KR20070093893A - 화상 처리 방법 및 화상 처리 장치 - Google Patents

화상 처리 방법 및 화상 처리 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20070093893A
KR20070093893A KR1020070024987A KR20070024987A KR20070093893A KR 20070093893 A KR20070093893 A KR 20070093893A KR 1020070024987 A KR1020070024987 A KR 1020070024987A KR 20070024987 A KR20070024987 A KR 20070024987A KR 20070093893 A KR20070093893 A KR 20070093893A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
image
laser light
recording medium
laser
thermally reversible
Prior art date
Application number
KR1020070024987A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100929352B1 (ko
Inventor
신야 가와하라
도모미 이시미
요시히코 홋타
Original Assignee
가부시키가이샤 리코
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 리코 filed Critical 가부시키가이샤 리코
Publication of KR20070093893A publication Critical patent/KR20070093893A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100929352B1 publication Critical patent/KR100929352B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M7/00—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock
    • B41M7/009—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock using thermal means, e.g. infrared radiation, heat
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
    • B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
    • B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/475—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material for heating selectively by radiation or ultrasonic waves
    • B41J2/4753—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material for heating selectively by radiation or ultrasonic waves using thermosensitive substrates, e.g. paper
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
    • B41M5/305—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers with reversible electron-donor electron-acceptor compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Accessory Devices And Overall Control Thereof (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
  • Ultra Sonic Daignosis Equipment (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

화상 기록 단계 및 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, (1) 레이저광을 동일 방향으로 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하거나, (2) 레이저광을 서로 상반되는 방향으로 순차 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하거나, (3) 레이저광을 서로 상반되는 방향으로 순차 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하여, 상기 레이저광의 불연속 조사가, 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사한 때의 종료점으로부터, 다음의 제2 개시점에 레이저광의 조사가 유도되도록 종료점으로부터 제2 개시점까지 레이저광을 조사하지 않는 상태로 주사하거나, 또는 (4) 레이저광을 동일 방향으로 인접부를 계속하여 주사하지 않도록 하여 주사시키고, 또한 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하는 화상 처리 방법을 제공한다.

