 마스크가 일시적으로 머무르는 버퍼 유닛, 기판 처리 설비 그리고 기판 처리 방에 관한 것이다.
포토마스크(photomask)는 석영이나 유리 기판 위에 반도체의 미세 회로를 형상화한 것으로서, 예를 들면 투명한 석영 기판의 상층에 도포된 크롬 박막을 이용하여 반도체 집적회로와 LCD 패턴을 실제 크기의 1~5배로 식각한 것이다. 포토마스크의 미세 패턴은 포토리소그래피 공정을 통해 기판 위에 형성된다. 포토리소그래피 공정은, 포토레지스트를 기판 위에 균일하게 도포하고, 스테퍼와 같은 노광장비를 이용하여 포토마스크 상의 패턴을 축소 투영 노광시킨 후, 현상 과정을 거쳐 2차원의 포토레지스트 패턴을 형성하기까지의 전 과정을 말한다.
만일 포토마스크에 이물질이 부착되면, 노광 공정에서 빛의 산란이나 흡수와 같은 광반응으로 인해 광분해능의 감소가 야기되고, 기판 상의 패턴 형성에 치명적인 결함이 발생하게 된다. 따라서, 이물질로부터 포토마스크를 보호하기 위해 노광 공정 진행시 포토마스크에 펠리클(pellicle)이라는 보호수단을 장착하게 된다. 펠리클은 포토마스크의 패턴 위에 위치함으로써, 펠리클에 이물질이 부착되더라도 기판의 이미지에 영향을 미치지 않는 높이에 위치하게 되어, 노광 공정에서 이물질에 의한 악영향을 배제할 수가 있다.
한편, 포토마스크 세정은 황산-과산화수소 혼합물과 같은 케미컬(chemical)을 이용한 습식 세정 장비에서 이루어진다. 만일 포토마스크에 접착제를 비롯한 이물질이 잔류하는 경우에는, 포토마스크의 재사용시 노광 공정에서 빛의 촉매에 의한 에너지가 첨가되어 노광을 하면 할수록 점점 커지는 성장성 이물질(haze defect)로 작용한다. 이와 같은 성장성 이물질은 원하지 않는 패턴 전사를 야기하기 때문에, 포토마스크로부터 접착제를 비롯한 이물질이 효과적으로 세정되어야 한다.
포토 마스크는 세정 처리면(패턴면)이 아래를 향한 상태(뒤집어진 상태)로 포토 마스크 세정 장치로 반입된다. 따라서, 포토 마스크 세정 장치에는 포토 마스크를 반전시키기 위한 반전 장치가 구비된다. 기존 반전 장치는 포토 마스크를 세정 처리하는 챔버 내에 구비되어 케미컬 퓸(fume)에 의한 부식이 발생되고, 구동부에서 발생되는 파티클로 인한 포토 마스크 및 챔버 내부 오염 문제가 발생된다.
본 발명은 버퍼 기능과 반전 기능을 통합 운영할 수 있는 버퍼 유닛, 기판 처리 설비 그리고 기판 처리 방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 실시 예에 따른 버퍼 유닛은 베이스 플레이트와, 상기 베이스 플레이트에 서로 이격되어 설치되는 제1수직 플레이트와 제2수직 플레이트를 갖는 프레임; 기판이 놓여지고, 상기 제1,2 수직 플레이트 사이에 반전 가능하게 설치되는 제1버퍼; 및 상기 제1,2수직 플레이트 바깥쪽에 설치되고, 상기 제1버퍼에 놓인 기판을 그립하고, 반전되도록 상기 제1버퍼를 구동시키는 구동부를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제1버퍼는 기판의 일면을 지지하는 제1지지부; 및 상기 제1지지부와 마주보게 설치되고, 상기 제1지지부에 놓여진 기판의 타면을 지지하는 제2지지부를 포함하고, 상기 구동부는 상기 제1지지부와 상기 제2지지부를 동시에 회전시키는 회전모듈; 및 기판이 상기 제1지지부와 상기 제2지지부에 의해 그립되도록 상기 제2지지부를 승강시키는 승강 모듈을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 회전모듈은 상기 제1수직 플레이트와 상기 제2수직 플레이트에 회동 가능하게 장착되는 중공 형태의 회전체; 상기 회전체를 회동시키기 위한 회동 구동부를 포함하고, 상기 승강 모듈은 상기 회전체에 고정되는 실린더; 상기 실린더의 구동에 의해 승강되고, 상기 회전체를 관통해서 상기 제2지지부와 연결되는 연결 블록을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 프레임은 상기 구동부가 위치하는 구동부 공간이 주변 환경과 격리되도록 상기 제1수직 플레이트와 상기 제2수직 플레이트의 바깥면을 커버하는 공간 구획 커버를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 프레임은 상기 공간 구획 커버에 의해 제공되는 상기 구동부 공간에 배기압을 제공하기 위한 흡입 포트를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제1버퍼의 회전축은 기판의 그립 포지션 중심과 편심을 주어 기판의 로딩 위치와 반전후 언로딩 위치가 동일하다.
