KR20110020863A - 전류 감지 회로를 위한 장치 및 집적 전류 센서 - Google Patents
전류 감지 회로를 위한 장치 및 집적 전류 센서 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20110020863A KR20110020863A KR1020107029241A KR20107029241A KR20110020863A KR 20110020863 A KR20110020863 A KR 20110020863A KR 1020107029241 A KR1020107029241 A KR 1020107029241A KR 20107029241 A KR20107029241 A KR 20107029241A KR 20110020863 A KR20110020863 A KR 20110020863A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- disposed
- current
- circuit
- magnetic field
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R15/00—Details of measuring arrangements of the types provided for in groups G01R17/00 - G01R29/00, G01R33/00 - G01R33/26 or G01R35/00
- G01R15/14—Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks
- G01R15/20—Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks using galvano-magnetic devices, e.g. Hall-effect devices, i.e. measuring a magnetic field via the interaction between a current and a magnetic field, e.g. magneto resistive or Hall effect devices
- G01R15/207—Constructional details independent of the type of device used
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R15/00—Details of measuring arrangements of the types provided for in groups G01R17/00 - G01R29/00, G01R33/00 - G01R33/26 or G01R35/00
- G01R15/14—Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks
- G01R15/20—Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks using galvano-magnetic devices, e.g. Hall-effect devices, i.e. measuring a magnetic field via the interaction between a current and a magnetic field, e.g. magneto resistive or Hall effect devices
- G01R15/202—Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks using galvano-magnetic devices, e.g. Hall-effect devices, i.e. measuring a magnetic field via the interaction between a current and a magnetic field, e.g. magneto resistive or Hall effect devices using Hall-effect devices
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R15/00—Details of measuring arrangements of the types provided for in groups G01R17/00 - G01R29/00, G01R33/00 - G01R33/26 or G01R35/00
- G01R15/14—Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks
- G01R15/20—Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks using galvano-magnetic devices, e.g. Hall-effect devices, i.e. measuring a magnetic field via the interaction between a current and a magnetic field, e.g. magneto resistive or Hall effect devices
- G01R15/205—Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks using galvano-magnetic devices, e.g. Hall-effect devices, i.e. measuring a magnetic field via the interaction between a current and a magnetic field, e.g. magneto resistive or Hall effect devices using magneto-resistance devices, e.g. field plates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05553—Shape in top view being rectangular
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32135—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/32145—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/48137—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/48145—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49171—Fan-out arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Instrument Details And Bridges, And Automatic Balancing Devices (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
Abstract
전류를 감지하기 위한 전자 회로는 대향하는 제1 및 제2 표면들을 갖는 회로 기판 및 전류를 운반하는 전류 전도체를 포함한다. 상기 전류 전도체는 상기 회로 기판 상에 배치되는 회로 트레이스를 포함한다. 상기 전자 회로는 또한 상기 전류 전도체를 스트래들 하는 위치에서 상기 회로 기판에 전기적으로 연결되며 상기 회로 기판 상에 배치되는 집적 회로를 포함한다.
Description
본 발명은 대체로 전류 감지 회로에 관한 것이며, 보다 상세하게는 각각의 집적 전류 센서를 갖는 전류 감지 회로에 관한 것이다.
선행 기술에 공지된 바와 같이, 종래의 전류 센서의 일 형태는 전도체를 통과해 흐르는 전류와 연관된 자기장에 응답하여 전압을 발생시키는 홀 효과 소자(Hall effect element)를 사용하는 것이다. 상기 형태의 전형적인 전류 센서는 유전 물질, 예를 들면 회로 기판 상에 장착된 홀 효과 소자를 포함한다. 일부의 응용례들에서, 상기 홀 효과 소자의 근접부에 철강 코어(자속집중기)가 사용된다.
다른 형태의 전류 센서는 전도체를 통과해 흐르는 전류와 연관된 자기장에 응답하여 저항을 변화시키는 자기 저항 소자를 사용한다. 고정된 전류가 상기 자기저항 소자를 통해 인가되며, 따라서 상기 자기장에 비례한 전압 출력 신호가 발생된다. 상기 형태의 일부 종래의 전류 센서들은 유전 물질, 예를 들면 회로 기판 상에 장착된 이방성 자기저항(anisotropic magnetoresistance, AMR) 소자를 사용한다.
감도(sensitivity) 및 선형성(linearity)을 포함하는 다양한 변수들이 전류 센서의 성능을 특징짓는다. 감도는 상기 자기저항 소자의 변화 혹은 자기장 변화에 응답하여 발생하는 상기 홀 효과 소자로부터의 출력 전압 변화와 연관된다. 선형성은 상기 자기저항 소자의 저항 혹은 상기 홀 효과 소자로부터의 출력 전압이 자기장에 비례하여 직선형으로 변화하는 정도와 연관된다.
전류 센서를 특징짓는 또 다른 변수는 상기 전류 센서와 전도체 내의 전류를 측정하기 위해 상기 전류 센서가 인접하여 배치되는 전도체 사이의 최소한 소정의 브레이크다운(breakdown) 전압에 대한 내전압 능력이 포함된다.
전류 센서의 감도와 상술한 브레이크다운 전압사이에는 트레이드 오프(trade off) 관계가 존재한다. 즉, 고감도를 획득하기 위해서는 상기 전류 센서, 특히 상기 전류 센서 내의 전류(자기장) 감지 소자가 상기 전도체에 가능한 한 근접하여 배치되는 것이 바람직하다. 그러나, 상기와 같은 근접성은 상기 브레이크다운 전압을 감소시키는 경향이 있다.
전류 센서에 사용되는 다양한 형태의 자기장 감지 소자들(예를 들면, 홀 효과 소자 및 자기저항 소자)은 상이한 특성들을 갖는 것으로 알려져 있다. 상기 특성들은 상이한 감도, 상이한 선형성 및 자기장에 응답하는 상이한 히스테리시스(hysteresis) 특성들을 포함하며, 이에 한정되지 않는다. 또한, 다수의 형태의 자기저항 소자들이 홀 효과 소자 보다 고감도를 갖는 것으로 알려져 있다. 또한, 자기장 감지 소자의 특정 형태, 예를 들면 홀 효과 소자는 기판(즉, 감지막)이 상이한 물질들, 예를 들면 실리콘(Si) 및 갈륨비소화물(GaAs)을 포함할 때 실질적으로 상이한 감도를 갖는 것으로 알려져 있다.
상대적으로 고감도를 가지면서 또한 상대적으로 높은 브레이크다운 전압을 모두 갖는 전류 센서를 제공하는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 전류를 감지하기 위한 전자 회로는 대향하는 제1 및 제2 표면들을 갖는 회로 기판 및 전류를 운반하는 전류 전도체를 포함한다. 상기 전류 전도체는 상기 회로 기판 상에 배치된 회로 트레이스(trace)를 포함한다. 상기 전자 회로는 또한 상기 전류 전도체를 스트래들(straddle) 하는 위치에서 상기 회로 기판 상에 배치되고 상기 회로 기판과 전기적으로 연결되는 집적 회로를 포함한다. 상기 집적 회로는 상기 전류에 수반된 자기장을 감지하기 위한 자기저항 소자를 포함한다.
상기 장치에서, 상기 전자 회로는 상기 자기저항 소자 대신에 홀 효과 소자를 사용하는 경우에 얻어지는 감도에 비해 상기 전류에 대해 상대적으로 고감도를 갖는다.
상기 전류 전도체는 전류와 이에 수반되는 전압을 모두 운반하는 것으로 이해된다. 일부 장치들에서는, 상기 전류 전도체가 상기 회로 기판의 제2 면 상에 배치되고 상기 집적 회로는 상기 회로 기판의 제1 면 위로 배치된다. 상기와 같은 특정한 배열에 의해, 상기 전자 회로는 상대적으로 전류에 고감도를 가지며 또한 상기 전류 전도체 상의 전압에 대해 특히 높은 브레이크다운 전압을 갖는다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 전류를 감지하기 위한 전자 회로는 대향하는 제1 및 제2 표면들을 갖는 회로 기판 및 상기 전류를 운반하는 전류 전도체를 포함한다. 상기 전류 전도체는 회로 트레이스를 포함한다. 상기 전자 회로는 또한 상기 회로 기판 상에 배치되어 상기 회로 기판과 전기적으로 연결되는 집적 회로를 포함한다. 상기 집적 회로는 상기 전류에 수반되는 자기장을 감지하는 홀 효과 소자를 포함한다. 상기 전류 전도체는 상기 회로 기판의 제2 표면 상에 배치되고 상기 집적 회로는 상기 회로 기판의 제1 표면 상에 배치된다.
본 발명의 상기의 측면들 및 다른 측면들과 이점들은 수반하는 도면들과 함께 하기의 본 발명의 상세한 설명으로부터 더욱 완전히 이해될 수 있을 것이다.
도 1a는 기판의 표면 위로 배치된 자기장 감지 소자를 구비하는 집적 회로 전류 센서를 포함하며, 또한 전류 전도체를 포함하는 전자 회로를 나타내는 도면이다.
도 1b는 도 1a에 도시된 상기 전자 회로를 나타내는 단면도이다.
도 2a는 제1 및 제2 기판들을 구비하는 집적 회로 전류 센서, 상기 제2 기판의 표면 위로 배치된 자기장 감지 소자 및 전류 전도체를 포함하는 전자 회로를 나타내는 도면이다.
도 2b는 도 2a에 도시된 상기 전자 회로를 나타내는 단면도이다.
도 3a는 제1 및 제2 기판들을 구비하는 집적 회로 전류 센서, 상기 제2 기판의 표면 위로 배치된 자기장 감지 소자 및 전류 전도체를 포함하는 또 다른 전자 회로를 나타내는 도면이다.
도 3b는 도 3a에 도시된 상기 전자 회로를 나타내는 단면도이다.
도 4a는 제1 및 제2 기판들을 구비하는 집적 회로 전류 센서, 상기 제2 기판의 표면 위로 배치된 자기장 감지 소자 및 전류 전도체를 포함하는 또 다른 전자 회로를 나타내는 도면이다.
도 4b는 도 4a에 도시된 상기 전자 회로를 나타내는 단면도이다.
도 5a는 제1, 제2 및 제3 기판들을 구비하는 집적 회로 전류 센서, 상기 제2 기판의 표면 위로 배치된 자기장 감지 소자 및 전류 전도체를 포함하는 또 다른 전자 회로를 나타내는 도면이다.
도 5b는 도 5a에 도시된 상기 전자 회로를 나타내는 단면도이다.
도 6a는 제1, 제2 및 제3 기판들을 구비하는 집적 회로 전류 센서, 상기 제3 기판의 표면 위로 배치된 자기장 감지 소자 및 전류 전도체를 포함하는 전자 회로를 나타내는 도면이다.
도 6b는 도6a에 도시된 전자 회로를 나타내는 단면도이다.
도 1a는 기판의 표면 위로 배치된 자기장 감지 소자를 구비하는 집적 회로 전류 센서를 포함하며, 또한 전류 전도체를 포함하는 전자 회로를 나타내는 도면이다.
도 1b는 도 1a에 도시된 상기 전자 회로를 나타내는 단면도이다.
도 2a는 제1 및 제2 기판들을 구비하는 집적 회로 전류 센서, 상기 제2 기판의 표면 위로 배치된 자기장 감지 소자 및 전류 전도체를 포함하는 전자 회로를 나타내는 도면이다.
도 2b는 도 2a에 도시된 상기 전자 회로를 나타내는 단면도이다.
도 3a는 제1 및 제2 기판들을 구비하는 집적 회로 전류 센서, 상기 제2 기판의 표면 위로 배치된 자기장 감지 소자 및 전류 전도체를 포함하는 또 다른 전자 회로를 나타내는 도면이다.
도 3b는 도 3a에 도시된 상기 전자 회로를 나타내는 단면도이다.
