KR20100116013A - 스토커 시스템 및 스토커 관리 방법 - Google Patents

스토커 시스템 및 스토커 관리 방법 Download PDF

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Abstract

스토커의 셸프를 용이하게 점검할 수 있도록, 본 발명은 피적재물을 적재할 수 있는 셸프(shelf)를 구비하는 스토커(stocker), 상기 스토커쪽으로 상기 피적재물을 이동할 수 있도록 몸체부, 상기 몸체부에 연결되는 아암(arm)부를 구비하는 랙마스터 및 상기 아암부 상에 적재할 수 있도록 형성된 센서 유니트를 포함하고, 상기 센서 유니트는 상기 아암부 상에 상기 센서 유니트가 적재된 상태에서 상기 아암부가 상기 셸프의 상부로 이동 시 상기 셸프와 대향하고 상기 아암부와 접촉하지 않는 대향면을 구비하고, 상기 센서 유니트와 상기 셸프간의 상호 위치 관계를 복수의 지점에서 측정하도록 상기 대향면에 복수의 변위 센서가 배치된 스토커 시스템 및 스토커 관리 방법을 제공한다.

Description

스토커 시스템 및 스토커 관리 방법{Stocker system and method of managing stocker}
본 발명은 스토커 시스템 및 스토커 관리 방법에 관한 것으로 더 상세하게는 스토커의 셸프를 용이하게 관리할 수 있는 스토커 시스템 및 스토커 관리 방법에 관한 것이다.
복수의 물건을 적재하기 위하여 스토커가 사용된다. 스토커는 복수의 물건들을 각각 하나씩 적재하도록 셸프를 구비한다. 스토커에는 다양한 물건들이 적재되는데 구체적으로 포토 리소그래피법 또는 증착 공정에 사용되는 마스크들, 반도체 제조를 위한 웨이퍼가 담긴 카세트들 및 평판 표시 장치 제조용 기판들이 감긴 카세트들을 적재할 수 있다.
또한 스토커에 물건을 적재하고, 적재된 물건을 꺼내거나 이송할 때 아암(arm)이 부착된 랙마스터를 이용한다. 이러한 랙마스터는 레일 등의 부재를 이용하여 일정한 운동을 하면서 물건을 자동으로 적재 및 이송할 수 있다.
그런데 스토커를 사용함에 따라 물건을 적재하는 셸프가 힘을 받아 변형되거나 기울어지는 등 최초 상태와 다른 형태 및 위치를 갖게 된다. 셸프가 기울어지거 나 손상되어 평탄도를 잃게 되면 스토커에 물건들을 적재 시 물건들이 파손될 수 있다. 또한 수평 상태가 아닌 기울어진 상태로 적재된 물건은 품질에 영향을 받게 된다.
이로 인하여 주기적으로 스토커의 셸프를 점검할 필요가 있다. 그러나 스토커 내부는 청정도 유지를 위해 이물로 인한 오염이 없도록 하여야 하므로 작업자 또는 장비를 이용하여 점검을 하는데 용이하지 않다. 또한 협소한 스토커의 내부 공간으로 인하여 스토커의 셸프를 효율적으로 점검하는데 한계가 있다.
본 발명은 스토커의 셸프를 용이하게 점검할 수 있는 스토커 시스템 및 스토커 관리 방법을 제공할 수 있다.
본 발명은 피적재물을 적재할 수 있는 셸프(shelf)를 구비하는 스토커(stocker), 상기 스토커쪽으로 상기 피적재물을 이동할 수 있도록 몸체부, 상기 몸체부에 연결되는 아암(arm)부를 구비하는 랙마스터 및 상기 아암부 상에 적재할 수 있도록 형성된 센서 유니트를 포함하고, 상기 센서 유니트는 상기 아암부 상에 상기 센서 유니트가 적재된 상태에서 상기 아암부가 상기 셸프의 상부로 이동 시 상기 셸프와 대향하고 상기 아암부와 접촉하지 않는 대향면을 구비하고, 상기 센서 유니트와 상기 셸프간의 상호 위치 관계를 복수의 지점에서 측정하도록 상기 대향면에 복수의 변위 센서가 배치된 스토커 시스템을 개시한다.
