KR20070045310A - 할로겐 치환 벤젠디메탄올의 제조 방법 - Google Patents
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- XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical class OCC1=CC=CC=C1CO XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- -1 terephthalic acid diester Chemical class 0.000 claims abstract description 44
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 39
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N benzene-dicarboxylic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 229910010277 boron hydride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 5
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 11
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 claims description 8
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 6
- 125000002102 aryl alkyloxo group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 1
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical class B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KLKVYLNPISIJQB-UHFFFAOYSA-N [2,3,5,6-tetrafluoro-6-(hydroxymethyl)cyclohexa-2,4-dien-1-yl]methanol Chemical compound OCC1C(F)=C(F)C=C(F)C1(F)CO KLKVYLNPISIJQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- WFNRNCNCXRGUKN-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetrafluoroterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(F)C(F)=C(C(O)=O)C(F)=C1F WFNRNCNCXRGUKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HJQUTAVADMSEGE-UHFFFAOYSA-N [2,3,5,6-tetrachloro-6-(hydroxymethyl)cyclohexa-2,4-dien-1-yl]methanol Chemical compound OCC1C(Cl)=C(Cl)C=C(Cl)C1(Cl)CO HJQUTAVADMSEGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KZCBXHSWMMIEQU-UHFFFAOYSA-N Chlorthal Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(C(O)=O)C(Cl)=C1Cl KZCBXHSWMMIEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006736 (C6-C20) aryl group Chemical group 0.000 description 1
- IWKPBYPUIPVYNZ-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrafluoro-3,6-dimethylbenzene Chemical group CC1=C(F)C(F)=C(C)C(F)=C1F IWKPBYPUIPVYNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCRSJGWFEMHHEW-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetrafluorobenzene-1,4-dicarbonitrile Chemical compound FC1=C(F)C(C#N)=C(F)C(F)=C1C#N PCRSJGWFEMHHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRMKYYVPMAXNNH-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetrafluoroterephthalic acid hydrochloride Chemical compound Cl.OC(=O)C1=C(F)C(F)=C(C(O)=O)C(F)=C1F VRMKYYVPMAXNNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004217 4-methoxybenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1OC([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- NPOJQCVWMSKXDN-UHFFFAOYSA-N Dacthal Chemical compound COC(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(C(=O)OC)C(Cl)=C1Cl NPOJQCVWMSKXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000005156 Dehydration Diseases 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012448 Lithium borohydride Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKVVFXYDMJUDRX-UHFFFAOYSA-N [2,3,5-trichloro-4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC(Cl)=C(CO)C(Cl)=C1Cl AKVVFXYDMJUDRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIAFUBVVMIFQQX-UHFFFAOYSA-N [2,3,5-trifluoro-4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC(F)=C(CO)C(F)=C1F AIAFUBVVMIFQQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUNWHRMQWVERFF-UHFFFAOYSA-N [2,3-dichloro-4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=C(CO)C(Cl)=C1Cl AUNWHRMQWVERFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXFCWDYUZKQLMP-UHFFFAOYSA-N [2,3-difluoro-4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=C(CO)C(F)=C1F DXFCWDYUZKQLMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZJCZHYTWNLVRT-UHFFFAOYSA-N [2,5-difluoro-4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC(F)=C(CO)C=C1F HZJCZHYTWNLVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJZKHHSCVKREET-UHFFFAOYSA-N [2-chloro-3,5,6-trifluoro-6-(hydroxymethyl)cyclohexa-2,4-dien-1-yl]methanol Chemical compound OCC1C(Cl)=C(F)C=C(F)C1(F)CO RJZKHHSCVKREET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTIWSELJIAEUOJ-UHFFFAOYSA-N [3,5-dichloro-4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC(Cl)=C(CO)C(Cl)=C1 QTIWSELJIAEUOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQSVRJCAGFJNEU-UHFFFAOYSA-N [3,5-difluoro-4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC(F)=C(CO)C(F)=C1 FQSVRJCAGFJNEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KERPBPYPUGLGOP-UHFFFAOYSA-N [3-chloro-4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=C(CO)C(Cl)=C1 KERPBPYPUGLGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTAGMGCMOYMQDX-UHFFFAOYSA-N [3-fluoro-4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=C(CO)C(F)=C1 VTAGMGCMOYMQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 1