도 4a는 제1 및 제2 기판들을 구비하는 집적 회로 전류 센서, 상기 제2 기판의 표면 위로 배치된 자기장 감지 소자 및 전류 전도체를 포함하는 또 다른 전자 회로를 나타내는 도면이다.
도 4b는 도 4a에 도시된 상기 전자 회로를 나타내는 단면도이다.
도 5a는 제1, 제2 및 제3 기판들을 구비하는 집적 회로 전류 센서, 상기 제2 기판의 표면 위로 배치된 자기장 감지 소자 및 전류 전도체를 포함하는 또 다른 전자 회로를 나타내는 도면이다.
도 5b는 도 5a에 도시된 상기 전자 회로를 나타내는 단면도이다.
도 6a는 제1, 제2 및 제3 기판들을 구비하는 집적 회로 전류 센서, 상기 제3 기판의 표면 위로 배치된 자기장 감지 소자 및 전류 전도체를 포함하는 전자 회로를 나타내는 도면이다.
도 6b는 도6a에 도시된 전자 회로를 나타내는 단면도이다.
본 발명에 대해 설명하기 전에, 일부 용어 및 개념들에 대해 소개한다. 본 명세서에 사용되는 용어로서, "자기장 감지 소자"는 자기장에 응답하며 자기장을 측정하는 데 사용될 수 있는 전자 부품을 설명하는데 사용된다. 상기 자기장 감지 소자는 비제한적인 예로서, 홀 효과 소자 및 자기저항 소자를 포함한다. 상기 홀 효과 소자는 수평 혹은 수직형 타입일 수 있다. 상기 자기저항 소자는 비제한적인 예로서 거대 자기저항(giant magnetoresistance, GMR) 소자, 이방성 자기저항(anisotropic magnetoresistance, AMR) 소자, 자기 터널 정션(magnetic tunnel juction, MJT) 소자 및 터널링 자기저항(tunneling magnetoresistance, TMR) 소자의 타입을 포함할 수 있다.
본 명세서에 사용된 용어로서, "자기장 센서"는 자기장 감지 소자를 포함하며, 자기장에 응답하고 자기장을 측정하는데 사용될 수 있는 전자 회로를 설명하는데 사용된다. "전류 센서"는 자기장 감지 소자를 포함하며, 전도체 내의 전류에 응답하고 이를 측정하는데 사용될 수 있는 전자 집적 회로를 설명하는데 사용된다.
전도체 내의 전류는 전류의 방향 주위로 배치되는 자기장을 생성함이 본 명세서에서 이해될 수 있다. 따라서, 전류 센서 내에 사용되는 상기 자기장 감지 소자는 전도체 내를 흐르는 전류를 측정하는데 사용될 수 있다,
본 명세서에서 사용되는 용어로서, "회로 기판"은 인쇄회로기판(printed circuit boards, PCBS), 예를 들면, 도전성 회로 트레이스를 갖는 섬유 유리 회로 기판 및 도전성 트레이스를 갖는 세라믹 기판을 설명하기 위해 사용된다.
유사한 구성은 유사한 참조 번호를 사용한 도 1a 및 도 1b를 참조하면, 전자 회로(10)는 전류 센서(11)에 인접한 회로 기판(40)의 제1 표면(40a) 상에 배치된 제1 전류 전도체(28) 혹은 전류 센서(11)로부터 멀리 위치한 회로 기판(40)의 제2 표면(40b) 위로 배치되는 제2 전류 전도체(32) 위로 배치되며, 제1 전류 전도체(28) 혹은 제2 전류 전도체(32) 중 하나 혹은 모두를 스트래들링(straddling)하는 집적회로 전류 센서(11)를 포함한다. 전류 센서(11)는 베이스 플레이트(12) 및 부속 리드들(14a-14h)을 구비하는 리드 프레임(14)을 포함한다.
전류 센서(11)는 또한 대향하는 제1 및 제2 표면들(16a,16b)을 각각 구비하는 기판(16)을 포함한다. 기판(16)은 리드 프레임의 베이스 플레이트(12) 위로 배치되어 기판(16)의 제2 표면(16b)이 베이스 플레이트(12) 위에 위치하고 기판(16)의 제1 표면(16a)이 기판(16)의 제2 표면(16b)에 위치한다.
전류 센서(11)는 또한 기판(16)의 제1 표면(16a) 위로 배치되는 자기장 감지 소자(18)를 포함한다.
일 실시예에서, 자기장 감지 소자(18)는 예를 들면, 거대 자기저항(GMR) 소자 혹은 이방성 자기저항(AMR) 소자 중에서 선택된 자기저항 소자이다. 다른 실시예에서, 자기장 감지 소자(18)는 홀 효과 소자이다. 그러나, 자기저항 소자가 일반적으로 홀 효과 소자 보다 고감도를 갖는다고 이해되며, 따라서 도시된 바와 같이 자기장 감지 소자(18)가 전류 전도체(28)로부터 다소 멀리 위치한 전자 회로(10)는 자기장 감지 소자(18)가 홀 효과 소자인 전자 회로(10)보다 고감도를 획득할 수 있다.
더욱이, 자기저항 소자는 일반적으로 표면, 예를 들면 기판(16)의 제1 표면(16a)에 평행한 최대 응답 축(20)을 갖는다고 이해된다. 이와 달리, 대부분의 홀 효과 소자들은 기판(16)의 제1 표면(16a)에 수직인 최대 응답 축을 갖는다.
홀 효과 소자에 대해서는 감지막이 될 수 있는 기판(16)은 비제한적인 예로서, Si, GaAs, InP, InSb, InGaAs, InGaAsP, SiGe, 세라믹 혹은 유리를 포함하는 다양한 물질들로 구성될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 기판(16)은 실리콘(Si)을 포함할 수 있다.
전류 센서(11)는 또한 기판(16)의 제1 표면(16a) 상에 배치된 최소한 하나의 전자 부품(22)을 포함할 수 있다. 전자 부품(22)은 비제한적인 예로서, 예를 들면 저항기, 커패시터 혹은 인덕터와 같은 수동 전자 부품 및 예를 들면 트랜지스터, 증폭기 혹은 또 다른 집적 회로와 같은 능동 전자 부품을 포함할 수 있다.
기판(16)은 또한 대표적으로 본딩 패드(24a-24c)로 표시한 복수의 본딩 패드들을 포함할 수 있다. 본드 와이어들(26a-26c)은 기판(16)을 리드들, 예를 들면 리드들(14a, 14b, 14d)에 연결시킬 수 있다. 그러나, 집적 회로(11)는 3개 보다 많거나 적은 상기의 연결들을 포함할 수 있다고 이해될 수 있다.
도시된 배열에 있어서, 예를 들면 플라스틱의 몸체(30)가 기판(16)을 감싸는데 사용될 수 있다.
다양한 절연막들(도시되지 않음)이 전류 센서(11) 부분들을 전류 센서(11)의 다른 부분들과 전기적으로 분리시키는데 사용될 수 있음을 이해해야 한다. 예를 들면, 절연막(도시되지 않음)은 기판(16)의 제1 표면(16a)과 자기장 감지 소자(18) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 절연막(도시되지 않음)은 기판(16)의 제2 표면(16b) 및 베이스 플레이트(12) 사이에 배치될 수 있다.
기판(16)이 베이스 플레이트(12)에 종래의 방식대로, 즉 기판(16)의 제1 표면(16a)이 베이스 플레이트(12)로부터 멀어지게 향하도록 장착되는 것으로 도시된 반면, 다른 배열에 있어서, 기판(16)은 베이스 플레이트(12)에 대해 플립-칩(flip-chip) 방식으로 플립될 수 있다. 상기의 배열에서, 기판(16)의 제1 표면(16a)은 베이스 플레이트(12)와 인접하며, 솔더 볼(solder ball), 골드 범프(gold bump), 공융(eutectic) 혹은 고농도 납 솔더 범프, 납성분을 포함하지 않은 솔더 범프, 골드 스터드 범프(gold stud bump), 중합체 전도성 범프, 전도성 페이스트 또는 전도성 필름 중에서 선택된 하나로 리드들(14a-14h)과 연결된다.
제1 전류 전도체(28)를 통해 흐르는 전류에 응답하여 동작시, 라인(34)으로 표시되는 자속(magnetic flux)이 생성된다. 자기장 감지 소자(18)가 자기저항 소자인 실시예들에 있어서, 라인(34)으로 표시되는 상기 자속은 자기장 감지 소자(18)의 최대 응답 축(20)에 실질적으로 평행한 방향으로 자기장 감지 소자(18)를 통해 통과한다. 따라서, 자기장 감지 소자(18)는 전류 전도체(28)내에 흐르는 전류에 응답한다.
자기장 감지 소자(18)가 상술한 바와 같이 기판(16)의 제1 표면(16a)에 실질적으로 수직인 최대 응답축을 갖는 홀 효과 소자인 실시예들에 있어서, 자기장 감지 소자(18)는 라인(34)으로 표시된 상기 자속이 자기장 감지 소자(18)를 통해 기판(16)의 제1 표면(16a)에 대해 보다 수직하게 통과할 수 있도록 도시된 위치의 좌측 혹은 우측에 배치될 수 있다.
자기장 감지 소자(18)가 홀 효과 소자인 다른 실시예들에 있어서, 전체 전류 센서(11)는 전류 전도체(28 또는 32)의 우측 또는 좌측에 배치되어 전류 센서(11)가 전류 전도체(28 또는 32)를 스트래들(straddle) 하지 않을 수 있다.
제1 표면(40a)에 대향하는 회로 기판(40)의 제2 표면(40b) 상에 배치된 제2 전류 전도체(32)가 제1 전류 전도체(28)를 대신하여 혹은 이에 부가하여 사용되어, 전류 센서(11)는 제1 전류 전도체(28)를 통과하여 흐르는 전류 대신에 혹은 이에 부가하여 제2 전류 전도체(32)를 통과해 흐르는 전류를 감지할 수 있다. 라인(36)으로 표시된 자속은 자기장 감지 소자(18)의 최대 응답 축(20)에 실질적으로 평행한 방향으로 자기장 감지 소자(18)를 통해 통과할 수 있다. 따라서, 자기장 감지 소자(18)는 제2 전류 전도체(32) 내에 흐르는 전류에 응답한다. 그러나, 제2 전류 전도체(32)는 제1 전류 전도체(28) 보다 자기장 감지 소자(18)로부터 멀리 위치하므로, 자기장 감지 소자(18) 및 전류 센서(11)는 제1 전류 전도체(28)를 통해 흐르는 전류보다 제2 전류 전도체(32)를 통해 흐르는 전류에 감도가 낮다는 것을 이해할 수 있다. 그러므로, 제1 전류 전도체(28) 보다 제2 전류 전도체(32)를 사용하는 장치에 있어서, 자기장 감지 소자(18)는 홀 효과 소자보다 고감도를 갖는 자기저항 소자인 것이 유리하다.
집적 회로(11)로부터 회로 기판(40)의 반대 측면 상에 제2 전류 전도체(32)를 구비한 전자 회로(10)는 제2 전류 전도체(32) 및 집적 회로(11) 사이에서 매우 높은 브레이크다운 전압(또는 전기적 절연)을 제공한다. 이는 대부분의 종래 회로 기판들(40), 예를 들면 에폭시 유리 회로 기판들은 높은 브레이크다운 전압을 갖는 절연체이므로 가능하다.
전류 센서(11)는 제1 전도체(28) 뿐만 아니라 제2 전도체(32)를 스트래들함이 명백히 나타난다. 본 명세서에 쓰인 용어로서, "스트래들(straddle)"은 회로 기판(40)에 수직하며, 전류 센서(10)의 일 측면 상의 리드들, 예를 들면 리드들(14a-14d)의 말단을 통과하는 평면과, 회로 기판(40)에 수직하며 전류 센서(10)의 타 측면 상의 리드들, 예를 들면 리드들(14a-14d)의 말단을 통과하는 또 다른 평면이 전도체(28 또는 32)의 반대 측면 상에 있는 배열을 나타낸다.
