KR20050050106A - 폴리싱 상태 모니터링 장치와 폴리싱 장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (25)
- 폴리싱 상태 모니터링 장치에 있어서,광원;작업물의 폴리싱중인 표면에 상기 광원으로부터의 광을 적용하기 위하여, 폴리싱면을 가지는 폴리싱 테이블에 배치된 발광 유닛;상기 작업물의 표면으로부터 반사광을 수용하기 위하여 상기 폴리싱 테이블에 배치된 광 수용 유닛;상기 광 수용 유닛에 의해 수용된 상기 반사광을 각각의 파장을 가지는 복수의 광선으로 분할하기 위한 분광기 유닛;상기 분광기 유닛에 의해 분할된 광선을 검출하고 상기 검출된 광선을 전기적 정보로 축적하는 광 수용 소자;상기 광 수용 소자에 의해 축적된 전기적 정보를 판독하고 상기 반사광의 스펙트럼 데이타를 발생시키는 스펙트럼 데이타 발생기;상기 폴리싱 테이블의 회전과 동기적으로 사전 설정된 시기에 샘플링 과정을 수행하기 위하여 상기 광 수용 소자들을 제어하는 제어 유닛; 및상기 스펙트럼 데이타 발생기에 의해 발생된 상기 스펙트럼 데이타를 토대로 상기 작업물의 상기 표면상의 사전 설정된 특성값을 산출하는 프로세서를 포함하는 폴리싱 상태 모니터링 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제어 유닛은 샘플링점이 상기 폴리싱 테이블의 중심과 상기 작업물의 중심을 교차하는 선상에 위치되도록 상기 광 수용 소자에 의해 수행된 상기 샘플링 과정의 시기를 제어하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 상태 모니터링 장치.
- 제2항에 있어서,상기 발광 유닛 및 상기 광 수용 유닛은 상기 작업물의 중심을 가로질러 통과하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 상태 모니터링 장치.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제어 유닛은 상기 폴리싱 테이블의 회전 속도를 토대로 상기 광 수용 소자에 의해 수행된 상기 샘플링 과정의 상기 샘플링 주기를 조정할 수 있는 것을 특징으로 하는 폴리싱 상태 모니터링 장치.
- 폴리싱 상태 모니터링 장치에 있어서,광원;작업물의 폴리싱중인 표면에 상기 광원으로부터의 광을 적용하기 위하여, 폴리싱면을 가지는 폴리싱 테이블에 배치된 발광 유닛;상기 작업물의 표면으로부터 반사광을 수용하기 위하여 상기 폴리싱 테이블에 배치된 광 수용 유닛;상기 광 수용 유닛에 의해 수용된 상기 반사광을 각각의 파장을 가지는 복수의 광선으로 분할하기 위한 분광기 유닛;상기 분광기 유닛에 의해 분할된 광선을 검출하고 상기 검출된 광선을 전기적 정보로 축적하는 광 수용 소자;상기 광 수용 소자에 의해 축적된 전기적 정보를 판독하고 상기 반사광의 스펙트럼 데이타를 발생시키는 스펙트럼 데이타 발생기;상기 폴리싱 테이블의 회전과 동기적으로 사전 설정된 시기에 샘플링 과정을 수행하기 위하여 상기 광 수용 소자들을 제어하는 제어 유닛; 및상기 스펙트럼 데이타 발생기에 의해 발생된 상기 스펙트럼 데이타의 파장 성분들에 사전 설정된 가중치 계수(weighting coefficient)를 곱하는 곱셈을 포함하는 계산에 따라 상기 작업물의 상기 표면상의 사전 설정된 특성값을 산출하는 프로세서를 포함하는 폴리싱 상태 모니터링 장치.
- 제5항에 있어서,상기 특성값은 상기 스펙트럼 데이타로부터 변환된 색도 좌표값을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 상태 모니터링 장치.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 광원은 파장 대역을 가지는 광을 방출하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 상태 모니터링 장치.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,상기 광원은 펄스 광원을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 상태 모니터링 장치.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 광원은 적어도 상기 광 수용 소자가 상기 작업물의 상기 표면으로부터 상기 반사광을 검출하는 동안 연속적으로 턴온되는 연속적인 광원을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 상태 모니터링 장치.
