KR20110109784A - 기판 처리 장치 및 이재 방법 - Google Patents

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KR20110109784A
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다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
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Abstract

기판의 지지 방식을 전환하는 전환부에 있어서, 기판을 부상 지지하는 부분의 반송 방향의 길이를 억제하고, 또한, 승강 롤러와 다른 부재의 접촉을 용이하게 회피할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다.
기판 처리 장치(1)의 전환부(20)는, 복수의 승강 롤러(21)와, 복수 프리 롤러(24)와, 입구 부상 스테이지(25)를 가진다. 기판(9)의 지지 방식을 전환할 때에는, 기판(9)의 반송 방향 상류측의 일부분이, 복수의 승강 롤러(21)로부터 복수의 프리 롤러(24)로 옮겨 놓아진다. 이 때문에, 입구 부상 스테이지(25)의 반송 방향의 길이를 억제하면서, 기판(9)의 지지 방식을 전환할 수 있다. 프리 롤러(24)는, 간이한 구조로 확실히 기판(9)을 지지할 수 있음과 함께, 협소한 영역에 배치할 수 있다. 따라서, 복수의 프리 롤러(24)를, 복수의 승강 롤러(21)와 접촉하지 않는 위치에 용이하게 배치할 수 있다.

Description

기판 처리 장치 및 이재 방법{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND TRANSFERRING METHOD}
본 발명은, 기판을 반송하는 기구를 구비한 기판 처리 장치, 기판의 지지 방식을 전환하는 전환 방법, 및 기판을 옮겨 놓는 이재(移載) 방법에 관한 것이다.
액정 표시 장치용 유리 기판, 반도체 웨이퍼, 필름 액정용 플렉서블 기판, 포토마스크용 기판, 칼라 필터용 기판, 태양 전지용 기판, 전자 페이퍼용 기판 등의 정밀 전자 장치용 기판의 제조 공정에서는, 기판을 반송하는 기구를 구비한 다양한 기판 처리 장치가 사용되고 있다. 이러한 기판 처리 장치에 있어서 처리 대상이 되는 기판의 사이즈는, 시대와 함께 대형화하는 경향이 있다. 최근에는, 대형의 기판을 수평으로 안정되게 반송하기 위해, 스테이지 상에 기판을 부상시키면서 반송하는 반송 기구가 제안되고 있다.
스테이지 상에 기판을 부상시키면서 반송하는 기판 처리 장치에서는, 다른 지지 방식에서 부상 지지 방식으로, 기판의 지지 방식을 전환하는 기구가 필요하다. 기판의 지지 방식을 전환하는 기술로서, 특허 문헌 1에는, 부상 반송과 상이한 반송 기구로부터 부상 반송으로 이행시키는 기구를 가지는 기판 반송 장치가 기재되어 있다. 특허 문헌 1에서는, 기판을 지지하는 롤러를 하강시킴으로써, 롤러 상의 기판을, 격자 형상으로 배치된 부상용 플레이트 상에 부상 유지시키고 있다.
또, 스테이지 상에 기판을 부상시키면서, 기판의 끝 가장자리부를 유지하여 반송하는 기판 처리 장치에서는, 다른 반송 기구에 의해 반송되어 온 기판의 끝 가장자리부를, 소정의 유지부에 유지시키는 기구가 필요하다. 기판의 끝 가장자리부를 유지하는 기구로서, 특허 문헌 2에는, 기판의 하면에 진공 흡착력으로 흡착되는 흡착 패드를, 패드 액츄에이터에 의해 상승시켜, 기판에 접근시키는 기구가 기재되어 있다.
특허 문헌 1: 일본국 공개 특허 2008-166348호 공보 특허 문헌 2: 일본국 공개 특허 2009-117571호 공보
(1) 제1 목적
특허 문헌 1의 기판 반송 장치에서는, 기판의 지지 방식을 전환하는 부위에 있어서, 기판의 반송 방향의 치수와 동등 이상의 길이의 부상용 플레이트가 필요하다. 또, 특허 문헌 1의 기판 반송 장치에서는, 격자 형상으로 배치된 부상용 플레이트의 간극에, 승강 가능한 롤러가 배치되어 있다. 이와 같이, 부상용 플레이트와, 롤러 및 롤러를 승강시키는 기구를, 서로 접촉하지 않도록 교호로 배치하는 것은 설계 상의 곤란을 수반한다.
그래서, 기판의 지지 방식을 전환하는 전환부에 있어서, 기판을 부상 지지하는 부분의 반송 방향의 길이를 억제하고, 또한, 승강 롤러와 다른 부재의 접촉을 용이하게 회피할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 제1 목적으로 한다.
(2) 제2 목적
특허 문헌 2의 기판 처리 장치에서는, 정지한 기판의 하면에 대해, 흡착 패드를 접근시키고 있다. 이 때문에, 흡착 패드를 승강 이동시키기 위한 패드 액츄에이터가 필요해지고 있다. 그 결과, 패드 액츄에이터를 포함하는 반송부의 구조가 복잡해지고 있다.
또, 특허 문헌 2의 기판 처리 장치에서는, 반송시의 기판의 높이를 정밀하게 규정하기 위해서, 패드 액츄에이터에 높은 위치 결정 정밀도가 요구된다. 또, 장기간의 사용에 의해, 패드 액츄에이터의 위치 결정의 재현성이 저하되는 것도 예상된다. 장기간에 걸쳐 패드 액츄에이터의 위치 결정의 재현성을 유지하려고 하면, 패드 액츄에이터와는 별도로, 흡착 패드의 높이 위치를 감시하는 기구도 필요하다.
그래서, 유지부를 승강 이동시키는 일 없이, 또한, 기판의 위치 어긋남을 억제하면서, 기판을 하면측으로부터 유지할 수 있는 기술을 제공하는 것을 제2 목적으로 한다.
상기 제1 목적을 달성하기 위해, 본 원의 제1 발명은, 기판을 반송하는 기구를 구비한 기판 처리 장치로서, 반송 경로 상의 소정의 위치까지 기판을 반송하는 제1 반송부와, 상기 소정의 위치보다 반송 방향 하류측에서, 스테이지 상에 기판을 부상시키면서 반송하는 제2 반송부와, 상기 제1 반송부와 상기 제2 반송부 사이에서, 기판의 지지 방식을 전환하는 전환부와, 상기 전환부를 제어하는 제어부를 구비하고, 상기 전환부는, 기판을 접촉 지지하면서, 능동적으로 회전하여, 표준 위치와 하강 위치 사이에서 승강 이동 가능한 승강 롤러와, 표준 위치의 상기 승강 롤러의 상단부와, 하강 위치의 상기 승강 롤러의 상단부 사이의 높이 위치에 기판을 접촉 지지하면서, 기판의 이동에 따라 종동적으로 회전하는 프리 롤러와, 상기 프리 롤러의 반송 방향 하류측에 배치되어, 표준 위치의 상기 승강 롤러에 의한 기판의 지지 높이보다 낮은 높이로, 기판을 부상시키면서 지지하는 입구 부상 스테이지를 가지고, 상기 제어부는, 기판이, 표준 위치의 상기 승강 롤러와 상기 입구 부상 스테이지에 걸쳐 배치된 후, 상기 승강 롤러를 상기 하강 위치로 하강시켜, 기판의 반송 방향 상류측의 일부분을, 상기 프리 롤러로 옮겨 놓도록, 상기 전환부를 제어한다.
본 원의 제2 발명은, 제1 발명의 기판 처리 장치로서, 상기 입구 부상 스테이지의 반송 방향의 길이는, 기판의 반송 방향의 길이보다 짧다.
본 원의 제3 발명은, 제1 발명 또는 제2 발명의 기판 처리 장치로서, 상기 승강 롤러 및 상기 프리 롤러가 배치된 영역의 반송 방향의 길이는, 기판의 반송 방향의 길이보다 짧다.
본 원의 제4 발명은, 제1 발명 또는 제2 발명의 기판 처리 장치로서, 상기 프리 롤러는, 상기 입구 부상 스테이지의 반송 방향 상류측의 옆 가장자리부를 따라 배열된, 복수의 하류측 프리 롤러와, 상기 복수의 하류측 프리 롤러보다 반송 방향 상류측의 위치에 배열된, 복수의 상류측 프리 롤러를 포함하고, 상기 복수의 상류측 프리 롤러는, 상기 복수의 하류측 프리 롤러보다 낮은 밀도로 배치되어 있다.
본 원의 제5 발명은, 제1 발명 또는 제2 발명의 기판 처리 장치로서, 상기 전환부는, 기판이, 표준 위치의 상기 승강 롤러와, 상기 입구 부상 스테이지에 걸쳐 배치된 상태에서, 기판의 수평 방향의 위치를 결정하는 위치 결정 기구를 더 가진다.
본 원의 제6 발명은, 제1 발명 또는 제2 발명의 기판 처리 장치로서, 상기 승강 롤러 및 상기 프리 롤러와, 상기 입구 부상 스테이지는, 상이한 지지대에 지지되어, 서로 비연결된다.
본 원의 제7 발명은, 제1 발명 또는 제2 발명의 기판 처리 장치로서, 상기 프리 롤러는, 상기 승강 롤러보다 소직경의 롤러이다.
또, 상기 제1 목적을 달성하기 위해, 본 원의 제8 발명은, 반송 경로 상의 소정의 위치까지 기판을 반송하는 제1 반송부와, 상기 소정의 위치보다 반송 방향 하류측에서, 스테이지 상에 기판을 부상시키면서 반송하는 제2 반송부 사이에서, 기판의 지지 방식을 전환하는 전환 방법으로서, 기판을 접촉 지지하면서, 능동적으로 회전하여, 표준 위치와 하강 위치 사이에서 승강 이동 가능한 승강 롤러와, 표준 위치의 상기 승강 롤러의 상단부와, 하강 위치의 상기 승강 롤러의 상단부 사이의 높이 위치에 기판을 접촉 지지하면서, 기판의 이동에 따라 종동적으로 회전하는 프리 롤러와, 상기 프리 롤러의 반송 방향 하류측에 배치되어, 표준 위치의 상기 승강 롤러에 의한 기판의 지지 높이보다 낮은 높이로, 기판을 부상시키면서 지지하는 부상 스테이지를 이용하여, a) 기판을, 표준 위치의 상기 승강 롤러와 상기 입구 부상 스테이지에 걸쳐 배치하는 공정과, b) 상기 공정 a) 후, 상기 승강 롤러를 상기 하강 위치로 하강시켜, 기판의 반송 방향 상류측의 일부분을, 상기 프리 롤러로 옮겨 놓는 공정을 구비한다.
또, 상기 제2 목적을 달성하기 위해, 본 원의 제9 발명은, 기판을 반송하는 기구를 구비한 기판 처리 장치로서, 반송 방향 상류측으로부터 소정의 위치까지, 기판을 반송하는 제1 반송부와, 상기 소정의 위치로부터 반송 방향 하류측으로, 기판을 반송하는 제2 반송부와, 상기 소정의 위치에서, 상기 제1 반송부로부터 상기 제2 반송부로 기판을 옮겨 놓는 이재부를 구비하고, 상기 이재부는, 기판의 일부분이 수평 자세로 접촉 지지된 상태를 유지하면서, 기판의 다른 부분을 밀어 올리는 밀어 올림 기구를 가지고, 상기 제2 반송부는, 기판을 하면측으로부터 유지하면서 반송 방향으로 이동하는 유지부를 가지고, 상기 밀어 올림 기구에 의해 기판을 부분적으로 밀어 올리고, 기판의 밀어 올려진 부분의 아래쪽으로 상기 유지부를 진입시킨 후, 상기 밀어 올림 기구에 의한 밀어 올림을 해제함으로써, 상기 유지부에 기판을 유지시키도록, 상기 밀어 올림 기구 및 상기 유지부를 제어하는 제어부를 더 구비한다.
본 원의 제10 발명은, 제9 발명의 기판 처리 장치로서, 상기 이재부는, 기판의 수평 방향의 위치 결정을 행하는 위치 결정 기구를 더 가지고, 상기 제어부는, 상기 위치 결정 기구에 의한 기판의 위치 결정 후에, 상기 밀어 올림 기구에 의한 기판의 밀어 올림을 행하도록, 상기 위치 결정 기구 및 상기 밀어 올림 기구를 제어한다.
본 원의 제11 발명은, 제10 발명의 기판 처리 장치로서, 상기 위치 결정 기구는, 기판의 끝 가장자리부에 맞닿는 위치 결정 부재를 가지고, 상기 제어부는, 상기 위치 결정 기구에 의한 위치 결정 후, 기판의 상기 다른 부분에 맞닿아 있는 상기 위치 결정 부재를 기판으로부터 퇴피시키고, 그 후에, 상기 밀어 올림 기구에 의한 기판의 밀어 올림을 행하도록, 상기 밀어 올림 기구 및 상기 위치 결정 기구를 제어한다.
본 원의 제12 발명은, 제9 발명 내지 제11 발명 중 어느 하나의 기판 처리 장치로서, 상기 유지부는, 유지시에 기판의 하면의 높이 위치를 규정하는 유지면과, 상하 방향으로 신축 가능함과 함께 기판의 하면에 흡착되는 탄성 흡착체를 가지고, 기판으로의 흡착 전에는, 상기 탄성 흡착체의 상단부가, 상기 유지면보다 윗쪽에 위치하고, 기판으로의 흡착시에는, 상기 탄성 흡착체의 상단부가, 상기 유지면과 동등한 높이에 위치한다.
본 원의 제13 발명은, 제9 발명 내지 제11 발명 중 어느 하나의 기판 처리 장치로서, 상기 밀어 올림 기구는, 기판의 반송 방향에 직교하는 방향의 양단부 부근을 밀어 올린다.
또, 상기 제2 목적을 달성하기 위해, 본 원의 제14 발명은, 제1 반송부로부터 제2 반송부로 기판을 옮겨 놓는 이재 방법으로서, a) 기판의 일부분이 수평 자세로 접촉 지지된 상태를 유지하면서, 기판의 다른 부분을 밀어 올리는 공정과, b) 상기 공정 a) 후, 기판의 밀어 올려진 부분의 아래쪽으로 유지부를 진입시키는 공정과, c) 상기 공정 b) 후, 기판의 밀어 올림을 해제함으로써, 상기 유지부에 기판을 유지시키는 공정을 구비한다.