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- JCEMPCVTIITKAC-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2,3,5,6-tetrafluorobenzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=C(F)C(F)=C(C(=O)OC)C(F)=C1F JCEMPCVTIITKAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKXOOQBNBGNIMZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2,3,5-trifluorobenzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC(F)=C(C(=O)OC)C(F)=C1F AKXOOQBNBGNIMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKXVXPPULUTVKW-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2,3-dichlorobenzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C(Cl)=C1Cl PKXVXPPULUTVKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMWMPJFXCIFKRB-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2,3-difluorobenzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C(F)=C1F KMWMPJFXCIFKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDDWGNUSHLFXED-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2,5-dichlorobenzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC(Cl)=C(C(=O)OC)C=C1Cl RDDWGNUSHLFXED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQOQOCUGIYCMRF-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2,5-difluorobenzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC(F)=C(C(=O)OC)C=C1F YQOQOCUGIYCMRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOKPWGMXOIYCAH-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2,6-dichlorobenzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC(Cl)=C(C(=O)OC)C(Cl)=C1 LOKPWGMXOIYCAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMJQHGVHDYYDOU-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2,6-difluorobenzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC(F)=C(C(=O)OC)C(F)=C1 ZMJQHGVHDYYDOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUFFCPIFRICMFH-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-chlorobenzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C(Cl)=C1 FUFFCPIFRICMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCRFSIQSCLJDIC-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-fluorobenzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C(F)=C1 NCRFSIQSCLJDIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006610 n-decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/132—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group
- C07C29/136—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH
- C07C29/147—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH of carboxylic acids or derivatives thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C33/00—Unsaturated compounds having hydroxy or O-metal groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C33/40—Halogenated unsaturated alcohols
- C07C33/46—Halogenated unsaturated alcohols containing only six-membered aromatic rings as cyclic parts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C33/00—Unsaturated compounds having hydroxy or O-metal groups bound to acyclic carbon atoms
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Abstract
하기 화학식 1로 표시되는 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르, 수소화붕소 화합물(보로히드리드 화합물) 및 용매의 혼합물 중에 알코올을 첨가하는 것을 포함하는, 하기 화학식 1로 표시되는 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르와 수소화붕소 화합물(보로히드리드 화합물)을 알코올의 존재하에 반응시켜 하기 화학식 2로 표시되는 할로겐 치환 벤젠디메탄올을 제조하는 방법.
<화학식 1>
식 중, R1 및 R2는 동일하거나 또는 상이하고, 각각 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 나타내며, X1 내지 X4는 동일하거나 또는 상이하고, 각각 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타내되, 단, X1 내지 X4 중 하나 이상은 할로겐 원자이다.
<화학식 2>
식 중, X1 내지 X4는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르, 수소화붕소 화합물, 할로겐 치환 벤젠디메탄올
Description
본 발명은 할로겐 치환 벤젠디메탄올의 제조 방법에 관한 것이다.
할로겐 치환 벤젠디메탄올은 의약 및 농약의 원료 및 중간체로서 중요한 화합물이다. 특히 2,3,5,6-테트라플루오로벤젠디메탄올은 가정용 살충제의 중간체로서 유용한 것이 미국 특허 제4927852호 명세서에 기재되어 있다.
