KR20100114883A - 성막용 마스크 및 마스크 밀착방법 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 74
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 9
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 7
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70783—Handling stress or warp of chucks, masks or workpieces, e.g. to compensate for imaging errors or considerations related to warpage of masks or workpieces due to their own weight
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
기판과 양호하게 밀착하여 성막 패턴 정밀도가 좋은 성막을 가능하게 한 극히 실용성이 우수한 성막용 마스크 및 마스크 밀착방법의 제공. 성막재료의 통과를 허용하는 개구 패턴을 갖는 마스크 본체(1)와, 이 마스크 본체(1)를 유지하는 유지 프레임(2)으로 이루어지고, 상기 개구 패턴을 사이에 두고 상기 성막재료가 부착되는 기판(6)이 적층되는 성막용 마스크로서, 상기 유지 프레임(2)은, 상기 마스크 본체(1)의 4변 중 대향하는 한 쌍의 변부(3)를 따라서 각각 배치되어 이 한 쌍의 변부(3)를 각각 유지하는 한 쌍의 유지부(4)를 구비하고, 이 한 쌍의 유지부(4)에 의해서만 상기 마스크 본체(1)를 유지하도록 구성하고, 상기 한 쌍의 유지부(4)에 의해서 유지되는 상기 한 쌍의 변부(3) 사이에서 상기 마스크 본체(1)가 자중에 의해서 휘고 또한 이 한 쌍의 변부(3)의 대향방향에서 상기 휨량이 변화하도록 이 한 쌍의 변부(3)를 상기 한 쌍의 유지부(4)에 고정한다.
Description
본 발명은, 성막용 마스크 및 마스크 밀착방법에 관한 것이다.
최근, 예를 들면 특허문헌 1에 개시된 바와 같이, 성막재료의 통과를 허용하는 개구 패턴을 갖는 마스크 본체와, 이 마스크 본체가 유지되는 유지 프레임으로 이루어지는 성막용 마스크로서, 도 1에 도시한 바와 같은, 마스크 본체(21)의 4변을 틀형상 프레임(22)으로 둘러싸, 이 틀형상 프레임(22)에 의해 4변으로부터 텐션을 걸지 않고 혹은 극히 약한 텐션을 걸면서 마스크 본체(21)를 유지하는 소위 4변 고정 소프트 텐션 마스크가 제안되어 있다.
이 4변 고정 소프트 텐션 마스크는, 온도 변화가 작고 경량이라는 이점을 가지고 있고, 온도 변화가 작기 때문에 증착장치에 의한 증착중에 패턴 어긋남이 일어나기 어렵고, 또한, 가볍기 때문에 반송계의 비용을 억제하는 것이 가능하다.
그러나, 상술한 바와 같은 4변 고정 소프트 텐션 마스크는, 기판과의 밀착성이 나쁘고, 예를 들면 증착 등으로 성막을 행할 때, 마스크 본체의 개구 패턴대로 성막을 행할 수 없어, 기판상의 성막 패턴이 흐릿해져 버린다고 하는 문제점이 있다.
또한, 예를 들면 도 2에 도시한 바와 같이, 단책(短冊:소원을 적고 나무에 매다는 종이) 형상의 마스크 본체(31)가 휘지 않도록 2변으로부터 텐션(장력)을 건 상태에서 유지 프레임(32)에 유지하는 구성도 제안되어 있지만, 이러한 구성에서는, 도 3에 도시한 바와 같이 텐션에 의해 마스크 본체(31)의 중앙부(33)가 비뚤어져, 역시 기판과의 밀착성이 나빠, 성막을 양호하게 행하기 어렵다.
본 발명은, 상술과 같은 문제점을 해결한 것으로, 마스크 본체의 대향하는 2변만을 마스크 본체가 자중(自重)에 의해서 휨 가능한 상태에서 유지 프레임의 유지부에 고정함으로써, 마스크 본체의 휨의 얼룩짐을 해소하여 기판과 양호하게 밀착 가능해져, 온도 변화가 작고 경량이라는 이점을 그대로, 기판과 양호하게 밀착하여 성막 패턴 정밀도가 좋은 성막을 가능하게 한 극히 실용성이 뛰어난 성막용 마스크 및 마스크 밀착방법을 제공하는 것이다.
첨부 도면을 참조하여 본 발명의 요지를 설명한다.
