CN102810500A - 缓冲单元、基板处理设备及基板处理方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种缓冲单元，所述缓冲单元包括：框架，所述框架包括底板、第一垂直板和第二垂直板，其中所述第一垂直板和所述第二垂直板在所述底板上相互隔离；第一缓冲器，在所述第一缓冲器上放置基板，所述第一缓冲器被允许在所述第一垂直板和所述第二垂直板之间翻转；及多个驱动部，所述多个驱动部设置在所述第一垂直板和所述第二垂直板外侧，并驱动所述第一缓冲器夹持和翻转放置在所述第一缓冲器上的基板。

Description

缓冲单元、基板处理设备及基板处理方法

相关申请的交叉引用

根据35U.S.C.§119，此美国非临时专利申请要求2011年5月31日递交的申请号为10-2011-0052382及2011年8月19日递交的申请号为10-2011-0082680的韩国专利申请的优先权，它们的全部内容通过引用方式合并于此。

背景技术

此处公开的本发明涉及基板处理设备，尤其涉及光罩在其内暂时停留的缓冲单元，基板处理设备及基板处理方法。

光罩是覆盖有与微细的半导体电路相对应的图案的石英或玻璃基板。例如，涂覆在透明石英基板的上层上的铬薄层被刻蚀以形成与半导体集成电路或液晶显示器（LCD）电路相对应的图案。图案尺寸大于半导体集成电路或液晶显示器电路的尺寸1到5倍。光罩的微细图案通过光刻过程形成于基板上。在光刻过程中，光刻胶均匀的涂覆在基板上，然后使用光罩图案和诸如光刻机（stepper）的曝光装置执行按比例缩小的投影/曝光过程，然后，执行显影过程以形成二维光刻胶图案。

当外来杂质附着到光罩上时，外来杂质会在曝光过程中分散或吸收光，以至于降低了光学分辨率，从而导致在基板上形成的图案有重大缺陷。因此，作为保护构件的薄膜（pellicle）在曝光过程期间被安装在光罩上，以保护光罩免受外来杂质影响。该薄膜设置在光罩图案的上方的一定高度处，以使得即使外来杂质附着到该薄膜上，外来杂质也不会影响在曝光过程中形成在基板上的图像。

光罩可使用诸如硫酸过氧化氢混合物（SPM，sulfuric peroxide mixture）的化学品在湿法清洗设备中被清洗。当在曝光过程中使用上面附着有诸如粘合剂（adhesive）的外来杂质的光罩时，随着曝光过程的进行，外来杂质可被光催化能量逐渐培养为雾状缺陷（haze defect）。由于生长的雾状缺陷导致不希望的图案转移（transfer），需要有效地从光罩上移除诸如粘合剂的外来杂质。

当光罩装载在光罩清洗设备中时，光罩的清洗目标表面(其图样表面)可向下朝向（反向）。为了这个目的，光罩清洗设备包括用来翻转光罩的装置。由于这样的翻转装置设置在光罩清洗腔内，该翻转装置易受到由于化学烟雾导致的腐蚀，并且从驱动部处产生的微粒会污染光罩和光罩清洗腔的内部。

发明内容

本发明提供一种具有缓冲功能和翻转功能的缓冲单元，基板处理设备和基板处理方法。

本发明的目的不限于上述内容，本领域技术人员将从下面的描述中，清楚地理解本文未描述的其它目的。

本发明的实施例提供缓冲单元，所述缓冲单元包括：框架，所述框架包括底板、第一垂直板和第二垂直板，其中所述第一垂直板和所述第二垂直板在所述底板上相互隔离；第一缓冲器，在所述第一缓冲器上放置基板，所述第一缓冲器被允许在所述第一和所述第二垂直板之间翻转；及多个驱动部，所述多个驱动部设置在所述第一和第二垂直板外侧，并驱动所述第一缓冲器夹持和翻转放置在所述第一缓冲器上的基板。