본 발명에 있어서 상기 변위 센서는 상기 아암부 상에 상기 센서 유니트가 적재된 상태에서 상기 아암부가 상기 셸프의 상부로 이동 시 상기 센서 유니트와 상기 셸프가 중첩되는 영역에 배치되도록 형성될 수 있다.
본 발명에 있어서 상기 변위 센서 중 적어도 두 개의 변위 센서는 상기 아암부 상에 상기 센서 유니트가 적재된 상태에서 상기 아암부가 상기 셸프의 상부로 이동 시 상기 셸프의 영역을 기준으로 대칭되는 위치에 배치될 수 있다.
본 발명에 있어서 상기 셸프는 수평한 방향으로 이격된 제1 지지부 및 제2 지지부를 구비하고, 상기 변위 센서는 상기 아암부 상에 상기 센서 유니트가 적재된 상태에서 상기 아암부가 상기 셸프의 상부로 이동 시 상기 제1 지지부 및 제2 지지부에 대응하도록 배치될 수 있다.
본 발명에 있어서 상기 변위 센서는 상기 제1 지지부에 대응하도록 배치된 복수의 제1 변위 센서들과 상기 제2 지지부에 대응하도록 배치된 복수의 제2 변위 센서들을 구비할 수 있다.
본 발명에 있어서 상기 대향면은 상기 아암부의 측면 주위에 형성될 수 있다.
본 발명에 있어서 상기 변위 센서가 측정한 상기 셸프와 상기 센서 유니트 간의 상호 위치 관계를 이용하여 상기 셸프의 평탄도를 측정하는 제어부를 더 포함하고, 상기 센서 유니트는 상기 제어부와 통신할 수 있는 무선 통신부를 구비할 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면 피적재물을 적재하기 위한 셸프를 구비하는 스토커, 상기 스토커쪽으로 상기 피적재물을 이동할 수 있도록 몸체부와 상기 몸체부에 연결되는 아암(arm)부를 구비하는 랙마스터 및 상기 아암부에 적재할 수 있도록 형성된 센서 유니트를 포함하는 스토커 시스템을 관리하는 방법으로서, (a)상기 아암부 상에 상기 센서 유니트를 적재하는 단계, (b)상기 센서 유니트가 적재된 상기 아암부를 상기 셸프의 상부로 이동하는 단계, (c)상기 센서 유니트의 영역 중 상기 아암부와 접촉하지 않고 상기 셸프와 대향하는 면에 구비된 복수의 변위 센서를 이용하여 상기 센서 유니트와 상기 셸프간의 상호 위치 관계를 복수의 지점에서 측정하는 단계 및 (d)상기 변위 센서를 통하여 측정한 상기 센서 유니트와 상기 셸프간의 상호 위치 관계를 이용하여 상기 셸프의 평탄도를 측정하는 단계를 포함하는 스토커 관리 방법을 개시한다.
본 발명에 있어서 상기 (b)단계에서 상기 변위 센서는 상기 센서 유니트와 상기 셸프가 중첩되는 영역에 배치될 수 있다.
본 발명에 있어서 상기 (b)단계에서 상기 변위 센서 중 적어도 두 개의 변위 센서는 상기 셸프의 상부로 이동 시 상기 셸프의 영역을 기준으로 대칭되는 위치에 배치될 수 있다.
본 발명에 있어서 상기 셸프는 수평한 방향으로 이격된 제1 지지부 및 제2 지지부를 구비하고, 상기 (b)단계에서 상기 변위 센서는 상기 제1 지지부 및 제2 지지부에 대응하도록 배치될 수 있다.