- 폴리싱 장치에 있어서,작업물을 유지하는 톱링;상기 작업물과 미끄러져 접촉하게 되는 폴리싱면을 구비한 폴리싱 테이블;제1항 내지 제9항 중의 어느 한 항에 따른 폴리싱 상태 모니터링 장치; 및상기 폴리싱 상태 모니터링 장치의 발광 유닛으로부터 인가된 광 및 상기 작업물의 표면으로부터의 반사광을 통과시키기 위해 상기 폴리싱 테이블상에 장착된 광 전달 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 작업물에 형성된 막을 폴리싱하는 방법에 있어서,작업물의 폴리싱 중인 표면에 광원으로부터 광을 적용하는 단계;상기 작업물의 상기 표면으로부터 반사광을 검출하는 단계;상기 검출된 광을 분할하고 그 스펙트럼 데이타를 발생시키는 단계;상기 스펙트럼 데이타에 사전 설정된 가중치 함수를 곱하고 그 결과치를 누적하여(integrating) 스칼라 값을 생성하는 단계;상기 스칼라 값을 이용하여 상기 작업물의 상기 표면의 특성값을 산출하는 단계; 및상기 특성값을 이용하여 상기 작업물의 상기 표면의 폴리싱 진행을 모니터링하는 단계를 포함하는 폴리싱 방법.
- 제11항에 있어서,상기 시간 변화 특성값의 특성점이 검출되고 상기 특성점의 검출 후에 사전 설정된 시간이 경과한 경우에 폴리싱 공정을 중지하거나 폴리싱 조건을 변화시키는 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 제11항 또는 제12항에 있어서,상기 가중치 함수는 상기 시간 변화 특성값을 이용하여 조정되는 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 제13항에 있어서,상기 가중치 함수는 파장 축선을 따라 상기 가중치 함수를 이동시켜 조정되는 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 막은 금속 막을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 제11항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,상기 막은 산화물 막을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,상기 스펙트럼 데이타에 상기 가중치 함수와 상이한 소정의 제2가중치 함수를 곱하는 단계 및 그 결과치를 누적해서 제2스칼라 값을 생성하는 단계;상기 제2스칼라 값을 이용하여 상기 작업물의 상기 표면의 제2특성값을 산출하는 단계; 및상기 특성값 및 상기 제2특성값을 이용하여 상기 작업물의 상기 표면의 폴리싱 진행을 모니터링하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 작업물상에 형성된 막을 폴리싱하는 장치에 있어서,작업물의 폴리싱 중인 표면에 광을 가하는 광원;상기 작업물의 상기 표면으로부터 반사광을 수용하는 광 수용 유닛;상기 광 수용 유닛에 의해 수용된 상기 반사광을 분할하는 분광기 유닛;상기 분할된 광으로부터 스펙트럼 데이타를 발생시키는 스펙트럼 데이타 발생기; 및상기 스펙트럼 데이타에 소정의 가중치 함수를 곱하고 그 결과치를 누적하여 스칼라 값을 생성하고 상기 스칼라 값을 이용하여 상기 작업물의 상기 표면의 특성값을 산출하는 프로세서를 포함하는 폴리싱하는 장치.
- 제18항에 있어서,상기 가중치 함수를 설정하는 입력 유닛; 및상기 특성값을 모니터링하는 디스플레이 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 제18항에 있어서,폴리싱면;상기 작업물을 유지하고 상기 작업물의 상기 표면을 상기 폴리싱면에 대하여 가압하는 톱링;상기 시간 변화 특성값의 특성점을 검출하는 검출기; 및상기 특성점의 검출로부터 사전 설정된 시간의 경과 후에 폴리싱 공정을 중지하거나 폴리싱 조건을 변화시키는 제어 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 제18항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,상기 막은 금속 막을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 제18항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,상기 막은 산화물 막을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 제18항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,상기 프로세서는 상기 스펙트럼 데이타를 상기 가중치 함수와 상이한 소정의 제2가중치 함수에 곱하고 그 결과치를 누적하여 제2스칼라 값을 생성하고, 상기 제2스칼라 값을 이용하여 상기 작업물의 상기 표면의 제2특성값을 산출하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 폴리싱 상태 모니터링 장치에 있어서,작업물의 폴리싱 중인 표면에 광을 가하는 광원;상기 작업물의 상기 표면으로부터 반사광을 수용하는 광 수용 유닛;상기 광 수용 유닛에 의해 수용된 상기 반사광을 분할하는 분광기 유닛;상기 분할된 광으로부터 스펙트럼 데이타를 발생시키는 스펙트럼 데이타 발생기; 및상기 스펙트럼 데이타에 소정의 가중치 함수를 곱하고 그 결과치를 누적하여 스칼라 값을 생성하고 상기 스칼라 값을 이용하여 상기 작업물의 상기 표면의 특성값을 산출하는 프로세서를 포함하는 폴리싱 상태 모니터링 장치.
- 제24항에 있어서,상기 가중치 함수를 설정하는 입력 유닛; 및상기 특성값을 모니터링하는 디스플레이 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 상태 모니터링 장치.
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