KR20110084227A - 개질된 트리아로일벤젠-골격 폴리머 - Google Patents

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Abstract

[과제] 높은 투명성 그리고 높은 내열성을 갖는 필름, 특히 광학 필름이 얻어지는 피막 형성용 도포액을 제공하는 것을 목적으로 한다.
[해결수단] 하기 식 [1]로 표시되는 화합물을 중합한 중합체의 말단이, 하기 식 [2]로 표시되는 화합물로 개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머, 상기 폴리머를 함유하는 피막 형성용 도포액, 및 상기 피막 형성용 도포액으로부터 얻어지는 필름. [식 중, X1은, 하기 식 [1a], 식 [1b] 또는 식 [1c](식 중, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내고, n은 1 내지 6의 정수를 나타내고, m은 1 내지 6의 정수를 나타낸다.)로 표현되는 2가의 기를 나타내고, X2는, 2가의 벤젠, 티오펜, 퓨란 또는 플루오렌을 나타내고, X3은, 수소원자, 할로겐원자, CF3, 탄소원자수 1 내지 6의 알콕시기 또는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.]

Description

개질된 트리아로일벤젠-골격 폴리머{Modified Triaroylbenzene-Based Polymer}
본 발명은, 개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머(Modified Triaroylbenzene-Based Polymer), 상기 폴리머를 함유하는 피막 형성용 도포액, 및 상기 피막 형성용 도포액으로부터 얻어지는 필름, 특히 광학 필름에 관한 것이다.
현재, 액정 TV나 플라즈마 TV 등의 박형 TV가 일반적으로 보급되어 있다. 이에 따라, 고정밀(精細) 표시, 전력절감, 장기 신뢰성 등의 특성이 박형 TV에 요구되고 있다. 또 이에 의해, 박형 TV에 사용되는 구성 부재에 대하여 투명성, 복굴절율 및 내열성 등 다양한 특성이 요구되어 왔다. 이 중에서도 액정 디스플레이에 사용되는 평탄화막이나 위상차 필름 등에는 투명성, 내열성 및 핸들링성이 요구된다.
그런데, 하이퍼브런치형 폴리머는 용해성이 우수하고, 용액점도와 용융점도가 매우 적다는 특징을 갖는다. 따라서, 하이퍼브런치형 폴리머는 핸들링성이 우수하며 기능성 재료로의 전개가 기대되고 있다. 하이퍼브런치형 폴리머 중 하나로는 트리아로일벤젠 골격 폴리머가 보고되어 있다(특허문헌 1, 비특허문헌 1 참고). 이 폴리머는, 용해성이 우수할 뿐 아니라, 내열성이 높고 합성이 간편하다는 이점을 갖고 있지만, 액정 디스플레이 용도 등의 광학 필름에 사용하기에는 필름의 투명성이 낮다고 하는 문제가 있었다.
[특허문헌 1] 미국특허출원공개 제2006/0247410호 명세서
[비특허문헌 1] Ben Zhong Tang 등, Macromolecules, 2005, 38, 6382
본 발명은, 개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머, 상기 폴리머를 함유하는 피막 형성용 도포액, 및 상기 피막 형성용 도포액으로부터 얻어지는 높은 투명성, 그리고 높은 내열성을 갖는 필름, 특히 광학 필름을 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명자들은 상기 상황을 감안하여 예의 검토한 결과, 개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머를 함유하는 피막 형성용 도포액으로부터 얻어지는 필름이 상기 과제를 해결할 수 있음을 발견하여 본 발명을 완성하였다. 즉, 본 발명은 아래의 요지로 이루어진다.
본 발명은, 하기 식 [1]로 표시되는 화합물을 중합한 중합체의 말단이, 하기 식 [2]로 표시되는 화합물로 개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머에 관한 것이다.
[화학식 1]
Figure pct00001
[식 중,
X1은, 하기 식 [1a], 식 [1b] 또는 식 [1c]
[화학식 2]
Figure pct00002
(식 중, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내고, n은 1 내지 6의 정수를 나타내고, m은 1 내지 6의 정수를 나타낸다.)로 표현되는 2가의 기를 나타내고,
X2는, 2가의 벤젠, 티오펜, 퓨란 또는 플루오렌을 나타내고,
X3은, 수소원자, 할로겐원자, CF3, 탄소원자수 1 내지 6의 알콕시기 또는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.]
이 중, 보다 바람직한 태양은, 상기 식 [1a]에 있어서 Y1 및 Y2가 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내는 상기 트리아로일벤젠 골격 폴리머에 관한 것이다.
더욱 바람직한 태양은, 상기 식 [1a]에 있어서 Y1 및 Y2가 탄소원자수 1의 메틸렌기를 나타내는 상기 트리아로일벤젠 골격 폴리머에 관한 것이다.
다른 바람직한 태양은, 상기 식 [1b]에 있어서 n이 1 내지 3의 정수를 나타내는 상기 트리아로일벤젠 골격 폴리머에 관한 것이다.
또 다른 바람직한 태양은, 상기 식 [1c]에 있어서 m이 1 내지 3의 정수를 나타내는 상기 트리아로일벤젠 골격 폴리머에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, 이들 상술한 트리아로일벤젠 골격 폴리머를 함유하는 피막 형성용 도포액에 관한 것이기도 하다.
또한 본 발명은, 상기 피막 형성용 도포액으로부터 얻어지는 필름에 관한 것이기도 하다.
본 발명의 또 다른 태양은, 상기 식 [1]로 표시되는 화합물을 아민 존재 하에서 중합한 중합체의 말단에, 상기 식 [2]로 표시되는 화합물을 반응시키는 것을 포함하는 트리아로일벤젠 골격 폴리머의 제조방법에 관한 것이기도 하다.
이 중, 바람직한 태양은, 상기 식 [1a]에 있어서 Y1 및 Y2가 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내는 상기 트리아로일벤젠 골격 폴리머의 제조방법에 관한 것이다.
더욱 바람직한 태양은, 상기 식 [1b]에 있어서 n이 1 내지 3의 정수를 나타내는 상기 트리아로일벤젠 골격 폴리머의 제조방법에 관한 것이다.
또 다른 바람직한 태양은, 상기 식 [1c]에 있어서 m이 1 내지 3의 정수를 나타내는 상기 트리아로일벤젠 골격 폴리머의 제조방법에 관한 것이다.
또한 본 발명의 다른 태양은, 하기 식 [3]로 표시되는 화합물에 관한 것이다.
[화학식 3]
Figure pct00003
본 발명의 개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머는, 말단이 상기 식 [2]로 표시되는 화합물로 개질된 구조를 갖는다. 그러므로, 상기 개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머를 피막 형성용 도포액에 함유시켰을 때, 상기 피막 형성용 도포액으로부터 얻어지는 필름은, 개질되어 있지 않은 트리아로일벤젠 골격 폴리머를 함유하는 피막 형성용 도포액으로부터 얻어지는 필름에 비해, 보다 높은 투명성을 가질 뿐 아니라, 보다 높은 내열성을 가지게 된다. 따라서, 본 발명의 개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머는, 투명성 및 내열성이 보다 개선된 필름을 형성할 수 있다는 효과를 갖는다.
또한 해당 필름은, 예를 들면, 액정 디스플레이 용도 등의 광학 필름에 사용하는 데에 적합하다.
또한, 본 발명의 개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머의 제조는, 베이스가 되는 트리아로일벤젠 골격 폴리머를, 예를 들면, 유기용매에 용해하고, 상기 식 [2]로 표시되는 말단 개질 화합물을 넣은 다음, 환류하에 반응시킴으로써 간편하게 행할 수 있다는 이점을 갖는다.
본 발명은, 개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머, 상기 폴리머를 함유하는 피막 형성용 도포액, 상기 피막 형성용 도포액으로부터 얻어지는 필름, 상기 폴리머의 제조방법, 및 신규 말단 개질된 화합물이다.
본 발명의 개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머란, 트리아로일벤젠 골격 폴리머를, 후술하는 개질 화합물로 개질한 폴리머를 말한다.
<트리아로일벤젠 골격 폴리머>
본 발명에 이용하는 트리아로일벤젠 골격 폴리머는, 하기 식 [1]로 표시되는 화합물을 중합하여 얻어지는 중합체이다. 보다 상세하게 설명하면, 말단에 아세틸렌 부위를 갖는 2관능성 모노머인, 하기 식 [1]로 표시되는 화합물을 고리화 3량화 반응시킴으로써 얻어지는 중합체이다.
[화학식 4]
Figure pct00004
식 중, X1은 하기 식 [1a], 식 [1b] 또는 식 [1c]
[화학식 5]
Figure pct00005
으로 표시되고, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내고, n은 1 내지 6의 정수를 나타내고, m은 1 내지 6의 정수를 나타낸다.
식 중, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내는데, 바람직하게는 메틸렌기이다. 또한, 식 중, n은 1 내지 6의 정수를 나타내는데, 1 내지 3이 바람직하다.
그 중에서도 X1이 상기 식 [1a]의 구조인 경우, 중합체의 유기용매에 대한 용해성이 높기 때문에, X1은 상기 식 [1a]의 구조가 바람직하다.
상기 식 [1]로 표시되는 화합물의 구체예를 들면, 다음과 같다.(하기 식 [1a1] 내지 하기 식 [1a4], 하기 식 [1b1] 내지 하기 식 [1b3], 하기 식 [1c1] 및 하기 식 [1c2])
[화학식 6]
Figure pct00006