在一些实施例中，所述第一缓冲器可包括：第一支撑件，所述第一支撑件用来支撑所述基板的一个表面；及第二支撑件，所述第二支撑件面向所述第一支撑件，并支撑放置在所述第一支撑件上的所述基板的另一表面，并且所述驱动部可包括：旋转模块，所述旋转模块同时旋转所述第一支撑件和所述第二支撑件；及提升模块，所述提升模块垂直移动所述第二支撑件以使所述基板被所述第一和第二支撑件夹持。

在其他实施例中，所述旋转模块可包括：多个转子（rotators），所述多个转子被可旋转地安装在所述第一垂直板和所述第二垂直板上，且具有中空结构；旋转驱动部，所述旋转驱动部用于旋转所述转子，其中所述提升模块包括：固定在所述转子上的气缸；及连接块，所述连接块根据所述气缸的驱动而垂直运动，并且穿过所述转子连接到所述第二支撑件。

仍然在其他实施例中，所述框架还包括多个隔离盖，所述隔离盖覆盖所述第一垂直板和所述第二垂直板的外表面，以将容纳所述驱动部的驱动部空间与外部环境隔离。

仍然在其他实施例中，所述框架还包括进气端口，所述进气端口用于向由所述隔离盖限定的所述驱动部空间提供排气压力。

仍然其他实施例中，所述第一缓冲器的旋转轴可从所述基板的夹持位置的中心偏心（eccentric），以使所述基板的装载位置与所述基板被翻转后所述基板的卸载位置相同。

在又一些实施例中，所述缓冲单元可还包括第二缓冲器，所述第二缓冲器具有简单的缓冲功能而不翻转所述基板。

在又一些实施例中，所述第二缓冲器可安装在所述第一垂直板和所述第二垂直板上，并被设置在所述第一缓冲器下方。

在本发明的其他实施例中，基板处理设备包括：索引（index）部，所述索引部包括索引机械手（robot）和端口，在所述端口上放置有容纳基板的容器；处理部，所述处理部设置为处理所述基板；和缓冲单元，所述缓冲单元设置在所述索引部和所述处理部之间以翻转所述基板，其中在索引部和处理部间传递（transferred）的基板暂时停留在所述缓冲单元中。

在一些实施例中，缓冲单元可包括：多个第一缓冲器，在所述多个第一缓冲器上放置基板；多个驱动部，用于翻转所述第一缓冲器；及包括中心空间和多个驱动部空间的框架，所述中心空间包括开口的前部分和开口的后部分，且所述多个驱动部空间设置在所述中心空间的两侧，其中所述第一缓冲器设置在所述中心空间内，所述驱动部设置在所述驱动部空间内。

在其他实施例中，所述框架可包括：第一垂直板和第二垂直板，所述第一垂直板和第二垂直板面向彼此，且两者之间相隔有所述中心空间；隔离盖，所述隔离盖围绕所述驱动部空间以将所述驱动部空间与外部环境隔离；及进气端口，所述进气端口用于向所述驱动部空间提供排气压力。

仍然在其他实施例中，所述第一缓冲器可包括：第一支撑件，支撑基板的一个表面；第二支撑件，面向所述第一支撑件，并支撑放置在所述第一支持件上的所述基板的另一表面，并且所述驱动部可包括：旋转模块，旋转所述第一支撑件和所述第二支撑件；及提升模块，垂直移动所述第二支撑件，以使基板被所述第一支撑件和所述第二支撑件夹持。

还在其他实施例中，所述第一缓冲器的旋转轴可从所述基板的夹持位置的中心偏心，以使所述基板的装载位置与所述基板被翻转后所述基板的卸载位置相同。

还在其他实施例中，所述缓冲单元可包括：第一缓冲器，所述第一缓冲器具有基板翻转功能；及第二缓冲器，所述第二缓冲器具有简单的缓冲功能而不翻转所述基板。

在进一步的实施例中，所述第二缓冲器可设置在所述第一缓冲器下方。

仍然在进一步的实施例中，多个所述第一缓冲器可垂直排列。

还在进一步的实施例中，所述处理部可包括第一处理部和第二处理部，它们垂直排列，并且所述第一处理部和所述第二处理部中的每个可包括：传送（conveyor）通道，所述传送通道包括传递机械手；及多个模块，所述多个模块设置在传送通道一侧部分上，并沿着所述传送通道排列。