본 발명의 실시예에 따르면, 기판의 반전 없이 단순 버퍼 기능을 가지는 제2버퍼를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제2버퍼는 상기 제1수직 플레이트와 상기 제2수직 플레이트에 설치되며, 상기 제1버퍼 아래에 위치될 수 있다.
상기한 과제를 달성하기 위한 본 발명의 기판 처리 설비는 기판이 담겨진 용기가 놓여지는 포트 및 인덱스 로봇을 가지는 인덱스부와; 기판 처리를 수행하는 처리부와; 상기 인덱스부와 상기 처리부 사이에 배치되어, 이들 간에 반송되는 기판이 일시적으로 머무르는 버퍼 유닛을 포함하되, 상기 버퍼 유닛은 기판을 반전시킬 수 있도록 제공된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 버퍼 유닛은, 기판이 놓여지는 제1버퍼들; 상기 제1버퍼를 반전시키기 위한 구동부; 및 전면과 후면이 개방되고 상기 제1버퍼들이 위치되는 중앙 구역과, 상기 중앙 구역을 중심으로 양측에 배치되고 상기 구동부가 위치되는 구동부 구역을 갖는 프레임을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 프레임은 상기 중앙 구역을 사이에 두고 서로 마주보게 설치되는 제1,2수직 플레이트; 상기 구동부 구역이 외부 환경과 격리되도록 상기 구동부 구역을 둘러싸는 공간 구획 커버; 및 상기 구동부 공간에 배기압을 제공하기 위한 흡입 포트를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제1버퍼는 기판의 일면을 지지하는 제1지지부; 및 상기 제1지지부와 마주보게 설치되고, 상기 제1지지부에 놓여진 기판의 타면을 지지하는 제2지지부를 포함하고, 상기 구동부는 상기 제1지지부와 상기 제2지지부를 회전시키는 회전모듈; 및 기판이 상기 제1지지부와 상기 제2지지부에 그립되도록 상기 제2지지부를 승강시키는 승강 모듈을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제1버퍼의 회전축은 기판의 그립 포지션 중심과 편심을 주어 기판의 로딩 위치와 반전후 언로딩 위치가 동일할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 버퍼 유닛은 기판을 반전시키는 기능을 가지는 제1버퍼와; 기판의 반전 없이 단순 버퍼 기능을 가지는 제2버퍼를 가질 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제2버퍼는 제1버퍼의 아래에 배치된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제1버퍼는 상하 방향으로 복수 개 제공된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 처리부는, 상하 방향으로 적층된 제1처리부와 제2처리부를 가지고, 상기 제1처리부와 상기 제2처리부 각각은, 반송 로봇을 가지는 이송로와; 상기 이송로의 측부에 상기 이송로를 따라 배치되는 복수의 모듈을 가질 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제1처리부는 글루 제거용 처리모듈과 냉각 처리 모듈을 포함하고, 상기 제2처리부는 가열 처리 모듈과 기능수 처리 모듈을 포함할 수 있다.
