KR20080098058A - 고온 및 화학적 안정성을 갖는 유리 조성물 및 그 제조방법 - Google Patents

고온 및 화학적 안정성을 갖는 유리 조성물 및 그 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 AMLCD와 같은 평판 패널 디스플레이 장치에 기판으로 사용되기에 바람직한 물리, 화학적 특성을 나타내는 무알칼리, 보로알루미늄 실리케이트 유리를 제공한다. 상기의 특정한 관점에 따라, 유리는 온도의 기능으로써 훌륭한 치수 안정성을 갖는다.
무알칼리 유리, AMLCD, 변형점(strain point), 액상 점도(liquidus viscosity), 액상 온도(liquidus temperature), 치수 안정성, 다운 드로우 공정(downdraw process), 융합공정(fusion process).

Description

고온 및 화학적 안정성을 갖는 유리 조성물 및 그 제조방법{GLASS COMPOSITION HAVING HIGH THERMAL AND CHEMICAL STABILITY AND METHODS OF MAKING THEREOF}
본 발명은 높은 변형점(strain point)을 가지며, 그로 인해 훌륭한 치수 안정성(즉, 낮은 압축)을 갖는 무알칼리 유리 및 그 제조방법에 관한 것이다.
예를 들어 능동 매트릭스 LCD(AMLCD)와 같은 액정디스플레이(LCD)생산은 매우 복잡하며, 기판 유리는 매우 중요하다. 우선 첫째로, AMLCD 장치의 생산에 사용되는 유리기판은 그 물리적 치수가 정밀하게 제어될 필요가 있다. 다운드로우 시트 드로잉 공정(downdraw sheet drawing process) 및 특히, 미국 특허 제3,338,696호 및 제3,682,609호(모두 Dockerty)에 기술된 융합(fusion)공정은 래핑(lapping), 연마(polishing)와 같은 비용이 드는 형성 후 마감작업을 필요로 하지 않는 기판으로 사용될 수 있는 유리 시트(glass sheet)를 생산할 수 있다. 불행히도, 융합공정은 유리 특성에 엄격한 제한을 두며, 높은 액상 점도(liquidus visocosity)를 요한다.
LCD 분야에서, 전자를 보다 효율적으로 전달하는 능력으로 인해 다결정형 실리콘(poly-crystaline silicon)계 박막 트랜지스터(TFTs)가 선호된다. 다결정형계실리콘 트랜지스터(p-Si)는 무정형계 실리콘 트랜지스터(a-Si)보다 높은 이동성을 갖는 특징이 있다. 이것은 좀 더 작고 빠른 트랜지스터의 생산을 가능하게 하며, 궁극적으로 보다 밝고 빠른 디스플레이를 생산할 수 있다.
다결정형 실리콘 트랜지스터(p-Si)의 한가지 문제점은 그 생산에 있어 무정형 실리콘 트랜지스터 (a-Si)의 생산에서보다 고온의 공정을 필요로 한다는 것이다. 무정형 실리콘 트랜지스터(a-Si)가 350℃에서 피크인 점과 비교하여, 그 온도는 450℃~600℃에 이른다. 이러한 온도에서, 대부분의 AMLCD 유리 기판은 압축이라는 공정을 거친다. 온도 안정성이나 치수 변화와 관련이 있는 압축은 유리 기판에서의 유리의 가공의 온도 변화로 인한 비가역적인 치수 변화(수축)이다. "가공온도(Fictive temperature)"는 유리의 구조적 상태를 나타내는데 사용되는 개념이다. 고온에서 빨리 냉각된 유리는 고온구조에 "동결되어(frozen in)" 있었기 때문에 고온의 가공온도를 갖는다고 한다. 천천히 냉각된 유리 또는 어닐링점 근처의 온도에 유지됨으로써, 어닐링된 유리 낮은 가공온도를 갖는다고 한다.
압축의 정도는 유리가 만들어진 공정과 유리의 점탄성(visocoelastic properties) 둘 다에 의존한다. 유리로부터 시트제품(sheet products)를 제조하기 위한 플로트 공정(float process)에서, 유리 시트는 용융상태(the melt)에서 상대적으로 천천히 냉각되어 비교적 낮은 온도구조에서 유리로 동결된다(frozen in). 반대로 융합공정은 녹는점에서 유리를 빨리 식혀, 비교적 높은 온도 구조에 고정시킨다(freezes). 결과적으로, 압축 구동력(driving force for compaction)은 가공온도와 압축공정 동안 유리가 겪은 공정온도의 차이이기 때문에 플로트 공정으로 제조된 유리는 융합공정(fusion process)에서 제조된 것에 비해 압축을 덜 겪을 수 있다. 따라서, 다운드로우 공정에 의해 생산된 유리 기판에서의 압축의 수준을 최소화하는 것이 바람직하다.
유리의 압축을 최소화하는 데는 2가지 접근방법이 있다. 첫째는 유리가 다결정실리콘 TFTs(p-Si TFTs)공정 동안 겪게 되는 온도와 유사한 가공온도(fictive temperature)를 갖도록 유리를 열적으로 선처리(pretreat)하는 것이다. 그러나, 이 접근방법에는 여러가지 어려움이 있다. 첫째, 다결정실리콘 TFTs공정(p-Si TFTs) 동안 적용되는 다양한 가열공정이 이러한 선처리(pretreatment)에 의해 완전히 보상될 수 없는 유리에 있어 약간 상이한 가공온도(fictive temperature)를 만들어 낸다. 둘째, 유리의 열안정성이 다결정실리콘 TFTs제조의 상세한 공정과 밀접히 연관되어, 다른 최종 사용자에게 다른 선처리를 의미할 수 있게 된다. 마지막으로, 선처리는 공정비용과 복잡성을 증가시킨다.
또 다른 접근방법은 압축반응의 반응속도(Kinetics)를 늦추는 것이다. 이것은 유리의 점도를 늘림으로써 가능하게 될 수 있다. 따라서 유리의 변형점(strain point)이 직면하게 될 공정온도보다 훨씬 높다면(가령, 변형점이 짧은 노출공정 동안 공정온도보다 높은 200-300℃라면), 압축은 최소가 된다. 그러나 이 접근방법의 당면과제는 비용 효율적인 높은 변형점을 갖는 유리의 생산이다.
무알칼리 유리와 높은 변형점을 가짐으로써 훌륭한 치수 안정성(즉, 낮은 압축)을 갖는 유리의 생산방법이 여기 기술되어 있다. 또한, 유리의 조성물은 다운드로잉 공정(downdrawing process)에 필요한 모든 특성을 가지며, 이는 LCD 기판 제조에 있어 중요하다.
이하 여기서 기술하는 물질, 화합물, 조성물, 제품, 장치, 방법은 공개된 기술, 도면 및 실시예의 특정한 관점에서의 다음의 상세한 설명의 참조에 의해 쉽게 이해될 수 있을 것이다.
본 물질을 공개하고 설명하기에 앞서, 이하 상술하는 관점은 다양한 특정의 합성방법, 특정 시약(특정 배치(batch)구성요소) 등을 한정하는 것이 아니며, 여기에 사용한 용어의 정의도 특정 관점을 기술하기 위한 목적일 뿐, 제한적 의도로 사용된 것이 아님을 알 수 있을 것이다. 또한 본 명세서를 통해 다양한 공개공보를 참조하였다. 인용문헌 전체의 공개가 당해 기술이 속한 기술분야의 선행기술을 더 완전히 설명하기 위해 본 명세서에 포함되어 있다. 공개된 인용 문헌은 또한 인용문헌이 속한 문장에서 다루고 있는 기술에 대해 인용문헌으로 개별적, 구체적으로 포함되어 있다.
본 명세서의 상세한 설명과 청구범위를 통해 '포함하다'와 이의 '포함하는' 등은 한정하는 의미가 아니며, 가령 다른 첨가물, 구성요소, 완전체(integers), 단계 등을 배제한다는 의미가 아니다.
상세한 설명과 첨부된 청구범위에서 사용된 바와 같이 단수 형태의 지시물은 문장이 명확히 달리 지시하지 않는 한, 복수의 지시물(plural referent)을 포함한다. 따라서 예를 들어, '조성물'의 언급은 2 이상의 조성물의 혼합물을 포함하며, '시약'의 언급은 2 이상의 시약 혼합물을 포함하며, '층'의 언급은 2 이상의 층의 결합 등을 포함한다.
'선택적(optional)', '선택적으로(optionally)'는 이하 설명하는 경우, 결과 상황이 일어날 수도 일어나지 않을 수도 있음을 의미하며, 그러한 기술은 경우나 상황이 일어나는 상황과 일어나지 않는 경우를 포함한다.
여기에 공개된 특정의 물질, 화합물, 조성물, 구성요소는 당업자에게 널리 알려진 기술을 사용해 상업적으로 얻을 수 있거나, 쉽게 합성될 수 있다. 예를 들어 공개된 화합물 및 조성물은 준비하는데 사용되는 출발물질 및 시약은 상업적 공급자로부터 이용가능하거나, 당업자에게 알려진 방법에 의해 준비될 수 있다.
또한, 공개된 방법의 생산물이나 조성물에 사용될 수 있거나, 그의 결합에 사용되거나, 그 준비에 사용되거나, 그 공개된 방법이나 구성의 제품인 물질, 화합물, 조성물 및 구성요소가 여기에 공개되어 있다. 이러한 다른 물질들이 여기에 공개되어 있으며, 이러한 물질들의 결합, 부분집합(subset), 상호작용, 그룹 등이 공개될 때, 이들 화합물 각각의 다양한 개별적 및 집합적 결합의 구체적 참증이 명백히 공개되지 않은 반면, 각각은 구체적으로 여기 고찰되어 공개되어 있음을 알 수 있다.
예를 들어, 조성물이 공개되고, 그 조성물의 수많은 구성요소로 될 수 있는 수많은 변형(modification)이 논의된다면, 각각의 가능한 조합과 변형은 구체적으로 그와 반대임이 나타나지 않는 한 구체적으로 고려된다. 따라서, 구성요소 D, E, F의 한 부류 및 조성물 A-D의 실시예가 공개될 뿐만 아니라, A, B, C 구성요소의 한 부류가 공개된다면, 그런 후 각각이 개별적으로 인용되지 않았다 하더라도, 각각은 개별적, 집합적으로 고려된다. 따라서, 본 실시예에서, A-E, A-F, B-D, B-E, B-F, C-D, C-E, C-F의 결합 각각이 구체적으로 고려되었고, A,B 및 C, D, E, F의 공개로부터 공개된 것으로 간주되어야 한다. 이러한 개념은 제한적이 아니라, 공개된 조성물을 사용하거나, 만드는 방법의 단계를 포함하여, 이러한 공개의 모든 관점에 적용된다. 따라서, 수행될 수 있는 다양한 추가적 단계가 있다면, 이들 각각의 추가적 단계는 어떤 특정관점이나 공개된 방법의 관점의 결합으로 수행될 수 있음을 알 수 있고, 각각의 그러한 결합은 구체적으로 고려되고, 공개된 것으로 간주되어야 한다.
상기 개념의 부분 조합의 특정 실시예로서, 본 발명 유리의 어떠한 구성요소의 범위나(구성요소 총합의 범위를 포함), 특히 청구범위에 나타난 구성요소나 특성의 범위를 포함하여, 그러한 유리의 어떠한 특성의 범위라도, 상기 공개가 그 구성요소나 특성의 다른 범위(예: 바람직한 범위)에 대응하는 상한 또는 하한이거나, 특정 실시예에 사용된 구성요소의 양이거나, 특정 실시예에 나타난 특성이든지 간에, 여기 공개된 구성요소나 특성의 어떤 수치의 더 상한이나 하한의 범위로 좁혀질(보정될) 수 있다. 실시예에 기초하여 청구된 범위를 좁히는 것에 관해서는 그러한 축소가 나머지 실시예가 좁혀진 청구범위 내에 있는지 여부와 무관하게 적용될 수 있다.
인용문헌은 공개된 물질, 화합물, 조성물, 제품 및 방법의 특정 관점에 대해 상세하게 될 수 있다. 그 예시는 첨부하는 실시예나 도면에 나타난다.
무알칼리 유리 및 높은 변형점을 가짐으로써, 훌륭한 치수 안정성(즉 낮은 압축)을 가진 무알칼리 유리를 제조하는 방법이 여기 기술되어 있다. 높은 변형점을 가진 유리는 유리제조 공정에 따르는 열처리 공정 동안의 압축/수축으로 인한 패널의 뒤틀림(distortion)을 방지한다.
700℃이상의 변형점을 갖는 유리는 빨리 식혀지고 다시 짧은 기간 동안 재가열된 유리가 겪는 치수변화(즉, 압축)를 최소화할 것이라는 것이 밝혀졌다. 한가지 관점에서, 여기 기술된 유리의 압축은 700℃~800℃, 700℃~775℃, 700℃~750℃, 700℃~730℃ 사이의 변형점을 갖는다. 다른 관점에서, 여기 기술된 높은 변형점의 유리 조성물은 600℃에서 5분 동안 열처리를 받을 때, 30ppm 미만, 25ppm 미만, 20ppm 미만, 15ppm 미만의 바람직한 낮은 압축을 갖는 열 압축(thermal compaction)을 갖는다.
한가지 관점에서, 여기 기술된 유리들은 약 700℃를 초과하는 변형점을 가지며, 600℃에서 5분의 열처리 동안, 30 ppm미만의 압축(즉 치수변화)을 겪는다. 이 온도와 지속시간은 낮은 온도의 다결정실리콘(poly-Silocon) 열처리 사이클에 가까워지도록 선택되었다. 도 1은 X축을 따라 측정된 변형점 대 600℃에서 5분 후 측정한 치수변화를 나타내는 일련의 유리에 대한 실험데이터를 보여준다.
한가지 관점에서, 산화물을 기초로 하여 몰%를 포함하는 무알칼리 유리가 기술되어 있다.