[화학식 7]
Figure pct00007

<트리아로일벤젠 골격 폴리머의 합성>
아래의 반응 스킴에 나타내는 바와 같이, 트리아로일벤젠 골격 폴리머[T]는, 각종 아민화합물을 사용하여, 하기 식 [1]로 표시되는 화합물을 고리화 3량화 반응시킴으로써 합성할 수 있다.
[화학식 8]
Figure pct00008
{상기 식 [1] 및 [T] 중,
L은 하기 식 [T1]:
[화학식 9]
Figure pct00009
[식 중, X1은 하기 식 [1a], 식 [1b] 또는 식 [1c]
[화학식 10]
Figure pct00010
(식 중, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내고, n은 1 내지 6의 정수를 나타내고, m은 1 내지 6의 정수를 나타낸다.)로 표현되는 2가의 기를 나타낸다.]로 표시되는 기를 나타낸다.}
보다 구체적으로는, 예를 들면, 상기 식 [1]로 표시되는 2관능성 모노머를 1,4-디옥산 등의 유기용매에 용해하고, 피페리딘 등의 아민화합물을 첨가하여, 일정 시간(예를 들면, 12~36시간) 환류 하에 교반시키면, 트리아로일벤젠 골격 폴리머를 합성할 수 있다. 반응액을 메탄올이나 에탄올 등의 빈용매(貧溶媒)에 적하하여 재침전을 행하면, 고체로서 폴리머를 얻을 수 있고, 저분자량의 올리고머를 제거할 수 있다. 저분자량의 올리고머를 제거하기 위해서는 재침전을 여러번 반복하여 행하는 것이 바람직하다.
중합시 사용하는 아민화합물로는, 예를 들면, 피페리딘, 디에틸아민, N,N-디메틸포름아미드, 디페닐아민 등을 들 수 있다. 아민화합물의 첨가량은, 상기 식 [1]로 표시되는 화합물의 1몰에 대하여 0.1 내지 0.5몰이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.15 내지 0.4몰이다.
<개질 화합물>
본 발명에 이용되는 개질 화합물은, 반응 가능 부위인 이논 구조를 갖는 화합물로서, 하기 식 [2]로 표시된다.
[화학식 11]
Figure pct00011
(식 중, X2는 2가의 벤젠, 티오펜, 퓨란 또는 플루오렌을 나타내고, X3은 수소원자, 할로겐원자, CF3, 탄소원자수 1 내지 6의 알콕시기 또는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.)
이와 같은 개질 화합물의 예로는, 하기 식 [K1] 내지 하기 식 [K11]의 화합물 등을 들 수 있다.
[화학식 12]
Figure pct00012