상기한 과제를 달성하기 위한 본 발명은 용기가 놓이는 포트와 기판에 대해 처리가 이루어지는 처리부 사이에 버퍼 유닛을 배치하여 상기 용기와 상기 처리부 간에 반송되는 기판이 상기 버퍼 유닛에 머무르되, 상기 기판은 상기 버퍼 유닛에 머무르는 동안 반전된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 기판은 포토 마스크이고, 상기 처리부는 상기 포토 마스크를 세정하는 공정을 수행한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 버퍼 유닛은 반전 기능을 가지는 제1버퍼와 반전 기능이 없는 제2버퍼를 가지며, 상기 용기에서 기판은 상기 제2버퍼에서 대기한 후 상기 제1버퍼로 반송된다.
본 발명에 의하면, 버퍼 기능과 반전 기능을 통합 운영할 수 있다.
또한, 본 발명은 포토 마스크의 오염을 최소화할 수 있다.
이하에 설명된 도면들은 단지 예시의 목적을 위한 것이고, 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것이 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 기판 처리 설비의 1층 레이아웃을 보여주는 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 기판 처리 설비의 2층 레이아웃을 보여주는 도면이다.
도 4는 버퍼 유닛의 사시도이다.
도 5는 버퍼 유닛의 정면도이다.
도 6은 버퍼 유닛의 평면도이다.
도 7은 버퍼 유닛의 단면도이다.
도 8a 및 도 8b는 감지부재를 보여주는 평면도 및 측면도이다.
도 9 내지 도 12는 제1버퍼에서의 포토 마스크 반전 과정을 단계적으로 보여주는 도면들이다.
도 13은 제1버퍼만 제공된 버퍼 유닛을 보여주는 도면이다.
도 14는 제1버퍼와 제2버퍼가 각각 하나씩 제공된 버퍼 유닛을 보여주는 도면이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 기판 처리 설비를 상세히 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
( 실시 예 )
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 구성도이다. 도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 기판 처리 설비의 1층과 2층의 레이아웃을 보여주는 도면들이다.
본 실시예에서는 기판으로 포토마스크를 예로 들어 설명한다. 그러나 기판은 포토마스크 이외에 반도체 웨이퍼, 평편 표시 패널 등 다양한 종류의 기판일 수 있다. 또한, 본 실시예에서는 기판 처리 설비가 포토마스크를 세정하는 설비인 것을 예로 들어 설명한다. 그러나 기판 처리 설비는 웨이퍼 등과 같은 다른 종류의 기판에 세정 공정을 수행하는 설비일 수 있다. 선택적으로 기판 처리 설비는 포토마스크나 웨이퍼 등의 기판에 대해 세정 공정 이외에 기판의 반전이 필요한 다른 종류의 공정을 수행하는 설비일 수 있다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 기판 처리 설비(1)는 인덱스부(1000), 처리부(200) 및 버퍼 유닛(4000)을 포함한다.
인덱스부(1000)는 포토 마스크가 담겨진 용기가 놓여지는 4개의 포트(1100)들과, 포토 마스크 이송을 위한 인덱스 로봇(1200)을 포함한다. 포토 마스크는 패턴면이 아래로 향하도록 뒤집힌 상태로 용기에 담겨져 포트(1100)에 놓여진다. 따라서, 포토 마스크의 패턴면이 오염되는 것을 최소화할 수 있다. 포토 마스크는 제1처리부(2000) 또는 제2처리부(3000)로 반입되기 전, 버퍼 유닛(4000)에서 패턴면이 상부를 향하도록 반전된 후 제공된다.
처리부(200)는 제1처리부(2000)와 제2처리부(300)를 가진다. 제1처리부(2000)에서는 포토 마스크의 습식 세정이 이루어진다. 제1처리부(2000)는 반전 버퍼부(4000)와 연결되고, 포토 마스크 반송을 위한 제1반송로봇(2200)을 갖는 제1이송로(2100) 및 제1이송로(2100)를 따라 배치되는 글루 제거용 처리모듈(HSU,GSU)(2300,2400), 포토 마스크 냉각 처리 모듈(CPU;2500)을 포함한다.