이러한 2,3,5,6-테트라플루오로벤젠디메탄올의 합성 방법으로서, 예를 들면 미국 특허 제4927852호 명세서에는 2,3,5,6-테트라플루오로파라크실렌을 브롬화한 후, 아세톡실화하고, 이어서 가수분해하는 방법이 기재되어 있다. 영국 공개 특허 제2127013호 공보에는 2,3,5,6-테트라플루오로테레프탈산클로라이드와 수소화붕소나트륨을 반응시키는 방법이 기재되어 있다. 또한, 미국 특허 제5583131호 명세서에는 2,3,5,6-테트라플루오로테레프탈산과 보란ㆍ테트라히드로푸란 착체를 반응시키는 방법이, 미국 특허 제6759558호 명세서에는 황산디메틸 또는 황산의 존재하에 2,3,5,6-테트라플루오로테레프탈산과 수소화붕소나트륨을 반응시키는 방법이 기재되어 있다. 또한, 일본 특허 공개 제2002-20332호 공보에는 2,3,5,6-테트라플루오로테레프탈로니트릴을 수소화한 후, 디아조화하고, 이어서 가수분해하는 방법이 기 재되어 있다.
<발명의 개시>
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르, 수소화붕소 화합물 및 용매의 혼합물 중에 알코올을 첨가하는 것을 포함하는, 하기 화학식 1로 표시되는 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르와 수소화붕소 화합물을 알코올의 존재하에 반응시켜 하기 화학식 2로 표시되는 할로겐 치환 벤젠디메탄올을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
식 중, R1 및 R2는 동일하거나 또는 상이하고, 독립적으로 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 나타내며, 여기서 상기 알킬기의 치환기는 불소 원자; 할로겐 원자(들)로 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알콕시기; 탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 6 내지 20의 아릴기; 탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들) 또는 페녹시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기; 또는 탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들) 또는 페녹시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 7 내지 20의 아랄킬옥시기이고, X1 내지 X4는 동일하거나 또는 상이하고, 독 립적으로 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타내되, 단, X1 내지 X4 중 하나 이상은 할로겐 원자이다.
식 중, X1 내지 X4는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>
화학식 1로 표시되는 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르(이하, (1) 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르라 약기함)에 있어서, 식 중 R1 및 R2는 동일하거나 또는 상이하고, 치환기(들)를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 나타낸다. 여기서, 상기 치환기는 불소 원자; 할로겐 원자(들)로 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알콕시기; 탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 6 내지 20의 아릴기; 탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들) 또는 페녹시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기; 또는 탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들) 또는 페녹시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 7 내지 20의 아랄킬옥시기이다. X1 내지 X4는 동일하거나 또는 상이하고, 독립적으로 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타낸다. 단, X1 내지 X4 중 하나 이상은 할로겐 원자이다.
탄소수 1 내지 20의 알킬기로서는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-데실기, 시클로프로필기, 2,2-디메틸시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 멘틸기 등의 직쇄상, 분지쇄상 또는 환상 알킬기를 들 수 있다.
이러한 알킬기는 치환기(들)를 가질 수 있고, 이러한 치환기는 불소 원자; 할로겐 원자(들)로 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알콕시기; 탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 6 내지 20의 아릴기; 탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들) 또는 페녹시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기; 또는 탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들) 또는 페녹시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 7 내지 20의 아랄킬옥시기이다.
할로겐 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.
할로겐 원자(들)로 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알콕시기로서는, 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, n-헥실옥시기, n-데실옥시기, 트리플루오로메톡시기 등을 들 수 있다.
탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 6 내지 20의 아릴기로서는, 예를 들면 페닐기, 4-메틸페닐기, 4-메톡시페닐기 등을 들 수 있다.
탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들) 또는 페녹시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기로서는, 예를 들면 페녹시기, 2-메틸페녹시기, 4-메틸페 녹시기, 4-메톡시페녹시기, 3-페녹시페녹시기 등을 들 수 있다.
탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들) 또는 페녹시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 7 내지 20의 아랄킬옥시기로서는, 예를 들면 벤질옥시기, 4-메틸벤질옥시기, 4-메톡시벤질옥시기, 3-페녹시벤질옥시기 등을 들 수 있다.
