KR20080110530A - 광 근접성 보정을 위한 다변수 솔버 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (18)
- 제 1 시뮬레이트된 레지스트 이미지를 생성하기 위해, 마스크 레이아웃(mask layout)을 이용하여 포토리소그래피 공정을 시뮬레이트하는 단계;초기 섭동(perturb)된 레이아웃을 생성하기 위해, 사전설정된 양에 의해 상기 마스크 레이아웃 내의 각각의 에지 세그먼트(edge segment)를 섭동시키는 단계;제 2 시뮬레이트된 레지스트 이미지를 생성하기 위해, 상기 초기 섭동된 레이아웃을 이용하여 상기 포토리소그래피 공정을 시뮬레이트하는 단계;각각의 에지 세그먼트에 대해, 상기 제 1 시뮬레이트된 레지스트 이미지와 상기 제 2 시뮬레이트된 레지스트 이미지 간의 레지스트 이미지 차이 값을 결정하는 단계;모든 에지 세그먼트들에 대한 상기 레지스트 이미지 차이 값들을 포함하는 멀티솔버 매트릭스(multisolver matrix)를 생성하는 단계;상기 멀티솔버 매트릭스의 의사역행렬(pseudoinverse)을 이용하여 보정 델타 벡터(correction delta vector)를 결정하는 단계- 상기 보정 델타 벡터는 각각의 에지 세그먼트에 대한 보정 델타 값을 포함함 -;또 다른 섭동된 레이아웃을 생성하기 위해, 상기 보정 델타 벡터 내의 대응하는 보정 델타 값에 의해 상기 섭동된 레이아웃 내의 각각의 에지 세그먼트를 섭동시키는 단계;제 3 시뮬레이트된 레지스트 이미지를 생성하기 위해, 상기 또 다른 섭동된 레이아웃을 이용하여 상기 포토리소그래피 공정을 시뮬레이트하는 단계;각각의 에지 세그먼트에 대한 상기 제 3 시뮬레이트된 레지스트 이미지 값들에 기초하여 상기 멀티솔버 매트릭스를 업데이트하는 단계; 및상기 업데이트된 멀티솔버 매트릭스의 의사역행렬을 이용하여, 상기 보정 델타 벡터를 업데이트하는 단계를 포함하여 이루어지는 방법.
- 컴퓨터-판독가능한 매체에 있어서:제 1 시뮬레이트된 레지스트 이미지를 생성하기 위해, 마스크 레이아웃을 이용하여 포토리소그래피 공정을 시뮬레이트하는 단계;초기 섭동된 레이아웃을 생성하기 위해, 사전설정된 양에 의해 상기 마스크 레이아웃 내의 각각의 에지 세그먼트를 섭동시키는 단계;제 2 시뮬레이트된 레지스트 이미지를 생성하기 위해, 상기 초기 섭동된 레이아웃을 이용하여 상기 포토리소그래피 공정을 시뮬레이트하는 단계;각각의 에지 세그먼트에 대해, 상기 제 1 시뮬레이트된 레지스트 이미지와 상기 제 2 시뮬레이트된 레지스트 이미지 간의 레지스트 이미지 차이 값을 결정하는 단계;모든 에지 세그먼트들에 대한 상기 레지스트 이미지 차이 값들을 포함하는 멀티솔버 매트릭스를 생성하는 단계;상기 멀티솔버 매트릭스의 의사역행렬을 이용하여 보정 델타 벡터를 결정하는 단계- 상기 보정 델타 벡터는 각각의 에지 세그먼트에 대한 보정 델타 값을 포 함함 -;또 다른 섭동된 레이아웃을 생성하기 위해, 상기 보정 델타 벡터 내의 대응하는 보정 델타 값에 의해 상기 섭동된 레이아웃 내의 각각의 에지 세그먼트를 섭동시키는 단계;제 3 시뮬레이트된 레지스트 이미지를 생성하기 위해, 상기 또 다른 섭동된 레이아웃을 이용하여 상기 포토리소그래피 공정을 시뮬레이트하는 단계;각각의 에지 세그먼트에 대한 상기 제 3 시뮬레이트된 레지스트 이미지 값들에 기초하여 상기 멀티솔버 매트릭스를 업데이트하는 단계; 및상기 업데이트된 멀티솔버 매트릭스의 의사역행렬을 이용하여, 상기 보정 델타 벡터를 업데이트하는 단계를 수행하는 명령어들을 포함하는 컴퓨터-판독가능한 매체.
- 에지 세그먼트들을 포함하는 마스크 레이아웃에 대한 마스크 이미지 데이터에 있어서:상기 에지 세그먼트들의 위치는제 1 시뮬레이트된 레지스트 이미지를 생성하기 위해, 마스크 레이아웃을 이용하여 포토리소그래피 공정을 시뮬레이트하는 단계;초기 섭동된 레이아웃을 생성하기 위해, 사전설정된 양에 의해 상기 마스크 레이아웃 내의 각각의 에지 세그먼트를 섭동시키는 단계;제 2 시뮬레이트된 레지스트 이미지를 생성하기 위해, 상기 초기 섭동된 레 이아웃을 이용하여 상기 포토리소그래피 공정을 시뮬레이트하는 단계;각각의 에지 세그먼트에 대해, 상기 제 1 시뮬레이트된 레지스트 이미지와 상기 제 2 시뮬레이트된 레지스트 이미지 간의 레지스트 이미지 차이 값을 결정하는 단계;모든 에지 세그먼트들에 대한 상기 레지스트 이미지 차이 값들을 포함하는 멀티솔버 매트릭스를 생성하는 단계;상기 멀티솔버 매트릭스의 의사역행렬을 이용하여 보정 델타 벡터를 결정하는 단계- 상기 보정 델타 벡터는 각각의 에지 세그먼트에 대한 보정 델타 값을 포함함 -;또 다른 섭동된 레이아웃을 생성하기 위해, 상기 보정 델타 벡터 내의 대응하는 보정 델타 값에 의해 상기 섭동된 레이아웃 내의 각각의 에지 세그먼트를 섭동시키는 단계;제 3 시뮬레이트된 레지스트 이미지를 생성하기 위해, 상기 또 다른 섭동된 레이아웃을 이용하여 상기 포토리소그래피 공정을 시뮬레이트하는 단계;각각의 에지 세그먼트에 대한 상기 제 3 시뮬레이트된 레지스트 이미지 값들에 기초하여 상기 멀티솔버 매트릭스를 업데이트하는 단계; 및상기 업데이트된 멀티솔버 매트릭스의 의사역행렬을 이용하여, 상기 보정 델타 벡터를 업데이트하는 단계에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 마스크 이미지 데이터.