본 발명에 있어서 상기 변위 센서는 상기 제1 지지부에 대응하도록 배치된 복수의 제1 센서들과 상기 제2 지지부에 대응하도록 배치된 복수의 제2 센서들을 구비할 수 있다.
본 발명에 있어서 상기 (a)단계에서 상기 변위 센서가 상기 아암부의 측면의 주위에 배치될 수 있다.
본 발명에 있어서 상기 스토커는 복수의 피적재물을 각각 적재할 수 있는 복수의 셸프를 구비하고, 각 셸프마다 상기 (b)단계, 상기 (c)단계 및 상기 (c)단계를 순차적으로 진행하여 상기 각 셸프의 평탄도를 측정하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 관한 스토커 시스템 및 스토커 관리 방법은 스토커의 셸프를 용이하게 점검할 수 있다.
본 발명에 관한 스토커 시스템 및 스토커 관리 방법은 스토커의 셸프의 평탄도를 용이하게 점검할 수 있다.
또한 본 발명에 관한 스토커 시스템 및 스토커 관리 방법은 스토커에 구비된복수의 셸프를 순차적으로 용이하게 점검할 수 있다.
이하 첨부된 도면들에 도시된 본 발명에 관한 실시예를 참조하여 본 발명의 구성 및 작용을 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 스토커 시스템을 설명하기 위한 개략적인 정면도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 절취한 단면도이다.
스토커 시스템(1000)은 스토커(100), 랙마스터(200), 센서 유니트(300) 및 제어부(400)를 포함한다.
스토커(100)는 피적재물을 적재하도록 형성된 셸프(110)를 구비한다. 스토커(100)는 복수의 피적재물을 적재하도록 복수의 셸프(110)를 구비한다. 셸프(110)에는 마스크, 기판, 카세트 등이 적재될 수 있다.
랙마스터(200)는 주행부(205), 본체부(210) 및 아암(arm)부(230)를 구비한다. 주행부(205)는 랙마스터(200)를 스토커(100)의 원하는 위치로 이동시킨다. 이를 위하여 주행부(205)는 레일 형태의 구성을 포함할 수 있다.
본체부(210)는 주행부(205)에 연결된다. 본체부(210)에 연결된 아암부(230)는 본체부(210)에 연결된 상태에서 상, 하 운동이 가능하고 전진 및 후진 운동이 가능하여 피적재물을 스토커(100)의 원하는 셸프(110)에 적재할 수 있도록 한다.
아암부(230)는 암베이스(231) 및 로봇암(232)을 구비한다. 암베이스(231)는 본체부(210)에 연결되며 아암부(230)의 베이스(base)를 이룬다. 로봇암(232)에는 피적재물을 올려 피적재물을 셸프(110)에 적재할 수 있다.
센서 유니트(300)는 아암부(230)에 적재할 수 있도록 형성된다. 구체적으로 센서 유니트(300)는 로봇암(232)의 상부에 적재되도록 형성된다.
센서 유니트(300)는 복수의 변위 센서(350)를 구비한다. 변위 센서(350)는 센서 유니트(300)의 대향면(301)에 형성된다. 대향면(301)은 센서 유니트(300)의 영역 중 센서 유니트(300)가 로봇암(232)에 적재된 상태에서 로봇암(232)과 접촉하지 않고 노출되는 부분이고, 로봇암(232)이 셸프(110)의 상부로 이동 시 하부의 셸프(110)와 대향하는 면이다.
변위 센서(350)는 도 2에 도시한 것과 같이 로봇암(232)이 셸프(110)의 상부로 이동 시 센서 유니트(300)와 셸프(110)가 중첩되는 영역에 배치된다. 이를 통하여 변위 센서(350)는 센서 유니트(300)와 셸프(110)간의 상호 위치 관계를 복수의 지점에서 측정할 수 있다. 즉 센서 유니트(300)와 셸프(110)간의 수직 거리를 복수의 지점에서 측정한다(구체적인 내용은 후술함).