유사한 구성에 유사한 참조 번호를 사용하며 도 1a 및 도 1b의 구성과 유사한 구성에 역시 유사한 참조번호를 사용한 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 전자 회로(50)는 집적 회로 전류 센서(51)를 포함한다. 전자 회로(50)는 도 1a 및 도 1b에 도시된 전자 회로(10)와 유사한 측면 및 기능을 포함한다.
전류 센서(51)는 각각 대향하는 제1 및 제2 표면들(52a,52b)을 갖는 제1 기판(52)을 포함한다. 제1 기판(52)은 베이스 플레이트(12) 상에 배치되어, 제1 기판(52)의 제2 표면(52b)은 베이스 플레이트(12) 위에 위치하고 제1 기판(52)의 제1 표면(52a)은 제1 기판(52)의 제2 표면(52b) 위에 위치한다.
집적 회로(51)는 또한 대향하는 제1 및 제2 표면들(54a, 54b)을 각각 갖는 제2 기판(54)을 포함한다. 제1 기판(52)과 제2 기판(54)은 제2 기판(54)의 제1 표면(54a)이 제1 기판(52)의 제1 표면(52a) 위에 위치하고, 제2 기판(54)의 제2 표면(54b)이 제2 기판(54)의 제1 표면(54a) 위에 위치하도록 연결된다. 제2 기판(54)은 제1 기판(52)과 플립-칩 배열로 배치됨이 명백하다.
제1 및 제2 기판들(52, 54)은 각각 비제한적인 예로서, Si, GaAs, InP, InSb, InGaAs, InGaAsP, SiGe, 세라믹 혹은 유리를 포함하는 다양한 물질들로 구성될 수 있다. 제1 및 제2 기판들(52, 54)은 각각 동일하거나 상이한 물질들을 포함할 수 있다.
제2 기판(54)의 제1 표면(54a)은 제1 기판(52)의 제1 표면(52a)에 본드들, 일 예에 의하면 본드(60)로 연결된다. 상기 본드들(예를 들면, 본드(60))은 솔더 볼, 골드 범프, 공융 혹은 고농도 납 솔더 범프, 납성분을 포함하지 않은 솔더 범프, 골드 스터드 범프, 중합체 전도성 범프, 전도성 페이스트 또는 전도성 필름 중에서 선택된 하나일 수 있다.
전류 센서(51)는 또한 제1 기판(52)의 제1 표면(52a) 상에 배치된 최소한 하나의 전자 부품(62)을 포함할 수 있다. 전자 부품(62)은 비제한적인 예로서, 예를 들면 저항기, 커패시터 혹은 인덕터와 같은 수동 전자 부품 및 예를 들면 트랜지스터, 증폭기 혹은 또 다른 집적 회로와 같은 능동 전자 부품을 포함할 수 있다.
전류 센서(51)는 또한 제2 기판(54)의 제1 표면(54a) 위로 배치되는 자기장 감지 소자(56)를 포함한다. 자기장 감지 소자(56)는 도 1a 및 도 1b에 도시된 자기장 감지 소자(18)와 동일하거나 유사할 수 있다. 자기장 감지 소자(56)는 제2 기판(54)의 제1 표면(54a)에 실질적으로 평행한 최대 응답 축(58)을 갖는다. 전류 센서(51)는 전류 전도체(28 혹은 32)를 스트래들할 수 있다.
자기장 감지 소자(56)가 홀 효과 소자이며, 제2 기판(54)의 제1 표면(54a)에 실질적으로 수직인 최대 응답 축을 갖는 실시예들에 있어서, 자기장 감지 소자(56)는 라인(34)으로 표시된 자속이 자기장 감지 소자(54)를 통해 제2 기판(54)의 제1 표면(54a)에 대해 보다 수직하게 통과할 수 있도록 도시된 위치의 좌측 혹은 우측에 배치될 수 있다.
자기장 감지 소자(56)가 홀 효과 소자인 다른 실시예들에 있어서, 전체 전류 센서(51)는 전류 전도체(28 또는 32)의 우측 또는 좌측에 배치되어 전류 센서(51)가 전류 전도체(28 또는 32)를 스트래들(straddle) 하지 않을 수 있다.
전류 센서(51)는 또한 대표적으로 본딩 패드들(64a-64c)로 표시한 복수의 본딩 패드들을 포함할 수 있다. 본드 와이어들(26a-26c)은 제1 기판(52)을 리드들, 예를 들면, 리드 프레임(14)의 리드들(14a, 14b, 14d)에 연결할 수 있다.
다양한 절연막들(도시되지 않음)이 전류 센서(51) 부분들을 전류 센서(51)의 다른 부분들로부터 전기적으로 분리시키는데 사용될 수 있음을 이해해야 한다. 예를 들면, 절연막(도시되지 않음)은 제1 기판(52)의 제1 표면(52a)과 제2 기판(54)의 제1 표면(54a) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 절연막(도시되지 않음)은 제2 기판(54)의 제1 표면(54a) 및 자기장 감지 소자(56) 사이에 배치될 수 있다.
전류 센서(51)는 제1 전도체(28) 뿐만 아니라 제2 전도체(32)를 스트래들함이 명백하다.
유사한 구성들에 유사한 참조부호를 사용하며, 도 1a 및 도 1b의 구성들과 유사한 구성들에 역시 유사한 참조부호를 사용한 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 전자 회로(100)는 집적 회로 전류 센서(101)를 포함한다. 전자 회로(100)는 도 1a 및 도 1b에 도시된 전자 회로(10)와 유사한 측면 및 기능을 포함한다.
전류 센서(101)는 대향하는 제1 및 제2 표면들(102a, 102b)을 각각 구비하는 제1 기판(102)을 포함한다. 제1 기판(102)은 베이스 플레이트(12) 상에 배치되어 제1 기판(102)의 제2 표면(102b)이 베이스 플레이트(12) 위에 위치하며, 제1 기판(102)의 제1 표면(102a)이 제1 기판(102)의 제2 표면(102b) 위에 위치한다.
집적 회로(101)는 또한 대향하는 제1 및 제2 표면들(104a, 104b)을 각각 갖는 제2 기판(104)을 포함한다. 제1 기판(102) 및 제2 기판(104)은 제2 기판(104)의 제2 표면(104b)이 제1 기판(102)의 제1 표면(102a) 위에 위치하고, 제2 기판(104)의 제1 표면(104a)이 제2 기판(104)의 제2 표면(104b) 위에 위치하도록 연결된다.
일부 실시예들에 있어서, 절연체(106)가 제1 및 제2 기판들(102, 104) 사이에 배치될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 절연체(106)는 제2 기판(104)을 제1 기판(102)에 부착시킬 수 있는 에폭시 물질일 수 있다.
제1 및 제2 기판들(102, 104)은 각각 비제한적인 예로서, Si, GaAs, InP, InSb, InGaAs, InGaAsP, SiGe, 세라믹 혹은 유리를 포함하는 다양한 물질들로 구성될 수 있다. 제1 및 제2 기판들(102, 104)은 각각 동일하거나 상이한 물질들을 포함할 수 있다.
제2 기판(104)의 제1 표면(104a)은 제1 기판(102)의 제1 표면(102a)에 와이어 본드들로 연결될 수 있으며, 상기 와이어 본드들의 일 예로서 본딩 패드들(110 및 112) 사이의 와이어 본드(114)를 들 수 있다.
전류 센서(101)는 또한 제1 기판(102)의 제1 표면(102a) 상에 배치된 최소한 하나의 전자 부품(116)을 포함할 수 있다. 전자 부품(116)은 비제한적인 예로서, 예를 들면 저항기, 커패시터 혹은 인덕터와 같은 수동 전자 부품 및 예를 들면 트랜지스터, 증폭기 혹은 또 다른 집적 회로와 같은 능동 전자 부품을 포함할 수 있다.
전류 센서(101)는 또한 제2 기판(104)의 제1 표면(104a) 위로 배치되는 자기장 감지 소자(108)를 포함한다. 자기장 감지 소자(108)는 도 1a 및 도 1b에 도시된 자기장 감지 소자(18)와 동일하거나 유사할 수 있다. 자기장 감지 소자(108)는 제2 기판(104)의 제1 표면(104a)에 실질적으로 평행한 최대 응답 축(109)을 갖는다. 전류 센서(101)는 전류 전도체(28 및/또는 32)를 스트래들할 수 있다.
자기장 감지 소자(108)가 홀 효과 소자이며, 제2 기판(104)의 제1 표면(104a)에 실질적으로 수직인 최대 응답 축을 갖는 실시예들에 있어서, 자기장 감지 소자(108)는 라인(34)으로 표시된 자속이 자기장 감지 소자(108)를 통해 제2 기판(104)의 제1 표면(104a)에 대해 보다 수직하게 통과할 수 있도록 도시된 위치의 좌측 혹은 우측에 배치될 수 있다.
자기장 감지 소자(108)가 홀 효과 소자인 다른 실시예들에 있어서, 전체 전류 센서(101)는 전류 전도체(28 또는 32)의 우측 또는 좌측에 배치되어 전류 센서(101)가 전류 전도체(28 또는 32)를 스트래들(straddle) 하지 않을 수 있다.
전류 센서(101)는 또한 대표적으로 본딩 패드들(118a-118c)로 표시한 복수의 본딩 패드들을 포함할 수 있다. 본드 와이어들(26a-26c)은 제1 기판(102)을 리드들, 예를 들면, 리드 프레임(14)의 리드들(14a, 14b, 14d)에 연결할 수 있다.
다양한 절연막들(도시되지 않음)이 전류 센서(101) 부분들을 전류 센서(101)의 다른 부분들로부터 전기적으로 분리시키는데 사용될 수 있음을 이해해야 한다. 예를 들면, 절연막(106)은 제1 기판(102)의 제1 표면(102a)과 제2 기판(104)의 제2 표면(104b) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 절연막(도시되지 않음)은 제2 기판(104)의 제1 표면(104a) 및 자기장 감지 소자(108) 사이에 배치될 수 있다.
전류 센서(101)는 제1 전도체(28) 뿐만 아니라 제2 전도체(32)를 스트래들함이 명백하다.
유사한 구성들에 유사한 참조부호를 사용하며, 도 1a 및 도 1b의 구성들과 유사한 구성들에 역시 유사한 참조부호를 사용한 도 4a 및 도 4b를 참조하면, 전자 회로(150)는 집적 회로 전류 센서(151)를 포함한다. 전자 회로(150)는 도 1a 및 도 1b에 도시된 전자 회로(10)와 유사한 측면 및 기능을 포함한다.
전류 센서(151)는 대향하는 제1 및 제2 표면들(152a, 152b)을 각각 구비하는 제1 기판(152)을 포함한다. 제1 기판(152)은 베이스 플레이트(12) 상에 배치되어 제1 기판(152)의 제2 표면(152b)이 베이스 플레이트(12) 위에 위치하며, 제1 기판(152)의 제1 표면(152a)이 제1 기판(152)의 제2 표면(152b) 위에 위치한다.
집적 회로(151)는 또한 대향하는 제1 및 제2 표면들(162a, 162b)을 각각 갖는 제2 기판(162)을 포함한다. 제2 기판(162)은 베이스 플레이트(12)에 연결되어 제2 기판(162)의 제2 표면(162b)이 베이스 플레이트(12) 위에 위치하고, 제2 기판(162)의 제1 표면(162a)이 제2 기판(162)의 제2 표면(162b) 위에 위치한다.
제1 및 제2 기판들(152, 162)은 각각 비제한적인 예로서, Si, GaAs, InP, InSb, InGaAs, InGaAsP, SiGe, 세라믹 혹은 유리를 포함하는 다양한 물질들로 구성될 수 있다. 제1 및 제2 기판들(152, 162)은 각각 동일하거나 상이한 물질들을 포함할 수 있다.
제2 기판(162)의 제1 표면(162a)은 제1 기판(152)의 제1 표면(152a)에 와이어 본드들로 연결될 수 있으며, 상기 와이어 본드들의 일 예로서 와이어 본드(160)를 들 수 있다.