본 원의 제15 발명은, 제14 발명의 이재 방법으로서, d) 상기 공정 a) 전에, 기판의 수평 방향의 위치 결정을 행하는 공정을 더 구비한다.
본 원의 제16 발명은, 제15 발명의 이재 방법으로서, 상기 공정 d)에서는, 기판의 끝 가장자리부에 위치 결정 부재를 맞닿게 하고, e) 상기 공정 d)와 상기 공정 a) 사이에, 기판의 상기 다른 부분에 맞닿아 있는 상기 위치 결정 부재를 기판으로부터 퇴피시키는 공정을 더 구비한다.
본 원의 제1 발명~제8 발명에 의하면, 전환부에 있어서, 기판의 반송 방향 상류측의 일부분이, 승강 롤러로부터 프리 롤러로 옮겨 놓아진다. 이것에 의해, 입구 부상 스테이지의 반송 방향의 길이를 억제하면서, 기판의 지지 방식을 전환할 수 있다. 프리 롤러는, 간이한 구조로 확실히 기판을 지지할 수 있음과 함께, 협소한 영역에 배치할 수 있다. 따라서, 프리 롤러를, 승강 롤러와 접촉하지 않는 위치에 용이하게 배치할 수 있다.
특히, 본 원의 제3 발명에 의하면, 승강 롤러 및 프리 롤러가 배치된 영역의 반송 방향의 길이가 억제된다.
특히, 본 원의 제4 발명에 의하면, 입구 부상 스테이지의 반송 방향 상류측의 끝 가장자리부와 기판의 접촉을 억제하면서, 프리 롤러의 수를 전체적으로 억제할 수 있다.
특히, 본 원의 제5 발명에 의하면, 기판은, 승강 롤러에 접촉 지지된 상태로 위치 결정된다. 이 때문에, 승강 롤러와 기판의 마찰에 의해, 위치 결정 후의 기판의 수평 방향의 이동이 억제된다.
특히, 본 원의 제6 발명에 의하면, 승강 롤러 및 프리 롤러의 기계적 진동이, 입구 부상 스테이지로 전파되는 것이 억제된다.
특히, 본 원의 제7 발명에 의하면, 프리 롤러를, 승강 롤러와 접촉하지 않는 위치에 용이하게 배치할 수 있다.
본 원의 제9 발명~제16 발명에 의하면, 기판을 부분적으로 밀어 올림으로써, 유지부를 승강 이동시키는 일 없이, 기판의 아래쪽으로 진입시킬 수 있다. 따라서, 유지부의 높이 위치를 고정하면서, 기판을 하면측으로부터 유지할 수 있다. 또, 기판을 밀어 올렸을 때에, 기판의 일부분은, 수평 자세로 접촉 지지되어 있다. 이 때문에, 밀어 올림 시에 있어서의 기판의 위치 어긋남이 억제된다.
특히, 본 원의 제10 발명 또는 제15 발명에 의하면, 유지부는, 기판의 하면의 보다 정확한 위치를 유지할 수 있다.
특히, 본 원의 제11 발명 또는 제16 발명에 의하면, 기판의 밀어 올림 시에, 위치 결정 부재와 기판이 슬라이딩 접촉하는 것을 방지할 수 있다.
특히, 본 원의 제12 발명에 의하면, 탄성 흡착체가, 기판의 하면에 흡착됨과 함께 수축됨으로써, 기판의 하면을 유지면에 끌어 들일 수 있다.
특히, 본 원의 제13 발명에 의하면, 기판을 밀어 올릴 때에, 기판에 반송 방향의 힘이 작용하기 어렵다. 이 때문에, 기판을 밀어 올릴 때에, 기판의 반송 방향의 위치가 어긋나는 것을 억제할 수 있다.
도 1은 기판 처리 장치의 상면도이다.
도 2는 제1 반송부 및 전환부 부근의 상면도이다.
도 3은 제1 반송부 및 전환부 부근의 측면도이다.
도 4는 승강 롤러, 승강 구동 기구, 프리 롤러, 및 척 기구를 도 1 중의 A-A 위치에서 본 도이다.
도 5는 승강 롤러, 승강 구동 기구, 프리 롤러, 및 척 기구를 도 1 중의 A-A 위치에서 본 도이다.
도 6은 제어부와 기판 처리 장치의 각 부의 전기적 접속 구성을 나타낸 블럭도이다.
도 7은 기판 처리 장치의 동작의 흐름을 나타낸 플로차트이다.
도 8은 승강 롤러와 입구 부상 스테이지에 걸쳐 기판이 배치되었을 때의, 전환부 부근의 측면도이다.
도 9는 복수의 리프트 핀을 상승시켰을 때의, 전환부 부근의 측면도이다.
도 10은 승강 롤러를 하강시켰을 때의, 전환부 부근의 측면도이다.
도 11은 기판의 폭방향의 양단부의 하측에 척 기구를 배치했을 때의, 전환부 부근의 측면도이다.
도 12는 기판의 폭방향의 양단부를 척 기구에 흡착시켰을 때의, 전환부 부근의 측면도이다.
도 13은 기판 처리 장치의 상면도이다.
도 14는 제1 반송부 및 이재부 부근의 상면도이다.
도 15는 제1 반송부 및 이재부 부근의 측면도이다.
도 16은 흡착 유지부의 상면 부근의, 부분 확대 종단면도이다.
도 17은 흡착 유지부의 상면 부근의, 부분 확대 종단면도이다.
도 18은 제어부와 기판 처리 장치의 각 부의 전기적 접속 구성을 나타낸 블럭도이다.
도 19는 기판 처리 장치의 동작의 흐름을 나타낸 플로차트이다.
도 20은 이재부 부근의 측면도이다.
도 21은 이재부 부근의 구조를 도 13 중의 B-B 위치에서 본 도이다.
도 22는 이재부 부근의 측면도이다.
도 23은 이재부 부근의 구조를 도 13 중의 B-B 위치에서 본 도이다.
도 24는 이재부 부근의 측면도이다.
도 25는 이재부 부근의 구조를 도 13 중의 B-B 위치에서 본 도이다.
도 26은 이재부 부근의 측면도이다.
도 27은 이재부 부근의 구조를 도 13 중의 B-B 위치에서 본 도이다.
도 28은 이재부 부근의 측면도이다.
도 29는 이재부 부근의 구조를 도 13 중의 B-B 위치에서 본 도이다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서, 도면을 참조하면서 설명한다.
<1. 제1 실시 형태>
<1-1. 기판 처리 장치의 구성>
도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치(1)의 상면도이다. 이 기판 처리 장치(1)는, 액정 표시 장치용의 직사각형의 유리 기판(9)(이하, 간단히 「기판 9」라고 한다)을 에칭하는 포토리소그래피 공정에 있어서, 기판(9)의 상면에 레지스트액(포토레지스트)을 도포하기 위한 장치이다. 기판 처리 장치(1)는, 기판(9)을 수평 자세로 지지하면서 반송하는 기구를 가진다. 이하에서는, 기판(9)이 반송되는 방향을 「반송 방향」으로 칭하고, 반송 방향에 직교하는 수평 방향을 「폭방향」으로 칭한다. 본 원의 각 도에는, 반송 방향 및 폭방향이, 화살표로 나타나 있다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치(1)는, 제1 반송부(10), 전환부(20), 제2 반송부(30), 레지스트 도포 기구(40), 반출부(50), 및 제어부(60)를 구비하고 있다. 도 2는, 제1 반송부(10) 및 전환부(20) 부근의 상면도이다. 도 3은, 제1 반송부(10) 및 전환부(20) 부근의 측면도이다. 또, 도 4 및 도 5는, 승강 롤러(21), 승강 구동 기구(23), 프리 롤러(24), 및 척 기구(32)를, 도 1 중의 A-A 위치에서 본 도이다. 이하에서는, 도 1과 함께, 도 2~도 5도 참조한다.
제1 반송부(10)는, 전 공정의 장치(2)로부터 반출된 기판(9)을, 반송 경로를 따라, 전환부(20)까지 반송하는 부위이다. 제1 반송부(10)는, 폭방향으로 연장되는 회전축(11a)을 중심으로 하여 회전하는 복수의 컨베이어 롤러(11)를 가지고 있다. 본 실시 형태에서는, 길이 방향으로 등간격으로 배열된 복수개의 회전축(11a)에 각각, 4개의 컨베이어 롤러(11)가 폭방향으로 등간격으로 장착되어 있다. 복수의 컨베이어 롤러(11)는, 단일한 고정된 높이 위치에 배치되어 있다.
컨베이어 롤러(11)의 회전축(11a)에는, 도 2에 있어서 개념적으로 나타낸 회전 구동 기구(12)가 접속되어 있다. 회전 구동 기구(12)는, 예를 들면, 구동원이 되는 모터와, 구동력을 전달하는 타이밍 벨트를 조합한 기구로서 실현된다. 회전 구동 기구(12)를 동작시키면, 복수의 컨베이어 롤러(11)는, 같은 방향으로 능동적으로 회전한다. 이것에 의해, 컨베이어 롤러(11) 상에 접촉 지지된 기판(9)은, 반송 방향 하류측으로 반송된다.
전환부(20)는, 제1 반송부(10)와 제2 반송부(30) 사이에 있어서, 기판(9)의 지지 방식을 전환하기 위한 부위이다. 도 1~도 5에 나타내는 바와 같이, 전환부(20)는, 복수의 승강 롤러(21), 회전 구동 기구(22), 승강 구동 기구(23), 복수의 프리 롤러(24), 입구 부상 스테이지(25), 4개의 가이드 롤러(26), 위치 결정 기구(27), 및 복수의 리프트 핀(28)을 가지고 있다.
복수의 승강 롤러(21)는, 폭방향으로 연장되는 회전축(21a)을 중심으로 하여 회전하고, 또한, 상하로 승강 이동 가능하게 설치된 롤러이다. 본 실시 형태에서는, 길이 방향으로 배열된 2개의 회전축(21a)에 각각, 4개의 승강 롤러(21)가 폭방향으로 등간격으로 장착되어 있다.
회전축(21a)에는, 도 2에 있어서 개념적으로 나타낸 회전 구동 기구(22)가 접속되어 있다. 회전 구동 기구(22)는, 예를 들면, 구동원이 되는 모터와, 구동력을 전달하는 타이밍 벨트를 조합한 기구로서 실현된다. 회전 구동 기구(22)를 동작시키면, 복수의 승강 롤러(21)는, 같은 방향으로 능동적으로 회전한다. 이것에 의해, 승강 롤러(21) 상에 접촉 지지된 기판(9)은, 반송 방향 하류측으로 반송된다.
도 4 및 도 5에 나타내는 바와 같이, 승강 롤러(21)의 회전축(21a)에는, 승강 구동 기구(23)가 접속되어 있다. 승강 구동 기구(23)는, 베어링을 통하여 회전축(21a)을 지지하는 아암(23a)과, 아암(23a)을 승강 이동시키는 에어 실린더(23b)를 가지고 있다. 에어 실린더(23b)를 동작시키면, 복수의 승강 롤러(21)는, 도 4에 나타낸 표준 위치와, 도 5에 나타낸 하강 위치 사이에서 승강 이동한다. 또한, 승강 구동 기구(23)는, 에어 실린더 이외의 구동 기구(예를 들면, 모터)를 이용한 것이어도 된다.
표준 위치에 배치된 승강 롤러(21)의 상단부(기판(9)의 하면과 접촉하는 부위)의 높이 위치는, 컨베이어 롤러(11)의 상단부의 높이 위치와 거의 일치한다. 또, 하강 위치에 배치된 승강 롤러(21)의 상단부의 높이 위치는, 프리 롤러(24)의 상단부의 높이 위치보다 아래쪽이 된다.
복수의 프리 롤러(24)는, 승강 롤러(21)가 하강했을 때에, 승강 롤러(21) 대신에, 기판(9)의 반송 방향 상류측의 일부분을 지지하기 위한 롤러이다. 복수의 프리 롤러(24)는, 롤러 마다 설치된 고유의 회전축에 대해, 회전 자유롭게 되어 있다. 프리 롤러(24) 상에 기판(9)의 일부가 지지된 상태로, 기판(9)이 하류측으로 이동하면, 복수의 프리 롤러(24)는, 기판(9)의 이동에 따라 종동적으로 회전한다.
복수의 프리 롤러(24)는, 단일한 고정된 높이 위치에 배치되어 있다. 프리 롤러(24)의 상단부의 높이 위치는, 표준 위치에 배치된 승강 롤러(24)의 상단부의 높이 위치보다 아래쪽이며, 또한, 하강 위치에 배치된 승강 롤러(21)의 상단부의 높이 위치보다 윗쪽이 되어 있다. 또, 프리 롤러(24)의 상단부의 높이 위치는, 입구 부상 스테이지(25) 상에 지지되는 기판(9)의 하면이나, 후술하는 척 기구(32)의 상단부와 거의 동등한 높이 위치가 되어 있다.
또, 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 각 프리 롤러(24)는, 평면에서 보았을 때에, 복수의 승강 롤러(21) 및 승강 롤러(21)의 회전축(21a)과 겹치지 않는 위치에 배치되어 있다. 이 때문에, 복수의 승강 롤러(21) 및 승강 롤러(21)의 회전축(21a)은, 복수 프리 롤러(24)와 접촉하는 일 없이 승강 이동할 수 있다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 복수의 프리 롤러(24)는, 복수의 하류측 프리 롤러(24a)와, 복수의 상류측 프리 롤러(24b)를 포함하고 있다. 복수의 하류측 프리 롤러(24a)는, 가장 반송 방향 하류측에 배치된 승강 롤러(21)와 입구 부상 스테이지(25) 사이에, 폭방향으로 배열되어 있다. 즉, 복수의 하류측 프리 롤러(24a)는, 입구 부상 스테이지(25)의 반송 방향 상류측의 끝 가장자리부를 따라 배열되어 있다. 한편, 복수의 상류측 프리 롤러(24b)는, 하류측 프리 롤러(24a)보다 반송 방향 상류측의 위치에 배열되어 있다.