SiO2 64.0-72.0
Al2O3 9.0-16.0
B2O3 1.0-5.0
MgO+La2O3 1.0-7.5
CaO 2.0-7.5
SrO 0.0-4.5
BaO 1.0-7.0
∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≥1.15이며, Al2O3, MgO, CaO, SrO, BaO 및 La2O3 는 각각의 산화물 구성성분의 몰%를 나타낸다.
다른 관점에서, 산화물을 기초로 하여 몰%를 포함하는 무알칼리 유리가 기술되어 있다.
SiO2 64.0-72.0
B2O3 1.0-5.0
Al2O3 9.0-16.0
MgO+La2O3 1.0-7.5
CaO 2.0-7.5
SrO 0.0-4.5
BaO 1.0-7.0
(a) 1.15≤∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≤1.55이며, Al2O3, MgO, CaO, SrO, BaO 및 La2O3 는 각각의 산화물 구성성분의 몰%를 나타낸다.
(b) 유리는 700℃ 이상의 변형점을 갖는다.
(c) 유리는 200 포이즈 점도, 1,665℃ 이하의 온도를 갖는다.
(d) 유리는 85,000 포이즈 이상의 액상온도의 점도를 갖는다.
다른 관점에서, 산화물을 기초로 하여 몰%를 포함하는 무알칼리 유리가 기술되어 있다.
SiO2 65.0-71.0
Al2O3 9.0-16.0
B2O3 1.5-4.0
MgO+La2O3 0.5-7.5
CaO 2.0-6.0
SrO 0.0-4.5
BaO 1.0-7.0
La2O3 > 0.0 및 4.0 이하
∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≥1.15 (바람직하게는≥1.2)이며, Al2O3, MgO, CaO, SrO, BaO 및 La2O3 는 각각의 산화물 구성성분의 몰%를 나타낸다.
다른 관점에서, 산화물을 기초로 하여 몰%를 포함하는 무알칼리 유리가 기술되어 있다.
SiO2 65.0-72.0
Al2O3 10.0-15.0
B2O3 1.0-4.0
MgO 2.0-7.5
CaO 3.0-6.0
SrO 0.0-4.5
BaO 1.0-6.0
∑(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3)≥1.15이며, Al2O3, MgO, CaO, SrO 및 BaO는 각각의 산화물 구성성분의 몰%를 나타낸다.
추가적 관점에서, 적어도 하나의 SrO, BaO 및 SiO2, Al2O3, B2O3,MgO, CaO를 포함하는 무알칼리 유리가 기술되어 있다. 상기 유리는 다음의 관계식을 만족한다.
[MgO]:[CaO]:[SrO+BaO]= 1±0.15 : 1±0.15 : 1±0.15 (바람직하게는,
[MgO]:[CaO]:[SrO+BaO]= 1±0.1 : 1±0.1 : 1±0.1)
여기서, [MgO],[CaO] 및 [SrO+BaO]는 산화물을 기초로, 유리의 상기 구성성분의 농도를 몰%로 나타낸 것이다. 바람직하게는, 본 관점과 관련하여, B2O3의 농도는 4.0 몰% 이하이다. 실시예에 나타난 바와 같이 상기 식을 만족하는 유리는 융합공정과 같은 다운 드로우 공정(downdraw process)에 바람직한 낮은 액상온도(높은 액상점도)를 가진다. 이하 논의되는 바와 같이 SrO, BaO의 농도는 변형점, CTE, 밀도를 최적화하기 위해 조정될 수 있다. 바람직하게는 BaO/SrO의 몰% 비율은 2.0 이상이다.
여기 기술된 유리조성물에서, SiO2는 기본적인 유리 형성재(glass former)의 역할을 한다. 특정 관점에서 SiO2의 농도는 평판 패널 디스플레이 유리(예: AMLCD유리) 및 액상온도(액상점도)에 알맞은 밀도, 화학적 내구성을 갖는 유리를 제공하기 위해 64 몰% 초과일 수 있으며, 이는 유리가 다운드로우 공정(예: 융합공정)에 의해 형성될 수 있도록 한다. 일반적으로, 상한의 조건에서, SiO2의 농도는 배치(batch)(batch) 물질이 전통적으로 높은 부피, 용융기술(예: 굴절 용해장치(refractory melter)에서의 Joule melting)을 사용하여 용융될 수 있도록 하기 위해 약 72.0 몰% 이하일 수 있다. SiO2의 농도가 증가함에 따라, 200 포이즈 온도(용융점)은 일반적으로 상승한다. 다양한 응용에서, SiO2의 농도는 유리 조성물이 1,650℃이하의 용융점을 갖기 위해 조정될 수 있다. 한가지 관점에서, SiO2의 농도는 66.0~71.0 몰% 또는 66.5~70.5 몰%이다.
Al2O3는 여기 기술된 유리를 만드는데 사용되는 유리 형성재이다. 9.0 몰% 이상의 Al2O3 농도는 낮은 액상 온도 및 그에 따른 높은 액상 점도를 가진 유리를 제공한다. 적어도 9.0 몰%의 Al2O3 사용은 유리의 변형점과 modulus 또한 향상시킨다. ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3) 비율이 1.15 이상 (아래 참조)이 되기 위해, Al2O3 농도를 16.0 몰% 미만으로 유지시키는 것이 바람직하다. 한가지 관점에서, Al2O3 농도는 12.0~15.0 몰%이다.
B2O3는 유리 형성재이며, 또한, 녹는 것을 돕고 용융점을 낮추는 용제이다. 이러한 효과를 위해 여기 기술된 유리 조성물은 1.0 몰% 이상의 B2O3농도를 갖는다.
디스플레이 공정 동안, 유리 시트는 종종 반대편 끝에서만 지지되므로 지지되지 않는 중앙부분에서 sagging을 경험한다. sag양은 시트의 형상 평면, 밀도 및 유리의 영률의 기능이다. 시트의 평면은 적용되는 특정 공정에 의해 나타나며, 이는 유리 제조업체의 통제를 벗어난 것이다. 고정된 밀도에 대해, 영률의 증가는 운반, 취급 및 열처리 공정 동안의 큰 유리 시트에 의해 나타나는 sag양을 감소시키므로 바람직하다. 마찬가지로, 밀도의 증가도 그에 비례하는 영률의 증가를 수반해야 하며, 이는 sag의 증가로 나타날 것이다. 한가지 관점에서, 유리는 2.75g/cm3이하의 밀도를 갖는다. 또 다른 관점에서 유리 자체가 sag에 기여하는 것을 최소화하기 위해, 영률/밀도 비가 30.0 Gpa·cm3/g이상, 30.5 Gpa·cm3/g이상, 31.2 Gpa·cm3/g이상, 32.2 Gpa·cm3/g이상인 것이 바람직하며, 더 높을수록 바람직하다. B2O3가 알카리 토류 산화물(alkaline earth oxide), La2O3 또는 Al2O3 을 대체할 때, 밀도를 감소시키는 반면, 영률이 더 급격히 감소한다. 따라서, B2O3를 합리적으로 가능한 한 낮추는 것이 바람직하다. B2O3는 또한 변형점을 낮추는 경향이 있으며, 이러한 이유로 유리의 B2O3농도는 가능한 한 낮을수록 바람직하다.
SiO2에 대해 상기 기술한 대로 유리의 내구성은 또한 LCD 응용에 있어 중요하다. 내구성은 높아진 알칼리 토류, 란타늄 산화물의 농도에 의해 어느 정도 조절될 수 있으며, 높아진 B2O3농도에 의해 상당히 감소될 수 있다. 변형점과 영률에 대해서는, B2O3농도를 낮게 유지하는 것이 바람직하다. 따라서, 한가지 관점에서,상기 특성을 얻기 위해서는 여기 기술된 유리는 5.0 몰% 이하, 1.0-5.0 사이, 1.0-4.0 사이, 2.0-4.0 사이의 농도를 갖는다.
Al2O3와 B2O3농도는 유리의 용융 및 형성 특성을 유지하는 반면, 변형점을 증가시키고, modulus를 증가시키며, 내구성 증가, 밀도 감소, CTE의 계수를 낮추기 위해 한 쌍으로 선택될 수 있다.
예를 들어, B2O3의 증가 및 그에 따른 Al2O3의 감소는 낮은 밀도와 CTE를 얻는데 도움이 될 수 있으며, 반면에 Al2O3 농도의 증가가 ∑(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3) 또는 ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3) /(Al2O3) 비율을 1.15이하로 낮추지 않는다면, Al2O3의 증가 및 그에 따른 B2O3 감소는 변형점, modulus 및 내구성의 증가에 도움이 될 수 있다. 예를 들어, 당해 기술분야에 알려진 바와 같이 AMLCD 응용에 사용되는 유리는 28-42ⅹ10-7/℃, 바람직하게는 30-40ⅹ10-7/℃, 가장 바람직하게는 32-38ⅹ10-7/℃ 범위의 CTE's (0-300℃)를 갖는다. 이하 제시된 실시예에서처럼 다른 온도범위(예: 25-300℃)에서 측정된 CTE's는 측정된 수치에 offset을 추가함으로써, 0-300℃ 범위로 변형될 수 있다. 25-300℃의 범위로 측정된 CTE 수치를 0-300℃ 범위로 변형하는 경우, AMLCD 실리카 기초의 유리에 성공적으로 적용시키기 위해, -0.8ⅹ10-7/℃의 offset이 제공될 수 있다. 역사적으로, CTE와 관련하여, 램프 유리는 낮은 보론(boron)과 높은 알카리토류 함유물을 가지나(높은 알카리 토류 대 알루미늄 비율을 초래하여) 이러한 유리는 몰리브덴 납 와이어(molybdenum lead wires)와 양립하도록 하기 위해 의도적으로 42ⅹ10-7/℃ 이상의 CTE's를 가진다. 따라서, 램프유리는 AMLCD 응용의 사용에 적합하지 않다.
유리 형성재(SiO2, Al2O3, B2O3) 뿐만 아니라 여기 기술된 유리는 또한 알카리 토류 산화물을 포함한다. 한가지 관점에서, 적어도 3가지 알카리 토류 산화물은 유리 조성물의 일부이다(예를 들어, MgO, CaO, BaO, 선택적으로 SrO). 알카리 토류 산화물은 용융, 정련(fining), 형성, 궁극적 사용에 중요한 다양한 특성을 가진 유리를 제공한다. 따라서, 한가지 관점에서, 이와 관련하여 유리의 성능을 향상시키기 위해, ∑(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3)의 비율은 1.15 이상, 1.2 이상 또는 1.25 이상이다. 다른 관점에서, ∑(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3)의 비율은 1.55 이상, 1.50 이하이다.
유리에 있어 MgO, La2O3 및 그 결합의 농도 및 유리의 ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3) 비율은 유리의 성능 특히 용해성(meltability)과 정련(fining)에 영향을 미친다. 따라서, 이와 관련한 유리의 성능을 향상시키기 위해 한가지 관점에서, ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3) 비율은 1.15 이상, 1.55 이하 또는 1.25 이상 1.45 이하이다.
본 발명의 특정 실시예에 대해 MgO와 La2O3는 단일 조성 구성요소로 효과적인 것으로 취급된다. 이것은 점탄성(visocoelastic properties), 액상 온도, 액상 관계식(liquidus phase relationship)에 대한 그들의 영향력이 정량적으로 매우 유사하기 때문이다. 다른 알카라인 토류 산화물은 장석 미네랄, 두드러지게 anorthite(CaAl2Si2O8), celsian(BaAl2Si2O8) 및 동일한 스트론튬-보유의 고체 용액을 형성한다. MgO나 La2O3 어느 것도 이러한 결정에 상당한 정도로 관여하지 않는다. 따라서, 장석 결정이 이미 액상일 때, MgO나 La2O3의 첨가는 실제로 결정에 상대적인 액체의 안정화를 돕고, 따라서 액상온도를 낮추는 것을 돕는다. 동시에 점도 곡선은 낮은 온도 점도에 거의 영향을 미치지 않는 반면, 용융온도를 낮추면서 점점 가팔라진다. 이러한 점에서, 소량의 MgO 및/또는 La2O3의 첨가는 높은 변형점과 따라서 낮은 압축을 유지하면서, 용융온도를 낮춤으로써, 용융에 도움을 주며, 액상 온도를 낮추고, 액상 점도를 높임으로써, 형성에 도움을 준다.
이러한 특성에 대한 MgO나 La2O3의 영향은 유사하나, 다른 주요한 유리 특성에 대한 영향은 매우 다르다. La2O3는 밀도를 크게 증가시키며, MgO에 대한 CTE를 완만하게 증가시킨다. 둘 중 어느 하나가 본 발명의 알루미노실리케이트 유리에 첨가될 때, 영률이 전형적으로 증가하는 반면, 밀도는 La2O3 함량과 함께 매우 빨리 증가하여, 특정 modulus(영률/밀도)가 감소한다. 열처리 공정 동안 시트의 과도한 sagging을 피하기 위해 AMLCD 기판에 전형적인 수치인 적어도 28MPa·m3/Kg의 특정 modulus를 갖는 것이 바람직하다. 본 발명의 유리에 대한 영률은 약 77.6 에서 약 83 GPa의 범위에 이르며, 따라서, 밀도가 약 2.75g/cc이상일 때, 특정 modulus는 바람직한 수준 이하로 내려갈 것이다. 이러한 이유로, 점탄적 특성에 대한 바람직한 효과를 미치는데 필요한 것보다 높지 않도록 La2O3 을 제한하는 것이 필요하다. MgO가 이러한 효과를 가지지 못한 반면, 높은 농도에서, barium aluminosilcate celsian에서 높은 용해성을 가지며, 따라서, 유동의 목적으로 La2O3에 대한 농도와 같거나 이하의 농도로 유지되어야 한다.
MgO+La2O3 의 합을 증가시키기 위하여, 액상 온도를 올릴 수 있으며, 액상 점도는 높은 점도 형성공정(예: 융합공정)의 사용이 절충되는 수준으로까지 떨어질 수 있다. 따라서, MgO 및 La2O3 의 양은 유리 형성의 바람직한 특성을 얻기 위해, 그에 따라 조정될 수 있다.