<개질 화합물의 합성>
본 발명에 이용되는 개질 화합물의 합성방법은, 유기합성화학의 방법을 조합하여 합성할 수 있으며, 특별한 제한은 없지만, 예를 들면, 이하의 방법으로 합성할 수 있다.
본 발명에 이용되는 상기 식 [2]로 표시되는 개질 화합물은, 아래의 합성 스킴(S1)으로 나타내는 바와 같이, 화합물(i)로 표현되는 알코올을 무수크롬산이나 과망간산을 사용하여 산화시킴으로써 합성할 수 있다.
[화학식 13]
Figure pct00013
(식 중, X2 및 X3은, 상기 식 [2]에 기재된 정의와 동일하다.)
합성 스킴(S1) 중에서, 상기 식 (i)로 표현되는 알코올은, 아래의 합성 스킴(S2)과 같이, 식 (ii)로 표현되는 알데히드와 에티닐마그네슘브로마이드를 반응시킴으로써 합성할 수 있다.
[화학식 14]
Figure pct00014
(식 중, X2 및 X3은, 상기 식 [2]에 기재된 정의와 동일하다.)
상기 합성 스킴(S1) 및 (S2)의 합성 스킴에서 이용하는 원료는, 필요에 따라 시판 중인 화합물을 이용할 수도 있으며, 별도로 합성하여 이용할 수도 있다.
<개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머>
상기 서술한 트리아로일벤젠 골격 폴리머는, 그 일부의 말단에, 고리화 3량화 반응시에 첨가한 아민화합물에서 유래하는, 예를 들면, 식 [W1]로 표시되는 에나민 구조를 갖고 있다.
[화학식 15]
Figure pct00015
(식 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소원자수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, 바람직하게는 탄소원자수 2 또는 3의 알킬기를 나타내거나, 혹은 R1과 R2는 서로 결합되는 질소원자와 함께 환상 구조를 형성할 수도 있다.)
이 부위에 상기 식 [2]로 표시되는 화합물을 반응시킨 중합체가, 본 발명의 개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머(이하, 개질 폴리머라고도 함)이다.
해당 개질 폴리머는, 개질하기 전의 트리아로일벤젠 골격 폴리머보다 내열성이 향상될 뿐 아니라, 투명성이 현격히 향상된다.
<트리아로일벤젠 골격 폴리머의 말단 개질 반응>
트리아로일벤젠 골격 폴리머를 1,4-디옥산 등의 유기용매에 용해하고, 상기 식 [2]로 표시되는 말단 개질 화합물을 넣어, 환류 하에 반응시키면 트리아로일벤젠 골격 폴리머의 말단을 개질할 수 있다. 반응에 의해 생성되는 저분자량의 화합물은, 메탄올이나 에탄올 등의 빈용매에 의해 재침전을 행함으로써 제거할 수 있다. 저분자량의 화합물을 제거하기 위해서는 재침전을 여러번 반복하여 행하는 것이 바람직하다. 또한, 말단 개질 화합물의 첨가량은, 폴리머의 상기 식 [1]로 표시되는 모노머 환산 몰수 1몰에 대하여 0.5 내지 4몰이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 3몰이다.
<피막 형성용 도포액>
본 발명의 피막 형성용 도포액은, 통상적으로, 개질 폴리머가 유기용매에 용해된 용액이다. 또한, 경우에 따라서, 후술하는 그 밖의 첨가제를 함유하는 용액이다. 이 때, 용액 중에 포함되는 개질 폴리머의 농도는, 개질 폴리머가 균일하게 용해되고 있는 한 특별한 제한은 없다. 통상적으로는 원하는 막 두께에 맞춰 적당히 선택된다. 1 내지 50질량%의 범위에서 사용하는 것이 일반적이다.
또한, 본 발명의 피막 형성용 도포액에 이용되는 유기용매는, 개질 폴리머가 균일하게 용해되는 한 특별한 제한은 없다.
이와 같은 유기용매로서는, 예를 들면, 테트라히드로퓨란, 디옥산 등의 에테르류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; N,N-디메틸포름아미드, N-메틸-2-피롤리돈 등의 질소 함유 용매; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 유산에틸 등의 에스테르류; 2-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸 등의 알콕시에스테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르 등의 디글리콜디알킬에스테르류; 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 디글리콜모노알킬에테르류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 카비톨아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 글리콜모노알킬에테르에스테르류; 시클로헥사논, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헵타논 등의 케톤류를 들 수 있다.
이들 유기용매는 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 이 중에서도 지구환경, 작업환경에 대한 안전성의 관점에서 볼 때, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 유산에틸, 시클로헥사논이 바람직하다.
<그 밖의 첨가제>
본 발명의 피막 형성용 도포액에는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 그 밖의 첨가제로서, 밀착촉진제, 계면활성제, 안료, 염료, 저장안정제, 소포제 등을 포함하고 있어도 된다.
<밀착촉진제>
본 발명의 피막 형성용 도포액은, 기판과의 밀착성을 향상시키기 위한 목적으로, 밀착촉진제를 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 여러 종류의 밀착촉진제를 조합하여 사용해도 된다.
이와 같은 밀착촉진제로서는, 예를 들면, 트리메틸클로로실란, 디메틸비닐클로로실란, 메틸디페닐클로로실란, 클로로메틸디메틸클로로실란 등의 클로로실란류; 트리메틸메톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸비닐에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 페닐트리에톡시실란 등의 알콕시실란류; 헥사메틸디실라잔, N,N'-비스(트리메틸실릴)우레아, 디메틸트리메틸실릴아민, 트리메틸실릴이미다졸 등의 실라잔류; 비닐트리클로로실란, γ-클로로프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-(N-피페리디닐)프로필트리메톡시실란 등의 실란류; 벤조트리아졸, 벤즈이미다졸, 인다졸, 이미다졸, 2-메르캅토벤즈이미다졸, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 우라졸, 티오우라실, 메르캅토이미다졸, 메르캅토피리미딘 등의 복소환상(複素環狀)화합물; 1,1-디메틸우레아, 1,3-디메틸우레아 등의 요소, 또는 티오요소화합물 등을 들 수 있다.
이들 밀착촉진제의 사용 비율은, 개질 폴리머 100질량부에 대하여, 통상 20질량부 이하, 바람직하게는 1 내지 10질량부이다.
<계면활성제>
본 발명의 피막 형성용 도포액은, 기판과의 친화성을 향상시키기 위한 목적으로, 계면활성제를 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 계면활성제는, 특히 한정되어 있지 않지만, 예를 들면, 불소계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제, 비이온계 계면활성제 등을 들 수 있다. 이 중에서도 기판과의 친화성 개선 효과가 높은 불소계 계면활성제가 바람직하다.
불소계 계면활성제의 구체예로는(이하, 상품명), EFTOP EF301, EF303, EF352(Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd.(구 Jemco Co.,Ltd) 제조), MEGAFAC F171, F173, R-30(DIC Corporation(구 Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 제조), FLUORAD FC430, FC431(Sumitomo 3M Limited. 제조), ASAHI GUARD AG710, SURFLON S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106(Asahi Glass Co., Ltd. 제조) 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 또한, 계면활성제는, 여러 종류를 조합하여 사용할 수도 있다.
<필름>
본 발명의 필름을 얻는 방법으로는, 상기 피막 형성용 도포액을 스핀코팅법, 캐스팅법, 다이코팅법이나 잉크젯법 등의 방법에 의해 기판에 도포하는 방법을 들 수 있다. 기판으로는, 유리, 실리콘 웨이퍼, 석영, 플라스틱 시트, 칼라 필터, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 플라스틱 필름 등을 사용할 수 있다. 그리고, 이들 기판의 일방에, ITO 등의 기능성 박막이 형성된 유리, 플라스틱 시트, 플라스틱 필름 그리고 스테인리스 스틸, 크롬 및 알루미늄 등의 금속을 도금 혹은 증착시킨 벨트나 드럼을 사용하는 것도 가능하다. 상기 피막 형성용 도포액을 기판 상에 도포한 후에, 온도 80 내지 130도에서 건조시킴으로써 본 발명의 필름을 형성할 수 있다.
이 필름은, 내열성이 우수할 뿐 아니라, 투명성도 우수하다. 특히, 근자외광의 투과율이 높다는 특징을 갖는다.
[실시예]
이하에 실시예를 통해 본 발명을 더욱 상세하게 설명하는데, 이것에 한정되는 것은 아니다. 한편, 실시예에서 사용한 각 측정방법은 아래와 같다.
[NMR의 측정]
화합물을 중수소화 클로로포름에 용해한 후, 400MHz의 1H NMR(Varian, Inc 제조)을 이용하여 측정하였다.
[분자량 측정]
시료를 0.5질량%가 되도록 고속 크로마토그래피용 테트라히드로퓨란에 용해한 후, Shodex제 상온 겔침투 크로마토그래피(이하, GPC라고 함) 장치를 이용하여 측정하였다. 이 측정에 의해, 폴리스티렌 환산의 수평균 분자량 및 중량평균 분자량을 얻었다. 이 때, 컬럼은, Showa Denko K.K. 제조의 컬럼(Shodex GPC KF-803L)을 사용하였다.
[5%중량 감소 온도 측정]
5%중량 감소 온도는, Bruker AXS K.K.(구 (주)MAC Science Ltd.) 제조의 시차열 천칭(TG-DTA2000SR)(이하, TG-DTA라고 함)을 이용하여 측정하였다.
[투과율측정]
중합체(1.5g), 불소계 계면활성제(R-30) 1.2mg, 시클로헥사논 8.5g을 혼합하여 피막 형성용 도포액을 조제하였다. 이 피막 형성용 도포액을 스핀코팅법에 의해 석영기판에 도포한 뒤, 온도 110도에서 2분간 소성하여 막 두께 1마이크로미터의 필름을 제작하였다. 제작된 필름의 투과율은, 분광 광도계(UV3100PC, Shimadzu Corporation 제조)를 이용하여, 파장 400나노미터에서의 투과율을 측정하였다.
<합성예 1> 상기 식 [2]로 표시되는 화합물(화합물 M1)의 합성
에티닐마그네슘브로마이드의 0.5M 테트라히드로퓨란(이하, THF라도고 함)용액 594.0mL를 2L의 4구 플라스크에 넣고, 2-플루오렌카르복시알데히드 19.2g 및 THF 600mL의 혼합용액을 온도 0도 하에 적하하였다. 적하 종료 후, 실온에서 15시간 교반하였다. 반응 종료 후, 20중량% 염화암모늄 수용액을 첨가하고, 아세트산에틸을 넣어 유기층을 추출하였다. 유기층을 포화식염수로 세척한 후, 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수 건조하고, 여과한 후에, 회전증발기(rotary evaporator)를 이용하여 용매를 유거하였다.
얻어진 잔사에 아세톤 200mL를 첨가하여 용해한 후, 무수크롬산 52g, 물 200mL 및 황산 23mL의 혼합용액을, 온도 0도 하에 용액이 적색으로 변할 때까지 적하하였다. 적하 종료 후, 실온에서 15시간 교반하고, 2-프로판올을 30mL 첨가하여 1시간 교반하였다. 석출물을 여과에 의해 제거한 다음, 용매를 회전증발기를 이용해 유거하였다. 잔사에 포화 중조수(重曹水)를 첨가한 다음, 클로로포름을 사용하여 분액하였다. 유기층을 포화식염수로 세척한 후, 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수 건조하고, 여과한 후에, 회전증발기를 이용하여 용매를 유거하였다. 잔사를 실리카 컬럼 크로마토그래피(디클로로메탄)에 의해 정제하여 엷은 황색 고체 20.0g을 얻었다.
이 엷은 황색 고체를 NMR로 측정한 결과를 이하에 나타낸다. 이 결과로부터, 얻어진 엷은 황색 고체가, 하기 식(M1)로 표현되는 화합물인 것을 확인하였다.
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ8.33(d,1H), 8.26-8.21(m,1H), 7.89(s,1H), 7.87(s,1H), 7.63-7.61(m,1H), 7.47-7.38(m,2H), 3.98(s,2H), 3.45(s,1H)
[화학식 16]
Figure pct00016