Description

화상 처리 방법 및 화상 처리 장치{IMAGE PROCESSING METHOD AND IMAGE PROCESSING APPARATUS}
도 1은 종래의 레이저광의 주사 방식을 도시한 도면이다.
도 2는 종래의 레이저광의 주사 방식을 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 레이저광의 주사 방식을 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 레이저광의 다른 주사 방식을 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 레이저광의 다른 주사 방식을 도시한 도면이다.
도 6는 본 발명의 레이저광의 또 다른 주사 방식을 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 레이저광의 또 다른 주사 방식을 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 레이저광의 또 다른 주사 방식을 도시한 도면이다.
도 9는 본 발명의 레이저광의 또 다른 주사 방식을 도시한 도면이다.
도 10a는 본 발명의 화상 처리 방법에 이용되는 레이저광의 진행 방향 직교 단면의 광 강도 분포에 있어서의 「중심부」 및 「주변부」의 광 조사 강도의 일례를 도시하는 개략 설명도이다.
도 10b은 본 발명의 화상 처리 방법에 이용되는 레이저광의 진행 방향 직교 단면의 광 강도 분포에 있어서의 「중심부」 및 「주변부」의 광 조사 강도의 일례를 도시하는 개략 설명도이다.
도 10c은 본 발명의 화상 처리 방법에 이용되는 레이저광의 진행 방향 직교 단면의 광 강도 분포에 있어서의 「중심부」 및 「주변부」의 광 조사 강도의 일례를 도시하는 개략 설명도이다.
도 10d은 본 발명의 화상 처리 방법에 이용되는 레이저광의 진행 방향 직교 단면의 광 강도 분포에 있어서의 「중심부」 및 「주변부」의 광 조사 강도의 일례를 도시하는 개략 설명도이다.
도 10e는 통상의 레이저광의 진행 방향 직교 단면의 광 강도 분포(가우스 분포)에 있어서의 「중심부」 및 「주변부」의 광 조사 강도를 도시하는 개략 설명도이다.
도 11a는 본 발명의 화상 처리 장치에 있어서의 광 조사 강도 조정 수단의 일례를 도시하는 개략 설명도이다.
도 11b는 본 발명의 화상 처리 장치에 있어서의 광 조사 강도 조정 수단의 일례를 도시하는 개략 설명도이다.
도 12는 본 발명의 화상 처리 장치의 일례를 설명하는 도면이다.
도 13a는 열 가역 기록 매체의 투명-백탁 특성을 도시하는 그래프이다.
도 13b는 열 가역 기록 매체의 투명-백탁 변화의 메커니즘을 도시하는 개략 설명도이다.
도 14a는 열 가역 기록 매체의 발색-소색 특성을 도시하는 그래프이다.
도 14b는 열 가역 기록 매체의 발색-소색 변화의 메커니즘을 도시하는 개략 설명도이다.
도 15는 RF-ID 태그의 일례를 도시하는 개략도이다.
도 16은 본 발명에 있어서의 화상을 중첩 부분을 도시하는 도면이다.
도 17은 실시예 38의 화상 기록 단계에 있어서 사용한 레이저광의 진행 방향 직교 단면에 있어서의 광 강도 분포를 도시하는 개략 설명도이다.
도 18은 실시예 38의 화상 소거 단계에 있어서 사용한 레이저광의 진행 방향 직교 단면에 있어서의 광 강도 분포를 도시하는 개략 설명도이다.
도 19는 본 발명의 레이저광의 또 다른 주사 방식을 도시하는 도면이다.
발명의 분야
본 발명은, 반복 내구성 및 소거성이 향상되어, 소거 시간을 단축화할 수 있는 화상 처리 방법 및 화상 처리 장치에 관한 것이다.
관련 기술의 설명
열 가역 기록 매체(이하, 「가역성 감열 기록 매체」, 「기록 매체」 또는 「매체」라고 부르는 경우가 있음)의 표면에 요철이 생긴 경우나, 떨어진 곳에서 기록 매체에 대하여 화상의 기록 및 소거를 실행하는 방법으로서, 비접촉 방식의 레이저를 이용한 방법이 제안되어 있다(일본 특허 공개 2000-136022호 공보 참조). 이 방법은, 물류 라인에 이용하는 반송용 용기에 열 가역 기록 매체를 사용하여, 비접촉 기록을 행하는 것으로, 기록(기입)은 레이저로 실시하고, 소거는 열풍, 온 수, 적외선 히터 등이 사용되고 있다.
이러한 열 가역 기록 매체에 대한, 여러 가지 레이저를 이용한 기록 및 소거 방법이 제안되어 있다(예컨대 일본 특허 공개 평7-186555호 공보(특허 제3350836호 공보), 일본 특허 공개 평7-186445호 공보(특허 제3446316호 공보), 일본 특허 공개 2002-347272호 공보 및 일본 특허 공개 2004-195751호 공보 참조).
상기 일본 특허 공개 평7-186555호 공보(특허 제3350836호 공보)에 기재된 기술은, 열 가역성 기록 매체 상에, 광열 변환 시트를 배치한 후, 이 광열 변환 시트에 레이저광을 조사하여, 발생하는 열에 의해 상기 열 가역성 기록 매체 상에 화상을 기록 및/또는 소거하는 것을 포함하는 개량된 화상 기록 소거 방법으로서, 그 명세서 중에는, 도면에 도시한 바와 같은 장치를 이용하여 레이저광의 조사 조건을 제어함으로써, 화상의 기록과 소거 양방을 행하는 것이 가능하다는 것이 기재되어 있다. 즉, 광 조사 시간, 조사 광도, 초점, 광 강도 분포 중 적어도 하나를 제어함으로써, 전술한 열 가역성 기록 매체의 제1 특정 온도와 제2 특정 온도로 가열 온도를 제어하거나, 가열한 후의 냉각 속도를 변화시킴으로써 화상의 기록 및 소거를 전면 또는 부분적으로 행하는 것이 가능하게 된다고 기재되어 있다.
상기 일본 특허 공개 평7-186445호 공보(특허 제3446316호 공보)에는, 2개의 레이저광을 사용하여, 한 쪽을 타원형이나 장원형 레이저로 하여 소거를 행하고, 다른 쪽을 원형 레이저로 기록하는 방법, 2개 레이저의 복합으로 하여 기록하는 방법, 2개를 각각 변형시켜 각각의 복합으로 하여 기록하는 방법이 기재되어 있다. 2개의 레이저를 이용함으로써, 1개의 레이저로 기록하는 것보다도 고농도의 화상 기 록을 실현할 수 있게 된다.
상기 일본 특허 공개 2002-347272호 공보에 기재된 기술은, 레이저 기록시와 소거시에 있어서, 하나의 미러의 표리를 이용하여, 광로의 차나 미러 형상의 차이에 의해서 레이저광의 광속 형상을 변경시키는 것이다. 이에 따라 간단한 광학계로 광 스폿의 크기를 바꾸는 것이나 초점을 흐리게 하는 것이 가능해진다.
상기 일본 특허 공개 2004-195751호 공보에서는, 라벨형의 가역성 감열 기록 매체의 레이저 흡수율을 50% 이상, 인자시의 조사 에너지가 5.0 mJ/mm2 내지 15.0 mJ/mm2, 또한 레이저 흡수율과 인자 조사 에너지의 곱이 3.0 mJ/mm2 내지 14.0 mJ/mm2이며, 소거시의 레이저 흡수율과 인자 조사 에너지의 곱이 1.1배 내지 3.0배로 함으로써 소거한 후의 잔상 화상을 실질적으로 완전히 소거할 수 있다고 기재되어 있다.
또한, 화상 기록 방법에 있어서의 레이저 소거 방법이 제안되어 있다(일본 특허 공개 2003-246144호 공보 참조). 이 제안에서는, 레이저광의 에너지, 레이저광의 조사 시간, 펄스 폭, 주사 속도에 있어서 레이저 기록시의 25% 이상 65% 이하로 하여 소거시킴으로써 명료한 콘트라스트의 화상으로 높은 내구성의 가역성 감열 기록 매체의 기록 방법이 된다고 기재되어 있다.
상기한 방법에 의해 레이저에 의한 인자와 소거를 실시할 수 있지만, 인자시에 레이저 제어를 실시하고 있지 않기 때문에, 기록시의 선이 서로 중첩될 때에 국소적인 열 손상이 발생하는 문제나 베타 화상을 기록할 때에 발색 농도가 저하되는 문제가 있었다.
이들 문제를 해결하기 위해서, 인자 에너지를 제어하는 방법이 개시되어 있다(일본 특허 공개 2003-127446호 공보 및 일본 특허 공개 2004-345273호 공보 참조).
상기 일본 특허 공개 2003-127446호 공보에는, 레이저 조사 에너지를 묘화점마다 제어하여, 기록 도트가 서로 중첩되도록 인자하는 경우나 꺾어 인자하는 경우에 거기의 에너지를 저하시킨다, 또한 직선 인자를 행하는 경우에 소정 간격마다 에너지를 저하시키는 것을 실시함으로써, 국소적인 열 손상을 경감하여 가역성 감열 기록 매체의 열화를 방지한다고 기재되어 있다.
상기 일본 특허 공개 2004-345273호 공보에는, 레이저 묘화를 할 때에 변각점의 각도 R에 따라서 조사 에너지에 ｜cos0.5R｜k(0.3<k<4)를 곱함으로써 에너지를 감소시키는 연구를 하고 있다. 이에 따라 레이저로 기록할 때에 선획이 중첩되는 부분에 과도한 에너지가 걸리는 것을 막아, 매체의 열화를 감소시킬 수 있거나, 또는 에너지를 지나치게 내리지 않고서 콘트라스트를 유지하는 것이 가능하게 된다고 기재되어 있다.
또한, 상술한 바와 같은 레이저를 이용한 화상의 기록 및 화상을 소거하는 화상 처리 방법에서는, 레이저의 주사 제어 방법으로서, 래스터 주사 제어 방식이나 벡터 주사 제어 방식 등이 채용되고 있다.
래스터 주사 제어 방식은, 전형적으로는 TV 등의 CRT 화상에 이용되는 방식이며, 어떤 개시점으로부터 X 방향으로 직선형으로 종료점까지 주사한 후, 다음 주 사 개시점을 Y 방향으로 위치를 바꿔 다음 주사를 같은 식으로 행하는 동작을 반복하는, 레이저 조사의 주사 제어 방식이며, 벡터 주사 제어 방식은, 화상의 윤곽을 따르도록 직선형이나 곡선형으로 주사하는 레이저 조사의 주사 제어 방식이다(일본 특허 공개 평8-267797호 공보 참조).
또한, 래스터 제어 방식의 일반적으로 이용되고 있는 수법으로서, X축 방향으로 1 스텝씩 이동시켜 묘화하여야 할 위치에서 레이저를 온으로 하고, 1행째의 묘화가 끝난 후에 Y축 방향으로 1 스텝 이동하여, 다음 행의 묘화를 같은 식으로 행하는 수법이 개시되어 있다(일본 특허 공개 2001-88333호 공보 참조).
또한, Y축 방향과 X축 방향의 이동을 교체한 래스터 주사 제어 방식도 이용되고 있다(일본 특허 공개 2002-347272호 공보 및 일본 특허 공개 2002-113889호 공보 참조).
또한, 벡터 제어 방법에서도, 레이저광을 가로 방향으로 이동시켜 비트맵으로 묘화하는 래스터 스캔 방법이나, 레이저광을 세로 방향으로 이동시켜 비트맵으로 묘화하는 컬럼 스캔 방식이 이용되고 있다(일본 특허 공개 2003-127446호 공보 참조).
그러나, 이러한 레이저의 주사에 있어서, 예컨대, 인자 패턴을 투사하여 소거를 하는 벡터 조작 제어 방식의 경우, 인자 패턴마다 소거 패턴을 작성할 필요가 있다. 또한, 위치 어긋남이 발생하면, 부분적으로 미소거부가 남게 되고, 특히, 이동체에 인자·소거를 행하는 경우는 위치 어긋남을 일으키기 쉽기 때문에 소거 불량이 되기 쉽다.
그 때문에, 위치 어긋남의 영향이 없는 인자 영역 전체를 소거하는 방법이 있지만, 래스터 제어 방식을 이용하는 방법이 가장 일반적인 수법이 되어 있다(일본 특허 공개 2001-88333호 공보 참조).
그러나, 상기 일본 특허 공개 2001-88333호 공보에 기재된 것과 같은 화상의 소거 방법이면, X축 방향에서의 1행째의 레이저 조사에 이어서, Y축 방향으로 1 스텝 이동하여 다음 행의 레이저 조사를 향하는 영역(이하, 「꺽임부」라고 부르는 경우도 있음)에 있어서, 과도한 레이저 조사에 의한 축열의 악영향에 의해서, 매체의 열화를 야기하여, 매체의 반복 내구성이 나빠져 버린다.
레이저광의 주사 방식에는, 레이저 광원을 탑재한 화상 기록 장치에 설치된 갈바노 미러 또는 스테이지의 이동에 의해서 제어되고 있지만, 모두 레이저광의 꺽임부는 갑자기 움직임을 멈추는 것은 매우 곤란하여, 주사 속도를 서서히 감속하게 된다. 이에 의해서, 종래 방식의 꺽임부에서는, 레이저광의 이동이 감속하기 때문에 주사 속도가 늦어져, 과잉 에너지가 가해진 고에너지 상태가 되어 레이저 조사를 멈추는 일없이, 바로 인접부, 즉 다음 행의 개시부에 레이저 조사하기 때문에, 꺽임부에는 상당히 과도한 에너지가 가해져, 매체의 열화가 진행되어, 열 가역 기록 매체의 반복 내구성이 나빠진다(예컨대, 도 1 참조).
또한, 종래 방식으로, 꺽임부에서 레이저 조사를 일단 멈추었다고 해도, 레이저 조사를 멈추지 않는 경우에 비교하면 열 가역 기록 매체에 가해지는 에너지량은 적지만, 꺽임부는 냉각하기 전에 바로 인접부, 즉 다음 행의 개시부에 레이저 조사하기 때문에, 역시 과도한 에너지가 가해져, 마찬가지로, 매체의 열화가 진행 되기 쉬워, 반복 내구성이 나빠진다(예컨대, 도 2 참조).
또한, 열 가역 기록 매체에 과도한 에너지가 가해졌을 때의 고온 영역인 꺽임부는, 발색에 의한 바탕 흐려짐이 발생하는 경우가 있어, 바탕 흐려짐의 발생 없이 균일하게 소거하기 위해서는, 꺽임부가 거의 냉각되고 나서 다음 행의 개시부에 레이저 조사할 필요가 있어, 화상의 면적에 따라서는 소거하기 위해 꽤 많은 시간을 필요로 하고 있었다.
발명의 개요
본 발명은, 레이저 조사에 의해 화상 소거 및 화상 기록 중 적어도 어느 하나를 행하는 화상 처리 방법에 있어서, 반복 내구성 및 소거성이 향상되어, 소거 시간을 단축할 수 있는 화상 처리 방법 및 화상 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위한 수단은, 이하와 같다. 즉,
<1> 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 동일 방향으로 주사시키고, 또한 그 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법이다.
<2> 레이저광의 불연속 조사가, 상기 레이저광을 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점을 상기 제1 개시점으로부터 소정 간격에 설정한 위치까지의 레이저의 이동 사이에 대응하는 상기 <1>에 기재된 화상 처리 방법이다.
<3> 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나에 있어서, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 서로 상반되는 방향으로 순차 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하고, 상기 레이저광의 불연속 조사가, 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점에 레이저광의 조사가 유도되도록 상기 종료점으로부터 상기 제2 개시점까지 레이저광을 조사하지 않는 상태로 주사하 는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법이다.
<4> 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 서로 상반되는 방향으로 인접부를 계속하여 주사하지 않도록 하여 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법이다.
<5> 레이저광의 불연속 조사가, 그 레이저광을 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점을 상기 종료점으로부터 임의의 간격으로 설정한 위치까지의 레이저의 이동 사이에 대응하는 상기 <4>에 기재된 화상 처리 방법이다.
<6> 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하 나를 포함하고,
상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 동일 방향으로 인접부를 계속하여 주사하지 않도록 하여 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법이다.
<7> 레이저광의 불연속 조사가, 상기 레이저광을 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점을 상기 종료점으로부터 임의의 간격으로 설정한 위치까지의 레이저의 이동 사이에 대응하는 상기 <6>에 기재된 화상 처리 방법이다.
<8> 레이저광의 불연속 조사가, 화상 처리 장치에 있어서의 주사 제어 수단에 의해서, 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점에서 레이저광의 조사가 유도되도록 상기 종료점으로부터 상기 제2 개시점까지 제어되는 상기 <1>, <4> 및 <6> 중 어느 하나에 기재된 화상 처리 방법이다.
<9> 열 가역 기록 매체가, 지지체 상에 적어도 가역성 감열 기록층을 구비하여 이루어지고, 상기 가역성 감열 기록층이 수지 및 유기 저분자 물질을 함유하는 상기 <1> 내지 <8> 중 어느 하나에 기재된 화상 처리 방법이다.
<10> 열 가역 기록 매체가, 지지체 상에 적어도 가역성 감열 기록층을 구비하여 이루어지고, 상기 가역성 감열 기록층이 로이코 염료 및 가역성 현색제를 함유하는 상기 <1> 내지 <8> 중 어느 하나에 기재된 화상 처리 방법이다.
<11> 화상 기록 단계 및 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나에서 조사되는 레이저광에 있어서의, 상기 레이저광의 진행 방향에 대하여 대략 직교 방향의 단면에 있어서의 광 강도 분포에 있어서, 중심부의 광 조사 강도가 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하인 상기 <1> 내지 <10> 중 어느 하나에 기재된 화상 처리 방법이다.
<12> 상기 <1> 내지 <11> 중 어느 하나에 기재된 화상 처리 방법에 이용되며,
레이저광 출사 수단과,
이 레이저광 출사 수단에 있어서의 레이저광 출사면에 배치되고, 또한 레이저광의 광 조사 강도를 변화시키는 광 조사 강도 조정 수단을 적어도 갖는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치이다.
<13> 광 조사 강도 조정 수단이, 렌즈, 필터, 마스크 및 미러 중 적어도 어느 하나인 상기 <12>에 기재된 화상 처리 장치이다.
본 발명의 화상 처리 방법은, 제1 형태에서는, 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이 저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 동일 방향으로 주사시키고, 또한 그 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함한다.
본 발명의 화상 처리 방법은, 제2 형태에서는, 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나에 있어서, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 서로 상반되는 방향으로 순차 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하고, 상기 레이저광의 불연속 조사가, 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점에 레이저광의 조사가 유도되도록 상기 종료점으로부터 상기 제2 개시점까지 레이저광을 조사하지 않는 상태로 주사한다.
본 발명의 화상 처리 방법은, 제3 형태에서는, 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 서로 상반되는 방향으로 인접부를 계속하여 주사하지 않도록 하여 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함한다.
본 발명의 화상 처리 방법은, 제4 형태에서는, 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 동일 방향으로 인접부를 계속하여 주사하지 않도록 하여 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함한다.
상기 제1 형태 내지 제4 형태 중 어느 하나에 따른 화상 처리 방법에 있어서는, 레이저광을 동일 방향으로 주사하거나, 또는 서로 상반되는 방향으로 순차 또는 무작위로 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하여, 화상의 소거 및 형성을 할 수 있어, 레이저광의 주사 방향의 꺽임부 및 선의 중첩부 중 적어도 어느 하나에서 에너지의 여분의 축열을 피할 수 있다.
본 발명의 화상 처리 장치는, 본 발명의 상기 화상 처리 방법에 이용되며, 레이저광 출사 수단과, 상기 레이저광 출사 수단에 있어서의 레이저광 출사면에 배치되고, 또한 레이저광의 광 조사 강도를 변화시키는 광 조사 강도 조정 수단을 적어도 구비한다.
이 화상 처리 장치에 있어서는, 상기 레이저광 출사 수단이 레이저광을 출사한다. 상기 광 조사 강도 조정 수단이, 상기 레이저광 출사 수단으로부터 출사된 레이저광의 광 조사 강도를 변화시킨다. 그 결과, 상기 열 가역 기록 매체에 화상을 기록하면, 화상의 반복 기록 및 소거에 의한 상기 열 가역 기록 매체의 열화가 효과적으로 억제된다.
바람직한 구체예의 설명
(화상 처리 방법)
본 발명의 제1 형태 내지 제4 형태 중 어느 하나에 따른 화상 처리 방법은, 화상 기록 단계 및 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고, 필요에 따라서 적절하게 선택된 그 외의 단계를 더 포함하여 이루어진다.
본 발명의 상기 화상 처리 방법에 있어서는, 화상의 기록 및 화상의 소거 양방을 행하는 형태, 화상의 기록만을 행하는 형태, 화상의 소거만을 행하는 형태 중 어느 하나를 포함한다.
여기서, 본 발명에 있어서, 상기 화상이란, 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 문자, 기호 및 선도 중 어느 하나를 의미하며, 바코드나 베타 화상도 포함된다. 따라서, 단일의 레이저광 묘화선에 의해 형성되는 화상(한번에 쓰는 글씨의 문자 등)은 포함되지 않는다.
또한, 본 발명에 있어서, 상기 선의 중첩부라는 것은, 상기 화상에 있어서의 복수의 레이저광 묘화선의 충접을 의미한다. 예컨대 균일한 베타 화상을 기록하는 경우, 도 16에 도시되는 바와 같이, 레이저광 묘화선과 그것에 인접하는 레이저광 묘화선이 서로 중첩될 필요가 있다. 그 때문에, 레이저 조사 후, 냉각되기 전에 바로 인접부, 즉 다음 행에 레이저 조사하면, 선의 중첩부에 과잉의 에너지가 가해져, 열 가역 기록 매체의 열화가 진행되기 쉬워, 반복 내구성이 악화되거나, 에너지의 여분의 축열의 영향에 의해, 화상 농도가 저하되거나 한다.
상기 제1 형태에 따른 화상 처리 방법에서는, 상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 동일 방향으로 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함한다.
상기 제2 형태에 따른 화상 처리 방법에서는, 상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나에 있어서, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 서로 상반되는 방향으로 순차 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하여, 상기 레이저광의 불연속 조사가, 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사한 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점에 레이저광의 조사가 유도되도록 상기 종료점으로부터 상기 제2 개시점까지 레이저광을 조사하지 않는 상태로 주사한다.
상기 제3 형태에 따른 화상 처리 방법에서는, 상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 서로 상반되는 방향으로 인접부를 계속하여 주사하지 않도록 하여 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함한다.
상기 제4 형태에 따른 화상 처리 방법에서는, 상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사하고, 상기 레이저광을 동일 방향으로 인접부를 계속하여 주사하지 않도록 하여 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함한다.
<화상 기록 단계 및 화상 소거 단계>
본 발명의 상기 화상 처리 방법에 있어서의 상기 화상 기록 단계는, 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써, 상기 열 가역 기록 매체에 화상을 기록하는 단계이다.
본 발명의 상기 화상 처리 방법에 있어서의 상기 화상 소거 단계는, 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 화상을 소거하는 단계이다.
상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 상기 레이저광을 조사하여 가열함으로써, 상기 열 가역 기록 매체에 비접촉의 상태로 화상의 기록 및 소거를 행할 수 있다.
또한, 본 발명의 화상 처리 방법에 있어서는, 통상 상기 열 가역 기록 매체의 재사용시에 처음으로 화상의 갱신(상기 화상 소거 단계)을 행하고, 그 후, 상기 화상 기록 단계에 의해 화상의 기록을 행하지만, 화상의 기록 및 소거의 순서는 이것에 한정되는 것은 아니며, 상기 화상 기록 단계에 의해 화상을 기록한 후, 상기 화상 소거 단계에 의해 화상을 소거하더라도 좋다.
본 발명에 있어서는, 열 가역 기록 매체에 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사하여 가열하여 화상의 소거 및 화상의 기록을 행하고, 상기 레이저광을 동일 방향으로 주사하거나, 또는 서로 상반되는 방향으로 순차 또는 무작위로 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하여, 화상의 소거 및 화상의 기록을 행한다. 즉, 레이저광의 주사 방향의 꺽임부 및 선의 중첩부 중 적어도 어느 하나에서 레이저광에 의한 조사가 없어, 에너지의 여분의 축열을 회피한 레이저광의 주사 제어를 특징으로 하는 열 가역 기록 매체의 화상 처리 방법을 제공하는 것이다.
상기 제1 형태 내지 제4 형태 중 어느 하나에서는, 레이저광의 불연속 조사가, 화상 처리 장치에 있어서의 주사 제어 수단에 의해, 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사한 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점에서 레이저광의 조사가 유도되도록 상기 종료점으로부터 상기 제2 개시점까지 제어되는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서는, 도 3 내지 도 9에 도시하는 바와 같이, 열 가역 기록 매체를 레이저광이 주사하는 일반적인 주사 제어 방법, 예컨대, 래스터 주사 제어 방법에 있어서 문제가 되는, 꺽임부 및 선의 중첩부 중 적어도 어느 하나에서의 레이저광에 의한 축열이 전혀 없거나 또는 극히 근소한 상태를 유지하여, 열 가역 기록 매체에 대한 레이저광의 특이적인 광 주사 제어를 특징으로 한다. 이에 따라, 종래의 레이저광의 주사 방향에 있어서 레이저광에 의한 열이 중첩되어 버리는 꺽임부 및 선의 중첩부 중 적어도 어느 하나에서의 축열의 악영향이 없어져, 반복 내구성이 우수하고, 또한 소거 시간이 단축되며, 소거성도 더욱 우수한 열 가역 기록 매체의 화상 처리 방법으로 할 수 있다.
본 발명의 바람직한 형태는, 도 3에 도시하는 레이저광의 광 주사 제어 방식으로, 레이저광을 소정 간격으로 직선형으로 항상 일정 방향으로 좌측에서 우측을 향하여 조사하는 것이다. 이 경우, 레이저광의 조사가 우단까지 오면, 레이저 조사는 오프가 되어, 도 3 및 도 4에 나타낸 점선을 따라서 레이저가 미러의 움직임에 의해, 다음 조사 개시점까지 이동하여 조사를 시작하여, 또한 좌측에서 우측을 향하여 주사하는 것이다. 한편, 도 3 내지 도 9의 점선은, 레이저광의 불연속 상태의 조사, 즉 조사가 오프 상태임을 나타낸다. 도 3으로부터 알 수 있는 바와 같이, 꺽임부에서 바로 인접부(예컨대, 도 3 및 도 4의 2행째의 화살표의 선단부)에 대하여 레이저 조사하지 않기 때문에, 종래의 주사 방식에서 생긴 축열의 영향이 적어, 매체의 열화를 막을 수 있어, 매체의 반복 내구성을 향상시킬 수 있다. 또한, 꺽임부에는 레이저광의 조사가 불연속 상태이기 때문에, 과도한 축열이 없어, 적절한 소거 온도 범위로 유지할 수 있어, 종래 발생한 축열에 의한 잔존 화상도 양호하게 억제되어, 소거성도 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 바람직한 형태는, 도 5에 도시하는 레이저광의 광 주사 제어 방식으로, 레이저광을 소정 간격으로, 서로 상반되는 방향으로 순차, 되꺾어 주사하여 조사하는 것이며, 기본적으로는 래스터 주사 제어 방식의 변형이다. 한편, 래스터 주사 제어 방식이란, 레이저광 등의 발광점을 이차원으로 주사하는 경우, 어떤 개시점으로부터 X 방향(주 주사 방향)으로 직선형으로 종료점까지 주사한 후, 다음 주사 개시점을 Y 방향(부 주사 방향)으로 바꾸고 나서 다음 주사를 같은 식으로 행하는 동작을 반복하는 것으로, 화면을 순차 주사하는 방식이며, 예컨대, TV 등의 CRT 화상이 대표적인 예이다.
본 발명의 경우, 도 5에 도시된 바와 같이, 좌측 상단부를 기점으로 하여 레이저광의 주사를 개시하여, 우측 상단부까지 조사하여 온 곳에서, 레이저 조사가 불연속 상태, 즉, 오프 상태가 되어 레이저가 미러의 움직임에 의해 점선을 따라서 아래쪽(즉, Y축 방향)으로 되꺾어, 다음 우단부로부터 조사를 개시하여 좌단부를 향하여 조사하고, 좌단부까지 주사하면, 재차 레이저 조사가 불연속 상태(오프 상태)로 되어 레이저가 미러의 움직임에 의해 점선을 따라서 되꺾어, 재차 다음 좌단부로부터 조사를 개시하여 우단부를 향하도록 아래쪽(Y축 방향)으로 순차적으로 광 주사 제어를 반복하는 것이다. 이 경우, 도 5로부터 알 수 있는 바와 같이, 종래 방식의 광 주사 제어와는 달리, 꺽임부에서 레이저 조사가 불연속 상태(오프 상태)로 다음 조사 기점(개시점)으로 되꺾기 때문에, 종래의 주사 방식에서 생긴 꺽임부에 대한 축열에 의한 악영향이 적어, 매체의 반복 내구성이 향상된다. 또한, 이 경우, 꺽임부에서는 레이저광의 조사가 불연속 상태(오프 상태)이지만, 레이저를 유도하는 미러는 다음 조사 개시점까지의 이동에 맞춰 제어되고 있기 때문에, 레이저의 주사 속도가 떨어지는 일은 없다. 따라서, 종래의 레이저광 주사 제어에 있어서의 소거에 비하여, 소거 시간을 단축할 수 있고, 아울러, 꺽임부에는 레이저광의 조사가 불연속 상태이기 때문에, 과도한 축열이 없이 적절한 소거 온도 범위로 유지할 수 있어, 종래 발생한 축열에 의한 잔존 화상도 양호하게 억제되고, 소거성도 향상시킬 수 있다. 한편, 미러의 예비 주사 시간은 임의로 설정하여도 좋지만, 0.2 내지 5 ms인 것이 바람직하다. 상기 시간이 0.2 ms 미만이면 레이저광의 주사 속도가 꽤 느린 상태로 레이저광을 조사하게 되기 때문에 기록의 개시점이나 종료점 등에 과도한 에너지가 가해져 열 가역 기록 매체에 손상을 일으키는 경우가 있고, 5 ms를 넘으면, 기록 시간이 길어지기 때문에 원하는 시간 내에 기록할 수 없게 되는 경우가 있다.