还在进一步的实施例中，所述第一处理部可包括去胶处理模块和冷却处理模块，且第二处理部可包括热处理模块和功能水处理模块。

仍然在本发明的其它实施例中，基板处理方法包括：在上面放置有容器的端口和处理部之间设置缓冲单元，所述处理部配置为处理基板以使在所述容器和所述处理部之间传递的所述基板停留在所述缓冲单元中，其中所述基板在停留在所述缓冲单元期间被翻转。

在一些实施例中，所述基板可包括光罩，并且所述处理部可清洗所述光罩。

在其他实施例中，所述缓冲单元可包括具有翻转功能的第一缓冲器，和不具有翻转功能的第二缓冲器，且设置在所述容器中的基板可在所述第二缓冲器上等待，然后，被传递到所述第一缓冲器。

附图说明

附图被列入以提供对本发明的进一步理解，并被包含进来且构成本说明书的一部分。附图示出了本发明的示例性实施例，并且与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中：

图1示出了根据本发明的一个实施例的基板处理设备的布局平面图；

图2示出了图1中基板处理设备内的第一层的布局平面图；

图3示出了图1中基板处理设备内的第二层的布局平面图；

图4示出了根据本发明的一个实施例的缓冲单元的透视图；

图5示出了图4中的缓冲单元的前视图；

图6示出了图4中缓冲单元的平面图；

图7示出了图4中缓冲单元的剖视图；

图8A和8B示出了图6中的感测（sensing）构件的平面图和侧视图；

图9到12示出了根据本发明的一个实施例在第一缓冲器内翻转光罩的过程的剖视图；

图13示出了根据本发明的一个实施例仅包括第一缓冲器的缓冲单元的侧视图；和

图14示出了根据本发明的一个实施例包括第一缓冲器和第二缓冲器的缓冲单元的侧视图。

具体实施方式

下面，将参考附图详细描述根据本发明示例性实施例的基板处理设备。全文中相同的附图标记表示相同的元件。此外，关于公知的功能或构造的细节描述将被省去，以免不必要地模糊本发明的主题。

[实施例]

图1示出了根据本发明的一个实施例的基板处理设备的布局平面图。

图2和图3示出了图1中基板处理设备内的第一层和第二层的布局平面图

在当前实施例中，光罩被例示为基板。但是，诸如半导体晶圆和平面显示面板的各种基板可被例示。此外，在当前实施例中，光罩清洗设备被例示为基板处理设备。但是，用于清洗诸如晶圆的基板的设备可被例示为基板处理设备。而且，不仅可例示用于清洗诸如光罩或晶圆的基板的基板处理设备，还可例示用于处理基板背侧的基板处理设备。

参考图1到图3，根据当前实施例的基板处理设备1包括索引（index）部1000，处理部200及缓冲单元4000。

索引部1000包括四个端口1100和索引机械手1200，容纳光罩的容器被放置在所述端口上，所述索引机械手1200用于传递所述光罩。当容器被放置在端口1100上时，光罩被翻转以使其上的图案表面向下朝向。这样，图案表面的污染被最小化。在光罩被传递到第一处理部2000或第二处理部3000之前，光罩在缓冲单元4000中被再次翻转以使图案表面向上朝向。

处理部200包括第一处理部2000和第二处理部3000。在第一处理部2000中对光罩施行湿法清洗过程。第一处理部2000被连接到作为翻转缓冲部的缓冲单元4000，并包括：第一传送通道2100，所述第一传送通道2100包括用于传递光罩的第一传递机械手2200；及多个去胶处理模块（HSU和GSU）2300和2400，去胶处理模块2300和2400沿传送通道2100排列；及用于冷却光罩的冷却处理模块（CPU）2500。