<합성예 2> 상기 식 [2]로 표시되는 화합물(화합물 M2)의 합성
2L의 4구 플라스크에, 2-티오펜카르복시알데히드 20.9g 및 THF 500mL를 첨가하고, 온도 0도 하에 0.5M 에티닐마그네슘브로마이드 THF용액 410mL를 적하하였다. 적하 종료 후, 실온에서 4시간 교반하였다. 반응 종료 후, 20중량% 염화암모늄 수용액을 첨가하고, 아세트산에틸을 넣어 유기층을 추출하였다. 유기층을 포화식염수로 세척한 후, 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수 건조하고, 여과한 후에, 회전증발기를 이용하여 용매를 유거하였다.
얻어진 잔사에 아세톤 400mL를 첨가하여 용해한 후, 무수크롬산 52g, 물 200mL 및 황산 23mL의 혼합용액을, 온도 0도 하에 용액이 적색으로 변할 때까지 적하하였다. 적하 종료 후, 실온에서 15시간 교반하고, 2-프로판올을 30mL 첨가하여 1시간 교반하였다. 석출물을 여과에 의해 제거한 다음, 용매를 회전증발기를 이용해 유거하였다. 잔사에 포화 중조수를 첨가한 다음, 클로로포름을 사용하여 분액하였다. 유기층을 포화식염수로 세척한 후, 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수 건조하고, 여과한 후에, 회전증발기를 이용하여 용매를 유거하였다. 잔사를 실리카 컬럼 크로마토그래피(디클로로메탄)에 의해 정제하여 갈색 고체 21.7g을 얻었다.
상기 갈색 고체를 NMR로 측정한 결과는 다음과 같다. 이 결과로부터, 얻어진 갈색 고체가, 하기 식(M2)로 표현되는 화합물인 것을 확인하였다.
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ7.98(dd,1H),7.75(dd,1H),7.18(dd,1H),3.36(s,1H)
[화학식 17]
Figure pct00017