성막재료의 통과를 허용하는 개구 패턴을 갖는 마스크 본체(1)와, 이 마스크 본체(1)를 유지하는 유지 프레임(2)으로 이루어지고, 상기 개구 패턴을 사이에 두고 상기 성막재료가 부착되는 기판(6)이 적층되는 성막용 마스크로서, 상기 유지 프레임(2)은, 상기 마스크 본체(1)의 4변중 대향하는 한 쌍의 변부(3)를 따라서 각각 배치되어 이 한 쌍의 변부(3)를 각각 유지하는 한 쌍의 유지부(4)를 구비하고, 이 한 쌍의 유지부(4)에 의해서만 상기 마스크 본체(1)를 유지하도록 구성하고, 상기 한 쌍의 유지부(4)에 의해서 유지되는 상기 한 쌍의 변부(3) 사이에서 상기 마스크 본체(1)가 자중에 의해서 휘고 또한 이 한 쌍의 변부(3)의 대향 방향에서 상기 휨량이 변화하도록 이 한 쌍의 변부(3)를 상기 한 쌍의 유지부(4)에 고정한 것을 특징으로 하는 성막용 마스크에 관한 것이다.
또한, 상기 마스크 본체(1)의 상기 한 쌍의 변부(3)를, 이 마스크 본체(1)가 자중에 의해서 자연스럽게 휜 상태에서 상기 한 쌍의 유지부(4)에 각각 고정한 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재된 성막용 마스크에 관한 것이다.
또한, 상기 한 쌍의 유지부(4)를, 이 유지부(4)에 의해서 유지되는 상기 한 쌍의 변부(3)를 따라서 길이를 갖는 기다란 띠형상 부재로 하여, 이 한 쌍의 변부 (3)를 상기 한 쌍의 유지부(4)에 각각 똑같이 고정할 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재된 성막용 마스크에 관한 것이다.
또한, 상기 마스크 본체(1)로 하여 상기 기판(6) 표면과 대향하는 이면과는 반대측의 표면측에, 상기 마스크 본체(1)의 휨을 보정하는 휨 보정체를 설치한 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재된 성막용 마스크에 관한 것이다.
또한, 상기 마스크 본체(1)로 하여 상기 기판(6) 표면과 대향하는 이면과는 반대측의 표면측에, 상기 마스크 본체(1)의 휨을 보정하는 휨 보정체를 설치한 것을 특징으로 하는 청구항 3에 기재된 성막용 마스크에 관한 것이다.
또한, 상기 휨 보정체는, 봉체(7)이며, 이 봉체(7)를 상기 유지부(4)에 고정되는 한 쌍의 변부(3)와 대략 평행하게 설치한 것을 특징으로 하는 청구항 4에 기재된 성막용 마스크에 관한 것이다.
또한, 상기 휨 보정체는, 봉체(7)이며, 이 봉체(7)를 상기 유지부(4)에 분류되는 한 쌍의 변부(3)와 대략 평행하게 설치한 것을 특징으로 하는 청구항 5에 기재된 성막용 마스크에 관한 것이다.
또한, 상기 휨 보정체는, 상기 마스크 본체(1)로 하여 휨의 최하점부 위치에 설치한 것을 특징으로 하는 청구항 6에 기재된 성막용 마스크에 관한 것이다.
또한, 상기 휨 보정체는, 상기 마스크 본체(1)로 하여 휨의 최하점부 위치에 설치한 것을 특징으로 하는 청구항 7에 기재된 성막용 마스크에 관한 것이다.
또한, 청구항 1 내지 9의 어느 한 항에 기재된 성막용 마스크를 기판에 밀착시키는 마스크 밀착방법으로서, 상기 성막용 마스크(5)상에 기판(6)을 적층하고, 이 기판(6)상에 시트형상의 추부재(8)를 적층하고, 이 추부재(8)에 의해 기판(6)을 강제적으로 휘게 하여 상기 성막용 마스크(5)를 기판 표면에 밀착시키는 것을 특징으로 하는 마스크 밀착방법에 관한 것이다.
또한, 상기 추부재(8)로서 텅스텐시트를 채용한 것을 특징으로 하는 청구항 10에 기재된 마스크 밀착방법에 관한 것이다.
또한, 상기 기판(6)으로서 유리, 플라스틱 혹은 금속제인 것을 채용한 것을 특징으로 하는 청구항 11에 기재된 마스크 밀착방법에 관한 것이다.
본 발명은 상술한 바와 같이 구성했으므로, 마스크 본체의 휨의 얼룩짐을 해소하여 기판과 양호하게 밀착 가능해져, 온도 변화가 작고 경량이라는 이점을 그대로, 기판과 양호하게 밀착하여 성막 패턴 정밀도가 좋은 성막을 가능하게 한 극히 실용성이 우수한 성막용 마스크 및 마스크 밀착방법이 된다.
[도 1] 종래 예의 개략 설명도이다.
[도 2] 종래 예의 개략 설명도이다.
[도 3] 도 2의 주요부의 확대 개략 설명 단면도이다.
[도 4] 본 실시예의 마스크 본체의 개략 설명 사시도이다.
[도 5] 본 실시예의 개략 설명 사시도이다.
[도 6] 본 실시예의 사용 상태를 나타내는 개략 설명 단면도이다.
[도 7] 추부재의 차이에 의한 적층 상태의 차이를 설명하는 개략 설명 단면도이다.
[도 2] 종래 예의 개략 설명도이다.
[도 3] 도 2의 주요부의 확대 개략 설명 단면도이다.
[도 4] 본 실시예의 마스크 본체의 개략 설명 사시도이다.
[도 5] 본 실시예의 개략 설명 사시도이다.
[도 6] 본 실시예의 사용 상태를 나타내는 개략 설명 단면도이다.
[도 7] 추부재의 차이에 의한 적층 상태의 차이를 설명하는 개략 설명 단면도이다.
적합하다고 생각하는 본 발명의 실시형태(발명을 어떻게 실시할 것인가)를, 도면에 기초하여 본 발명의 작용을 나타내어 간단하게 설명한다.
한 쌍의 변부(3)가 각각 한 쌍의 유지부(4)에 고정되고, 유지 프레임(2)에 유지되는 마스크 본체(1)는 자중에 의해 휘어져 있기 때문에, 예를 들면 성막을 행하기 위해 기판(6)(및 마그넷 등)을 적층시키면 이 기판(6)과 마스크 본체(1)와의 휨이 추종하여 양자가 양호하게 밀착된다.
예를 들면 4변 고정 소프트 텐션 마스크는, 텐션이 걸려있지 않기(혹은 매우 작다) 때문에, 일견, 기판의 휨에 추종하여 휨 만곡하여 양호하게 밀착하도록 생각되지만, 4변을 고정함으로써 세로 방향 및 횡방향의 2방향으로 휨량이 변화하게 되어, 쌍방의 휨이 간섭하여 마스크 본체의 휨에 얼룩짐이 생겨, 마스크 본체가 비뚤어져 버리고, 또한, 이 비뚤어짐이 복잡하기 때문에, 양호한 밀착성을 얻을 수 없다.
이 점, 본 발명은, 대향하는 한 쌍의 변부(3)(2변)를 한 쌍의 유지부(4)에 고정하는 구성이며, 마스크 본체(1)는, 이 한 쌍의 변부(3) 사이에서 마스크 본체 (1)가 자중에 의해서 휘고 또한 이 한 쌍의 변부(3)의 대향 방향(1방향)에서 상기 휨량이 변화하는 것만으로, 휨이 간섭하지 않기 때문에 얼룩짐이 생기기 어렵고, 따라서, 마스크 본체(1)의 비뚤어짐이 단순하고 또한 작아져, 양호하게 기판(6)의 휨에 추종하여 양호하게 밀착하는 것이 가능해진다.
즉, 보다 자연스러운 휨을 실현할 수 있기 때문에, 기판(6)이 대형화하여 휨이 커져도 마스크 본체(1)는 유연하게 기판(6)의 휨에 추종하여 밀착하는 것이 가능해진다. 따라서, 기판(6) 등과 적층시켜 성막을 행할 때, 기판(6)과 양호하게 밀착함으로써 기판(6)상의 성막 패턴이 흐릿해지지 않아 개구 패턴인 채로 성막을 실시하는 것이 가능해진다.
또한, 마스크 본체(1)가 휘지 않도록 어느 정도의 텐션을 유지하는 경우에 비하여 유지부(4)에 필요한 강도를 작게 할 수 있어, 그만큼 유지 프레임(2)을 얇게 경량으로 할 수 있다. 따라서, 반송 등이 용이해져, 그만큼 작업성이 향상된다.
특히, 마스크 본체(1)의 비뚤어짐에 의한 밀착성의 저하나 유지 프레임(2)의 두께화나 중량화는, 마스크(기판)의 대형화에 따라 현저하게 되지만, 본 발명에 의하면 대형의 마스크이더라도 육박·경량이고 또한 기판과 양호하게 밀착 가능해진다.
또한, 예를 들면, 마스크 본체(1)로 하여 기판(6) 표면에 대향하는 이면과는 반대측의 표면측에, 유지부(4)에 고정되는 한 쌍의 변부(3)와 대략 평행한 봉체(7)를 설치하고, 마스크 본체(1)의 휨을 보정한 경우에는, 마스크 본체(1)를 똑같이 휘게 하여 마스크 본체(1)의 개구 패턴이 형성된 영역과 그 이외의 영역과의 휨량의 차이를 해소하는 것이 가능해져, 보다 한층 기판(6)과의 밀착성이 향상된다. 특히, 봉체(7)를 마스크 본체(1)로 하여 휨의 최하점부 위치에 설치하면 양호하게 휨량의 차이를 해소할 수 있다.
이상과 같은 성막용 마스크(5)는, 예를 들면 성막용 마스크(5)상에 기판(6)을 적층하고, 이 기판(6)상에 시트형상의 추부재(8)를 적층하고, 이 추부재(8)에 의해 기판(6)을 강제적으로 휘게 함으로써 양호하게 기판표면에 밀착시킬 수 있다. 이 때, 추부재(8)로서 유연성을 갖고 또한 중량인 텅스텐 시트를 채용하면, 한층 기판(6)을 양호하게 휘게 하여 마스크 본체와 밀착시키는 것이 가능해진다.
실시예
본 발명의 구체적인 실시예에 대해서 도 4 내지 7에 기초하여 설명한다.
본 실시예는, 도 4, 5에 도시한 바와 같이, 성막재료의 통과를 허용하는 개구 패턴을 갖는 마스크 본체(1)와, 이 마스크 본체(1)를 유지하는 유지 프레임(2)으로 이루어지고, 상기 개구 패턴을 사이에 두고 상기 성막재료가 부착되는 기판 (6)이 적층되는 성막용 마스크로서, 상기 유지 프레임(2)은, 상기 마스크 본체(1)의 4변 중 대향하는 한 쌍의 변부(3)를 따라서 각각 배치되어 이 한 쌍의 변부(3)를 각각 유지하는 한 쌍의 유지부(4)를 구비하고, 이 한 쌍의 유지부(4)에 의해서만 상기 마스크 본체(1)를 유지하도록 구성하고, 상기 한 쌍의 유지부(4)에 의해서 유지되는 상기 한 쌍의 변부(3) 사이에서, 상기 마스크 본체(1)가 자중에 의해서 휘고 또한 이 한 쌍의 변부(3)의 대향방향에서 상기 휨량이 변화하도록 이 한 쌍의 변부(3)를 상기 한 쌍의 유지부(4)에 고정한 것이다.
각 부를 구체적으로 설명한다.
마스크 본체(1)는, 인버재 등의 금속재료를 소재로 하는 일반적인 방형형상의 메탈 마스크이다. 이 마스크 본체(1)는, 개구 패턴(도시 생략)과 개구 패턴 이외의 프레임 부분(도시 생략)으로 형성되어 성막장치내의 성막재료의 통과영역에 배치되는 성막영역과, 이 성막영역의 외측(외주)에 설치되는 비성막영역을 가지고 있다.
구체적으로는, 성막 영역의 좌우에 각각 비성막영역이 되는 이부(耳部)(9)가 설치되고, 이 이부(9)가 유지 프레임(2)의 유지부(4)에 고정된다. 한편, 이부(9)는, 마스크 본체(1)의 성막 영역의 장변측·단변측 중 어느 쪽에 연달아 설치해도 좋다.
유지 프레임(2)은 인버재 등의 금속재료로 이루어지는 틀체이다. 본 실시예에 있어서는, 이 틀체의 대향하는 한 쌍의 대향변부(10)를 유지부(4)에 설정하고 있다. 또한, 유지부 이외의 다른 한 쌍의 대향변부(11)는, 마스크 본체(1)의{유지부(4)에 의해 유지되지 않음}다른 한 쌍의 변부(12)와 접촉하지 않도록 배치된다. 이 대향변부(10)와 대향변부(11)는 각 부를 사이에 두고 연달아 설치되어 있다.
이 유지 프레임(2)은, 마스크 본체(1)의 성막 영역에 걸리지 않도록 개구부가 적어도 마스크 본체(1)의 성막 영역보다 커지도록 하여, 유지부(4)가 되는 한 쌍의 대향변부(10)에 마스크 본체(1)의 이부(9)가 고정되도록 구성하고 있다.
본 실시예에 있어서는, 마스크 본체(1)의 한 쌍의 변부(3)를, 이 마스크 본체(1)에 장력을 인가하지 않고 또한 마스크 본체(1)가 자중에 의해서 자연스럽게 휘도록 유지 프레임(2)의 한 쌍의 유지부(4)에 고정하고 있다.