본 실시예에서 아암부(230)는 로봇암(232)과 암베이스(231)로 나누어져 있다. 그러나 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 아암부(230)는 암베이스(231)와 로봇암(232)이 일체로 구성될 수 있다.
아암부(230)가 로봇암(232) 및 암베이스(231)로 나누어지지 않고 일체로 구성되는 경우 센서부(250)는 아암부(230)의 일 면에 배치된다.
제어부(400)는 CPU등을 구비하여 센서 유니트(300)와 무선 통신하여 데이터를 처리하거나 랙마스터(200)의 이동 및 피적재물의 적재를 제어한다.
도 2를 참조하면 스토커(100)는 복수의 셸프(110)를 구비하는데 각 셸프(110)는 수평 방향으로 이격된 제1 지지부(111) 및 제2 지지부(112)를 구비한다. 센서 유니트(300)의 변위 센서(350)들은 제1 지지부(111) 및 제2 지지부(112)에 대응하도록 배치된다.
도 3은 도 1의 센서 유니트를 설명하기 위한 개략적인 투명 사시도이다. 설명의 편의를 위하여 1개의 셸프(110), 암베이스(231), 로봇암(232) 및 센서 유니트(300)를 도시하였다.
도 3을 참조하면 셸프(110)는 제1 지지부(111) 및 제2 지지부(112)를 구비한 다. 센서 유니트(300)는 변위 센서(350)들을 포함하는데, 변위 센서(350)들은 제1 센서(351)들과 제2 센서(352)들을 구비한다.
제1 센서(351)들은 제1 지지부(111)에 대응하도록 배치되는데 센서 유니트(300)의 대향면(301)의 영역 중 제1 지지부(111)와 중첩되는 영역에 형성되고, 제2 센서(352)들은 제2 지지부(112)에 대응하도록 배치되는데 대향면(301)의 영역 중 제2 지지부(112)와 중첩되는 영역에 형성된다.
설명의 편의를 위하여 제1 센서(351)들은 암베이스(231)로부터 멀어지는 방향으로 제1 센서A(351A), 제1 센서B(351B), 제1 센서C(351C), 제1 센서D(351D), 제1 센서E(351E)라고 정의한다. 또한 제2 센서(352)들은 암베이스(231)로부터 멀어지는 방향으로 제2 센서A(352A), 제2 센서B(352B), 제2 센서C(352C), 제2 센서D(352D), 제2 센서E(352E)라고 정의한다.
도 4는 도 1의 센서 유니트(300)를 개략적으로 도시한 저면도이다. 도 3에 도시된 센서 유니트(300)를 로봇암(232)방향에서 바라 본 저면도이다. 도 4를 참조하면 센서 유니트(300)의 형태는 사각형의 링 형태이다. 센서 유니트(300)의 일면 즉 측정하고자 하는 셸프(110)를 대향하는 면에 제1 센서(351) 및 제2 센서(352)가 배치된다.
도 5는 도 3의 상부에서 본 투명 평면도이다. 도 5를 참조하면 로봇암(232)이 셸프(110)의 상부로 이동한 상태에서 제1 센서A(351A)와 제2 센서A(352A)는 제1 지지부(111) 및 제2 지지부(112)를 기준으로 선대칭 관계에 있도록 배치될 수 있다.
마찬가지로, 제1 센서B(351B)와 제2 센서B(352B), 제1 센서C(351C)와 제2 센서C(352C), 제1 센서D(351D)와 제2 센서D(352D), 제1 센서E(351E)와 제2 센서E(352E)는 각각 제1 지지부(111) 및 제2 지지부(112)를 기준으로 선대칭 관계에 있도록 배치될 수 있다.
센서 유니트(300)에 구비된 변위 센서(350)들은 셸프(110)의 각 지점을 측정하여 셸프(110)의 기울어짐을 측정할 수 있다. 특히 센서 유니트(300)는 복수의 변위 센서(350)들을 구비하여 셸프(110)의 복수의 지점에서 변위를 측정하여 셸프(110)의 평탄도를 측정할 수 있고, 나아가 변위 센서(350) 중 적어도 두 개의 센서는 셸프(110)의 영역을 기준으로 대칭되는 위치에 배치되어 더욱 정밀한 측정이 가능하다.