본 발명의 다른 바람직한 형태는, 도 6 및 도 7에 도시하는 레이저광의 광 주사 제어 방식으로, 레이저광을 소정 간격으로, 서로 상반되는 방향으로 인접부를 계속하여 주사하지 않도록, 되꺾어 주사하여 조사하는 것이다. 예컨대, 도 6에 도시된 바와 같이, 좌측 상단부를 기점으로 하여 레이저광의 주사를 개시하여, 우측상단부까지 조사하여 온 곳에서, 레이저 조사는 불연속 상태(오프 상태)가 되고, 레이저가 미러의 움직임에 의해 점선을 따라서, 인접하지 않는 다음 개시점으로 무작위로 되꺾어, 우단부로부터 조사를 재개하여, 좌단부를 향하여 조사하고, 좌단부까지 주사하면, 재차 레이저 조사가 불연속 상태(오프 상태)가 되어, 레이저가 미러의 움직임에 의해 점선을 따라서, 인접하지 않는 다음의 또 다른 개시점으로 무작위로 되꺾어, 좌단부로부터 조사를 재개하여, 우단부를 향하여 조사하도록, 무작위의 되꺾임 순서로 광 주사 제어를 반복하는 것이다. 이 경우, 도 6 및 도 7로부터 알 수 있는 바와 같이, 도 5의 방식의 광 주사 제어와는 달리, 다음 개시점까지 의 꺽임부는, 직전의 레이저 조사의 종료점과 떨어지도록 제어되고 있고, 또한 레이저 조사가 이 사이에에 불연속 상태(오프 상태)로 되어 있기 때문에, 도 5와 같이 꺽임부가 직전의 주사의 종료점의 인접부로 될 때에 생길 수 있는 축열에 의한 악영향을 현저히 저감할 수 있고, 이에 의해 매체의 반복 내구성이 향상되고, 또한 도 5의 레이저광의 광 주사 제어 방식의 경우와 마찬가지로, 레이저를 유도하는 미러는 다음 조사 개시점까지의 이동에 맞춰 제어되고 있기 때문에, 레이저의 주사 속도가 떨어지는 일 없이, 레이저의 주사 속도는 유지한 채 그대로이기 때문에, 소거 시간을 단축할 수 있다. 또한, 각 주사의 종료점과 다음 개시점과의 사이의 영역, 즉 꺽임부가 인접하지 않기 때문에, 보다 적절한 소거 온도 범위로 유지할 수 있어, 종래 발생한 축열에 의한 잔존 화상도 양호하게 억제되고, 소거성도 향상시킬 수 있다. 한편, 미러의 예비 주사 시간은 임의로 설정하여도 좋지만, 0.2 ms 내지 5 ms인 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 바람직한 형태는, 도 8 및 9에 도시하는 레이저광의 광 주사 제어 방식으로, 레이저광을 소정 간격으로, 동일 방향으로 인접부를 계속하여 주사하지 않도록, 되꺾어 주사하여 조사하는 것이다. 예컨대, 도 8에 도시된 바와 같이, 좌측 상단부를 기점으로 하여 레이저광의 주사를 개시하여, 우측 상단부까지 조사하여 온 지점에서, 레이저 조사는 불연속 상태(오프 상태)로 되고, 레이저가 미러의 움직임에 의해 점선을 따라서, 인접하지 않는 다음 개시점으로 무작위로 되꺾여, 좌단부로부터 조사를 재개하여 우단부를 향하여 조사하고, 우단부까지 주사하면, 재차 레이저 조사가 불연속 상태(오프 상태)로 되어, 레이저가 미러의 움직 임에 의해 점선을 따라서, 인접하지 않는 다음 또 다른 개시점으로 무작위로 되꺾어, 좌단부로부터 조사를 재개하여, 우단부를 향하여 조사하도록, 무작위의 되꺾임 순서로 광 주사 제어를 반복하는 것이다. 이 경우, 도 8 및 도 9로부터 알 수 있는 바와 같이, 도 3의 방식의 광 주사 제어와는 달리, 다음 개시점은, 직전의 레이저 조사의 개시점과 떨어지도록 제어되고 있고, 또한 레이저 조사가 이 사이에서 불연속 상태(오프 상태)로 되어 있기 때문에, 도 3과 같이 개시점이 직전의 주사의 개시점의 인접부로 될 때에 생길 수 있는 축열에 의한 악영향을 현저히 저감할 수 있고, 또한 도 3의 레이저광의 광 주사 제어 방식의 경우와 같이, 레이저를 유도하는 미러는 다음 조사 개시점까지의 이동에 맞춰 제어되고 있기 때문에, 레이저의 주사 속도가 떨어지는 일 없이, 레이저의 주사 속도는 유지한 채 그대로이기 때문에, 매체의 반복 내구성이 향상된다. 한편, 미러의 예비 주사 시간은 임의로 설정하여도 좋지만, 0.2 ms 내지 5 ms인 것이 바람직하다.
또한, 도 3 내지 도 9에서는, 좌→우 방향, 또는 우→좌 방향으로 레이저광을 주사하고 있는 예를 이용하여 설명했지만, 레이저광의 주사 방법에 특별히 제한은 없으며, 적절하게 선택할 수 있고, 예컨대 상→하 방향, 하→상 방향, 또는 경사 방향 등에서도 본 발명의 레이저광의 주사 방법은 적용 가능하다.
본 발명에 있어서, 레이저광의 주사는 화상 기록 장치에 설치된 주사 제어 수단으로서의 미러의 움직임, 열 가역 기록 매체 또는 화상 처리 장치의 움직임, 또는 그 외의 조합에 의해서 제어되는데, 본 발명의 레이저광의 주사 제어를 수행하도록 설정할 수 있다면, 본 발명의 취지 및 범위를 일탈하지 않는 한, 당업자는 자유롭게 제어를 설정하여도 좋다.
상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나에서 조사되는 상기 레이저광에 있어서의, 상기 레이저광의 진행 방향에 대하여 대략 직교 방향의 단면(이하, 「레이저광의 진행 방향 직교 단면」이라고 부르는 경우가 있음)에 있어서의 광 강도 분포에 있어서, 중심부의 광 조사 강도가 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하가 되도록, 상기 열 가역 기록 매체에 대하여 상기 레이저광이 조사된다.
종래, 레이저를 이용하여 어떠한 패턴을 형성하는 경우에는, 레이저광의 진행 방향 직교 단면의 광 강도 분포는 가우스 분포로 되어 있어, 광 조사의 중심부는 주변부에 비하여 광 조사 강도가 극단적으로 강한 것이었다. 이 가우스 분포의 레이저광을 상기 열 가역 기록 매체에 조사하면, 상기 중심부에서는 온도가 지나치게 올라가 화상의 기록과 소거를 반복하면 그 부분이 열화되어, 반복 횟수가 저하되게 되고, 또한 중심부의 온도를 열화시키는 온도까지 올리지 않도록 레이저 조사 에너지를 저하시키면, 화상의 사이즈가 작아져, 화상 콘트라스트의 저하나 화상 기록에 시간이 걸려 버린다고 하는 문제가 있었다.
그래서, 본 발명의 상기 화상 처리 방법에서는, 상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나에서 조사되는 레이저광의 진행 방향 직교 단면의 광 강도 분포에 있어서, 상기 중심부의 광 조사 강도가 상기 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하가 되도록 함으로써, 화상의 기록 및 소거의 반복에 의한 상기 열 가역 기록 매체의 열화를 억제하면서 화상의 사이즈를 작게 하지 않고서, 화 상 콘트라스트를 유지한 채로 반복 내구성의 향상을 실현하고 있다. 또한, 상기 레이저광을 동일 방향으로 주사, 또는 서로 상반되는 방향으로 순차 또는 무작위로 주사시켜 화상의 소거 및 화상의 기록을 행하는 경우, 주사 방향에 있어서의 꺽임부 및 선의 중첩부 중 적어도 어느 하나에서의 축열이 적어져, 양호한 반복 내구성을 얻을 수 있다.
[광 강도 분포에 있어서의 중심부 및 주변부]
상기 레이저광에 있어서의 상기 레이저광의 진행 방향에 대하여 대략 직교 방향의 단면의 광 강도 분포에 있어서의 「중심부」는, 상기 광 강도 분포를 나타내는 곡선을 2회 미분한 미분 곡선에 있어서, 아래로 볼록한 2개의 최대 피크의 피크 정상부에 끼워진 영역에 대응하는 부위를 의미하며, 「주변부」는 상기 「중심부」를 제외한 영역에 대응하는 부위를 의미한다.
「중심부의 광 조사 강도」는, 상기 중심부에 있어서의 광 강도 분포가 곡선으로 표시되는 경우에는, 그 피크 정상부로서, 또한 광 강도 분포 곡선의 형상이 위로 볼록할 때는 피크 상부에 있어서의 광 조사 강도를, 상기 광 강도 분포 곡선의 형상이 아래로 볼록할 때는 피크 하부에 있어서의 광 조사 강도를 각각 의미한다. 또한, 상기 광 강도 분포 곡선이, 위로 볼록 및 아래로 볼록의 양방의 형상을 갖는 경우에는, 중심부 내의 보다 중앙에 가까운 부위에 위치하는 피크 정상부의 광 조사 강도를 의미한다.
또한, 상기 중심부에 있어서의 광 강도 분포가 직선으로 표시되는 경우에는, 그 직선의 최고부에 있어서의 광 조사 강도를 의미하지만, 이 경우, 상기 중심부에 있어서, 상기 광 조사 강도는 일정한(상기 중심부에 있어서의 광 강도 분포가 수평선으로 표시됨) 것이 바람직하다.
한편, 「주변부의 광 조사 강도」는, 상기 주변부에 있어서의 광 강도 분포가, 곡선 및 직선 중 어느 하나로 표시되는 경우에도, 그 최고부에 있어서의 광 조사 강도를 의미한다.
이하, 상기 레이저광의 진행 방향 직교 단면의 광 강도 분포에 있어서의 「중심부」 및 「주변부」의 광 조사 강도의 일례를, 도 10a 내지 도 10e에 도시한다. 한편, 도 10a 내지 도 10e에 있어서, 각각 상측으로부터 순서대로, 광 강도 분포를 나타내는 곡선, 이 광 강도 분포를 나타내는 곡선을 1회 미분한 미분 곡선(X') 및 상기 광 강도 분포를 나타내는 곡선을 2회 미분한 미분 곡선(X'')을 나타낸다.
도 10a 내지 도 10d은 본 발명의 상기 화상 처리 방법에 이용되는 레이저광의 광 강도 분포를 나타내고 있으며, 상기 중심부의 광 조사 강도가 상기 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하로 되어 있다.
한편, 도 10e은 통상의 레이저광의 광 강도 분포를 나타내고 있으며, 이 광 강도 분포는 가우스 분포되어 있어, 상기 중심부의 광 조사 강도가, 상기 주변부의 광 조사 강도에 비하여, 극단적으로 강하게 되고 있다.
상기 레이저광의 진행 방향 직교 단면의 광 강도 분포에 있어서, 상기 중심부와 상기 주변부와의 광 조사 강도의 관계는, 상기 중심부의 광 조사 강도가, 상기 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하일 필요가 있고, 이 동등 이하란, 1.05배 이 하임을 의미하고, 1.03배 이하가 바람직하며, 1.0배 이하가 보다 바람직하고, 상기 중심부의 광 조사 강도는, 상기 주변부의 광 조사 강도보다도 작은, 즉, 1.0배 미만인 것이 특히 바람직하다.
상기 중심부의 광 조사 강도가, 상기 주변부의 광 조사 강도의 1.05배 이하이면, 상기 중심부에서의 온도 상승에 의한 상기 열 가역 기록 매체의 열화를 억제할 수 있다.
한편, 상기 중심부의 광 조사 강도의 하한은, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있지만, 상기 주변부의 광 조사 강도에 대하여 0.1배 이상이 바람직하며, 0.3배 이상이 보다 바람직하다.
상기 중심부의 광 조사 강도가, 상기 주변부의 광 조사 강도의 0.1배 미만이면, 상기 레이저광의 조사 스폿에 있어서의 상기 열 가역 기록 매체의 온도가 충분히 오르지 않아, 상기 주변부에 비하여 상기 중심부의 화상 농도가 저하되거나, 충분히 소거할 수 없게 되거나 하는 일이 있다.
상기 레이저광의 진행 방향 직교 단면의 광 강도 분포를 측정하는 방법으로서는, 상기 레이저광이 예컨대, 반도체 레이저, YAG 레이저 등으로부터 출사되어, 근적외 영역의 파장을 갖는 경우에는, CCD 등을 이용한 레이저 빔 프로파일러를 이용하여 행할 수 있다. 또한, 예컨대, CO2 레이저로부터 출사되어, 원적외 영역의 파장을 갖는 경우에는, 상기 CCD를 사용할 수 없기 때문에, 빔 스플리터와 파워 미터를 조합한 것, 고감도 초전도식 카메라를 이용한 하이파워용 빔 애널라이저 등을 이용하여 행할 수 있다.
상기 레이저광의 진행 방향 직교 단면의 광 강도 분포를, 상기 가우스 분포로부터, 상기 중심부의 광 조사 강도가, 상기 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하가 되도록 변화시키는 방법으로서는, 특별히 제한은 없으며, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있는데, 광 조사 강도 조정 수단을 적합하게 이용할 수 있다.
상기 광 조사 강도 조정 수단으로서는, 예컨대, 렌즈, 필터, 마스크, 미러 등을 적합하게 들 수 있다. 구체적으로는, 만화경, 인테그레이터, 빔 호모지나이저, 비구면 빔 쉐이퍼(강도 변환 렌즈와 위상 보정 렌즈와의 조합) 등이 바람직하다. 또한, 필터, 마스크 등을 이용하는 경우, 상기 레이저광의 중심부를 물리적으로 컷트함으로써 광 조사 강도를 조정할 수 있다. 또한, 미러를 이용하는 경우, 컴퓨터와 연동하여 기계적으로 형상이 바뀌는 디포머블 미러, 반사율 또는 표면 요철이 부분적으로 다른 미러 등을 이용함으로써 광 조사 강도를 조정할 수 있다.
또한, 상기 열 가역 기록 매체와 상기 렌즈와의 사이의 거리를, 초점 거리로부터 위치를 변동함으로써 광 조사 강도를 조정하는 것도 가능하며, 또한 반도체 레이저, YAG 레이저 등을 화이버 커플링하면, 광 조사 강도의 조정을 용이하게 행할 수 있다.
한편, 상기 광 조사 강도 조정 수단에 의한, 광 조사 강도의 조정 방법에 관해서는 후술하는 본 발명의 화상 처리 장치의 설명에 있어서 상술한다.
여기서, 본 발명에서 이용되는 레이저광의 스폿 직경은, 레이저의 출력이나 열 가역 기록 매체의 특성에 의해서 변화되기 때문에 적절하게 최적의 스폿 직경으 로 하면 좋지만, 0.01 mm 내지 20 mm의 범위가 바람직하다.
또한, 화상 기록을 위한 레이저광 스폿 직경과 화상 소실을 위한 레이저광 스폿 직경을 변화시키더라도 좋으며, 그 경우에는 화상 기록을 위한 레이저광 스폿직경은 0.01 mm 내지 10 mm이 바람직하고, 0.01 mm 내지 5 mm이 보다 바람직하다. 화상 기록을 위한 레이저 스폿 직경이 지나치게 커지면 일정 온도까지 가열하기 위해서 레이저 출력이 커져, 장치가 대형화된다고 하는 문제가 생긴다. 또한, 화상 소거를 위한 레이저광 스폿 직경은 0.1 mm 내지 20 mm이 바람직하고, 0.2 mm 내지 15 mm이 보다 바람직하다. 여기서, 화상 소거를 위한 레이저광 스폿 직경이 커질수록 소거성은 향상되어, 소거 시간도 단축할 수 있다. 또한, 화상 소거를 위한 레이저 스폿 직경이 지나치게 커지면 일정 온도까지 가열하기 위해서 레이저 출력이 커져, 소거성이 저하되거나, 또는 장치가 대형화된다고 하는 문제가 생긴다.
또한, 도 3 내지 도 9에 있어서, 레이저광 조사부와 인접하는 광 조사부의 간격은 레이저광 스폿 직경의 1/12 내지 1/3이 바람직하고, 1/10 이상이 보다 바람직하고, 1/8 이상이 더욱 바람직하다.
본 발명에 있어서의 레이저광의 주사 속도는 100 mm/초 이상이 바람직하고, 300 mm/초 이상이 보다 바람직하고, 500 mm/초 이상이 더더욱 바람직하다. 이 속도보다 느려지면, 화상 기록 또는 화상 소거를 하는 경우에 시간이 걸린다. 또한, 레이저광의 주사 속도는 20,000 mm/초 이하가 바람직하고, 15,000 mm/초 이하가 보다 바람직하고, 10,000 mm/초 이하가 더더욱 바람직하다. 이 속도보다 빨라지면 균일한 화상 기록이나 화상 소거가 곤란하게 되는 경우가 있다.
(화상 처리 장치)
본 발명의 화상 처리 장치는, 본 발명의 상기 화상 처리 방법에 이용되며, 레이저광 조사 수단과, 광 조사 강도 조정 수단을 적어도 구비하여 이루어지고, 필요에 따라서 적절하게 선택한 그 외의 부재를 더 구비하여 이루어진다.
- 레이저광 출사 수단 -
상기 레이저광 출사 수단으로서는, 레이저광을 조사할 수 있으면 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, CO2 레이저, YAG 레이저, 화이버 레이저, 반도체 레이저(LD) 등의 통상 이용되는 레이저를 들 수 있다.
상기 레이저광 출사 수단으로부터 출사되는 레이저광의 파장은, 특별히 제한은 없으며, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있지만, 가시 영역 내지 적외 영역이 바람직하며, 화상 콘트라스트가 향상된다는 점에서, 근적외 영역 내지 원적외 영역이 보다 바람직하다.
상기 가시 영역에서는, 상기 열 가역 기록 매체의 화상 기록 및 화상 소거를 위해, 레이저광을 흡수하여 발열시키기 위한 첨가제가 착색되기 때문에, 콘트라스트가 저하되는 경우가 있다.
상기 CO2 레이저로부터 출사되는 레이저광의 파장은, 원적외 영역의 10.6 ㎛이며, 상기 열 가역 기록 매체가 상기 레이저광을 흡수하기 때문에, 상기 열 가역 기록 매체에 대한 화상의 기록 및 소거를 위해, 레이저광을 흡수하여 발열시키기 위한 첨가물을 첨가하는 것이 불필요하게 된다. 또한, 이 첨가물은, 근적외 영역의 파장을 갖는 레이저광을 이용하더라도, 약간이기는 하지만, 가시광도 흡수하는 경우가 있기 때문에, 이 첨가물이 불필요하게 되는 상기 CO2 레이저는, 화상 콘트라스트의 저하를 막을 수 있다고 하는 이점이 있다.
상기 YAG 레이저, 상기 화이버 레이저 및 상기 LD로부터 출사되는 레이저광의 파장은, 가시 내지 근적외 영역(수백 ㎛ 내지 1.2 ㎛)이며, 현재의 열 가역 기록 매체는, 그 파장 영역의 레이저광을 흡수하지 않기 때문에, 레이저광을 흡수하여 열로 변환하기 위한 광열 변환 재료의 첨가가 필요하게 되지만, 파장이 짧기 때문에 고선명 화상의 기록이 가능하다고 하는 이점이 있다.
또한, 상기 YAG 레이저 및 상기 화이버 레이저는 고출력이기 때문에, 화상의 기록 및 소거 속도의 고속화를 도모할 수 있다는 이점이 있다. 상기 LD는 레이저 자체가 작기 때문에, 장치의 소형화, 나아가서는 저가격화가 가능하다고 하는 이점이 있다.
- 광 조사 강도 조정 수단 -
상기 광 조사 강도 조정 수단은 상기 레이저광의 광 조사 강도를 변화시키는 기능을 갖는다.
상기 광 조사 강도 조정 수단의 배치 형태로서는, 상기 레이저광 조사 수단에 있어서의 상기 레이저광 출사면에 배치되는 한 특별히 제한은 없으며, 상기 레이저광 조사 수단과의 거리 등은, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있다.
상기 광 조사 강도 조정 수단은, 상기 레이저광의 진행 방향에 대하여 대략 직교 방향의 단면에 있어서의 광 강도 분포를, 상기 가우스 분포로부터, 상기 중심부의 광 조사 강도가, 상기 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하가 되도록 변화시키는 기능을 갖는 것이 바람직하다. 화상의 기록 및 소거의 반복에 의한 상기 열 가역 기록 매체의 열화를 억제하여, 화상 콘트라스트를 유지한 채로 반복 내구성을 향상시킬 수 있다.
상기 광 조사 강도 조정 수단으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있는데, 예컨대, 렌즈, 필터, 마스크, 미러 등을 적합하게 들 수 있다. 구체적으로는, 예컨대, 만화경, 인테그레이터, 빔 호모지나이저, 비구면 빔 쉐이퍼(강도 변환 렌즈와 위상 보정 렌즈와의 조합) 등을 적합하게 사용할 수 있고, 또한 물리적으로 필터, 마스크 등으로 상기 레이저광의 중심부를 컷트함으로써 광 조사 강도를 조정할 수도 있다. 또한, 미러를 이용하는 경우, 컴퓨터와 연동하여 기계적으로 형상이 바뀌는 디포머블 미러, 반사율 또는 표면 요철이 부분적으로 다른 미러 등을 이용함으로써 광 조사 강도를 조정할 수 있다.
또한, 상기 열 가역 기록 매체와 fθ 렌즈와의 사이의 거리를 조정함으로써, 상기 중심부의 광 조사 강도를, 상기 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하가 되도록 변화시키는 것도 가능하다. 즉, 상기 열 가역 기록 매체와 상기 fθ 렌즈와의 사이의 거리를, 초점 거리로부터 위치를 바꾸어 가면, 상기 레이저광의 진행 방향에 대하여 대략 직교 방향의 단면에 있어서의 광 강도 분포를, 상기 가우스 분포로부터, 상기 중심부의 광 조사 강도가 저하한 분포로 변화시킬 수 있다.
또한, 레이저 광원으로서, 반도체 레이저, YAG 레이저 등을 화이버 커플링하면, 광 조사 강도의 조정을 용이하게 행할 수 있다.
상기 광 조사 강도 조정 수단으로서, 비구면 빔 쉐이퍼를 이용한, 광 조사 강도의 조정 방법의 일례에 관해서, 이하에 설명한다.
예컨대, 강도 변환 렌즈와 위상 보정 렌즈와의 조합을 이용하는 경우에는, 도 11a에 도시한 바와 같이, 상기 레이저광 출사 수단으로부터 출사되는 레이저광의 광로 상에, 2장의 비구면 렌즈를 배설한다. 그리고, 1장째의 비구면 렌즈 L1에 의해, 목적으로 하는 위치(거리 1)에서, 상기 광 강도 분포에 있어서의 상기 중심부의 광 조사 강도가 상기 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하(도 11a에서는, 플랫-탑 형상)가 되도록 강도 변환한다. 그 후, 강도 변환된 빔(레이저광)을 평행 전파시키기 위해서, 2장째의 비구면 렌즈 L2로 위상의 보정을 행한다. 그 결과, 상기 가우스 분포된 광 강도 분포를 변화시킬 수 있다.
또한, 도 11b에 도시한 바와 같이, 상기 레이저광 출사 수단으로부터 출사되는 레이저광의 광로 상에, 강도 변환 렌즈 L만을 배설하더라도 좋다. 이 경우, 가우스 분포된 입사 빔(레이저광)에 대해서, 강도가 강한 부분(내부)은 X1에 나타내는 바와 같이, 빔을 확산시키고, 반대로 강도가 약한 부분(외부)은 X2에 나타내는 바와 같이, 빔을 수속시킴으로써, 상기 광 강도 분포에 있어서의 상기 중심부의 광 조사 강도가 상기 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하(도 11b에서는, 플랫-탑 형상)가 되도록 변환할 수 있다.
또한, 상기 광 조사 강도 조정 수단으로서, 화이버 커플링한 반도체 레이저 와 렌즈와의 조합에 의한, 광 조사 강도의 조정 방법의 일례에 관해서, 이하에 설명한다.
화이버 커플링한 반도체 레이저에서는, 레이저광이 화이버 속을 반사를 반복하면서 전파해 나가기 때문에, 화이버 끝에서 출사하는 레이저광의 광 강도 분포는, 상기 가우스 분포와는 달리, 상기 가우스 분포와 상기 플랫-탑 형상과의 중간에 상당하는 광 강도 분포가 된다. 이러한 광 강도 분포를, 상기 플랫-탑 형상이 되도록, 화이버 끝에 집광 광학계로서 복수 장의 볼록 렌즈 및/또는 오목 렌즈를 조합시킨 것을 부착한다.
본 발명의 상기 화상 처리 장치는, 상기 레이저광 출사 수단 및 상기 광 강도 조정 수단을 적어도 구비하고 있는 것 외에, 그 기본 구성으로서는, 통상 레이저 마커라 불리는 것과 같은 식으로, 발진기 유닛, 전원 제어 유닛 및 프로그램 유닛을 적어도 구비하고 있다.
여기서, 도 12에, 본 발명의 화상 처리 장치의 일례를 레이저 조사 유닛을 중심으로 도시한다.
도 12에 도시하는 화상 처리 장치는, 출력 40 W의 CO2 레이저를 갖는 레이저 마커(산쿠스주식회사 제조, LP-440)의 광로 중에, 상기 광 조사 강도 조정 수단으로서, 레이저광의 중심부를 컷트하는 마스크(도시되지 않음)를 구비해 넣어, 레이저광의 진행 방향 직교 단면에 있어서의 광 강도 분포를, 상기 주변부의 광 조사 강도에 대하여 중심부의 광 조사 강도가 변화되도록 조정 가능하게 하고 있다.
한편, 레이저 조사 유닛, 즉, 화상 기록/소거용 헤드 부분의 사양은, 가능 레이저 출력 범위 : 0.1 내지 40 W, 조사 거리 가동 범위 : 특별히 한정 없음, 스폿 직경 범위 : 0.18 내지 10 mm, 스캔 스피드 범위 : 최대(max) 12,000 mm/s, 조사 거리 범위 : 110 mm×110 mm, 초점 거리 : 185 mm이다.
상기 발진기 유닛은 레이저 발진기(10), 빔 익스팬더(2), 스캐닝 유닛(5), fθ 렌즈(6) 등으로 구성되어 있다.
상기 레이저 발진기(10)는 광 강도가 강하고, 지향성이 높은 레이저광을 얻기 위해서 필요한 것으로, 예컨대, 레이저 매질의 양측에 미러를 배치하고, 상기 레이저 매질을 펌핑(에너지 공급)하여, 여기 상태의 원자수를 늘려 반전 분포를 형성시켜 유도 방출을 일으키게 한다. 그리고, 광축 방향의 광만이 선택적으로 증폭됨으로써, 광의 지향성이 높아져 출력 미러로부터 레이저광이 방출된다.
상기 스캐닝 유닛(5)은 갈바노미터(4)와, 이 갈바노미터(4)에 부착된 미러(4A)로 구성되어 있다. 그리고, 상기 레이저 발진기(10)로부터 출력된 레이저광을, 상기 갈바노미터(4)에 부착된 X축 방향과 Y축 방향의 2장의 미러(4A)로 고속 회전 주사함으로써, 열 가역 기록 매체(7) 상에, 화상의 기록 또는 소거를 행하도록 되어 있다.
상기 fθ 렌즈(6)는, 상기 갈바노미터(4)에 부착된 미러(4A)에 의해서 등각 속도로 회전 주사된 레이저광을, 상기 열 가역 기록 매체의 평면 상에서 등속 운동시키는 렌즈이다.
상기 전원 제어 유닛은, 방전용 전원(CO2 레이저의 경우) 또는 레이저 매질을 여기하는 광원의 구동 전원(YAG 레이저 등), 갈바노미터의 구동 전원, 펠티에 소자 등의 냉각용 전원, 화상 처리 장치 전체의 제어를 담당하는 제어부 등으로 구성되어 있다.
상기 프로그램 유닛은, 터치 패널 입력이나 키보드 입력에 의해, 화상의 기록 또는 소거를 위해, 레이저광의 세기, 레이저 주사의 속도 등의 조건 입력이나, 기록하는 문자 등의 작성 및 편집을 행하는 유닛이다.
한편, 상기 레이저 조사 유닛, 즉, 화상 기록/소거용 헤드 부분은, 화상 처리 장치에 탑재되어 있지만, 이 화상 처리 장치에는, 이 외에, 상기 열 가역 기록 매체의 반송부 및 그 제어부, 모니터부(터치 패널) 등을 구비하고 있다.
본 발명의 상기 화상 처리 방법 및 상기 화상 처리 장치는, 카드보드 등의 용기에 첨부한 라벨 등의 열 가역 기록 매체에 대하여, 비접촉식으로, 높은 콘트라스트의 화상을 고속으로 반복 기록 및 소거 가능하며, 게다가 반복에 의한 상기 열 가역 기록 매체의 열화를 억제할 수 있다. 이 때문에, 물류·배송 시스템에 특히 적합하게 사용 가능하다. 이 경우, 예컨대, 벨트 컨베이어에 실은 상기 카드보드를 이동시키면서, 상기 라벨에 화상을 기록 및 소거할 수 있어, 라인의 정지가 불필요하다는 점에서, 출하 시간의 단축을 도모할 수 있다. 또한, 상기 라벨이 첨부된 카드보드는, 그 라벨을 떼어내지 않고서, 그대로의 상태로 재이용하여, 재차 화상의 소거 및 기록을 행할 수 있다.
또한, 상기 화상 처리 장치는, 레이저광의 광 조사 강도를 변화시키는 상기 광 조사 강도 조정 수단을 구비하고 있기 때문에, 화상의 반복 기록 및 소거에 의한 상기 열 가역 기록 매체의 열화를 효과적으로 억제할 수 있다.
<화상 기록 및 화상 소거 메커니즘>
상기 화상 기록 및 화상 소거 메커니즘에는, 온도에 의존하여 투명도가 가역적으로 변화하는 형태와, 온도에 의존하여 색조가 가역적으로 변화하는 형태가 있다.
상기 투명도가 가역적으로 변화하는 형태에서는, 상기 열 가역 기록 매체에 있어서의 상기 유기 저분자가, 상기 수지 중에 입자형으로 분산되어 이루어지고, 상기 투명도가 투명 상태와 백탁 상태로 열에 의해 가역적으로 변화된다.
상기 투명도 변화의 눈으로의 확인은 하기 현상에 연유된다. 즉, (1) 투명 상태인 경우, 수지 모재 중에 분산된 상기 유기 저분자 물질의 입자와, 상기 수지 모재와는 간극 없이 밀착되어 있고, 또한 상기 입자 내부에도 공극이 존재하지 않기 때문에, 한 쪽으로부터 입사한 광은 산란하지 않고 반대측으로 투과하여, 투명하게 보인다. 한편, (2) 백탁 상태인 경우, 상기 유기 저분자 물질의 입자는, 상기 유기 저분자 물질의 미세한 결정으로 형성되어 있고, 그 결정의 계면 또는 상기 입자와 상기 수지 모재와의 계면에 간극(공극)이 생겨, 한 쪽으로부터 입사한 광은 상기 공극과 상기 결정과의 계면, 또는 상기 공극과 상기 수지와의 계면에 있어서 굴절하여 산란하기 때문에, 하얗게 보인다.
우선, 도 13a에, 상기 수지 중에 상기 유기 저분자 물질이 분산되어 이루어 지는 가역성 감열 기록층(이하, 「감열 기록층」, 「기록층」이라고 부르는 경우도 있음)을 갖는 열 가역 기록 매체에 대해서, 그 온도-투명도 변화 곡선의 일례를 도시한다.
상기 기록층은, 예컨대, T0 이하의 상온에서는, 백탁 불투명 상태(A)이다. 이것을 가열해 나가면, 온도 T1로부터 서서히 투명하게 되기 시작하여, 온도 T2 내지 T3으로 가열하면 투명(B)하게 되고, 이 상태에서 다시 T0 이하의 상온으로 되돌리더라도 투명(D) 상태 그대로이다. 이것은, 온도 T1 부근으로부터 상기 수지가 연화되기 시작하여, 연화가 진행됨에 따라서 그 수지가 수축하여, 그 수지와 상기 유기 저분자 물질 입자와의 계면, 또는 상기 입자 내의 공극을 감소시키기 때문에, 서서히 투명도가 올라가, 온도 T2 내지 T3에서는, 상기 유기 저분자 물질이 반용융 상태가 되어, 남은 공극을 상기 유기 저분자 물질이 메움으로써 투명하게 되어, 종 결정이 남은 채로 냉각되면 비교적 고온에서 결정화되고, 그 때, 상기 수지가 아직 연화 상태에 있기 때문에, 결정화에 따른 입자의 퇴적 변화에 상기 수지가 추종하여, 상기 공극이 생기지 않고, 투명 상태가 유지되기 때문이라고 생각된다.
또한, T4 이상의 온도로 가열하면, 최대 투명도와 최대 불투명도와의 중간의 반투명 상태(C)가 된다. 이어서, 이 온도를 낮춰가면, 다시 투명 상태로 되는 일없이, 최초의 백탁 불투명 상태(A)로 되돌아간다. 이것은, 온도 T4 이상에서 상기 유기 저분자 물질이 완전히 용융한 후, 과냉각 상태가 되어, T0보다 조금 높은 온도에 서 결정화되고, 그 때, 상기 수지가 결정화에 따른 체적 변화에 추종할 수 없어, 공극이 발생하기 때문이라고 생각된다.
다만, 도 13a에 도시하는 온도-투명도 변화 곡선은, 상기 수지, 상기 유기 저분자 물질 등의 종류를 바꾸면, 그 종류에 따라서, 각 상태의 투명도에 변화가 생기는 경우가 있다.
또한, 투명 상태와 백탁 상태가 열에 의해 가역적으로 변화하는 상기 열 가역 기록 매체의 투명도 변화 메커니즘을 도 13b에 도시한다.
도 13b에서는, 하나의 장쇄 저분자 입자와, 그 주위의 고분자를 추출하여, 가열 및 냉각에 따른 공극의 발생 및 소실 변화를 도시하고 있다. 백탁 상태(A)에서는, 고분자와 저분자 입자와의 사이(또는 입자 내부)에 공극이 생겨, 광 산란 상태로 되고 있다. 이것을 가열하여, 상기 고분자의 연화점(Ts)을 넘으면, 공극은 감소하여 투명도가 증가한다. 더욱 가열하여, 상기 저분자 입자의 융점(Tm) 가까이가 되면, 그 저분자 입자의 일부가 용융하여, 용융된 저분자 입자의 체적 팽창을 위해, 공극에 상기 저분자 입자가 충만되어 공극이 소실되어, 투명 상태(B)로 된다. 여기에서 냉각하면, 융점 바로 아래에서 상기 저분자 입자는 결정화되어, 공극은 발생하지 않고, 실온에서도 투명 상태(D)가 유지된다.
이어서, 상기 저분자 입자의 융점 이상으로 가열하면, 용융한 저분자 입자와 주위의 고분자와의 굴절율에 어긋남이 생겨, 반투명 상태(C)로 된다. 여기에서 실온까지 냉각하면 상기 저분자 입자는 과냉각 현상을 일으켜 고분자의 연화점 이하에서 결정화되고, 이 때 상기 고분자는 유리 상태로 되어 있기 때문에, 상기 저분 자 입자의 결정화에 따른 체적 감소에, 주위의 고분자가 추종할 수 없어, 공극이 발생하여 원래의 백탁 상태(A)로 되돌아간다.
이어서, 온도에 의존하여 색조가 가역적으로 변화하는 형태에서는, 융해 전의 상기 유기 저분자 물질이, 로이코 염료 및 가역성 현색제(이하, 「현색제」라고 부르는 경우가 있음)이며, 또한 융해한 후이고, 결정화되기 전의 상기 유기 저분자 물질이, 상기 로이코 염료 및 상기 현색제이며, 상기 색조가 투명 상태와 발색 상태로 열에 의해 가역적으로 변화된다.
도 14a에, 상기 수지 중에 상기 로이코 염료 및 상기 현색제를 포함하여 이루어지는 가역성 감열 기록층을 갖는 열 가역 기록 매체에 대해서, 그 온도-발색 농도 변화 곡선의 일례를 도시하고, 도 14b에, 투명 상태와 발색 상태가 열에 의해 가역적으로 변화하는 상기 열 가역 기록 매체의 발색-소색 메커니즘을 도시한다.
우선, 처음 소색 상태(A)에 있는 상기 기록층을 승온하여 나가면, 용융 온도 T1에서, 상기 로이코 염료와 상기 현색제가 용융 혼합하여, 발색이 생겨 용융 발색 상태(B)가 된다. 용융 발색 상태(B)에서 급냉하면, 발색 상태 그대로 실온으로 내릴 수 있어, 발색 상태가 안정화되어 고정된 발색 상태(C)가 된다. 이 발색 상태가 얻어졌는지 여부는, 용융 상태로부터의 강온 속도에 의존하고 있으며, 서냉에서는 강온의 과정에서 소색이 생겨, 초기와 동일한 소색 상태(A), 또는 급냉에 의한 발색 상태(C)보다도 상대적으로 농도가 낮은 상태로 된다. 한편, 발색 상태(C)로부터 다시 승온해 나가면, 발색 온도보다도 낮은 온도 T2에서 소색이 생기고(D에서 E), 이 상태에서 온도를 내리면, 초기와 동일한 소색 상태(A)로 되돌아간다.
용융 상태로부터 급냉하여 얻은 발색 상태(C)는, 상기 로이코 염료와 상기 현색제가 분자끼리 접촉 반응할 수 있는 상태로 혼합된 상태이며, 이것은 고체 상태를 형성하고 있는 경우가 많다. 이 상태에서는, 상기 로이코 염료와 상기 현색제와의 용융 혼합물(상기 발색 혼합물)이 결정화되어 발색을 유지한 상태이며, 이 구조의 형성에 의해 발색이 안정화되고 있다고 생각된다. 한편, 소색 상태는, 양자가 상 분리된 상태이다. 이 상태는, 적어도 한쪽의 화합물의 분자가 집합하여 도메인을 형성하거나, 결정화한 상태이며, 응집 또는 결정화함으로써 상기 로이코 염료와 상기 현색제가 분리되어 안정화된 상태라고 생각된다. 많은 경우, 이와 같이, 양자가 상 분리하여 상기 현색제가 결정화됨으로써, 보다 완전한 소색이 생긴다.
한편, 도 14a에 도시하는, 용융 상태에서 서냉에 의한 소색 및 발색 상태로부터의 승온에 의한 소색은 모두 T2에서 응집 구조가 변화되어, 상 분리나 상기 현색제의 결정화가 생기고 있다.
이상으로부터, 상기 수지 중에 상기 로이코 염료 및 상기 현색제를 포함하여 이루어지는 가역성 감열 기록층을 갖는 열 가역 기록 매체에서는, 베타 화상이나 바코드 등을 기록할 때, 상기 화상 기록 단계에 있어서, 꺽임부 및 선의 중첩부 중 적어도 어느 하나에 축열의 악영향이 없는 경우는 급냉 상태가 되어, 용융 혼합된 상기 로이코 염료와 상기 현색제와의 분리가 방해를 받아, 결과적으로 발색 상태를 유지한다고 생각된다.