서로 이웃하는 하류측 프리 롤러(24a)끼리의 폭방향의 간격은, 서로 이웃하는 상류측 프리 롤러(24b)끼리의 폭방향의 간격보다 좁다. 이 때문에, 하류측 프리 롤러(24a)의 사이에서의 기판(9)의 아래쪽으로의 휨은, 상류측 프리 롤러(24b)의 사이에서의 기판(9)의 아래쪽으로의 휨보다 작아진다. 이것에 의해, 입구 부상 스테이지(25)의 반송 방향 상류측의 끝 가장자리부와 기판(9)의 접촉이 억제된다. 또, 상류측 프리 롤러(24b)를 하류측 프리 롤러(24a)보다 낮은 밀도로 배치한 것에 의해, 전체적인 프리 롤러(24)의 수가 저감되어 있다.
또, 본 실시 형태에서는, 승강 롤러(21)보다 소직경의 프리 롤러(24)가 사용되어 있다. 이 때문에, 승강 롤러(21)가 승강 이동하는 공간을 확보하면서, 복수의 프리 롤러(24)를, 승강 롤러(21)와 접촉하지 않는 위치에 용이하게 배치할 수 있다. 프리 롤러(24)는, 구동 기구로부터 완전히 떨어진 것이어도 되지만, 구동 기구로부터의 동력 전달을 해제할 수 있는 것이면, 어떠한 구동 기구에 접속되어 있어도 된다. 단, 프리 롤러(24)에 구동 기구가 접속되어 있지 않은 쪽이, 승강 롤러(21)가 승강하는 공간을 보다 용이하게 확보할 수 있는 점에서 바람직하다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 복수의 컨베이어 롤러(11), 복수의 승강 롤러(21), 및 복수의 프리 롤러(24)는, 공통의 롤러 지지대(71)에 지지되어 있다. 한편, 입구 부상 스테이지(25), 후술하는 도포 스테이지(31), 및 후술하는 출구 부상 스테이지(53)는, 롤러 지지대(71)와는 별개로 설치된 스테이지 지지대(72)에 지지되어 있다.
즉, 본 실시 형태에서는, 기판(9)을 롤러에 의해 접촉 지지하는 부위와, 기판(9)을 스테이지 상에 부상 지지하는 부위가, 상이한 지지대에 지지되어, 서로 비연결로 되어 있다. 이것에 의해, 컨베이어 롤러(11), 승강 롤러(21), 및 프리 롤러(24)로부터의 기계적 진동이, 입구 부상 스테이지(25), 도포 스테이지(31), 및 출구 부상 스테이지(51)로 전파되는 것이 억제되고 있다.
입구 부상 스테이지(25)는, 복수의 프리 롤러(24)의 반송 방향 하류측에 배치되어 있다. 입구 부상 스테이지(25)는, 승강 롤러(21), 프리 롤러(24), 또는 후술하는 도포 스테이지(31)와 함께, 기판(9)을 지지한다. 입구 부상 스테이지(25)의 상면에는, 압축 공기를 토출하기 위한 복수의 토출 구멍(25a)이 설치되어 있다.
기판(9)의 반송시에는, 도시하지 않은 공급원으로부터 공급되는 압축 공기가, 복수의 토출 구멍(25a)으로부터 윗쪽을 향하여 토출된다. 기판(9)은, 복수의 토출 구멍(25a)으로부터 토출되는 압축 공기에 의해, 입구 부상 스테이지(25)의 상면으로부터 부상한 상태로 지지된다. 즉, 입구 부상 스테이지(25)는, 기판(9) 하면에 대해 비접촉으로 기판(9)을 지지한다.
4개의 가이드 롤러(26)는, 전환부(20)에 있어서, 기판(9)을 반송 방향으로 안내하기 위한 기구이다. 4개의 가이드 롤러(26)는, 기판(9)의 반송 경로의 양측부에 배치되어 있다. 각 가이드 롤러(26)는, 상하로 연장되는 회전축을 중심으로 하여 회전 가능하게 되어 있다. 기판(9)이 반송 경로로부터 벗어나기 시작하면, 가이드 롤러(26)는, 기판(9)의 끝 가장자리부에 접촉하면서 회전한다. 이것에 의해, 기판(9)의 방향이 보정되고, 기판(9)은, 올바르게 반송 방향으로 반송된다.
4개의 가이드 롤러(26)는, 도시하지 않은 구동 기구에 의해, 승강 이동 가능하게 되어 있다. 전환부(20)에 있어서 기판(9)이 반송될 때에는, 4개의 가이드 롤러(26)는, 기판(9)의 반송 경로의 양측부로 상승한 상태가 되어 있다. 한편, 후술하는 척 기구(32)가, 기판(9)의 아래쪽으로 진입할 때에는, 4개의 가이드 롤러(26)는, 척 기구(32)와 접촉하지 않는 높이 위치로 하강한 상태가 되어 있다.
위치 결정 기구(27)는, 전환부(20)에 있어서, 기판(9)을 위치 결정하기 위한 기구이다. 위치 결정 기구(27)는, 상하로 연장되는 복수의 위치 결정 핀(27a)을 가진다. 복수의 위치 결정핀(27a)은, 전환부(20)에 배치된 기판(9)을 둘러싸는 위치에 배치되어 있다. 각 위치 결정 핀(27a)은, 도시하지 않은 구동 기구에 의해, 기판(9)의 끝 가장자리부에 맞닿는 위치와, 기판(9)의 끝 가장자리부로부터 이간한 위치 사이에서 이동 가능하게 되어 있다.
표준 위치의 승강 롤러(21)와 입구 부상 스테이지(25)에 걸쳐 기판(9)이 배치되면, 복수의 위치 결정 핀(27a)은, 기판(9)의 끝 가장자리부에 맞닿는다. 이것에 의해, 기판(9)의 수평 방향의 위치 및 자세가 정해진다. 한편, 기판(9)이 반송될 때나, 척 기구(32)가 기판(9)의 아래쪽으로 진입할 때에는, 복수의 위치 결정 핀(27a)은, 기판(9)이나 척 기구(32)와 접촉하지 않는 위치로 퇴피한다.
복수의 리프트 핀(28)은, 전환부(20)에 있어서 기판(9)의 지지 방식을 전환할 때에, 기판(9)의 폭방향의 양단부를, 일시적으로 들어 올리기 위한 기구이다. 복수의 리프트 핀(28)은, 기판(9)이 위치 결정 기구(27)에 의해 위치 결정된 상태에서, 기판(9)의 폭방향의 양단부로부터 약간 폭방향 내측으로 치우친 위치에 배치되어 있다. 또, 복수의 리프트 핀(28)은, 도시하지 않은 구동 기구에 의해, 일체적으로 승강 이동 가능하게 되어 있다. 복수의 리프트 핀(28)을 상승시키면, 기판(9)의 하면에 리프트 핀(28)이 맞닿아, 기판(9)의 폭방향의 양단부가 리프트 핀(28)에 의해 들어 올려진다.
본 실시 형태에서는, 복수의 리프트 핀(28)은, 입구 부상 스테이지(25)의 폭방향의 양단부보다 폭방향 내측에 배치되어 있다. 이 때문에, 후술하는 척 기구(32)는, 복수의 리프트 핀(28)과 접촉하는 일 없이, 입구 부상 스테이지(25)의 폭방향 외측의 위치로 진입할 수 있다. 또, 기판(9) 중, 적어도 척 기구(32)에 흡착되는 부분이, 입구 부상 스테이지(25)의 폭방향 외측으로 돌출되어 있으면 된다. 이 때문에, 입구 부상 스테이지(25)로부터의 기판(9)의 돌출량을 억제할 수 있다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 전환부(20)의 반송 방향의 길이 L1은, 1장의 기판(9)을 배치할 수 있을 정도의 길이(즉, 기판(9)의 반송 방향의 길이보다 약간 긴 정도)로 설정되어 있다. 전환부(20) 중, 승강 롤러(21) 및 프리 롤러(24)가 배치된 영역의 반송 방향의 길이 L2와, 입구 부상 스테이지(25)의 반송 방향의 길이 L3은, 모두, 기판(9)의 반송 방향의 길이보다 짧게 설정되어 있다. 이것에 의해, 전환부(20)의 반송 방향의 길이가 억제되어 있다.
입구 부상 스테이지(25)와 같이 기판(9)을 부상 지지하는 스테이지는, 토출 구멍(25a)의 형성 등에 고도의 가공 기술을 필요로 하며, 제조 코스트도 높다. 본 실시 형태에서는, 그러한 입구 부상 스테이지(25)의 반송 방향의 길이가 억제되어 있다. 이것에 의해, 기판 처리 장치(1)의 제조가 용이해지고, 제조 코스트도 억제된다. 또, 입구 부상 스테이지(25)로 공급하는 압축 공기의 양도 억제된다.
제2 반송부(30)는, 기판(9)의 상면에 레지스트액을 도포할 때에, 기판(9)을 반송 방향 하류측으로 반송하는 부위이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 제2 반송부(30)는, 도포 스테이지(31)와, 한 쌍의 척 기구(32)를 가지고 있다.
도포 스테이지(31)는, 입구 부상 스테이지(25)의 반송 방향 하류측에 배치되어 있다. 도포 스테이지(31)의 상면에는, 압축 공기를 토출하기 위한 복수의 토출구멍과, 도포 스테이지(31) 상의 공기를 흡인하기 위한 복수의 흡인 구멍이 설치되어 있다. 도포 스테이지(31) 상에서 기판(9)을 반송할 때에는, 복수의 토출 구멍으로부터의 공기의 토출에 의한 윗쪽으로의 압력과, 복수의 흡인 구멍으로의 흡기에 의한 아래쪽으로의 압력이 기판(9)에 작용한다. 이것에 의해, 기판(9)은, 도포 스테이지(31)의 상면으로부터 조금 부상한 상태로 안정적으로 지지된다.
척 기구(32)는, 도포 스테이지(31)의 폭방향 외측에 좌우 한 쌍으로 배치되어 있다. 각 척 기구(32)에는, 기판(9)의 폭방향의 단부의 하면에 흡착되는 흡착부(32a)가, 반송 방향으로 한 쌍으로 설치되어 있다. 또, 각 척 기구(32)는, 스테이지 지지대(72)의 상면에 형성된 가이드 레일(32b)을 따라, 리니어 모터 등의 구동 기구에 의해, 반송 방향으로 이동 가능하게 되어 있다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 가이드 레일(32b)은, 프리 롤러(24)의 폭방향 외측의 위치로부터, 후술하는 출구 부상 스테이지(51)의 폭방향 외측의 위치까지, 반송 방향으로 연장되어 있다. 한 쌍의 척 기구(32)는, 기판(9)을 흡착 유지하면서, 전환부(20)로부터 반출부(50)까지, 기판(9)을 반송할 수 있다.
레지스트 도포 기구(40)는, 도포 스테이지(31)에 지지되면서 반송되는 기판(9)의 상면에, 레지스트액을 도포하기 위한 기구이다. 도 1에서는, 도포 스테이지(31)나 척 기구(32)를 명시하기 위해, 레지스트 도포 기구(40)가 파선으로 나타나 있다. 레지스트 도포 기구(40)는, 도포 스테이지(31)의 윗쪽에 폭방향으로 걸쳐진 가교부(41)와, 가교부(41)에 장착된 슬릿 노즐(42)을 가지고 있다. 슬릿 노즐(42)은, 도시하지 않은 레지스트액 공급원으로부터 공급되는 레지스트액을, 폭방향으로 연장되는 슬릿 형상의 토출구를 통하여, 기판(9)의 상면에 토출한다.
반출부(50)는, 레지스트액이 도포된 기판(9)을, 기판 처리 장치(1)로부터 반출하기 위한 부위이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 반출부(50)는, 출구 부상 스테이지(51)와, 복수의 반출용 핀(52)을 가지고 있다.
출구 부상 스테이지(51)는, 도포 스테이지(31)의 반송 방향 하류측에 배치되어 있다. 출구 부상 스테이지(51)의 상면에는, 압축 공기를 토출하기 위한 복수의 토출 구멍이 설치되어 있다. 출구 부상 스테이지(51) 상에서 기판(9)을 지지할 때에는, 도시하지 않은 공급원으로부터 공급되는 압축 공기가, 복수의 토출 구멍으로부터 윗쪽을 향하여 토출된다. 기판(9)은, 복수의 토출 구멍으로부터 토출되는 압축 공기에 의해, 출구 부상 스테이지(51)의 상면으로부터 부상한 상태로 지지된다. 즉, 출구 부상 스테이지(51)는, 기판(9)의 하면에 대해 비접촉으로 기판(9)을 지지한다.
복수의 반출용 핀(52)은, 출구 부상 스테이지(51)면 내에 있어서, 반송 방향 및 폭방향으로, 등간격으로 배열되어 있다. 복수의 반출용 핀(52)은, 그들의 상단부에서 기판(9)을 접촉 지지한다. 또, 복수의 반출용 핀(52)은, 도시하지 않은 구동 기구에 의해, 일체적으로 승강 이동 가능하게 되어 있다. 이 때문에, 복수의 반출용 핀(52)은 기판(9)을 지지하면서, 기판(9)을 상하로 이동시킬 수 있다.
도포 스테이지(31)로부터 출구 부상 스테이지(51)로 기판(9)이 반송될 때에는, 복수의 반출용 핀(52)은, 기판(9)과의 접촉을 피하기 위해, 출구 부상 스테이지(51)의 상면보다 아래쪽으로, 퇴피한 상태가 되어 있다. 또, 출구 부상 스테이지(51)로부터 기판(9)을 반출할 때에는, 복수의 반출용 핀(52)이, 출구 부상 스테이지(51)의 상면보다 윗쪽으로 돌출된다. 이것에 의해, 출구 부상 스테이지(51)의 윗쪽으로 기판(9)이 들어 올려진다. 복수의 반출용 핀(52) 상에 지지된 기판(9)은, 출구 부상 스테이지(51)의 반송 방향 하류측에 배치된 이재 로봇(3)에 의해, 후 공정의 장치(4)로 반송된다.