도 6 및 도 7은 도 3의 우측면도 및 좌측면도이다. 도 6 및 도 7은 센서 유니트(300)에 구비된 변위 센서(350)가 셸프(110)를 센싱하는 것을 개략적으로 도시하고 있다.
도 6은 도 3의 우측면도로서 제2 지지부(112)방향에서 본 측면도이다. 도 6을 참조하면 제2 센서(352)는 센서 유니트(300)와 제2 지지부(112)간의 거리를 측정한다. 우선 제2 센서A(352A)는 로봇암(232)이 제2 지지부(112)의 상부에 이동한 상태에서 센서 유니트(300)와 제2 지지부(112)간의 거리를 측정한다.
제2 센서A(352A)는 레이저 변위 센서일 수 있는데, 제2 센서A(352A)가 레이저 변위 센서인 경우 레이저 조사부(미도시) 및 수광부(미도시)를 구비할 수 있다. 제2 센서A(352A)는 레이저 조사부에서 조사된 레이저가 셸프(110)의 제2 지지 부(112)의 면에서 반사되어 수광부로 입사되는 거리A2를 측정한다.
마찬가지로 제2 센서B(352B), 제2 센서C(352C), 제2 센서D(352D), 제2 센서E(352E)는 각각 레이저 조사부에서 조사된 레이저가 셸프(110)의 제2 지지부(112)의 면에서 반사되어 수광부로 입사되는 거리 B2, C2, D2 및 E2를 측정한다.
도 7은 도 3의 좌측면도로서 제1 지지부(111)방향에서 본 측면도이다. 도 7을 참조하면 제1 센서(351)는 센서 유니트(300)와 제1 지지부(111)간의 거리를 측정한다. 우선 제1 센서A(351A)는 로봇암(232)이 제1 지지부(111)의 상부에 이동한 상태에서 센서 유니트(300)와 제1 지지부(111)간의 거리를 측정한다.
제1 센서A(351A)는 레이저 변위 센서일 수 있는데, 제1 센서A(351A)가 레이저 변위 센서인 경우 레이저 조사부(미도시) 및 수광부(미도시)를 구비할 수 있다. 제1 센서A(351A)는 레이저 조사부에서 조사된 레이저가 셸프(110)의 제1 지지부(111)의 면에서 반사되어 수광부로 입사되는 거리A1를 측정한다.
마찬가지로 제1 센서B(351B), 제1 센서C(351C), 제1 센서D(351D), 제1 센서E(351E)는 각각 레이저 조사부에서 조사된 레이저가 셸프(110)의 제1 지지부(111)의 면에서 반사되어 수광부로 입사되는 거리 B1, C1, D1 및 E1를 측정한다.
이와 같이 측정한 거리 A1, B1, C1, D1, E1, A2, B2, C2, D2 및 E2를 이용하여 셸프(110)의 기울어짐을 확인할 수 있다. 구체적으로 A1, B1, C1, D1, E1, A2, B2, C2, D2 및 E2의 정보는 센서 유니트(300)에 구비된 무선 통신부(미도시)를 통하여 제어부(400)에 전달된다. 무선 통신부는 제어부(400)와 센서 유니트(300)를 무선으로 통신할 수 있게 하도록 다양한 형태의 적용이 가능한데, 예를들면 무선 통신부는 적외선 통신부일 수 있다.
제어부(400)는 이러한 거리 정보를 이용하여 셸프(110)의 평탄도를 측정한다. 즉, 센서 유니트(300)의 변위 센서(350)를 이용하여 측정한 거리는 센서 유니트(300)와 셸프(110)간의 거리에 대응하는데, 이를 통하여 센서 유니트(300)와 셸프(110)간의 상호 위치 관계를 알 수 있다.