去胶处理模块2300和2400的数量可以是三个，冷却处理模块2500的数量可以是两个。

去胶处理模块2300和2400可包括：全处理模块（HSU）2300，所述全处理模块2300通过施加硫酸过氧化氢混合物（SPM）溶液到光罩的表面而去胶；及局部处理模块（HSU）2400，所述局部处理模块2400通过局部施加SPM溶液到光罩的边缘而去胶。冷却处理模块2500将在热处理模块3300中被加热处理的光罩冷却到室温。

第一处理部2000和第二处理部3000设置在不同层。在第二处理部3000中对光罩执行干法清洗和功能水清洗处理。第二处理部3000包括：第二传送通道3100，所述第二传送通道3100包括用于传递光罩的第二传递机械手3200；及多个热处理模块（HPU）3300和功能水处理模块（SCU）3400，热处理模块（HPU）3300和功能水处理模块（SCU）3400沿第二传送通道3100排列。热处理模块3300可使用紫外线加热光罩。热处理模块3300的数量可以是两个，功能水处理模块3400的数量可以是两个。

缓冲单元4000设置在处理部200和索引部1000之间。例如缓冲单元4000设置在索引部1000和第一处理单元2000之间。可替代的，缓冲单元4000可设置在第二处理部3000和索引部1000之间。缓冲单元4000翻转光罩。

用于进行湿法清洗处理的模块设置在基板处理设备1的第一层上，用于执行干法清洗处理的模块设置在基板处理设备1的第二层上。即，在第一层执行使用化学溶液的湿法清洗处理以保护被干法处理的光罩免受由于化学溶液向下流动而引起的离子污染。可替代的，用于执行湿法清洗处理的模块和用于执行干法清洗处理的模块可设置在基板处理设备1的同一层。

如在当前实施例中的，处理部可包括去胶处理模块，光罩冷却处理模块，热处理模块，和功能水处理模块。然而，构成处理部的处理模块的类型可根据被处理的基板的类型和对该基板的处理而改变。

根据本发明实施例的基板处理设备可同时处理五个光罩，因此提高了生产率。

由于光罩的图案表面包括铬（Cr），因此图案表面易受静电影响。这样，根据本发明的一个实施例的基板处理设备可包括在移动通道（第一传送通道、第二传送通道和与它们对应的处理模块）内的离子发生器（ionizers）以最小化由于静电而导致的损害。

图4示出了根据本发明的一个实施例的缓冲单元的透视图。图5示出了图4中的缓冲单元的前视图。图6示出了图4中缓冲单元的平面图。图7示出了图4中缓冲单元的剖视图。

参考图4到图7，缓冲单元包括框架4100、具有翻转功能的多个第一缓冲器4200、具有简单缓冲功能的第二缓冲器4300和多个驱动部4400。可提供两个第一缓冲器和两个第二缓冲器。

框架4100包括底板4110、第一垂直板4120、第二垂直板4130，和两个隔离盖4140。

第一垂直板4120和第二垂直板4130垂直于底板4110。第一垂直板4120和第二垂直板4130相互隔开。第一垂直板4120和第二垂直板4130之间的空间被称为中心空间CA（光罩在该空间内被储存和翻转）。第一垂直板4120的右空间和第二垂直板4130的左空间各自被称为驱动部空间DA。中心空间CA具有开口的前部分和开口的后部分，光罩通过所述开口的前部分和开口的后部分被放进或拿出。第一缓冲器4200和第二缓冲器4300在中心空间CA内被排列成多级结构。驱动部4400被设置在驱动部空间DA内。驱动部空间DA被隔离盖4140与外部环境隔离。底板4110包括进气端口4112以在驱动部空间DA内形成排气压力（负压）。即，驱动部空间DA被隔离盖4140与外部环境隔离，并且通过进气端口4112形成的排气压力（负压）阻止空气从驱动部空间DA向中心空间CA流动。