양자가 모두 존재하는 농도의 관점에서, 상기 기술한 다양한 이득을 이루기 위해, MgO+La2O3의 결합된 농도는 1.0에서 7.5 몰% 사이가 되어야 한다. 다른 관점에서, MgO의 농도는 특히, MgO가 La2O3가 없는 경우에 사용될 때, 2.0 ~ 6.0 몰% 또는 3.0 ~ 6.0 사이이다. 또 다른 관점에서, La2O3 농도는 바람직하게는 유리의 밀도를 높이지 않기 위해서, 약 3.0
이하로 유지된다.
유리 조성물에 존재하는 산화 칼슘은 평판 패널 응용 특히 AMLCD 응용에 대해 가장 바람직한 범위에서, 낮은 액상 온도(높은 액상 점도), 높은 변형점과 moduli 및 CTE's를 제공할 수 있다. 그것은 또한, 화학적 내구성에 우호적으로 기여하며, 다른 알카리 토금속 산화물과 비교하여, 배치(batch) 물질처럼 상대적으로 덜 비싸다. 그러나, 높은 농도에서는, CaO가 밀도와 CTE를 증가시킨다. 더욱이, 충분히 낮은 SiO2 농도에서는, CaO는 arnothite를 안정화시킬 수 있으며, 따라서, 액상 점도를 낮출 수 있다. 그에 따라, 한가지 관점에서, CaO의 농도는 2.0 몰% 이상일 수 있다. 다른 관점에서, 유리 조성물의 CaO 농도는 7.5 몰% 이하이거나 3.0 내지 7.5 몰% 사이이다.
남아있는 알카리 토금속 산화물 SrO 및 BaO는 모두 낮은 액상 온도(높은 액상 점도)에 기여하며, 따라서, 여기 기술된 유리는 전형적으로 적어도 하나의 이러한 산화물을 포함한다. 그러나, 이러한 산화물의 선택과 농도는 CTE, 밀도의 증가 및 modulus와 변형점의 감소를 회피하기 위해서 선택된다. SrO 와 BaO의 상대적 비율은 유리가 다운 드로우 공정에 의해 형성될 수 있도록 물리적 특성 및 액상 점도의 알맞는 조합을 얻기 위해 조정될 수 있다.
본 발명의 유리의 중심 조성물의 효과와 역할을 요약하면, SiO2는 기본 유리 형성재이다. Al2O3 및 B2O3는 또한 유리 형성재이며, 쌍으로 선택될 수 있다. 가령, Al2O3의 증가가 RO/(Al2O3) or (RO+3La2O3)/(Al2O3) 비율을 1.15 이하로 낮추지 않는다면(여기서 RO=∑(MgO+CaO+SrO+BaO)임), 낮은 밀도와 CTE를 얻기위해, B2O3 증가 및 그에 따라 Al2O3 감소하도록 사용될 수 있으며, 반면에 변형점과 modulus 및 내구성을 증가시키도록 사용되면서 Al2O3증가 및 그에 따라 B2O3 감소하도록 사용될 수 있다. 상기 비율이 너무 낮아지면, melability(용해)가 절충된다. 즉, 녹는점이 너무 높아진다. B2O3 는 녹는점이 낮아지도록 사용될 수 있으나, 높은 수준의 B2O3 는 변형점을 절충시킨다. 용해와 변형점의 고려뿐만 아니라, AMLCD의 적용을 위해서는 유리의 CTE가 실리콘과 양립할 수 있어야한다. 그러한 CTE 수치를 맞추기 위해서, 본 발명의 유리는 유리의 RO 함량(또는 La2O3를 포함한 유리에 대한 (RO+3La2O3)함량)을 제어한다. 주어진 Al2O3 농도에 대해 RO 농도의 제어는 RO/Al2O3비율 (또는 La2O3를 포함한 유리에 대한 (RO+3La2O3)/Al2O3 비율)의 제어에 따른다. 실제로, RO/Al2O3 비율(또는 (RO+3La2O3)/Al2O3 비율)이 약 1.55 이하라면, 알맞는 CTE's를 갖는 유리가 생산된다.
이러한 고려를 염두에 두고, 유리는 바람직하게는 다운 드로우 공정 즉 융합공정에 의해 형성될 수 있으며, 이는 유리의 액상 점도가 상대적으로 높을 필요가 있음을 의미한다. 개개의 알카리 토금속은 이와 관련하여 중요한 역할을 하며, 이는 그들이 다르게 형성될 수 있는 액정 상태를 불안정하게 할 수 있기 때문이다. BaO과 SrO는 특히 액상 점도를 제어하는 데 있어 효과적이며, 적어도 이러한 목적에 대한 본 발명의 유리에 포함된다. 이하에 제시한 실시예에 나타낸 바와 같이, 알카리 토금속의 다양한 조합은 낮은 녹는점, 높은 변형점 및 알맞는 CTE's을 갖는데 필요한 RO/Al2O3 비율(또는 (RO+3La2O3)/Al2O3 비율)의 제한을 만족하는 높은 액상점도를 갖는 유리를 생산할 수 있도록 할 것이다.
상기의 구성요소뿐만 아니라, 여기 기술된 유리 조성물은 유리의 다양한 물리적, 용융, 정련(fining), 형성 특성에 맞는 다양한 다른 산화물을 포함할 수 있다. 그러한 다른 산화물의 예로서, TiO2, MnO,Fe2O3, ZnO,Nb2O5, MoO3, Ta2O5, WO3, Y2O3 및 CeO2를 포함하며, 한정하는 것은 아니다. 한가지 관점에서, 각 산화물의 양은 약 2.0 몰% 이하일 수 있으며, 그들의 총 조합 농도는 약 4.0 몰% 이하 일 수 있다. 여기 기술된 유리 조성물은 또한 배치(batch) 물질과 관련된 다양한 오염물질 및/또는 특히 Fe2O3 및 ZrO2 유리의 생산에 사용되는 용융, 정련(fining) 및 또는 형성 장비에 의해 유리로 유입된 다양한 오염물질을 포함할 수 있다. 유리는 또한 주석산화물 전극(tin-oxide electrode)를 사용한 Joule-용융의 결과로서 및/또는 주석 포함 물질 예를 들어, SnO2,SnO, SnCO3, SnC2O4 등의 batching을 통해서 SnO2를 포함할 수 있다.
유리조성물은 일반적으로 무알칼리이다; 그러나, 유리는 일부 알칼리 오염물을 포함할 수 있다. AMLCD 적용의 경우, 유리로부터 TFT의 실리콘으로의 확산을 통한 TFT 수행에 대한 부정적인 영향을 회피하기 위해 알카리 수준을 0.1 몰% 이하로 유지하는 것이 바람직하다. 여기에서 사용된 바와 같이 "무알칼리 유리"는 전체 알카리 농도가 0.1 몰%를 가진 유리로서, 여기서 전체 알카리 농도는 Na2O, K2O 및 Li2O 농도의 합이다. 한가지 관점에서, 총 알칼리 농도는 0.07 몰% 이하이다.
상기 논의한 바대로, 1.15 이상의 ∑(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3) 및 ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3) 비율은 정련(fining) 즉, 배치(batch) 물질로부터 기상 함유물(gas inclusion)의 제거를 향상시킨다. 예를 들어, 산화물의 기초에서, 여기 기술된 유리 조성물은 다음의 조성적 특징의 하나 이상 또는 모두를 가질 수 있다.
(ⅰ) 최대 0.05 몰%의 As2O3 농도
(ⅱ) 최대 0.05 몰%의 Sb2O3 농도
(ⅲ) 최대 0.2 몰%의 SnO2 농도
As2O3는 AMLCD에 대한 효과적인 고온의 정련(fining)제이며, 여기 기술된 어떤 관점에서, As2O3는 그 우수한 정련(fining) 특성 때문에 정련(fining)에 사용된다. 그러나, As2O3 는 유독하며, 유리 제조 공정 동안 특별한 취급을 필요로 한다. 따라서, 특정 관점에서, 정련(fining)은 As2O3의 실질적인 양의 사용 없이 수행된다. 즉, 완성된 유리는 최대 0.05 몰%의 As2O3를 갖는다. 한가지 관점에서, 어떠한 As2O3도 유리의 정련(fining) 공정에 의도적으로 사용되지는 않는다. 그런 경우, 완성된 유리는 배치(batch) 물질 및/또는 배치(batch) 물질의 용융에 사용되는 장비에 존재하는 오염물의 결과로서 전형적으로 최대 0.005 몰%의 As2O3 를 갖는다.
As2O3 만큼 유독하지 않음에도 불구하고, Sb2O3 역시 유독하며, 특별한 취급을 요한다. 또한, Sb2O3는 정련(fining)제로 사용되는 As2O3 및 SnO2 와 비교하여, 밀도를 높이고, CTE를 높이며, 변형점을 낮춘다. 따라서, 특정 관점에서, 정련(fining)은 Sb2O3의 실질적인 양의 사용 없이 수행된다. 즉, 완성된 유리는 최대 0.05 몰%의 Sb2O3를 갖는다. 다른 관점에서, 어떠한 Sb2O3도 유리의 정련(fining) 공정에 의도적으로 사용되지는 않는다. 그런 경우, 완성된 유리는 배치(batch) 물질 및/또는 배치(batch) 물질의 용융에 사용되는 장비에 존재하는 오염물의 결과로서 전형적으로 0.005 몰% 이하의 Sb2O3 를 갖는다.
As2O3 및 Sb2O3 정련(fining)과 비교하여, 주석 정련(즉, SnO2 fining)은 덜 효과적이나, SnO2는 어떠한 알려진 유해성이 없는 어디서나 볼 수 있는 물질이다. 또한, 수년간, SnO2는 그러한 유리에 대한 배치(batch) 물질의 줄 용융에서의 주석 산화 전극(tin oxide electrode)의 사용을 통해 AMLCD 유리의 구성요소로 사용되어 왔다. AMLCD 유리에서 SnO2의 존재로 인해 LCD 생산에서 이러한 유리의 사용에 어떤 부작용도 일으키지 않았다. 그러나, 높은 SnO2 농도는 이것이 AMLCD 유리에서 결정 결함의 원인이 될 수 있기 때문에, 바람직하지 않다. 한가지 관점에서, 완성된 유리에서 SnO2 의 농도는 0.2 몰% 이하이다.
주석 정련(tin-fining)은 단독으로 사용되거나, 바람직하다면, 다른 정련(fining)기술과 조합하여 사용될 수 있다. 예를 들어, 주석 정련(fining)은 할로겐화물 정련(fining) 가령, 브롬 정련(fining)과 결합하여 사용될 수 있다. 다른 가능한 조합으로는 주석 정련(fining)과 황산염, 황화물, 산화 세륨,기계적 기포 및/또는 진공 정련(fining)을 결합한 것을 들 수 있으며, 이것으로 한정되는 것은 아니다. 이러한 다른 정련(fining) 기술들이 단독으로 사용될 수 있다는 것도 고려되어야 한다. 특정 관점에서, ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3) 비율 유지 및 상기 논의된 범위 내의 각각의 알카리 토금속 및 Al2O3 농도는 정련(fining) 공정을 수행하기 쉽도록 하며, 보다 효율적으로 만든다.
여기 기술된 유리는 당업자에게 알려진 다양한 기술을 사용하여 제조될 수 있다. 한가지 관점에서, 유리는 가령 융합공정 같은 다운드로우 공정을 이용하여 제조된다. 한가지 관점에서, 시트를 만드는 유리가 SiO2, Al2O3, B2O3, MgO, CaO 및 BaO를 구성하고 산화물의 관점에서, 다음으로 구성되도록 하기 위해 배치(batch) 물질을 선택하고, 녹이고, 정련(fining)하는 공정를 포함하는 다운드로우 공정에 무알칼리 유리 시트를 제조하는 방법이 여기에 기술되고 있다.
(ⅰ) ∑(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3) 비율이 1.15 이상
(ⅱ) MgO 함량이 2.0 몰% 이상;
(ⅲ) CaO 함량이 3.0 몰% 이상; 및
(ⅳ) BaO 함량이 1.0 몰% 이상을 포함하고,
여기서
(a) 정련(fining)은 실질적인 비소의 사용 없이 수행된다.(선택적으로, 안티몬(antimon)의 실질적 사용 없이); 및
(b) 용융되고 정련(fining)된 배치(batch) 물질로부터 다운드로우(downdraw)공정에 의해 생산되는 연속 50개의 유리시트의 모집단(population)은 평균 0.10 기상 함유물/cm3 이상의 기상 함유물 수준을 가지며, 상기 모집단의 각각의 시트는 적어도 500 cm3의 부피를 가진다.
미국 특허 제5,785,726호(Dorfeld et al.), 제6,128,924호(Bange et al.), 5,824,127(Bange et al.), 함께 계류 중인 serial No. 11/116,669 은 비소가 없는 유리 제조 공정을 공개하고 있다.
한가지 관점에서, 용융되고 정련(fining)된 배치(batch) 물질로부터 다운 드로우 공정에 의해 생산되는 연속 50개의 유리 시트의 모집단(population)은 평균 0.05 기상 함유물/cm3 미만의 기상 함유물을 가지며, 상기 모집단의 각각의 시트는 적어도 500 cm3의 부피를 가진다.
다운 드로우 시트 드로윙(downdraw sheet drawing) 공정, 특히, Dockerty의 특허인 미국 특허번호 제3,338,696호 및 제3,682,609호에 기술된 융합공정은 인용문헌으로 인용되고 있으며, 여기에서 사용될 수 있다. 플로우트 공정(float process)같은 다른 형성공정과 비교해볼 때, 융합공정이 여러 가지 이유로 선호된다. 첫째, 융합공정에서 만들어진 유리 기판은 연마를 필요로 하지 않는다. 현재 유리 기판 연마는 원자간력 현미경(atomic force microscopy)에 의해 측정한 평균 표면 거칠기(surface roughness)가 0.5nm(Ra)이상을 가지는 유리 기판을 생산할 수 있다. 융합공정에 의해 생산된 유리 기판은 원자간력 현미경(atomic force microscopy)에 의해 0.5nm 이하로 측정되는 평균 표면 거칠기를 갖는다. 상기 기판은 또한 광학 지연(optical retardation)으로 측정된 150 psi이하의 평균 내부 응력(internal stress)을 갖는다.