전류 센서(151)는 또한 제1 기판(152)의 제1 표면(152a) 상에 배치된 최소한 하나의 전자 부품(154)을 포함할 수 있다. 전자 부품(154)은 비제한적인 예로서, 예를 들면 저항기, 커패시터 혹은 인덕터와 같은 수동 전자 부품 및 예를 들면 트랜지스터, 증폭기 혹은 또 다른 집적 회로와 같은 능동 전자 부품을 포함할 수 있다.
전류 센서(151)는 또한 제2 기판(162)의 제1 표면(162a) 위로 배치되는 자기장 감지 소자(164)를 포함한다. 자기장 감지 소자(164)는 도 1a 및 도 1b에 도시된 자기장 감지 소자(18)와 동일하거나 유사할 수 있다. 자기장 감지 소자(164)는 제2 기판(162)의 제1 표면(162a)에 실질적으로 평행한 최대 응답 축(168)을 갖는다. 전류 센서(151)는 전류 전도체(28 및/또는 32)를 스트래들할 수 있다.
자기장 감지 소자(164)가 홀 효과 소자이며, 제2 기판(162)의 제1 표면(162a)에 실질적으로 수직인 최대 응답 축을 갖는 실시예들에 있어서, 자기장 감지 소자(164)는 라인(34)으로 표시된 자속이 자기장 감지 소자(164)를 통해 제2 기판(162)의 제1 표면(162a)에 대해 보다 수직하게 통과할 수 있도록 도시된 위치의 좌측 혹은 우측에 배치될 수 있다.
자기장 감지 소자(164)가 홀 효과 소자인 다른 실시예들에 있어서, 전체 전류 센서(151)는 전류 전도체(28 또는 32)의 우측 또는 좌측에 배치되어 전류 센서(151)가 전류 전도체(28 또는 32)를 스트래들(straddle) 하지 않을 수 있다.
전류 센서(151)는 복수의 본딩 패드들을 포함할 수 있으며, 일 예로 본딩 패드(158)를 포함할 수 있다. 본드 와이어들, 예를 들면, 본드 와이어들(166a-166c)은 제1 기판(152)을 리드들, 예를 들면, 리드 프레임(14)의 리드들(14a, 14e, 14f)에 연결할 수 있다.
다양한 절연막들이 전류 센서(151) 부분들을 전류 센서(151)의 다른 부분들과 전기적으로 분리시키는데 사용될 수 있음을 이해해야 한다. 예를 들면, 절연막들(도시되지 않음)은 제1 및 제2 기판들(152, 162)의 제2 표면들(152b, 162b) 각각 및 베이스 플레이트(12) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 절연막(도시되지 않음)은 제2 기판(162)의 제1 표면(162a) 및 자기장 감지 소자(164) 사이에 배치될 수 있다.
전류 센서(151)는 제1 전도체(28) 뿐만 아니라 제2 전도체(32)를 스트래들함이 명백하다.
유사한 구성들에 유사한 참조부호를 사용하며, 도 1a 및 도 1b의 구성들과 유사한 구성들에 역시 유사한 참조부호를 사용한 도 5a 및 도 5b를 참조하면, 전자 회로(200)는 집적 회로 전류 센서(201)를 포함한다. 전자 회로(200)는 도 1a 및 도 1b에 도시된 전자 회로(10)와 유사한 측면 및 기능을 포함한다.
전류 센서(201)는 대향하는 제1 및 제2 표면들(202a, 202b)을 각각 구비하는 제1 기판(202)을 포함한다. 제1 기판(202)은 베이스 플레이트(12) 상에 배치되어 제1 기판(202)의 제2 표면(202b)이 베이스 플레이트(12) 위에 위치하며, 제1 기판(202)의 제1 표면(202a)이 제1 기판(202)의 제2 표면(202b) 위에 위치한다.
집적 회로(201)는 또한 대향하는 제1 및 제2 표면들(204a, 204b)을 각각 구비한 제2 기판(204) 및 대향하는 제1 및 제2 표면들(210a, 210b)을 각각 구비한 제3 기판(210)을 포함한다. 제1 기판(202) 및 제2 기판(204)은 제2 기판(204)의 제1 표면(204a)이 제1 기판(202)의 제1 표면(202a) 위에 위치하고, 제2 기판(204)의 제2 표면(204b)은 제2 기판(204)의 제1 표면(204a) 위에 위치하도록 연결된다. 유사하게, 제1 기판(202) 및 제3 기판(210)은 제3 기판(210)의 제1 표면(210a)이 제1 기판(202)의 제1 표면(202a) 위에 위치하고, 제3 기판(210)의 제2 표면(210b)은 제3 기판(210)의 제1 표면(210a) 위에 위치하도록 연결된다. 제2 및 제3 기판들(204, 210)은 각각, 제1 기판(202)에 대해 플립-칩 배열방식에 의해 배치된다.
제2 기판(204)의 제1 표면(204a)은 제1 기판(202)의 제1 표면(202a)에 본드들로 연결될 수 있으며, 일 예로써 본드(208)로 연결될 수 있다. 유사하게, 제3 기판(210)의 제1 표면(210a)은 제1 기판(202)의 제1 표면(202a)에 본드들로 연결될 수 있으며, 일 예로써 본드(214)로 연결될 수 있다. 본드들(예를 들면 본드(208, 214))들은 솔더 볼, 골드 범프, 공융 혹은 고농도 납 솔더 범프, 납성분을 포함하지 않은 솔더 범프, 골드 스터드 범프, 중합체 전도성 범프, 전도성 페이스트 또는 전도성 필름 중에서 선택된 하나일 수 있다.
제1, 제2 및 제3 기판들(202, 204, 210)은 각각 비제한적인 예로서, Si, GaAs, InP, InSb, InGaAs, InGaAsP, SiGe, 세라믹 혹은 유리를 포함하는 다양한 물질들로 구성될 수 있다. 제1, 제2 및 제3 기판들(202, 204, 210)은 각각 동일하거나 상이한 물질들을 포함할 수 있다.
제2 및 제3 기판들(204, 210)은 각각, 제1 기판(202) 상의 또는 제1 기판(202) 내의 회로 트레이스들(도시되지 않음)과 함께 전기적으로 연결될 수 있음을 이해할 수 있다.
전류 센서(201)는 또한 제3 기판(210)의 제1 표면(210a) 상에 배치된 최소한 하나의 전자 부품(212)을 포함할 수 있다. 전자 부품(212)은 비제한적인 예로서, 예를 들면 저항기, 커패시터 혹은 인덕터와 같은 수동 전자 부품 및 예를 들면 트랜지스터, 증폭기 혹은 또 다른 집적 회로와 같은 능동 전자 부품을 포함할 수 있다.
전류 센서(201)는 또한 제2 기판(204)의 제1 표면(204a) 위로 배치되는 자기장 감지 소자(206)를 포함한다. 자기장 감지 소자(206)는 도 1a 및 도 1b에 도시된 자기장 감지 소자(18)와 동일하거나 유사할 수 있다. 자기장 감지 소자(206)는 제2 기판(204)의 제1 표면(204a)에 실질적으로 평행한 최대 응답 축(216)을 갖는다. 전류 센서(201)는 전류 전도체(28 및/또는 32)를 스트래들할 수 있다.
자기장 감지 소자(206)가 홀 효과 소자이며, 제2 기판(204)의 제1 표면(204a)에 실질적으로 수직인 최대 응답 축을 갖는 실시예들에 있어서, 자기장 감지 소자(206)는 라인(34)으로 표시된 자속이 자기장 감지 소자(206)를 통해 제2 기판(204)의 제1 표면(204a)에 대해 보다 수직하게 통과할 수 있도록, 도시된 위치의 좌측 혹은 우측에 배치될 수 있다.
자기장 감지 소자(206)가 홀 효과 소자인 다른 실시예들에 있어서, 전체 전류 센서(201)는 전류 전도체(28 또는 32)의 우측 또는 좌측에 배치되어 전류 센서(201)가 전류 전도체(28 또는 32)를 스트래들(straddle) 하지 않을 수 있다.
전류 센서(201)는 복수의 본딩 패드들을 포함할 수 있으며, 예를 들면, 제1 기판(202)의 제1 표면(202a) 상에 본딩 패드들(220a-220c)을 포함할 수 있다. 본드 와이어들, 예를 들면, 본드 와이어들(26a-26c)은 제3 기판(210)을 리드들, 예를 들면, 리드 프레임(14)의 리드들(14a, 14e, 14f)에 연결할 수 있다.
다양한 절연막들이 전류 센서(201) 부분들을 전류 센서(201)의 다른 부분들과 전기적으로 분리시키는데 사용될 수 있음을 이해해야 한다.
전류 센서(201)는 제1 전도체(28) 뿐만 아니라 제2 전도체(32)를 스트래들함이 명백하다.
유사한 구성들에 유사한 참조부호를 사용하며, 도 1a 및 도 1b의 구성들과 유사한 구성들에 역시 유사한 참조부호를 사용한 도 6a 및 도 6b를 참조하면, 전자 회로(250)는 집적 회로 전류 센서(251)를 포함한다. 전자 회로(250)는 도 1a 및 도 1b에 도시된 전자 회로(10)와 유사한 측면 및 기능을 포함한다.
전류 센서(251)는 대향하는 제1 및 제2 표면들(252a, 252b)을 각각 구비하는 제1 기판(252)을 포함한다. 제1 기판(252)은 베이스 플레이트(12) 상에 배치되어 제1 기판(252)의 제2 표면(252b)이 베이스 플레이트(12) 위에 위치하며, 제1 기판(252)의 제1 표면(252a)이 제1 기판(252)의 제2 표면(252b) 위에 위치한다.
집적 회로(251)는 또한 대향하는 제1 및 제2 표면들(254a, 254b)을 각각 구비한 제2 기판(254) 및 대향하는 제1 및 제2 표면들(262a, 262b)을 각각 구비한 제3 기판(262)을 포함한다. 제1 기판(252) 및 제2 기판(254)은 제2 기판(254)의 제2 표면(254b)이 제1 기판(252)의 제1 표면(252a) 위에 위치하고, 제2 기판(254)의 제1 표면(254a)은 제2 기판(254)의 제2 표면(254b) 위에 위치하도록 연결된다. 유사하게, 제1 기판(252) 및 제3 기판(262)은 제3 기판(262)의 제2 표면(262b)이 제1 기판(252)의 제1 표면(252a) 위에 위치하고, 제3 기판(262)의 제1 표면(262a)은 제3 기판(262)의 제2 표면(262b) 위에 위치하도록 연결된다.
제2 기판(254)의 제1 표면(254a)은 본드 와이어들에 의해 제3 기판(262)의 제1 표면(262a)에 연결될 수 있으며, 일 예로써 본드 와이어(260)에 의해 연결될 수 있다. 제2 기판(254)의 제1 표면(254a) 또한 본드 와이어들에 의해 제1 기판(252)의 제1 표면(252a)에 연결될 수 있으며, 일 예로써 본드 와이어(270)에 의해 연결될 수 있다.
제1, 제2 및 제3 기판들(252, 254, 262)은 각각 비제한적인 예로서, Si, GaAs, InP, InSb, InGaAs, InGaAsP, SiGe, 세라믹 혹은 유리를 포함하는 다양한 물질들로 구성될 수 있다. 제1, 제2 및 제3 기판들(252, 254, 262)은 각각 동일하거나 상이한 물질들을 포함할 수 있다.
전류 센서(251)는 또한 제2 기판(254)의 제1 표면(254a) 상에 배치된 최소한 하나의 전자 부품(256)을 포함할 수 있다. 전자 부품(256)은 비제한적인 예로서, 예를 들면 저항기, 커패시터 혹은 인덕터와 같은 수동 전자 부품 및 예를 들면 트랜지스터, 증폭기 혹은 또 다른 집적 회로와 같은 능동 전자 부품을 포함할 수 있다.