글루 제거용 처리모듈은 3개가 제공되고, 포토 마스크 냉각 처리 모듈은 2개가 제공될 수 있다.
글루 제거용 처리모듈(HSU,GSU)들은 SPM 용액을 포토 마스크 전면에 도포하여 글루를 제거하는 전면 처리모듈(HSU)(2300) 및 SPM 용액을 포토 마스크 가장자리 부분적으로 도포하여 글루를 제거하는 부분 처리모듈(HSU)(2400)을 포함할 수 있다. 그리고 포토 마스크 냉각 장치(2500)는 가열 처리모듈(3300)에서 열처리된 포토 마스크의 온도를 상온으로 낮춘다.
제2처리부(3000)는 제1처리부(2000)와 층으로 구획되도록 배치된다. 제2처리부(3000)에서는 포토 마스크의 건식 및 기능수 세정이 이루어진다. 제2처리부(3000)는 포토 마스크 반송을 위한 제2반송로봇(3200)을 갖는 제2이송로(3100) 및 제2이송로(3100)를 따라 배치되는 가열 처리모듈(HPU)(3300), 기능수 처리모듈(SCU)(3400)을 포함한다. 가열 처리모듈(3300)은 자외선을 이용하여 포토 마스크를 가열할 수 있다. 가열 처리모듈(3300)은 2개가 제공되고, 가능수 처리 모듈(3400)은 2개가 제공될 수 있다.
버퍼 유닛(4000)은 처리부(200)와 인덱스부(1000) 사이에 배치된다. 일 예에 의하면, 버퍼 유닛(4000)은 제1처리부와 인덱스부 사이에 배치된다. 선택적으로, 버퍼 유닛(4000)은 제2처리부(3000)와 인덱스부(1000) 사이에 배치될 수 있다. 버퍼 유닛(4000)은 포토 마스크를 반전시킨다.
기판 처리 설비(1)에서, 습식 세정을 위한 모듈들은 1층에 제공되고, 건식 세정을 위한 모듈들은 2층에 제공된다. 즉, 약액을 이용한 습식 세정은 1층에 배치하여 다운 플로우에 의한 이온 오염이 건식처리한 포토마스크에 영향을 주지 않도록 배치하였다. 예컨대, 본 발명의 기판 처리 설비(1)는 습식 세정을 위한 모듈들과 건식 세정을 위한 모듈들이 단일층에 모두 배치되도록 구성할 수 있다.
본 실시예에서는 처리부가 글루 제거용 처리 모듈, 포토 마스크 냉각 처리 모듈, 가열 처리 모듈, 그리고 기능수 처리 모듈을 구비하는 것으로 설명하였다. 그러나 이와 달리, 처리가 이루어지는 기판의 종류, 및 처리 공정에 따라 처리부에 제공되는 처리 모듈의 종류는 이와 상이할 수 있다
기판 처리 설비는 최대 5매의 포토 마스크를 동시에 처리할 수 있어 높은 생산성을 기대할 수 있다.
포토 마스크는 패턴면이 크롬(Cr)성분으로 이루어져 있어 정전기에 매우 취약하다, 따라서, 본 발명의 기판 처리 설비는 정전기에 의한 데미지를 최소화하기 위해 이동 경로상(제1이송로, 제2이송로, 각각의 처리 모듈 내부)에 이오나이져(ionizer)가 설치될 수 있다.
도 4는 버퍼 유닛의 사시도이고, 도 5는 버퍼 유닛의 정면도이며, 도 6은 버퍼 유닛의 평면도이다. 도 7은 버퍼 유닛의 단면도이다.
도 4 내지 도 7을 참조하면, 버퍼 유닛(4000)은 프레임(4100), 반전기능을 갖는 제1버퍼(4200), 단순 버퍼기능을 갖는 제2버퍼(4300) 및 구동부(4400)를 포함한다. 제1버퍼와 제2버퍼는 각각 2개씩 제공될 수 있다.
프레임(4100)은 베이스 플레이트(4110), 제1수직 플레이트(4120), 제2수직 플레이트(4130), 그리고 2개의 공간 구획 커버(4140)를 포함한다.