이러한 치환기(들)로 치환된 알킬기로서는, 예를 들면 플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 메톡시메틸기, 에톡시메틸기, 메톡시에틸기, 벤질기, 페녹시메틸기, 벤질옥시메틸기 등을 들 수 있다.
이러한 (1) 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르로서는, 예를 들면 2-플루오로테레프탈산 디메틸, 2-클로로테레프탈산 디메틸, 2,5-디플루오로테레프탈산 디메틸, 2,6-디플루오로테레프탈산 디메틸, 2,3-디플루오로테레프탈산 디메틸, 2,5-디클로로테레프탈산 디메틸, 2,6-디클로로테레프탈산 디메틸, 2,3-디클로로테레프탈산 디메틸, 2,3,5-트리플루오로테레프탈산 디메틸, 2,3,5-트리클로로테레프탈산 디메틸, 2,3,5,6-테트라플루오로테레프탈산 디메틸, 2,3,5,6-테트라플루오로테레프탈산 디에틸, 2,3,5,6-테트라플루오로테레프탈산 디(n-프로필), 2,3,5,6-테트라플루오로테레프탈산 디이소프로필, 2,3,5,6-테트라플루오로테레프탈산 디(n-부틸), 2,3,5,6-테트라플루오로테레프탈산 디(tert-부틸), 2,3,5,6-테트라클로로테레프탈산 디메틸, 2,3,5,6-테트라클로로테레프탈산 디에틸, 2,3,5,6-테트라클로로테레프탈산 디(n-프로필), 2,3,5,6-테트라클로로테레프탈산 디이소프로필, 2,3,5,6-테트라클로로테레프탈산 디(n-부틸), 2,3,5,6-테트라클로로테레프탈산 디(tert-부틸), 2,3,5-트리플루오로-6-클로로테레프탈산 디메틸 등을 들 수 있고, R1 및 R2가 동일한 탄소수 1 내지 6의 알킬기인 (1) 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르가 바람직하다.
이러한 (1) 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르는, 예를 들면 유럽 특허 제0140482호 명세서에 기재된 방법에 의해 제조할 수 있다.
수소화붕소 화합물로서는, 예를 들면 수소화붕소나트륨, 수소화붕소리튬, 수소화붕소칼륨 등의 수소화붕소 알칼리 금속염, 예를 들면 수소화붕소칼슘, 수소화붕소마그네슘 등의 수소화붕소 알칼리 토류 금속염 등을 들 수 있고, 수소화붕소 알칼리 금속염이 바람직하고, 수소화붕소나트륨이 보다 바람직하다.
이러한 수소화붕소 화합물은 시판되는 것을 이용할 수도 있고, 예를 들면 미국 특허 제3471268호 명세서, 문헌[Inorganic Chemistry, 1981, 20, 4454] 등에 기재되어 있는 방법에 준하여 제조한 것을 이용할 수도 있다. 또한, 수소화붕소 화합물은 미리 제조한 것을 이용할 수도 있고, 반응계내에서 제조할 수도 있다.
수소화붕소 화합물의 사용량은 (1) 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르 1몰에 대하여 통상 2 내지 5 몰이고, 바람직하게는 2 내지 2.5 몰이다.
알코올이란, 탄화수소의 1 이상의 수소 원자가 수산기로 치환된 유기 화합물을 의미하고, 예를 들면 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, tert-부탄올 등의 지방족 알코올, 예를 들면 페놀, 벤질알코올 등의 방향족 알코올을 들 수 있으며, 지방족 알코올이 바람직하고, 메탄올이 보다 바람직하다. 이러 한 알코올의 사용량은 특별히 제한되지 않고, 용매로서 과잉량, 예를 들면 (1) 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르 1부에 대하여 100 중량부로 이용할 수도 있지만, 실용적으로는 (1) 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르 1몰에 대하여 1 내지 50 몰이다.