전류 센서(251)는 또한 제3 기판(262)의 제1 표면(262a) 위로 배치되는 자기장 감지 소자(264)를 포함한다. 자기장 감지 소자(264)는 도 1a 및 도 1b에 도시된 자기장 감지 소자(18)와 동일하거나 유사할 수 있다. 자기장 감지 소자(264)는 제3 기판(262)의 제1 표면(262a)에 실질적으로 평행한 최대 응답 축(266)을 갖는다. 전류 센서(251)는 전류 전도체(28 및/또는 32)를 스트래들할 수 있다.
자기장 감지 소자(264)가 홀 효과 소자이며, 제3 기판(262)의 제1 표면(262a)에 실질적으로 수직인 최대 응답 축을 갖는 실시예들에 있어서, 자기장 감지 소자(264)는 라인(34)으로 표시된 자속이 자기장 감지 소자(264)를 통해 제3 기판(262)의 제1 표면(262a)에 대해 보다 수직하게 통과할 수 있도록 도시된 위치의 좌측 혹은 우측에 배치될 수 있다.
자기장 감지 소자(264)가 홀 효과 소자인 다른 실시예들에 있어서, 전체 전류 센서(251)는 전류 전도체(28 또는 32)의 우측 또는 좌측에 배치되어 전류 센서(251)가 전류 전도체(28 또는 32)를 스트래들하지 않을 수 있다.
다양한 절연막들이 전류 센서(251) 부분들을 전류 센서(251)의 다른 부분들과 전기적으로 분리시키는데 사용될 수 있음을 이해해야 한다.
전류 센서(251)는 제1 전도체(28) 뿐만 아니라 제2 전도체(32)를 스트래들함이 명백하다.
도 1a, 1b, 2a, 2b, 3a, 3b, 4a, 4b, 5a, 5b, 6a 및 6b를 참조로 상술한 바와 같이, 전자 부품들(22, 62, 116, 155, 212 및 256)은 각각 각 기판들의 표면들상에 배치될 수 있다. 상기 전자 부품들은 미합중국 등록 특허 7,075,287호(등록일자 2006. 7. 11)에 개시된 회로들을 포함할 수 있고, 이는 전체가 참조로서 포함되어 있다.
인용된 모든 참조문헌들은 전체가 참조로써 병합되어 있다.
본 발명의 바람직한 실시예들을 설명하였으며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 실시예들의 개념이 병합된 다른 실시예들이 사용될 수도 있음을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 상기 실시예들은 개시된 실시예들에만 한정되지 않으며, 오히려 첨부된 청구항들의 사상 및 범위에 의해서만 제한될 것이다.
Claims (18)
- 대향하는 제1 및 제2 표면들을 갖는 회로 기판;
상기 회로 기판 상에 배치된 회로 트레이스를 포함하며 전류를 운반하는 전류 전도체; 및
상기 전류 전도체를 스트래들(straddle)하는 위치에 상기 회로 기판과 전기적으로 연결되고 상기 회로 기판 상에 배치된 집적회로를 포함하며,
상기 집적회로는 상기 전류에 수반되는 자기장을 감지하는 자기저항 소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 전류 감지를 위한 전자 회로. - 제 1 항에 있어서, 상기 자기저항 소자는 상기 회로 기판의 대향하는 제1 및 제2 표면들에 대체로 평행한 최대 응답 축을 갖는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 2 항에 있어서, 상기 자기저항 소자는 거대 자기저항 소자인 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 2 항에 있어서, 상기 자기저항 소자는 자기 터널 정션(magnetic tunnel juction, MJT) 또는 터널링 자기저항(tunneling magnetoresistance, TMR) 소자인 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 1 항에 있어서, 상기 전류 전도체는 상기 회로 기판의 제2 표면 상에 배치되며, 상기 집적 회로는 상기 회로 기판의 제1 표면 상에 배치되는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 1 항에 있어서, 상기 집적 회로는 최소한 하나의 증폭기를 지지하는 제1 기판 및 상기 자기저항 소자를 지지하는 제2 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 6 항에 있어서, 상기 제2 기판은 상기 제1 기판에 대해 플립-칩(flip-chip) 방식으로 배치되는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 6 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 기판들은 제3 기판에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 6 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 기판들은 제3 기판에 의해 지지되고, 상기 제1 기판 또는 제2 기판 중 최소한 하나는 상기 제3 기판에 대해 플립-칩 방식으로 배치되는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 1 항에 있어서, 상기 집적 회로는 최소한 하나의 증폭기를 지지하며, 또한 상기 자기저항 소자를 지지하는 표면을 갖는 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 대향하는 제1 및 제2 표면들을 갖는 회로 기판;
회로 트레이스를 포함하며, 전류를 운반하는 전류 전도체; 및
상기 회로 기판 상에 배치되며, 상기 회로 기판과 전기적으로 연결되는 집적회로를 포함하며,
상기 집적 회로는 상기 전류에 수반하는 자기장을 감지하기 위한 홀 효과 소자를 포함하며,
상기 전류 전도체는 상기 회로 기판의 상기 제2 표면 상에 배치되고, 상기 집적 회로는 상기 회로 기판의 상기 제1 표면 상에 배치되는 것을 특징으로 하는 전류 감지를 위한 전자 회로. - 제 12 항에 있어서, 상기 집적 회로는 상기 전류 전도체를 스트래들하는 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 12 항에 있어서, 상기 홀 효과 소자는 상기 회로 기판의 대향하는 제1 및 제2 표면들과 대체로 수직인 최대 응답 축을 갖는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 12 항에 있어서, 상기 집적 회로는 최소한 하나의 증폭기를 지지하는 제1 기판 및 상기 홀 효과 소자를 지지하는 제2 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 14 항에 있어서, 상기 제2 기판은 상기 제1 기판에 대해 플립-칩 방식으로 배치되는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 14 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 기판들은 제3 기판에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 14 항에 있어서, 제1 및 제2 기판들은 제3 기판에 의해 지지되며, 상기 제1 기판 또는 제2 기판 중 최소한 하나는 상기 제3 기판에 대해 플립-칩 방식으로 배치되는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
- 제 12 항에 있어서, 상기 집적 회로는 최소한 하나의 증폭기를 지지하며, 또한 상기 홀 효과 소자를 지지하는 표면을 갖는 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 회로.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/131,339 | 2008-06-02 | ||
US12/131,339 US7816905B2 (en) | 2008-06-02 | 2008-06-02 | Arrangements for a current sensing circuit and integrated current sensor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110020863A true KR20110020863A (ko) | 2011-03-03 |
Family
ID=41210942
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020107029241A KR20110020863A (ko) | 2008-06-02 | 2009-05-20 | 전류 감지 회로를 위한 장치 및 집적 전류 센서 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7816905B2 (ko) |
JP (2) | JP2011522251A (ko) |
KR (1) | KR20110020863A (ko) |
CN (1) | CN102016606B (ko) |
DE (1) | DE112009001350T5 (ko) |
WO (1) | WO2009148823A1 (ko) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150118956A (ko) * | 2013-07-30 | 2015-10-23 | 아사히 가세이 일렉트로닉스 가부시끼가이샤 | 전류 센서 |
KR20160121976A (ko) | 2015-04-13 | 2016-10-21 | 김태용 | 홀 소자를 이용한 다중 출력 전류센서 |
KR20190084000A (ko) * | 2018-01-05 | 2019-07-15 | 멜렉시스 테크놀로기스 에스에이 | 오프셋 전류 센서 구조체 |
KR20190099201A (ko) * | 2016-12-02 | 2019-08-26 | 퍼듀 리서치 파운데이션 | 차량 배터리 전류 감지 시스템 |
Families Citing this family (98)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7768083B2 (en) | 2006-01-20 | 2010-08-03 | Allegro Microsystems, Inc. | Arrangements for an integrated sensor |
US20070279053A1 (en) * | 2006-05-12 | 2007-12-06 | Taylor William P | Integrated current sensor |
US9823090B2 (en) | 2014-10-31 | 2017-11-21 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor for sensing a movement of a target object |
JP2010019586A (ja) * | 2008-07-08 | 2010-01-28 | Panasonic Corp | 電流センサ |
US8063634B2 (en) * | 2008-07-31 | 2011-11-22 | Allegro Microsystems, Inc. | Electronic circuit and method for resetting a magnetoresistance element |
US9222992B2 (en) * | 2008-12-18 | 2015-12-29 | Infineon Technologies Ag | Magnetic field current sensors |
US20110133732A1 (en) * | 2009-12-03 | 2011-06-09 | Allegro Microsystems, Inc. | Methods and apparatus for enhanced frequency response of magnetic sensors |
US8717016B2 (en) | 2010-02-24 | 2014-05-06 | Infineon Technologies Ag | Current sensors and methods |
US8400139B2 (en) * | 2010-03-26 | 2013-03-19 | Infineon Technologies Ag | Sensor package having a sensor chip |
US9013890B2 (en) | 2010-03-26 | 2015-04-21 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor packages and methods for producing the same |
US8760149B2 (en) | 2010-04-08 | 2014-06-24 | Infineon Technologies Ag | Magnetic field current sensors |
US8680843B2 (en) * | 2010-06-10 | 2014-03-25 | Infineon Technologies Ag | Magnetic field current sensors |
US20120007597A1 (en) * | 2010-07-09 | 2012-01-12 | Invensense, Inc. | Micromachined offset reduction structures for magnetic field sensing |
US8283742B2 (en) | 2010-08-31 | 2012-10-09 | Infineon Technologies, A.G. | Thin-wafer current sensors |
CH703903B1 (de) | 2010-10-01 | 2014-04-30 | Melexis Tessenderlo Nv | Stromsensor. |
US9476915B2 (en) | 2010-12-09 | 2016-10-25 | Infineon Technologies Ag | Magnetic field current sensors |
JP5794777B2 (ja) * | 2010-12-22 | 2015-10-14 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
IT1403433B1 (it) * | 2010-12-27 | 2013-10-17 | St Microelectronics Srl | Sensore magnetoresistivo con capacita' parassita ridotta, e metodo |
IT1403434B1 (it) | 2010-12-27 | 2013-10-17 | St Microelectronics Srl | Sensore di campo magnetico avente elementi magnetoresistivi anisotropi, con disposizione perfezionata di relativi elementi di magnetizzazione |
US8975889B2 (en) | 2011-01-24 | 2015-03-10 | Infineon Technologies Ag | Current difference sensors, systems and methods |
US8963536B2 (en) | 2011-04-14 | 2015-02-24 | Infineon Technologies Ag | Current sensors, systems and methods for sensing current in a conductor |
US8957676B2 (en) * | 2011-05-06 | 2015-02-17 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor having a control node to receive a control signal to adjust a threshold |
US8629539B2 (en) | 2012-01-16 | 2014-01-14 | Allegro Microsystems, Llc | Methods and apparatus for magnetic sensor having non-conductive die paddle |
US9000761B2 (en) | 2012-01-19 | 2015-04-07 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Hall-effect sensor isolator |
US9666788B2 (en) | 2012-03-20 | 2017-05-30 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a split lead frame |
US9494660B2 (en) | 2012-03-20 | 2016-11-15 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a split lead frame |
US9812588B2 (en) | 2012-03-20 | 2017-11-07 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor integrated circuit with integral ferromagnetic material |
US10234513B2 (en) | 2012-03-20 | 2019-03-19 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor integrated circuit with integral ferromagnetic material |
US10215550B2 (en) | 2012-05-01 | 2019-02-26 | Allegro Microsystems, Llc | Methods and apparatus for magnetic sensors having highly uniform magnetic fields |
US9817078B2 (en) | 2012-05-10 | 2017-11-14 | Allegro Microsystems Llc | Methods and apparatus for magnetic sensor having integrated coil |
FR2990759B1 (fr) * | 2012-05-21 | 2014-05-02 | Schneider Electric Ind Sas | Capteur de courant mixte et procede de montage dudit capteur |
JP6017182B2 (ja) * | 2012-05-23 | 2016-10-26 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 電流センサ |
US8860153B2 (en) | 2012-11-30 | 2014-10-14 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor packages, systems, and methods of formation thereof |
US9482700B2 (en) * | 2013-01-20 | 2016-11-01 | Lenovo Enterprise Solutions (Singapore) Pte. Ltd. | Current detector to sense current without being in series with conductor |
WO2014125317A1 (en) * | 2013-02-15 | 2014-08-21 | Freescale Semiconductor, Inc. | Integrated circuit with integrated current sensor |
US9231118B2 (en) * | 2013-03-12 | 2016-01-05 | Infineon Technologies Ag | Chip package with isolated pin, isolated pad or isolated chip carrier and method of making the same |