다운 드로우 공정에 의해 형성되기 위해, 여기 기술된 유리 조성물이 85,000 포이즈 이상 또는, 100,000 포이즈 이상 또는, 150,000 포이즈 이상의 액상 점도를 가지며, 더 높은 액상 점도일수록 바람직하다.
여기 기술된 유리 조성물은 다양한 유리 품목을 만드는데 사용될 수 있다. 예를 들면, 여기 기술된 유리 조성물은 가령 AMLCD와 같은 LCD에 대한 기판을 만드는데 사용될 수 있다. 한가지 관점에서, 가령 AMLCD와 같은 평판 디스플레이 응용에서의 사용에 적합하게 하기 위해, 여기 기술된 유리는 영률/밀도> 30.5 GPa·cm3/g이고, 연마된 샘플이 95℃에서, 5% HCl 용액에서 24시간 노출되었을 때, 무게감소 0.8 밀리그램/cm2 이하, 30℃에서, 5분간, 50 wt% HF의 부피 1 및 40 wt% NH4F의 부피 10인 용액에 노출되었을 때, 무게감소 1.5 밀리그램/cm2 이하의 수치를 갖는다.
명세서의 일부를 구성하며 명세서에 포함되어 첨부된 도면은 이하 상술하는 여러 관점을 나타낸다.
도 1은 여기에서 "압축(compation)"으로 표시된 치수 변화의 독립성 대비 600℃에서 5분 동안 가열되어 여기 기술된 일련의 유리 조성물의 변형점을 나타낸다.
도 2는 압축 양상 대비 600℃의 온도에서 반복적인 열처리가 주어진 3가지 유리 샘플의 시간을 나타낸다.
다음의 샘플은 이하에서 공개된 발명에 따른 방법 및 결과를 나타낸다. 이러한 실시예는 여기에 공개된 발명의 모든 측면을 포함하는 것을 의도한 것은 아니며, 단지 대표적인 방법 및 결과를 나타내고자 하였다. 이러한 실시예들은 당업자에게 명백한 본 발명의 균등물 및 변형을 배제하는 것은 아니다.
수치(양, 온도 등등)에 대해 정확성을 기하고자 노력했으나, 일부 에러 및 변형은 설명되어야 한다. 다르게 표시하지 않는 한, 온도는 ℃ 또는 상온이며, 압력은 기압이다. 조성물 자체는 산화물을 기초로 몰%로 주어지며, 100%로 표준화되었다. 예를 들어, 구성요소의 농도, 온도, 압력 및 기술된 공정으로부터 얻어지는 제품의 순도 및 생산량을 최적화하기 위해 사용될 수 있는 다른 반응 범위 및 조건들 등, 다양한 변형과 반응 조건의 조합이 가능하다. 그러한 조건을 최적화하기 위해서는 단지 합리적이고, 일반적인 실험이 요구될 것이다.
실시예 -1 : 테스트 샘플의 준비
테스트 유리 샘플은 1,600-1,650℃에서 6시간 이상 백금 용융로에서 적절한 배치(batch) 물질을 용융하고, 철 시트에 부은 다음, 시험적으로 커팅하고 연마하기 전에 통상의 어닐링을 함으로써 만들어진다. 상기의 유리 패티(patty)는 대략 3"x 7"x 2 mm 두께 또는 4"x 4"x 2 mm의 두께의 직사각형 또는 정사각형 유리 샘플을 만들기 위해 가공된다. 상기의 직사각형 또는 정사각형 유리는 1011 포이즈의 점도에 대응하는 온도로 가열되어 약 4시간 동안 유지되고 뒤이어, 상온으로 빠르게 식혀진다. 이러한 열처리는 융합 드로잉 시트(fusion drawn sheet)의 가열 히스토리(heat history)에 가장 근접하도록 할 수 있다고 알려져 있다. 그런 후 상기 샘플은 평평한 표면에서 연마되고, 그 가장자리 근처에(그리고, 직사각형 샘플의 경우 샘플의 긴 축에 수직인 곳에) 여러 가지 세트의 기준 마크로 표시된다. 직사각형 샘플은 일부 대조부와 열처리를 가한 부분으로 남겨둔 채, 세로의 절반으로 잘라진다. 상기 대조부분과 열처리 부분은 현미경하에서 함께 검사되고, 치수변화가 측정된다. 정사각형 샘플의 치수는 열처리 전에 Mitutoyo Quick Vision QV202 Pro 기구를 사용하여 측정되며, 뒤이어, 적당한 회수와 온도에서 열처리가 되며, 샘플 치수의 재측정이 이루어진다. 자동화된 광학 기기가 각 샘플에서 수십 번의 반복 측정을 하기 때문에, 사용된 샘플 크기의 5-10 ppm 이하의 치수변화에 따라, 1 micron의 치수차이도 측정할 수 있도록 통계적 방법이 사용될 수 있다. 시간이 지남에 따라 주어진 온도에서 유리의 치수완화 양상을 측정하기 위해 반복된 열처리 및 측정이 사용될 수 있다.
도 1은 압축에 대한 변형점의 효과를 조사하기 위해 일련의 상업적 실험 유리에 대해 수행한 압축 시험결과를 나타낸다. 이 도면에서 본 바와 같이, 변형점에 대한 압축의 변화는 660℃~680℃의 20℃범위에 걸쳐 나타나는 큰 향상과 함께 비선형(non-linear) 현상이다. 이러한 관점에서, 660℃가 현재 시장에서의 AMLCD에 대한 전형적인 변형점이라는 것을 주지하여야 한다. 변형점을 660℃ 단지 20℃만 증가시킴으로써, 압축은 70 ppm 이상에서부터 30 ppm 이하로 떨어질 수 있다. 즉, 50% 이상 향상된다. 일부 다결정형 실리콘(poly-Si)공정에 대해서는 이러한 향상이 충분할 수 있다. 다른 공정에 대해서는 더 많은 향상이 필요할 수 있다. 도 1에 나타난 바와 같이, 660℃에서 50-100℃ 이상의 변형점의 증가는 20 ppm 이하의 압축 수준을 이룰 수 있다. 이러한 수준은 현재 사용되는 다결정형 실리콘(poly-Si)공정에 적합하며, 앞으로 사용되는 것이 기대된다.
도 2는 다른 변형점을 가진 유리에 대한 반복적인 열처리의 효과를 나타낸다. 반복된 열처리는 도 1의 데이터를 생성하는데 사용된 단순 열처리보다는 더 정 확하게 다결정형 실리콘(poly-Si)제조공정을 모방하고 있다. 도 2에 대해서는 3가지 유리 즉, Table 1의 실시예 68에 대응하는 유리 A, Table 1의 실시예 65에 대응하는 유리 B 및 Corning Eagle 2000F 유리인 유리 C 각각은 600℃의 용융로에 투입되어, 실험이 계속되면서 시간이 지남에 따라 상온으로 유지된다. 첫 번째 열 처리는 5분 동안이며, 두 번째 기간으로서, 5분이 추가되며(총 10분 동안) 이하 표 2에서 나타난 바와 같고, 끝에서 4번째 기간까지는 각 60분 간격이다. 각각의 열처리 후에, 유리 샘플은 용융로에서 꺼내어,빨리 식히기 위해 팬 두 개 사이에 둔다. 이러한 방식으로, 유리 샘플은 기본적으로 그 온도들에서 단계별 변화를 겪는다.
도 2에서 보여진 바와 같이, 모든 3가지 샘플은, 600℃ 처리에 미리 노출된 것에 따라 유리구조가 완화되었기 때문에, 테스트 기간당 압축이 시간이 증가함에 따라 감소한다. 그런, 높은 변형점을 가진 유리 즉, 본 발명의 유리 A 및 B는 현재 이용가능한 AMLCD의 특징을 갖는 변형점을 갖는 유리 C보다 현저히 낮은 수준의 압축을 나타내었다. 도 2에 나타낸 데이타는 Table 2에 설명하였다.
낮은 압축뿐만 아니라, 유리는 융합 드로잉이나 관련 공정에 적용되기 위한 엄격한 형성 조건을 만족해야 한다. 실투(devitrification)는 최초의 균질의 유리로부터 결정 상태를 형성하는 것으로 정의된다. 결정이 유리와 공존하는 최대 온도는 액상 온도로 정의된다. Tabel 1의 유리 시험과 관련하여, 아래에 기술된 바와 같이, 액상 온도는 분쇄된 유리 샘플을 플래티늄 보트에 놓은 후, 튜브 용융로에서 cm 당 10℃의 기울기로 24시간 열을 가함으로써 측정된다. 액상온도에서의 유리의 점도는 액상 점도라고 한다. 공정들을 형성하는 정밀 시트 유리는 대개 비교적 높 은 액상 점도 가령, 40,000 포이즈 이상, 바람직하게는 85,000 포이즈 이상을 요구한다.
상기 유리는 제조 목적에 대한 엄격한 용융 조건을 만족해야 한다. 유리 배치(batch) 구성성분이 경제적으로 합리적인 시간 내에 녹는 온도 및 갇힌 기포가 합리적인 시간 내에 유리로부터 올라오는 온도는 전형적으로 약 200 포이즈의 점도에 해당한다. 높은 온도에서 내구성, 내화성 또는 귀금속 용기에서의 제한은 약 1,680℃의 200 포이즈 온도의 실질적 제한 이상이다. 전통적으로 사용된 것들로부터 배치(batch) 물질에서의 변화로 인해 좀더 점성있는 유리가 그에 비례하는 더 높은 점도에서 녹을 수 있도록 하나, 그러한 물질은 불가피하게 엄청나게 많은 비용을 추가시키며, 높은 점도에서의 용융 및 컨디셔닝 시스템을 통한 유리의 운반은 심각한 기술적 문제를 야기한다.
다양한 물리적 특성을 갖는 다양한 유리 조성물이 Table 1에 도시되어있다.
Table 1에 기술한 유리 특성은 유리 업계의 통상적인 기술에 따라 확정되었다. 따라서, 온도범위 25-300℃에 걸친 선형 CTE는 x 10-7/℃로 나타내었고, 변형점은 ℃로 나타내었다. 이들은 섬유 연장 기술(각각 ASTM reference E228-85 및 C336)로 측정되었다.
밀도 g/cm3 는 아르키메데스 방식을 통해 측정되었다.(ASTM C693)
녹는점(℃)(상기 녹은 유리가 200 포이즈 점도를 나타내는 온도로 정의됨)은 회전식 실린더 점도측정계(rotating cylinders viscometry)를 통해 측정되는 높은 온도의 점도 데이터에 맞는 Fulcher식을 적용하여 계산되었다(ASTM C965-81).
상기 유리의 액상온도(℃)는 ASTM C829-81의 표준 기울기 보트 액상 방식(standard gradient boat liquidus method)을 사용하여 측정되었다. 이것은 플래티늄 보트에서 분쇄된 유리 입자를 위치시키고, 상기 보트를 기울기 온도의 구역을 갖는 용융로에 두며, 상기 보트를 적당한 온도 구역에 24시간 가열하고, 상기 유리 내부에서 결정이 나타나는 가장 높은 온도의 현미경적 조사에 의해 측정하는 것과 관련이 있다. 더 특별히는, 상기 유리샘플은 한 조각에서 백금 보트로부터 꺼내어, 백금과 공기 경계 및 상기 샘플 내부에 형성되는 결정의 위치와 성질을 밝히기 위해 편광 광학 현미경을 사용하여 조사되었다. 용융로의 기울기는 매우 잘 알려져 있기 때문에, 온도 대 위치는 5-10℃ 내에서 잘 예측될수 있다. 샘플의 내부에서 결정이 관찰되는 온도는 상기 유리의 액상선(liquidus)을 나타내기 위해 채택된다(해당 테스트 기간 동안). 천천히 자라나는 상을 관찰하기 위해, 시험은 종종 더 오랜 시간동안(예; 72시간)수행된다. Table 1의 다양한 유리에 대한 결정상이 다음의 약자로 기술되었다. anor--anorthite(회장석), 칼슘 알루미노실리케이트 광석; cris--크리스토 발라이트(SiO2); cel--혼합된 alkaline earth celsian; Sr/Al sil-- 스트론튬 알루미노실리케이트 상; SrSi-- 스트론튬 실리케이트 상. 액상점도(포이즈)는 액상 온도 및 Fulcher식의 계수로 결정되었다.
영률 수치(Gpa)는 ASTM E1875-00e1에 기술된 일반적인 타입의 공명 초음파 측정기(resonant ultrasonic spectroscopy)기술을 사용하여 측정되었다.
Table 1에서 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1-88은 가령 AMLCD 응용과 같은 디스플레이 응용에 사용하기에 적합한 유리를 만드는 밀도, CTE's, 변형점 및 영률 수치를 갖는다. Table 1에는 나타나지 않았지만, 상기 유리는 이러한 응용에 적합한 화학적 내구성도 가진다. 특히, 실시예 68,69,70 및 71은 각각 10wt% HF에 상온에서 20분간 침수되었을 때, 6.7-7.5 mg/cm2 의 무게 감소가 있는 것으로 밝혀졌다. 비교하여, 상업적인 AMLCD 유리는 이러한 방식으로 실험하였을 때, 5-8 mg/cm2의 무게 감소를 나타낸다. 모든 실시예의 유리들은 융합 기술과 같은 다운 드로우 기술을 사용하여 형성될 수 있다. 따라서, 1250℃ 이하의 액상 온도 및 85,000 포이즈 이상, 대부분의 경우 150,000 포이즈 이상의 액상 점도를 갖는다.
실시예 71 및 79에 나타난 조성과 특성을 갖는 유리들은 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 나타내는 것으로 간주되며, 즉, 현재 본 발명의 목적에 대한 가장 훌륭한 특성들의 조합을 제공한다.