<합성예 3> 상기 식 [2]로 표시되는 화합물(화합물 M3)의 합성
1L의 4구 플라스크에, 4-메톡시벤즈알데히드 15.1g 및 THF 200mL를 첨가하고, 온도 0도 하에 0.5M 에티닐마그네슘브로마이드 THF용액 232mL를 적하하였다. 적하 종료 후, 실온에서 24시간 교반하였다. 반응 종료 후, 20중량% 염화암모늄 수용액을 첨가하고, 아세트산에틸을 넣어 유기층을 추출하였다. 유기층을 포화식염수로 세척한 후, 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수 건조하고, 여과한 후에, 회전증발기를 이용하여 용매를 유거하였다.
얻어진 잔사에 아세톤 400mL를 첨가하여 용해한 후, 무수크롬산 52g, 물 200mL 및 황산 23mL의 혼합용액을, 온도 0도 하에 용액이 적색으로 변할 때까지 적하하였다. 적하 종료 후, 실온에서 15시간 교반하고, 2-프로판올을 40mL 첨가하여 1시간 교반하였다. 석출물을 여과에 의해 제거한 다음, 용매를 회전증발기를 이용해 유거하였다. 잔사에 포화 중조수를 첨가한 다음, 클로로포름을 사용하여 분액하였다. 유기층을 포화식염수로 세척한 후, 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수 건조하고, 여과한 후에, 회전증발기를 이용하여 용매를 유거하였다. 잔사를 실리카 컬럼 크로마토그래피(디클로로메탄)에 의해 정제하여 엷은 황색 고체 15.4g을 얻었다.
상기 엷은 황색 고체를 NMR로 측정한 결과를 이하에 나타낸다. 이 결과로부터, 얻어진 엷은 황색 고체가, 하기 식(M3)로 표현되는 화합물인 것을 확인하였다.
1H NMR(400MHz,CDCl3): δ8.16-8.12(m,2H), 6.99-6.95(m,2H), 3.90(s,3H), 3.37(s,1H)
[화학식 18]
Figure pct00018

<합성예 4> 상기 식 [1]로 표시되는 화합물(화합물 M4)의 합성
1L의 가지형 플라스크에, 3-히드록시벤즈알데히드 23.2g, α,α'-디브로모-o-크실렌 25.1g, 탄산칼륨 52.6g 및 아세토니트릴 700mL를 첨가하고, 환류 하에 6시간 교반하였다. 반응 종료 후, 침전물을 여과에 의해 제거한 다음, 용매를 회전증발기를 이용하여 유거하고, 잔사를 실리카 컬럼 크로마토그래피(헥산/아세트산에틸=3/1)에 의해 정제하여 백색 고체 20.3g을 얻었다.
그 다음, 얻어진 백색 고체 19.3g 및 THF 230mL를 1L의 4구 플라스크에 넣고, 온도 0도 하에 0.5M 에티닐마그네슘브로마이드 THF용액 230mL를 적하하였다. 적하 종료 후, 실온에서 2시간 교반하였다. 반응 종료 후, 10중량% 염화암모늄 수용액을 첨가하고, 클로로포름을 넣어 유기층을 추출하였다. 유기층을 포화식염수로 세척한 후, 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수 건조하고, 여과한 후에, 회전증발기를 이용하여 용매를 유거하였다. 잔사를 실리카 컬럼 크로마토그래피(헥산/아세트산에틸=1/1)에 의해 정제하여 황색 고체 19.6g을 얻었다.
그 다음, 얻어진 황색 고체 18.4g에 아세톤 370mL를 첨가하여 용해한 후, 무수크롬산 52g, 물 200mL 및 황산 23mL의 혼합용액을, 온도 0도 하에 용액이 적색으로 변할 때까지 적하하였다. 적하 종료 후, 실온에서 2시간 교반하고, 2-프로판올80mL를 첨가하여 1시간 교반하였다. 석출물을 여과에 의해 제거한 다음, 용매를 회전증발기를 이용해 유거하였다. 잔사에 포화 중조수를 첨가한 다음, 클로로포름을 사용하여 분액하였다. 유기층을 포화식염수로 세척한 후, 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수 건조하고, 여과한 후에, 회전증발기를 이용하여 용매를 유거하였다. 잔사를 실리카 컬럼 크로마토그래피(디클로로메탄)에 의해 정제하여 엷은 황색 고체 13.2g을 얻었다.
상기 엷은 황색 고체를 NMR로 측정한 결과를 이하에 나타낸다. 이 결과로부터, 얻어진 엷은 황색 고체가, 하기 식(M4)로 표현되는 화합물인 것을 확인하였다.
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ7.81-7.77(m,2H), 7.72-7.69(m,2H), 7.56-7.51(m,2H), 7.44-7.37(m,4H), 7.23(ddd,2H), 5.24(s,4H), 3.41(s,2H)
[화학식 19]
Figure pct00019