US10725100B2 (en) | 2013-03-15 | 2020-07-28 | Allegro Microsystems, Llc | Methods and apparatus for magnetic sensor having an externally accessible coil |
US9411025B2 (en) | 2013-04-26 | 2016-08-09 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a split lead frame and a magnet |
CH708052B1 (de) * | 2013-05-07 | 2016-09-15 | Melexis Technologies Nv | Vorrichtung zur Strommessung. |
US9803887B2 (en) | 2013-06-24 | 2017-10-31 | Rheem Manufacturing Company | Cathodic corrosion and dry fire protection apparatus and methods for electric water heaters |
US9810519B2 (en) | 2013-07-19 | 2017-11-07 | Allegro Microsystems, Llc | Arrangements for magnetic field sensors that act as tooth detectors |
US10495699B2 (en) | 2013-07-19 | 2019-12-03 | Allegro Microsystems, Llc | Methods and apparatus for magnetic sensor having an integrated coil or magnet to detect a non-ferromagnetic target |
US10145908B2 (en) | 2013-07-19 | 2018-12-04 | Allegro Microsystems, Llc | Method and apparatus for magnetic sensor producing a changing magnetic field |
EP2905626B1 (en) * | 2014-02-05 | 2019-09-11 | ams AG | Integrated current sensor system and method for producing an integrated current sensor system |
JP2015190780A (ja) * | 2014-03-27 | 2015-11-02 | ヤマハ株式会社 | 電流センサーおよび基板 |
JP6314010B2 (ja) * | 2014-03-28 | 2018-04-18 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 電流センサ |
JP2015210158A (ja) * | 2014-04-25 | 2015-11-24 | 株式会社デンソー | 電流センサ |
US9719806B2 (en) | 2014-10-31 | 2017-08-01 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor for sensing a movement of a ferromagnetic target object |
US9720054B2 (en) | 2014-10-31 | 2017-08-01 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor and electronic circuit that pass amplifier current through a magnetoresistance element |
US9823092B2 (en) | 2014-10-31 | 2017-11-21 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor providing a movement detector |
US10712403B2 (en) | 2014-10-31 | 2020-07-14 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor and electronic circuit that pass amplifier current through a magnetoresistance element |
US9322887B1 (en) | 2014-12-01 | 2016-04-26 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor with magnetoresistance elements and conductive-trace magnetic source |
US10101410B2 (en) | 2015-10-21 | 2018-10-16 | Allegro Microsystems, Llc | Methods and apparatus for sensor having fault trip level setting |
CA3014830A1 (en) * | 2015-12-08 | 2017-06-15 | Eaton Intelligent Power Limited | Constant power supply for thermo-electric cells |
US9810721B2 (en) | 2015-12-23 | 2017-11-07 | Melexis Technologies Sa | Method of making a current sensor and current sensor |
US10260905B2 (en) | 2016-06-08 | 2019-04-16 | Allegro Microsystems, Llc | Arrangements for magnetic field sensors to cancel offset variations |
US10012518B2 (en) | 2016-06-08 | 2018-07-03 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor for sensing a proximity of an object |
US10041810B2 (en) | 2016-06-08 | 2018-08-07 | Allegro Microsystems, Llc | Arrangements for magnetic field sensors that act as movement detectors |
US9958482B1 (en) * | 2016-12-20 | 2018-05-01 | Allegro Microsystems, Llc | Systems and methods for a high isolation current sensor |
EP3367110B1 (en) * | 2017-02-24 | 2024-04-17 | Monolithic Power Systems, Inc. | Current sensing system and current sensing method |
US10481181B2 (en) | 2017-04-25 | 2019-11-19 | Allegro Microsystems, Llc | Systems and methods for current sensing |
US10837943B2 (en) | 2017-05-26 | 2020-11-17 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor with error calculation |
US10996289B2 (en) | 2017-05-26 | 2021-05-04 | Allegro Microsystems, Llc | Coil actuated position sensor with reflected magnetic field |
US10310028B2 (en) | 2017-05-26 | 2019-06-04 | Allegro Microsystems, Llc | Coil actuated pressure sensor |
US11428755B2 (en) | 2017-05-26 | 2022-08-30 | Allegro Microsystems, Llc | Coil actuated sensor with sensitivity detection |
US10324141B2 (en) | 2017-05-26 | 2019-06-18 | Allegro Microsystems, Llc | Packages for coil actuated position sensors |
US10641842B2 (en) | 2017-05-26 | 2020-05-05 | Allegro Microsystems, Llc | Targets for coil actuated position sensors |
US10557873B2 (en) | 2017-07-19 | 2020-02-11 | Allegro Microsystems, Llc | Systems and methods for closed loop current sensing |
WO2019021764A1 (ja) * | 2017-07-24 | 2019-01-31 | 株式会社村田製作所 | アクチュエータ、およびアクチュエータの製造方法 |
US10866117B2 (en) | 2018-03-01 | 2020-12-15 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field influence during rotation movement of magnetic target |
US11255700B2 (en) | 2018-08-06 | 2022-02-22 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor |
US10935612B2 (en) | 2018-08-20 | 2021-03-02 | Allegro Microsystems, Llc | Current sensor having multiple sensitivity ranges |
US10823586B2 (en) | 2018-12-26 | 2020-11-03 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor having unequally spaced magnetic field sensing elements |
US11061084B2 (en) | 2019-03-07 | 2021-07-13 | Allegro Microsystems, Llc | Coil actuated pressure sensor and deflectable substrate |
US10955306B2 (en) | 2019-04-22 | 2021-03-23 | Allegro Microsystems, Llc | Coil actuated pressure sensor and deformable substrate |
US10924052B1 (en) | 2019-08-08 | 2021-02-16 | Allegro Microsystems, Llc | Motor control system with phase current polarity detection |
US10991644B2 (en) | 2019-08-22 | 2021-04-27 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a low profile |
US11280637B2 (en) | 2019-11-14 | 2022-03-22 | Allegro Microsystems, Llc | High performance magnetic angle sensor |
US11237020B2 (en) | 2019-11-14 | 2022-02-01 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor having two rows of magnetic field sensing elements for measuring an angle of rotation of a magnet |
US11150273B2 (en) | 2020-01-17 | 2021-10-19 | Allegro Microsystems, Llc | Current sensor integrated circuits |
US11561112B2 (en) | 2020-03-13 | 2023-01-24 | Allegro Microsystems, Llc | Current sensor having stray field immunity |
US11226382B2 (en) | 2020-04-07 | 2022-01-18 | Allegro Microsystems, Llc | Current sensor system |
US11262422B2 (en) | 2020-05-08 | 2022-03-01 | Allegro Microsystems, Llc | Stray-field-immune coil-activated position sensor |
DE102020208311A1 (de) | 2020-07-02 | 2022-01-05 | Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Sensoranordnung und Verfahren zum Messen eines elektrischen Stroms |
US11320466B1 (en) | 2020-10-29 | 2022-05-03 | Allegro Microsystems, Llc | Differential current sensor |
US11796572B2 (en) * | 2020-10-31 | 2023-10-24 | Melexis Technologies Sa | Current sensing system |
US11493361B2 (en) | 2021-02-26 | 2022-11-08 | Allegro Microsystems, Llc | Stray field immune coil-activated sensor |
US11402409B1 (en) | 2021-03-22 | 2022-08-02 | Allegro Microsystems, Llc | Differential current sensor package |
US11567108B2 (en) | 2021-03-31 | 2023-01-31 | Allegro Microsystems, Llc | Multi-gain channels for multi-range sensor |
US11768229B2 (en) * | 2021-08-23 | 2023-09-26 | Allegro Microsystems, Llc | Packaged current sensor integrated circuit |
US11519946B1 (en) * | 2021-08-23 | 2022-12-06 | Allegro Microsystems, Llc | Packaged current sensor integrated circuit |
US11578997B1 (en) | 2021-08-24 | 2023-02-14 | Allegro Microsystems, Llc | Angle sensor using eddy currents |
US11656250B2 (en) | 2021-09-07 | 2023-05-23 | Allegro Microsystems, Llc | Current sensor system |
US11892476B2 (en) | 2022-02-15 | 2024-02-06 | Allegro Microsystems, Llc | Current sensor package |
US11885866B2 (en) | 2022-05-31 | 2024-01-30 | Allegro Microsystems, Llc | Auto-calibration for coreless current sensors |
US11940470B2 (en) | 2022-05-31 | 2024-03-26 | Allegro Microsystems, Llc | Current sensor system |
US20230417802A1 (en) * | 2022-06-27 | 2023-12-28 | Allegro Microsystems, Llc | Printed circuit board ground plane optimization for coreless current sensors |
CN117289012B (zh) * | 2023-11-24 | 2024-02-13 | 浙江森尼克半导体有限公司 | 双电流输入输出、双隔离的电流传感器、电流检测方法 |
Family Cites Families (146)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4283643A (en) * | 1979-05-25 | 1981-08-11 | Electric Power Research Institute, Inc. | Hall sensing apparatus |
CH651151A5 (de) * | 1979-11-27 | 1985-08-30 | Landis & Gyr Ag | Messwandler zum messen eines insbesondere von einem messstrom erzeugten magnetfeldes. |
US4343026A (en) * | 1980-07-09 | 1982-08-03 | Spin Physics, Inc. | Magnetoresistive head employing field feedback |
CH651671A5 (de) * | 1980-12-24 | 1985-09-30 | Landis & Gyr Ag | Anordnung zur messung elektrischer leistung oder energie. |
CH651701A5 (de) * | 1980-12-24 | 1985-09-30 | Landis & Gyr Ag | Kompensierter messwandler. |
DE3426784A1 (de) * | 1984-07-20 | 1986-01-30 | Bosch Gmbh Robert | Magnetoresistiver sensor zur abgabe von elektrischen signalen |
CA1248222A (en) * | 1984-08-27 | 1989-01-03 | Yutaka Souda | Magnetic transducer head utilizing magnetoresistance effect |
CH669852A5 (ko) * | 1986-12-12 | 1989-04-14 | Lem Liaisons Electron Mec | |
US4772929A (en) * | 1987-01-09 | 1988-09-20 | Sprague Electric Company | Hall sensor with integrated pole pieces |
KR910004261B1 (ko) * | 1987-04-09 | 1991-06-25 | 후지쓰 가부시끼가이샤 | 자전 변환 소자를 이용한 검지기 |
DE3854457T2 (de) * | 1987-07-07 | 1996-02-29 | Nippon Denso Co | Stromdetektoranordnung mit ferromagnetischem Magnetwiderstandselement. |
US4823075A (en) * | 1987-10-13 | 1989-04-18 | General Electric Company | Current sensor using hall-effect device with feedback |
CH674089A5 (ko) * | 1987-10-16 | 1990-04-30 | Lem Liaisons Electron Mec | |