본 출원을 통해, 다양한 공개문헌이 인용되었다. 이러한 공개문헌의 전체 공개는 여기에 화합물, 조성물 및 여기 기술된 방법을 보다 완전히 설명하기 위해 이 출원에 인용문헌으로서 기술되었다.
여기 기술된 물질, 방법 및 제품은 다양한 수정과 변형이 가능하다. 여기 기술된 물질, 방법 및 제품의 다른 측면은 명세서의 참작 및 여기 공개된 물질, 방법 및 제품의 실시로부터 명백해질 것이다. 상기 특정 및 실시예는 예시적인 것으로 고려되는 것을 의도하였다.
TABLE 1
Mol % min max 1 2 3 4
SiO 2 66.58 70.69 67.63 66.58 68.76 67.61
Al2O3 11.75 13.51 12.15 12.14 11.76 11.89
B2O3 1.25 4.96 3.98 3.99 4.96 3.94
MgO 0.84 7.48 5.28 5.66 3.02 5.42
CaO 2.99 5.89 5.28 5.66 5.57 5.42
SrO 0.00 4.29 0.00 1.96 0.68 1.88
BaO 1.30 5.55 5.28 3.77 5.00 3.60
La2O3 0.00 3.01 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.00 0.40 0.40 0.25 0.25 0.25
Sb2O3 0.00 0.49 0.00 0.00 0.00 0.00
ZrO2 0.00 0.02 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.00 0.08 0.00 0.00 0.00 0.00
MgO+La2O3 2.35 7.48 5.28 5.66 3.02 5.42
Sum(RO+La2/3O)* 14.27 18.39 15.84 17.05 14.27 16.32
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.15 1.41 1.30 1.40 1.21 1.37
변형점 (℃) 695 739 - 706 715 702
CTE (x10-7/℃) 35.8 39.6 - 39 37.6 38.5
밀도 2.571 2.842 2.631 2.628 2.610 2.619
영률 (Gpa) 77.6 82.6 - - 78.1 -
specific modulus 29.1 31.5 - - 29.9 -
200 poise T (℃) 1585 1672 - 1585 1665 1605
액상 온도(℃) 1110 1250 1110 1115 1120 1125
Liquidus phase - - cels cris anor anor
액상 점도 1.09E+05 1.08E+06 - 4.59E+05 1.08E+06 4.48E+05
*Sum(RO+La2/3O) = Sum(RO+3La2O3)
TABLE 1 (계속)
Mol % 5 6 7 8 9 10
SiO 2 67.43 68.90 67.95 67.20 69.81 69.59
Al2O3 11.75 12.02 12.03 11.89 11.89 11.99
B2O3 3.93 3.82 3.94 3.99 4.00 3.94
MgO 5.48 4.15 5.23 5.54 2.70 3.05
CaO 5.48 5.78 5.23 5.54 5.81 5.78
SrO 1.89 1.04 0.00 1.92 0.89 0.93
BaO 3.64 4.29 5.23 3.68 4.90 4.72
La2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.40 0.00 0.39 0.25 0.00 0.00
Sb2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
ZrO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
MgO+La2O3 5.48 4.15 5.23 5.54 2.70 3.05
Sum(RO+La2/3O)* 16.49 15.26 15.69 16.68 14.30 14.48
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.40 1.27 1.30 1.40 1.20 1.21
변형점 (℃) 703 705 - 706 701 705
CTE (x10-7/℃) 37.6 37.5 - 39.4 - 37.2
밀도 2.611 2.598 2.628 2.616 2.593 2.593
영률 (Gpa) 80 - - - - -
specific modulus 30.6 - - - - -
200 poise T (℃) 1618 1642 - 1601 - 1664
액상 온도(℃) 1125 1130 1130 1130 1135 1135
Liquidus phase anor anor cels anor anor+cris anor
액상 점도 4.78E+05 5.78E+05 - 3.43E+05 - 6.64E+05
TABLE 1 (계속)
Mol % 11 12 13 14 15 16
SiO 2 70.69 69.83 69.76 69.36 68.01 67.93
Al2O3 12.48 11.89 11.95 11.96 12.49 12.37
B2O3 4.72 3.97 4.00 3.90 3.94 3.94
MgO 0.84 2.70 2.78 3.90 5.09 5.16
CaO 4.69 5.80 5.77 5.70 5.09 5.16
SrO 1.36 0.89 0.89 0.88 1.76 1.79
BaO 3.71 4.92 4.85 4.30 3.38 3.41
La2O3 1.51 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.25 0.25
Sb2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
ZrO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
MgO+La2O3 2.35 2.70 2.78 3.90 5.09 5.16
Sum(RO+La2/3O)* 15.13 14.31 14.29 14.78 15.32 15.52
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.21 1.20 1.20 1.24 1.23 1.25
변형점 (℃) 719 703 704 698 708 707
CTE (x10-7/℃) 36.7 37.1 - 37.3 37 37.6
밀도 2.673 2.592 - 2.595 2.597 2.600
영률 (Gpa) 77.7 77.63 - 79.01 - -
specific modulus 29.1 29.9 - 30.5 - -
200 poise T (℃) 1648.19 1672 1672 1651 1624 1620
액상 온도(℃) 1140 1140 1140 1140 1140 1140
Liquidus phase cris anor anor anor anor anor
액상 점도 7.01E+05 7.11E+05 6.53E+05 4.81E+05 4.19E+05 3.78E+05
TABLE 1 (계속)
Mol % 17 18 19 20 21 22
SiO 2 67.85 68.26 66.89 70.25 67.69 69.80
Al2O3 12.25 11.91 12.01 12.99 12.01 13.51
B2O3 3.94 3.91 3.99 4.52 3.94 4.32
MgO 5.22 5.18 5.60 0.88 5.36 0.90
CaO 5.22 5.18 5.60 4.37 5.36 4.06
SrO 1.81 0.00 1.94 1.26 1.85 1.16
BaO 3.47 5.18 3.73 3.47 3.55 3.24
La2O3 0.00 0.00 0.00 2.26 0.00 3.01
As2O3 0.25 0.39 0.25 0.00 0.25 0.00
Sb2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
ZrO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
MgO+La2O3 5.22 5.18 5.60 3.14 5.36 3.91
Sum(RO+La2/3O)* 15.72 15.54 16.87 16.76 16.12 18.39
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.28 1.30 1.40 1.29 1.34 1.36
변형점 (℃) 703 - 703 725 705 729
CTE (x10-7/℃) 37.8 - 39.6 37.2 38.7 39.3
밀도 2.605 2.622 2.623 2.723 2.598 2.842
영률 (Gpa) - - - 79.57 - 82.6
specific modulus - - - 29.2 - 29.1
200 poise T (℃) 1609 - 1606 1620 1600 1586
액상 온도(℃) 1140 1140 1140 1145 1145 1150
Liquidus phase anor cels anor cris cris cris
액상 점도 3.63E+05 - 2.78E+05 4.78E+05 2.56E+05 3.02E+05
TABLE 1 (계속)
Mol % 23 24 25 26 27 28
SiO 2 68.29 67.77 68.28 68.38 68.38 68.20
Al2O3 12.11 12.13 12.07 12.04 12.04 11.89
B2O3 3.68 3.94 2.69 2.99 2.99 2.99
MgO 4.46 5.29 5.30 5.45 5.45 5.54
CaO 5.82 5.29 5.78 5.45 5.45 5.54
SrO 1.44 1.83 1.92 1.09 0.00 1.92
BaO 4.20 3.51 3.64 4.36 5.45 3.68
La2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.00 0.25 0.26 0.25 0.25 0.25
Sb2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
ZrO2 0.00 0.00 0.02 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.00 0.00 0.03 0.00 0.00 0.00
MgO+La2O3 4.46 5.29 5.30 5.45 5.45 5.54
Sum(RO+La2/3O)* 15.92 15.92 16.64 16.35 16.35 16.68
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.31 1.31 1.38 1.36 1.36 1.40
변형점 (℃) 698 705 - - - 715
CTE (x10-7/℃) 37.9 37.3 - - - 39.2
밀도 2.602 2.607 - 2.627 2.655 2.631
영률 (Gpa) 79.98 - - - - -
specific modulus 30.7 - - - - -
200 poise T (℃) 1635 1611 1611 - - 1614
액상 온도(℃) 1150 1150 1150 1150 1150 1150
Liquidus phase anor anor cris cris + cels cels anor
액상 점도 3.39E+05 2.56E+05 2.27E+05 - - 2.91E+05
TABLE 1 (계속)
Mol % 29 30 31 32 33 34
SiO 2 68.38 68.38 67.74 68.38 69.53 68.53
Al2O3 12.04 12.04 12.08 12.04 11.95 12.15
B2O3 2.99 2.99 2.99 2.99 3.93 3.69
MgO 5.45 5.45 5.63 5.68 3.12 5.08
CaO 5.45 5.45 5.63 4.98 5.46 5.08
SrO 1.56 1.82 1.95 2.13 2.37 0.00
BaO 3.89 3.63 3.74 3.55 3.39 5.08
La2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25 0.40
Sb2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
ZrO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
MgO+La2O3 5.45 5.45 5.63 5.68 3.12 5.08
Sum(RO+La2/3O) 16.35 16.35 16.95 16.34 14.34 15.24
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.36 1.36 1.40 1.36 1.20 1.25
변형점 (℃) - - 715 - 717 703
CTE (x10-7/℃) - - 39.2 - 38 38
밀도 2.620 2.628 2.636 2.617 2.595 2.620
영률 (Gpa) - - - - - -
specific modulus - - - - - -
200 poise T (℃) - - 1609 - 1664 -
액상 온도(℃) 1155 1155 1155 1155 1160 1160
Liquidus phase cels anor anor anor anor cels
액상 점도 - - 2.37E+05 - 3.68E+05 -
TABLE 1 (계속)
Mol % 35 36 37 38 39 40
SiO 2 68.70 68.38 67.53 67.53 67.86 68.38
Al2O3 12.20 12.04 11.77 11.77 12.23 12.04
B2O3 2.89 2.99 3.89 3.89 2.73 2.99
MgO 5.16 5.45 5.49 5.99 5.98 6.02
CaO 5.83 5.45 5.49 4.49 5.24 4.29
SrO 1.46 1.82 3.09 1.90 1.95 2.58
BaO 3.76 3.63 2.49 4.19 3.69 3.44
La2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.00 0.25 0.25 0.25 0.26 0.25
Sb2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
ZrO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.02 0.00
SnO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.03 0.00
MgO+La2O3 5.16 5.45 5.49 5.99 5.98 6.02
Sum(RO+La2/3O) 16.21 16.35 16.56 16.57 16.86 16.33
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.33 1.36 1.41 1.41 1.38 1.36
변형점(℃) 712 - 707 - - -
CTE (x10-7/℃) 37.9 - 38.7 - - -
밀도 2.607 2.619 2.608 2.630 2.618 2.624
영률 (Gpa) 81.15 - - - - -
specific modulus 31.1 - - - - -
200 poise T (℃) 1629 - 1601 - - -
액상 온도 (℃) 1160 1160 1160 1160 1160 1160
Liquidus phase anor cris anor cels anor cris + anor
액상 점도 2.68E+05 - 1.66E+05 - - -
TABLE 1 (계속)
Mol % 41 42 43 44 45 46
SiO 2 67.53 68.38 67.73 67.27 68.38 68.34
Al2O3 11.77 12.04 12.23 12.27 12.04 12.22
B2O3 3.89 2.99 3.19 2.99 2.99 2.60
MgO 6.48 4.67 5.27 5.72 4.99 5.37
CaO 5.49 5.84 5.89 5.72 5.68 5.85
SrO 0.90 1.17 2.06 1.98 2.12 1.95
BaO 3.69 4.67 3.63 3.81 3.55 3.68
La2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.25 0.25 0.00 0.25 0.25 0.00
Sb2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
ZrO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
MgO+La2O3 6.48 4.67 5.27 5.72 4.99 5.37
Sum(RO+La2/3O) 16.56 16.35 16.85 17.23 16.34 16.85
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.41 1.36 1.38 1.40 1.36 1.38
변형점 (℃) - - 703 719 - 715
CTE (x10-7/℃) - - 37.9 38.6 - 37.9
밀도 2.600 2.642 2.601 2.640 2.623 2.609
영률 (Gpa) - - 81.63 - - 82.12
specific modulus - - 31.4 - - 31.5
200 poise T (℃) - - 1618 1603 - 1626
액상 온도 (℃) 1160 1165 1165 1165 1170 1170
Liquidus phase cels anor anor anor cris anor
액상 점도 - - 2.00E+05 1.70E+05 - 2.12E+05
TABLE 1 (계속)
Mol % 47 48 49 50 51 52
SiO 2 67.53 67.53 67.53 68.38 67.97 68.38
Al2O3 11.77 11.77 11.77 12.04 12.23 12.04
B2O3 3.89 3.89 3.89 2.99 2.90 2.99
MgO 5.49 6.48 6.48 5.84 5.30 6.52
CaO 5.49 4.49 5.49 4.67 5.89 3.27
SrO 4.29 1.90 0.00 1.17 2.04 3.27
BaO 1.30 3.69 4.59 4.67 3.67 3.27
La2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.25 0.25 0.25 0.25 0.00 0.25
Sb2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
ZrO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
MgO+La2O3 5.49 6.48 6.48 5.84 5.30 6.52
Sum(RO+La2/3O) 16.57 16.56 16.56 16.35 16.90 16.33
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.41 1.41 1.41 1.36 1.38 1.36
변형점 (℃) 704 - - - 713 -
CTE (x10-7/℃) 38.7 - - - 37.9 -
밀도 2.594 2.621 2.614 2.634 2.606 2.625
영률 (Gpa) - - - - 82.05 -
specific modulus - - - - 31.5 -
200 poise T (℃) 1588 - - - 1628 -
액상 온도 (℃) 1170 1170 1170 1175 1180 1180