본 반응은 용매 중에서 실시된다. 이러한 용매로서는, 예를 들면 디에틸에테르, 메틸 tert-부틸에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 디이소프로필에테르 등의 에테르 용매, 예를 들면 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠 등의 방향족 탄화수소 용매 등을 들 수 있다. 또한, 상기와 같이 알코올을 용매로서 이용할 수도 있다. 이러한 용매의 사용량은 특별히 제한되지 않지만, 실용적으로는 (1) 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르 1부에 대하여 100 중량부 이하이다.
반응 온도는 통상 -20 내지 200 ℃이다.
반응은 (1) 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르, 수소화붕소 화합물 및 용매를 혼합하여 얻어지는 혼합물에 알코올을 첨가함으로써 실시된다.
본 반응은 통상적으로 상압 조건하에서 실시되지만, 감압 조건하에서 실시할 수도 있다. 반응의 진행은, 예를 들면 가스 크로마토그래피나 액체 크로마토그래피 등의 통상적인 분석 수단에 의해 확인할 수 있다.
반응 종료 후, 예를 들면 반응액과, 예를 들면 염산, 황산, 인산, 질산 등의 무기산의 수용액을 혼합한 후, 필요에 따라서 중화, 유기 용매에 의한 추출, 농축 등의 처리를 실시함으로써 화학식 2로 표시되는 할로겐 치환 벤젠디메탄올(이하, (2) 할로겐 치환 벤젠디메탄올이라 약기함)을 단리할 수 있다. 단리한 (2) 할로겐 치환 벤젠디메탄올은, 예를 들면 재결정, 칼럼 크로마토그래피 등의 통상적인 정제 수단에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
이렇게 하여 얻어지는 (2) 할로겐 치환 벤젠디메탄올로서는, 예를 들면 2-플루오로-1,4-벤젠디메탄올, 2-클로로-1,4-벤젠디메탄올, 2,5-디플루오로-1,4-벤젠디메탄올, 2,6-디플루오로-1,4-벤젠디메탄올, 2,3-디플루오로-1,4-벤젠디메탄올, 2,5-디클로로-1,4-벤젠디메탄올, 2,6-디클로로-1,4-벤젠디메탄올, 2,3-디클로로-1,4-벤젠디메탄올, 2,3,5-트리플루오로-1,4-벤젠디메탄올, 2,3,5-트리클로로-1,4-벤젠디메탄올, 2,3,5,6-테트라플루오로벤젠디메탄올, 2,3,5,6-테트라클로로벤젠디메탄올, 2,3,5-트리플루오로-6-클로로벤젠디메탄올 등을 들 수 있다.
실시예 1
200 ml 플라스크에 수소화붕소나트륨 2.61 g, 테트라히드로푸란 26.8 g 및2,3,5,6-테트라플루오로테레프탈산 디메틸 8.94 g을 투입하였다. 내부 온도 55 ℃에서 교반하면서 메탄올 26.7 g을 80 분간에 걸쳐 적하하였다. 동일한 온도에서 6.5 시간 교반한 후, 실온에서 20 시간 교반을 행하였다. 반응액에 10 중량% 염산 24.5 g을 1 시간에 걸쳐 25 내지 30 ℃에서 적하하고, 동일한 온도에서 1 시간 교반하였다. 또한, 23 중량% 수산화나트륨수 8 g을 첨가하였다. 얻어진 용액을 농축하고, 얻어진 잔사에 물 100 g을 첨가하고, 아세트산에틸 70 g으로 3회 추출 처리하고, 얻어진 유기층을 합하였다. 상기 유기층에 무수 황산마그네슘을 첨가하여 건조시켰다. 황산마그네슘을 여과 분리한 후, 여과액을 농축하여 2,3,5,6-테트 라플루오로벤젠디메탄올의 백색 결정 6.38 g을 얻었다. 가스 크로마토그래피 내부 표준법에 의해 분석한 결과, 2,3,5,6-테트라플루오로벤젠디메탄올의 함량은 92.5 %였다. 수율: 84 %.