로봇암(232) 및 센서 유니트(300)가 평탄하다고 가정할 때, 복수의 지점에서 측정한 센서 유니트(300)와 셸프(110)간의 거리가 동일하면 셸프(110)는 기울어지거나 휘지 않고 평탄하게 형성되어 정상 상태라고 할 수 있다.
구체적으로 설명하면 다음과 같다. A1, B1, C1, D1, E1이 동일한 값인 경우 셸프(110)의 제1 지지부(111)는 기울어지지 않고 평탄하다고 할 수 있다. 또한 A2, B2, C2, D2, E2이 동일한 값인 경우 셸프(110)의 제2 지지부(112)는 기울어지지 않고 평탄하다고 할 수 있다.
또한 A1과 A2를 비교하여 제1 지지부(111)와 제2 지지부(112)가 서로 나란하게 형성되고 각각 기울어지지 않음을 확인할 수 있다. 마찬가지로 B1과B2, C1과C2, D1과D2, E1과E2를 각각 비교하여 제1 지지부(111)와 제2 지지부(112)의 배치 상태를 확인할 수 있다. 최종적으로 A1, B1, C1, D1, E1, A2, B2, C2, D2 및 E2가 동일한 값을 가지면 셸프(110)는 평탄하다고 할 수 있다.
도 8 및 도 9는 본 발명의 다른 실시예에 관한 스토커 시스템에 구비되는 센서 유니트를 도시한 저면도들이다.
도 8을 참조하면 센서 유니트(600)는 사각형의 플레이트 형태이다. 변위 센 서(650)들은 셸프와 대응하도록 배치된다. 도 9를 참조하면 센서 유니트(600)는 U자 형태이다. 그러나 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 센서 유니트는 아암부에 적재될 수 있고 셸프에 대응하는 면에 변위 센서들이 구비되면 다양한 형태로 변형이 가능하다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 관한 스토커 관리 방법을 개략적으로 도시한 흐름도이다.
본 실시예에 관한 스토커 관리 방법은 아암부 상에 센서 유니트를 적재하는 단계(S11), 센서 유니트가 적재된 아암부를 셸프의 상부로 이동하는 단계(S12), 센서 유니트의 영역 중 아암부와 접촉하지 않고 셸프와 대향하는 면에 구비된 복수의 변위 센서를 이용하여 센서 유니트와 셸프간의 상호 위치 관계를 복수의 지점에서 측정하는 단계(S13) 및 변위 센서를 통하여 측정한 센서 유니트와 셸프간의 상호 위치 관계를 이용하여 셸프의 평탄도를 측정하는 단계(S14)를 포함한다.
단계(S11)에서 센서 유니트를 아암부에 적재 시 센서 유니트에 구비된 변위 센서들이 아암부의 측면에 배치되도록 한다. 이를 통하여 변위 센서들은 아암부와 접촉하지 않는다.
단계(S12)에서 아암부를 셸프의 상부로 이동한다. 아암부상에 적재된 센서 유니트가 셸프와 접촉하지 않도록 아암부와 셸프간의 높이를 적절히 조절한다. 또한 센서 유니트의 변위 센서가 셸프와 대응하도록 아암부의 전진 거리를 조정한다.
단계(S13)에서 변위 센서들을 이용하여 유니트 센서와 셸프간의 거리를 측정한다. 측정 시 정밀한 측정을 위하여 유니트 센서가 셸프의 상부로 이동한 상태에 서 움직이지 않도록 제어한다.
단계(S14)에서 변위 센서들이 측정한 데이터를 이용하여 셸프의 평탄도를 측정한다. 복수의 변위 센서들이 측정한 데이터가 동일한 값 또는 일정 수치 이하이면 셸프의 평탄도는 정상이라고 할 수 있다. 그러나 변위 센서들이 측정한 데이터들이 동일하지 않고 상이한 값을 나타내면 셸프의 평탄도는 비정상이다. 이러한 경우 셸프를 교정하거나 교체할 수 있다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 관한 스토커 관리 방법을 개략적으로 도시한 흐름도이다.
