JP5254668B2 - 研磨終点検出方法 - Google Patents
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Description
本発明の好ましい態様は、前記研磨終点は、前記第1の特性値および前記第2の特性値の極値が前記所定の時間差内で現われた前記時点であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨終点は、前記第1の特性値および前記第2の特性値の極値が所定の時間差内で現われた前記時点から所定の時間が経過した時点であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記時点を検出した後、前記第1の特性値または前記第2の特性値の所定の極値を検出する工程をさらに含み、前記所定の極値が検出された時点に基づいて研磨終点を決定することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨終点は、前記所定の極値が検出された時点であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨終点は、前記所定の極値が検出された時点から所定の時間が経過した時点であることを特徴とする請求項1に記載の研磨終点検出方法。
本発明の好ましい態様は、前記研磨終点は、前記第1の反射強度および前記第2の反射強度の極値が前記所定の時間差内で現われた前記時点であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨終点は、前記第1の反射強度および前記第2の反射強度の極値が前記所定の時間差内で現われた前記時点から所定の時間が経過した時点であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記時点を検出した後、前記第1の反射強度または前記第2の反射強度の所定の極値を検出する工程をさらに含み、前記所定の極値が検出された時点に基づいて研磨終点を決定することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨終点は、前記所定の極値が検出された時点であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨終点は、前記所定の極値が検出された時点から所定の時間が経過した時点であることを特徴とする。
まず、上述したポリッシング装置により1枚または複数のウェハを研磨して、そのスペクトルデータを取得する。このスペクトルデータは、波長ごとの反射強度(反射光の強さ)を示すデータを含んでいる。演算部48は、各波長での反射強度から、次のようにして特性値を算出する。
X1(t)=ρλ1(t)/(ρλ1(t)+ρλ2(t)) ・・・(6)
ここで、ρは反射強度、tは研磨時間を表す。
同様に、予め選択された2つの波長λ3,λ4における反射強度ρλ3(t),ρλ4(t)を用いて、第2の特性値X2(t)を次の式から求める。
X2(t)=ρλ3(t)/(ρλ3(t)+ρλ4(t)) ・・・(7)
X(t)=ρλ1(t)/(ρλ1(t)+ρλ2(t)+・・・+ρλn(t)) ・・・(8)
ここで、nは、用いられる波長の数である。
12 研磨テーブル
14 トップリング
16 研磨液供給ノズル
18 トップリングシャフト
20 研磨状態監視装置
22 透光部
30 光源
32 発光光ファイバ
34 受光光ファイバ
36 分光器ユニット
40 制御部
42 電源
44,46 ケーブル
48 演算部
50 近接センサ
52 ドグ
60−1〜60−N 受光素子
Claims (14)
- 基板の研磨中に、該基板の表面に光を照射し、
前記表面からの反射光を受光し、
異なる複数の波長での反射強度を用いて算出された第1の特性値および第2の特性値をモニターし、
前記第1の特性値および前記第2の特性値の極値が所定の時間差内で現われた時点を検出し、
検出された前記時点に基づいて研磨終点を決定する工程を含み、
前記複数の波長は、研磨時間とともに周期的に変化する前記第1の特性値および前記第2の特性値の周期が互いに異なるように選択されること特徴とする研磨終点検出方法。 - 前記研磨終点は、前記第1の特性値および前記第2の特性値の極値が前記所定の時間差内で現われた前記時点であることを特徴とする請求項1に記載の研磨終点検出方法。
- 前記研磨終点は、前記第1の特性値および前記第2の特性値の極値が所定の時間差内で現われた前記時点から所定の時間が経過した時点であることを特徴とする請求項1に記載の研磨終点検出方法。
- 前記時点を検出した後、前記第1の特性値または前記第2の特性値の所定の極値を検出する工程をさらに含み、
前記所定の極値が検出された時点に基づいて研磨終点を決定することを特徴とする請求項1に記載の研磨終点検出方法。 - 前記第1の特性値および前記第2の特性値の極値が前記所定の時間差内で現われた時点は、前記第1の特性値および前記第2の特性値の極値がほぼ同時に現われた時点であることを特徴とする請求項1に記載の研磨終点検出方法。
- 前記研磨終点は、前記所定の極値が検出された時点であることを特徴とする請求項4に記載の研磨終点検出方法。
- 前記研磨終点は、前記所定の極値が検出された時点から所定の時間が経過した時点であることを特徴とする請求項4に記載の研磨終点検出方法。
- 基板の研磨中に、該基板の表面に光を照射し、
前記表面からの反射光を受光し、
異なる波長での第1の反射強度および第2の反射強度をモニターし、
前記第1の反射強度および前記第2の反射強度の極値が所定の時間差内で現われた時点を検出し、
検出された前記時点に基づいて研磨終点を決定する工程を含み、
前記波長は、研磨時間とともに周期的に変化する前記第1の反射強度および前記第2の反射強度の周期が互いに異なるように選択されること特徴とする研磨終点検出方法。 - 前記研磨終点は、前記第1の反射強度および前記第2の反射強度の極値が前記所定の時間差内で現われた前記時点であることを特徴とする請求項8に記載の研磨終点検出方法。
- 前記研磨終点は、前記第1の反射強度および前記第2の反射強度の極値が前記所定の時間差内で現われた前記時点から所定の時間が経過した時点であることを特徴とする請求項8に記載の研磨終点検出方法。
- 前記時点を検出した後、前記第1の反射強度または前記第2の反射強度の所定の極値を検出する工程をさらに含み、
前記所定の極値が検出された時点に基づいて研磨終点を決定することを特徴とする請求項8に記載の研磨終点検出方法。 - 前記第1の反射強度および前記第2の反射強度の極値が前記所定の時間差内で現われた時点は、前記第1の反射強度および前記第2の反射強度の極値がほぼ同時に現われた時点であることを特徴とする請求項9に記載の研磨終点検出方法。
- 前記研磨終点は、前記所定の極値が検出された時点であることを特徴とする請求項11に記載の研磨終点検出方法。
- 前記研磨終点は、前記所定の極値が検出された時点から所定の時間が経過した時点であることを特徴とする請求項11に記載の研磨終点検出方法。
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