실시예 2
200 ml 플라스크에 수소화붕소나트륨 1.66 g, 메틸 tert-부틸에테르 20 g 및2,3,5,6-테트라플루오로테레프탈산 디메틸 5.32 g을 투입하였다. 내부 온도 55 ℃에서 교반하면서 메탄올 18.0 g을 3 시간에 걸쳐 적하하였다. 동일한 온도에서 5 시간 교반한 후, 실온까지 냉각시켰다. 반응액에 10 중량% 염산 16 g을 30 분간에 걸쳐 25 내지 30 ℃에서 적하하고, 동일한 온도에서 30 분간 교반하였다. 또한, 45 중량% 수산화나트륨수을 첨가하여 pH 8로 조정하였다. 얻어진 용액으로부터 메탄올과 메틸 tert-부틸에테르를 증류 제거하고, 얻어진 잔액에 아세트산에틸50 g을 첨가하여, 추출 처리를 2회 행하고, 얻어진 유기층을 합하였다. 상기 유기층에 무수 황산마그네슘을 첨가하여 건조시켰다. 황산마그네슘을 여과 분리한 후, 여과액을 농축하여 농축액 10 g을 얻었다. 농축액에 톨루엔 30 g을 첨가하면 결정이 석출되었다. 상기 결정을 여과 분리하고, 건조시켜 2,3,5,6-테트라플루오로벤젠디메탄올의 백색 결정 3.82 g을 얻었다. 액체 크로마토그래피 면적 백분율법에 의해 분석한 결과, 2,3,5,6-테트라플루오로벤젠디메탄올의 함량은 95.5 %였다. 수율: 87 %.
실시예 3
200 ml 플라스크에 수소화붕소나트륨 1.66 g, 테트라히드로푸란 18 g 및 2,3,5,6-테트라클로로테레프탈산 디메틸 6.64 g을 투입하였다. 내부 온도 55 ℃에서 교반하면서 메탄올 18.0 g을 3 시간에 걸쳐 적하하였다. 동일한 온도에서 5 시간 교반한 후, 실온까지 냉각시켰다. 반응액에 10 중량% 염산 16 g을 30 분간에 걸쳐 내부 온도 25 내지 30 ℃에서 적하하고, 동일한 온도에서 30 분간 교반하였다. 또한, 45 중량% 수산화나트륨수을 첨가하여 pH 8로 조정하였다. 얻어진 용액으로부터 메탄올과 테트라히드로푸란을 증류 제거하고, 얻어진 잔액에 아세트산에틸 50 g을 첨가하여 추출 처리를 2회 반복하고, 얻어진 유기층을 합하였다. 상기 유기층에 무수 황산마그네슘을 첨가하여 탈수 처리한 후, 고체를 여과 분리하였다. 여과액을 농축하고, 얻어진 잔사에 톨루엔 5 g과 n-헥산 30 g을 첨가한 결과, 결정이 석출되었다. 상기 결정을 여과 분리하고, 건조시켜 2,3,5,6-테트라플루오로벤젠디메탄올의 백색 결정 4.40 g을 얻었다. 액체 크로마토그래피 면적 백분율법에 의해 분석한 결과, 2,3,5,6-테트라클로로벤젠디메탄올의 함량은 99.6 %였다. 또한, 결정을 여과 분리한 후의 여과액을 농축하고, 석출된 결정을 여과 분리하고, 건조시켜 2,3,5,6-테트라클로로벤젠디메탄올의 백색 결정 0.63 g을 얻었다. 2,3,5,6-테트라클로로벤젠디메탄올의 함량은 90.2 %였다. 수율: 90 %.