구체적으로는, 마스크 본체(1)가 유지부(4)에 아직도 고정되지 않고 대략 평행한 상태에 있어서의 자연 최대 휨량 B를 기준으로, 마스크 본체(1)를 대략 평행하게 지지한 상태에서 좌우의 이부(9)의 일측을 한쪽의 유지부(4)에 고정하고, 타측의 고정 위치가 일측의 고정위치에 너무 가까워서 강제적으로 요만곡하지 않고 또한 너무 멀어서 잡아 당겨지지 않도록(중앙부가 비뚤어지지 않도록), 이 타측의 고정 위치를 적절히 설정 조정하여 다른 유지부(4)에 고정한다.
이 마스크 본체(1)의 한 쌍의 변부(3){이부(9)}와 유지부(4){대향변부(10)}는, 접착제에 의해 강고하게 접착되어 있다.
구체적으로는, 틀체의 한 쌍의 대향변부(10)는, 마스크 본체(1)의 이부(9)의 전체 길이에 걸쳐서 접촉하고, 이 마스크 본체(1)의 이부(9)의 하면과 틀체의 대향변부(10)의 상면을 길이방향의 대략 전역에 걸쳐서 대략 똑같이 접착제에 의해 고정하고 있다.
한편, 이부(9)의 하면과 대향변부(10)의 상면이란, 전체면 접착해도 좋고, 일부만을 접착해도 좋다. 또한, 본 실시예에 있어서는, 이부(9)와 유지부(4)는 길이방향의 대략 전역에 걸쳐 대략 똑같이 접착하고 있지만, 소정간격을 두고 접착해도 좋다, (다수의 접착부분을 간격을 두고 설치해도 좋다.). 또한, 접착제에 의한 접착에 한정하지 않고, 용접 등의 다른 방법에 의해 마스크 본체(1)의 변부(3)를 유지부(4)에 고정해도 좋다.
또한, 마스크 본체(1)에 장력(인장력 및 압압력)이 작용하지 않도록, 즉 텐션이 걸리지 않는 상태에서, 상기 한 쌍의 변부(3)를 유지부(4)에 고정하고 있기 때문에, 마스크 본체(1)는, 상기 한 쌍의 변부(3){이부(9)} 사이에서 자중에 의해서 자연스럽게 만곡 원호 형상으로 휘게 되고, 한 쌍의 변부(3)의 대향방향에서 휨량이 변화한다. 따라서, 본 실시예에 있어서는 한 쌍의 변부(3)로부터 각각 등거리의 위치가 휨의 최하점 위치가 되어 가장 휨량이 커진다.
한편, 휨량 B는 도면에서는 설명을 위해 과장하여 그리고 있지만, 실제는 매우 작고, 두께 수mm의 마스크 본체(1)에 대해서 통상 수십∼수백㎛ 정도이다. 또한, 유지 프레임(2)의 두께도 휨량 B에 준하여 과장하여 그리고 있지만, 실제는 수mm 정도이다.
또한, 본 실시예에 있어서는, 마스크 본체(1)로 하여 상기 기판 표면에 밀착하는 이면과는 반대측의 표면측에, 상기 유지부(4)에 고정되는 한 쌍의 변부(3)와 대략 평행한 봉체(7)를 설치하고, 상기 마스크 본체(1)의 휨을 보정하고 있다.
구체적으로는, 상기 봉체(7)는, 유지 프레임(2)과 같이 인버재 등의 금속재료제이며, 상기 마스크 본체(1)로 하여 휨의 최하점부 위치(휨량이 최대가 되는 위치)에 1개 설치하고 있다.
이것은, 마스크 본체(1) 중, 이 마스크 본체(1)의 이부(9)와 평행한 방향에 있어서, 마스크 본체(1)의 휨에 얼룩짐이 생겨 버리기 때문에, 자연스러운 휨을 저해하지 않는 범위인 정도의 중량물에 의해 휨량이 작은 부분을 잡아늘여 휨의 얼룩짐을 보정하기 위해서이다. 이 봉체(7)에 의해, 마스크 본체(1)와 기판 표면과의 밀착성은 한층 양호해진다. 즉, 본 실시예는, 한 쌍의 변부(3)의 대향방향에서만 휨량이 변화하고, 평행방향에서는 휨량이 변화하지 않도록 구성하고 있다.