Liquidus phase anor cels cels cels anor cels
액상 점도 1.11E+05 - - - 1.66E+05 -
TABLE 1 (계속)
Mol % 53 54 55 56 57 58
SiO 2 68.76 68.38 68.38 67.53 67.53 68.38
Al2O3 12.26 12.04 12.04 11.77 11.77 12.04
B2O3 2.56 2.99 2.99 3.89 3.89 2.99
MgO 5.35 5.71 6.11 7.38 7.48 6.35
CaO 5.80 4.09 4.09 5.49 3.49 3.63
SrO 1.57 3.27 2.04 0.00 1.90 2.72
BaO 3.70 3.27 4.09 3.69 3.69 3.63
La2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.00 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25
Sb2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
ZrO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
MgO+La2O3 5.35 5.71 6.11 7.38 7.48 6.35
Sum(RO+La2/3O) 16.42 16.34 16.33 16.56 16.56 16.33
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.34 1.36 1.36 1.41 1.41 1.36
변형점 (℃) 714 - - - - -
CTE (x10-7/℃) 37.9 - - - - -
밀도 2.612 2.627 2.625 2.579 2.606 2.627
영률 (Gpa) 81.63 - - - - -
specific modulus 31.3 - - - - -
200 poise T (℃) 1631 - - - - -
액상 온도 (℃) 1185 1190 1190 1190 1190 1195
Liquidus phase anor batch stone with cris + cels cris cris cels cris
액상 점도 1.60E+05 - - - - -
TABLE 1 (계속)
Mol % 59 60 61 62 63 64
SiO 2 68.53 69.53 68.38 68.38 67.63 67.63
Al2O3 12.15 11.95 12.04 12.04 12.15 12.15
B2O3 3.69 3.93 2.99 2.99 3.98 3.98
MgO 6.27 3.12 4.90 4.09 6.87 5.28
CaO 2.99 5.46 4.90 5.71 2.99 5.28
SrO 2.99 3.97 3.27 3.27 2.99 0.00
BaO 2.99 1.80 3.27 3.27 2.99 5.28
La2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.40 0.25 0.25 0.25 0.40 0.40
Sb2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
ZrO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
MgO+La2O3 6.27 3.12 4.90 4.09 6.87 5.28
Sum(RO+La2/3O) 15.24 14.35 16.34 16.34 15.84 15.84
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.25 1.20 1.36 1.36 1.30 1.30
변형점 (℃) 709 721 - - 702 694.5
CTE (x10-7/℃) 36.2 36.9 - - 36.2 38.6
밀도 2.602 2.571 2.640 2.642 2.610 2.638
영률 (Gpa) - - - - - -
specific modulus - - - - - -
200 poise T (℃) - 1648 - - - -
액상 온도 (℃) 1200 1205 1215 1220 1230 1250
Liquidus phase Sr/Al sil anor anor anor SrSi cels
액상 점도 - 1.22E+05 - - - -
TABLE 1 (계속)
Mol % 65 66 67 68 69 70
SiO 2 69.12 69.43 69.43 68.61 69.22 69.41
Al2O3 12.01 11.88 11.87 12.67 12.21 12.46
B2O3 2.01 2.00 2.00 2.23 2.00 2.00
MgO 5.61 5.55 5.95 5.25 5.42 5.22
CaO 5.61 5.55 4.76 5.59 5.42 5.22
SrO 1.59 0.00 1.19 1.50 1.53 1.48
BaO 4.01 5.55 4.76 3.59 3.73 3.73
La2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
Sb2O3 0.00 0.00 0.00 0.48 0.40 0.40
ZrO2 0.02 0.02 0.02 0.00 0.00 0.02
SnO2 0.02 0.02 0.02 0.08 0.07 0.07
MgO+La2O3 5.61 5.55 5.95 5.25 5.42 5.22
Sum(RO+La2/3O) 16.82 16.65 16.66 15.93 16.10 15.65
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.40 1.40 1.40 1.26 1.32 1.26
변형점 (℃) 733 736 736 728 727 730
CTE (x10-7/℃) 38.9 38.5 38.0 37.0 37.9 36.8
밀도 2.630 2.640 2.643 2.637 2.640 2.635
영률 (Gpa) - - - 81.4 81.4 81.4
specific modulus - - - 30.9 30.8 30.9
200 poise T (℃) 1633 1657 1652 1639 1644 1649
액상 온도 (℃) 1155 1160 1155 1185 1170 1180
Liquidus phase cels cels cels cels cels cels
액상 점도 2.60E+05 3.50E+05 4.29E+05 1.98E+05 2.87E+05 2.63E+05
TABLE 1 (계속)
Mol % 71 72 73 74 75 76
SiO 2 69.38 69.47 69.37 69.77 69.85 69.85
Al2O3 12.44 12.55 13.07 12.87 12.83 12.88
B2O3 1.99 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00
MgO 5.21 5.05 5.24 4.93 4.93 4.93
CaO 5.21 5.22 4.81 4.93 4.93 4.93
SrO 1.48 1.47 0.75 1.64 1.40 1.62
BaO 3.72 3.68 4.20 3.30 3.50 3.30
La2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
Sb2O3 0.48 0.47 0.47 0.47 0.47 0.40
ZrO2 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02
SnO2 0.07 0.07 0.07 0.07 0.07 0.07
MgO+La2O3 5.21 5.05 5.24 4.93 4.93 4.93
Sum(RO+La2/3O) 15.62 15.42 15.00 14.80 14.76 14.78
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.26 1.23 1.15 1.15 1.15 1.15
변형점 (℃) 731 729 734 734 738 739
CTE (x10-7/℃) 37.2 37.3 35.8 36.0 36.1 36.0
밀도 2.638 2.635 2.642 2.619 2.620 2.615
영률 (Gpa) 80.7 - - - - -
specific modulus 30.6 - - - - -
200 poise T (℃) 1652 1643 1648 1653 1652 1659
액상 온도 (℃) 1170 1180 1220 1195 1195 1200
Liquidus phase cels cels cels cels cels cels
액상 점도 2.81E+05 2.47E+05 1.09E+05 1.98E+05 2.04E+05 1.99E+05
TABLE 1 (계속)
Mol % 77 78 79 80 81 82
SiO 2 70.02 70.61 69.72 69.57 69.39 69.79
Al2O3 12.86 12.59 12.50 12.36 12.22 12.37
B2O3 1.75 1.75 1.93 1.93 1.93 1.70
MgO 4.94 4.83 4.89 4.99 5.09 4.99
CaO 4.94 4.83 5.22 5.32 5.43 5.32
SrO 1.40 1.38 1.46 1.49 1.52 1.49
BaO 3.53 3.45 3.71 3.78 3.86 3.78
La2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
Sb2O3 0.47 0.47 0.49 0.48 0.48 0.48
ZrO2 0.02 0.02 0.01 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.07 0.07 0.07 0.08 0.08 0.08
MgO+La2O3 4.94 4.83 4.89 4.99 5.09 4.99
Sum(RO+La2/3O) 14.81 14.49 15.28 15.58 15.90 15.58
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.15 1.15 1.22 1.26 1.30 1.26
변형점 (℃) 735 738 732 721 721 723
CTE (x10-7/℃) 37.7 35.9 37.2 37.7 39 38.2
밀도 2.626 2.615 2.638 2.650 2.648 2.652
영률 (Gpa) - 81.4 - - - -
specific modulus - 31.1 - - - -
200 poise T (℃) 1651 1661 1661 - - -
액상 온도 (℃) 1200 1185 1170 1170 1165 1180
Liquidus phase cels Cels cels cels cels cels
액상 점도 1.81E+05 2.67E+05 2.80E+05 - - -
TABLE 1 (계속)
Mol % 83 84 85 86 87 88
SiO 2 69.62 70.01 69.84 69.36 69.58 69.81
Al2O3 12.22 12.27 12.12 12.05 12.06 12.07
B2O3 1.70 1.70 1.70 1.75 1.50 1.25
MgO 5.09 4.95 5.05 5.35 5.33 5.32
CaO 5.43 5.28 5.39 5.54 5.56 5.58
SrO 1.52 1.48 1.51 1.51 1.51 1.50
BaO 3.86 3.75 3.83 3.96 3.98 3.99
La2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
As2O3 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
Sb2O3 0.48 0.48 0.48 0.39 0.39 0.39
ZrO2 0.00 0.00 0.00 0.02 0.02 0.02
SnO2 0.08 0.08 0.08 0.07 0.07 0.07
MgO+La2O3 5.09 4.95 5.05 5.35 5.33 5.32
Sum(RO+La2/3O) 15.90 15.46 15.78 16.36 16.38 16.39
Sum(RO+La2/3O)/Al2O3 1.30 1.26 1.30 1.36 1.36 1.36
변형점 (℃) 726 728 725 - - -
CTE (x10-7/℃) 38.1 37.7 36.9 - - -
밀도 2.648 2.634 2.633 - - -
영률 (Gpa) - - - - - -
specific modulus - - - - - -
200 poise T (℃) - - - - - -
액상 온도 (℃) 1175 1170 1160 - - -
Liquidus phase cels Cels cels - - -
액상 점도 - - - - - -
TABLE 2
Glass A Glass B Glass C
변형점 716℃ 725℃ 667℃
Time (min) 압 축 (ppm)
0 0 0 0
5 -12 -16 -43
10 -20 -23 -74
15 -26 -31 -91
30 -40 -45 -137
60 -61 -62 -202
120 -94 -87 -270
180 -110 -108 측정안됨
240 -128 -125 -359
300 -144 -141 -383

Claims (20)

  1. 산화물을 기초로 다음의 몰%를 포함하는 무알칼리 유리로서,
    SiO2 64.0-72.0
    Al2O3 9.0-16.0
    B2O3 1.0-5.0
    MgO+La2O3 1.0-7.5
    CaO 2.0-7.5
    SrO 0.0-4.5
    BaO 1.0-7.0
    ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≥1.15이며, Al2O3, MgO, CaO, SrO, BaO 및 La2O3 는 각각의 산화물 구성성분의 몰%를 나타내는 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
  2. 제1항에 있어서, 상기 유리는
    SiO2 65.0-72.0
    Al2O3 10.0-15.0
    B2O3 1.0-4.0
    MgO 2.0-7.5
    CaO 3.0-6.0
    SrO 0.0-4.5
    BaO 1.0-6.0
    La2O3 0.0
    인 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
  3. 제1항에 있어서, 상기 유리는 1.20≤∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≤1.45 인 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
  4. 제1항에 있어서, 상기 유리는 다음의 식을 만족하는 변형점(strain point)을 갖는 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
    700℃≤ 변형점 ≤730℃
  5. 제1항에 있어서, 상기 유리는 600℃에서 5분의 열처리 동안 30ppm 이하의 치수변화를 나타내는 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
  6. 제1항에 있어서, 상기 유리는
    (a) SiO2는 66.5-70.5 몰%; 및/또는
    (b) B2O3는 1.0-4.0 몰%; 및/또는
    (c) MgO는 2.0-6.0 몰%; 및/또는
    (d) CaO는 2.0-6.5 몰%
    인 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
  7. 제1항에 있어서, 상기 유리는
    (a) ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≤1.55;
    (b) 상기 유리는 700℃ 이상의 변형점을 갖고;
    (c) 상기 유리는 200 포이즈 점도가 1,665℃ 이하의 온도를 가지며;
    (d) 상기 유리는 액상 온도(liquidus temperature)에서 85,000 포이즈 이상의 점도를 갖는 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
  8. 제1항에 있어서, 상기 유리는 다음의 특성 중 하나 이상을 갖는 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
    (a) ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≥1.25; 및/또는
    (b) ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≤1.55; 및/또는
    (c) 1.25 ≤∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≤1.45.
  9. 제1항에 있어서, 상기 유리는 다음의 특성 중 하나 이상을 갖는 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
    (a) 100,000 포이즈 이상의 액상점도; 및/또는
    (b) 0-300℃ 온도 범위에서 28×10-7/℃≤CTE≤40×10-7℃ 인 선형 열팽창계수(CTE); 및/또는
    (c) 710℃ 이상의 변형점; 및/또는
    (d) 30.0GPa·cm3/g이상의 영률/밀도 비율; 및/또는
    (e) 실질적으로 As2O3가 없는 유리; 및/또는
    (f) 실질적으로 As2O3 및 Sb2O3가 없는 유리.
  10. 산화물을 기초로 다음의 몰%로 구성되는 무알칼리 유리로서,
    SiO2 64.0-71.0
    Al2O3 9.0-16.0
    B2O3 1.5-4.0
    MgO+La2O3 0.5-7.5
    CaO 2.0-6.0
    SrO 0.0-4.5
    BaO 1.0-7.0
    La2O3 > 0.0 및 4.0 이하
    ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≥1.2이며, 여기서 Al2O3, MgO, CaO, SrO, BaO 및 La2O3 는 각각의 산화물 구성성분의 몰%를 나타내는 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
  11. SrO, BaO 중 적어도 하나 및 SiO2, Al2O3, B2O3, MgO, CaO 를 포함하는 무알칼리 유리로서, 상기 유리 조성물이 다음의 관계식을 만족하며, 여기서, [MgO],[CaO] 및 [SrO+BaO]는 산화물을 기초로, 유리의 상기 구성성분의 농도를 몰%로 나타낸 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
    [MgO]:[CaO]:[SrO+BaO]= 1±0.15 : 1±0.15 : 1±0.15
  12. 제11항에 있어서, 상기 유리 조성물이 다음의 관계식을 만족하는 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
    [MgO]:[CaO]:[SrO+BaO]= 1±0.1 : 1±0.1 : 1±0.1
  13. 제11항에 있어서, B2O3는 4.0 몰% 이하인 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
  14. 제 11항에 있어서, BaO/SrO 몰% 비율은 2.0 이상인 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리.