GB8725467D0 (en) * | 1987-10-30 | 1987-12-02 | Honeywell Control Syst | Making current sensor |
DE3843087C2 (de) * | 1987-12-21 | 2001-09-13 | Tdk Corp | Magnetfeldsensor |
US5227721A (en) * | 1987-12-25 | 1993-07-13 | Sharp Kabushiki Kaisha | Superconductive magnetic sensor having self induced magnetic biasing |
US5041780A (en) * | 1988-09-13 | 1991-08-20 | California Institute Of Technology | Integrable current sensors |
US4847584A (en) * | 1988-10-14 | 1989-07-11 | Honeywell Inc. | Magnetoresistive magnetic sensor |
US4926116A (en) * | 1988-10-31 | 1990-05-15 | Westinghouse Electric Corp. | Wide band large dynamic range current sensor and method of current detection using same |
JP2796391B2 (ja) * | 1990-01-08 | 1998-09-10 | 株式会社日立製作所 | 物理量検出方法および物理量検出装置あるいはこれらの方法あるいは装置を利用したサーボモータおよびこのサーボモータを使用したパワーステアリング装置 |
JPH04290979A (ja) * | 1991-03-20 | 1992-10-15 | Hitachi Ltd | 磁気センサ、磁気センサを持つ位置検出装置および磁気センサを利用したトルク検出装置、モータ制御装置、あるいはこのトルク検出装置を有する電動パワーステアリング装置 |
EP0537419A1 (de) * | 1991-10-09 | 1993-04-21 | Landis & Gyr Business Support AG | Anordnung mit einem integrierten Magnetfeldsensor sowie einem ferromagnetischen ersten und zweiten Magnetfluss-Konzentrator und Verfahren zum Einbau einer Vielzahl von Anordnungen in je einem Kunststoffgehäuse |
JPH05126865A (ja) | 1991-10-22 | 1993-05-21 | Hitachi Ltd | 電流検出装置あるいは電流検出方法 |
DE4212737C1 (en) | 1992-04-16 | 1993-07-08 | Leica Mikroskopie Und Systeme Gmbh | Compact bridge-connected sensor - has thin-film resistors on substrate |
CH683469A5 (de) | 1992-07-03 | 1994-03-15 | Landis & Gyr Business Support | Anordnung mit einem einen Magnetfeldsensor enthaltenden Halbleiterplättchen zwischen einem ersten und einem zweiten Polschuh und Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl der Anordnungen. |
DE4243358A1 (de) * | 1992-12-21 | 1994-06-23 | Siemens Ag | Magnetowiderstands-Sensor mit künstlichem Antiferromagneten und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE4300605C2 (de) * | 1993-01-13 | 1994-12-15 | Lust Electronic Systeme Gmbh | Sensorchip |
US5442283A (en) * | 1993-09-03 | 1995-08-15 | Allegro Microsystems, Inc. | Hall-voltage slope-activated sensor |
US6002553A (en) * | 1994-02-28 | 1999-12-14 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Giant magnetoresistive sensor |
US5583725A (en) * | 1994-06-15 | 1996-12-10 | International Business Machines Corporation | Spin valve magnetoresistive sensor with self-pinned laminated layer and magnetic recording system using the sensor |
US5500590A (en) * | 1994-07-20 | 1996-03-19 | Honeywell Inc. | Apparatus for sensing magnetic fields using a coupled film magnetoresistive transducer |
DE4436876A1 (de) * | 1994-10-15 | 1996-04-18 | Lust Antriebstechnik Gmbh | Sensorchip |
US5561368A (en) | 1994-11-04 | 1996-10-01 | International Business Machines Corporation | Bridge circuit magnetic field sensor having spin valve magnetoresistive elements formed on common substrate |
US5570034A (en) * | 1994-12-29 | 1996-10-29 | Intel Corporation | Using hall effect to monitor current during IDDQ testing of CMOS integrated circuits |
FR2734058B1 (fr) * | 1995-05-12 | 1997-06-20 | Thomson Csf | Amperemetre |
EP0772046B1 (de) * | 1995-10-30 | 2002-04-17 | Sentron Ag | Magnetfeldsensor und Strom- oder Energiesensor |
US5929636A (en) * | 1996-05-02 | 1999-07-27 | Integrated Magnetoelectronics | All-metal giant magnetoresistive solid-state component |
DE19619806A1 (de) * | 1996-05-15 | 1997-11-20 | Siemens Ag | Magnetfeldempfindliche Sensoreinrichtung mit mehreren GMR-Sensorelementen |
US5831426A (en) * | 1996-08-16 | 1998-11-03 | Nonvolatile Electronics, Incorporated | Magnetic current sensor |
US5896030A (en) * | 1996-10-09 | 1999-04-20 | Honeywell Inc. | Magnetic sensor with components attached to transparent plate for laser trimming during calibration |
DE19650078A1 (de) | 1996-12-03 | 1998-06-04 | Inst Mikrostrukturtechnologie | Sensorelement zur Bestimmung eines Magnetfeldes oder eines Stromes |
US5877705A (en) * | 1997-04-22 | 1999-03-02 | Nu-Metrics, Inc. | Method and apparatus for analyzing traffic and a sensor therefor |
WO1998057188A1 (en) * | 1997-06-13 | 1998-12-17 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Sensor comprising a wheatstone bridge |
US6404191B2 (en) * | 1997-08-08 | 2002-06-11 | Nve Corporation | Read heads in planar monolithic integrated circuit chips |
US5952825A (en) * | 1997-08-14 | 1999-09-14 | Honeywell Inc. | Magnetic field sensing device having integral coils for producing magnetic fields |
EP0944839B1 (en) * | 1997-09-15 | 2006-03-29 | AMS International AG | A current monitor system and a method for manufacturing it |
US5883567A (en) * | 1997-10-10 | 1999-03-16 | Analog Devices, Inc. | Packaged integrated circuit with magnetic flux concentrator |
US6094330A (en) * | 1998-01-14 | 2000-07-25 | General Electric Company | Circuit interrupter having improved current sensing apparatus |
US6300617B1 (en) * | 1998-03-04 | 2001-10-09 | Nonvolatile Electronics, Incorporated | Magnetic digital signal coupler having selected/reversal directions of magnetization |
JP3544141B2 (ja) * | 1998-05-13 | 2004-07-21 | 三菱電機株式会社 | 磁気検出素子および磁気検出装置 |
JP3623367B2 (ja) * | 1998-07-17 | 2005-02-23 | アルプス電気株式会社 | 巨大磁気抵抗効果素子を備えたポテンショメータ |
JP3623366B2 (ja) * | 1998-07-17 | 2005-02-23 | アルプス電気株式会社 | 巨大磁気抵抗効果素子を備えた磁界センサおよびその製造方法と製造装置 |
US6809515B1 (en) * | 1998-07-31 | 2004-10-26 | Spinix Corporation | Passive solid-state magnetic field sensors and applications therefor |
WO2004075311A1 (ja) * | 1998-10-02 | 2004-09-02 | Sanken Electric Co., Ltd. | ホール効果素子を有する半導体装置 |
TW434411B (en) | 1998-10-14 | 2001-05-16 | Tdk Corp | Magnetic sensor apparatus, current sensor apparatus and magnetic sensing element |
TW534999B (en) | 1998-12-15 | 2003-06-01 | Tdk Corp | Magnetic sensor apparatus and current sensor apparatus |
JP3249810B2 (ja) | 1999-01-21 | 2002-01-21 | ティーディーケイ株式会社 | 電流センサ装置 |
EP1031844A3 (fr) * | 1999-02-25 | 2009-03-11 | Liaisons Electroniques-Mecaniques Lem S.A. | Procédé de fabrication d'un capteur de courant électrique |
US6331773B1 (en) * | 1999-04-16 | 2001-12-18 | Storage Technology Corporation | Pinned synthetic anti-ferromagnet with oxidation protection layer |
JP3583649B2 (ja) * | 1999-04-27 | 2004-11-04 | Tdk株式会社 | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法ならびに磁気抵抗効果装置 |
DE10017374B4 (de) | 1999-05-25 | 2007-05-10 | Siemens Ag | Magnetische Koppeleinrichtung und deren Verwendung |
DE60037790T2 (de) * | 1999-06-18 | 2009-01-08 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Magnetisches messsystem mit irreversibler charakteristik, sowie methode zur erzeugung, reparatur und verwendung eines solchen systems |
JP3696448B2 (ja) * | 1999-09-02 | 2005-09-21 | 矢崎総業株式会社 | 電流検出器 |
JP2001084535A (ja) * | 1999-09-16 | 2001-03-30 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッドの製造方法および磁気抵抗効果装置の製造方法 |
EP1250606B1 (en) * | 1999-10-01 | 2010-06-16 | NVE Corporation | Magnetic digital signal coupler monitor |
US6445171B2 (en) | 1999-10-29 | 2002-09-03 | Honeywell Inc. | Closed-loop magnetoresistive current sensor system having active offset nulling |
US6462541B1 (en) * | 1999-11-12 | 2002-10-08 | Nve Corporation | Uniform sense condition magnetic field sensor using differential magnetoresistance |
JP2001165963A (ja) * | 1999-12-09 | 2001-06-22 | Sanken Electric Co Ltd | ホール素子を備えた電流検出装置 |
JP3852554B2 (ja) * | 1999-12-09 | 2006-11-29 | サンケン電気株式会社 | ホール素子を備えた電流検出装置 |
JP4164615B2 (ja) * | 1999-12-20 | 2008-10-15 | サンケン電気株式会社 | ホ−ル素子を備えた電流検出装置 |
US6433981B1 (en) * | 1999-12-30 | 2002-08-13 | General Electric Company | Modular current sensor and power source |
DE10028640B4 (de) * | 2000-06-09 | 2005-11-03 | Institut für Physikalische Hochtechnologie e.V. | Wheatstonebrücke, beinhaltend Brückenelemente, bestehend aus einem Spin-Valve-System, sowie ein Verfahren zu deren Herstellung |
JP2002026419A (ja) * | 2000-07-07 | 2002-01-25 | Sanken Electric Co Ltd | 磁電変換装置 |
US6429640B1 (en) * | 2000-08-21 | 2002-08-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | GMR high current, wide dynamic range sensor |
JP2002131342A (ja) | 2000-10-19 | 2002-05-09 | Canon Electronics Inc | 電流センサ |
JP2002163808A (ja) * | 2000-11-22 | 2002-06-07 | Tdk Corp | 磁気抵抗効果装置およびその製造方法ならびに薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
US20020093332A1 (en) | 2001-01-18 | 2002-07-18 | Thaddeus Schroeder | Magnetic field sensor with tailored magnetic response |
DE10159607B4 (de) | 2001-03-09 | 2010-11-18 | Siemens Ag | Analog/Digital-Signalwandlereinrichtung mit galvanischer Trennung in ihrem Singalübertragungsweg |
JP3260740B1 (ja) * | 2001-04-25 | 2002-02-25 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気抵抗効果装置の製造方法および薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
JP3284130B1 (ja) * | 2001-04-25 | 2002-05-20 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気抵抗効果装置およびその製造方法、薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法、ヘッドジンバルアセンブリならびにハードディスク装置 |
US6946834B2 (en) * | 2001-06-01 | 2005-09-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of orienting an axis of magnetization of a first magnetic element with respect to a second magnetic element, semimanufacture for obtaining a sensor, sensor for measuring a magnetic field |
DE10128150C1 (de) | 2001-06-11 | 2003-01-23 | Siemens Ag | Magnetoresistives Sensorsystem |
US6542375B1 (en) | 2001-06-14 | 2003-04-01 | National Semiconductor Corporation | Hybrid PCB-IC directional coupler |
JP4164626B2 (ja) | 2001-06-15 | 2008-10-15 | サンケン電気株式会社 | ホ−ル素子を備えた電流検出装置 |
EP1267173A3 (en) * | 2001-06-15 | 2005-03-23 | Sanken Electric Co., Ltd. | Hall-effect current detector |