[열 가역 기록 매체]
본 발명의 상기 화상 처리 방법에 이용되는 상기 열 가역 기록 매체는, 지지체와, 가역성 감열 기록층을 적어도 구비하여 이루어지고, 필요에 따라서 적절하게 선택한, 보호층, 중간층, 언더코팅층, 백층, 광열 변환층, 접착층, 점착층, 착색층, 공기층, 광 반사층 등의 그 외의 층을 더 구비하여 이루어진다. 이들 각 층은, 단층 구조라도 좋고, 적층 구조라도 좋다.
- 지지체 -
상기 지지체는 그 형상, 구조, 크기 등에 대해서는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 상기 형상은 예컨대, 평판상 등을 들 수 있고, 상기 구조는 단층 구조라도 좋고, 적층 구조라도 좋으며, 상기 크기는 상기 열 가역 기록 매체의 크기 등에 따라서 적절하게 선택할 수 있다.
상기 지지체의 재료로서는 예컨대, 무기 재료, 유기 재료 등을 들 수 있다.
상기 무기 재료로서는 예컨대, 유리, 석영, 실리콘, 산화실리콘, 산화알루미늄, SiO2, 금속 등을 들 수 있다.
상기 유기 재료로서는 예컨대, 종이, 삼아세트산셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 합성지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 필름 등을 들 수 있다.
상기 무기 재료 및 상기 유기 재료는, 1종 단독으로 사용하더라도 좋고, 2종 이상을 병용하더라도 좋다. 이들 중에서도, 유기 재료가 바람직하고, 폴리에틸렌테 레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 필름이 바람직하며, 폴리에틸렌테레프탈레이트가 특히 바람직하다.
상기 지지체에는, 도포층의 접착성을 향상시키는 것을 목적으로 하여, 코로나 방전 처리, 산화 반응 처리(크롬산 등), 에칭 처리, 역접착 처리, 대전 방지 처리 등을 실시함으로써 표면 개질하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 지지체에, 산화티탄 등의 백색 안료 등을 첨가함으로써, 백색으로 하는 것이 바람직하다.
상기 지지체의 두께는 특별히 제한은 없으며, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있지만, 10 내지 2,000 ㎛가 바람직하고, 50 내지 1,000 ㎛가 보다 바람직하다.
- 가역성 감열 기록층 -
상기 가역성 감열 기록층(이하, 단순히 「기록층」이라고 부르는 경우도 있음)은, 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 재료를 적어도 포함하며, 필요에 따라서 그 외의 성분을 더 포함하여 이루어진다.
상기 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 재료는, 온도 변화에 의해 눈에 띄는 변화를 가역적으로 일으키는 현상을 발현할 수 있는 재료이며, 가열 온도 및 가열 후의 냉각 속도의 차이에 의해, 상대적으로 발색된 상태와 소색된 상태로 변화할 수 있다. 이 경우, 눈에 띄는 변화는, 색의 상태 변화와 형상의 변화로 나누어진다. 이 색의 상태 변화는 예컨대, 투과율, 반사율, 흡수 파장, 산란도 등의 변화에 기인하며, 상기 열 가역 기록 매체는 실제로 는 이들 변화의 조합에 의해 색의 상태가 변화된다.
상기 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 재료로서는, 특별히 제한은 없으며, 공지의 것 중에서 적절하게 선택할 수 있고, 예컨대, 중합체를 2종 이상 혼합하여, 그 상용 상태의 차이로 투명 및 백탁으로 변화하는 것(일본 특허 공개 소61-258853호 공보 참조), 액정 고분자의 상 변화를 이용한 것(일본 특허 공개 소62-66990호 공보 참조), 상온보다 높은 제1 특정 온도에서 제1 색의 상태가 되고, 상기 제1 특정 온도보다도 높은 제2 특정 온도에서 가열하여, 그 후 냉각함으로써 제2 색의 상태가 되는 것 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 온도 제어하기 쉽고, 높은 콘트라스트를 얻을 수 있다는 점에서, 상기 제1 특정 온도와 제2 특정 온도에서 색의 상태가 변화하는 것이 특히 바람직하다.
예컨대 상온보다 높은 제1 특정 온도에서 제1 색의 상태가 되고, 상기 제1 특정 온도보다도 높은 제2 특정 온도에서 가열하여, 그 후 냉각함으로써 제2 색의 상태가 되는 것, 또한 상기 제2 특정 온도보다도 높은 제3 특정 온도 이상에서 가열하는 것 등을 들 수 있다.
이들 예로서는, 제1 특정 온도에서 투명 상태가 되고, 제2 특정 온도에서 백탁 상태가 되는 것(일본 특허 공개 소55-154198호 공보 참조), 제2 특정 온도에서 발색하고, 제1 특정 온도에서 소색하는 것(일본 특허 공개 평4-224996호 공보, 일본 특허 공개 평4-247985호 공보, 일본 특허 공개 평4-267190호 공보 등 참조), 제1 특정 온도에서 백탁 상태가 되고, 제2 특정 온도에서 투명 상태가 되는 것(일본 특허 공개 평3-169590호 공보 참조), 제1 특정 온도에서 흑, 적, 청 등으로 발색하고, 제2 특정 온도에서 소색하는 것(일본 특허 공개 평2-188293호, 일본 특허 공개 평2-188294호 공보 등 참조) 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 수지 모재와 이 수지 모재 중에 분산시킨 고급 지방산 등의 유기 저분자 물질로 이루어지는 열 가역 기록 매체는, 제2 특정 온도 및 제1 특정 온도가 비교적 낮아, 낮은 에너지에 의한 소거 기록이 가능하다는 점에서 유리하다. 또한, 발색-소색 메커니즘이, 수지의 고화와 유기 저분자 물질의 결정화에 의존하는 물리 변화이기 때문에, 내환경성이 강하다는 특성이 있다.
또한, 후술하는 로이코 염료와 가역성 현색제를 이용한, 제2 특정 온도에서 발색하고, 제1 특정 온도에서 소색하는 열 가역 기록 매체는, 투명 상태와 발색 상태를 가역적으로 나타내며, 발색 상태에서는 흑, 청, 그 외의 색을 나타내기 때문에, 높은 콘트라스트의 화상을 얻을 수 있다.
상기 열 가역 기록 매체에 있어서의 상기 유기 저분자 물질(수지 모재 중에 분산되어, 제1 특정 온도에서 투명 상태가 되고, 제2 특정 온도에서 백탁 상태가 되는 것)로서는, 상기 기록층 중에서, 열에 의해 다결정에서 단결정으로 변화하는 것이라면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 일반적으로, 융점이 30 내지 200℃ 정도인 것을 사용할 수 있고, 융점이 50 내지 150℃인 것이 적합하다.
이러한 유기 저분자 물질로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 알칸올; 알칸디올; 할로겐알칸올 또는 할로겐알칸디 올; 알킬아민; 알칸; 알켄; 알킨; 할로겐알칸; 할로겐알켄; 할로겐알킨; 시클로알칸; 시클로알켄; 시클로알킨; 포화 또는 불포화 모노 또는 디카르복실산 및 이들의 에스테르, 아미드 또는 암모늄염; 포화 또는 불포화 할로겐지방산 및 이들의 에스테르, 아미드 또는 암모늄염; 아릴카르복실산 및 이들의 에스테르, 아미드 또는 암모늄염; 할로겐알릴카르복실산 및 이들의 에스테르, 아미드 또는 암모늄염; 티오알콜; 티오카르복실산 및 이들의 에스테르, 아민 또는 암모늄염; 티오알콜의 카르복실산에스테르; 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 사용하더라도 좋고, 2종 이상을 병용하더라도 좋다.
이들 화합물의 탄소수로서는, 10 내지 60이 바람직하고, 10 내지 38이 보다 바람직하고, 10 내지 30이 특히 바람직하다. 에스테르 중의 알콜기 부분은, 포화되고 있더라도 좋고 포화되지 않더라도 좋고, 할로겐 치환되어 있더라도 좋다.
또한, 상기 유기 저분자 물질은, 그 분자 중에, 산소, 질소, 황 및 할로겐에서 선택되는 적어도 1종, 예컨대, -OH, -COOH, -CONH-, -COOR, -NH-, -NH2, -S-, -S-S-, -O-, 할로겐 원자 등을 포함하고 있는 것이 바람직하다.
더욱 구체적으로는, 이들 화합물로서는 예컨대, 라우린산, 도데칸산, 미리스틴산, 펜타데칸산, 팔미틴산, 스테아린산, 베헨산, 노나데칸산, 아라긴산, 올레인산 등의 고급 지방산; 스테아린산메틸, 스테아린산테트라데실, 스테아린산옥타데실, 라우린산옥타데실, 팔미틴산테트라데실, 베헨산도데실 등의 고급 지방산의 에스테르 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 상기 화상 처리 방법의 제3 형태에서 이 용되는 유기 저분자 물질로서는, 고급 지방산이 바람직하고, 팔미틴산, 스테아린산, 베헨산, 리그노세린산 등의 탄소수 16 이상의 고급 지방산이 보다 바람직하고, 탄소수 16 내지 24의 고급 지방산이 더욱 바람직하다.
상기 열 가역 기록 매체를 투명화할 수 있는 온도 범위의 폭을 넓히기 위해서는, 상술한 각종 유기 저분자 물질을 적절하게 조합하여 사용하더라도 좋고, 그 유기 저분자 물질과 융점이 상이한 다른 재료를 조합하여 사용하더라도 좋다. 이들은 예컨대, 일본 특허 공개 소63-39378호 공보, 일본 특허 공개 소63-130380호 공보, 일본 특허 제2615200호 공보 등에 개시되어 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.
상기 수지 모재는, 상기 유기 저분자 물질을 균일하게 분산 유지한 층을 형성하는 동시에, 최대 투명시의 투명도에 영향을 준다. 이 때문에, 상기 수지 모재로서는, 투명성이 높고, 기계적 안정성을 가지며, 또한 성막성이 양호한 수지인 것이 바람직하다.
이러한 수지로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 폴리염화비닐; 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 염화비닐-아세트산비닐-비닐알콜 공중합체, 염화비닐-아세트산비닐-말레산 공중합체, 염화비닐-아크릴레이트 공중합체 등의 염화비닐계 공중합체; 폴리염화비닐리덴; 염화비닐리덴-염화비닐 공중합체, 염화비닐리덴-아크릴로니트릴 공중합체 등의 염화비닐리덴계 공중합체; 폴리에스테르; 폴리아미드; 폴리아크릴레트 또는 폴리메타크릴레이트 또는 아크릴레이트-메타크릴레이트 공중합체; 실리콘 수지; 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 사용하더라도 좋고, 2종 이상을 병용하더라도 좋다.
상기 기록층에 있어서의, 상기 유기 저분자 물질과 상기 수지(수지 모재)와의 비율은 질량비로 2:1 내지 1:16 정도가 바람직하고, 1:2 내지 1:8이 보다 바람직하다.
상기 수지의 비율이 2:1보다도 작으면, 상기 유기 저분자 물질을 상기 수지 모재 중에 유지한 막을 형성하는 것이 곤란하게 되는 경우가 있고, 1:16보다도 커지면, 상기 유기 저분자 물질의 양이 적기 때문에, 상기 기록층의 불투명화가 곤란하게 되는 경우가 있다.
상기 기록층에는, 상기 유기 저분자 물질 및 상기 수지 외에, 투명 화상의 기록을 쉽게 하기 위해서, 고비점 용제, 계면활성제 등의 그 외의 성분을 첨가할 수 있다.
상기 고비점 용제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대 인산트리부틸, 인산트리-2-에틸헥실, 인산트리페닐, 인산트리크레딜, 올레인산부틸, 프탈산디메틸, 프탈산디에틸, 프탈산디부틸, 프탈산디헵틸, 프탈산디-n-옥틸, 프탈산디-2-에틸헥실, 프탈산디이소노닐, 프탈산디옥틸데실, 프탈산디이소데실, 프탈산부틸벤질, 아디핀산디부틸, 아디핀산디-n-헥실, 아디핀산디-2-에틸헥실, 아젤라인산디-2-에틸헥실, 세바신산디부틸, 세바신산디-2-에틸헥실, 디에틸렌글리콜디벤조에이트, 트리에틸렌글리콜디-2-에틸부티레이트, 아세틸리시놀레산메틸, 아세틸리시놀레산부틸, 부틸프타릴부틸글리콜레이트, 아세틸시트르산트리부틸 등을 들 수 있다.
상기 계면활성제 및 그 외의 성분으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 다가 알콜 고급 지방산 에스테르; 다가 알콜 고급 알킬에테르; 다가 알콜 고급 지방산 에스테르, 고급 알콜, 고급 알킬페놀, 고급 지방산 고급 알킬아민, 고급 지방산 아미드, 유지 또는 폴리프로필렌글리콜의 저급 올레핀옥사이드 부가물; 아세틸렌글리콜; 고급 알킬벤젠술폰산의 Na, Ca, Ba 또는 Mg염; 고급 지방산, 방향족 카르복실산, 고급 지방산 술폰산, 방향족 술폰산, 황산모노에스테르 또는 인산모노- 또는 디-에스테르의 Ca, Ba 또는 Mg염; 저도 황산화유; 폴리장쇄 알킬아크릴레이트; 아크릴계 올리고머; 폴리장쇄 알킬메타크릴레이트; 장쇄 알킬메타크릴레이트-아민 함유 모노머 공중합체; 스티렌-무수말레산 공중합체; 올레핀-무수말레산 공중합체 등을 들수있다.
상기 기록층의 제작 방법으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 상기 수지 모재 및 상기 유기 저분자 물질의 2 성분을 용해한 용액, 또는 상기 수지 모재의 용액(용제로서는, 상기 유기 저분자 물질에서 선택되는 적어도 1종의 불용(不溶)의 것)에 상기 유기 저분자 물질을 미립자형으로 분산시킨 분산액을 예컨대, 상기 지지체 상에 도포 및 건조시킴으로써 행할 수 있다.
상기 기록층의 제작용 용제로서는, 특별히 제한은 없고, 상기 수지 모재 및 상기 유기 저분자 물질의 종류에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 테트라히드로푸란, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 클로로포름, 사염화탄소, 에탄올, 톨루엔, 벤젠 등을 들 수 있다. 한편, 상기 분산액을 사용한 경우는 물론, 상기 용 액을 사용한 경우도, 얻어지는기록층 중에서는 상기 유기 저분자 물질은 미립자로서 석출하여, 분산 상태로 존재한다.
상기 열 가역 기록 매체에 있어서의 상기 유기 저분자 물질은, 상기 로이코 염료 및 상기 가역성 현색제로 이루어지며, 제2 특정 온도에서 발색하고, 제1 특정 온도에서 소색하는 것이라도 좋다. 상기 로이코 염료는, 그 자체 무색 또는 담색의 염료 전구체이다. 이 로이코 염료로서는, 특별히 제한은 없고, 공지의 것 중에서 적절하게 선택할 수 있는데, 예컨대, 트리페닐메탄프탈리드계, 트리알릴메탄계, 플루오란계, 페노티아진계, 티오플루오란계, 크산텐계, 인도프탈릴계, 스피로피란계, 아자프탈리드계, 크로메노피라졸계, 메틴계, 로다민아닐리노락탐계, 로다민락탐계, 퀴나졸린계, 디아자크산텐계, 비스락톤계 등의 로이코 화합물을 적합하게 들 수 있다. 이들 중에서도, 발색-소색 특성, 색채, 보존성 등이 우수하다는 점에서, 플루오란계 또는 프탈리드계의 로이코 염료가 특히 바람직하다. 이들은 1종 단독으로 사용하더라도 좋고, 2종 이상을 병용하더라도 좋고, 다른 색조에 발색하는 층을 적층함으로써, 멀티-컬러, 풀-컬러에 대응시킬 수도 있다.
상기 가역성 현색제로서는, 열을 인자로 하여 발색-소색을 가역적으로 행할 수 있는 것이라면 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있는데, 예컨대, (1) 상기 로이코 염료를 발색시키는 현색능을 갖는 구조(예컨대, 페놀성 수산기, 카르복실산기, 인산기 등) 및 (2) 분자 사이의 응집력을 제어하는 구조(예컨대, 장쇄 탄화수소기가 연결된 구조)에서 선택되는 구조를 분자 내에 하나 이상 갖는 화합물을 적합하게 들 수 있다. 한편, 연결 부분에는 헤테로 원자를 포함하는 2가 이상의 연결기를 매개하고 있더라도 좋고, 또한 장쇄 탄화수소기 중에도, 같은 연결기 및 방향족기 중 적어도 어느 하나가 포함되어 있더라도 좋다.
상기 (1) 로이코 염료를 발색시키는 현색능을 갖는 구조로서는, 페놀이 특히 바람직하다.
상기 (2) 분자 사이의 응집력을 제어하는 구조로서는, 탄소수 8 이상의 장쇄 탄화수소기가 바람직하고, 이 탄소수는 11 이상이 보다 바람직하고, 또한 탄소수의 상한으로서는 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하다.
상기 가역성 현색제 중에서도, 하기 화학식 1로 표시되는 페놀 화합물이 바람직하고, 하기 화학식 2로 표시되는 페놀 화합물이 보다 바람직하다.
화학식 1
Figure 112007020552454-PAT00001
화학식 2
Figure 112007020552454-PAT00002
상기 화학식 1 및 2 중, R1은 단결합 또는 탄소수 1 내지 24의 지방족 탄화수소기를 나타낸다. R2는 치환기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 2 이상의 지방족 탄화수소기를 나타내며, 이 탄소수로서는, 5 이상이 바람직하고, 10 이상이 보다 바람직하다. R3은 탄소수 1 내지 35의 지방족 탄화수소기를 나타내며, 이 탄소수로서 는, 6 내지 35가 바람직하고, 8 내지 35가 보다 바람직하다. 이들 지방족 탄화수소기는 1종 단독으로 갖고 있더라도 좋고, 2종 이상을 병용하여 갖고 있더라도 좋다.
상기 R1, 상기 R2 및 상기 R3의 탄소수의 합으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있지만, 하한은 8 이상이 바람직하고, 11 이상이 보다 바람직하며, 상한은 40 이하가 바람직하고, 35 이하가 보다 바람직하다.
상기 탄소수의 합이 8 미만이면, 발색의 안정성이나 소색성이 저하되는 경우가 있다.
상기 지방족 탄화수소기는 직쇄라도 좋고, 분지쇄라도 좋으며, 불포화 결합을 갖고 있더라도 좋지만, 직쇄인 것이 바람직하다. 또한, 상기 탄화수소기에 결합하는 치환기로서는 예컨대, 수산기, 할로겐 원자, 알콕시기 등을 들 수 있다.
X 및 Y는 각각 동일하더라도 좋고, 다르더라도 좋으며, N 원자 또는 O 원자를 포함하는 2가의 기를 나타내고, 구체적인 예로서는, 산소 원자, 아미드기, 요소기, 디아실히드라진기, 옥살산디아미드기, 아실요소기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 아미드기, 요소기가 바람직하다.
n은 0 내지 1의 정수를 나타낸다.
상기 전자 수용성 화합물(현색제)은, 소색 촉진제로서 분자 중에 -NHCO-기, -OCONH-기를 적어도 하나 이상 갖는 화합물을 병용함으로써, 소색 상태를 형성하는 과정에 있어서 소색 촉진제와 현색제 사이에 분자간 상호 작용이 유발되어, 발색-소색 특성이 향상되기 때문에 바람직하다.
상기 소색 촉진제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 하기 화학식 3 내지 9로 표시되는 화합물 등이 바람직하다.
화학식 3
Figure 112007020552454-PAT00003
화학식 4
Figure 112007020552454-PAT00004
화학식 5
Figure 112007020552454-PAT00005
화학식 6
Figure 112007020552454-PAT00006
화학식 7
Figure 112007020552454-PAT00007
화학식 8
Figure 112007020552454-PAT00008
화학식 9
Figure 112007020552454-PAT00009
상기 화학식 3 내지 9에 있어서, R1, R2 및 R4는 탄소수 7 이상 22 이하의 직 쇄 알킬기, 분지 알킬기, 또는 불포화 알킬기를 나타낸다. R3은 탄소수 1 내지 10의 메틸렌기를 나타낸다. R5는 탄소수 4 내지 10의 3가의 관능기를 나타낸다.
상기 전자 공여성 정색(呈色) 화합물(발색제)과, 상기 전자 수용성 화합물(현색제)과의 혼합 비율은, 사용하는 화합물의 조합에 따라 적절한 범위가 변화되어 일률적으로는 규정할 수 없지만, 대체로 몰비로 발색제 1에 대하여 현색제가 0.1 내지 20인 범위가 바람직하고, 0.2 내지 10인 범위가 보다 바람직하다. 이 적합한 범위보다 현색제가 적어도 많아도 발색 상태의 농도가 저하되어 문제가 된다.
또한, 상기 소색 촉진제를 첨가하는 경우는, 그 비율은 현색제 100 질량부에 대하여 0.1 질량부 내지 300 질량부가 바람직하고, 3 질량부 내지 100 질량부가 보다 바람직하다. 한편, 상기 발색제와 상기 현색제는 마이크로캡슐 중에 내포하여 이용할 수도 있다.
상기 가역성 감열 기록층에는, 바인더 수지, 필요에 따라서 기록층의 도포 특성이나 발색-소색 특성을 개선하거나, 제어하기 위한 각종 첨가제를 더 이용할 수 있다. 이들 첨가제로서는 예컨대, 계면활성제, 도전제, 충전제, 산화방지제, 광안정화제, 발색안정화제, 소색촉진제 등을 들 수 있다.
상기 바인더 수지로서는, 지지체 상에 기록층을 결착할 수 있으면 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있는데, 종래부터 공지된 수지 중에서 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 이용할 수 있다. 이들 중에서도, 반복시의 내구성을 향상시키기 위해서, 열, 자외선, 전자선 등에 의해서 경화 가능한 수지가 바 람직하게 이용되고, 특히 이소시아네이트계 화합물 등을 가교제로서 이용한 열 경화성 수지가 적합하다. 이 열 경화성 수지로서는 예컨대, 수산기나 카르복실기 등의 가교제와 반응하는 기를 갖는 수지, 또는 수산기나 카르복실기 등을 갖는 모노머와 그 이외의 모노머를 공중합한 수지 등을 들 수 있다. 이러한 열 경화성 수지로서는, 예컨대, 페녹시 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 수지, 셀룰로오스아세테이트부티레이트 수지, 아크릴폴리올 수지, 폴리에스테르폴리올 수지, 폴리우레탄폴리올 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 아크릴폴리올 수지, 폴리에스테르폴리올 수지, 폴리우레탄폴리올 수지가 특히 바람직하다.
상기 아크릴폴리올 수지는, (메트)아크릴산에스테르 단량체와, 카르복실산기를 갖는 불포화 단량체, 수산기를 갖는 불포화 단량체 및 그 외의 에틸렌성 불포화 단량체를 이용하여, 공지의 용액 중합법, 현탁 중합법, 유화 중합법 등에 따라서 합성할 수 있다.
상기 수산기를 갖는 불포화 단량체로서는 예컨대, 히드록시에틸아크릴레이트(HEA), 히드록시프로필아크릴레이트(HPA), 2-히드록시에틸메타크릴레이트(HEMA), 2-히드록시프로필메타크릴레이트(HPMA), 2-히드록시부틸모노아크릴레이트(2-HBA), 1,4-히드록시부틸모노아크릴레이트(1-HBA) 등이 이용되지만, 제1급 수산기를 갖는 모노머를 사용한 쪽이 도포막의 균열 저항성이나 내구성이 좋으므로, 2-히드록시에틸메타크릴레이트가 바람직하게 이용된다.
상기 기록층 중에 있어서의 상기 발색제와 바인더 수지와의 혼합 비율(질량 비)은, 발색제 1에 대하여 0.1 내지 10이 바람직하다. 바인더 수지가 지나치게 적으면, 상기 기록층의 열 강도가 부족한 경우가 있고, 한편, 바인더 수지가 지나치게 많으면, 발색 농도가 저하되어 문제가 되는 경우가 있다.
상기 가교제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 이소시아네이트류, 아미노 수지, 페놀 수지, 아민류, 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 이소시아네이트류가 바람직하고, 특히 바람직하게는 이소시아네이트기를 복수 갖는 폴리이소시아네이트 화합물이다.
상기 이소시아네이트류로서는 예컨대, 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 톨릴렌디이소시아네이트(TDI), 크실릴렌디이소시아네이트(XDI) 또는 이들 트리메틸올프로판 등에 의한 아닥트 타입, 뷰렛 타입, 이소시아누레이트 타입, 또는 블록화 이소시아네이트류 등을 들 수 있다.
상기 가교제의 바인더 수지에 대한 첨가량은, 바인더 수지 중에 포함되는 활성기의 수에 대한 가교제의 관능기의 비는 0.01 내지 2가 바람직하다. 이것 이하이면 열 강도가 부족하게 되어 버리고, 또한 이 이상 첨가하면 발색 및 소색 특성에 악영향을 미친다.
또한, 가교 촉진제로서 이런 유형의 반응에 이용되는 촉매를 이용하더라도 좋다. 이 가교 촉진제로서는, 예컨대 1,4-디아자비시클로[2,2,2]옥탄 등의 3급 아민류, 유기 주석 화합물 등의 금속 화합물 등을 들 수 있다.
상기 열 가교한 경우의 열 경화성 수지의 겔분률은 30% 이상이 바람직하고, 50% 이상이 보다 바람직하고, 70% 이상이 더욱 바람직하다. 상기 겔분률이 30% 미 만이면, 가교 상태가 충분하지 않아 내구성이 뒤떨어지는 경우가 있다.
상기 바인더 수지가 가교 상태에 있는 것인지 비가교 상태에 있는 것인지를 구별하는 방법으로서는 예컨대, 도포막을 용해성이 높은 용매 중에 침지함으로써 구별할 수 있다. 즉, 비가교 상태에 있는 바인더 수지는 용매 중에 그 수지가 녹기 시작하여 용질 중에는 남지 않게 된다.
상기 기록층에 있어서의 그 외의 성분으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 화상의 기록을 쉽게 한다는 관점에서, 계면활성제, 가소제 등을 들 수 있다.
상기 계면활성제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 음이온 계면활성제, 양이온 계면활성제, 비이온 계면활성제, 양성 계면활성제 등을 들 수 있다.
상기 가소제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 인산에스테르, 지방산에스테르, 프탈산에스테르, 이염기산에스테르, 글리콜, 폴리에스테르계 가소제, 에폭시계 가소제 등을 들 수 있다.
상기 기록층용 도포액에 이용되는 용매, 도포액의 분산 장치, 기록층의 도공 방법, 건조·경화 방법 등은 상기 백층에서 이용된 공지의 방법을 이용할 수 있다.
한편, 기록층용 도포액은 상기 분산 장치를 이용하여 각 재료를 용매 중에 분산하더라도 좋고, 각각 단독으로 용매 중에 분산하여 혼합하더라도 좋다. 또한 가열 용해하여 급냉 또는 서냉에 의해서 석출시키더라도 좋다.
상기 기록층을 형성하는 방법으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, (1) 상기 수지 및 상기 전자 공여성 정색 화합물 및 전자 수용성 화합물을 용매 중에 용해 내지 분산시킨 기록층용 도포액을 지지체 상에 도포하고, 그 용매를 증발시켜 시트형 등으로 하는 것과 동시에 또는 그 후에 가교하는 방법, (2) 상기 수지만을 용해한 용매에 상기 전자 공여성 정색 화합물 및 전자 수용성 화합물을 분산시킨 기록층용 도포액을 지지체 상에 도포하고, 그 용매를 증발시켜 시트형 등으로 하는 동시에 또는 그 후에 가교하는 방법, (3) 용매를 이용하지 않고, 상기 수지와 상기 전자 공여성 정색 화합물 및 전자 수용성 화합물을 가열 용융하여 서로 혼합하고, 이 용융 혼합물을 시트형 등으로 성형하여 냉각한 후에 가교하는 방법 등을 적합하게 들 수 있다. 한편, 이들에 있어서, 상기 지지체를 이용하지 않고서, 시트형의 열 가역 기록 매체로서 성형할 수도 있다.
상기 (1) 또는 (2)에 있어서 이용하는 용제로서는, 상기 수지 및 상기 전자 공여성 정색 화합물 및 전자 수용성 화합물의 종류 등에 따라서 달라서 일괄적으로는 규정할 수는 없지만, 예컨대, 테트라히드로푸란, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 클로로포름, 사염화탄소, 에탄올, 톨루엔, 벤젠 등을 들 수 있다.
한편, 상기 전자 수용성 화합물은, 상기 기록층 중에서는 입자형으로 분산되어 존재하고 있다.
상기 기록층용 도포액에는, 코팅 재료용으로서의 고도의 성능을 발현시킬 목적으로, 각종 안료, 소포제, 안료, 분산제, 슬립제, 방부제, 가교제, 가소제 등을 첨가하더라도 좋다.
상기 기록층의 도공 방법으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 롤형으로 연속하여, 또는 시트형으로 재단한 지지체를 반송하여, 그 지지체 상에, 예컨대, 블레이드 도공, 와이어바 도공, 스프레이 도공, 에어나이프 도공, 비드 도공, 커튼 도공, 그라비아 도공, 키스 도공, 리버스롤 도공, 디프 도공, 다이 도공 등 공지의 방법으로 도포한다.
상기 기록층용 도포액의 건조 조건으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 실온 내지 140℃의 온도에서 10초간 내지 10분간 정도 등을 들 수 있다.
상기 기록층의 두께는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 1 ㎛ 내지 20 ㎛가 바람직하고, 3 ㎛ 내지 15 ㎛가 보다 바람직하다. 상기 기록층의 두께가 지나치게 얇으면 발색 농도가 낮아지기 때문에 화상의 콘트라스트가 낮아지는 경우가 있고, 한편, 지나치게 두꺼우면 층 내에서의 열 분포가 커져, 발색 온도에 달하지 않고 발색하지 않은 부분이 발생하여, 원하는 발색 농도를 얻을 수 없게 되는 경우가 있다.
상기 열 가역 기록 매체는, 상기 기록층 외에, 필요에 따라서 적절하게 선택한 중간층, 언더코팅층, 광 열 변환층, 착색층, 공기층, 광 반사층, 접착층, 백층, 보호층, 접착제층, 점착층 등의 그 외의 층을 더 갖고 있더라도 좋다. 이들 각 층은 단층 구조라도 좋고, 적층 구조라도 좋다.
<보호층>
상기 열 가역 기록 매체에는, 상기 기록층을 보호할 목적으로 그 기록층 상 에 보호층을 형성하는 것이 바람직하다. 이 보호층은, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 1층 이상으로 형성하더라도 좋고, 노출되어 있는 최외측 표면에 형성하는 것이 바람직하다.
상기 보호층은 적어도 바인더 수지를 함유하며, 더욱 필요에 따라서, 충전제, 윤활제, 착색 안료 등의 그 외의 성분을 함유하여 이루어진다.
상기 보호층의 수지로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 열 경화성 수지, 자외선(UV) 경화성 수지, 전자선 경화성 수지 등이 바람직하고, 이들 중에서도, 자외선(UV) 경화성 수지, 열 경화성 수지가 특히 바람직하다.
상기 UV 경화성 수지는, 경화 후에 매우 딱딱한 막을 형성할 수 있어, 표면의 물리적인 접촉에 의한 손상이나 레이저 가열에 의한 매체 변형을 억지할 수 있으므로 반복 내구성이 우수한 열 가역 기록 매체를 얻을 수 있다.
또한, 상기 열 경화성 수지는, 상기 UV 경화성 수지에는 약간 뒤떨어지지만 마찬가지로 표면을 딱딱하게 할 수 있어, 반복 내구성이 우수하다.
상기 UV 경화성 수지로서는, 특별히 제한은 없고, 공지의 것 중에서 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 우레탄아크릴레이트계, 에폭시아크릴레이트계, 폴리에스테르아크릴레이트계, 폴리에테르아크릴레이트계, 비닐계, 불포화폴리에스테르계의 올리고머나 각종 단관능, 다관능의 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 비닐에스테르, 에틸렌 유도체, 알릴 화합물 등의 모노머를 들 수 있다. 이들 중에서도, 4관능 이상의 다관능성의 모노머 또는 올리고머가 특히 바람직하다. 이 들 모노머 또는 올리고머를 2종 이상 혼합함으로써 수지막의 경도, 수축도, 유연성, 도포막 강도 등을 적절하게 조절할 수 있다.
또한, 상기 모노머 또는 올리고머를 자외선을 이용하여 경화시키기 위해서는, 광중합 개시제, 광중합 촉진제를 이용할 필요가 있다.
상기 광중합 개시제는, 라디칼 반응형과 이온 반응형으로 대별할 수 있으며, 또한 라디칼 반응형은 광 개열형과 수소 인발형으로 나뉜다.
상기 광중합 개시제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 이소부틸벤조인에테르, 이소프로필벤조인에테르, 벤조인에틸에테르벤조인메틸에테르, 1-페닐-1,2-프로판디온-2-(o-에톡시디카르보닐)옥심, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논벤질, 히드록시시클로헥실페닐케톤, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤조페논, 클로로티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 염소 치환 벤조페논 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 사용하더라도 좋고, 2종 이상을 병용하더라도 좋다.