第二缓冲器4300被设置在第一缓冲器4200的下方，并具有简单的缓冲功能。

第一缓冲器4200被可旋转地安装在第一和第二垂直板4120和4130上。每个第一缓冲器4200包括作为第一支撑件的固定支架4210和作为第二支撑件的夹持支架4220。固定支架4210面向夹持支架4220。夹持支架4220垂直移动以夹持放置在固定支架4210上的光罩M的边缘。固定支架4210和夹持支架4220在平面图中具有四方形框架形状。参考图4，固定支架4210包括在其边缘的用于支撑光罩M的边缘的支撑突起4212，夹持支架4220包括在其边缘的用于支撑光罩M的边缘的支撑突起4222。

驱动部4400包括旋转模块4410和提升模块4420。驱动部4400设置在驱动部空间DA内以防止驱动部4400产生的微粒污染光罩。

旋转模块4410包括两个转子（rotator）4412和旋转驱动部4414。

转子4412分别对应于第一垂直板4120和第二垂直板4130。旋转驱动部4414设置在第一垂直板4120上。旋转驱动部4414包括发动机4416、皮带4417和滑轮4418，用于翻转转子4412经过约180°。转子4412具有带有内部通道的中空结构。固定支架4210的两端均固定在转子4412上。

提升模块4420包括气缸4422、连接块4424，和直线运动(LM)引导件4426。气缸4422在驱动部空间DA固定在转子4412的外部。连接块4424根据气缸4422的驱动而垂直运动。LM引导件4426固定至转子4412。LM引导件4426引导根据气缸4422的驱动而垂直运动的连接块4424。连接块4424通过转子4412的内部通道连接到设置在中心空间CA内的夹持支架4220上。

缓冲单元4000包括用于感测光罩M的不稳定的放置的感测构件9300。所述感测构件9300设置在第一缓冲器4200和第二缓冲器4300的光罩装载/卸载高度处。感测构件9300被对角线设置以用于交叉检验。

图8A和8B示出了图6中的感测构件的平面图和侧视图。

参考图8A和图8B，感测构件9300围绕对应的缓冲器设置。感测构件9300可同时检测光罩M的存在和光罩装载失败。感测构件9300包括成对的光发射部9310和光接收部9320。光发射部9310发出激光束，且光接收部9320接收激光束。光发射部9310和光接收部9320设置为沿光罩M的对角线方向传播激光束。即，激光束从光罩M的一侧倾斜（inclined）。

光发射部9310包括光发射传感器9312和第一遮光板9316，所述光发射传感器9312发出激光束，所述第一遮光板9316包括限制激光束的光束宽度的第一狭缝9314。从光发射部9310发出的激光束具有垂直的狭缝形状的横截面。

光接收部9320包括：第二遮光板9326和光接收传感器9322，第二遮光板9326包括第二狭缝9324，从光发射部9310发出的激光束穿过所述第二狭缝9324，所述光接收传感器9322设置在第二遮光板9326后方，并感测穿过第二狭缝9324射入的激光束的强度。

激光束的高度h1高于光罩M的高度h2，并且激光束穿过光罩M的一部分。例如，光罩M可具有大约6.35mm的高度（厚度），且激光束的高度h1可为大约10mm。在该情况下，穿过光罩M的激光束的一部分可具有大约5mm的高度以有效感测光罩M的存在和光罩装载失败。即，激光束的一半（5mm的高度）可穿过光罩M。由于这部分激光束（穿过光罩M）是倾斜射入光罩M的侧表面，那么这部分激光束在光罩内折射，并因此不射入第二狭缝9324。因此，仅有越过光罩M的顶表面的一部分激光束，射入第二狭缝9324，使得感测的激光束强度降低。