Claims (8)
- 하기 화학식 1로 표시되는 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르, 수소화붕소 화합물 및 용매의 혼합물 중에 알코올을 첨가하는 것을 포함하는, 하기 화학식 1로 표시되는 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르와 수소화붕소 화합물을 알코올의 존재하에 반응시켜 하기 화학식 2로 표시되는 할로겐 치환 벤젠디메탄올을 제조하는 방법.<화학식 1>식 중, R1 및 R2는 동일하거나 또는 상이하고, 독립적으로 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 나타내며, 여기서 상기 알킬기의 치환기는 불소 원자; 할로겐 원자(들)로 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알콕시기; 탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 6 내지 20의 아릴기; 탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들) 또는 페녹시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기; 또는 탄소수 1 내지 6의 알콕시기(들) 또는 페녹시기(들)로 치환될 수 있는 탄소수 7 내지 20의 아랄킬옥시기이고, X1 내지 X4는 동일하거나 또는 상이하고, 독립적으로 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타내되, 단, X1 내지 X4 중 하나 이상은 할로겐 원자이다.<화학식 2>식 중, X1 내지 X4는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
- 제1항에 있어서, R1 및 R2가 동일한 탄소수 1 내지 6의 알킬기인 할로겐 치환 벤젠디메탄올의 제조 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, X1 내지 X4가 전부 불소 원자인 할로겐 치환 벤젠디메탄올의 제조 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 수소화붕소 화합물의 사용량이 화학식 1로 표시되는 할로겐 치환 테레프탈산 디에스테르 1몰에 대하여 2 내지 2.5 몰인 할로겐 치환 벤젠디메탄올의 제조 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 수소화붕소 화합물이 수소화붕소 알칼리 금속염인 할로겐 치환 벤젠디메탄올의 제조 방법.
- 제5항에 있어서, 수소화붕소 알칼리 금속염이 수소화붕소나트륨인 할로겐 치환 벤젠디메탄올의 제조 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 알코올이 지방족 알코올인 할로겐 치환 벤젠디메탄올의 제조 방법.
- 제7항에 있어서, 지방족 알코올이 메탄올인 할로겐 치환 벤젠디메탄올의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004228954 | 2004-08-05 | ||
JPJP-P-2004-00228954 | 2004-08-05 | ||
PCT/JP2005/014486 WO2006013999A1 (ja) | 2004-08-05 | 2005-08-02 | ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070045310A true KR20070045310A (ko) | 2007-05-02 |
KR101189383B1 KR101189383B1 (ko) | 2012-10-10 |
Family
ID=35787273
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020077005129A KR101189383B1 (ko) | 2004-08-05 | 2005-08-02 | 할로겐 치환 벤젠디메탄올의 제조 방법 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7678947B2 (ko) |
EP (1) | EP1783108B1 (ko) |
KR (1) | KR101189383B1 (ko) |
CN (1) | CN101001823A (ko) |
AT (1) | ATE492523T1 (ko) |
DE (1) | DE602005025497D1 (ko) |
ES (1) | ES2355834T3 (ko) |
WO (1) | WO2006013999A1 (ko) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
HUP0800566A3 (en) * | 2006-01-10 | 2010-08-30 | Sumitomo Chemical Co | Method for producing halogen-substituted benzenedimethanol |
CN101370759B (zh) * | 2006-01-24 | 2012-06-27 | 住友化学株式会社 | 制备卤素取代的苯二甲醇的方法 |
JP5109499B2 (ja) * | 2006-06-27 | 2012-12-26 | 住友化学株式会社 | ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造法 |
US7973201B2 (en) | 2006-06-27 | 2011-07-05 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for production of halogen-substituted benzenedimethanol |
KR20110125258A (ko) * | 2009-03-05 | 2011-11-18 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 할로겐 치환 벤젠디메탄올의 제조 방법 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1438326A (fr) | 1965-03-04 | 1966-05-13 | Rhone Poulenc Sa | Préparation des borohydrures alcalins |