상기 광중합 촉진제로서는, 벤조페논계나 티오크산톤계 등의 수소 인발 타입의 광중합 개시제에 대하여, 경화 속도를 향상시키는 효과를 갖는 것이 바람직하며, 예컨대, 방향족계의 제3급 아민이나 지방족 아민계 등을 들 수 있다. 구체적으로는, p-디메틸아미노벤조산이소아밀에스테르, p-디메틸아미노벤조산에틸에스테르 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 사용하더라도 좋고, 2종 이상을 병용하더라도 좋다.
상기 광중합 개시제 또는 광중합 촉진제의 첨가량은, 상기 보호층의 수지 성분의 전체 질량에 대하여 0.1 질량% 내지 20 질량%가 바람직하고, 1 질량% 내지 10 질량%가 보다 바람직하다.
상기 자외선 경화 수지를 경화시키기 위한 자외선 조사는, 공지의 자외선 조사 장치를 이용하여 행할 수 있으며, 그 장치로서는 예컨대, 광원, 등기구, 전원, 냉각 장치, 반송 장치 등을 갖춘 것을 들 수 있다.
상기 광원으로서는 예컨대, 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, 칼륨 램프, 수은크세논 램프, 플래시 램프 등을 들 수 있다. 이 광원의 파장은, 상기 열 가역 감열 기록 매체용 조성물에 첨가되어 있는 광중합 개시제 및 광중합 촉진제의 자외선 흡수 파장에 따라서 적절하게 선택할 수 있다.
상기 자외선 조사의 조건으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 상기 수지를 가교하기 위해서 필요한 조사 에너지에 따라서 램프 출력, 반송 속도 등을 결정하면 된다.
또한, 반송성을 양호하게 하기 위해서, 중합성 기를 갖는 실리콘, 실리콘 그라프트를 한 고분자, 왁스, 스테아린산아연 등의 이형제, 실리콘 오일 등의 윤활제를 첨가할 수 있다. 이들의 첨가량은, 보호층의 수지 성분 전체 질량에 대하여 0.01 질량% 내지 50 질량%가 바람직하고, 0.1 질량% 내지 40 질량%가 보다 바람직하다. 이들은 1종 단독으로 사용하더라도 좋고, 2종 이상을 병용하더라도 좋다. 또한, 정전기 대책으로서 도전성 충전제를 이용하는 것이 바람직하며, 또한 침형 도전성 충전제를 이용하는 것이 바람직하다.
상기 무기 안료의 입경으로서는, 예컨대, 0.01 ㎛ 내지 10.0 ㎛가 바람직하고, 0.05 ㎛ 내지 8.0 ㎛가 보다 바람직하다. 상기 무기 안료의 첨가량은, 상기 내열성 수지 1 질량부에 대하여, 0.001 질량부 내지 2 질량부가 바람직하고, 0.005 질량부 내지 1 질량부가 보다 바람직하다.
상기 유기 충전제로서는 예컨대, 실리콘 수지, 셀룰로오스 수지, 에폭시 수지, 나일론 수지, 페놀 수지, 폴리우레탄 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 스티렌계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에틸렌 수지, 포름알데히드계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트 수지 등을 들 수 있다.
또한, 상기 도전성 충전제로서는, 안티몬 도핑 산화주석으로 표면이 피복되어 있는 산화티탄이 특히 바람직하다.
또한, 상기 보호층에는, 첨가제로서 종래 공지된 계면활성제, 레벨링제, 대전방지제 등을 함유하고 있더라도 좋다.
또한, 열 경화성 수지로서는 예컨대, 상기 기록층에서 이용된 바인더 수지와 같은 것을 적합하게 이용할 수 있다.
또한, 자외선 흡수 구조를 갖는 중합체(이하, 「자외선 흡수 중합체」라고 부르는 경우도 있음)를 이용하더라도 좋다.
여기서, 상기 자외선 흡수 구조를 갖는 중합체란, 자외선 흡수 구조(예컨대, 자외선 흡수성 기)를 분자 중에 갖는 중합체를 의미한다. 이 자외선 흡수 구조로서는, 예컨대, 살리실레이트 구조, 시아노아크릴레이트 구조, 벤조트리아졸 구조, 벤조페논 구조 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 내광성이 양호하다는 점에서 벤조트 리아졸 구조, 벤조페논 구조가 특히 바람직하다.
상기 자외선 흡수 구조를 갖는 중합체로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 2-(2'-히드록시-5'-메타크릴록시에틸페닐)-2H-벤조트리아졸과 메타크릴산2-히드록시에틸과 스티렌으로 이루어지는 공중합체, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸과 메타크릴산 2-히드록시프로필과 메타크릴산메틸로 이루어지는 공중합체, 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸과 메타크릴산2-히드록시에틸과 메타크릴산메틸과 메타크릴산t-부틸로 이루어지는 공중합체, 2,2,4,4-테트라히드록시벤조페논과 메타크릴산2-히드록시프로필과 스티렌과 메타크릴산메틸과 메타크릴산프로필로 이루어지는 공중합체 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 사용하더라도 좋고, 2종 이상을 병용하더라도 좋다.
상기 열 경화성 수지는 가교되어 있는 것이 바람직하다. 따라서 열 경화성 수지로서는, 예컨대 수산기, 아미노기, 카르복실기 등과 같은, 경화제와 반응하는 기를 갖고 있는 것을 이용하는 것이 바람직하고, 특히 수산기를 갖고 있는 중합체가 바람직하다. 이 자외선 흡수 구조를 갖는 중합체 함유층의 강도를 향상시키기 위해서는 이 중합체의 수산기가가 10 이상인 중합체를 이용하면 충분한 도포막 강도를 얻을 수 있고, 보다 바람직하게는 30 이상이며, 더욱 바람직하게는 40 이상이다. 충분한 도포막 강도를 갖게 함으로써 반복 소거 인자를 행하더라도 기록 매체의 열화를 억제할 수 있다.
상기 경화제로서는 예컨대, 상기 기록층에서 이용된 경화제와 같은 것을 적 합하게 이용할 수 있다.
상기 보호층의 도포액에 이용되는 용매, 도포액의 분산 장치, 보호층의 도공 방법, 건조 방법 등은 상기 기록층에서 이용된 공지의 방법을 이용할 수 있다. 자외선 경화 수지를 이용한 경우에는 도포하여 건조를 행한 자외선 조사에 의한 경화 단계가 필요하게 되는데, 자외선 조사 장치, 광원, 조사 조건에 대해서는 상기한 바와 같다.
상기 보호층의 두께는 0.1 ㎛ 내지 20 ㎛가 바람직하고, 0.5 ㎛ 내지 10 ㎛가 보다 바람직하고, 1.5 ㎛ 내지 6 ㎛가 더욱 바람직하다. 상기 두께가 0.1 ㎛ 미만이면, 열 가역 기록 매체의 보호층으로서의 기능을 충분히 다할 수 없어, 열에 의한 반복 이력에 의해 곧바로 열화되어, 반복 사용할 수 없게 되어 버리는 경우가 있고, 20 ㎛를 넘으면, 보호층의 아래층에 있는 감열에 충분한 열을 전할 수 없게 되어, 열에 의한 화상의 인자와 소거를 충분히 할 수 없게 되어 버리는 경우가 있다.
<중간층>
상기 중간층은, 상기 기록층과 상기 보호층의 접착성 향상, 보호층의 도포에 의한 기록층의 변질 방지, 보호층 중의 첨가제의 기록층으로의 이행을 방지할 목적으로, 양자간에 중간층을 형성하는 것이 바람직하며, 이에 의해서 발색 화상의 보존성을 개선할 수 있다.
상기 중간층은 적어도 바인더 수지를 함유하며, 필요에 따라서, 충전제, 윤활제, 착색 안료 등의 그 외의 성분을 더 함유하여 이루어진다.
상기 바인더 수지로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 상기 기록층의 바인더 수지나 열 가소성 수지, 열 경화성 수지 등의 수지 성분을 이용할 수 있다. 이 수지 성분으로서는 예컨대, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리비닐알콜, 폴리비닐부티랄, 폴리우레탄, 포화 폴리에스테르, 불포화 폴리에스테르, 에폭시 수지, 페놀 수지, 폴리카보네이트, 폴리아미드 등을 들 수 있다.
또한, 상기 중간층에는, 자외선 흡수제를 함유시키는 것이 바람직하다. 이 자외선 흡수제로서는, 유기계 및 무기계 화합물 중 어느 것이라도 이용할 수 있다.
상기 유기계 자외선 흡수제로서는, 예컨대, 벤조트리아졸계, 벤조페논계, 살리실산에스테르계, 시아노아크릴레이트계, 계피산계의 자외선 흡수제를 들 수 있고, 바람직하게는 벤조트리아졸계이다. 이들 중에서도, 수산기를 인접하는 부피가 큰 관능기로 보호한 것이 특히 바람직하며, 나아가서는 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸 등이 바람직하다. 아크릴계 수지, 스티렌계 수지 등의 공중합한 고분자에 이러한 자외선 흡수능을 갖는 골격의 것을 펜던트하더라도 좋다.
상기 유기계 자외선 흡수제의 함유량은, 상기 중간층의 수지 성분 전체 질량에 대하여 0.5 질량% 내지 10 질량%가 바람직하다.
상기 무기계 자외선 흡수제로서는, 평균 입경 100 nm 이하의 금속계 화합물 이 적합하며, 예컨대, 산화아연, 산화인듐, 알루미나, 실리카, 산화지르코니아, 산화주석, 산화세륨, 산화철, 산화안티몬, 산화바륨, 산화칼슘, 산화바륨, 산화비스무스, 산화니켈, 산화마그네슘, 산화크롬, 산화망간, 산화탄탈, 산화니오븀, 산화토륨, 산화하프늄, 산화몰리브덴, 철페라이트, 니켈페라이트, 코발트페라이트, 티탄산바륨, 티탄산칼륨과 같은 금속 산화물 또는 이들의 복합 산화물, 황화아연, 황산바륨과 같은 금속황화물 또는 황산 화합물, 티탄카바이드, 실리콘카바이드, 몰리브덴카바이드, 텅스텐카바이드, 탄탈카바이드와 같은 금속 탄화물, 질화알루미늄, 질화규소, 질화붕소, 질화지르코늄, 질화바나듐, 질화티타늄, 질화니오븀, 질화갈륨과 같은 금속질화물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 바람직하게는 금속산화물계 초미립자이며, 더욱 바람직한 것은 실리카, 알루미나, 산화아연, 산화티탄, 산화세륨이다. 이들은 표면을 실리콘, 왁스, 유기 실란 또는 실리카 등으로 처리할 수도 있다.
상기 무기계 자외선 흡수제의 함유량은 체적 분율로 1% 내지 95%의 범위가 바람직하다. 한편, 이들 유기계 및 무기계 자외선 흡수제는 기록층에 함유시키더라도 좋다.
또한 자외선 흡수 중합체를 이용하더라도 좋고, 가교제에 의해 경화하더라도 좋다. 이들은 상기 보호층에서 이용된 것과 같은 것을 적합하게 이용할 수 있다.
상기 중간층의 두께는 0.1 ㎛ 내지 20 ㎛가 바람직하고, 0.5 ㎛ 내지 5 ㎛가 보다 바람직하다. 상기 중간층의 도포액에 이용되는 용매, 도포액의 분산 장치, 중간층의 도공 방법, 중간층의 건조·경화 방법 등은 상기 기록층에서 이용된 공지의 방법을 이용할 수 있다.
<언더층>
상기 열 가역성 기록 매체에 있어서는, 인가한 열을 유효하게 이용하여 고감도화하기 위해서, 또는 지지체와 기록층의 접착성의 개선이나 지지체에의 기록층 재료의 침투 방지를 목적으로 하여, 상기 기록층과 상기 지지체의 사이에 언더층을 형성하더라도 좋다.
상기 언더층은 적어도 중공 입자를 함유하여 이루어지며, 바인더 수지, 필요에 따라서 그 외의 성분을 더 함유하여 이루어진다.
상기 중공 입자로서는, 중공부가 입자 내에 하나 존재하는 단일 중공 입자, 중공부가 입자 내에 다수 존재하는 다중공 입자 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 사용하더라도 좋고, 2종 이상을 병용하더라도 좋다.
상기 중공 입자의 재질로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있는데, 예컨대, 열 가소성 수지 등을 적합하게 들 수 있다. 상기 공극 입자는, 적절하게 제조한 것이라도 좋고, 시판품이라도 좋다. 이 시판품으로서는, 예컨대, 마이크로스페어 R-300(마쓰모토유시주식회사 제조), 로페이크 HP1055, 로페이크 HP433J(모두 니혼제온주식회사 제조), SX866(JSR주식회사 제조) 등을 들 수 있다.
상기 중공 입자의 상기 언더층에 있어서의 첨가량은, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 10 질량% 내지 80 질량%이 바람직하다.
상기 바인더 수지로서는, 상기 기록층, 또는 상기 자외선 흡수 구조를 갖는 중합체를 함유하는 층과 같은 수지를 이용할 수 있다.
또한, 상기 언더층에는, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 산화티탄, 산화규소, 수산화알루미늄, 카올린, 탈크 등의 무기 충전제 및 각종 유기 충전제 중 적어도 어느 하나를 함유시킬 수 있다.
한편, 상기 언더층에는 그 외에, 윤활제, 계면활성제, 분산제 등을 함유시킬 수도 있다.
상기 언더층의 두께는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 0.1 ㎛ 내지 50 ㎛가 바람직하고, 2 ㎛ 내지 30 ㎛가 보다 바람직하고, 12 ㎛ 내지 24 ㎛가 더욱 바람직하다.
<백층>
본 발명에 있어서는, 열 가역 기록 매체의 컬이나 대전 방지, 반송성의 향상을 위해 지지체의 기록층을 형성하는 면과 반대측에 백층을 형성하더라도 좋다.
상기 백층은 적어도 바인더 수지를 함유하고, 필요에 따라서, 충전제, 도전성 충전제, 윤활제, 착색 안료 등의 그 외의 성분을 더 함유하여 이루어진다.
상기 바인더 수지로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 열 경화성 수지, 자외선(UV) 경화성 수지, 전자선 경화성 수지 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 자외선(UV) 경화성 수지, 열 경화성 수지가 특히 바람직하다.
상기 자외선 경화 수지, 상기 열 경화성 수지, 상기 충전제, 상기 도전성 충 전제 및 상기 윤활제는, 상기 기록층, 상기 보호층, 상기 또는 중간층에서 이용된 것과 동일한 것을 적합하게 이용할 수 있다.
<접착층 또는 점착층>
상기 열 가역 기록 매체는, 지지체의 기록층 형성면의 반대면에 접착제층 또는 점착제층을 형성하여 열 가역 기록 라벨로 할 수 있다. 접착제층 또는 점착제층의 재료는 일반적으로 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다.
상기 접착제층 또는 점착제층의 재료로서는 특별히 제한은 없으며, 목적에 따라 적절하게 선택할 수 있고, 예컨대 우레아 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 아세트산비닐계 수지, 아세트산비닐-아크릴계 공중합체, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 아크릴계 수지, 폴리비닐에테르계 수지, 염화비닐-아세트산비닐계 공중합체, 폴리스티렌계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리아미드계 수지, 염소화폴리올레핀계 수지, 폴리비닐부티랄계 수지, 아크릴산에스테르계 공중합체, 메타크릴산에스테르계 공중합체, 천연 고무, 시아노아크릴레이트계 수지, 실리콘계 수지 등을 들 수 있다.
접착제층 또는 점착제층의 재료는 핫멜트 타입이라도 좋다. 박리지를 이용하더라도 좋고, 무박리지 타입이라도 좋다. 이와 같이 접착제층 또는 점착제층을 형성함으로써, 기록층의 도포가 곤란한 자기 스트라이프 부착 염화비닐 카드 등의 두꺼운 기판의 전면 또는 일부에 붙일 수 있다. 이에 따라 자기에 기억된 정보의 일부를 표시할 수 있는 등, 이 매체의 편리성이 향상된다. 이러한 접착제층 또는 점착제층을 형성한 열 가역 기록 라벨은, IC 카드나 광 카드 등의 두꺼운 카드에도 적용할 수 있다.
또한, 적어도 광열 변환 재료를 함유하는 광열 변환층을 형성하는 경우는, 통상 수지와 병용하여 이용된다. 광열 변환층에 이용되는 수지는 상기한 무기계 재료, 유기계 재료를 유지할 수 있는 공지의 것이면 되지만, 열 가소성 수지 또는 열 경화성 수지가 바람직하다.
상기 광열 변환 재료는 레이저광을 흡수하여 발열하는 역할을 하는 것으로, 그 주된 재료로서는 무기계 재료와 유기계 재료로 대별할 수 있다. 무기계 재료로서는 카본블랙이나 Ge, Bi, In, Te, Se, Cr 등의 금속 또는 반금속 및 그것을 포함하는 합금을 들 수 있으며, 이들은 진공 증착법이나 입자형의 재료를 수지 등으로 접착하여 층형으로 형성된다. 유기계 재료로서는 흡수해야할 광 파장에 따라 각종의 염료를 적절하게 이용할 수 있는데, 광원으로서 반도체 레이저를 이용하는 경우에는 700 nm 내지 1500 nm 부근에 흡수를 갖는 근적외 흡수 색소가 이용된다. 구체적으로는, 시아닌 색소, 퀴논계 색소, 인도나프톨의 퀴놀린 유도체, 페닐렌디아민계 니켈 착체, 프탈로시아닌계 색소 등을 들 수 있다. 반복 인자 소거를 반복하기 위해서 내열성이 우수한 광열 변환 재료를 선택하는 것이 바람직하다.
이들 근적외 흡수 색소는 상기 기록층 중에 섞어 넣더라도 좋고, 2종 이상을 섞어 넣어 이용하더라도 좋다. 이 경우, 기록층은 광열 변환층을 겸하게 된다.
상기 열 가역 기록 매체에는, 상기 지지체와 상기 기록층과의 사이에 시인성을 향상시킬 목적으로, 착색층을 형성하더라도 좋다. 상기 착색층은, 착색제 및 수지 바인더를 함유하는 용액, 또는 분산액을 대상면에 도포하여, 건조하거나, 또는 단순히 착색 시트를 서로 부착시킴으로써 형성할 수 있다.
상기 열 가역 기록 매체에는, 컬러 인쇄층을 형성할 수도 있다. 상기 컬러 인쇄층에 있어서의 착색제로서는, 종래의 풀-컬러 인쇄에 사용되는 컬러 잉크 중에 포함되는 각종 염료 및 안료 등을 들 수 있으며, 상기 수지 바인더로서는 각종 열 가소성, 열 경화성, 자외선 경화성 또는 전자선 경화성 수지 등을 들 수 있다. 이 컬러 인쇄층의 두께는, 인쇄 색 농도에 대하여 적절하게 변경되기 때문에, 원하는 인쇄 색 농도에 맞춰 선택할 수 있다.
상기 열 가역 기록 매체는, 비가역성 기록층을 병용하더라도 상관없다. 이 경우, 각각의 기록층의 발색 색조는 동일하더라도 다르더라도 좋다. 또한, 본 발명의 열 가역 기록 매체의 기록층과 동일면의 일부 또는 전면, 또는/또는 반대면의 일부분에, 오프셋 인쇄, 그라비아 인쇄 등의 인쇄, 또는 잉크젯 프린터, 열 전사 프린터, 승화형 프린터 등에 의해서 임의의 도안 등을 실시한 착색층을 형성하더라도 좋고, 또한 착색층 상의 일부분 또는 전면에 경화성 수지를 주성분으로 하는 OP 니스층을 형성하더라도 좋다. 상기 임의의 도안으로서는, 문자, 모양, 무늬, 사진, 적외선으로 검지하는 정보 등을 들 수 있다. 또한, 단순히 구성하는 각 층 중 어느 것에 염료나 안료를 첨가하여 착색하는 것도 가능하다.
또한, 본 발명의 열 가역 기록 매체에는, 보안을 위해 홀로그램을 설치할 수도 있다. 또한, 의장성 부여를 위해 부조형, 음각형으로 요철을 붙여 인물상이나 사장(社章), 심볼마크 등의 디자인을 형성할 수도 있다.
상기 열 가역 기록 매체는, 그 용도에 따라서 원하는 형상으로 가공할 수 있 으며, 예컨대, 카드형, 태그형, 라벨형, 시트형, 롤형 등으로 가공된다. 또한, 카드형으로 가공된 것에 대해서는 선불 카드나 포인트 카드, 나아가서는 신용 카드 등에의 응용을 들 수 있다. 카드 사이즈보다도 작은 태그형의 사이즈로는 가격표 등에 이용할 수 있다. 또한, 카드 사이즈보다도 큰 태그형의 사이즈로는 공정 관리나 출하 지시서, 티켓 등에 사용할 수 있다. 라벨형의 것은 접착할 수 있기 때문에, 여러 가지 크기로 가공되어, 반복 사용하는 차체 지탱부나 용기, 박스, 컨테이너 등에 접착하여 공정 관리, 물품 관리 등에 사용할 수 있다. 또한, 카드 사이즈보다도 큰 시트 사이즈로는 인자하는 범위가 넓어지기 때문에 일반 문서나 공정 관리용의 지시서 등에 사용할 수 있다.
<열 가역 기록 부재 RF-ID와의 조합 예>
본 발명의 열 가역 기록 부재는, 상기 가역 표시 가능한 기록층과 정보 기억부를, 동일한 카드나 태그에 설치하여(일체화시켜), 그 정보 기억부의 기억 정보의 일부를 기록층에 표시함으로써, 특별한 장치가 없더라도 카드나 태그를 보는 것만으로 정보를 확인할 수 있어, 편리성이 우수하다. 또한, 정보 기억부의 내용을 재기록했을 때에는 열 가역 기록부의 표시를 재기록함으로써 열 가역 기록 매체를 반복하여 몇 번이나 사용할 수 있다.
상기 정보 기억부로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절하게 선택할 수 있지만, 예컨대, 자기 기록층, 자기 스트라이프, IC 메모리, 광 메모리, RF-ID 태그 등이 바람직하게 이용된다. 공정 관리나 물품 관리 등에 사용하는 경우에는 특히 RF-ID 태그가 바람직하게 이용된다. 또한, 상기 RF-ID 태그는 IC 칩과, 그 IC 칩에 접속한 안테나로 구성되어 있다.
상기 열 가역 기록 부재는, 상기 가역 표시 가능한 기록층과 정보 기억부를 지니며, 이 정보 기억부로 적합한 것으로서 RF-ID 태그를 들 수 있다.
여기서, 도 15는, RF-ID 태그(85)의 개략도의 일례를 도시한다. 이 RF-ID 태그(85)는 IC 칩(81)과, 이 IC 칩에 접속한 안테나(82)로 구성되어 있다. 상기 IC 칩(81)은 기억부, 전원 조정부, 송신부, 수신부의 4개로 구분되어 있고, 각각이 역할을 분담하여 통신을 하고 있다. 통신은 RF-ID 태그와 리더 라이터의 안테나가 전파에 의해 통신하여 데이터의 교환을 행한다. 구체적으로는, RF-ID의 안테나가 리더 라이터로부터의 전파를 수신하여 공진 작용에 의해 전자 유도에 의해 기전력이 발생하는 전자 유도 방식과 방사 전자계에 의해 기동하는 전파 방식의 2종이 있다. 모두 외부로부터의 전자계에 의해 RF-ID 태그 내의 IC 칩이 기동하여, 칩 내의 정보를 신호화하고, 그 후, RF-ID 태그로부터 신호를 발신한다. 이 정보를 리더 라이터 측의 안테나로 수신하여 데이터 처리 장치로 인식하여, 소프트 측에서 데이터 처리를 행한다.
상기 RF-ID 태그는 라벨형 또는 카드형으로 가공되어 있으며, RF-ID 태그를 상기 열 가역 기록 매체에 접착할 수 있다. RF-ID 태그는 기록층면 또는 백층면에 붙일 수 있지만, 백층면에 붙이는 것이 바람직하다. RF-ID 태그와 열 가역 기록 매체를 접합시키기 위해서는 공지의 접착제 또는 점착제를 사용할 수 있다.
또한, 열 가역 기록 매체와 RF-ID를 라미네이트 가공 등으로 일체화하여 카드형이나 태그형으로 가공하더라도 좋다.
이어서, 상기 열 가역 기록 매체와 RF-ID 태그를 조합시킨 공정 관리에서의 사용 방법의 예를 나타낸다.
납품된 원재료가 들어가 있는 컨테이너가 반송되는 공정 라인에는, 반송되면서 표시부에 가시 화상을 비접촉으로 기록하는 수단과 비접촉으로 소거하는 수단이 구비되고, 또한 전자파의 발신에 의해 컨테이너에 구비된 RF-ID의 정보의 판독, 재기록을 비접촉으로 행하기 위한 리더 라이터가 구비되어 있다. 또한 추가로, 이 공정 라인에는, 컨테이너가 반송되면서 비접촉으로 기록 및 판독되는 그 개별 정보를 이용하여, 물류 라인 상에서 자동적으로 분기나 계량, 관리 등을 하는 제어 수단이 구비되어 있다.
이 컨테이너에 첨부된 RF-ID 부착 열 가역 기록 매체에 대하여 물품명과 수량 등의 정보를 열 가역 기록 매체와 RF-ID 태그에 기록하여, 검품이 실시된다. 다음 단계에서는 납입된 원재료에 가공 지시가 주어져, 열 가역 기록 매체와 RF-ID 태그에 정보가 기록되어 가공 지시서가 되어 가공 공정을 향한다. 계속해서, 가공된 상품에는 발주 지시서로서 발주 정보가 열 가역 기록 매체와 RF-ID 태그에 기록되어, 상품 출하 후에 회수한 컨테이너로부터 출하 정보를 판독하여, 재차 납품용의 컨테이너와 RF-ID 부착 열 가역 기록 매체로서 사용된다. 레이저를 이용한 열 가역 기록 매체에의 비접촉 기록이기 때문에 컨테이너 등으로부터 열 가역 기록 매체를 벗겨내는 일없이 정보의 소거 인자를 행할 수 있고, 또한 RF-ID도 비접촉으로 정보를 기록할 수 있기 때문에, 공정을 실시간으로 관리할 수 있고, 또한 RF-ID 내의 정보를 열 가역 기록 매체에 동시에 표시하는 것이 가능해진다.
<실시예>
이하, 실시예에 의해 본 발명에 관해서 상세히 설명하지만, 본 발명은 하기 실시예에 하등 한정되는 것이 아니다.
(제조예 1)
<열 가역 기록 매체의 제작>
온도에 의존하여 색조가 가역적(투명 상태-발색 상태)으로 변화하는 열 가역 기록 매체를 다음과 같이 하여 제작했다.
- 지지체 -
지지체로서, 두께 125 ㎛의 백탁 폴리에스테르 필름(데이진듀퐁주식회사 제조, 테토론 필름 U2L98W)을 이용했다.
- 언더층 -
스티렌-부타디엔계 공중합체(니혼에이앤드엘사 제조, PA-9159) 30 질량부, 폴리비닐알콜 수지(주식회사쿠라레 제조, 포발 PVA103) 12 질량부, 중공 입자(마쓰모토유시주식회사 제조, 마이크로스페어 R-300) 20 질량부 및 물 40 질량부를 첨가하여, 균일 상태가 될 때까지 약 1시간 교반하여, 언더층 도포액을 조제했다.
이어서, 얻어진 언더층 도포액을 상기 지지체 상에, 와이어바로 도포하여, 80℃에서 2분간 가열 및 건조하여, 두께 20 ㎛의 언더층을 형성했다.
- 가역성 감열 기록층(기록층) -
하기 화학식 10으로 표시되는 가역성 현색제 5 질량부, 하기 화학식 11 및 12로 표시되는 2종의 소색 촉진제를 각각 0.5 질량부씩, 아크릴폴리올 50 질량% 용 액(수산기가 : 200) 10 질량부 및 메틸에틸케톤 80 질량부를, 볼밀을 이용하여 평균 입경이 약 1 ㎛가 될 때까지 분쇄 분산했다.
(가역성 현색제)
화학식 10
Figure 112007020552454-PAT00010
(소색 촉진제)
화학식 11
Figure 112007020552454-PAT00011
화학식 12
Figure 112007020552454-PAT00012
이어서, 상기 가역성 현색제를 분쇄 분산시킨 분산액에, 상기 로이코 염료로서의 2-아닐리노-3-메틸-6 디부틸아미노플루오란 1 질량부, 하기 화학식 13으로 표시되는 페놀계 산화방지제(치바·스페샬티·케미칼즈사 제조, IRGANOX565) 0.2 질량부 및 이소시아네이트(니혼폴리우레탄주식회사 제조, 콜로네이트 HL) 5 질량부를 첨가하여, 잘 교반시켜 기록층용 도포액을 조제했다.
화학식 13
Figure 112007020552454-PAT00013
이어서, 얻어진 기록층용 도포액을, 상기 언더층 형성이 끝난 지지체 상에, 와이어바를 이용하여 도포하여, 100℃에서 2분간 건조한 후, 60℃에서 24시간 경화를 행하여, 두께 11 ㎛의 기록층을 형성했다.
- 중간층 -
아크릴폴리올 수지 50 질량% 용액(미쓰비시레이온주식회사 제조, LR327) 3 질량부, 산화아연 미립자 30 질량% 분산액(스미토모시멘트주식회사 제조, ZS303) 7 질량부, 이소시아네이트(니혼폴리우레탄주식회사 제조, 콜로네이트 HL) 1.5 질량부 및 메틸에틸케톤 7 질량부를 첨가하여, 잘 교반하여 중간층용 도포액을 조제했다.
이어서, 상기 언더층 및 상기 기록층이 형성된 지지체 상에, 상기 중간층용 도포액을 와이어바로 도포하여, 90℃에서 1분간 가열 및 건조한 후, 60℃에서 2시간 가열하여, 두께 2 ㎛의 중간층을 형성했다.
- 보호층 -
펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(니혼가야쿠주식회사 제조, KAYARAD DPHA) 3 질량부, 우레탄아크릴레이트 올리고머(네가미고교주식회사 제조, 아트레진 UN-3320HA) 3 질량부, 디펜타에리스리톨카프로락톤의 아크릴산에스테르(니혼가야쿠주식회사 제조, KAYARAD DPCA-120) 3 질량부, 실리카(미즈사와가가쿠고교주식회사 제 조, P-526) 1 질량부, 광중합 개시제(니혼치바가이기주식회사 제조, 일가큐어 184) 0.5 질량부 및 이소프로필알콜 11 질량부를 첨가하여, 볼밀로 잘 교반하여 평균 입경이 약 3 ㎛가 될 때까지 분산하여, 보호층용 도포액을 조제했다.
이어서, 상기 언더층, 상기 기록층 및 상기 중간층이 형성된 지지체 상에, 상기 보호층용 도포액을 와이어바로 도포하여, 90℃에서 1분간 가열 및 건조한 후, 80 W/cm의 자외선 램프로 가교시켜, 두께 4 ㎛의 보호층을 형성했다.
- 백층 -
펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(니혼가야쿠주식회사 제조, KAYARAD DPHA) 7.5 질량부, 우레탄아크릴레이트 올리고머(네가미고교주식회사 제조, 아트레진 UN-3320HA) 2.5 질량부, 침형 도전성 산화티탄(이시하라산교주식회사 제조, FT-3000, 장축=5.15 ㎛, 단축=0.27 ㎛, 구성 : 안티몬 도핑 산화주석 피복의 산화티탄) 2.5 질량부, 광중합 개시제(니혼치바가이기주식회사 제조, 일가큐어 184) 0.5 질량부 및 이소프로필알콜 13 질량부를 첨가하여, 볼밀로 잘 교반하여 백층용 도포액을 조제했다.
이어서, 상기 기록층, 상기 중간층 및 상기 보호층이 형성된 지지체에 있어서의, 이들 층이 형성되어 있지 않은 측의 면 상에, 상기 백층용 도포액을 와이어바로 도포하여, 90℃에서 1분간 가열 및 건조한 후, 80 W/cm의 자외선 램프로 가교시켜, 두께 4 ㎛의 백층을 형성했다. 이상에 의해, 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 제작했다.
(제조예 2)
<열 가역 기록 매체의 제작>
온도에 의존하여 투명도가 가역적(투명 상태-백탁 상태)으로 변화하는 열 가역 기록 매체를 다음과 같이 하여 제작했다.
- 지지체 -
지지체로서 두께 175 ㎛의 투명 PET 필름(도레이주식회사 제조, 루미라 175-T12)을 이용했다.
- 가역성 감열 기록층(기록층) -
염화비닐계 공중합체(니혼제온주식회사 제조, M110) 26 질량부를 메틸에틸케톤 210 질량부에 용해시킨 수지 용해액 중에, 하기 화학식 14로 표시되는 유기 저분자 물질 3 질량부, 및 베헨산도코실 7 질량부를 첨가하여, 유리병 중에 직경 2 mm의 세라믹 비드를 넣어, 페인트 쉐이커(아사다텟코주식회사 제조)를 이용하여 48시간 분산하여, 균일한 분산액을 조제했다.
화학식 14
Figure 112007020552454-PAT00014
이어서, 얻어진 분산액에, 이소시아네이트 화합물(니혼폴리우레탄주식회사 제조, 콜로네이트 2298-90T) 4 질량부를 첨가하여, 감열 기록층액을 조제했다.
다음에, 상기 지지체(자기 기록층을 갖는 PET 필름의 접착층) 상에, 얻어진 감열 기록층액을 도포하여, 가열 및 건조한 후, 또한 65℃ 환경 하에 24시간 보존하여 수지를 가교시켜, 두께 10 ㎛의 감열 기록층을 형성했다.
- 보호층 -
우레탄아크릴레이트계 자외선 경화성 수지의 75 질량% 아세트산부틸 용액 10 질량부(다이니혼잉크가가쿠고교주식회사 제조, 유니디크 C7-157) 및 이소프로필알콜 10 질량부로 이루어지는 용액을, 와이어바로 상기 감열 기록층 상에 도포하여, 가열 및 건조한 후, 80 W/cm의 고압 수은등으로 자외선을 조사하여 경화시켜, 두께 3 ㎛의 보호층을 형성했다. 이상에 의해, 제조예 2의 열 가역 기록 매체를 제작했다.
(제조예 3)
<열 가역 기록 매체의 제작>
제조예 1에 있어서, 상기 열 가역 기록 매체의 제작시에, 상기 기록층 중에 광열 변환 재료(주식회사니혼쇼쿠바이 제조, 이엑스칼라 IR-14) 0.03 질량부를 첨가한 것 이외에는, 제조예 1과 같은 식으로 하여, 제조예 3의 열 가역 기록 매체를 제작했다.
(실시예 1)