图9到12示出了根据本发明的一个实施例在第一缓冲器内翻转光罩的过程的剖视图。

参考图9到图12，光罩M被传递装置（未示出）传递到作为翻转缓冲部的缓冲单元4000的中心空间CA，并被装载到固定支架4210上。然后，夹持支架4220被提升模块4420向下移动以从光罩M的上侧支撑所述光罩M。当光罩M被固定支架4210和夹持支架4220固定时，第一缓冲器4200被旋转模块4410旋转。在这之后，夹持支架4220被设置在较低侧，固定支架4210被设置在较高侧。夹持支架4220被提升模块4220向下移动以释放光罩M。然后，被夹持支架4220支持（held）的光罩M被移动到装载/卸载位置。

此时，以虚线示出的光罩M的旋转轴被设置在光罩M的上方。即光罩M的旋转轴从光罩M的放置位置(其装载/卸载位置)的中心偏心，使得光罩M的初始装载位置与光罩M翻转后的卸载位置相同。

图13示出了根据本发明的一个实施例的仅包括多个第一缓冲器的缓冲单元的侧视图。图14示出了根据本发明实施例的包括第一缓冲器和第二缓冲器的缓冲单元的侧视图。

参考图13，缓冲单元4000可仅包括具有翻转功能的第一缓冲器4200。

参考图14，缓冲单元4000可包括第一缓冲单元4200和第二缓冲单元4300。可替代的，如在图5的实施例中，第一缓冲器的数量可不同于第二缓冲器的数量。进一步的，第一缓冲器和第二缓冲器可改变它们的位置。

根据实施例，缓冲功能可与翻转功能相结合。

此外，光罩的污染可最小化。

上述公开的主题被认为是示例性而非限制性的，附加的权利要求意图涵盖所有落入本发明真实精神和范围内的此类变型、增强和其他实施例。这样，以法律允许的最大限度，本发明的范围由下面权利要求和它们的等同物的可允许的最广义解释来确定，而不应受前述的细节描述约束和限制。

Claims (21)

1.一种缓冲单元，包括：

框架，所述框架包括底板、第一垂直板和第二垂直板，其中所述第一垂直板和所述第二垂直板在所述底板上相互隔离；

第一缓冲器，在所述第一缓冲器上放置基板，所述第一缓冲器被允许在所述第一垂直板和所述第二垂直板之间翻转；及

多个驱动部，所述多个驱动部设置在所述第一垂直板和所述第二垂直板外侧，并驱动所述第一缓冲器夹持和翻转放置在所述第一缓冲器上的基板。

2.根据权利要求1所述的缓冲单元，其中第一缓冲器包括：

第一支撑件，所述第一支撑件支撑所述基板的一个表面；及

第二支撑件，所述第二支撑件面向所述第一支撑件，并支撑放置在所述第一支撑件上的所述基板的另一表面，并且

所述驱动部包括：

旋转模块，所述旋转模块同时旋转所述第一支撑件和所述第二支撑件；及

提升模块，所述提升模块垂直移动所述第二支撑件以使所述基板被所述第一和第二支撑件夹持。

3.根据权利要求2所述的缓冲单元，其中所述旋转模块包括：

多个转子，所述多个转子被可旋转地安装在所述第一垂直板和所述第二垂直板上，且具有中空结构；

旋转驱动部，所述旋转驱动部用于旋转所述转子，

其中，所述提升模块包括：

固定在所述转子上的气缸；及

连接块，所述连接块根据所述气缸的驱动而垂直运动，并且穿过所述转子连接到所述第二支撑件。

4.根据权利要求1至3任一项所述的缓冲单元，其中所述框架还包括多个隔离盖，所述隔离盖覆盖所述第一垂直板和所述第二垂直板的外表面，以将容纳所述驱动部的驱动部空间与外部环境隔离。