  15. 시트를 조성하는 유리가 SiO2, Al2O3, B2O3, MgO, CaO 및 BaO를 포함하도록, batch 물질의 선택, 용융, 정련(fining)을 포함하는 다운드로우(downdraw) 과정에 의한 무알칼리 유리 시트 제작방법으로서, 상기 유리는 산화물을 기초로
    (ⅰ) MgO 함량이 2.0 몰% 이상;
    (ⅱ) CaO 함량이 3.0 몰% 이상; 및
    (ⅲ) BaO 함량이 1.0 몰% 이상을 포함하고,
    여기서
    (a) 상기 유리는 ∑(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3)가 1.15 이상이며, 여기서, Al2O3, MgO, CaO, SrO 및 BaO는 각각의 산화물 구성성분의 몰%를 나타내고,
    (b) 정련(fining)은 실질적인 비소의 사용 없이 수행되며;
    (c) 용융되고 정련(fining)된 배치(batch)물질로부터 다운 드로우 공정에 의해 생산되는 연속 50개의 유리 시트 모집단은 평균 0.10 미만의 기상 함유물/cm3를 가지며, 상기 모집단의 각각의 시트는 적어도 500cm3 부피를 갖는 것을 특징으로 하는 유리 시트 제작 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 다운 드로우 공정은 융합 드로우(fusion draw) 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 무알칼리 유리 시트 제작방법.
  17. 제1항의 유리를 포함하는 액정 디스플레이 기판(liquid crystal display).
  18. 제2항의 유리를 포함하는 액정 디스플레이 기판(liquid crystal display).
  19. 제10항의 유리를 포함하는 액정 디스플레이 기판(liquid crystal display).
  20. 제11항의 유리를 포함하는 액정 디스플레이 기판(liquid crystal display).
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140074245A (ko) * 2011-12-28 2014-06-17 아반스트레이트 가부시키가이샤 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 및 그 제조 방법
KR20140141588A (ko) * 2012-02-28 2014-12-10 코닝 인코포레이티드 고변형점 알루미노실리케이트 유리
KR20150097787A (ko) * 2012-12-21 2015-08-26 코닝 인코포레이티드 개선된 총 피치 안정성을 갖는 유리
KR20150126644A (ko) * 2013-03-14 2015-11-12 코닝 인코포레이티드 연성 유리 및 고분자 복합 구조의 제조 및 절단을 위한 방법 및 장치
KR20170070245A (ko) * 2014-10-31 2017-06-21 코닝 인코포레이티드 치수적으로 안정한 급속 에칭 유리

Families Citing this family (104)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1705160A4 (en) * 2003-12-26 2009-05-06 Asahi Glass Co Ltd GLASS NOT COMPRISING ALKALI, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL
US7851394B2 (en) * 2005-06-28 2010-12-14 Corning Incorporated Fining of boroalumino silicate glasses
KR101290866B1 (ko) 2005-08-17 2013-07-29 코닝 인코포레이티드 고변형점 유리
US7833919B2 (en) * 2006-02-10 2010-11-16 Corning Incorporated Glass compositions having high thermal and chemical stability and methods of making thereof
JP5088670B2 (ja) * 2006-04-11 2012-12-05 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ用ガラス基板
JP5327702B2 (ja) * 2008-01-21 2013-10-30 日本電気硝子株式会社 ガラス基板の製造方法
EP2252557A4 (en) * 2008-02-05 2013-07-03 Corning Inc DAMAGE-RESISTANT GLASS ARTICLE FOR USE AS A GLASS COVER IN ELECTRONIC DEVICES
WO2009108285A2 (en) 2008-02-26 2009-09-03 Corning Incorporated Fining agents for silicate glasses
US8187715B2 (en) * 2008-05-13 2012-05-29 Corning Incorporated Rare-earth-containing glass material and substrate and device comprising such substrate
RU2010154445A (ru) * 2008-05-30 2012-07-10 Фостер Вилер Энергия Ой (Fi) Способ и система для генерации энергии путем сжигания в чистом кислороде
EP2323957B1 (en) 2008-08-08 2014-12-17 Corning Incorporated Strengthened glass articles and methods of making
JP5691148B2 (ja) * 2008-10-01 2015-04-01 日本電気硝子株式会社 ガラスロール、ガラスロールの製造装置、及びガラスロールの製造方法
US8975199B2 (en) * 2011-08-12 2015-03-10 Corsam Technologies Llc Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass
US8713967B2 (en) * 2008-11-21 2014-05-06 Corning Incorporated Stable glass sheet and method for making same
CN102471134B (zh) * 2009-07-02 2015-04-15 旭硝子株式会社 无碱玻璃及其制造方法
JP5267436B2 (ja) * 2009-11-20 2013-08-21 旭硝子株式会社 情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク
JP5704395B2 (ja) * 2010-03-29 2015-04-22 日本電気硝子株式会社 ガラスロール梱包体
MY177073A (en) * 2010-04-27 2020-09-04 Agc Inc Method for producing magnetic disk, and glass substrate for information recording medium
JP5751439B2 (ja) * 2010-08-17 2015-07-22 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
TWI478889B (zh) * 2010-10-06 2015-04-01 Corning Inc 具有高熱與化學穩定性的無鹼玻璃組合物
JP5874316B2 (ja) * 2010-10-27 2016-03-02 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
JP5812242B2 (ja) * 2010-12-08 2015-11-11 日本電気硝子株式会社 高屈折率ガラス
KR101927555B1 (ko) 2011-01-25 2018-12-10 코닝 인코포레이티드 높은 열적 및 화학적 안정성을 갖는 유리 조성물
JP5831838B2 (ja) * 2011-03-08 2015-12-09 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
US8785336B2 (en) * 2011-03-14 2014-07-22 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass
JP5935471B2 (ja) * 2011-04-25 2016-06-15 日本電気硝子株式会社 液晶レンズ
US8999871B2 (en) * 2011-05-25 2015-04-07 Nippon Electric Glass Co., Ltd. High refractive index glass
JPWO2013005402A1 (ja) * 2011-07-01 2015-02-23 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 フラットパネルディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
US10350139B2 (en) 2011-10-25 2019-07-16 Corning Incorporated Pharmaceutical glass packaging assuring pharmaceutical sterility
EP4234502A3 (en) 2011-10-25 2023-10-11 Corning Incorporated Glass compositions with improved chemical and mechanical durability
AU2012328981B2 (en) 2011-10-25 2016-07-07 Corning Incorporated Alkaline earth alumino-silicate glass compositions with improved chemical and mechanical durability
US9517966B2 (en) 2011-10-25 2016-12-13 Corning Incorporated Glass compositions with improved chemical and mechanical durability
US9241869B2 (en) 2011-10-25 2016-01-26 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
EP3032301B1 (en) * 2011-11-14 2019-11-20 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical fiber
JP6202297B2 (ja) * 2011-12-29 2017-09-27 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
WO2013161902A1 (ja) 2012-04-27 2013-10-31 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよびその製造方法
US10273048B2 (en) 2012-06-07 2019-04-30 Corning Incorporated Delamination resistant glass containers with heat-tolerant coatings
US9505650B2 (en) 2012-12-05 2016-11-29 Asahi Glass Company, Limited Non-alkali glass substrate
CN102976587A (zh) * 2012-12-22 2013-03-20 蚌埠玻璃工业设计研究院 一种铝硅酸盐玻璃液的澄清方法
JP5914453B2 (ja) * 2012-12-28 2016-05-11 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
WO2014127108A1 (en) 2013-02-15 2014-08-21 Corning Incorporated High volume production of display quality glass sheets having low zirconia levels
US9150448B2 (en) * 2013-03-14 2015-10-06 Corning Incorporated Dimensionally-stable, damage-resistant, glass sheets
US9707153B2 (en) 2013-04-24 2017-07-18 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9717649B2 (en) 2013-04-24 2017-08-01 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9707155B2 (en) 2013-04-24 2017-07-18 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9717648B2 (en) 2013-04-24 2017-08-01 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9713572B2 (en) 2013-04-24 2017-07-25 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9849066B2 (en) 2013-04-24 2017-12-26 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9603775B2 (en) 2013-04-24 2017-03-28 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9700486B2 (en) 2013-04-24 2017-07-11 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9839579B2 (en) 2013-04-24 2017-12-12 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9707154B2 (en) 2013-04-24 2017-07-18 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9700485B2 (en) 2013-04-24 2017-07-11 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
CN104150767B (zh) * 2013-08-27 2016-09-14 东旭集团有限公司 碱土铝硅酸盐玻璃基板的组成
JP6256744B2 (ja) * 2013-10-17 2018-01-10 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス板
CN105992749B (zh) * 2013-11-28 2020-11-03 Ａｇｃ株式会社 无碱玻璃基板及无碱玻璃基板的减薄方法
JP2017530383A (ja) 2014-07-30 2017-10-12 コーニング インコーポレイテッド 高コントラストの、ガラスに基づく書込み可能／消去可能な前面投影スクリーン
JP6575223B2 (ja) 2014-08-27 2019-09-18 Ａｇｃ株式会社 無アルカリガラス
TWI702196B (zh) * 2014-10-23 2020-08-21 日商Ａｇｃ股份有限公司 無鹼玻璃
JP5988059B2 (ja) * 2014-11-06 2016-09-07 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
KR20230148860A (ko) * 2014-11-28 2023-10-25 에이지씨 가부시키가이샤 액정 디스플레이 패널
KR20170093922A (ko) * 2014-12-08 2017-08-16 코닝 인코포레이티드 낮은 압축을 갖는 적층 유리 제품 및 이를 형성하는 방법
GB201505096D0 (en) * 2015-03-26 2015-05-06 Pilkington Group Ltd Glass
TWI706923B (zh) * 2015-04-03 2020-10-11 日商日本電氣硝子股份有限公司 玻璃
CN107207322A (zh) * 2015-04-03 2017-09-26 日本电气硝子株式会社 玻璃
CN107709257A (zh) * 2015-06-30 2018-02-16 安瀚视特控股株式会社 显示器用玻璃基板及其制造方法
CN109133615B (zh) * 2015-06-30 2022-05-10 安瀚视特控股株式会社 显示器用玻璃基板及其制造方法
CN114538771A (zh) * 2015-07-03 2022-05-27 Ａｇｃ株式会社 载体基板、层叠体、电子器件的制造方法
DE202016008722U1 (de) * 2015-12-11 2019-03-21 Corning Incorporated Durch Fusion bildbare glasbasierte Artikel mit einem Metalloxidkonzentrationsgradienten
JP6172481B2 (ja) * 2015-12-25 2017-08-02 日本電気硝子株式会社 ガラス基板及びその製造方法
CN105601105B (zh) * 2015-12-30 2018-09-07 芜湖东旭光电装备技术有限公司 一种玻璃用组合物、低脆性无碱玻璃及其制备方法和应用
CN105645762B (zh) * 2016-03-03 2018-06-29 郑州旭飞光电科技有限公司 一种无碱玻璃及其在平板显示器基板中的应用
JP6315011B2 (ja) 2016-03-15 2018-04-25 旭硝子株式会社 無アルカリガラス基板、および無アルカリガラス基板の製造方法
WO2018053078A1 (en) * 2016-09-16 2018-03-22 Corning Incorporated High transmission glasses with alkaline earth oxides as a modifier
CN109890771B (zh) * 2016-11-02 2022-03-22 Ａｇｃ株式会社 无碱玻璃及其制造方法
WO2018116731A1 (ja) * 2016-12-19 2018-06-28 日本電気硝子株式会社 ガラス
JP6983377B2 (ja) 2016-12-19 2021-12-17 日本電気硝子株式会社 ガラス
CN109843817B (zh) * 2016-12-20 2021-11-02 日本电气硝子株式会社 玻璃
KR20230165866A (ko) 2016-12-28 2023-12-05 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 유리
TWI766041B (zh) * 2017-06-14 2022-06-01 美商康寧公司 控制壓實的方法
CN107555764B (zh) * 2017-09-22 2021-08-06 中国建材国际工程集团有限公司 一种玻璃配合料的制备方法
NL2020896B1 (en) 2018-05-08 2019-11-14 Corning Inc Water-containing glass-based articles with high indentation cracking threshold
JP6787872B2 (ja) * 2017-11-28 2020-11-18 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス板
JP6631942B2 (ja) * 2017-11-28 2020-01-15 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス板
WO2019108808A2 (en) 2017-11-29 2019-06-06 Corning Incorporated Highly loaded inorganic filled aqueous resin systems
JP7418947B2 (ja) * 2018-01-31 2024-01-22 日本電気硝子株式会社 ガラス
US11912860B2 (en) 2018-03-29 2024-02-27 Corning Incorporated Highly loaded inorganic filled organic resin systems
WO2019245753A1 (en) 2018-06-18 2019-12-26 Corning Incorporated Methods of additive manufacturing for glass structures
CN112384484A (zh) 2018-06-19 2021-02-19 康宁公司 高应变点且高杨氏模量玻璃
US20210347679A1 (en) * 2018-09-25 2021-11-11 Corning Incorporated Dimensionally stable glasses
KR20210057198A (ko) * 2018-10-09 2021-05-20 코닝 인코포레이티드 베기 워프 불량을 방지하기 위한 조성물들 및 방법들
JP7389400B2 (ja) * 2018-10-15 2023-11-30 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス板
TW202026257A (zh) 2018-11-16 2020-07-16 美商康寧公司 用於透過蒸氣處理而強化之玻璃成分及方法
WO2020102147A2 (en) 2018-11-16 2020-05-22 Corning Incorporated Laminated glass articles comprising a hydrogen-containing glass core layer and methods of forming the same
MX2021005461A (es) 2018-11-26 2021-06-18 Owens Corning Intellectual Capital Llc Composicion de fibra de vidrio de alto rendimiento con modulo de elasticidad mejorado.