<합성예 5> 상기 식 [1]로 표시되는 화합물(화합물 M5)의 합성
1L의 가지형 플라스크에, 3-히드록시벤즈알데히드 23.5g, α,α'-디브로모-p-크실렌 25.4g, 탄산칼륨 26.6g 및 아세토니트릴 700mL를 첨가하고, 환류 하에 6시간 교반하였다. 반응 종료 후, 침전물을 여과에 의해 제거한 다음, 용매를 회전증발기를 이용해 유거하였다. 잔사를 아세토니트릴로 세척하여, 백색 고체 32.4g을 얻었다.
그 다음, 얻어진 백색 고체 31.9g 및 THF 2L를 3L의 4구 플라스크에 넣고, 온도 0도 하에 0.5M 에티닐마그네슘브로마이드 THF용액 410mL를 적하하였다. 적하 종료 후, 실온에서 16시간 교반하였다. 반응 종료 후, 10중량% 염화암모늄 수용액을 첨가하고, 클로로포름을 넣어 유기층을 추출하였다. 유기층을 포화식염수로 세척한 후, 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수 건조하고, 여과한 후에, 회전증발기를 이용하여 용매를 유거하였다.
잔사에 아세톤 400mL를 첨가하여 용해한 후, 무수크롬산 52g, 물 200mL 및 황산 23mL의 혼합용액을, 온도 0도 하에 용액이 적색으로 변할 때까지 적하하였다. 적하 종료 후, 실온에서 15시간 교반하고, 2-프로판올을 40mL 첨가하여 1시간 교반하였다. 석출물을 여과에 의해 제거한 다음, 용매를 회전증발기를 이용해 유거하였다. 잔사에 포화 중조수를 첨가한 다음, 클로로포름을 사용하여 분액하였다. 유기층을 포화식염수로 세척한 후, 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수 건조하고, 여과한 후에, 회전증발기를 이용하여 용매를 유거하였다. 잔사를 실리카 컬럼 크로마토그래피(디클로로메탄)에 의해 정제하여 엷은 황색 고체 24.3g을 얻었다.
상기 엷은 황색 고체를 NMR로 측정한 결과를 이하에 나타낸다. 이 결과로부터, 얻어진 엷은 황색 고체가, 하기 식(M5)로 표현되는 화합물인 것을 확인하였다. 1H NMR(400MHz,CDCl3):δ7.84-7.78(m,2H), 7.75-7.70(m,2H), 7.50-7.36(m,6H), 7.28-7.22(m,2H), 5.14(s,4H), 3.41(s,2H)
[화학식 20]
Figure pct00020

<합성예 6> 상기 식 [1]로 표시되는 화합물(화합물 M6)의 합성
2L의 가지형 플라스크에, 4-히드록시벤즈알데히드 39.2g, 1,2-비스(2-클로로에톡시)에탄 30.0g, 탄산칼륨 88.7g 및 N,N-디메틸포름아미드 1L를 첨가하고, 온도 60도에서 24시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응용액을 순수 6L에 부어 침전물을 여과하였다. 얻어진 고체를 에탄올을 이용해 재결정하여 고체 33.3g을 얻었다.
그 다음, 얻어진 고체 30.0g 및 THF 840mL를 2L의 4구 플라스크에 넣고, 온도 0도하에 0.5M 에티닐마그네슘브로마이드 THF용액 368mL를 적하하였다. 적하 종료 후, 실온에서 2시간 교반하였다. 반응 종료 후, 10중량% 염화암모늄 수용액을 첨가하고, 아세트산에틸을 넣어 유기층을 추출하였다. 유기층을 포화식염수로 세척한 후, 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수 건조하고, 여과한 후에, 회전증발기를 이용하여 용매를 유거하였다. 얻어진 고체에 아세톤 840mL를 첨가하여 용해한 후, 무수크롬산 52g, 물 200mL 및 황산 23mL의 혼합용액을, 온도 0도하에 용액이 적색으로 변할 때까지 적하하였다. 적하 종료 후, 실온에서 2시간 교반하고, 2-프로판올을 4mL 첨가하여 1시간 교반하였다. 석출물을 여과에 의해 제거한 다음, 용매를 회전증발기를 이용해 유거하였다. 잔사에 포화 중조수를 첨가한 다음, 디클로로메탄을 사용하여 분액하였다. 유기층을 포화식염수로 세척한 후, 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수 건조하고, 여과한 후에, 회전증발기를 이용하여 용매를 유거하였다. 잔사를 실리카 컬럼 크로마토그래피(디클로로메탄/아세토니트릴=10/1)에 의해 정제하여 엷은 황색 고체 25.4g을 얻었다.
상기 엷은 황색 고체를 NMR로 측정한 결과를 이하에 나타낸다. 이 결과로부터, 얻어진 엷은 황색 고체가, 하기 식(M6)로 표현되는 화합물인 것을 확인하였다. 1H NMR(400MHz,CDCl3):δ8.14-8.09(m,4H), 6.99-6.94(m,4H), 4.23-4.18(m,4H), 3.92-3.87(m,4H), 3.76(s,4H), 3.38(s,2H)
[화학식 21]
Figure pct00021