제1수직 플레이트(4120)와 제2수직 플레이트(4130)는 베이스 플레이트(4110)에 수직하게 설치된다. 제1수직 플레이트(4120)와 제2수직 플레이트(4130)는 서로 이격되어 배치된다. 제1수직 플레이트(4120)와 제2수직 플레이트(4130) 사이 공간은 중앙 공간(CA)(포토 마스크의 보관 및 반전이 이루어지는 반전공간)으로 정의하고, 제1수직 플레이트(4120)의 우측공간과 제2수직 플레이트(4130)의 좌측공간은 각각 구동부 공간(DA)으로 정의한다. 중앙 공간(CA)은 포토 마스크의 반입/반출이 가능하도록 전면과 후면이 개방되며 제1버퍼(4200)들과 제2버퍼(4300)가 다단 구조로 설치된다. 구동부 공간(DA)에는 구동부(4400)가 설치된다. 구동부 공간(DA)은 공간 구획 커버(4140)에 의해 외부 환경과 격리된다. 프레임(4100)의 베이스 플레이트(4110)는 구동부 공간(DA)의 배기압(음압) 형성을 위한 흡입 포트(4112)를 구비한다. 즉, 구동부 공간(DA)은 공간 구획 커버(4140)에 의해 외부 환경과 격리되어 있을 뿐만 아니라 흡입 포트(4112)를 통해 음압(배기압)이 형성되어 중앙 공간(CA)으로의 기류 형성이 억제된다.
제2버퍼(4300)는 제1버퍼(4200) 아래에 위치된다. 제2버퍼(4300)는 단순 버퍼 기능을 갖는다.
제1버퍼(4200)는 회전가능하게 제1수직 플레이트(4120)와 제2수직 플레이트(4130)에 설치된다. 제1버퍼(4200)는 제1지지부인 고정 거치대(4210), 제2지지부인 그리퍼 거치대(4220)를 포함한다. 그리퍼 거치대(4220)와 고정 거치대(4210)는 서로 마주보게 위치된다. 그리퍼 거치대(4220)는 고정 거치대(4210)에 놓인 포토 마스크(M)의 가장자리를 홀딩하기 위해 수직 방향으로 승하강 된다. 평면에서 바라보았을 때, 고정 거치대(4210)와 그리퍼 거치대(4220)는 사각틀 형상으로 이루어진다. 고정 거치대(4210)와 그리퍼 거치대(4220)는 각각의 모서리에 포토 마스크(M)의 모서리가 안착되는 받침 돌기(4212,4222)들(도 4에 도시됨)을 포함한다.
구동부(4400)는 회전 모듈(4410)과 승강 모듈(4420)을 포함한다. 구동부(4400)는 구동부 공간(DA)에 위치되어 구동부(4400)에서 발생되는 파티클로부터 포토 마스크의 역오염을 방지할 수 있다.
회전 모듈(4410)은 2개의 회전체(4412), 하나의 회동 구동부(4414)를 포함한다.
회전체(4412)는 제1수직 플레이트(4120)와 제2수직 플레이트(4130)에 각각 대응되게 설치된다. 회동 구동부(4414)는 제1수직 플레이트(4120)에 설치된다. 회동 구동부(4414)는 회전체(4412)를 180도 반전시키기 위한 모터(4416), 벨트(4417), 풀리(4418)를 포함한다. 회전체(4412)는 내부에 통로를 갖는 중공 형태로 이루어진다. 고정 거치대(4210)는 양단이 회전체(4412)에 고정된다.
승강 모듈(4420)은 실린더(4422), 연결블록(4424) 그리고 LM 가이드(4426)를 포함한다. 실린더(4422)는 구동부 공간(DA)에 위치하는 회전체(4412)의 외측에 고정 설치된다. 연결블록(4424)은 실린더(4422)의 구동에 의해 승강된다. LM 가이드(4426)는 회전체(4412)에 고정 설치된다. LM 가이드(4426)는 실린더(4422) 구동에 의해 승강되는 연결블록(4424)을 안내한다. 연결블록(4424)은 회전체(4412)의 내부 통로를 통해 중앙 공간에 위치한 그리퍼 거치대(4220)와 연결된다.