US11524918B2 (en) 2018-11-26 2022-12-13 Owens Corning Intellectual Capital, Llc High performance fiberglass composition with improved specific modulus
EP3969424A1 (en) 2019-05-16 2022-03-23 Corning Incorporated Glass compositions and methods with steam treatment haze resistance
DE102019129036A1 (de) * 2019-10-28 2021-04-29 Schott Ag Verfahren zur Herstellung von Glasscheiben und verfahrensgemäß hergestellte Glasscheibe sowie deren Verwendung
GB202012825D0 (en) 2020-05-12 2020-09-30 Corning Inc Fusion formable and steam strengthenable glass compositions with platinum compatibility
CN112129325A (zh) * 2020-08-13 2020-12-25 苏州中科寰宇智能科技有限公司 用于旋转编码器的高强度、高热稳定性玻璃码盘
DE102021108658A1 (de) * 2021-04-07 2022-10-13 Schott Ag Vorspannbarer Glasartikel mit negativem relativen thermischen Längenänderungspotential
CN113845302A (zh) * 2021-08-05 2021-12-28 河北光兴半导体技术有限公司 玻璃用组合物、铝硅酸盐玻璃及其制备方法和应用、玻璃保护盖片及其应用
CN113582539B (zh) * 2021-08-30 2023-06-16 郑州大学 一种铝硅酸盐玻璃和应用
CN115872617A (zh) * 2021-09-29 2023-03-31 成都光明光电股份有限公司 玻璃组合物

Family Cites Families (87)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB479173A (en) 1935-09-24 1938-01-31 Corning Glass Works Improvements in tempered glass articles
NL257758A (ko) * 1958-12-02
US3338696A (en) * 1964-05-06 1967-08-29 Corning Glass Works Sheet forming apparatus
BE757057A (fr) * 1969-10-06 1971-04-05 Corning Glass Works Procede et appareil de controle d'epaisseur d'une feuille de verre nouvellement etiree
SU833600A1 (ru) 1978-11-02 1981-05-30 Предприятие П/Я Х-5382 Стекло
JPS603023B2 (ja) 1980-07-14 1985-01-25 東芝硝子株式会社 熱線吸収硬質硝子
US4394453A (en) * 1981-09-08 1983-07-19 Corning Glass Works Envelopes for tungsten-halogen lamps
US4554259A (en) * 1984-05-08 1985-11-19 Schott Glass Technologies, Inc. Low expansion, alkali-free borosilicate glass suitable for photomask applications
SU1217804A1 (ru) 1984-11-11 1986-03-15 Государственный Ордена Трудового Красного Знамени Научно-Исследовательский Институт Стекла Стекло
JPS61295256A (ja) 1985-06-21 1986-12-26 Ohara Inc 基板用ガラス
US4666869A (en) * 1985-10-23 1987-05-19 Corning Glass Works Barium and/or strontium aluminosilicate crystal-containing glasses for flat panel display devices
US4666868A (en) * 1985-10-23 1987-05-19 Corning Glass Works Strontium aluminosilicate glass substrates for flat panel display devices
US4634684A (en) * 1985-10-23 1987-01-06 Corning Glass Works Strontium aluminosilicate glass substrates for flat panel display devices
US4634683A (en) * 1985-10-23 1987-01-06 Corning Glass Works Barium and/or strontium aluminosilicate crystal-containing glasses for flat panel display devices
JPS6374935A (ja) * 1986-09-17 1988-04-05 Nippon Electric Glass Co Ltd 耐薬品性に優れたガラス基板
JP2644622B2 (ja) 1990-10-24 1997-08-25 ホーヤ株式会社 液晶ディスプレイ基板用ガラス
JP2871163B2 (ja) 1991-04-26 1999-03-17 日本板硝子株式会社 無アルカリガラス
US5116789A (en) * 1991-08-12 1992-05-26 Corning Incorporated Strontium aluminosilicate glasses for flat panel displays
US5116788A (en) * 1991-08-12 1992-05-26 Corning Incorporated Alkaline earth aluminoborosilicate glasses for flat panel displays
US5116787A (en) * 1991-08-12 1992-05-26 Corning Incorporated High alumina, alkaline earth borosilicate glasses for flat panel displays
GB9204537D0 (en) * 1992-03-03 1992-04-15 Pilkington Plc Alkali-free glass compositions
FR2692883B1 (fr) * 1992-06-25 1994-12-02 Saint Gobain Vitrage Int Verres thermiquement stables et chimiquement résistants.
US5374595A (en) * 1993-01-22 1994-12-20 Corning Incorporated High liquidus viscosity glasses for flat panel displays
US5326730A (en) * 1993-01-22 1994-07-05 Corning Incorporated Barium aluminosilicate glasses
US5508237A (en) * 1994-03-14 1996-04-16 Corning Incorporated Flat panel display
US5489558A (en) * 1994-03-14 1996-02-06 Corning Incorporated Glasses for flat panel display
DE69508706T2 (de) 1994-11-30 1999-12-02 Asahi Glass Co Ltd Alkalifreies Glas und Flachbildschirm
JP2719504B2 (ja) 1995-02-27 1998-02-25 ホーヤ株式会社 液晶ディスプレイ基板用ガラス
US5741746A (en) * 1995-03-02 1998-04-21 Kohli; Jeffrey T. Glasses for display panels
JP3666610B2 (ja) * 1995-08-02 2005-06-29 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
US5811361A (en) * 1995-09-28 1998-09-22 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass substrate
WO1997011920A1 (fr) 1995-09-28 1997-04-03 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Substrat de verre exempt d'alcalis
JPH09110460A (ja) 1995-10-18 1997-04-28 Central Glass Co Ltd 無アルカリガラス
JP3858293B2 (ja) 1995-12-11 2006-12-13 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
DE19601922C2 (de) 1996-01-13 2001-05-17 Schott Glas Zinn- und zirkonoxidhaltige, alkalifreie Erdalkali-Alumo-Borosilicatgläser und deren Verwendung
DE19603698C1 (de) * 1996-02-02 1997-08-28 Schott Glaswerke Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
JP3800657B2 (ja) 1996-03-28 2006-07-26 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよびフラットディスプレイパネル
JP3988209B2 (ja) 1996-06-03 2007-10-10 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル
JP3800438B2 (ja) 1996-07-09 2006-07-26 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
US5824127A (en) * 1996-07-19 1998-10-20 Corning Incorporated Arsenic-free glasses
JP3804112B2 (ja) * 1996-07-29 2006-08-02 旭硝子株式会社 無アルカリガラス、無アルカリガラスの製造方法およびフラットディスプレイパネル
JP3897194B2 (ja) 1997-07-24 2007-03-22 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
US6508083B1 (en) 1996-08-21 2003-01-21 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass and method for producing the same
JP3861272B2 (ja) 1996-12-18 2006-12-20 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3861271B2 (ja) 1996-08-21 2006-12-20 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3800443B2 (ja) 1996-10-22 2006-07-26 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ用無アルカリガラス基板及びその製造方法
US5785726A (en) * 1996-10-28 1998-07-28 Corning Incorporated Method of reducing bubbles at the vessel/glass interface in a glass manufacturing system
JPH10139467A (ja) 1996-11-12 1998-05-26 Asahi Glass Co Ltd 無アルカリガラス及びフラットディスプレイパネル
US6060168A (en) * 1996-12-17 2000-05-09 Corning Incorporated Glasses for display panels and photovoltaic devices
JP4739468B2 (ja) 1997-05-20 2011-08-03 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよびその清澄方法
DE19739912C1 (de) * 1997-09-11 1998-12-10 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
JPH11292563A (ja) 1998-04-03 1999-10-26 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス基板
JP2000044278A (ja) * 1998-05-20 2000-02-15 Nippon Electric Glass Co Ltd ディスプレイ用ガラス基板
US6468933B1 (en) * 1998-09-22 2002-10-22 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass and method of producing the same
JP4547093B2 (ja) * 1998-11-30 2010-09-22 コーニング インコーポレイテッド フラットパネルディスプレイ用ガラス
DE19916296C1 (de) * 1999-04-12 2001-01-18 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
EP1065177A1 (en) 1999-07-02 2001-01-03 Corning Incorporated Glass for tungsten-halogen lamp envelope
US6537937B1 (en) * 1999-08-03 2003-03-25 Asahi Glass Company, Limited Alkali-free glass
JP4576680B2 (ja) * 1999-08-03 2010-11-10 旭硝子株式会社 無アルカリガラス
DE19939789A1 (de) * 1999-08-21 2001-02-22 Schott Glas Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und deren Verwendungen
DE19942259C1 (de) * 1999-09-04 2001-05-17 Schott Glas Erdalkalialuminoborosilicatglas und dessen Verwendungen
JP4534282B2 (ja) 1999-12-14 2010-09-01 旭硝子株式会社 液晶ディスプレイ基板用ガラス
DE10000838B4 (de) * 2000-01-12 2005-03-17 Schott Ag Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen
DE10005088C1 (de) 2000-02-04 2001-03-15 Schott Glas Alkalihaltiges Aluminoborosilicatglas und seine Verwendung
JP2001261366A (ja) 2000-03-22 2001-09-26 Nippon Electric Glass Co Ltd 液晶ディスプレイ用ガラス基板及び液晶ディスプレイ
US6949485B2 (en) * 2000-06-01 2005-09-27 Asabi Glass Company, Limited Glass for substrate and glass substrate
JP2002003240A (ja) 2000-06-19 2002-01-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 液晶ディスプレイ用ガラス基板
DE10034985C1 (de) 2000-07-19 2001-09-06 Schott Glas Verfahren zur Herstellung von Aluminosilicatgläsern, Aluminosilicatgläser sowie deren Verwendungen
JP2002193636A (ja) * 2000-12-25 2002-07-10 Nippon Sheet Glass Co Ltd 無アルカリガラスとその製造方法をそれを用いて得られるフラットディスプレーパネル
CN1283574C (zh) * 2002-03-14 2006-11-08 碧悠国际光电股份有限公司 平面显示器用的基板玻璃
DE10214449B4 (de) * 2002-03-30 2005-03-24 Schott Ag Verfahren zur Herstellung von alkalifreien Aluminosilicatgläsern
US6992030B2 (en) 2002-08-29 2006-01-31 Corning Incorporated Low-density glass for flat panel display substrates
JP4305817B2 (ja) * 2002-12-11 2009-07-29 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
WO2004087597A1 (ja) * 2003-03-31 2004-10-14 Asahi Glass Company Limited 無アルカリガラス
JP2005053712A (ja) * 2003-08-04 2005-03-03 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス
JP4941872B2 (ja) * 2003-09-02 2012-05-30 日本電気硝子株式会社 液晶ディスプレイ用透明無アルカリガラス基板
EP1705160A4 (en) * 2003-12-26 2009-05-06 Asahi Glass Co Ltd GLASS NOT COMPRISING ALKALI, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL
DE102004007436B4 (de) 2004-02-16 2017-11-16 Schott Ag Verwendung eines B2O3 - freien kristallisationsstabilen Aluminosilikatglases und dessen Herstellung
US20060242996A1 (en) * 2005-04-27 2006-11-02 Gilbert Deangelis System and method for controlling the environment around one or more vessels in a glass manufacturing system
US7851394B2 (en) * 2005-06-28 2010-12-14 Corning Incorporated Fining of boroalumino silicate glasses
US7833919B2 (en) * 2006-02-10 2010-11-16 Corning Incorporated Glass compositions having high thermal and chemical stability and methods of making thereof
US8007913B2 (en) * 2006-02-10 2011-08-30 Corning Incorporated Laminated glass articles and methods of making thereof
US7534734B2 (en) * 2006-11-13 2009-05-19 Corning Incorporated Alkali-free glasses containing iron and tin as fining agents
FR2916198A1 (fr) 2007-05-16 2008-11-21 Saint Gobain Substrats de verre pour ecrans de visualisation
US7709406B2 (en) * 2007-07-31 2010-05-04 Corning Incorporation Glass compositions compatible with downdraw processing and methods of making and using thereof
US8187715B2 (en) * 2008-05-13 2012-05-29 Corning Incorporated Rare-earth-containing glass material and substrate and device comprising such substrate
TWI478889B (zh) * 2010-10-06 2015-04-01 Corning Inc 具有高熱與化學穩定性的無鹼玻璃組合物

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140074245A (ko) * 2011-12-28 2014-06-17 아반스트레이트 가부시키가이샤 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 및 그 제조 방법
KR20160106206A (ko) * 2011-12-28 2016-09-09 아반스트레이트 가부시키가이샤 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 및 그 제조 방법
KR20190020169A (ko) * 2011-12-28 2019-02-27 아반스트레이트 가부시키가이샤 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 및 그 제조 방법
KR20140141588A (ko) * 2012-02-28 2014-12-10 코닝 인코포레이티드 고변형점 알루미노실리케이트 유리
KR20150097787A (ko) * 2012-12-21 2015-08-26 코닝 인코포레이티드 개선된 총 피치 안정성을 갖는 유리
KR20150117299A (ko) * 2012-12-21 2015-10-19 코닝 인코포레이티드 개선된 총 피치 안정성을 갖는 유리
KR20160045938A (ko) * 2012-12-21 2016-04-27 코닝 인코포레이티드 개선된 총 피치 안정성을 갖는 유리
KR20150126644A (ko) * 2013-03-14 2015-11-12 코닝 인코포레이티드 연성 유리 및 고분자 복합 구조의 제조 및 절단을 위한 방법 및 장치
KR20170070245A (ko) * 2014-10-31 2017-06-21 코닝 인코포레이티드 치수적으로 안정한 급속 에칭 유리
KR20220140021A (ko) * 2014-10-31 2022-10-17 코닝 인코포레이티드 치수적으로 안정한 급속 에칭 유리

Also Published As

Publication number Publication date
CN103121796A (zh) 2013-05-29
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US8753993B2 (en) 2014-06-17
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JP2013082626A (ja) 2013-05-09
EP1996525A1 (en) 2008-12-03
JP2016026138A (ja) 2016-02-12
US8763429B2 (en) 2014-07-01
US20070191207A1 (en) 2007-08-16
CN101400614B (zh) 2013-03-27
US10364177B2 (en) 2019-07-30
CN103172259A (zh) 2013-06-26
CN103172259B (zh) 2015-10-21
JP5553511B2 (ja) 2014-07-16
US7833919B2 (en) 2010-11-16
JP2009525942A (ja) 2009-07-16
CN101400614A (zh) 2009-04-01
EP1996525B1 (en) 2019-05-22

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