<중합예 1> 중합체 P1의 합성
합성예 4에서 얻은 화합물(M4) 7.7g 및 1,4-디옥산 78.4mL를 200mL의 가지형 플라스크에 넣고, 용기 내를 질소 분위기로 하였다. 반응용액에 피페리딘 0.58mL를 첨가하고, 환류 하에 24시간 교반하였다. 반응 종료 후, 상기 반응액을 메탄올 1L 안에 투입하여 침전된 황색 고체를 여과한 후에 감압 건조시켜 7.1g의 중합체 P1을 얻었다. GPC에 의해 중합체 P1의 분자량을 측정한 결과, 수평균 분자량 1,600, 중량평균 분자량 4,300인 것을 확인하였다.
상기 중합체 P1의 5%중량 감소 온도는 366℃였으며, 중합체 P1을 이용한 피막 형성용 도포액으로부터 얻어진 필름의 파장 400㎚에서의 투과율은 46.5%였다.
<중합예 2> 중합체 P2의 합성
합성예 5에서 얻은 화합물(M5) 7.8g 및 1,4-디옥산 320mL를 500mL의 가지형 플라스크에 넣고, 용기 내를 질소 분위기로 하였다. 반응용액에 피페리딘 0.59mL를 첨가하고, 환류 하에 24시간 교반하였다. 반응 종료 후, 상기 반응액을 메탄올 3,600mL 내에 투입하여, 침전된 황색 고체를 여과한 후에 감압 건조시켜 7.1g의 중합체 P2를 얻었다. GPC에 의해 중합체 P2의 분자량을 측정한 결과, 수평균 분자량 3,500, 중량평균 분자량 10,200인 것을 확인하였다.
상기 중합체 P2의 5%중량 감소 온도는 372℃였으며, 중합체 P2를 이용한 피막 형성용 도포액으로부터 얻어진 필름의 파장 400㎚에서의 투과율은 38.1%였다.
<중합예 3> 중합체 P3의 합성
합성예 6에서 얻은 화합물(M6) 8.6g 및 1,4-디옥산 173mL를 300mL의 가지형 플라스크에 넣고, 용기 내를 질소 분위기로 하였다. 반응용액에 피페리딘 0.63mL를 첨가하고, 환류 하에 24시간 교반하였다. 반응 종료 후, 용매를 회전증발기를 이용하여 유거하고, 디클로로메탄 100mL를 첨가하여 용해하였다. 상기 용액을 메탄올 2L에 투입하여, 침전된 황색 고체를 여과한 후에 감압 건조시켜 6.8g의 중합체 P3을 얻었다. GPC에 의해 중합체 P3의 분자량을 측정한 결과, 수평균 분자량 2,100, 중량평균 분자량 7,900인 것을 확인하였다.
상기 중합체 P3의 5%중량 감소 온도는 387℃였다.
<실시예1> 중합체 Z1의 합성/상기 화합물 M2에 의한 중합체 P1의 개질
중합예 1에서 얻은 중합체 P1 2.5g, 화합물(M2) 2.6g 및 1,4-디옥산 50mL를 100mL의 가지형 플라스크에 넣고, 질소 분위기하, 환류 조건에서 24시간 교반하였다. 반응 종료 후, 상기 반응액을 메탄올 800mL 내에 투입하여, 침전된 황색 고체를 여과에 의해 회수하였다. 얻어진 고체를 1,4-디옥산에 용해하고, 재침전을 2번 행하여 정제시켜, 2.4g의 중합체 Z1을 얻었다. GPC에 의해 중합체 Z1의 분자량을 측정한 결과, 수평균 분자량 2,000, 중량평균 분자량 4,700인 것을 확인하였다.
상기 중합체 Z1의 5%중량 감소 온도는 382℃였으며, 중합체 Z1을 이용한 피막 형성용 도포액으로부터 얻어진 필름의 파장 400㎚에서의 투과율은 74.5%였다.
<실시예2> 중합체 Z2의 합성/상기 화합물 M1에 의한 중합체 P2의 개질
중합예 2에서 얻은 중합체 P2를 2.3g, 화합물(M1) 3.8g 및 1,4-디옥산 110mL를 200mL의 가지형 플라스크에 넣고, 질소 분위기하의, 환류 조건에서 48시간 교반하였다. 반응 종료 후, 상기 반응액을 메탄올 1,500mL 내에 투입하여, 침전된 황색 고체를 여과에 의해 회수하였다. 얻어진 고체를 1,4-디옥산에 용해하고, 재침전을 5번 행하여 정제시켜 1.8g의 중합체 Z2를 얻었다. GPC에 의해 중합체의 분자량을 측정한 결과, 수평균 분자량 5,300, 중량평균 분자량 13,200인 것을 확인하였다.
상기 중합체 Z2의 5%중량 감소 온도는 389℃였으며, 중합체 Z2를 이용한 피막 형성용 도포액으로부터 얻어진 필름의 파장 400㎚에서의 투과율은 84.5%였다.
<실시예3> 중합체 Z3의 합성/상기 화합물 M2에 의한 중합체 P2의 개질
중합예 2에서 얻은 중합체 P2를 2.3g, 화합물(M2) 2.4g 및 1,4-디옥산 110mL를 200mL의 가지형 플라스크에 넣고, 질소 분위기하, 환류 조건에서 24시간 교반하였다. 반응 종료 후, 상기 반응액을 메탄올 1,500mL 내에 투입하여, 침전된 황색 고체를 여과에 의해 회수하였다. 얻어진 고체를 1,4-디옥산에 용해하고, 재침전을 4번 행하여 정제시켜 2.2g의 중합체 Z3을 얻었다. GPC에 의해 중합체의 분자량을 측정한 결과, 수평균 분자량 4,200, 중량평균 분자량 12,800인 것을 확인하였다.
상기 중합체 Z3의 5%중량 감소 온도는 385℃였으며, 중합체 Z3을 이용한 피막 형성용 도포액으로부터 얻어진 필름의 파장 400㎚에서의 투과율은 91.2%였다.
<실시예4> 중합체 Z4의 합성/상기 화합물 M3에 의한 중합체 P2의 개질
중합예 2에서 얻은 중합체 P2를 2.8g, 화합물(M3) 3.0g 및 1,4-디옥산 132mL를 200mL의 가지형 플라스크에 넣고, 질소 분위기 하, 환류 조건에서 24시간 교반하였다. 반응 종료 후, 상기 반응액을 메탄올 1,500mL 내에 투입하여, 침전된 황색 고체를 여과에 의해 회수하였다. 얻어진 고체를 1,4-디옥산에 용해하고, 재침전을 2번 행하여 정제시켜 2.6g의 중합체 Z4를 얻었다. GPC에 의해 중합체의 분자량을 측정한 결과, 수평균 분자량 5,200, 중량평균 분자량 25,200인 것을 확인하였다.
상기 중합체 Z4의 5%중량 감소 온도는 393℃였으며, 중합체 Z4를 이용한 피막 형성용 도포액으로부터 얻어진 필름의 파장 400㎚에서의 투과율은 78.3%였다.
<실시예5> 중합체 Z5의 합성/상기 화합물 M2에 의한 중합체 P3의 개질
중합예 3에서 얻은 중합체 P3을 2.0g, 화합물(M2) 2.0g 및 1,4-디옥산 94mL를 200mL의 가지형 플라스크에 넣고, 질소 분위기 하, 환류 조건에서 24시간 교반하였다. 반응 종료 후, 용매를 유거하고, 디클로로메탄 50mL에 용해하였다. 그 용액을 메탄올 1,300mL 내에 투입하여, 침전된 황색 고체를 여과에 의해 회수하였다. 얻어진 고체를 1,4-디옥산에 용해하고, 재침전을 3번 행하여 정제시켜 1.6g의 중합체 Z5를 얻었다. GPC에 의해 중합체 Z5의 분자량을 측정한 결과, 수평균 분자량 3,700, 중량평균 분자량 14,100인 것을 확인하였다.
상기 중합체 Z5의 5%중량 감소 온도는 410℃였다.
한편, 상기 중합예 1 내지 3, 그리고 실시예1 내지 5에서 얻은 결과를 정리하면 아래의 표 1과 같다.
표 1: 중합예 및 실시예에서 얻은 필름의 투과율 및 5%중량 감소 온도