본 실시예에 관한 스토커 관리 방법은 아암부 상에 센서 유니트를 적재하는 단계(S21), 센서 유니트가 적재된 아암부를 셸프의 상부로 이동하는 단계(S22), 센서 유니트의 영역 중 아암부와 접촉하지 않고 셸프와 대향하는 면에 구비된 복수의 변위 센서를 이용하여 센서 유니트와 셸프간의 상호 위치 관계를 복수의 지점에서 측정하는 단계(S23) 및 변위 센서를 통하여 측정한 센서 유니트와 셸프간의 상호 위치 관계를 이용하여 셸프의 평탄도를 측정하는 단계(S24)를 포함한다.
먼저 센서 유니트를 아암부 상에 적재한다(S21). 그리고 나서 스토커의 셸프중 측정하지 않은 셸프가 있는 지 검사하고 측정할 셸프가 남아 있으면 단계(S22), 단계(S23) 및 단계(S24)를 순차적으로 반복하여 셸프들의 평탄도를 측정한다.
이러한 순차적 공정은 CPU를 구비하는 제어부를 통하여 수행된다.
스토커의 셸프들의 평탄도를 모두 측정하고 나면 아암부에서 센서 유니트를 내려 놓는 단계(S25)를 수행하고 작업을 종료한다.
이를 통하여 스토커의 셸프들의 평탄도를 순차적으로 모두 측정하는 것이 가능하다.
도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 스토커 시스템을 설명하기 위한 개략적인 정면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 절취한 단면도이다.
도 3은 도 1의 센서 유니트를 설명하기 위한 개략적인 투명 사시도이다.
도 4는 도 1의 센서 유니트를 개략적으로 도시한 저면도이다.
도 5는 도 3의 상부에서 본 투명 평면도이다.
도 6 및 도 7은 도 3의 좌측면도 및 우측면도이다.
도 8 및 도 9는 본 발명의 다른 실시예에 관한 스토커 시스템에 구비되는 센서 유니트를 도시한 저면도들이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 관한 스토커 관리 방법을 개략적으로 도시한 흐름도이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 관한 스토커 관리 방법을 개략적으로 도시한 흐름도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 간단한 설명>
1000: 스토커 시스템 100: 스토커
110: 셸프 111: 제1 지지부
112: 제2 지지부 200: 랙마스터
210: 본체부 230: 아암부
231: 암베이스 232: 로봇암
300: 센서 유니트 301: 대향면
350: 센서부 351: 제1 센서
352: 제2 센서 400: 제어부

Claims (14)

  1. 피적재물을 적재할 수 있는 셸프(shelf)를 구비하는 스토커(stocker);
    상기 스토커쪽으로 상기 피적재물을 이동할 수 있도록 몸체부, 상기 몸체부에 연결되는 아암(arm)부를 구비하는 랙마스터; 및
    상기 아암부 상에 적재할 수 있도록 형성된 센서 유니트를 포함하고,
    상기 센서 유니트는 상기 아암부 상에 상기 센서 유니트가 적재된 상태에서 상기 아암부가 상기 셸프의 상부로 이동 시 상기 셸프와 대향하고 상기 아암부와 접촉하지 않는 대향면을 구비하고, 상기 센서 유니트와 상기 셸프간의 상호 위치 관계를 복수의 지점에서 측정하도록 상기 대향면에 복수의 변위 센서가 배치된 스토커 시스템.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 변위 센서는 상기 아암부 상에 상기 센서 유니트가 적재된 상태에서 상기 아암부가 상기 셸프의 상부로 이동 시 상기 센서 유니트와 상기 셸프가 중첩되는 영역에 배치되도록 형성된 스토커 시스템.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 변위 센서 중 적어도 두 개의 변위 센서는 상기 아암부 상에 상기 센서 유니트가 적재된 상태에서 상기 아암부가 상기 셸프의 상부로 이동 시 상기 셸프의 영역을 기준으로 대칭되는 위치에 배치되도록 형성된 스토커 시스템.