5.根据权利要求4所述的缓冲单元，其中所述框架还包括进气端口，所述进气端口用于向由所述隔离盖限定的所述驱动部空间提供排气压力。

6.根据权利要求2所述的缓冲单元，其中所述第一缓冲器的旋转轴从所述基板的夹持位置的中心偏心，以使所述基板的装载位置与所述基板被翻转后所述基板的卸载位置相同。

7.根据权利要求1所述的缓冲单元，所述缓冲单元还包括第二缓冲器，所述第二缓冲器具有简单的缓冲功能而不翻转所述基板。

8.根据权利要求7所述的缓冲单元，其中所述第二缓冲器安装在所述第一垂直板和所述第二垂直板上，并被设置在所述第一缓冲器下方。

9.一种基板处理设备，包括：

索引部，所述索引部包括索引机械手和端口，在所述端口上放置有容纳基板的容器；

处理部，所述处理部设置为处理所述基板；和

缓冲单元，所述缓冲单元设置在所述索引部和所述处理部之间以翻转所述基板，其中在索引部和处理部间传递的基板暂时停留在所述缓冲单元中。

10.根据权利要求9所述的基板处理设备，其中所述缓冲单元包括：

多个第一缓冲器，在所述多个第一缓冲器上放置基板；

多个驱动部，用于翻转所述第一缓冲器；及

包括中心空间和多个驱动部空间的框架，所述中心空间包括开口的前部分和开口的后部分，且所述多个驱动部空间设置在所述中心空间的两侧，其中，所述第一缓冲器设置在所述中心空间内，所述驱动部设置在所述驱动部空间内。

11.根据权利要求10所述的基板处理设备，其中所述框架包括：

第一垂直板和第二垂直板，所述第一垂直板和第二垂直板面向彼此，且两者之间相隔有所述中心空间；

隔离盖，所述隔离盖围绕所述驱动部空间以将所述驱动部空间与外部环境隔离；及

进气端口，所述进气端口用于向所述驱动部空间提供排气压力。

12.根据权利要求10所述的基板处理设备，其中所述第一缓冲器包括：

第一支撑件，所述第一支撑件支撑基板的一个表面；

第二支撑件，所述第二支撑件面向所述第一支撑件，并支撑放置在所述第一支持件上的所述基板的另一表面，并且

所述驱动部包括：

旋转模块，所述旋转模块旋转所述第一支撑件和所述第二支撑件；及

提升模块，所述提升模块垂直移动所述第二支撑件，以使所述基板被所述第一支撑件和所述第二支撑件夹持。

13.根据权利要求12所述的基板处理设备，其中所述第一缓冲器的旋转轴从所述基板的夹持位置的中心偏心，以使所述基板的装载位置与所述基板被翻转后所述基板的卸载位置相同。

14.根据权利要求9所述的基板处理设备，其中所述缓冲单元包括：

第一缓冲器，所述第一缓冲器具有基板翻转功能；及

第二缓冲器，所述第二缓冲器具有简单的缓冲功能而不翻转所述基板。

15.根据权利要求14所述的基板处理设备，其中所述第二缓冲器设置在所述第一缓冲器下方。

16.根据权利要求10所述的基板处理设备，其中多个所述第一缓冲器垂直排列。

17.根据权利要求9所述的基板处理设备，其中所述处理部包括第一处理部和第二处理部，它们垂直排列，并且

所述第一处理部和所述第二处理部中的每个包括：

传送通道，所述传送通道包括传递机械手；及

多个模块，所述多个模块设置在传送通道一侧部分上，并沿着所述传送通道排列。

18.根据权利要求17所述的基板处理设备，其中所述第一处理部包括去胶处理模块和冷却处理模块，且

第二处理部包括热处理模块和功能水处理模块。

19.一种基板处理方法，包括：在上面放置有容器的端口和处理部之间设置缓冲单元，所述处理部配置为处理基板以使在所述容器和所述处理部之间传递的所述基板停留在所述缓冲单元中，

其中，所述基板在停留在所述缓冲单元期间被翻转。

20.根据权利要求19所述的基板处理方法，其中所述基板包括光罩，并且所述处理部清洗所述光罩。

21.根据权利要求19或20所述的基板处理方法，其中所述缓冲单元包括具有翻转功能的第一缓冲器，和不具有翻转功能的第二缓冲器，且

设置在所述容器中的基板在所述第二缓冲器上等待，然后，被传递到所述第一缓冲器。

Images