제어부(60)는, CPU나 메모리를 가지는 컴퓨터에 의해, 구성되어 있다. 도 6은, 제어부(60)와, 기판 처리 장치(1)의 각 부의 전기적 접속 구성을 나타낸 블럭도이다. 도 6에 나타내는 바와 같이, 제어부(60)는, 회전 구동 기구(12, 22) 및 에어 실린더(23b)와 접속되어 있다. 또, 제어부(60)는, 도 1~도 5에 있어서 도시를 생략한 상이한 구동 기구, 압축 공기의 공급 기구, 배기 기구, 센서 등과도 접속되어 있다. 제어부(60)는, 미리 설정된 프로그램이나 데이터에 따라, 이들 각 부의 동작을 전기적으로 제어한다. 이것에 의해, 기판 처리 장치에서의 기판(9)의 처리가 진행된다.
<1-2. 기판 처리 장치의 동작>
이어서, 기판 처리 장치(1)의 동작에 대해서 설명한다. 도 7은, 기판 처리 장치(1)의 동작의 흐름을 나타낸 플로차트이다.
기판 처리 장치(1)에 있어서 기판(9)을 처리할 때에는, 우선, 전 공정의 장치(2)로부터 반출된 기판(9)을, 제1 반송부(10)에 의해 반송한다(단계 S1). 기판(9)은, 컨베이어 롤러(11) 상에 접촉 지지되어, 컨베이어 롤러(11)의 회전에 의해, 반송 방향 하류측으로 반송된다. 이 때, 승강 롤러(21)는, 표준 위치에 배치되어, 컨베이어 롤러(11)와 같은 방향으로 회전하고 있다. 이 때문에, 기판(9)은, 컨베이어 롤러(11)와 승강 롤러(21)로, 연속적으로 전환부(20)까지 반송된다.
또, 이 때, 4개의 가이드 롤러(26)는, 기판(9)의 반송 경로의 양측부로 상승한 상태가 되어 있다. 이들 가이드 롤러(26)에 안내되어, 기판(9)은, 올바르게 반송 방향 하류측으로 반송된다.
기판(9)이 전환부(20)에 도달하면, 승강 롤러(21)는, 회전을 정지한다. 이것에 의해, 기판(9)은, 승강 롤러(21)와 입구 부상 스테이지(25)에 걸쳐진 상태로 정지한다(단계 S2).
도 8은, 승강 롤러(21)와 입구 부상 스테이지(25)에 걸쳐 기판(9)이 배치되었을 때의, 전환부(20) 부근의 측면도이다. 기판(9)의 반송 방향 상류측의 일부분은, 표준 위치의 승강 롤러(21) 상에 접촉 지지되어 있다. 한편, 기판(9)의 반송 방향 하류측의 일부분은, 입구 부상 스테이지(25) 상에 부상 지지되어 있다. 기판(9) 중, 입구 부상 스테이지(25) 상에 지지된 부분의 높이 위치는, 승강 롤러(21) 상에 지지된 부분의 높이 위치보다 낮아져 있다.
다음에, 복수의 위치 결정 핀(27a)이, 기판(9)의 반송 방향 상류측, 반송 방향 하류측, 및 폭방향 양측의, 각 끝 가장자리부에 맞닿는다. 이것에 의해, 기판(9)의 수평 방향의 위치 및 자세가 정해진다(단계 S3).
기판(9)의 위치 결정이 완료되면, 4개의 가이드 롤러(26)는 하강하고, 소정의 퇴피 위치로 퇴피한다. 또, 복수의 위치 결정 핀(27a) 중, 기판(9)의 폭방향의 양쪽 끝 가장자리부에 맞닿아 있던 위치 결정 핀(27a)도, 기판(9)으로부터 이간하여, 소정의 퇴피 위치로 퇴피한다. 위치 결정 핀(27a)의 퇴피 후에도, 기판(9)의 반송 방향 상류측의 일부분은, 승강 롤러(21)에 접촉 지지되어 있다. 이 때문에, 기판(9)과 승강 롤러(21)의 정지 마찰에 의해, 기판(9)의 폭방향의 위치 어긋남은 방지된다.
이어서, 복수의 리프트 핀(28)을 상승시킨다(단계 S4). 리프트 핀(28)은, 기판(9)의 하면에 맞닿아, 기판(9)의 폭방향의 양단부를 들어 올린다. 도 9는, 복수의 리프트 핀(28)을 상승시켰을 때의, 전환부(20) 부근의 측면도이다. 도 9와 같이, 복수의 리프트 핀(28)의 상단부는, 표준 위치의 승강 롤러(21)의 상단부보다 윗쪽의 위치까지 상승한다.
또한, 본 실시 형태의 기판(9)은, 대형이며 가요성을 가진다. 이 때문에, 단계 S4에서는, 기판(9) 중, 폭방향의 양단부 부근만이 들어 올려진다. 기판(9)의 폭방향의 중앙 부분은, 승강 롤러(21) 및 입구 부상 스테이지(25)에 지지된 상태를 유지하고 있다. 따라서, 기판(9)과 승강 롤러(21)의 정지 마찰에 의해, 기판(9)의 폭방향의 위치 어긋남은 방지되고 있다.
또, 본 실시 형태에서는, 기판(9)의 폭방향의 양끝 가장자리부에 맞닿아 있던 위치 결정 핀(27a)을 퇴피시킨 후에, 복수의 리프트 핀(28)을 상승시키고 있다. 이 때문에, 리프트 핀(28)을 상승시킬 때에, 기판(9)의 폭방향의 끝 가장자리부와 위치 결정 핀(27a)이, 슬라이딩 접촉하는 일은 없다. 이것에 의해, 기판(9)과 위치 결정 핀(27a)의 슬라이딩 접촉에 의한 파티클의 발생이 방지되고 있다.
그 후, 승강 롤러(21)를, 표준 위치로부터 하강 위치로 하강시킨다(단계 S5). 도 10은, 승강 롤러(21)를 하강시켰을 때의, 전환부(20) 부근의 측면도이다. 승강 롤러(21)의 상단부의 높이 위치는, 프리 롤러(24)의 상단부의 높이 위치보다 아래쪽이 된다. 이 때, 기판(9)의 폭방향의 양단부 부근은, 리프트 핀(28)에 지지된 상태로 있지만, 폭방향의 중앙 부근에서는, 복수의 승강 롤러(21) 대신에, 복수의 프리 롤러(24)가 기판(9)의 일부분을 지지한다.
이어서, 도 11과 같이, 척 기구(32)를, 반송 방향 상류측으로 이동시킨다. 이것에 의해, 기판(9)의 폭방향의 양단부의 하측에 척 기구(32)를 배치한다. 그리고, 흡착부(32a)의 흡인 동작을 개시한 후, 도 12와 같이, 복수의 리프트 핀(28)을 하강시킨다. 이것에 의해, 기판(9)의 폭방향의 양단부를, 척 기구(32)의 흡착부(32a)에 흡착시킨다(단계 S6). 기판(9)은, 반송 방향 상류측의 일부분이 프리 롤러(24) 상에 접촉 지지됨과 함께, 반송 방향 하류측의 일부분이 입구 부상 스테이지(25) 상에 부상 지지되고, 또한, 폭방향의 양단부가 척 기구(32)에 흡착 유지된 상태가 된다.
전환부(20)에 있어서의 단계 S3~S6의 동작 기간에, 기판(9)의 반송 방향 상류측 및 반송 방향 하류측의 끝 가장자리부에는, 위치 결정 핀(27a)이 맞닿아 있다. 이 때문에, 기판(9)의 반송 방향의 위치 어긋남은 방지되고 있다. 또, 단계 S3~S6의 기간에, 기판(9)은, 승강 롤러(21) 또는 프리 롤러(24)에 의해, 계속적으로 접촉 지지되어 있다. 이 때문에, 승강 롤러(21) 또는 프리 롤러(24)와 기판(9)의 정지 마찰에 의해, 기판(9)의 폭방향으로의 위치 어긋남이 방지되고 있다.
또, 본 실시 형태에서는, 복수의 리프트 핀(28)으로, 기판(9)의 폭방향의 양단부 부근을 일단 들어 올리고, 당해 리프트 핀(28)을 하강시킴으로써, 기판(9)의 하면을 척 기구(32)에 접근시키고 있다. 이 때문에, 척 기구(32)의 흡착부(32a)를 상하로 이동시킬 필요는 없다. 따라서, 척 기구(32)의 구조를 간소화할 수 있다.
기판(9)이 한 쌍의 척 기구(32)에 유지되면, 기판(9)의 반송 방향 상류측 및 반송 방향 하류측의 끝 가장자리부에 맞닿아 있던 위치 결정 핀(27a)은, 소정의 퇴피 위치로 퇴피한다. 그리고, 척 기구(32)가 가이드 레일(32b)을 따라 반송 방향 하류측으로 이동함으로써, 기판(9)은, 반송 방향 하류측으로 반송된다.
기판(9)은, 입구 부상 스테이지(25)로부터, 도포 스테이지(31)를 거쳐, 출구 부상 스테이지(51)까지, 각 스테이지 상에 부상 지지되면서 반송된다. 슬릿 노즐(42)은, 도포 스테이지(31) 상에서 반송되는 기판(9)의 상면을 향하여, 레지스트액을 토출한다. 이것에 의해, 기판(9)의 상면에, 레지스트액이 도포된다(단계 S7).
또한, 본 실시 형태에서는, 기판(9)의 반송 방향 하류측의 단부가 슬릿 노즐(42)의 아래쪽 위치에 다다르기 전에, 기판(9)의 반송 방향 상류측의 단부가, 입구 부상 스테이지(25) 상에 지지된다. 즉, 기판(9)의 상면에 레지스트액을 도포하는 시점에서는, 기판(9)의 전체가 입구 부상 스테이지(25) 및 도포 스테이지(31) 상에 부상 지지되어 있다. 이 때문에, 프리 롤러(24)의 기계적 진동이, 레지스트액의 도포 중의 기판(9)에 전파되는 것이 억제된다. 이것에 의해, 기판(9)의 상면에서의 레지스트액의 도포 불량이 억제된다.
레지스트액이 도포된 기판(9)은, 출구 부상 스테이지(51) 상까지 반송되어 정지한다. 그 후, 출구 부상 스테이지(51)의 상면으로부터 복수의 반출용 핀(52)이 돌출된다. 이것에, 출구 부상 스테이지(51)의 윗쪽으로 기판(9)이 들어 올려진다. 그 후, 복수의 반출용 핀(52)에 지지된 기판(9)을, 이재 로봇(3)이 수취하고, 이재 로봇(3)으로부터 후 공정의 장치(4)로 기판(9)이 옮겨 놓아진다.
이상과 같이, 본 실시 형태의 기판 처리 장치(1)에서는, 전환부(20)에 있어서, 기판(9)의 반송 방향 상류측의 일부분이, 복수의 승강 롤러(21)로부터 복수의 프리 롤러(24)로 옮겨 놓아진다. 이 때문에, 입구 부상 스테이지(25)의 반송 방향의 길이를 억제하면서, 기판(9)의 지지 방식을 전환할 수 있다. 또, 프리 롤러(24)는, 간이한 구조로 확실히 기판(9)을 지지할 수 있음과 함께, 협소한 영역에 배치할 수 있다. 따라서, 복수의 프리 롤러(24)를 복수의 승강 롤러(21)와 접촉하지 않는 위치에 용이하게 배치할 수 있다.
<1-3. 변형예>
이상, 본 발명의 제1 실시 형태에 대해서 설명했지만, 본 발명은, 상기의 실시 형태에 한정된 것은 아니다.
상기의 실시 형태에서는, 척 기구(32)의 흡착부(32a)는 일정한 높이 위치에 고정되어 있었지만, 흡착부(32a)를 상하로 승강 이동할 수 있도록 해도 된다. 흡착부(32a)를 승강 이동 가능하게 하면, 기판(9)의 하면으로 흡착부(32a)를 접근시킬 수 있다. 따라서, 리프트 핀(28)에 의한 기판(9)의 지지를 생략할 수 있다.
또, 상기의 실시 형태에서는, 척 기구(32)는, 기판(9)의 하면측에 배치되어 있었지만, 척 기구는, 기판(9)의 상면측에 배치되어 있어도 된다. 또, 척 기구(32)는, 기판(9)을 상하로부터 사이에 끼우고 유지하는 것이어도 된다. 또, 상기의 실시 형태의 척 기구(32)는, 반송 방향으로 2개의 흡착부(32a)를 가지고 있었지만, 흡착부(32a)의 수는, 1개여도 되고, 3개 이상이어도 된다.
또, 상기의 실시 형태에서는, 컨베이어 롤러(11), 승강 롤러(21), 및 프리 롤러(24)의 일예를 나타냈지만, 이들 롤러의 크기, 수, 및 배열은, 처리 대상이 되는 기판의 종류나 주위의 구조와의 관계에서, 적절히 변경되어도 된다.
또, 상기의 실시 형태의 제1 반송부(10)는, 복수의 컨베이어 롤러(11)로 기판(9)을 반송하는 것이었지만, 본 발명의 제1 반송부는, 다른 기구로 기판(9)을 반송하는 것이어도 된다. 예를 들면, 복수의 프리 롤러 상에 기판(9)을 지지하면서, 기판(9)의 폭방향의 양단부를 유지하여, 반송 방향 하류측으로 반송하는 것이어도 된다. 또, 어떠한 이동 부재 상에 기판(9)을 올려 놓고, 당해 이동 부재와 함께, 기판(9)을 반송 방향 하류측으로 반송하는 것이어도 된다.
또, 본 발명의 「전환부」는, 공간적 또는 시간적 의미에 있어서, 제1 반송부와 제2 반송부 사이에서, 기판의 지지 방식을 전환하는 것이면 된다. 예를 들면, 제1 반송부에 의한 반송과, 제2 반송부에 의한 반송 사이의 시간에서, 기판의 지지 방식을 전환하는 것이면, 제1 반송부, 전환부, 및 제2 반송부가, 공간적 배치로서 서로 중복하는 부분을 가지고 있어도 된다. 또, 전환부가, 제1 반송부 또는 제2 반송부로부터 공간적으로 이간되어 있어도 된다.
또, 상기의 기판 처리 장치(1)는, 기판(9)의 상면에 레지스트액을 도포하는 장치였지만, 본 발명의 기판 처리 장치는, 레지스트액 이외의 처리액을 기판에 도포하는 장치여도 된다. 또, 본 발명의 기판 처리 장치는, 도포 처리 이외의 처리(예를 들면, 열처리나 노광 처리)를 행하는 장치여도 된다.
또, 상기의 기판 처리 장치(1)는, 액정 표시 장치용의 유리 기판(9)을 처리 대상으로 하고 있었지만, 본 발명의 기판 처리 장치는, 반도체 웨이퍼, 필름 액정용 플렉서블 기판, 포토마스크용 기판, 칼라 필터용 기판, 태양 전지용 기판, 전자 페이퍼용 기판 등의 다른 기판을 처리 대상으로 하는 것이어도 된다.
<2. 제2 실시 형태>
<2-1. 기판 처리 장치의 구성>
도 13은, 본 발명의 제2 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치(101)의 상면도이다. 이 기판 처리 장치(101)는, 액정 표시 장치용의 직사각형의 유리 기판(109)(이하, 간단히 「기판 109」라고 한다)을 에칭하는 포토리소그래피 공정에 있어서, 기판(109)의 상면에 레지스트액(포토레지스트)을 도포하기 위한 장치이다. 기판 처리 장치(101)는, 기판(109)을 수평 자세로 지지하면서 반송하는 기구를 가진다. 이하에서는, 기판(109)이 반송되는 방향을 「반송 방향」으로 칭하고, 반송 방향에 직교하는 수평 방향을 「폭방향」으로 칭한다. 본 원의 각 도에는, 반송 방향 및 폭방향이 화살표로 나타나 있다.
도 13에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치(101)는, 제1 반송부(110), 이재부(120), 제2 반송부(130), 레지스트 도포 기구(140), 반출부(150), 및 제어부(160)를 구비하고 있다. 도 14는, 제1 반송부(110) 및 이재부(120) 부근의 상면도이다. 도 15는, 제1 반송부(110) 및 이재부(120) 부근의 측면도이다. 이하에서는, 도 13과 함께, 도 14 및 도 15도 참조한다.
제1 반송부(110)는, 반송 방향 상류측의 장치(102)로부터 반출된 기판(109)을, 반송 경로를 따라, 이재부(120)까지 반송하는 부위이다. 제1 반송부(110)는, 폭방향으로 연장되는 회전축(111a)을 중심으로 하여 회전하는 복수의 컨베이어 롤러(111)를 가지고 있다. 본 실시 형태에서는, 길이 방향으로 등간격으로 배열된 복수개의 회전축(111a)에 각각, 4개의 컨베이어 롤러(111)가 폭방향으로 등간격으로 장착되어 있다. 복수의 컨베이어 롤러(111)는, 단일한 고정된 높이 위치에 배치되어 있다.
컨베이어 롤러(111)의 회전축(111a)에는, 도 14에 있어서 개념적으로 나타낸 회전 구동 기구(112)가 접속되어 있다. 회전 구동 기구(112)는, 예를 들면, 구동원이 되는 모터와, 구동력을 전달하는 타이밍 벨트를 조합한 기구로서 실현된다. 회전 구동 기구(112)를 동작시키면, 복수의 컨베이어 롤러(111)는, 같은 방향으로 능동적으로 회전한다. 이것에 의해, 컨베이어 롤러(111) 상에 접촉 지지된 기판(109)은, 반송 방향 하류측으로 반송된다.
이재부(120)는, 제1 반송부(110)로부터 제2 반송부(130)로 기판(109)을 옮겨 놓기 위한 부위이다. 도 13~도 15에 나타내는 바와 같이, 이재부(120)는, 복수의 승강 롤러(121), 복수의 프리 롤러(124), 입구 부상 스테이지(125), 4개의 가이드 롤러(126), 위치 결정 기구(127), 및 밀어 올림 기구(128)를 가지고 있다.
복수의 승강 롤러(121)는, 폭방향으로 연장되는 회전축(121a)을 중심으로 하여 회전하고, 또한, 상하로 승강 이동 가능하게 설치된 롤러이다. 본 실시 형태에서는, 길이 방향으로 배열된 2개의 회전축(121a)에 각각, 4개의 승강 롤러(121)가 폭방향으로 등간격으로 장착되어 있다.
회전축(121a)에는, 도 14에 있어서 개념적으로 나타낸 회전 구동 기구(122)가 접속되어 있다. 회전 구동 기구(122)는, 예를 들면, 구동원이 되는 모터와, 구동력을 전달하는 타이밍 벨트를 조합한 기구로서 실현된다. 회전 구동 기구(122)를 동작시키면, 복수의 승강 롤러(121)는, 같은 방향으로 능동적으로 회전한다. 이것에 의해, 승강 롤러(121) 상에 접촉 지지된 기판(109)은, 반송 방향 하류측으로 반송된다.
도 21, 도 23, 도 25, 도 27, 및 도 29는, 이재부(120) 부근의 구조를 도 13 중의 B-B 위치에서 본 도이다. 이들 도에 나타내는 바와 같이, 승강 롤러(121)의 회전축(121a)에는, 승강 구동 기구(123)가 접속되어 있다. 승강 구동 기구(123)는, 베어링을 통하여 회전축(121a)을 지지하는 아암(123a)과, 아암(123a)을 승강 이동시키는 에어 실린더(123b)를 가지고 있다. 에어 실린더(123b)를 동작시키면, 복수의 승강 롤러(121)는, 도 21 및 도 23에 나타내는 표준 위치와, 도 25, 도 27, 및 도 29에 나타내는 하강 위치 사이에서 승강 이동한다. 또한, 승강 구동 기구(123)는, 에어 실린더 이외의 구동 기구(예를 들면, 모터)를 이용한 것이어도 된다.
표준 위치에 배치된 승강 롤러(121)의 상단부(기판(109)의 하면과 접촉하는 부위)의 높이 위치는, 컨베이어 롤러(111)의 상단부의 높이 위치와 거의 일치한다. 또, 하강 위치에 배치된 승강 롤러(121)의 상단부의 높이 위치는, 프리 롤러(124)의 상단부의 높이 위치보다 아래쪽이 된다.
복수의 프리 롤러(124)는, 승강 롤러(121)가 하강했을 때에, 승강 롤러(121) 대신에, 기판(109)의 반송 방향 상류측의 일부분을 지지하기 위한 롤러이다. 복수의 프리 롤러(124)는, 롤러 마다 설치된 고유의 회전축에 대해, 회전 자유롭게 되어 있다. 프리 롤러(124) 상에 기판(109)의 일부가 지지된 상태로, 기판(109)이 하류측으로 이동하면, 복수의 프리 롤러(124)는, 기판(109)의 이동에 따라 종동적으로 회전한다.
복수의 프리 롤러(124)는, 단일한 고정된 높이 위치에 배치되어 있다. 프리 롤러(124)의 상단부의 높이 위치는, 표준 위치에 배치된 승강 롤러(121)의 상단부의 높이 위치보다 아래쪽이며, 또한, 하강 위치에 배치된 승강 롤러(121)의 상단부의 높이 위치보다 윗쪽이 되어 있다. 또, 프리 롤러(124)의 상단부의 높이 위치는, 입구 부상 스테이지(125) 상에 지지되는 기판(109)의 하면이나, 후술하는 척 기구(132)의 상단부와 거의 동등한 높이 위치가 되어 있다.
또, 도 13 및 도 14에 나타내는 바와 같이, 각 프리 롤러(124)는, 평면에서 보았을 때에 복수의 승강 롤러(121) 및 승강 롤러(121)의 회전축(121a)과 겹치지 않는 위치에 배치되어 있다. 이 때문에, 복수의 승강 롤러(121) 및 승강 롤러(121)의 회전축(121a)은, 복수의 프리 롤러(124)와 접촉하는 일 없이 승강 이동할 수 있다.
도 14에 나타내는 바와 같이, 복수의 프리 롤러(124)는, 복수의 하류측 프리 롤러(124a)와, 복수의 상류측 프리 롤러(124b)를 포함하고 있다. 복수의 하류측 프리 롤러(124a)는, 가장 반송 방향 하류측에 배치된 승강 롤러(121)와 입구 부상 스테이지(125) 사이에, 폭방향으로 배열되어 있다. 즉, 복수의 하류측 프리 롤러(124a)는, 입구 부상 스테이지(125)의 반송 방향 상류측의 끝 가장자리부를 따라 배열되어 있다. 한편, 복수의 상류측 프리 롤러(124b)는, 하류측 프리 롤러(124a)보다 반송 방향 상류측의 위치에 배열되어 있다.
서로 이웃하는 하류측 프리 롤러(124a) 끼리의 폭방향의 간격은, 서로 이웃하는 상류측 프리 롤러(124b)끼리의 폭방향의 간격보다 좁다. 이 때문에, 하류측 프리 롤러(124a)의 사이에서의 기판(109)의 아래쪽으로의 휨은, 상류측 프리 롤러(124b)의 사이에서의 기판(109)의 아래쪽으로의 휨보다 작아진다. 이것에 의해, 입구 부상 스테이지(125)의 반송 방향 상류측의 끝 가장자리부와 기판(109)의 접촉이 억제된다. 또, 상류측 프리 롤러(124b)를 하류측 프리 롤러(124a)보다 낮은 밀도로 배치한 것에 의해, 전체적으로 프리 롤러(124)의 수가 저감되어 있다.
또, 본 실시 형태에서는, 승강 롤러(121)보다 소직경의 프리 롤러(124)가 사용되어 있다. 이 때문에, 승강 롤러(121)가 승강 이동하는 공간을 확보하면서, 복수의 프리 롤러(124)를, 승강 롤러(121)와 접촉하지 않는 위치에 용이하게 배치할 수 있다. 프리 롤러(124)는, 구동 기구로부터 완전히 떨어진 것이어도 되지만, 구동 기구로부터의 동력 전달을 해제할 수 있는 것이면, 어떠한 구동 기구에 접속되어 있어도 된다. 단, 프리 롤러(124)에 구동 기구가 접속되어 있지 않은 쪽이, 승강 롤러(121)가 승강하는 공간을 보다 용이하게 확보할 수 있는 점에서 바람직하다.
도 15에 나타내는 바와 같이, 복수의 컨베이어 롤러(111), 복수의 승강 롤러(121), 및 복수의 프리 롤러(124)는, 공통의 롤러 지지대(171)에 지지되어 있다. 한편, 입구 부상 스테이지(125), 후술하는 도포 스테이지(131), 및 후술하는 출구 부상 스테이지(151)는, 롤러 지지대(171)와는 별개로 설치된 스테이지 지지대(172)에 지지되어 있다.
즉, 본 실시 형태에서는, 기판(109)을 롤러에 의해 접촉 지지하는 부위와, 기판(109)을 스테이지 상에 부상 지지하는 부위가, 상이한 지지대에 지지되어, 서로 비연결로 되어 있다. 이것에 의해, 컨베이어 롤러(111), 승강 롤러(121), 및 프리 롤러(124)로부터의 기계적 진동이, 입구 부상 스테이지(125), 도포 스테이지(131), 및 출구 부상 스테이지(151)로 전파되는 것이 억제되고 있다.
입구 부상 스테이지(125)는, 복수의 프리 롤러(124)의 반송 방향 하류측에 배치되어 있다. 입구 부상 스테이지(125)는, 승강 롤러(121), 프리 롤러(124), 또는 후술하는 도포 스테이지(131)와 함께, 기판(109)을 지지한다. 입구 부상 스테이지(125)의 상면에는, 압축 공기를 토출하기 위한 복수의 토출 구멍(125a)이 설치되어 있다.
기판(109)의 반송시에는, 도시하지 않은 공급원으로부터 공급되는 압축 공기가, 복수의 토출 구멍(125a)으로부터 윗쪽을 향하여 토출된다. 기판(109)은, 복수의 토출 구멍(125a)으로부터 토출되는 압축 공기에 의해, 입구 부상 스테이지(125)의 상면으로부터 부상한 상태로 지지된다. 즉, 입구 부상 스테이지(125)는, 기판(109)의 하면에 대해 비접촉으로 기판(109)을 지지한다.
4개의 가이드 롤러(126)는, 이재부(120)에 있어서, 기판(109)을 반송 방향으로 안내하기 위한 기구이다. 4개의 가이드 롤러(126)는, 기판(109)의 반송 경로의 양측부에 배치되어 있다. 각 가이드 롤러(126)는, 상하로 연장되는 회전축을 중심으로 하여, 회전 가능하게 되어 있다. 기판(109)이 반송 경로로부터 벗어나기 시작하면, 가이드 롤러(126)는, 기판(109)의 끝 가장자리부에 접촉하면서 회전한다. 이것에 의해, 기판(109)의 방향이 보정되어, 기판(109)은 올바르게 반송 방향으로 반송된다.
4개의 가이드 롤러(126)는, 도시하지 않은 구동 기구에 의해, 승강 이동 가능하게 되어 있다. 이재부(120)에 있어서 기판(109)이 반송될 때에는, 4개의 가이드 롤러(126)는, 기판(109)의 반송 경로의 양측부로 상승한 상태가 되어 있다. 한편, 후술하는 척 기구(132)가 기판(109)의 아래쪽으로 진입할 때에는, 4개의 가이드 롤러(126)는, 척 기구(132)와 접촉하지 않는 높이 위치로 하강한 상태가 되어 있다.
위치 결정 기구(127)는, 이재부(120)에 있어서, 기판(109)을 위치 결정하기 위한 기구이다. 위치 결정 기구(127)는, 상하로 연장되는 복수의 위치 결정 핀(127a)을 가진다. 위치 결정 핀(127a)은, 본 발명에 있어서의 「위치 결정 부재」의 일례이다. 복수의 위치 결정핀(127a)은, 이재부(120)에 배치된 기판(109)을 둘러싸는 위치에 배치되어 있다. 각 위치 결정 핀(127a)은, 도시하지 않은 구동 기구에 의해, 기판(109)의 끝 가장자리부에 맞닿는 위치와, 기판(109)의 끝 가장자리부로부터 이간한 위치 사이에서 이동 가능하게 되어 있다.
표준 위치의 승강 롤러(121)와 입구 부상 스테이지(125)에 걸쳐 기판(109)이 배치되면, 복수의 위치 결정 핀(127a)은, 기판(109)의 끝 가장자리부에 맞닿는다. 이것에 의해, 기판(109)의 수평 방향의 위치 및 자세가 정해진다. 한편, 기판(109)이 반송될 때나, 척 기구(132)가 기판(109)의 아래쪽으로 진입할 때에는, 복수의 위치 결정핀(127a)은, 기판(109)이나 척 기구(132)와 접촉하지 않는 위치로 퇴피한다.
밀어 올림 기구(128)는, 이재부(120)에 있어서 기판(109)을 옮겨 놓을 때에, 기판(109)의 폭방향의 양단부를, 일시적으로 밀어 올리기 위한 기구이다. 밀어 올림 기구(128)는, 상하로 연장되는 복수의 리프트 핀(128a)을 가진다. 복수의 리프트 핀(128a)은, 기판(109)이 위치 결정 기구(127)에 의해 위치 결정된 상태에서, 기판(109)의 폭방향의 양단부로부터 약간 폭방향 내측으로 치우친 위치에, 길이 방향으로 배열되어 있다. 또, 복수의 리프트 핀(128a)은, 도시하지 않은 구동 기구에 의해, 일체적으로 승강 이동 가능하게 되어 있다. 복수의 리프트 핀(128a)을 상승시키면, 기판(109)의 하면에 리프트 핀(128a)이 맞닿아, 기판(109)의 폭방향의 양단부 부근이, 리프트 핀(128a)에 의해 밀어 올려진다.
도 23, 도 25, 및 도 27은, 밀어 올림 기구(128)에 의해, 기판(109)의 양단부 부근이 밀어 올려지는 상태를 나타내고 있다. 이러한 도에 나타내는 바와 같이, 복수의 리프트 핀(128a)을 상승시켰을 때에는, 기판(109)이 휨으로써, 기판(109)의 폭방향의 양단부 부근만이 밀어 올려진다. 기판(109)의 폭방향의 중앙 부분은, 승강 롤러(121) 또는 프리 롤러(124)에, 수평 자세로 접촉 지지된 상태로 유지되어 있다.
또, 도 13 및 도 14에 나타내는 바와 같이, 복수의 리프트 핀(128a)은, 입구 부상 스테이지(125)의 폭방향의 양단부보다 폭방향 내측에 배치되어 있다. 이 때문에, 복수의 리프트 핀(128a)을 상승시켰을 때에는, 후술하는 척 기구(132)가, 복수의 리프트 핀(128a)과 접촉하는 일 없이, 입구 부상 스테이지(125)의 폭방향 외측의 위치로 진입할 수 있다. 또, 기판(109) 중, 적어도 척 기구(132)에 흡착되는 부분이, 입구 부상 스테이지(125)의 폭방향 외측으로 돌출되어 있으면 된다. 이 때문에, 입구 부상 스테이지(125)로부터의 기판(109)의 돌출량을 억제할 수 있다.
도 14에 나타내는 바와 같이, 이재부(120)의 반송 방향의 길이 L1은, 1장의 기판(109)을 배치할 수 있을 정도의 길이(즉, 기판(109)의 반송 방향의 길이보다 약간 긴 정도)로 설정되어 있다. 이재부(120) 중, 승강 롤러(121) 및 프리 롤러(124)가 배치된 영역의 반송 방향의 길이 L2와, 입구 부상 스테이지(125)의 반송 방향의 길이 L3은, 모두, 기판(109)의 반송 방향의 길이보다 짧게 설정되어 있다. 이것에 의해, 이재부(120)의 반송 방향의 길이가 억제되어 있다.
입구 부상 스테이지(125)와 같이 기판(109)을 부상 지지하는 스테이지는, 토출 구멍(125a)의 형성 등에 고도의 가공 기술을 필요로 하며, 제조 코스트도 높다. 본 실시 형태에서는, 그러한 입구 부상 스테이지(125)의 반송 방향의 길이가 억제되어 있다. 이것에 의해, 기판 처리 장치(101)의 제조가 용이해져, 제조 코스트도 억제된다. 또, 입구 부상 스테이지(125)로 공급하는 압축 공기의 양도 억제된다.
제2 반송부(130)는, 기판(109)의 상면에 레지스트액을 도포할 때에, 기판(109)을 반송 방향 하류측으로 반송하는 부위이다. 도 13에 나타내는 바와 같이, 제2 반송부(130)는, 도포 스테이지(131)와, 한 쌍의 척 기구(132)를 가지고 있다.
도포 스테이지(131)는, 입구 부상 스테이지(125)의 반송 방향 하류측에 배치되어 있다. 도포 스테이지(131)의 상면에는, 압축 공기를 토출하기 위한 복수의 토출 구멍과, 도포 스테이지(131) 상의 공기를 흡인하기 위한 복수의 흡인 구멍이 설치되어 있다. 도포 스테이지(131) 상에서 기판(109)을 반송할 때에는, 복수의 토출 구멍으로부터의 압축 공기의 토출에 의한 윗쪽으로의 압력과, 복수의 흡인 구멍으로의 흡기에 의한 아래쪽으로의 압력이 기판(109)에 작용한다. 이것에 의해, 기판(109)은, 도포 스테이지(131)의 상면으로부터 조금 부상한 상태로 안정적으로 지지된다.
척 기구(132)는, 도포 스테이지(131)의 폭방향 외측에 좌우 한 쌍으로 배치되어 있다. 각 척 기구(132)에는, 기판(109)의 폭방향의 단부를 하면측으로부터 흡착 유지하는 흡착 유지부(132a)가, 반송 방향으로 한 쌍으로 설치되어 있다. 또, 각 척 기구(132)는, 스테이지 지지대(172)의 상면에 형성된 가이드 레일(132b)을 따라, 리니어 모터 등의 구동 기구에 의해, 반송 방향으로 이동 가능하게 되어 있다. 도 13에 나타내는 바와 같이, 가이드 레일(132b)은, 프리 롤러(124)의 폭방향 외측의 위치로부터, 후술하는 출구 부상 스테이지(151)의 폭방향 외측의 위치까지, 반송 방향으로 연장되어 있다. 한 쌍의 척 기구(132)는, 기판(109)을 흡착 유지하면서, 이재부(120)로부터 반출부(150)까지, 기판(109)을 반송할 수 있다.
도 16 및 도 17은, 흡착 유지부(132a)의 상면 부근의 부분 확대 종단면도이다. 도 16 및 도 17에 나타내는 바와 같이, 흡착 유지부(132a)는, 기판(109)의 하면에 접촉하는 유지면(321)을 가지고 있다. 기판(109) 중, 흡착 유지부(132a)에 유지되는 부분의 하면의 높이 위치는, 유지면(321)에 의해 규정된다. 또, 흡착 유지부(132a)에는, 유지면(321)으로부터 아래쪽으로 움푹 패인 홈(322)과, 홈(322)의 저부에 개구하는 흡인 구멍(323)이 형성되어 있다.
홈(322)의 내부에는, 상하 방향으로 신축 가능함과 함께 기판(109)의 하면에 흡착되는 탄성 흡착체(324)가 배치되어 있다. 탄성 흡착체(324)는, 주름 상자 형상의 측면을 가지는 대략 원통형으로 형성되어 있다. 탄성 흡착체(324)의 하측의 개구부는, 흡인 구멍(323)에 연통되어 있다. 또, 탄성 흡착체(324) 상측의 개구부는 윗쪽을 향하여 개방되어 있다.
흡인 구멍(323)은, 도시하지 않은 흡기 펌프에 접속되어 있다. 흡기 펌프를 동작시키면, 흡인 구멍(323) 및 탄성 흡착체(324)의 내부에 부압이 발생한다. 이것에 의해, 흡착 유지부(132a)의 윗쪽의 공기가, 도 16 중의 화살표와 같이, 탄성 흡착체(324)를 통하여 흡인 구멍(323)으로 흡인된다.
도 16에 나타내는 바와 같이, 기판(109)으로의 흡착 전에는, 탄성 흡착체(324)의 상단부는, 유지면(321)보다 윗쪽으로 돌출되어 있다. 상기 서술한 흡인을 행하면서, 흡착 유지부(132a)의 상면에 기판(109)을 접근시키면, 탄성 흡착체(324)는, 기판(109)의 하면에 흡착됨과 함께 수축된다. 그리고, 흡착시에는, 도 17에 나타내는 바와 같이, 탄성 흡착체(324)의 상단부는, 유지면(321)과 동등한 높이에 위치한다. 이것에 의해, 기판(109)의 하면이 유지면(321)에 접촉 유지된다.
이와 같이, 본 실시 형태에서는, 탄성 흡착체(324)가 기판(109)의 하면에 흡착됨과 함께 수축됨으로써, 기판(109)의 하면을 유지면(321)에 끌어 들인다. 이 때문에, 예를 들면, 리프트 핀(128a)의 밀어 올림에 의해 기판(109)의 끝 가장자리부 부근이 다소 경사져 있어도, 기판(109)의 하면을 높은 확실성에 의해, 흡착 유지부(132a)에 유지시킬 수 있다.
척 기구(132)는, 1개의 흡착 유지부(132a)에, 복수의 탄성 흡착체(324)를 가지고 있는 것이 바람직하다. 그와 같이 하면, 탄성 흡착체(324)의 흡착 자체에 의해 발생하는 기판(109)의 휨을 억제할 수 있다. 이 때문에, 기판(109)을 더 높은 확실성에 의해, 흡착 유지부(132a)에 유지시킬 수 있다.
또, 도 13에 나타내는 바와 같이, 흡착 유지부(132a)에는, 기판(109)의 위치 어긋남을 검지하는 위치 어긋남 센서(325)가 설치되어 있다. 위치 어긋남 센서(325)는, 기판(109)이 원하는 위치로부터 어긋나 흡착 유지부(132a)에 유지되었을 때에, 유지면(321)으로부터 돌출된 기판(109)을 검지한다. 제어부(160)는, 위치 어긋남 센서(325)로부터 검출 신호를 수신하면, 척 기구(132)의 이동을 정지시키는 등 하여, 기판(109)으로의 도포 불량을 방지한다.
레지스트 도포 기구(140)는, 도포 스테이지(131)에 지지되면서 반송되는 기판(109)의 상면에, 레지스트액을 도포하기 위한 기구이다. 도 13에서는, 도포 스테이지(131)이나 척 기구(132)를 명시하기 위해, 레지스트 도포 기구(140)가 파선으로 나타나 있다. 레지스트 도포 기구(140)는, 도포 스테이지(131)의 윗쪽에 폭방향으로 걸쳐진 가교부(141)와, 가교부(141)에 장착된 슬릿 노즐(142)을 가지고 있다. 슬릿 노즐(142)은, 도시하지 않은 레지스트액 공급원으로부터 공급되는 레지스트액을 폭방향으로 연장되는 슬릿 형상의 토출구를 통하여, 기판(109)의 상면에 토출한다.
반출부(150)는, 레지스트액이 도포된 기판(109)을, 기판 처리 장치(101)로부터 반출하기 위한 부위이다. 도 13에 나타내는 바와 같이, 반출부(150)는, 출구 부상 스테이지(151)와, 복수의 반출용 핀(152)을 가지고 있다.
출구 부상 스테이지(151)는, 도포 스테이지(131)의 반송 방향 하류측에 배치되어 있다. 출구 부상 스테이지(151)의 상면에는, 압축 공기를 토출하기 위한 복수의 토출 구멍이 설치되어 있다. 출구 부상 스테이지(151) 상에서 기판(109)을 지지할 때에는, 도시하지 않은 공급원으로부터 공급되는 압축 공기가, 복수의 토출 구멍으로부터 윗쪽을 향하여 토출된다. 기판(109)은, 복수의 토출 구멍으로부터 토출되는 압축 공기에 의해, 출구 부상 스테이지(151)의 상면으로부터 부상한 상태로 지지된다. 즉, 출구 부상 스테이지(151)는, 기판(109)의 하면에 대해 비접촉으로 기판(109)을 지지한다.
복수의 반출용 핀(152)은, 출구 부상 스테이지(151)면 내에 있어서, 반송 방향 및 폭방향으로, 등간격으로 배열되어 있다. 복수의 반출용 핀(152)은, 그들의 상단부에서 기판(109)을 접촉 지지한다. 또, 복수의 반출용 핀(152)은, 도시하지 않은 구동 기구에 의해, 일체적으로 승강 이동 가능하게 되어 있다. 이 때문에, 복수의 반출용 핀(152)은, 기판(109)을 수평 자세로 지지하면서, 출구 부상 스테이지(151)의 윗쪽으로 기판(109)을 들어 올릴 수 있다.
도포 스테이지(131)로부터 출구 부상 스테이지(151)로 기판(109)이 반송될 때에는, 복수의 반출용 핀(152)은, 기판(109)과의 접촉을 피하기 위해, 출구 부상 스테이지(151)의 상면보다 아래쪽으로, 퇴피한 상태가 되어 있다. 또, 출구 부상 스테이지(151)로부터 기판(109)을 반출할 때에는, 복수의 반출용 핀(152)이, 출구 부상 스테이지(151)의 상면보다 윗쪽으로 돌출된다. 이것에 의해, 출구 부상 스테이지(151)의 윗쪽으로 기판(109)이 들어 올려진다. 복수의 반출용 핀(152) 상에 지지된 기판(109)은, 출구 부상 스테이지(151)의 반송 방향 하류측에 배치된 이재 로봇(103)에 의해, 후 공정의 장치(104)로 반송된다.
제어부(160)는, CPU나 메모리를 가지는 컴퓨터에 의해 구성되어 있다. 도 18은, 제어부(160)와, 기판 처리 장치(101)의 각 부의 전기적 접속 구성을 나타낸 블럭도이다. 도 18에 나타내는 바와 같이, 제어부(160)는, 제1 반송부(110), 이재부(120), 제2 반송부(130), 레지스트 도포 기구(140), 및 반출부(150)와 접속되어 있다. 보다 구체적으로는, 제어부(160)는, 이러한 각 부에 설치된 다양한 구동 기구, 센서, 압축 공기의 공급 기구, 배기 기구 등과 접속되어 있다. 예를 들면, 제어부(160)는, 위치 결정 기구(127)의 복수의 위치 결정 핀(127a)을 이동시키기 위한 구동 기구나, 밀어 올림 기구(128)의 복수의 리프트 핀(128a)을 승강 이동시키기 위한 구동 기구나, 척 기구(132)를 이동시키기 위한 리니어 모터 등과 접속되어 있다. 제어부(160)는, 미리 설정된 프로그램이나 데이터에 따라, 이들 각 부의 동작을 전기적으로 제어한다. 이것에 의해, 기판 처리 장치(101)에 있어서의 기판(109)의 처리가 진행된다.
<2-2. 기판 처리 장치의 동작>
이어서, 기판 처리 장치(101)의 동작에 대해서 설명한다. 도 19는, 기판 처리 장치(101)의 동작의 흐름을 나타낸 플로차트이다. 도 20, 도 22, 도 24, 도 26, 및 도 28은, 단계 S102~S108에 있어서의 이재부(120) 부근의 측면도이다. 또, 이미 기술한 대로, 도 21, 도 23, 도 25, 도 27, 및 도 29는, 이재부(120) 부근의 구조를 도 13 중의 B-B 위치에서 본 도이다. 도 21, 도 23, 도 25, 도 27, 및 도 29는, 각각, 도 20, 도 22, 도 24, 도 26, 및 도 28과 동시점의 상태를 나타내고 있다.
기판 처리 장치(101)에 있어서 기판(109)을 처리할 때에는, 우선, 전 공정의 장치(102)로부터 반출된 기판(109)을 제1 반송부(110)에 의해 반송한다(단계 S101). 기판(109)은, 컨베이어 롤러(111) 상에 접촉 지지되어, 컨베이어 롤러(111)의 회전에 의해, 반송 방향 하류측으로 반송된다. 이 때, 승강 롤러(121)는, 표준 위치에 배치되어, 컨베이어 롤러(111)와 같은 방향으로 회전하고 있다. 이 때문에, 기판(109)은, 컨베이어 롤러(111)와 승강 롤러(121)로, 연속적으로 이재부(120)까지 반송된다.
또, 이 때, 4개의 가이드 롤러(126)는, 기판(109)의 반송 경로의 양측부로 상승한 상태가 되어 있다. 이들 가이드 롤러(126)에 안내되어, 기판(109)은, 올바르게 반송 방향 하류측으로 반송된다.
기판(109)이 이재부(120)에 도달하면, 승강 롤러(121)는 회전을 정지한다. 이것에 의해, 기판(109)은, 승강 롤러(121)와 입구 부상 스테이지(125)에 걸쳐진 상태로 정지한다(단계 S102, 도 20 및 도 21 상태). 도 20에 나타내는 바와 같이, 기판(109)의 반송 방향 상류측의 일부분은, 표준 위치의 승강 롤러(121) 상에 접촉 지지되어 있다. 한편, 기판(109)의 반송 방향 하류측의 일부분은, 입구 부상 스테이지(125) 상에 부상 지지되어 있다. 기판(109) 중, 입구 부상 스테이지(125) 상에 지지된 부분의 높이 위치는, 승강 롤러(121) 상에 지지된 부분의 높이 위치보다 낮아져 있다.
다음에, 복수의 위치 결정 핀(127a)이, 기판(109)의 반송 방향 상류측, 반송 방향 하류측, 및 폭방향 양측의 각 끝 가장자리부에 맞닿는다. 이것에 의해, 기판(109)의 수평 방향의 위치 및 자세가 정해진다(단계 S103). 이와 같이, 기판(109)의 위치 결정을 행함으로써, 후술하는 단계 S108에 있어서, 흡착 유지부(132a)에, 기판(109)의 하면의 보다 정확한 위치를 유지시킬 수 있다.
기판(109)의 위치 결정이 완료되면, 4개의 가이드 롤러(126)는 하강하여, 소정의 퇴피 위치로 퇴피한다. 또, 복수의 위치 결정 핀(127a) 중, 기판(9)의 폭방향의 양끝 가장자리에 맞닿아 있던 위치 결정 핀(127a)도, 기판(109)으로부터 이간하여, 소정의 퇴피 위치로 퇴피한다(단계 S104). 위치 결정 핀(127a)의 퇴피 후에도, 기판(109)의 반송 방향 상류측의 일부분은, 승강 롤러(121)에 접촉 지지되어 있다. 이 때문에, 기판(109)과 승강 롤러(121)의 정지 마찰에 의해, 기판(109)의 폭방향의 위치 어긋남은 방지된다.
이어서, 복수의 리프트 핀(128a)을 상승시킨다(단계 S105, 도 22 및 도 23 상태). 리프트 핀(128a)은, 기판(109)의 하면에 맞닿아, 기판(109)의 폭방향의 양단부 부근을 밀어 올린다. 도 22 및 도 23에 나타내는 바와 같이, 복수의 리프트 핀(128a)의 상단부는, 표준 위치의 승강 롤러(121)의 상단부보다 윗쪽의 위치까지 상승한다.
본 실시 형태의 기판(109)은, 대형이며 가요성을 가진다. 이 때문에, 단계 S105에서는, 기판(109) 중, 폭방향의 양단부 부근만이 부분적으로 밀어 올려진다. 기판(109)의 폭방향의 중앙 부분은, 승강 롤러(121) 및 입구 부상 스테이지(125)에 지지된 상태를 유지하고 있다. 특히, 기판(109)의 폭방향의 중앙 부분 중, 반송 방향 상류측의 일부분은, 여전히, 승강 롤러(121)에 접촉 지지되어 있다. 따라서, 기판(109)과 승강 롤러(121)의 정지 마찰에 의해, 기판(109)의 폭방향의 위치 어긋남은 방지되고 있다.
또, 본 실시 형태에서는, 기판(109)의 폭방향의 양끝 가장자리부에 맞닿아 있던 위치 결정 핀(127a)을 퇴피시킨 후에, 복수의 리프트 핀(128a)을 상승시키고 있다. 이 때문에, 리프트 핀(128a)을 상승시킬 때에, 기판(109)의 폭방향의 끝 가장자리부와 위치 결정 핀(127a)이 슬라이딩 접촉하는 일은 없다. 이것에 의해, 기판(109)과 위치 결정 핀(127a)의 슬라이딩 접촉에 의한 파티클의 발생이 방지되고 있다.
그 후, 승강 롤러(121)를 표준 위치로부터 하강 위치로 하강시킨다(단계 S106, 도 24 및 도 25 상태). 승강 롤러(121)를 하강시키면, 승강 롤러(121)의 상단부의 높이 위치는, 프리 롤러(124)의 상단부의 높이 위치보다 아래쪽이 된다. 이 때문에 기판(109)의 폭방향의 중앙 부분 중, 반송 방향 상류측의 일부분은, 복수의 승강 롤러(121) 대신에, 복수의 프리 롤러(124)에 지지된다. 기판(109)의 폭방향의 양단부 부근은, 복수의 리프트 핀(128a)에 지지된 상태를 유지하고 있다.
이어서, 한 쌍의 척 기구(132)를 반송 방향 상류측으로 이동시킨다. 이것에 의해, 기판(109)의 밀어 올려진 부분의 아래쪽으로, 흡착 유지부(132a)를 진입시킨다(단계 S107, 도 26 및 도 27 상태). 그리고, 흡착 유지부(132a)의 흡인 동작을 개시한 후, 복수의 리프트 핀(128a)을 하강시킨다. 즉, 밀어 올림 기구(128)에 의한 기판(109)의 밀어 올림을 해제한다. 이것에 의해, 기판(109)의 폭방향의 양단부를, 척 기구(132)의 흡착 유지부(132a)에 접근시킨다.
흡착 유지부(132a)의 탄성 흡착체(324)는, 기판(109)의 하면에 흡착되고, 그 후, 부압에 의해 수축된다. 이것에 의해, 기판(109)의 하면이 흡착 유지부(132a)의 유지면(321)에 끌어 들여진다. 그 결과, 기판(109)의 폭방향의 단부가, 흡착 유지부(132a)에 흡착 유지된다(단계 SlO8, 도 28 및 도 29 상태). 기판(109)은, 반송 방향 상류측의 일부분이 프리 롤러(124) 상에 접촉 지지됨과 함께, 반송 방향 하류측의 일부분이 입구 부상 스테이지(125) 상에 부상 지지되고, 또한, 폭방향의 양단부가 척 기구(132)에 흡착 유지된 상태가 된다.
본 실시 형태에서는, 이재부(120)에 있어서의 단계 S103~S108의 동작 기간에, 기판(109)의 반송 방향 상류측 및 반송 방향 하류측의 끝 가장자리부에는, 위치 결정 핀(127a)이 맞닿아 있다. 이것에 의해, 기판(109)의 반송 방향의 위치 어긋남이 방지되고 있다. 또한, 본 실시 형태와 같이, 기판(109)의 폭방향의 양단부 부근을 밀어 올리는 경우에는, 원래, 기판(109)에 반송 방향의 힘이 작용하기 어렵다. 따라서, 만일, 밀어 올림 시에 위치 결정핀(127a)이 맞닿아 있지 않다고 해도, 기판(109)의 반송 방향의 위치 어긋남은 발생하기 어렵다.
또, 단계 S103~S108의 기간에, 기판(109)은, 승강 롤러(121) 또는 프리 롤러(124)에 의해, 계속적으로 접촉 지지되어 있다. 이 때문에, 승강 롤러(121) 또는 프리 롤러(124)와 기판(109)의 정지 마찰에 의해, 기판(109)의 폭방향으로의 위치 어긋남이 방지되고 있다.
또, 본 실시 형태에서는, 복수의 리프트 핀(128a)으로, 기판(109)의 폭방향의 양단부 부근을 일단 밀어 올리고, 당해 리프트 핀(128a)을 하강시킴으로써, 기판(109)의 하면을 척 기구(132)의 흡착 유지부(132a)에 접근시키고 있다. 이것에 의해, 흡착 유지부(132a)의 높이 위치를 고정하면서, 기판(109)의 하면을 흡착 유지부(132a)에 유지시키고 있다. 이 때문에, 흡착 유지부(132a)를 승강 이동시키기 위한 기구를 배제하여, 척 기구(132)를 간이한 구조로 할 수 있다.
기판(109)이 한 쌍의 척 기구(132)에 유지되면, 기판(109)의 반송 방향 상류측 및 반송 방향 하류측의 끝 가장자리부에 맞닿아 있던 위치 결정 핀(127a)은, 소정의 퇴피 위치로 퇴피한다. 그리고, 척 기구(132)가 가이드 레일(132b)을 따라 반송 방향 하류측으로 이동함으로써, 기판(109)은 반송 방향 하류측으로 반송된다.
기판(109)은, 입구 부상 스테이지(125)로부터, 도포 스테이지(131)를 거쳐, 출구 부상 스테이지(151)까지, 각 스테이지 상에 부상 지지되면서 반송된다. 슬릿 노즐(142)은, 도포 스테이지(131) 상에서 반송되는 기판(109)의 상면을 향하여, 레지스트액을 토출한다. 이것에 의해, 기판(109)의 상면에, 레지스트액이 도포된다(단계 S109).
또한, 본 실시 형태에서는, 기판(109)의 반송 방향 하류측의 단부가 슬릿 노즐(142)의 아래쪽 위치에 다다르기 전에, 기판(109)의 반송 방향 상류측의 단부가, 입구 부상 스테이지(125) 상에 지지된다. 즉, 기판(109)의 상면에 레지스트액을 도포하는 시점에서는, 기판(109)의 전체가 입구 부상 스테이지(125) 및 도포 스테이지(131) 상에 부상 지지되어 있다. 이 때문에, 프리 롤러(124)의 기계적 진동이, 레지스트액의 도포 중의 기판(109)에 전파되는 것이 억제된다. 이것에 의해, 기판(109)의 상면에서의 레지스트액의 도포 불량이 억제된다.
레지스트액이 도포된 기판(109)은, 출구 부상 스테이지(151) 상까지 반송되어 정지한다. 그리고, 척 기구(132)의 흡착 유지부(132a)는, 흡인 동작을 정지시킴과 함께, 기판(109)의 흡착을 해제한다. 흡착이 해제된 후에도, 기판(109)과 탄성 흡착체(324) 사이에 정지 마찰이 작용하기 때문에, 기판(109)의 어긋남은 억제된다.
척 기구(132)에 의한 기판(109)의 흡착이 해제되면, 출구 부상 스테이지(151)의 상면으로부터 복수의 반출용 핀(152)이 돌출된다. 이것에 의해, 출구 부상 스테이지(151)의 윗쪽으로 기판(109)이 들어 올려진다. 그 후, 복수의 반출용 핀(152)에 지지된 기판(109)을 이재 로봇(103)이 수취하고, 이재 로봇(103)으로부터 후 공정의 장치(4)로 기판(9)이 옮겨 놓아진다.
<2-3. 변형예>
이상, 본 발명의 제2 실시 형태에 대해서 설명했지만, 본 발명은, 상기의 실시 형태에 한정되는 것은 아니다.
상기의 실시 형태의 제1 반송부(10)는, 복수의 컨베이어 롤러(111)로 기판(109)을 반송하는 것이었지만, 본 발명의 「제1 반송부」는, 다른 기구로 기판(109)을 반송하는 것이어도 된다. 예를 들면, 복수의 프리 롤러 상에 기판(109)을 지지하면서, 다른 수단에 의해 기판(109)에 반송 방향 하류측으로의 추진력을 부여하여, 반송 방향 하류측으로 반송하는 것이어도 된다. 또, 어떠한 이동 부재 상에 기판(109)을 유지하면서, 당해 이동 부재와 함께, 기판(109)을 하류측으로 반송하는 것이어도 된다.
또, 상기의 실시 형태에서는, 이재부(120)에 있어서, 기판(109)의 폭방향의 중앙 부분을, 승강 롤러(121) 또는 프리 롤러(124)와, 입구 부상 스테이지(125)로 지지하고 있었지만, 기판(109)의 폭방향의 중앙 부분은, 다른 지지 형태로 지지되어 있어도 된다. 예를 들면, 기판(109)의 폭방향의 중앙 부분이 롤러에만 지지되어 있어도 된다.
또, 상기의 실시 형태의 밀어 올림 기구(128)는, 기판(109)의 폭방향의 양단부 부근을 밀어 올리고 있었지만, 본 발명의 「밀어 올림 기구」는, 기판(109)의 다른 부위를, 밀어 올리는 것이어도 된다. 예를 들면, 기판(109)의 반송 방향의 양단부 부근이 밀어 올려지고, 당해 양단부 부근의 아래쪽으로, 척 기구(132)가 진입하도록 되어 있어도 된다.
또, 상기의 실시 형태에서는, 본 발명에 있어서의 「위치 결정 부재」의 일례로서, 위치 결정핀(127a)을 들었다. 그러나, 본 발명의 「위치 결정 부재」는, 기판(109)에 맞닿아 위치 결정을 행하는 것이면, 판 형상 등의 다른 형상을 가지는 것이어도 된다.
또, 상기의 기판 처리 장치(101)는, 기판(109)의 상면에 레지스트액을 도포하는 장치였지만, 본 발명의 기판 처리 장치는, 레지스트액 이외의 처리액을 기판에 도포하는 장치여도 된다. 또, 본 발명의 기판 처리 장치는, 도포 처리 이외의 처리(세정 처리, 건조 처리, 열처리, 노광 처리, 현상 처리 등)를 행하는 장치여도 된다.
또, 상기의 기판 처리 장치(101)는, 액정 표시 장치용의 유리 기판(109)을 처리 대상으로 하고 있었지만, 본 발명의 기판 처리 장치는, 반도체 웨이퍼, 필름 액정용 플렉서블 기판, 포토마스크용 기판, 칼라 필터용 기판, 태양 전지용 기판, 전자 페이퍼용 기판 등의 다른 기판을 처리 대상으로 하는 것이어도 된다.
1 기판 처리 장치 9 기판
10 제1 반송부 11 컨베이어 롤러
12 회전 구동 기구 20 전환부
21 승강 롤러 22 회전 구동 기구
23 승강 구동 기구 24 프리 롤러
24a 하류측 프리 롤러 24b 상류측 프리 롤러
25 입구 부상 스테이지 25a 토출 구멍
26 가이드 롤러 27 위치 결정 기구
28 리프트 핀 30 제2 반송부
31 도포 스테이지 32 척 기구
40 레지스트 도포 기구 41 가교부
42 슬릿 노즐 50 반출부
51 출구 부상 스테이지 52 반출용 핀
60 제어부 71 롤러 지지대
72 스테이지 지지대 101 기판 처리 장치
109 기판 110 제1 반송부
111 컨베이어 롤러 112 회전 구동 기구
120 이재부 121 승강 롤러
122 회전 구동 기구 123 승강 구동 기구
124 프리 롤러 124a 하류측 프리 롤러
124b 상류측 프리 롤러 125 입구 부상 스테이지
126 가이드 롤러 127 위치 결정 기구
127a 위치 결정 핀 128 밀어 올림 기구
128a 리프트 핀 130 제2 반송부
131 도포 스테이지 132 척 기구
132a 흡착 유지부 132b 가이드 레일
140 레지스트 도포 기구 141 가교부
142 슬릿 노즐 150 반출부
151 출구 부상 스테이지 152 반출용 핀
160 제어부 171 롤러 지지대
172 스테이지 지지대 321 유지면
324 탄성 흡착체

Claims (16)

  1. 기판을 반송하는 기구를 구비한 기판 처리 장치로서,
    반송 경로 상의 소정의 위치까지 기판을 반송하는 제1 반송부와,
    상기 소정의 위치보다 반송 방향 하류측에서, 스테이지 상에 기판을 부상시키면서 반송하는 제2 반송부와,
    상기 제1 반송부와 상기 제2 반송부 사이에서, 기판의 지지 방식을 전환하는 전환부와,
    상기 전환부를 제어하는 제어부를 구비하고,
    상기 전환부는,
    기판을 접촉 지지하면서, 능동적으로 회전하여, 표준 위치와 하강 위치 사이에서 승강 이동 가능한 승강 롤러와,
    표준 위치의 상기 승강 롤러의 상단부와, 하강 위치의 상기 승강 롤러의 상단부 사이의 높이 위치에 기판을 접촉 지지하면서, 기판의 이동에 따라 종동적으로 회전하는 프리 롤러와,
    상기 프리 롤러의 반송 방향 하류측에 배치되어, 표준 위치의 상기 승강 롤러에 의한 기판의 지지 높이보다 낮은 높이로, 기판을 부상시키면서 지지하는 입구 부상 스테이지를 가지고,
    상기 제어부는, 기판이, 표준 위치의 상기 승강 롤러와 상기 입구 부상 스테이지에 걸쳐 배치된 후, 상기 승강 롤러를 상기 하강 위치로 하강시켜, 기판의 반송 방향 상류측의 일부분을, 상기 프리 롤러로 옮겨 놓도록, 상기 전환부를 제어하는 기판 처리 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 입구 부상 스테이지의 반송 방향의 길이는, 기판의 반송 방향의 길이보다 짧은, 기판 처리 장치.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 승강 롤러 및 상기 프리 롤러가 배치된 영역의 반송 방향의 길이는, 기판의 반송 방향의 길이보다 짧은, 기판 처리 장치.
  4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 프리 롤러는,
    상기 입구 부상 스테이지의 반송 방향 상류측의 옆 가장자리부를 따라 배열된, 복수의 하류측 프리 롤러와,
    상기 복수의 하류측 프리 롤러보다 반송 방향 상류측의 위치에 배열된, 복수의 상류측 프리 롤러를 포함하고,
    상기 복수의 상류측 프리 롤러는, 상기 복수의 하류측 프리 롤러보다, 낮은 밀도로 배치되어 있는 기판 처리 장치.
  5. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 전환부는, 기판이, 표준 위치의 상기 승강 롤러와, 상기 입구 부상 스테이지에 걸쳐 배치된 상태에서, 기판의 수평 방향의 위치를 결정하는 위치 결정 기구를 더 가지는 기판 처리 장치.
  6. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 승강 롤러 및 상기 프리 롤러와, 상기 입구 부상 스테이지는, 상이한 지지대에 지지되어, 서로 비연결된 기판 처리 장치.
  7. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 프리 롤러는, 상기 승강 롤러보다 소직경의 롤러인 기판 처리 장치.
  8. 반송 경로 상의 소정의 위치까지 기판을 반송하는 제1 반송부와, 상기 소정의 위치보다 반송 방향 하류측에서, 스테이지 상에 기판을 부상시키면서 반송하는 제2 반송부 사이에서, 기판의 지지 방식을 전환하는 전환 방법으로서,
    기판을 접촉 지지하면서, 능동적으로 회전하여, 표준 위치와 하강 위치 사이에서 승강 이동 가능한 승강 롤러와,
    표준 위치의 상기 승강 롤러의 상단부와, 하강 위치의 상기 승강 롤러의 상단부 사이의 높이 위치에 기판을 접촉 지지하면서, 기판의 이동에 따라 종동적으로 회전하는 프리 롤러와,
    상기 프리 롤러의 반송 방향 하류측에 배치되어, 표준 위치의 상기 승강 롤러에 의한 기판의 지지 높이보다 낮은 높이로, 기판을 부상시키면서 지지하는 입구 부상 스테이지를 이용하여,
    a) 기판을, 표준 위치의 상기 승강 롤러와 상기 입구 부상 스테이지에 걸쳐 배치하는 공정과,
    b) 상기 공정 a) 후, 상기 승강 롤러를 상기 하강 위치로 하강시켜, 기판의 반송 방향 상류측의 일부분을, 상기 프리 롤러로 옮겨 놓는 공정을 구비한 전환 방법.
  9. 기판을 반송하는 기구를 구비한 기판 처리 장치로서,
    반송 방향 상류측으로부터 소정의 위치까지, 기판을 반송하는 제1 반송부와,
    상기 소정의 위치로부터 반송 방향 하류측으로, 기판을 반송하는 제2 반송부와,
    상기 소정의 위치에서, 상기 제1 반송부로부터 상기 제2 반송부로 기판을 옮겨 놓는 이재부(移載部)를 구비하고,
    상기 이재부는, 기판의 일부분이 수평 자세로 접촉 지지된 상태를 유지하면서, 기판의 다른 부분을 밀어 올리는 밀어 올림 기구를 가지고,
    상기 제2 반송부는, 기판을 하면측으로부터 유지하면서 반송 방향으로 이동하는 유지부를 가지고,
    상기 밀어 올림 기구에 의해 기판을 부분적으로 밀어 올리고, 기판의 밀어 올려진 부분의 아래쪽으로 상기 유지부를 진입시킨 후, 상기 밀어 올림 기구에 의한 밀어 올림을 해제함으로써, 상기 유지부에 기판을 유지시키도록, 상기 밀어 올림 기구 및 상기 유지부를 제어하는 제어부를 더 구비하는 기판 처리 장치.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 이재부는, 기판의 수평 방향의 위치 결정을 행하는 위치 결정 기구를 더 가지고,
    상기 제어부는, 상기 위치 결정 기구에 의한 기판의 위치 결정 후에, 상기 밀어 올림 기구에 의한 기판의 밀어 올림을 행하도록, 상기 위치 결정 기구 및 상기 밀어 올림 기구를 제어하는 기판 처리 장치.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 위치 결정 기구는, 기판의 끝 가장자리부에 맞닿는 위치 결정 부재를 가지고,
    상기 제어부는, 상기 위치 결정 기구에 의한 위치 결정 후, 기판의 상기 다른 부분에 맞닿아 있는 상기 위치 결정 부재를 기판으로부터 퇴피시키고, 그 후에, 상기 밀어 올림 기구에 의한 기판의 밀어 올림을 행하도록, 상기 밀어 올림 기구 및 상기 위치 결정 기구를 제어하는 기판 처리 장치.
  12. 청구항 9 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유지부는,
    유지시에 기판의 하면의 높이 위치를 규정하는 유지면과,
    상하 방향으로 신축 가능함과 함께 기판의 하면에 흡착되는 탄성 흡착체를 가지고,
    기판으로의 흡착 전에는, 상기 탄성 흡착체의 상단부가, 상기 유지면보다 윗쪽에 위치하고,
    기판으로의 흡착시에는, 상기 탄성 흡착체의 상단부가, 상기 유지면과 동등한 높이에 위치하는 기판 처리 장치.
  13. 청구항 9 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 밀어 올림 기구는, 기판의 반송 방향에 직교하는 방향의 양단부 부근을 밀어 올리는 기판 처리 장치.
  14. 제1 반송부로부터 제2 반송부로 기판을 옮겨 놓는 이재 방법으로서,
    a) 기판의 일부분이 수평 자세로 접촉 지지된 상태를 유지하면서, 기판의 다른 부분을 밀어 올리는 공정과,
    b) 상기 공정 a) 후, 기판의 밀어 올려진 부분의 아래쪽으로 유지부를 진입시키는 공정과,
    c) 상기 공정 b) 후, 기판의 밀어 올림을 해제함으로써, 상기 유지부에 기판을 유지시키는 공정을 구비하는 이재 방법.
  15. 청구항 14에 있어서,
    d) 상기 공정 a) 전에, 기판의 수평 방향의 위치 결정을 행하는 공정을 더 구비하는 이재 방법.
  16. 청구항 15에 있어서,
    상기 공정 d)에서는, 기판의 끝 가장자리부에 위치 결정 부재를 맞닿게 하고,
    e) 상기 공정 d)와 상기 공정 a) 사이에, 기판의 상기 다른 부분에 맞닿아 있는 상기 위치 결정 부재를 기판으로부터 퇴피시키는 공정을 더 구비하는 이재 방법.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101365049B1 (ko) * 2012-08-02 2014-02-20 한국미쯔보시다이아몬드공업(주) 취성 재료 기판의 롤링 브레이크 장치
KR20160139186A (ko) * 2015-05-27 2016-12-07 세메스 주식회사 인쇄 장치

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101794875B1 (ko) * 2015-01-30 2017-11-07 가부시키가이샤 하리즈 투명판 검사 장치 및 투명판 청소 검사 시스템
JP6595276B2 (ja) * 2015-09-18 2019-10-23 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
TWI630059B (zh) * 2015-12-25 2018-07-21 日商三星鑽石工業股份有限公司 Substrate adsorption device and workbench
TWI800584B (zh) * 2018-01-11 2023-05-01 日商日本碍子股份有限公司 熱處理爐及其製造方法
CN114313431A (zh) * 2021-12-07 2022-04-12 深圳创视智能视觉技术股份有限公司 分料装置及智能理袋机器人

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3070006B2 (ja) * 1997-02-07 2000-07-24 株式会社オーク製作所 薄板状ワークの搬送方法
JP2000277587A (ja) * 1999-03-29 2000-10-06 Kokusai Electric Co Ltd 基板搬送システム
JP3682396B2 (ja) 2000-02-24 2005-08-10 東レエンジニアリング株式会社 薄板状材の定点搬送装置
TW569288B (en) * 2001-06-19 2004-01-01 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus, liquid processing apparatus and liquid processing method
JP3926593B2 (ja) * 2001-09-14 2007-06-06 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP4563191B2 (ja) * 2005-01-17 2010-10-13 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP4554397B2 (ja) * 2005-02-23 2010-09-29 東京エレクトロン株式会社 ステージ装置および塗布処理装置
JP4895518B2 (ja) * 2005-03-22 2012-03-14 オリンパス株式会社 基板保持装置及び基板の保持方法
KR100618918B1 (ko) * 2005-04-12 2006-09-01 주식회사 디엠에스 적층형 기판 이송장치
JP4745040B2 (ja) * 2005-12-05 2011-08-10 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置及び基板処理装置
JP4853204B2 (ja) * 2006-09-28 2012-01-11 大日本印刷株式会社 板状物の搬送方法および板状物の搬送装置
JP2008159644A (ja) * 2006-12-21 2008-07-10 Shinkawa Ltd ボンディング装置及びボンディング装置における回路基板の吸着方法
JP2008166348A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Olympus Corp 基板搬送装置
JP2009049232A (ja) * 2007-08-21 2009-03-05 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2009094184A (ja) * 2007-10-05 2009-04-30 Toray Ind Inc 基板処理装置および処理方法
JP2009176858A (ja) * 2008-01-23 2009-08-06 Toppan Printing Co Ltd 基板受渡装置
JP5300288B2 (ja) * 2008-03-12 2013-09-25 大日本スクリーン製造株式会社 基板搬送装置および基板処理装置
JP4755233B2 (ja) * 2008-09-11 2011-08-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101365049B1 (ko) * 2012-08-02 2014-02-20 한국미쯔보시다이아몬드공업(주) 취성 재료 기판의 롤링 브레이크 장치
KR20160139186A (ko) * 2015-05-27 2016-12-07 세메스 주식회사 인쇄 장치

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