한편, 버퍼 유닛(400)은 포토 마스크(M)의 불안착 유무를 감지하는 감지부재(9300)들을 포함한다. 감지부재(9300)들은 제1버퍼(4200)들과 제2버퍼(4300)들 각각의 포토 마스크 로딩/언로딩 높이에 설치된다. 감지부재(9300)들은 교차 체크를 위해 대각선 방향으로 설치된다.
도 8a 및 도 8b는 도 6에 도시된 감지부재를 보여주는 평면도 및 측면도이다.
도 8a 및 도 8b를 참조하면, 감지 부재(9300)는 각각의 버퍼들 주변에 위치된다. 감지 부재(9300)는 포토 마스크(M)의 존재 유무 및 포토 마스크의 로딩 미스를 동시에 감지할 수 있다. 감지 부재(9300)는 레이저 빔을 발광하는 발광부(9310)와, 발광부(9310)로부터 발광되는 레이저 빔을 수광하는 수광부(9320)가 서로 쌍을 이루도록 설치된다. 발광부(9310)와 수광부(9320)는 레이저 빔이 포토 마스크(M)의 대각선 방향으로 진행하도록 배치된다. 즉, 레이저 빔은 포토 마스크(M)의 일측면에 비스듬하게 입사된다.
발광부(9310)는 레이저 빔을 발광하는 발광 센서(9312)와, 레이저 빔의 빔폭을 제한하는 제1슬릿창(9314)이 형성된 제1차광판(9316)을 포함한다. 발광부(9310)로부터 조사되는 레이저 빔은 그 단면이 수직한 슬릿 형태로 이루어진다.
수광부(9320)는 발광부(9310)로부터 조사되는 레이저 빔이 출입하는 제2슬릿창(9324)이 형성된 제2차광판(9326)과, 차광판(9326) 후방에 위치되고 슬릿창(9324)을 통해 들어오는 레이저 빔의 감도를 감지하는 수광 센서(9322)를 포함한다.
레이저 빔의 높이(h1)는 포토 마스크의 높이(h2)보다 높으며, 레이저 빔은 포토 마스크의 일부를 투과하도록 위치된다. 예컨대, 포토 마스크는 높이(두께)가 6.35mm, 레이저 빔은 높이(h1)가 10mm인 경우, 포토 마스크를 통과하는 레이저 빔의 높이(h3)가 5mm일 때 존재 유무 및 로딩 미스 감도 차이가 용이하다. 즉, 레이저 빔은 절반(5mm)이 포토 마스크를 통과하도록 배치하는 것이 바람직하다. 한편, 레이저 빔은 일부(포토 마스크를 투과하는 투과빔)가 포토 마스크(M)의 측면에 비스듬하게 입사되고, 이렇게 입사된 레이저 빔은 포토 마스크(M)를 통과하면서 굴절현상으로 수광부(9320)의 제2슬릿창(9324)으로 입사되지 못한다. 그리고, 포토 마스크(M) 상면으로 지나가는 레이저 빔만이 수광부(9320)의 제2슬릿창(9324)으로 입사되어 감도를 낮추게 된다.
도 9 내지 도 12는 제1버퍼에서의 포토 마스크 반전 과정을 단계적으로 보여주는 도면들이다.
도 9 내지 도 12를 참조하면, 포토 마스크(M)는 반송 장치(미도시됨)에 의해 반전 버퍼부의 중앙 공간으로 반입되어 고정 거치대(4210)에 로딩된다. 포토 마스크가 고정 거치대(4210)에 로딩되면, 그리퍼 거치대(4220)는 승강 모듈(4320)에 의해 다운 이동되어 포토 마스크(M)를 상부에서 지지한다. 포토 마스크가 고정 거치대(4210)와 그리퍼 거치대(4220)에 의해 고정되면, 제1버퍼(4200)는 회전 모듈(4410)에 의해 반전된다. 반전 후, 그리퍼 거치대(4220)는 아래쪽, 고정 거치대(4210)는 위쪽에 위치된다. 그리퍼 거치대(4220)는 승강 모듈(4320)에 의해 다운 이동되어 포토 마스크(M)의 홀딩을 해제한다. 이때, 포토 마스크는 그리퍼 거치대(4220)에 안착된 상태에서 로딩/언로딩 위치로 이동된다.