DE2658074C2 (de) | 1976-12-22 | 1986-12-04 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Cyclopropancarbonsäureester von halogenierten Benzylalkoholen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung zur Bekämpfung von Insekten und Akariden |
US4183950A (en) * | 1976-12-22 | 1980-01-15 | Bayer Aktiengesellschaft | Combating arthropods with 2,2-dimethyl-3-vinyl-cyclopropane carboxylic acid esters of halogenated benzyl alcohols |
GB8718620D0 (en) * | 1987-08-06 | 1987-09-09 | Ici Plc | Insecticide compounds |
GB2217013B (en) | 1988-04-07 | 1992-10-21 | Kodak Ltd | Control of light emission from devices such as cathode ray tubes |
GB9126677D0 (en) * | 1991-12-16 | 1992-02-12 | Johnson Matthey Plc | Improvements in chemical compounds |
DE19651439A1 (de) | 1996-12-11 | 1998-06-18 | Hoechst Ag | Polymerisierbare Biaryle, Verfahren zur Herstellung und deren Verwendung |
JPH1143455A (ja) | 1997-07-25 | 1999-02-16 | Mitsubishi Chem Corp | ハロゲン化アルコールの製造方法 |
EP1182184B1 (en) | 1999-05-07 | 2007-04-18 | Showa Denko K K | Process for producing tetrafluoro benzenecarbaldehydes and tetrafluoro benzenemethanols |
US6433196B1 (en) | 2000-02-17 | 2002-08-13 | Sumika Fine Chemicals Co., Ltd. | Production method of citalopram, intermediate therefor and production method of the intermediate |
CN1234678C (zh) * | 2000-07-04 | 2006-01-04 | 昭和电工株式会社 | 苯二甲醇化合物的制备方法 |
JP4409057B2 (ja) | 2000-07-04 | 2010-02-03 | 昭和電工株式会社 | ベンゼンジメタノール化合物の製造方法 |
HUP0303249A3 (en) | 2001-02-22 | 2007-03-28 | Sankyo Co | Water-soluble triazole fungicide compounds and pharmaceutical compositions containing them |
DE10117206A1 (de) * | 2001-04-06 | 2002-10-10 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von halogensubstituierten Dibenzylalkoholen, diese halogensubstituierten Dibenzylalkohole sowie deren Verwendung |
CN1204104C (zh) * | 2003-06-06 | 2005-06-01 | 天津大学 | 2,3,5,6-四氟对甲基苄醇的制备方法 |
US7312366B2 (en) * | 2003-10-10 | 2007-12-25 | Jiangsu Yangong Chemical Co., Ltd. | Preparation of one intermediate for pyrethroids |
-
2005
- 2005-08-02 CN CNA200580026279XA patent/CN101001823A/zh active Pending
- 2005-08-02 AT AT05768392T patent/ATE492523T1/de not_active IP Right Cessation
- 2005-08-02 DE DE602005025497T patent/DE602005025497D1/de active Active
- 2005-08-02 WO PCT/JP2005/014486 patent/WO2006013999A1/ja active Application Filing
- 2005-08-02 US US11/572,505 patent/US7678947B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-08-02 EP EP05768392A patent/EP1783108B1/en not_active Not-in-force
- 2005-08-02 ES ES05768392T patent/ES2355834T3/es active Active
- 2005-08-02 KR KR1020077005129A patent/KR101189383B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101001823A (zh) | 2007-07-18 |
DE602005025497D1 (de) | 2011-02-03 |
EP1783108A1 (en) | 2007-05-09 |
EP1783108B1 (en) | 2010-12-22 |
KR101189383B1 (ko) | 2012-10-10 |
ES2355834T3 (es) | 2011-03-31 |
US20070213570A1 (en) | 2007-09-13 |
WO2006013999A1 (ja) | 2006-02-09 |
EP1783108A4 (en) | 2008-04-23 |
ATE492523T1 (de) | 2011-01-15 |
US7678947B2 (en) | 2010-03-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |