JP7408612B2 - 現像装置 - Google Patents
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Description
<1-1.基板処理装置の構成>
図1は、本発明に係る基板処理装置の一例となる現像装置1の側面図である。図2は、現像装置1の上面図である。この現像装置1は、有機ELパネルの製造工程において、矩形状の基板9に対して、現像処理を行う装置である。現像装置1は、洗浄、レジスト液の塗布、乾燥、露光、現像等の処理を一貫して行う、いわゆるコータ・デベロッパの一部分として使用される。ただし、現像装置1は、コータ・デベロッパを構成する塗布装置や露光装置とは切り離されて、単独で使用されるものであってもよい。
続いて、上述した搬送機構20について、より詳細に説明する。
続いて、本発明の第2実施形態について、説明する。なお、以下では、上述した実施形態との相違点を中心に説明する。上述した実施形態と同等の部分については、重複説明を省略する。
続いて、本発明の第3実施形態について、説明する。なお、以下では、上述した実施形態との相違点を中心に説明する。上述した実施形態と同等の部分については、重複説明を省略する。
続いて、本発明の第4実施形態について、説明する。なお、以下では、上述した実施形態との相違点を中心に説明する。上述した実施形態と同等の部分については、重複説明を省略する。
続いて、本発明の第5実施形態について、説明する。なお、以下では、上述した実施形態との相違点を中心に説明する。上述した実施形態と同等の部分については、重複説明を省略する。
続いて、本発明の第6実施形態について、説明する。なお、以下では、上述した実施形態との相違点を中心に説明する。上述した実施形態と同等の部分については、重複説明を省略する。
続いて、本発明の第7実施形態について、説明する。なお、以下では、上述した実施形態との相違点を中心に説明する。上述した実施形態と同等の部分については、重複説明を省略する。
上記の実施形態では、基板9の上面に処理液としての現像液Lを供給する現像装置1について説明した。しかしながら、本発明の基板処理装置は、現像装置1に限定されるものではない。例えば、基板処理装置は、基板の上面に処理液としてのレジスト液を塗布する塗布装置であってもよい。また、基板処理装置は、基板の上面に処理液としてのエッチング液を供給するエッチング装置であってもよい。また、基板処理装置は、基板の上面に処理液としての洗浄液を供給する洗浄装置であってもよい。
9 基板
10 チャンバ
13 排液孔
20 搬送機構
21 搬送ローラ
21A 右巻き搬送ローラ
21B 左巻き搬送ローラ
21C 第1搬送ローラ
21D 第2搬送ローラ
22 ローラ駆動機構
23 ガイドローラ
24 円筒ローラ
30 処理液供給部
31 ノズル
40 制御部
51 シャフト
52 ローラ部材
53 接触部
54 非接触部
A 軸
L 現像液
Claims (8)
- 基板を搬送しつつ現像液により前記基板の上面に形成されたレジスト膜を現像する現像装置であって、
基板を水平な姿勢に支持しつつ、水平方向である搬送方向に基板を搬送する搬送機構と、
前記搬送機構により搬送される基板の上面に前記現像液を供給することにより、基板の上面に前記現像液のパドルを形成する現像液供給部と、
を備え、
前記搬送機構は、
前記搬送方向に間隔をあけて配列された複数の搬送ローラ
を有し、
前記搬送ローラは、外周面に部分的に形成された接触部を、基板の下面に接触させつつ、前記搬送方向に対して直交する水平方向である幅方向に延びる軸を中心として回転することにより、基板を前記搬送方向の下流側へ搬送し、
前記搬送ローラの外周面において、前記軸を中心とする周方向の位置に応じて、前記接触部の前記幅方向の位置が変化する、現像装置。 - 請求項1に記載の現像装置であって、
前記接触部は、前記軸を中心とする螺旋状である、現像装置。 - 請求項2に記載の現像装置であって、
前記複数の搬送ローラは、
前記接触部が右巻きの螺旋状である複数の右巻き搬送ローラと、
前記接触部が左巻きの螺旋状である複数の左巻き搬送ローラと、
を含み、
前記右巻き搬送ローラと、前記左巻き搬送ローラとが、前記搬送方向に沿って交互に配列されている、現像装置。 - 請求項1に記載の現像装置であって、
前記搬送ローラは、前記幅方向に配列された複数の前記接触部を有し、
複数の前記接触部は、それぞれ、前記軸に対して傾斜した楕円状である、現像装置。 - 請求項4に記載の現像装置であって、
前記搬送ローラは、
前記軸に沿って延びるシャフトと、
前記シャフトに固定された複数のローラ部材と、
を有し、
前記複数のローラ部材が、それぞれ、前記接触部を有する、現像装置。 - 請求項4または請求項5に記載の現像装置であって、
前記複数の搬送ローラは、
複数の第1搬送ローラと、
複数の第2搬送ローラと、
を含み、
前記第1搬送ローラと、前記第2搬送ローラとが、前記搬送方向に沿って交互に配列され、
前記幅方向において、前記第1搬送ローラの前記接触部と、前記第2搬送ローラの前記接触部とが、交互に配列されている、現像装置。 - 請求項1から請求項6までのいずれか1項に記載の現像装置であって、
前記現像液供給部は、
前記現像液を吐出するノズル
を有し、
前記搬送機構は、
前記ノズルによる前記現像液の吐出位置から下流側に配置された1つ以上の円筒ローラ
をさらに有し、
前記円筒ローラは、前記幅方向に沿って延びる1本の円筒面を有し、前記円筒面を基板の下面に接触させつつ、前記幅方向に延びる軸を中心として回転することにより、基板を前記搬送方向の下流側へ搬送する、現像装置。 - 請求項1から請求項7までのいずれか1項に記載の現像装置であって、
基板の前記幅方向の端部に接触するガイドローラ
をさらに備える、現像装置。
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