레이저 마커로서 40 W의 CO2 레이저를 사용하고 있는 산쿠스주식회사 제조 LP-440을 이용하여, 제조예 1의 열 가역 기록 매체에 레이저 출력 7 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 약 0.2 mm, 주사 속도 2,000 mm/s가 되도록 조정하여, 단일의 레이저광 묘화선으로 이루어지는 문자 화상을 기록했다. 다음에, 레이저 출력 32 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 약 3 mm, 주사 속도 2,400 mm/s가 되도록 조정하 고, 도 3과 같이 0.6 mm의 간격으로 직선형으로 또한 같은 방향으로 레이저광을 114라인 주사하여 110 mm×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 6.3초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 300회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 2)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 실시예 1과 같은 식으로 단일의 레이저광 묘화선으로 이루어지는 문자 화상을 기록했다. 이어서, 레이저 출력 32 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 약 3 mm, 주사 속도 2,400 mm/s, 예비 주사 시간(미러만 주사하는 시간)이 1 밀리초가 되도록 조정하고, 도 4와 같이 0.6 mm의 간격으로 직선형으로 또한 같은 방향으로 레이저광을 114라인 주사하여 110 mm×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 6.6초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 300회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 3)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 실시예 1과 같은 식으로 단일의 레이저광 묘화선으로 이루어지는 문자 화상을 기록했다. 이어서, 레이저 출력 32 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 약 3 mm, 주사 속도 2,400 mm/s, 예비 주사 시간이 3 밀리초가 되도록 조정하고, 도 5와 같이 0.6 mm의 간격으로 직선형으로 또한 서로 상반되는 방향으로 레이저광을 114라인 주사하여 110 mm×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 5.9초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 300회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 4)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 실시예 1과 같은 식으로 단일의 레이저광 묘화선으로 이루어지는 문자 화상을 기록했다. 이어서, 레이저 출력 32 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 약 3 mm, 주사 속도 2,300 mm/s가 되도록 조정하고, 도 6에 도시한 바와 같은 주사 순번으로 각각의 간격이 결과적으로 0.6 mm 가 되도록 레이저광을 114라인 주사하여 110×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 5.5초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 300회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 5)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 실시예 1과 같은 식으로 단일의 레이저광 묘화선으로 이루어지는 문자 화상을 기록했다. 이어서, 레이저 출력 32 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 약 3 mm, 주사 속도 2,400 mm/s, 예비 주사 시간(미러만 주사하는 시간)이 2 밀리초가 되도록 조정하 고, 도 7에 도시한 바와 같은 주사 순번으로 각각의 간격이 결과적으로 0.6 mm가 되도록 레이저광을 114라인 주사하여 110 mm×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 5.7초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 300회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 6)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 레이저 출력 7 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 약 0.2 mm, 주사 속도 2,000 mm/s가 되도록 조정하고, 도 3과 같이 0.16 mm의 간격으로 직선형으로 또한 같은 방향으로 레이저광을 50라인 주사하여 8 mm×8 mm의 베타 화상을 기록했다. 다음에, 실시예 4의 소거 조건으로 소거를 행한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 5.5초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 100회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 7)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 레이저 출력 7 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 약 0.2 mm, 주사 속도 2,000 mm/s, 예비 주사 시간이 0.5 밀리초가 되도록 조정하고, 도 4와 같이 0.16 mm의 간격으로 직선형으로 또한 같은 방향으로 레이저광을 50라인 주사하여 8 mm×8 mm의 베타 화상을 기록했다. 다음에, 실시예 4의 소거 조건으로 소거를 행한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 5.5초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 300회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 8)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 레이저 출력 7 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 약 0.2 mm, 주사 속도 2,000 mm/s, 예비 주사 시간이 0.5 밀리초가 되도록 조정하고, 도 5와 같이 0.16 mm의 간격으로 직선형으로 또한 역방향으로 레이저광을 50라인 주사하여 8 mm×8 mm의 베타 화상을 기록했다. 다음에, 실시예 4의 소거 조건으로 소거를 행한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 5.5초였다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 반복한 바, 50회까지 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 9)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 레이저 출력 7 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 약 0.2 mm, 주사 속도 2,000 mm/s가 되도록 조정하고, 도 6에 도시한 바와 같은 주사 순번으로 각각의 간격이 결과적으로 0.16 mm가 되도록 레이저광을 50라인 주사하여 8 mm×8 mm의 베타 화상을 기록했다. 다음에, 실시예 4의 소거 조건으로 소거를 행한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 5.5초였다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 100회 반복한 바, 균일한 화상의 기 록과 소거가 가능했다.
(실시예 10)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 레이저 출력 7 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 약 0.2 mm, 주사 속도 2,000 mm/s, 예비 주사 시간이 0.5 밀리초가 되도록 조정하고, 도 7에 도시한 바와 같은 주사 순번으로 각각의 간격이 결과적으로 0.16 mm가 되도록 레이저광을 50라인 주사하여 8 mm×8 mm의 베타 화상을 기록했다. 이어서, 실시예 4의 소거 조건으로 소거를 행한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 5.5초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 300회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 11)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 단일의 레이저광 묘화선으로 이루어지는 문자 화상을 형성했다. 다음에, 레이저 출력 32 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 약 3 mm, 주사 속도 2,300 mm/s가 되도록 조정하고, 도 8에 도시한 바와 같은 주사 순번으로 각각의 간격이 결과적으로 0.6 mm가 되도록 레이저광을 114라인 주사하여 110×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 6.3초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 300회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 12)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 단일의 레이저광 묘화선으로 이루어지는 문자 화상을 형성했다. 다음에, 레이저 출력 32 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 약 3 mm, 주사 속도 2,400 mm/s, 예비 주사 시간(미러만 주사하는 시간)이 1 밀리초가 되도록 조정하고, 도 9에 도시한 바와 같은 주사 순번으로 각각의 간격이 결과적으로 0.6 mm가 되도록 레이저광을 114라인 주사하여 110 mm×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 6.6초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 300회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 13)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 레이저 출력 7 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 약 0.2 mm, 주사 속도 2,000 mm/s가 되도록 조정하고, 도 8에 도시한 바와 같은 주사 순번으로 각각의 간격이 결과적으로 0.16 mm가 되도록 레이저광을 50라인 주사하여 8 mm×8 mm의 베타 화상을 형성했다. 다음에, 실시예 4의 소거 조건으로 소거를 행한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 5.5초였다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 200회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 14)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 레이저 출력 7 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 약 0.2 mm, 주사 속도 2,000 mm/s, 예비 주사 시간이 0.5 밀리초가 되도록 조정하고, 도 9에 도시한 바와 같은 주사 순번으로 각각의 간격이 결과적으로 0.16 mm가 되도록 레이저광을 50라인 주사하여 8 mm×8 mm의 베타 화상을 형성했다. 다음에, 실시예 4의 소거 조건으로 소거를 행한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 5.5초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 소거를 300회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(비교예 1)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 단일의 레이저광 묘화선으로 이루어지는 문자 화상을 기록했다. 다음에, 레이저 출력 11 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 약 3 mm, 주사 속도 800 mm/s가 되도록 조정하고, 도 2와 같이 0.6 mm의 간격으로 직선형으로 또한 역방향으로 레이저광을 114라인 주사하여 110 mm×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 반복한 바, 50회까지 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했지만, 그 때의 소거 시간은 15.5초간이었다.
(비교예 2)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 단일의 레이저광 묘화선으로 이루어지는 문자 화상을 기록했다. 다음에, 레이저 출력 11 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 약 3 mm, 주사 속도 800 mm/s가 되도록 조정하고, 도 1과 같이 0.6 mm의 간격으로 직선형으로 또한 역방향으로 연속으로 레이저광을 주사하여 110 mm×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했지만, 그 때의 소거 시간은 15.7초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 반복한 바, 20회 후에는 화상의 소거 흔적이 눈에 띄어, 균일한 소거를 할 수 없게 되었다.
(비교예 3)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 레이저 출력 7 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 약 0.2 mm, 주사 속도 2,000 mm/s가 되도록 조정하고, 도 2와 같이 0.16 mm의 간격으로 직선형으로 또한 역방향으로 레이저광을 50라인 주사하여 8×8 mm의 베타 화상을 기록했다. 다음에, 비교예 1의 소거 조건으로 비교예 1과 같은 식으로 소거한 바, 화상은 완전히 소거 가능했지만, 그 때의 소거 시간은 15.5초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 반복한 바, 10회 후에는 화상의 소거 흔적이 눈에 띄어, 균일한 소거를 할 수 없게 되었다.
(비교예 4)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 레이저 출력 7 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 약 0.2 mm, 주사 속도 2,000 mm/s가 되도록 조정하고, 도 1과 같이 0.16 mm의 간격으로 직선형으로 또한 역방향으로 연속으로 레이저광을 주사하여 8 mm×8 mm의 베타 화상을 기록했다. 다음에, 비교예 2 의 소거 조건으로 비교예 2와 같은 식으로 소거한 바, 화상은 완전히 소거 가능했지만, 그 때의 소거 시간은 15.7초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 반복한 바, 10회 후에는 화상의 소거 흔적이 눈에 띄어, 균일한 소거를 할 수 없게 되었다.
(비교예 5)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 2의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 레이저 출력 5.5 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 약 0.2 mm, 주사 속도 2,000 mm/s가 되도록 조정하고, 상기 도 1과 같이 0.16 mm의 간격으로 직선형으로 또한 역방향으로 연속으로 레이저광을 주사하여 8 mm×8 mm의 베타 화상을 형성했다. 다음에, 레이저 출력 8.5 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 약 3 mm, 주사 속도 800 mm/s가 되도록 조정하고, 도 1과 같이 0.6 mm의 간격으로 직선형으로 또한 역방향으로 연속으로 레이저광을 주사하여 110 mm×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했지만, 그 때의 소거 시간은 15.5초간이었다.
또한, 상기 조건에서 화상 기록과 소거를 반복한 바, 10회 후에는 화상의 소거 흔적이 눈에 띄어, 균일한 소거를 할 수 없게 되었다.
(실시예 15 내지 34)
다음에, 실시예 1 내지 14의 화상 기록 조건 및 소거 조건을 하기 표 1과 같이 조합하여, 화상의 기록, 소거 및 반복 시험을 행했다. 그 결과를 하기 표 1에 나타낸다. 또한, 비교예 1 내지 5의 결과를 하기 표 2에 나타낸다.
화상 기록 조건 화상 소거 조건 소거 시간 반복 시험
실시예 1 실시예 1의 화상 기록 조건 실시예 1의 화상 소거 조건 6.3초 ◎
실시예 2 실시예 1의 화상 기록 조건 실시예 2의 화상 소거 조건 6.6초 ◎
실시예 3 실시예 1의 화상 기록 조건 실시예 3의 화상 소거 조건 5.9초 ◎
실시예 4 실시예 1의 화상 기록 조건 실시예 4의 화상 소거 조건 5.5초 ◎
실시예 5 실시예 1의 화상 기록 조건 실시예 5의 화상 소거 조건 5.7초 ◎
실시예 6 실시예 6의 화상 기록 조건 실시예 4의 화상 소거 조건 5.5초 ○
실시예 7 실시예 7의 화상 기록 조건 실시예 4의 화상 소거 조건 5.5초 ◎
실시예 8 실시예 8의 화상 기록 조건 실시예 4의 화상 소거 조건 5.5초 △
실시예 9 실시예 9의 화상 기록 조건 실시예 4의 화상 소거 조건 5.5초 ○
실시예 10 실시예 10의 화상 기록 조건 실시예 4의 화상 소거 조건 5.5초 ◎
실시예 11 실시예 1의 화상 기록 조건 실시예 11의 화상 소거 조건 6.3초 ◎
실시예 12 실시예 1의 화상 기록 조건 실시예 12의 화상 소거 조건 6.6초 ◎
실시예 13 실시예 13의 화상 기록 조건 실시예 4의 화상 소거 조건 5.5초 ○
실시예 14 실시예 14의 화상 기록 조건 실시예 4 화상 소거 조건 5.5초 ◎
실시예 15 실시예 6의 화상 기록 조건 실시예 1의 화상 소거 조건 6.3초 ○
실시예 16 실시예 6의 화상 기록 조건 실시예 2의 화상 소거 조건 6.6초 ○
실시예 17 실시예 6의 화상 기록 조건 실시예 3의 화상 소거 조건 5.9초 ○
실시예 18 실시예 6의 화상 기록 조건 실시예 5의 화상 소거 조건 5.7초 ○
실시예 19 실시예 7의 화상 기록 조건 실시예 1의 화상 소거 조건 6.3초 ◎
실시예 20 실시예 7의 화상 기록 조건 실시예 2의 화상 소거 조건 6.6초 ◎
실시예 21 실시예 7의 화상 기록 조건 실시예 3의 화상 소거 조건 5.9초 ◎
실시예 22 실시예 7의 화상 기록 조건 실시예 5의 화상 소거 조건 5.7초 ◎
실시예 23 실시예 8의 화상 기록 조건 실시예 1의 화상 소거 조건 6.3초 △
실시예 24 실시예 8의 화상 기록 조건 실시예 2의 화상 소거 조건 6.6초 △
실시예 25 실시예 8의 화상 기록 조건 실시예 3의 화상 소거 조건 5.9초 △
실시예 26 실시예 8의 화상 기록 조건 실시예 5의 화상 소거 조건 5.7초 △
실시예 27 실시예 9의 화상 기록 조건 실시예 1의 화상 소거 조건 6.3초 ○
실시예 28 실시예 9의 화상 기록 조건 실시예 2의 화상 소거 조건 6.6초 ○
실시예 29 실시예 9의 화상 기록 조건 실시예 3의 화상 소거 조건 5.9초 ○
실시예 30 실시예 9의 화상 기록 조건 실시예 5의 화상 소거 조건 5.7초 ○
실시예 31 실시예 10의 화상 기록 조건 실시예 1의 화상 소거 조건 6.3초 ◎
실시예 32 실시예 10의 화상 기록 조건 실시예 2의 화상 소거 조건 6.6초 ◎
실시예 33 실시예 10의 화상 기록 조건 실시예 3의 화상 소거 조건 5.9초 ◎
실시예 34 실시예 10의 화상 기록 조건 실시예 5의 화상 소거 조건 5.7초 ◎
화상 기록 조건 화상 소거 조건 소거 시간 반복 시험
비교예 1 실시예 1의 화상 기록 조건 비교예 1의 화상 소거 조건 15.5초 △
비교예 2 실시예 1의 화상 기록 조건 비교예 2의 화상 소거 조건 15.7초 ×
비교예 3 비교예 3의 화상 기록 조건 비교예 1의 화상 소거 조건 15.5초 ×
비교예 4 비교예 4의 화상 기록 조건 비교예 2의 화상 소거 조건 15.7초 ×
비교예 5 비교예 5의 화상 기록 조건 비교예 5의 화상 소거 조건 15.5초 ×
[반복 시험 평가 기준]
◎ : 화상 기록과 화상 소거를 300회 반복하더라도 균일한 화상의 기록과 소거가 가능
○ : 화상 기록과 화상 소거를 100 내지 299회의 범위에서 반복하더라도 균일한 화상의 기록과 소거가 가능
△ : 화상 기록과 화상 소거를 40 내지 99회의 범위에서 반복하더라도 균일한 화상의 기록과 소거가 가능
× : 화상 기록과 화상 소거의 반복이 39회 이하로 균일한 화상의 기록 또는 소거가 곤란
표 1 및 표 2의 결과로부터, 실시예 1 내지 34에서는 단시간에 화상의 소거를 할 수 있고, 또한 반복 내구성도 비교적 양호했다. 이들 중에서도, 실시예 7, 9, 10, 22 및 33과 같은 화상 기록 조건과 소거 조건의 조합에 있어서, 단시간에 소거가 가능하고, 또한 매우 우수한 반복 내구성을 얻을 수 있었다.
(실시예 35)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 2의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 레이저 출력 5.5 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 약 0.2 mm, 주사 속도 2,000 mm/s가 되도록 조정하여, 도 3과 같이 0.16 mm의 간격으로 직선형으로 또한 같은 방향으로 레이저광을 50라인 주사하여 8×8 mm의 베타 화상을 형성했다. 다음에, 레이저 출력 19 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 약 3 mm, 주사 속도 2,400 mm/s가 되도록 조정하고, 도 3과 같이 0.6 mm의 간격으로 직선형으로 또한 같은 방향으로 레이저광을 114라인 주사하여 110×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 6.3 초간이었다.
상기 조건에서 화상 형성과 소거를 100회 반복한 바, 균일한 화상의 형성과 소거가 가능했다.
(실시예 36)
실시예 1의 레이저 마커와 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 실시예 9와 같은 식으로 베타 화상을 형성했다. 다음에, 레이저 출력 11 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 약 3 mm, 주사 속도 800 mm/s가 되도록 조정하고, 도 2와 같이 0.6 mm의 간격으로 직선형으로 또한 역방향으로 레이저광을 114라인 주사하여 110 mm×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했지만, 그 때의 소거 시간은 15.5초간이었다.
상기 조건에서 화상 형성과 소거를 반복한 바, 50회까지 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 37)
레이저 마커로서 40 W의 CO2 레이저를 사용하고 있는 산쿠스주식회사 제조 LP-440을 이용하여, 레이저광의 광로 중에, 이 레이저광의 중심부를 컷트하는 마스크를 넣었다. 그리고, 레이저광에 있어서의 상기 레이저광의 진행 방향에 대하여 대략 직교 방향의 단면에 있어서의 광 강도 분포에 있어서, 주변부의 광 조사 강도에 대하여 중심부의 광 조사 강도가 0.5배가 되도록 조정했다. 이어서, 실시예 1의 열 가역 기록 매체에 레이저 출력 6 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 약 0.2 mm, 주사 속도 1,000 mm/s가 되도록 조정하고, 도 3과 같이 0.16 mm의 간격으로 직선형으로 또한 같은 방향으로 레이저광을 50라인 주사하여 8 mm×8 mm의 베타 화상을 형성했다. 다음에, 레이저 출력 12 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 약 3 mm, 주사 속도 1,000 mm/s가 되도록 조정하고, 도 3과 같이 0.45 mm의 간격으로 직선형으로 또한 같은 방향으로 레이저광을 154라인 주사하여 110 mm×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 300회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 화상 소거가 가능했다.
(실시예 38)
레이저로서, 집광 광학계 f100을 장착 구비한 140 W의 화이버 커플링식 고출력 반도체 레이저 장치(이에나옵틱사 제조, NBT-S140mkII, 중심 파장 : 808 nm, 광 화이버 코어 직경 : 600 ㎛, NA : 0.22)를 이용하여, 레이저 출력 12 W, 조사 거리 91.4 mm, 스폿 직경 약 0.6 mm가 되도록 조정하여, XY 스테이지의 이송 속도 1,200 mm/s로, 제조예 3의 열 가역 기록 매체에 대하여, 도 6에 도시한 바와 같은 주사 순번으로 각각의 간격이 결과적으로 0.5 mm가 되도록 레이저광을 16라인 주사한 바, 8 mm×8 mm의 균일한 베타 화상을 얻을 수 있었다.
이 때, 레이저광에 있어서의 상기 레이저광의 진행 방향에 대하여 대략 직교 방향의 단면에 있어서의 광 강도 분포를, 레이저 빔 프로파일러 BeamOn(듀마옵트로닉스사 제조)를 이용하여 측정한 바, 도 17에 도시하는 광 강도 분포 곡선을 얻을 수 있었다. 또한, 이 광 강도 분포 곡선을 1회 미분(X') 및 2회 미분(X'')한 미분 곡선은 도 10b에서 도시하며, 이들 도면으로부터, 주변부의 광 조사 강도에 대하여 중심부의 광 조사 강도가 1.05배로 되어 있음을 알 수 있었다.
계속해서, 상기 레이저 장치를 이용하여, 레이저 출력 15 W, 조사 거리 86 mm, 스폿 직경 3.0 mm가 되도록 조정하고, XY 스테이지의 이송 속도 1,200 mm/s로, 도 6에 도시한 바와 같은 주사 순번으로 각각의 간격이 결과적으로 0.6 mm가 되도록 레이저광을 114라인 주사하여 110×70 mm의 범위 내에 조사하여, 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 화상을 소거했다.
이 때, 같은 식으로 하여 레이저광에 있어서의 상기 레이저광의 진행 방향에 대하여 대략 직교 방향의 단면에 있어서의 광 강도 분포를, 레이저 빔 프로파일러 BeamOn(듀마옵트로닉스사 제조)를 이용하여 측정한 바, 도 18에 도시하는 광 강도 분포 곡선을 얻을 수 있었다. 또한, 이 광 강도 분포 곡선을 1회 미분(X') 및 2회 미분(X'')한 미분 곡선은 도 10d에서 도시하며, 이들 도면으로부터, 주변부의 광 조사 강도에 대하여 중심부의 광 조사 강도가 0.6배로 되어 있음을 알 수 있었다.
상기 조건에서 화상 형성과 소거를 100회 반복한 바, 균일한 화상의 형성과 소거가 가능했다.
(실시예 39)
실시예 1의 레이저 마커와, 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 실시예 9와 같은 식으로 베타 화상을 형성하였다. 이어서, 계속하여 열 경사 시험기(도요세키가부시키가이샤 제조, TYPE HG-100)를 이용하여, 1 kg/cm2의 압력 하, 140℃에서 1초간 가열하여 화상을 소거했다.
상기 조건에서 화상 형성과 소거를 100회 반복한 바, 균일한 화상의 형성과 소거가 가능했다.
(실시예 40)
실시예 1의 레이저 마커와, 제조예 1의 열 가역 기록 매체를 이용하여, 레이저 출력 7 W, 조사 거리 185 mm, 스폿 직경 0.2 mm, 주사 속도 2,000 mm/s가 되도록 조정하여, 도 19와 같이 0.16 mm의 간격으로 직선형으로 그리고 동방향으로 레이저광을 50라인 주사하여 8 mm×8 mm의 베타 화상을 기록했다. 이어서, 레이저 출력 32 W, 조사 거리 224 mm, 스폿 직경 3 mm, 주사 속도 2,400 mm/s가 되도록 조정하고, 도 19와 같이 0.6 mm의 간격으로 직선형으로 그리고 동방향으로 레이저광을 114라인 주사하여 110 mm×70 mm의 범위 내에 조사한 바, 화상은 완전히 소거 가능했다. 그 때의 소거 시간은 6.3초간이었다.
상기 조건에서 화상 기록과 화상 소거를 100회 반복한 바, 균일한 화상의 기록과 소거가 가능했다.
(실시예 41)
<라벨의 예>
상기 제조예 1의 「열 가역 기록 매체의 제작」에서 이용한 지지체 상에, 상기 제조예 1의 언더층 및 상기 기록층을 순차 도포했다.
이어서, 이하와 같이 하여 조제한 자외선 흡수 구조를 갖는 중합체 함유층 도포액을 상기 언더층, 기록층 도포가 끝난 지지체 상에, 와이어바를 이용하여 도포하고, 90℃에서 1분간 건조한 후, 50℃에서 24시간 가열하여, 두께 2 ㎛의 자외선 흡수 구조를 갖는 중합체 함유층(중간층)을 형성했다.
- 자외선 흡수 구조를 갖는 중합체 함유층(중간층) 도포액의 조제 -
자외선 흡수성 중합체의 40 질량% 용액(오츠카가가쿠주식회사 제조, PUVA-60MK-40K, 수산기가 : 60 mgKOH/g) 20 질량부, 크실렌디이소시아네이트(미쓰이다케다케미컬주식회사 제조, D-110N) 3.2 질량부 및 메틸에틸케톤(MEK) 23 질량부로 이루어지는 조성물을 볼밀로 충분히 교반하여 자외선 흡수 구조를 갖는 중합체 함유층 도포액을 조제했다.
이어서, 상기 제조예 1의 중간층 상에, 「열 가역 기록 매체의 제작」에서 이용한 보호층용 도포액을 도포하여, 두께 4 ㎛의 보호층을 형성했다.
이어서, 다음과 같이 하여 조제한 점착층 도포액을 상기 언더층, 기록층, 중간층 및 보호층을 도포가 끝난 지지체의 도공되어 있지 않은 측의 면 상에, 상기 점착층용 도포액을 와이어바로 도포하고, 90℃에서 2분간 건조하여, 두께 20 ㎛의 점착층을 형성했다. 이상에 의해, 열 가역 기록 라벨을 제작했다.
- 점착층용 도포액의 조제 -
아크릴계 점착제(도요잉크세이조주식회사 제조, BPS-1109) 50 질량부와 이소시아네이트(미쓰이다케다케미컬주식회사 제조, D-170N) 2 질량부로 이루어지는 조성물을 충분히 교반하여, 점착층 도포액을 조제했다.
제작한 열 가역 기록 라벨을 120 mm×80 mm의 사이즈로 컷트하여, 플라스틱의 박스에 접착하고, 실시예 1 내지 14와 같은 식으로 하여, 화상 기록 및 화상 소거를 행한 바, 균일한 화상 기록 및 균일한 화상 소거가 가능했다.
(실시예 42)
-태그, 라인사이드의 예 -
상기 제조예 1의 「열 가역 기록 매체의 제작」에서 이용한 지지체 상에, 마찬가지로 상기 제조예 1의 기록층, 중간층, 보호층을 도포한 상면용 시트와, 상기 제조예 1의 「열 가역 기록 매체의 제작」에서 이용한 지지체에 상기 제조예 1의 백층만을 도포한 하면용의 시트를 각각 제작했다. 각각 210 mm×85 mm의 사이즈로 컷트하여, 이들 시트의 사이에 RF-ID의 인렛(DNP사 제조)와 인렛 주위용 스페이서로서 PETG 시트(미쓰비시쥬시주식회사 제조)를 끼워 넣어 점착 테이프(닛토덴코주식회사 제조)로 접합시켜, 두께 500 ㎛의 RF-ID가 들어간 열 가역 기록 태그를 제작했다.
제작한 RF-ID가 들어간 열 가역 태그를 플라스틱 박스에 부착하여, 실시예 1 내지 14와 같은 식으로 하여 화상 기록 및 화상 소거를 행한 바, 균일한 화상 기록 및 균일한 화상 소거가 가능했다.
이상 본 발명의 바람직한 실시예에 관해서 상술했지만, 본 발명은 이러한 특정한 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 특허청구범위에 기재된 본 발명의 취지의 범위 내에서, 여러 가지의 변형 및 변경이 가능하다.
본 발명의 화상 처리 방법 및 화상 처리 장치는, 열 가역 기록 매체에 대하여, 비접촉식으로, 높은 콘트라스트의 화상을 고속으로 반복 기록 및 소거 가능하고, 게다가 반복에 의한 상기 열 가역 기록 매체의 열화를 억제할 수 있기 때문에, 예컨대 입출 티켓, 냉동식품용 용기, 공업 제품, 각종 약품 용기 등의 스티커, 물류 관리 용도, 제조 공정 관리 용도 등의 큰 화면, 다양한 표시에 폭넓게 이용할 수 있으며, 특히, 물류·배송 시스템이나 공장 내에서의 공정 관리 시스템 등의 사용에 알맞은 것이다.