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 셸프는 수평한 방향으로 이격된 제1 지지부 및 제2 지지부를 구비하고, 상기 변위 센서는 상기 아암부 상에 상기 센서 유니트가 적재된 상태에서 상기 아암부가 상기 셸프의 상부로 이동 시 상기 제1 지지부 및 제2 지지부에 대응하도록 배치되는 스토커 시스템.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 변위 센서는 상기 제1 지지부에 대응하도록 배치된 복수의 제1 변위 센서들과 상기 제2 지지부에 대응하도록 배치된 복수의 제2 변위 센서들을 구비하는 스토커 시스템.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 대향면은 상기 아암부의 측면 주위에 형성된 스토커 시스템.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 변위 센서가 측정한 상기 셸프와 상기 센서 유니트 간의 상호 위치 관계를 이용하여 상기 셸프의 평탄도를 측정하는 제어부를 더 포함하고,
    상기 센서 유니트는 상기 제어부와 통신할 수 있는 무선 통신부를 구비하는 스 토커 시스템.
  8. 피적재물을 적재하기 위한 셸프를 구비하는 스토커, 상기 스토커쪽으로 상기 피적재물을 이동할 수 있도록 몸체부와 상기 몸체부에 연결되는 아암(arm)부를 구비하는 랙마스터 및 상기 아암부에 적재할 수 있도록 형성된 센서 유니트를 포함하는 스토커 시스템을 관리하는 방법으로서,
    (a)상기 아암부 상에 상기 센서 유니트를 적재하는 단계;
    (b)상기 센서 유니트가 적재된 상기 아암부를 상기 셸프의 상부로 이동하는 단계;
    (c)상기 센서 유니트의 영역 중 상기 아암부와 접촉하지 않고 상기 셸프와 대향하는 면에 구비된 복수의 변위 센서를 이용하여 상기 센서 유니트와 상기 셸프간의 상호 위치 관계를 복수의 지점에서 측정하는 단계; 및
    (d)상기 변위 센서를 통하여 측정한 상기 센서 유니트와 상기 셸프간의 상호 위치 관계를 이용하여 상기 셸프의 평탄도를 측정하는 단계를 포함하는 스토커 관리 방법.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 (b)단계에서 상기 변위 센서는 상기 센서 유니트와 상기 셸프가 중첩되는 영역에 배치되는 스토커 관리 방법.
  10. 제8 항에 있어서,
    상기 (b)단계에서 상기 변위 센서 중 적어도 두 개의 변위 센서는 상기 셸프의 상부로 이동 시 상기 셸프의 영역을 기준으로 대칭되는 위치에 배치되는 스토커 관리 방법.
  11. 제8 항에 있어서,
    상기 셸프는 수평한 방향으로 이격된 제1 지지부 및 제2 지지부를 구비하고, 상기 (b)단계에서 상기 변위 센서는 상기 제1 지지부 및 제2 지지부에 대응하도록 배치되는 스토커 관리 방법.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 변위 센서는 상기 제1 지지부에 대응하도록 배치된 복수의 제1 센서들과 상기 제2 지지부에 대응하도록 배치된 복수의 제2 센서들을 구비하는 스토커 관리 방법.
  13. 제8 항에 있어서,
    상기 (a)단계에서 상기 변위 센서가 상기 아암부의 측면의 주위에 배치되는 스토커 관리 방법.
  14. 제8 항에 있어서,
    상기 스토커는 복수의 피적재물을 각각 적재할 수 있는 복수의 셸프를 구비하고, 각 셸프마다 상기 (b)단계, 상기 (c)단계 및 상기 (c)단계를 순차적으로 진행하여 상기 각 셸프의 평탄도를 측정하는 단계를 더 포함하는 스토커 관리 방법.
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