EP1273921A1 (en) * | 2001-07-06 | 2003-01-08 | Sanken Electric Co., Ltd. | Hall-effect current detector |
DE10140043B4 (de) * | 2001-08-16 | 2006-03-23 | Siemens Ag | Schichtensystem mit erhöhtem magnetoresistiven Effekt sowie Verwendung desselben |
US6949927B2 (en) | 2001-08-27 | 2005-09-27 | International Rectifier Corporation | Magnetoresistive magnetic field sensors and motor control devices using same |
WO2003038452A1 (fr) | 2001-11-01 | 2003-05-08 | Asahi Kasei Emd Corporation | Capteur de courant et procede de fabrication associe |
DE10155423B4 (de) | 2001-11-12 | 2006-03-02 | Siemens Ag | Verfahren zur homogenen Magnetisierung eines austauschgekoppelten Schichtsystems eines magneto-resistiven Bauelements, insbesondere eines Sensor-oder Logikelements |
US6667682B2 (en) | 2001-12-26 | 2003-12-23 | Honeywell International Inc. | System and method for using magneto-resistive sensors as dual purpose sensors |
DE10202287C1 (de) | 2002-01-22 | 2003-08-07 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung einer monolithischen Brückenschaltung bestehend aus mehreren, als magneto-resistive Elemente ausgebildeten Brückengliedern und eine hiernach hergestellte monolithische Brückenschaltung |
US6815944B2 (en) * | 2002-01-31 | 2004-11-09 | Allegro Microsystems, Inc. | Method and apparatus for providing information from a speed and direction sensor |
US6984978B2 (en) * | 2002-02-11 | 2006-01-10 | Honeywell International Inc. | Magnetic field sensor |
JP2003329749A (ja) * | 2002-05-13 | 2003-11-19 | Asahi Kasei Corp | 磁気センサ及び電流センサ |
DE10222395B4 (de) | 2002-05-21 | 2010-08-05 | Siemens Ag | Schaltungseinrichtung mit mehreren TMR-Sensorelementen |
US7106046B2 (en) * | 2002-06-18 | 2006-09-12 | Asahi Kasei Emd Corporation | Current measuring method and current measuring device |
US6781359B2 (en) * | 2002-09-20 | 2004-08-24 | Allegro Microsystems, Inc. | Integrated current sensor |
JP3896590B2 (ja) * | 2002-10-28 | 2007-03-22 | サンケン電気株式会社 | 電流検出装置 |
US7259545B2 (en) * | 2003-02-11 | 2007-08-21 | Allegro Microsystems, Inc. | Integrated sensor |
US6995957B2 (en) * | 2003-03-18 | 2006-02-07 | Hitachi Global Storage Technologies Netherland B.V. | Magnetoresistive sensor having a high resistance soft magnetic layer between sensor stack and shield |
DE10314602B4 (de) | 2003-03-31 | 2007-03-01 | Infineon Technologies Ag | Integrierter differentieller Magnetfeldsensor |
CN1826672A (zh) | 2003-06-11 | 2006-08-30 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 具有磁性层结构的器件的制造方法 |
US7075287B1 (en) * | 2003-08-26 | 2006-07-11 | Allegro Microsystems, Inc. | Current sensor |
US7166807B2 (en) * | 2003-08-26 | 2007-01-23 | Allegro Microsystems, Inc. | Current sensor |
US7709754B2 (en) * | 2003-08-26 | 2010-05-04 | Allegro Microsystems, Inc. | Current sensor |
JP2005195427A (ja) * | 2004-01-06 | 2005-07-21 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 電流測定装置、電流測定方法および電流測定プログラム |
DE102004003369A1 (de) | 2004-01-22 | 2005-08-18 | Siemens Ag | Magnetisches Bauelement mit hoher Grenzfrequenz |
JP4513804B2 (ja) * | 2004-02-19 | 2010-07-28 | 三菱電機株式会社 | 磁界検出器、これを用いた電流検出装置、位置検出装置および回転検出装置 |
JP4433820B2 (ja) | 2004-02-20 | 2010-03-17 | Tdk株式会社 | 磁気検出素子およびその形成方法ならびに磁気センサ、電流計 |
DE102004009267B3 (de) | 2004-02-26 | 2005-09-22 | Siemens Ag | Ausleseeinrichtung wenigstens eines magnetoresistiven Elementes |
DE102004062474A1 (de) * | 2004-03-23 | 2005-10-13 | Siemens Ag | Vorrichtung zur potenzialfreien Strommessung |
JP4229282B2 (ja) * | 2004-04-28 | 2009-02-25 | タイコエレクトロニクスアンプ株式会社 | レバー式コネクタ |
US20050246114A1 (en) | 2004-04-29 | 2005-11-03 | Rannow Randy K | In-line field sensor |
DE102004038847B3 (de) | 2004-08-10 | 2005-09-01 | Siemens Ag | Einrichtung zur potenzialfreien Messung eines in einer elektrischen Leiterbahn fließenden Stromes |
DE102005037905A1 (de) | 2004-08-18 | 2006-03-09 | Siemens Ag | Magnetfeldsensor zum Messen eines Gradienten eines magnetischen Feldes |
DE102004040079B3 (de) | 2004-08-18 | 2005-12-22 | Siemens Ag | Magnetfeldsensor |
DE102004043737A1 (de) * | 2004-09-09 | 2006-03-30 | Siemens Ag | Vorrichtung zum Erfassen des Gradienten eines Magnetfeldes und Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung |
JP4360998B2 (ja) | 2004-10-01 | 2009-11-11 | Tdk株式会社 | 電流センサ |
US7777607B2 (en) | 2004-10-12 | 2010-08-17 | Allegro Microsystems, Inc. | Resistor having a predetermined temperature coefficient |
JP4105142B2 (ja) | 2004-10-28 | 2008-06-25 | Tdk株式会社 | 電流センサ |
DE102004053551A1 (de) | 2004-11-05 | 2006-05-18 | Siemens Ag | Vorrichtung zum Erfassen eines beweglichen oder bewegbaren elektrisch und/oder magnetisch leitenden Teiles |
JP4105145B2 (ja) | 2004-11-30 | 2008-06-25 | Tdk株式会社 | 電流センサ |
JP4105147B2 (ja) | 2004-12-06 | 2008-06-25 | Tdk株式会社 | 電流センサ |
JP4131869B2 (ja) | 2005-01-31 | 2008-08-13 | Tdk株式会社 | 電流センサ |
US7476953B2 (en) * | 2005-02-04 | 2009-01-13 | Allegro Microsystems, Inc. | Integrated sensor having a magnetic flux concentrator |
DE602005003777T2 (de) | 2005-02-15 | 2008-12-04 | C.R.F. Società Consortile per Azioni, Orbassano | Oberflächenmontierter integrierter Stromsensor |
DE102006008257B4 (de) | 2005-03-22 | 2010-01-14 | Siemens Ag | Magnetoresistives Mehrschichtensystem vom Spin Valve-Typ mit einer magnetisch weicheren Elektrode aus mehreren Schichten und dessen Verwendung |
US7358724B2 (en) * | 2005-05-16 | 2008-04-15 | Allegro Microsystems, Inc. | Integrated magnetic flux concentrator |
DE102006021774B4 (de) | 2005-06-23 | 2014-04-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Stromsensor zur galvanisch getrennten Strommessung |
JP4466487B2 (ja) | 2005-06-27 | 2010-05-26 | Tdk株式会社 | 磁気センサおよび電流センサ |
DE102005038655B3 (de) | 2005-08-16 | 2007-03-22 | Siemens Ag | Magnetfeldsensitive Sensoreinrichtung |
DE102005040539B4 (de) | 2005-08-26 | 2007-07-05 | Siemens Ag | Magnetfeldsensitive Sensoreinrichtung |
JP2007064851A (ja) | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Tdk Corp | コイル、コイルモジュールおよびその製造方法、ならびに電流センサおよびその製造方法 |
JP4298691B2 (ja) | 2005-09-30 | 2009-07-22 | Tdk株式会社 | 電流センサおよびその製造方法 |
JP4415923B2 (ja) | 2005-09-30 | 2010-02-17 | Tdk株式会社 | 電流センサ |
JP4224483B2 (ja) | 2005-10-14 | 2009-02-12 | Tdk株式会社 | 電流センサ |
DE102005052688A1 (de) | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Siemens Ag | Magnetfeldsensor mit einer Messbrücke mit MR-Sensor |
US7768083B2 (en) | 2006-01-20 | 2010-08-03 | Allegro Microsystems, Inc. | Arrangements for an integrated sensor |
JP2007218700A (ja) | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Tdk Corp | 磁気センサおよび電流センサ |
DE102006007770A1 (de) | 2006-02-20 | 2007-08-30 | Siemens Ag | Sensoreinrichtung zur Erfassung einer Magnetfeldgröße |
DE102006026148A1 (de) | 2006-06-06 | 2007-12-13 | Insta Elektro Gmbh | Elektrisches/elektronisches Gerät |
DE102006028698B3 (de) | 2006-06-22 | 2007-12-13 | Siemens Ag | OMR-Sensor und Anordnung aus solchen Sensoren |
DE102006046739B4 (de) | 2006-09-29 | 2008-08-14 | Siemens Ag | Verfahren zum Betreiben eines Magnetfeldsensors und zugehöriger Magnetfeldsensor |
DE102006046736B4 (de) | 2006-09-29 | 2008-08-14 | Siemens Ag | Verfahren zum Betreiben eines Magnetfeldsensors und zugehöriger Magnetfeldsensor |
US8203332B2 (en) | 2008-06-24 | 2012-06-19 | Magic Technologies, Inc. | Gear tooth sensor (GTS) with magnetoresistive bridge |
-
2008
- 2008-06-02 US US12/131,339 patent/US7816905B2/en active Active
-
2009
- 2009-05-20 WO PCT/US2009/044614 patent/WO2009148823A1/en active Application Filing
- 2009-05-20 DE DE112009001350T patent/DE112009001350T5/de active Pending
- 2009-05-20 CN CN2009801156086A patent/CN102016606B/zh active Active
- 2009-05-20 KR KR1020107029241A patent/KR20110020863A/ko not_active Application Discontinuation
- 2009-05-20 JP JP2011511715A patent/JP2011522251A/ja active Pending
-
2014
- 2014-09-02 JP JP2014177801A patent/JP2014222254A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150118956A (ko) * | 2013-07-30 | 2015-10-23 | 아사히 가세이 일렉트로닉스 가부시끼가이샤 | 전류 센서 |
US10215781B2 (en) | 2013-07-30 | 2019-02-26 | Asahi Kasei Microdevices Corporation | Current sensor |
KR20160121976A (ko) | 2015-04-13 | 2016-10-21 | 김태용 | 홀 소자를 이용한 다중 출력 전류센서 |
KR20190099201A (ko) * | 2016-12-02 | 2019-08-26 | 퍼듀 리서치 파운데이션 | 차량 배터리 전류 감지 시스템 |
KR20230064631A (ko) * | 2016-12-02 | 2023-05-10 | 퍼듀 리서치 파운데이션 | 차량 배터리 전류 감지 시스템 |
KR20190084000A (ko) * | 2018-01-05 | 2019-07-15 | 멜렉시스 테크놀로기스 에스에이 | 오프셋 전류 센서 구조체 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7816905B2 (en) | 2010-10-19 |
DE112009001350T5 (de) | 2011-04-21 |
US20090295368A1 (en) | 2009-12-03 |
WO2009148823A1 (en) | 2009-12-10 |
JP2014222254A (ja) | 2014-11-27 |
JP2011522251A (ja) | 2011-07-28 |
CN102016606B (zh) | 2013-10-30 |
CN102016606A (zh) | 2011-04-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20110020863A (ko) | 전류 감지 회로를 위한 장치 및 집적 전류 센서 | |
JP6150855B2 (ja) | 集積化センサの配列 | |
WO2015083601A1 (ja) | 三次元磁気センサー | |
US20100079135A1 (en) | Magnetic detecting device and method for making the same, and angle detecting apparatus, position detecting apparatus, and magnetic switch each including the magnetic detecting device | |
JPWO2015107949A1 (ja) | 磁気センサ | |
EP3594704B1 (en) | Integrated circuit with connectivity error detection |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
E801 | Decision on dismissal of amendment | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
B601 | Maintenance of original decision after re-examination before a trial | ||
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL NUMBER: 2016101000770; TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20160211 Effective date: 20171025 |