Claims (30)

  1. 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
    상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 동일 방향으로 주사시키고, 또한 그 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법.
  2. 제1항에 있어서, 레이저광의 불연속 조사가, 상기 레이저광을 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점을 상기 제1 개시점으로부터 소정 간격에 설정한 위치까지의 레이저의 이동 사이에 대응하는 것인 화상 처리 방법.
  3. 제1항에 있어서, 레이저광의 불연속 조사가, 화상 처리 장치에 있어서의 주사 제어 수단에 의해서, 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로 부터, 다음 제2 개시점에서 레이저광의 조사가 유도되도록 상기 종료점으로부터 상기 제2 개시점까지 제어되는 것인 화상 처리 방법.
  4. 제1항에 있어서, 열 가역 기록 매체가, 지지체 상에 적어도 가역성 감열 기록층을 구비하여 이루어지고, 상기 가역성 감열 기록층이 수지 및 유기 저분자 물질을 함유하는 것인 화상 처리 방법.
  5. 제1항에 있어서, 열 가역 기록 매체가, 지지체 상에 적어도 가역성 감열 기록층을 구비하여 이루어지고, 상기 가역성 감열 기록층이 로이코 염료 및 가역성 현색제를 함유하는 것인 화상 처리 방법.
  6. 제1항에 있어서, 화상 기록 단계 및 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나에서 조사되는 레이저광에 있어서의, 그 레이저광의 진행 방향에 대하여 대략 직교 방향의 단면에 있어서의 광 강도 분포에 있어서, 중심부의 광 조사 강도가 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하인 것인 화상 처리 방법.
  7. 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가 역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
    상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나에 있어서, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 서로 상반되는 방향으로 순차 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하고, 상기 레이저광의 불연속 조사가, 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점에 레이저광의 조사가 유도되도록 상기 종료점으로부터 상기 제2 개시점까지 레이저광을 조사하지 않는 상태로 주사하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법.
  8. 제7항에 있어서, 열 가역 기록 매체가, 지지체 상에 적어도 가역성 감열 기록층을 구비하여 이루어지고, 상기 가역성 감열 기록층이 수지 및 유기 저분자 물질을 함유하는 것인 화상 처리 방법.
  9. 제7항에 있어서, 열 가역 기록 매체가, 지지체 상에 적어도 가역성 감열 기록층을 구비하여 이루어지고, 상기 가역성 감열 기록층이 로이코 염료 및 가역성 현색제를 함유하는 것인 화상 처리 방법.
  10. 제7항에 있어서, 화상 기록 단계 및 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나에서 조사되는 레이저광에 있어서의, 상기 레이저광의 진행 방향에 대하여 대략 직교 방향의 단면에 있어서의 광 강도 분포에 있어서, 중심부의 광 조사 강도가 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하인 것인 화상 처리 방법.
  11. 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
    상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 서로 상반되는 방향으로 인접부를 계속하여 주사하지 않도록 하여 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법.
  12. 제11항에 있어서, 레이저광의 불연속 조사가, 그 레이저광을 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점을 상기 종료점으로부터 임의의 간격으로 설정한 위치까지의 레이저의 이동 사이에 대응하는 것인 화상 처리 방법.
  13. 제11항에 있어서, 레이저광의 불연속 조사가, 화상 처리 장치에 있어서의 주 사 제어 수단에 의해서, 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점에서 레이저광의 조사가 유도되도록 상기 종료점으로부터 상기 제2 개시점까지 제어되는 것인 화상 처리 방법.
  14. 제11항에 있어서, 열 가역 기록 매체가, 지지체 상에 적어도 가역성 감열 기록층을 구비하여 이루어지고, 상기 가역성 감열 기록층이 수지 및 유지 저분자 물질을 함유하는 것인 화상 처리 방법.
  15. 제11항에 있어서, 열 가역 기록 매체가, 지지체 상에 적어도 가역성 감열 기록층을 구비하여 이루어지고, 상기 가역성 감열 기록층이 로이코 염료 및 가역성 현색제를 함유하는 것인 화상 처리 방법.
  16. 제11항에 있어서, 화상 기록 단계 및 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나에서 조사되는 레이저광에 있어서의, 상기 레이저광의 진행 방향에 대하여 대략 직교 방향의 단면에 있어서의 광 강도 분포에 있어서, 중심부의 광 조사 강도가 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하인 것인 화상 처리 방법.
  17. 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
    상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 동일 방향으로 인접부를 계속하여 주사하지 않도록 하여 주사시키고, 또한 상기 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법.
  18. 제17항에 있어서, 레이저광의 불연속 조사가, 상기 레이저광을 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점을 상기 종료점으로부터 임의의 간격으로 설정한 위치까지의 레이저의 이동 사이에 대응하는 것인 화상 처리 방법.
  19. 제17항에 있어서, 레이저광의 불연속 조사가, 화상 처리 장치에 있어서의 주사 제어 수단에 의해서, 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점에서 레이저광의 조사가 유도되도록 상기 종료점으로부터 상기 제2 개시점까지 제어되는 것인 화상 처리 방법.
  20. 제17항에 있어서, 열 가역 기록 매체가, 지지체 상에 적어도 가역성 감열 기록층을 구비하여 이루어지고, 상기 가역성 감열 기록층이 수지 및 유기 저분자 물 질을 함유하는 것인 화상 처리 방법.
  21. 제17항에 있어서, 열 가역 기록 매체가, 지지체 상에 적어도 가역성 감열 기록층을 구비하여 이루어지고, 상기 가역성 감열 기록층이 로이코 염료 및 가역성 현색제를 함유하는 것인 화상 처리 방법.
  22. 제17항에 있어서, 화상 기록 단계 및 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나에서 조사되는 레이저광에 있어서의, 상기 레이저광의 진행 방향에 대하여 대략 직교 방향의 단면에 있어서의 광 강도 분포에 있어서, 중심부의 광 조사 강도가 주변부의 광 조사 강도와 동등 이하인 것인 화상 처리 방법.
  23. 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
    상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 동일 방향으로 주사시키고, 또한 그 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하는 화상 처리 방 법에 이용되며,
    레이저광 출사 수단과,
    이 레이저광 출사 수단에 있어서의 레이저광 출사면에 배치되고, 또한 레이저광의 광 조사 강도를 변화시키는 광 조사 강도 조정 수단을 적어도 갖는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
  24. 제23항에 있어서, 광 조사 강도 조정 수단이, 렌즈, 필터, 마스크 및 미러 중 적어도 어느 하나인 것인 화상 처리 장치.
  25. 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
    상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나에 있어서, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 서로 상반되는 방향으로 순차 주사시키고, 또한 그 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하며, 이 레이저광의 불연속 조사가, 제1 개시점으로부터 종료점까지 주사했을 때의 종료점으로부터, 다음 제2 개시점에 레이저광의 조사가 유도되도록 상기 종료 점으로부터 상기 제2 개시점까지 레이저광을 조사하지 않는 상태로 주사하는 화상 처리 방법에 이용되며,
    레이저광 출사 수단과,
    이 레이저광 출사 수단에 있어서의 레이저광 출사면에 배치되고, 또한 레이저광의 광 조사 강도를 변화시키는 광 조사 강도 조정 수단을 적어도 갖는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
  26. 제25항에 있어서, 광 조사 강도 조정 수단이, 렌즈, 필터, 마스크 및 미러 중 적어도 어느 하나인 것인 화상 처리 장치.
  27. 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
    상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 서로 상반되는 방향으로 인접부를 계속하여 주사하지 않도록 하여 주사시키고, 또한 그 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하는 화상 처리 방법에 이용되며,
    레이저광 출사 수단과,
    이 레이저광 출사 수단에 있어서의 레이저광 출사면에 배치되고, 또한 레이저광의 광 조사 강도를 변화시키는 광 조사 강도 조정 수단을 적어도 갖는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
  28. 제27항에 있어서, 광 조사 강도 조정 수단이, 렌즈, 필터, 마스크 및 미러 중 적어도 어느 하나인 것인 화상 처리 장치.
  29. 온도에 의존하여 투명도 및 색조 중 어느 하나가 가역적으로 변화하는 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 복수의 레이저광 묘화선으로 형성되는 화상을 기록하는 화상 기록 단계, 및 상기 열 가역 기록 매체에 대하여, 레이저광을 조사하여 가열함으로써 상기 열 가역 기록 매체에 기록된 상기 화상을 소거하는 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나를 포함하고,
    상기 화상 기록 단계 및 상기 화상 소거 단계 중 적어도 어느 하나가, 레이저광을 소정 간격으로 병렬하여 조사할 때에, 상기 레이저광을 동일 방향으로 인접부를 계속하여 주사하지 않도록 하여 주사시키고, 또한 그 레이저광의 불연속 조사를 주사의 일부에 포함하는 화상 처리 방법에 이용되며,
    레이저광 출사 수단과,
    이 레이저광 출사 수단에 있어서의 레이저광 출사면에 배치되고, 또한 레이 저광의 광 조사 강도를 변화시키는 광 조사 강도 조정 수단을 적어도 갖는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
  30. 제29항에 있어서, 광 조사 강도 조정 수단이, 렌즈, 필터, 마스크 및 미러 중 적어도 어느 하나인 것인 화상 처리 장치.
KR1020070024987A 2006-03-14 2007-03-14 화상 처리 방법 및 화상 처리 장치 KR100929352B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2006-00069767 2006-03-14
JP2006069767 2006-03-14
JPJP-P-2007-00030637 2007-02-09
JP2007030637 2007-02-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070093893A true KR20070093893A (ko) 2007-09-19
KR100929352B1 KR100929352B1 (ko) 2009-12-03