한편, 본 실시예에 있어서는, 마스크 본체(1)의 휨의 최하점부 위치에 1개의 봉체(7)를 배치하고 있지만, 최하점부에 한정하지 않고, 다른 부위에 배치해도 좋고, 복수개 배치해도 좋다. 또한, 봉체(7)에 의해 마스크 본체(1)의 휨 형상을 만곡 원호 형상이 아니라 물결 형상 등의 다른 형상으로 변형시켜도 좋다. 또한, 봉체(7)는, 상기 유지부(4)에 고정되는 한 쌍의 변부(3)의 대향 방향으로 설치해도 좋다. 게다가, 상기 실시예에 있어서는, 휨 보정체의 구체적인 예로서 봉체(7)를 들었지만, 이것에 한정되지 않고, 판 형상이나 메쉬 형상이더라도 좋다. 다만, 성막을 저해하지 않기 때문에, 적어도 개구 패턴을 막지 않도록 프레임 부분에 설치할 필요가 있다.
또한, 본 실시예에 있어서는, 텐션을 걸지 않고 마스크 본체(1)를 유지부(4)에 고정하고 있지만, 조금 텐션을 걸고 고정해도 좋다(소위 소프트 텐션 마스크로 해도 좋다).
본 실시예에 관한 성막용 마스크(5)는, 예를 들면, 성막 장치의 마스크 홀더 (13)상에 설치하고, 이 성막용 마스크(5)상에 유리 기판(6)을 적층하고, 이 유리 기판(6)상에 유연성을 갖는 시트형상의 추부재(8)를 적층하고, 이 추부재(8)에 의해 유리 기판(6)을 강제적으로 휘게 하여 상기 성막용 마스크(5)를 기판 표면에 밀착시키고, 또한, 마스크 본체(1)를 기판측에 자기적으로 흡인 끌어들임 가능한 마그넷(14)을 적층하고 이 마그넷(14)에 의해 성막용 마스크(5)와 유리 기판(6)을 더 밀착시켜(도 6 참조), 하방으로부터 증착, CYD 혹은 스패터 등의 성막수단에 의해 성막재료를 날려 유리 기판(6)상에 성막을 행하기 위해서 이용한다.
추부재(8)로서는, 유연성을 갖고 또한 어느 정도 중량이 있는 부재가 바람직하다. 구체적으로는, 텅스텐과 엘라스토머로 이루어지는 텅스텐 시트가 적합하다. 텅스텐 시트를 이용한 경우, 이 텅스텐 시트에 의해 기판(6)이 이 텅스텐 시트의 만곡에 따라서 만곡되어, 마스크 본체(1)에 내리 눌러져 이 마스크 본체(1)와 양호하게 밀착된다{도 7(b) 참조}.
이 점, 예를 들면 알루미늄이나 유리 등의 단단한 물질을 추부재(8')로서도, 도 7(a)에 도시한 바와 같이 양호하게 휘지 않고 기판(6')을 휘게 할 수 없어, 기판(6')과 성막용 마스크(5')와의 밀착성이 불량이 된다. 한편, 추부재(8)로서 텅스텐 시트에 한정하지 않고, 불소 고무나 실리콘 시트를 이용하는 것도 가능하다.
또한, 마그넷(14)으로서는 루버 마그넷을 이용하면, 성막용 마스크(5), 기판 (6), 추부재(8), 마그넷(14)이 각각 양호하게 휘어 밀착하게 되어, 적합하다.
또한, 기판(6)으로서는, 유리 기판(6)에 한정하지 않고, 플라스틱 혹은 금속 (박) 등의 다른 기판이더라도 마찬가지로 양호하게 성막할 수 있다.
본 실시예는 상술한 바와 같이 구성했기 때문에, 한 쌍의 변부(3)가 각각 한 쌍의 유지부(4)에 고정되고, 유지 프레임(2)에 유지되는 마스크 본체(1)는 자중에 의해 휘어 있기 때문에, 예를 들면 성막을 행하기 위해서 기판(6)(및 마그넷 등)을 적층시키면 이 기판(6)과 마스크 본체(1)와의 휨이 추종하여 양자가 양호하게 밀착된다.
예를 들면 4변 고정 소프트 텐션 마스크는, 텐션이 걸리지 않기(혹은 매우 작기) 때문에, 일견, 기판의 휨에 추종하여 휨 만곡하여 양호하게 밀착하도록 생각되지만, 4변을 고정함으로써 세로방향 및 가로방향의 2방향의 휨량이 변화하는 것에 의해, 쌍방의 휨이 간섭하여 마스크 본체의 휨에 얼룩짐이 생겨, 마스크 본체가 비뚤어져 버리고, 또한, 이 비뚤어짐이 복잡하기 때문에, 양호한 밀착성을 얻을 수 없다.