여기서, 포토 마스크의 회전축(일점 쇄선으로 표시됨)은 포토 마스크보다 위에 위치된다. 즉, 회전 중심축과 포토 마스크 안착 포지션(포토 마스크의 로딩/언로딩 위치) 중심과 편심을 주어 초기 로딩 위치와 반전후 언로딩 위치가 동일하게 유지된다.
도 13은 제1버퍼만 제공된 버퍼 유닛을 보여주는 도면이고, 도 14는 제1버퍼와 제2버퍼가 각각 하나씩 제공된 버퍼 유닛을 보여주는 도면이다.
도 13에서와 같이, 버퍼 유닛은 반전 기능을 갖는 제1버퍼만이 포함될 수 있다.
도 14에서와 같이, 버퍼 유닛은 제1버퍼와 제2버퍼가 1개씩 제공되거나, 도 5의 실시예와 같이 상이한 수로 제공될 수 있다. 또한, 제1버퍼와 제2버퍼의 위치는 변경될 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
1000 : 인덱스부
2000 : 제1처리부
3000 : 제2처리부
4000 : 버퍼 유닛

Claims (21)

  1. 버퍼 유닛에 있어서:
    베이스 플레이트와, 상기 베이스 플레이트에 서로 이격되어 설치되는 제1수직 플레이트와 제2수직 플레이트를 갖는 프레임;
    기판이 놓여지고, 상기 제1,2 수직 플레이트 사이에 반전 가능하게 설치되는 제1버퍼; 및
    상기 제1,2수직 플레이트 바깥쪽에 설치되고, 상기 제1버퍼에 놓인 기판을 그립하고, 반전되도록 상기 제1버퍼를 구동시키는 구동부를 포함하는 버퍼 유닛.
  2. 제1항에 있어서:
    상기 제1버퍼는
    기판의 일면을 지지하는 제1지지부; 및
    상기 제1지지부와 마주보게 설치되고, 상기 제1지지부에 놓여진 기판의 타면을 지지하는 제2지지부를 포함하고,
    상기 구동부는
    상기 제1지지부와 상기 제2지지부를 동시에 회전시키는 회전모듈; 및
    기판이 상기 제1지지부와 상기 제2지지부에 의해 그립되도록 상기 제2지지부를 승강시키는 승강 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 버퍼 유닛.
  3. 제1항에 있어서:
    상기 회전모듈은
    상기 제1수직 플레이트와 상기 제2수직 플레이트에 회동 가능하게 장착되는 중공 형태의 회전체;
    상기 회전체를 회동시키기 위한 회동 구동부를 포함하고,
    상기 승강 모듈은
    상기 회전체에 고정되는 실린더;
    상기 실린더의 구동에 의해 승강되고, 상기 회전체를 관통해서 상기 제2지지부와 연결되는 연결 블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 버퍼 유닛.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서:
    상기 프레임은
    상기 구동부가 위치하는 구동부 공간이 주변 환경과 격리되도록 상기 제1수직 플레이트와 상기 제2수직 플레이트의 바깥면을 커버하는 공간 구획 커버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 버퍼 유닛.
  5. 제3항에 있어서:
    상기 프레임은
    상기 공간 구획 커버에 의해 제공되는 상기 구동부 공간에 배기압을 제공하기 위한 흡입 포트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 버퍼 유닛.
  6. 제2항에 있어서:
    상기 제1버퍼의 회전축은 기판의 그립 포지션 중심과 편심을 주어 기판의 로딩 위치와 반전후 언로딩 위치가 동일한 것을 특징으로 하는 버퍼 유닛.
  7. 제1항에 있어서,
    기판의 반전 없이 단순 버퍼 기능을 가지는 제2버퍼를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 버퍼 유닛.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제2버퍼는 상기 제1수직 플레이트와 상기 제2수직 플레이트에 설치되며, 상기 제1버퍼 아래에 위치되는 것을 특징으로 하는 버퍼 유닛.