Family

ID=38169415

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070024987A KR100929352B1 (ko) 2006-03-14 2007-03-14 화상 처리 방법 및 화상 처리 장치

Country Status (7)

Country Link
US (2) US20070225162A1 (ko)
EP (2) EP1834795B1 (ko)
JP (2) JP5255218B2 (ko)
KR (1) KR100929352B1 (ko)
CN (1) CN101037053B (ko)
AT (1) ATE484393T1 (ko)
DE (1) DE602007009742D1 (ko)

Families Citing this family (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080194719A1 (en) * 2006-09-05 2008-08-14 Fujifilm Hunt Chemicals U.S.A., Inc. Composition for forming a laser-markable coating and a laser-markable material containing organic absorption enhancement additives
JP5010878B2 (ja) * 2006-09-07 2012-08-29 リンテック株式会社 非接触型書き換え可能記録媒体の記録方法
JP5228471B2 (ja) * 2006-12-26 2013-07-03 株式会社リコー 画像処理方法及び画像処理装置
JP2008179131A (ja) 2006-12-26 2008-08-07 Ricoh Co Ltd 画像処理方法及び画像処理装置
US8628898B2 (en) * 2006-12-26 2014-01-14 Ricoh Company, Ltd. Image processing method, and image processor
JP5332412B2 (ja) * 2007-09-13 2013-11-06 株式会社リコー 画像処理方法及び画像処理装置
US7931769B2 (en) * 2007-12-21 2011-04-26 Micron Technology, Inc. Method of forming temporary carrier structure and associated release techniques
US8101334B2 (en) * 2008-02-13 2012-01-24 Ricoh Company, Ltd. Image processing method and image processing apparatus
JP5651935B2 (ja) 2008-08-28 2015-01-14 株式会社リコー 画像処理装置
JP5471219B2 (ja) * 2008-09-17 2014-04-16 株式会社リコー 熱可逆記録媒体の画像消去方法
JP5515546B2 (ja) * 2008-09-17 2014-06-11 株式会社リコー 熱可逆記録媒体の画像消去方法
JP5316354B2 (ja) * 2008-12-03 2013-10-16 株式会社リコー 制御装置、レーザ照射装置、記録方法、プログラム、記憶媒体
JP2010195035A (ja) * 2009-01-30 2010-09-09 Ricoh Co Ltd 感熱記録媒体及びそれを用いた画像処理方法
JP5146350B2 (ja) * 2009-02-16 2013-02-20 株式会社リコー 画像処理方法及び画像処理装置
JP5510214B2 (ja) 2009-10-19 2014-06-04 株式会社リコー 描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体
JP5736712B2 (ja) * 2009-10-19 2015-06-17 株式会社リコー 画像消去方法及び画像消去装置
JP5720155B2 (ja) * 2009-10-19 2015-05-20 株式会社リコー 描画制御方法、レーザ照射装置、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体
JP5707830B2 (ja) 2009-10-19 2015-04-30 株式会社リコー 画像処理方法及び画像処理装置
JP5708859B2 (ja) * 2009-10-19 2015-04-30 株式会社リコー 描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体
JP5699481B2 (ja) 2009-10-27 2015-04-08 株式会社リコー 描画制御装置、レーザ照射システム、描画方法、描画プログラム、及び記憶媒体
US8546300B2 (en) * 2010-01-15 2013-10-01 Ricoh Company, Ltd. Thermosensitive recording material and image recording method
JP2012035622A (ja) 2010-07-13 2012-02-23 Ricoh Co Ltd 画像処理方法及び画像処理装置
JP6051535B2 (ja) 2011-02-28 2016-12-27 株式会社リコー 画像処理方法及び画像処理装置
JP5971041B2 (ja) * 2011-11-25 2016-08-17 株式会社リコー 情報処理装置、システム、情報処理方法、プログラム、記憶媒体
JP5892366B2 (ja) 2011-12-05 2016-03-23 株式会社リコー 画像消去装置及び画像消去方法
JP6186869B2 (ja) 2012-05-23 2017-08-30 株式会社リコー 画像処理方法及び画像処理装置
JP6326759B2 (ja) * 2012-11-30 2018-05-23 株式会社リコー 画像記録システム、画像書き換えシステム及び画像記録方法
WO2014128708A1 (en) * 2013-02-21 2014-08-28 Yekutiely Barak M System and method for reprinting on paper
JP6112047B2 (ja) 2013-03-25 2017-04-12 株式会社リコー 画像処理方法及び画像処理装置
JP2015187853A (ja) * 2014-03-14 2015-10-29 株式会社リコー 光学式情報コード読取り方法
CN105278011B (zh) * 2014-06-30 2017-02-08 中国人民解放军国防科学技术大学 一种光纤激光准直整形装置及其设计方法
JP2016172285A (ja) 2015-03-16 2016-09-29 株式会社リコー 保護囲い、レーザ照射システム
JP6750258B2 (ja) 2015-03-18 2020-09-02 株式会社リコー 保護囲い、レーザ照射システム
JP2016175408A (ja) 2015-03-20 2016-10-06 株式会社リコー 熱可逆記録媒体、それを用いた画像処理装置、及びコンベアラインシステム
JP2016175406A (ja) 2015-03-20 2016-10-06 株式会社リコー 画像消去方法及び画像消去装置、並びに、画像消去装置を用いたコンベアラインシステム
JP6711010B2 (ja) 2015-03-20 2020-06-17 株式会社リコー 画像処理方法及び画像処理装置、並びに、画像処理装置を用いたコンベアラインシステム
JP6976115B2 (ja) * 2017-09-20 2021-12-08 株式会社東芝 レーザ記録装置および方法
US10586138B2 (en) 2017-11-02 2020-03-10 International Business Machines Corporation Dynamic thermoelectric quick response code branding
CN108924424B (zh) * 2017-11-14 2021-03-02 深圳市联代科技有限公司 一种助拍系统以及应用该助拍系统的手机
US10430620B2 (en) * 2018-02-26 2019-10-01 International Business Machines Corporation Dynamic thermoelectric image branding
US11485147B2 (en) * 2018-09-11 2022-11-01 Sony Corporation Drawing method, heat-sensitive recording medium, and drawing device
CN109470598B (zh) * 2018-10-08 2021-02-09 浙江大学 一种喷液气固流化床中喷液区动态分布特性的测量方法
WO2020161678A1 (en) 2019-02-08 2020-08-13 Entrust Datacard Corporation Laser marking warpage mitigation
CN113838435B (zh) * 2021-09-18 2022-12-13 深圳创维－Rgb电子有限公司 显示器扫描方法、装置、设备、存储介质及驱动电路

Family Cites Families (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3709117A (en) * 1970-10-12 1973-01-09 Watson Leavenworth Kelton & Ta Information recording method and system
US4037231A (en) * 1975-12-15 1977-07-19 The Singer Company Variable clock rate resonant printer with nonlinear correction
JPS55111917A (en) * 1979-02-22 1980-08-29 Toshiba Corp Reciprocating photo scanner
JPS61133052A (ja) * 1984-12-03 1986-06-20 Hitachi Ltd 光学的記録再生装置
KR920006681B1 (ko) * 1986-07-09 1992-08-14 마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤 레이저 가공방법
JPS6362142A (ja) * 1986-09-02 1988-03-18 Shimadzu Corp 表面分析装置
US4816920A (en) * 1986-11-18 1989-03-28 General Scanning, Inc. Planar surface scanning system
JP3100450B2 (ja) * 1991-01-11 2000-10-16 株式会社リコー 画像記録方法及びこれに用いる装置
US5280377A (en) * 1991-06-28 1994-01-18 Eastman Kodak Company Beam scanning galvanometer with spring supported mirror
US5355178A (en) * 1991-10-24 1994-10-11 Eastman Kodak Company Mechanism for improving television display of still images using image motion-dependent filter
US5296703A (en) * 1992-04-01 1994-03-22 The Regents Of The University Of California Scanning confocal microscope using fluorescence detection
US5283433A (en) * 1992-10-05 1994-02-01 The Regents Of The University Of California Scanning confocal microscope providing a continuous display
JP3446316B2 (ja) * 1993-11-16 2003-09-16 凸版印刷株式会社 レーザ記録方法及びレーザ記録装置
US5619243A (en) * 1993-11-18 1997-04-08 Ricoh Company, Ltd. Image recording and erasing method
JP3493482B2 (ja) * 1994-08-29 2004-02-03 株式会社リコー 熱可逆記録媒体及びこれを用いた画像記録消去方法
JPH08267935A (ja) * 1995-03-29 1996-10-15 Toppan Printing Co Ltd レーザ記録用可逆性感熱記録媒体
JPH08267797A (ja) * 1995-03-29 1996-10-15 Toppan Printing Co Ltd レーザ記録方法及びレーザ記録装置
US5916841A (en) * 1996-05-16 1999-06-29 Ricoh Company, Ltd. Reversible thermosensitive recording material
JPH10100547A (ja) * 1996-08-06 1998-04-21 Ricoh Co Ltd 可逆性感熱記録材料
US6096683A (en) * 1996-10-24 2000-08-01 Ricoh Company, Ltd. Reversible thermosensitive recording medium and method for producing the medium
US6174836B1 (en) * 1997-07-18 2001-01-16 Ricoh Company Ltd. Reversible thermosensitive recording medium, method of producing the medium, information recording devices using the medium, and image formation and erasing method using the medium
US6362130B1 (en) * 1997-09-04 2002-03-26 Ricoh Company, Ltd. Reversible thermosensitive recording medium, card, label, disk, disk cartridge, tape cassette, method of producing the recording medium, and method of recording and erasing images using the same
JP3557512B2 (ja) * 1997-12-03 2004-08-25 ミヤチテクノス株式会社 ２次元バーコードのレーザマーキング方法
US6177383B1 (en) * 1998-03-23 2001-01-23 Ricoh Company, Ltd. Reversible thermosensitive recording medium, and image forming and erasing method
JP3550302B2 (ja) * 1998-07-24 2004-08-04 株式会社日立製作所 往復偏向式映像信号表示装置
GB2340292B (en) * 1998-07-28 2002-10-23 Ricoh Kk Optical data storage medium capable of reversibly displaying information
JP4377490B2 (ja) * 1999-09-27 2009-12-02 大日本印刷株式会社 可逆性感熱記録媒体の記録消去装置
JP2001293893A (ja) * 2000-04-17 2001-10-23 Ricoh Co Ltd 熱記録装置および熱記録方法
US6794334B2 (en) * 2000-06-13 2004-09-21 Ricoh Company, Ltd. Thermo reversible recording medium, member having information memorizing part, thermo reversible recording label, method of and apparatus for image processing
JP5040049B2 (ja) * 2000-08-04 2012-10-03 大日本印刷株式会社 可逆性感熱記録媒体の記録消去装置
JP2002148554A (ja) * 2000-11-03 2002-05-22 Samsung Electronics Co Ltd 光スキャナ及びこれを適用したレーザ映像投射装置並びにその駆動方法
JP4024474B2 (ja) * 2000-11-30 2007-12-19 株式会社リコー 可逆性感熱記録媒体及びこれの画像形成・消去方法
JP2002178173A (ja) * 2000-12-12 2002-06-25 Yaskawa Electric Corp レーザマーキング方法およびその装置
JP2002248863A (ja) * 2001-02-26 2002-09-03 Ricoh Co Ltd 可逆性感熱記録媒体及びその画像処理方法
JP2003072119A (ja) * 2001-06-22 2003-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 記録方法及び記録装置
JP2003072123A (ja) * 2001-06-22 2003-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 記録方法及び記録装置
JP3970117B2 (ja) * 2001-07-19 2007-09-05 株式会社リコー 熱可逆記録媒体、ラベル、カード、ディスクカートリッジ、ディスク、テープカセット及び画像記録消去方法
US20030074260A1 (en) * 2001-10-12 2003-04-17 Nobuyoshi Sugiyama Image displaying method and point card
JP3990891B2 (ja) * 2001-10-24 2007-10-17 大日本印刷株式会社 可逆性感熱記録媒体の記録消去装置
AU2003235091A1 (en) * 2002-04-23 2003-11-10 Mitsubishi Plastics, Inc. Information recording / displaying card, image processing method using same, and image processor
CN100357114C (zh) * 2002-04-23 2007-12-26 株式会社理光 信息记录显示卡,及使用该卡的图像处理方法与图像处理装置
US6803938B2 (en) * 2002-05-07 2004-10-12 Texas Instruments Incorporated Dynamic laser printer scanning alignment using a torsional hinge mirror
JP4592246B2 (ja) * 2002-06-12 2010-12-01 株式会社キーエンス レーザ加工装置およびレーザ加工方法
JP2004243634A (ja) * 2003-02-13 2004-09-02 Noritsu Koki Co Ltd レーザープリンタ及び写真処理装置
JP2005035276A (ja) * 2003-06-25 2005-02-10 Ricoh Co Ltd 可逆性感熱記録媒体、並びに、可逆性感熱記録ラベル、可逆性感熱記録部材、画像処理装置及び画像処理方法
US6906738B2 (en) * 2003-06-30 2005-06-14 Texas Instruments Incorporated Multispeed laser printing using a single frequency scanning mirror
US7064876B2 (en) * 2003-07-29 2006-06-20 Lexmark International, Inc. Resonant oscillating scanning device with multiple light sources
JP4217180B2 (ja) * 2004-03-17 2009-01-28 大日本印刷株式会社 熱転写シートに積層されたホログラム又は回折格子の転写方法、並びに被転写媒体
JP2005338512A (ja) * 2004-05-27 2005-12-08 Sumitomo Precision Prod Co Ltd 光ビーム走査方法及び光ビーム走査装置
US7133061B2 (en) * 2004-06-14 2006-11-07 Texas Instruments Incorporated Multilaser bi-directional printer with an oscillating scanning mirror
US20060017795A1 (en) * 2004-07-26 2006-01-26 Seiko Epson Corporation Image forming apparatus, image forming method and data control device
JP2006035683A (ja) * 2004-07-28 2006-02-09 Ricoh Co Ltd 可逆性感熱記録媒体の書き替え方法及びその方法を実施するための装置
US7507951B2 (en) * 2004-12-02 2009-03-24 Lexmark International, Inc. Torsion oscillator voltage control driver with each of dual voltage polarity for each of dual channel
JP2006224441A (ja) * 2005-02-17 2006-08-31 Kyocera Mita Corp 画像形成装置、画像形成方法
KR100890291B1 (ko) * 2005-12-29 2009-03-26 삼성전기주식회사 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의디스플레이 장치
US7817179B2 (en) * 2006-08-29 2010-10-19 Lexmark International, Inc. Methods and apparatus for storing alignment information in a bi-directionally scanning electrophotographic device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013163380A (ja) 2013-08-22
US20070225162A1 (en) 2007-09-27
EP2269828B1 (en) 2012-12-12
JP2008213439A (ja) 2008-09-18
DE602007009742D1 (de) 2010-11-25
CN101037053A (zh) 2007-09-19
US20140078234A1 (en) 2014-03-20
JP5255218B2 (ja) 2013-08-07
CN101037053B (zh) 2010-12-08
EP2269828A1 (en) 2011-01-05
KR100929352B1 (ko) 2009-12-03
EP1834795B1 (en) 2010-10-13
EP1834795A1 (en) 2007-09-19
ATE484393T1 (de) 2010-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100929352B1 (ko) 화상 처리 방법 및 화상 처리 장치
JP5464263B2 (ja) 画像処理方法及び画像処理装置
JP5228471B2 (ja) 画像処理方法及び画像処理装置
EP2292434B1 (en) Image processing method and image processor
EP1939003B1 (en) Image processing method and image processor
JP5326631B2 (ja) 画像処理方法及び画像処理装置
US8264513B2 (en) Method for image processing and image processing apparatus
JP5332412B2 (ja) 画像処理方法及び画像処理装置
JP5233273B2 (ja) 画像処理方法及び画像処理装置
JP4263228B2 (ja) 画像処理方法及び画像処理装置
JP5091653B2 (ja) 画像処理方法及び画像処理装置
JP2007069605A (ja) 画像処理方法及び画像処理装置
JP5146350B2 (ja) 画像処理方法及び画像処理装置
JP5169200B2 (ja) 画像処理方法及び画像処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121116

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131114

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151112

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161111

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171116

Year of fee payment: 9