이 점, 본 실시예는, 대향하는 한 쌍의 변부(3)(2변)를 한 쌍의 유지부(4)에 고정하는 구성이며, 마스크 본체(1)는, 이 한 쌍의 변부(3) 사이에서 마스크 본체 (1)가 자중에 의해서 원호형상으로 휘고 또한 이 한 쌍의 변부(3)의 대향방향(1방향)에서 상기 휨량이 변화할 뿐이고, 휨이 간섭하지 않기 때문에 얼룩짐이 생기기 어렵고, 따라서, 마스크 본체(1)의 비뚤어짐이 단순하고 또한 작아져, 양호하게 기판(6)의 휨에 추종하여 양호하게 밀착하는 것이 가능해진다.
즉, 보다 자연스러운 휨을 실현할 수 있기 때문에, 기판(6)이 대형화되어 휨이 커져도 마스크 본체(1)는 유연하게 기판(6)의 휨에 추종하여 밀착하는 것이 가능해진다. 따라서, 기판(6) 등과 적층시켜 성막을 행할 때, 기판(6)과 양호하게 밀착함으로써 기판(6)상의 성막 패턴이 흐릿해지지 않아 개구 패턴인 채로 성막을 행하는 것이 가능해진다.
또한, 마스크 본체(1)가 휘지 않도록 어느 정도의 텐션을 유지하는 경우에 비하여 유지부(4)에 필요한 강도를 작게 할 수 있어, 그 만큼 유지 프레임(2)을 얇게 경량으로 할 수 있다. 따라서, 반송 등이 용이해져, 그 만큼 작업성이 향상된다.
특히, 마스크 본체(1)의 비뚤어짐에 의한 밀착성의 저하나 유지 프레임(2)의 두께화나 중량화는, 마스크(기판)의 대형화에 따라 현저해지지만, 본 실시예에 의하면 대형의 마스크이더라도 육박·경량이고 또한 기판과 양호하게 밀착 가능해진다.
또한, 마스크 본체(1)로 하여 기판 표면에 밀착하는 이면과는 반대측의 표면 측에, 유지부(4)에 고정되는 한 쌍의 변부(3)와 대략 평행한 봉체(7)를 설치하고, 마스크 본체(1)의 휨을 보정했기 때문에, 마스크 본체(1)를 똑같이 휘게 하여 마스크 본체(1)의 개구 패턴이 형성된 영역과 그 이외의 영역과의 휨량의 차이를 해소하는 것이 가능해져, 보다 한층 기판(6)과의 밀착성이 향상된다. 특히, 봉체(7)를 마스크 본체(1)로 하여 휨의 최하점부 위치에 설치했기 때문에, 한층 양호하게 휨량의 차이를 해소할 수 있다.
따라서, 본 실시예는, 마스크 본체의 휨의 얼룩짐을 해소하여 기판과 양호하게 밀착 가능해져, 온도 변화가 작고 또한 경량이라고 하는 이점을 그대로, 기판과 양호하게 밀착하여 기판상의 증착 패턴이 흐릿해지지 않아 개구 패턴인 채로 양호하게 성막 가능하게 한 극히 실용성이 뛰어난 것이 된다.
본 발명은, 본 실시예에 한정되는 것이 아니라, 각 구성 요건의 구체적 구성은 적절히 설계할 수 있는 것이다.
Claims (12)
- 성막재료의 통과를 허용하는 개구 패턴을 갖는 마스크 본체와, 이 마스크 본체를 유지하는 유지 프레임으로 이루어지고, 상기 개구 패턴을 사이에 두고 상기 성막재료가 부착되는 기판이 적층되는 성막용 마스크로서, 상기 유지 프레임은, 상기 마스크 본체의 4변 중 대향하는 한 쌍의 변부를 따라서 각각 배치되어 이 한 쌍의 변부를 각각 유지하는 한 쌍의 유지부를 구비하고, 이 한 쌍의 유지부에 의해서만 상기 마스크 본체를 유지하도록 구성하고, 상기 한 쌍의 유지부에 의해서 유지되는 상기 한 쌍의 변부 사이에서 상기 마스크 본체가 자중에 의해서 휘고 또한 이 한 쌍의 변부의 대향방향에서 상기 휨량이 변화하도록 이 한 쌍의 변부를 상기 한 쌍의 유지부에 고정한 것을 특징으로 하는 성막용 마스크.
- 제 1 항에 있어서, 상기 마스크 본체의 상기 한 쌍의 변부를, 이 마스크 본체가 자중에 의해서 자연스럽게 휜 상태에서 상기 한 쌍의 유지부에 각각 고정한 것을 특징으로 하는 성막용 마스크.