  9. 기판 처리 설비에 있어서:
    기판이 담겨진 용기가 놓여지는 포트 및 인덱스 로봇을 가지는 인덱스부와;
    기판 처리를 수행하는 처리부와;
    상기 인덱스부와 상기 처리부 사이에 배치되어, 이들 간에 반송되는 기판이 일시적으로 머무르는 버퍼 유닛을 포함하되,
    상기 버퍼 유닛은 기판을 반전시킬 수 있도록 제공되는 기판 처리 설비.
  10. 제9항에 있어서:
    상기 버퍼 유닛은,
    기판가 놓여지는 제1버퍼들;
    상기 제1버퍼를 반전시키기 위한 구동부; 및
    전면과 후면이 개방되고 상기 제1버퍼들이 위치되는 중앙 구역과, 상기 중앙 구역을 중심으로 양측에 배치되고 상기 구동부가 위치되는 구동부 구역을 갖는 프레임을 포함하는 기판 처리 설비.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 프레임은
    상기 중앙 구역을 사이에 두고 서로 마주보게 설치되는 제1,2수직 플레이트;
    상기 구동부 구역이 외부 환경과 격리되도록 상기 구동부 구역을 둘러싸는 공간 구획 커버; 및
    상기 구동부 공간에 배기압을 제공하기 위한 흡입 포트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 제1버퍼는
    기판의 일면을 지지하는 제1지지부; 및
    상기 제1지지부와 마주보게 설치되고, 상기 제1지지부에 놓여진 기판의 타면을 지지하는 제2지지부를 포함하고,
    상기 구동부는
    상기 제1지지부와 상기 제2지지부를 회전시키는 회전모듈; 및
    기판가 상기 제1지지부와 상기 제2지지부에 그립되도록 상기 제2지지부를 승강시키는 승강 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제1버퍼의 회전축은 기판의 그립 포지션 중심과 편심을 주어 기판의 로딩 위치와 반전후 언로딩 위치가 동일한 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  14. 제9항에 있어서,
    상기 버퍼 유닛은
    기판을 반전시키는 기능을 가지는 제1버퍼와;
    기판의 반전 없이 단순 버퍼 기능을 가지는 제2버퍼를 가지는 기판 처리 설비.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 제2버퍼는 제1버퍼의 아래에 배치되는 기판 처리 설비.
  16. 제10항에 있어서,
    상기 제1버퍼는 상하 방향으로 복수 개 제공되는 기판 처리 설비.
  17. 제9항에 있어서,
    상기 처리부는,
    상하 방향으로 적층된 제1처리부와 제2처리부를 가지고,
    상기 제1처리부와 상기 제2처리부 각각은,
    반송 로봇을 가지는 이송로와;
    상기 이송로의 측부에 상기 이송로를 따라 배치되는 복수의 모듈을 가지는 기판 처리 설비.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 제1처리부는 글루 제거용 처리모듈과 냉각 처리 모듈을 포함하고,
    상기 제2처리부는 가열 처리 모듈과 기능수 처리 모듈을 포함하는 기판 처리 설비.
  19. 용기가 놓이는 포트와 기판에 대해 처리가 이루어지는 처리부 사이에 버퍼 유닛을 배치하여 상기 용기와 상기 처리부 간에 반송되는 기판이 상기 버퍼 유닛에 머무르되,
    상기 기판은 상기 버퍼 유닛에 머무르는 동안 반전되는 기판 처리 방법.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 기판은 포토 마스크이고, 상기 처리부는 상기 포토 마스크를 세정하는 공정을 수행하는 기판 처리 방법.
  21. 제19항 또는 제20항에 있어서,
    상기 버퍼 유닛은 반전 기능을 가지는 제1버퍼와 반전 기능이 없는 제2버퍼를 가지며,
    상기 용기에서 기판은 상기 제2버퍼에서 대기한 후 상기 제1버퍼로 반송되는 기판 처리 방법.
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