개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머 투과율(%)
λ=400㎚ 		5%중량 감소 온도(℃)
No 모노머 폴리머 개질제 개질전 개질후 개질전 개질후 차
실시예1 Z1 M4 P1 M2 46.5 74.5 366 382 16
실시예2 Z2 M5 P2 M1 38.1 84.5 372 389 17
실시예3 Z3 M5 P2 M2 38.1 91.2 372 385 13
실시예4 Z4 M5 P2 M3 38.1 78.3 372 393 21
실시예5 Z5 M6 P3 M2 - - 387 410 23
상기의 결과를 통해, 중합체 Z1 내지 Z5를 이용한 피막 형성용 도포액으로부터 얻어진 필름은 모두, 중합체 P1 내지 P3을 이용한 피막 형성용 도포액으로부터 얻어진 필름보다 높은 투명성 및 높은 내열성을 가짐을 확인하였다.
[산업상 이용가능성]
본 발명의 폴리머는, 예를 들면, 표시장치나 기록재료 등의 광학 특성을 갖는 재료, 액정표시소자(LCD)로 이용되는 박막 트랜지스터(TFT)의 층간절연막, 칼라 필터의 보호막 및 평탄화막, 마이크로렌즈 재료, 유기 EL소자의 절연막 등에 유용하다.

Claims (12)

  1. 하기 식 [1]로 표시되는 화합물을 중합한 중합체의 말단이, 하기 식 [2]로 표시되는 화합물로 개질된 트리아로일벤젠 골격 폴리머.
    [화학식 1]
    Figure pct00022

    [식 중,
    X1은, 하기 식 [1a], 식 [1b] 또는 식 [1c]
    [화학식 2]
    Figure pct00023

    (식 중, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내고, n은 1 내지 6의 정수를 나타내고, m은 1 내지 6의 정수를 나타낸다.)로 표현되는 2가의 기를 나타내고,
    X2는, 2가의 벤젠, 티오펜, 퓨란 또는 플루오렌을 나타내고,
    X3은, 수소원자, 할로겐원자, CF3, 탄소원자수 1 내지 6의 알콕시기 또는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.]
  2. 제1항에 있어서,
    상기 식 [1] 중 X1이, 상기 식 [1a] 또는 식 [1b]로 표시되는 2가의 기를 나타내는 트리아로일벤젠 골격 폴리머.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 식 [1a]에 있어서 Y1 및 Y2가 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내는 트리아로일벤젠 골격 폴리머.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 식 [1a]에 있어서 Y1 및 Y2가 탄소원자수 1의 메틸렌기를 나타내는 트리아로일벤젠 골격 폴리머.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 식 [1b]에 있어서 n이 1 내지 3의 정수를 나타내는 트리아로일벤젠 골격 폴리머.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 트리아로일벤젠 골격 폴리머를 함유하는 피막 형성용 도포액.
  7. 제6항에 기재된 피막 형성용 도포액으로부터 얻어지는 필름.
  8. 하기 식 [1]로 표시되는 화합물을 아민 존재 하에 중합한 중합체의 말단에, 하기 식 [2]로 표시되는 화합물을 반응시키는 것을 포함하는, 트리아로일벤젠 골격 폴리머의 제조방법.
    [화학식 3]
    Figure pct00024

    [식 중,
    X1은, 하기 식 [1a], 식 [1b] 또는 식 [1c]
    [화학식 4]
    Figure pct00025

    (식 중, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내고, n은 1 내지 6의 정수를 나타내고, m은 1 내지 6의 정수를 나타낸다.)로 표현되는 2가의 기를 나타내고,
    X2는, 2가의 벤젠, 티오펜, 퓨란 또는 플루오렌을 나타내고,
    X3은, 수소원자, 할로겐원자, CF3, 탄소원자수가 1 내지 6의 알콕시기 또는 탄소원자수가 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.]
  9. 제8항에 있어서,
    상기 식 [1] 중 X1이, 상기 식 [1a] 또는 식 [1b]로 표시되는 2가의 기를 나타내는 트리아로일벤젠 골격 폴리머의 제조방법.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 식 [1a] 중 Y1 및 Y2가 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내는 트리아로일벤젠 골격 폴리머의 제조방법.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 식 [1b] 중 n이 1 내지 3의 정수를 나타내는 트리아로일벤젠 골격 폴리머의 제조방법.
  12. 하기 식 [3]로 표시되는 화합물.
    [화학식 5]
    Figure pct00026
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