- 제 2 항에 있어서, 상기 한 쌍의 유지부를, 이 유지부에 의해서 유지되는 상기 한 쌍의 변부를 따라서 길이를 갖는 기다란 띠형상 부재로서, 이 한 쌍의 변부를 상기 한 쌍의 유지부에 각각 똑같이 고정할 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 성막용 마스크.
- 제 2 항에 있어서, 상기 마스크 본체로 하여 상기 기판 표면과 대향하는 이면과는 반대측의 표면측에, 상기 마스크 본체의 휨을 보정하는 휨 보정체를 설치한 것을 특징으로 하는 성막용 마스크.
- 제 3 항에 있어서, 상기 마스크 본체로 하여 상기 기판 표면과 대향하는 이면과는 반대측의 표면측에, 상기 마스크 본체의 휨을 보정하는 휨 보정체를 설치한 것을 특징으로 하는 성막용 마스크.
- 제 4 항에 있어서, 상기 휨 보정체는, 봉체이며, 이 봉체를 상기 유지부에 고정되는 한 쌍의 변부와 대략 평행하게 설치한 것을 특징으로 하는 성막용 마스크.
- 제 5 항에 있어서, 상기 휨 보정체는, 봉체이며, 이 봉체를 상기 유지부에 고정되는 한 쌍의 변부와 대략 평행하게 설치한 것을 특징으로 하는 성막용 마스크.
- 제 6 항에 있어서, 상기 휨 보정체는, 상기 마스크 본체로 하여 휨의 최하점부 위치에 설치한 것을 특징으로 하는 성막용 마스크.
- 제 7 항에 있어서, 상기 휨 보정체는, 상기 마스크 본체로 하여 휨의 최하점부 위치에 설치한 것을 특징으로 하는 성막용 마스크.
- 제 1 항 내지 제 9 항 중의 어느 한 항에 기재된 성막용 마스크를 기판에 밀착시키는 마스크 밀착 방법으로서, 상기 성막용 마스크상에 기판을 적층하고, 이 기판상에 시트 형상의 추부재를 적층하고, 이 추부재에 의해 기판을 강제적으로 휘게 하여 상기 성막용 마스크를 기판 표면에 밀착시키는 것을 특징으로 하는 마스크 밀착방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 추부재로서 텅스텐 시트를 채용한 것을 특징으로 하는 마스크 밀착방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 기판으로서, 유리, 플라스틱 혹은 금속제의 것을 채용한 것을 특징으로 하는 마스크 밀착방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2007-322422 | 2007-12-13 | ||
JP2007322422A JP5258278B2 (ja) | 2007-12-13 | 2007-12-13 | 成膜用マスク及びマスク密着方法 |
PCT/JP2008/070815 WO2009075163A1 (ja) | 2007-12-13 | 2008-11-14 | 成膜用マスク及びマスク密着方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100114883A true KR20100114883A (ko) | 2010-10-26 |
KR101493119B1 KR101493119B1 (ko) | 2015-02-12 |
Family
ID=40755406
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020107015382A KR101493119B1 (ko) | 2007-12-13 | 2008-11-14 | 성막용 마스크 및 마스크 밀착방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100260938A1 (ko) |
JP (1) | JP5258278B2 (ko) |
KR (1) | KR101493119B1 (ko) |
CN (1) | CN101896635B (ko) |
TW (1) | TW200938642A (ko) |
WO (1) | WO2009075163A1 (ko) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR102086553B1 (ko) * | 2013-05-31 | 2020-03-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
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-
2007
- 2007-12-13 JP JP2007322422A patent/JP5258278B2/ja active Active
-
2008
- 2008-11-14 KR KR1020107015382A patent/KR101493119B1/ko active IP Right Grant
- 2008-11-14 US US12/808,026 patent/US20100260938A1/en not_active Abandoned
- 2008-11-14 WO PCT/JP2008/070815 patent/WO2009075163A1/ja active Application Filing
- 2008-11-14 CN CN2008801205571A patent/CN101896635B/zh active Active
- 2008-12-03 TW TW097146980A patent/TW200938642A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200938642A (en) | 2009-09-16 |
WO2009075163A1 (ja) | 2009-06-18 |
KR101493119B1 (ko) | 2015-02-12 |
CN101896635A (zh) | 2010-11-24 |
JP2009144195A (ja) | 2009-07-02 |
JP5258278B2 (ja) | 2013-08-07 |
CN101896635B (zh) | 2013-07-31 |
US20100260938A1 (en) | 2010-10-14 |
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N231 | Notification of change of applicant | ||
A201 | Request for examination | ||
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GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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