- 에지 세그먼트들을 포함하는 마스크 레이아웃을 갖는 마스크에 있어서:상기 에지 세그먼트들의 위치는제 1 시뮬레이트된 레지스트 이미지를 생성하기 위해, 마스크 레이아웃을 이용하여 포토리소그래피 공정을 시뮬레이트하는 단계;초기 섭동된 레이아웃을 생성하기 위해, 사전설정된 양에 의해 상기 마스크 레이아웃 내의 각각의 에지 세그먼트를 섭동시키는 단계;제 2 시뮬레이트된 레지스트 이미지를 생성하기 위해, 상기 초기 섭동된 레이아웃을 이용하여 상기 포토리소그래피 공정을 시뮬레이트하는 단계;각각의 에지 세그먼트에 대해, 상기 제 1 시뮬레이트된 레지스트 이미지와 상기 제 2 시뮬레이트된 레지스트 이미지 간의 레지스트 이미지 차이 값을 결정하는 단계;모든 에지 세그먼트들에 대한 상기 레지스트 이미지 차이 값들을 포함하는 멀티솔버 매트릭스를 생성하는 단계;상기 멀티솔버 매트릭스의 의사역행렬을 이용하여 보정 델타 벡터를 결정하는 단계- 상기 보정 델타 벡터는 각각의 에지 세그먼트에 대한 보정 델타 값을 포함함 -;또 다른 섭동된 레이아웃을 생성하기 위해, 상기 보정 델타 벡터 내의 대응하는 보정 델타 값에 의해 상기 섭동된 레이아웃 내의 각각의 에지 세그먼트를 섭동시키는 단계;제 3 시뮬레이트된 레지스트 이미지를 생성하기 위해, 상기 또 다른 섭동된 레이아웃을 이용하여 상기 포토리소그래피 공정을 시뮬레이트하는 단계;각각의 에지 세그먼트에 대한 상기 제 3 시뮬레이트된 레지스트 이미지 값들에 기초하여 상기 멀티솔버 매트릭스를 업데이트하는 단계; 및상기 업데이트된 멀티솔버 매트릭스의 의사역행렬을 이용하여, 상기 보정 델타 벡터를 업데이트하는 단계에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 멀티솔버 매트릭스의 의사역행렬(A+)은 A+ = (αI + AT A)-1AT로서 정의되며, 이때 AT는 상기 멀티솔버 매트릭스의 전치 행렬(transpose)이고, I는 단위 행렬이며, α는 상기 단위 행렬에 적용된 조정가능한 양의 곱셈 인자인 것을 특징으로 하는 방법, 컴퓨터-판독가능한 매체, 마스크 이미지 데이터, 또는 마스크.
- 제 7 항에 있어서,보정 델타 벡터를 결정하는 단계는
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 보정 델타 벡터 내의 각각의 값에 댐핑 인자(damping factor)를 적용하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법, 컴퓨터-판독가능한 매체, 마스크 이미지 데이터, 또는 마스크.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마스크 레이아웃은 접촉층(contact layer)의 레이아웃인 것을 특징으로 하는 방법, 컴퓨터-판독가능한 매체, 마스크 이미지 데이터, 또는 마스크.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마스크 레이아웃은 폴리층(poly layer)의 레이아웃인 것을 특징으로 하는 방법, 컴퓨터-판독가능한 매체, 마스크 이미지 데이터, 또는 마스크.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 에지 세그먼트들에 음이 아닌 가중치(weighting factor)들이 할당되는 것을 특징으로 하는 방법, 컴퓨터-판독가능한 매체, 마스크 이미지 데이터, 또는 마스크.
- 제 5 항에 있어서,상기 보정 델타 벡터를 결정하는 단계가
- 제 7 항에 있어서,상기 보정 델타 벡터를 결정하는 단계가을 포함하도록 상기 에지 세그먼트들에 음이 아닌 가중치들이 할당되며, 이때 Λ-1 ≡ (αI + WA0WA0)-1, 대각 매트릭스; C ≡ [Q WA0WP], n x 2p 매트릭스; G ≡ Λ-1C, n x 2p 매트릭스; , 2p x 2p 매트릭스이고; 는 원하는 레지스트 이미지 값들을 나타내는 n x 1 벡터이며; 는 상기 에지 세그먼트들이 상기 벡터 로 명시된 위치 값들로 이동된 경우에 최근 시뮬레이트된 레지스트 이미지 값들을 나타내는 n x 1 벡터이고; k는 반복 횟수이며; W는 대각선 상에 음이 아닌 가중치들을 갖는 대각 매트릭스인 것을 특징으로 하는 방법, 컴퓨터-판독가능한 매체, 마스 크 이미지 데이터, 또는 마스크.
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