KR20030092790A - 증착용 마스크 프레임 조립체와 이의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따르면, 마스크 프레임 조립체와 이의 제조방법은 전기 주형법에 의해 제1금속을 전착하여 소정패턴의 슬롯들을 가지는 금속기재를 형성하고, 상기 금속 기재의 표면에 제2금속을 코팅하여 슬롯의 정밀도와 표면조도를 높인 코팅층을 형성하여 마스크를 제작하고, 상기 마스크를 인장력이 가하여지도록 프레임에 고정한다.

Description

증착용 마스크 프레임 조립체와 이의 제조방법{Mask frame assembly for an evaporation and method of manufacturing the same}
본 발명은 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 증착용 마스크를 이루는 재질의 적층구조와 전착법에 의한 증착용 마스크를 제조방법이 개선된 것에 관한 것이다.
통상적으로 유기 전계발광 표시장치의 제조과정에서 유기막 또는 전극들의 증착에 이용되는 마스크는 도 1에 도시된 바와 같이 프레임(20)에 인장력이 가하여지도록 지지되는 것으로, 박판에 다수의 유기막 또는 전극들을 형성하기 위한 소정 패턴의 슬롯(11)들이 형성된 구조를 가진다.
이러한 마스크(10)를 제조하기 위해서는 에칭법에 의한 방법과 전기 주형법에 의한 방법이 있다.
상기 에칭에 의한 마스크(10)의 제조방법은 포토 레지스트법에 의해 슬롯(11)의 패턴을 가지는 레지스트 층을 박판에 형성하거나 슬롯(11)의 패턴을 가진 필름을 박판에 부착한 후 박판을 에칭(etching)하는 것이다. 그러나 에칭에 의한 마스크의 제조방법은 마스크가 대형화 되고 슬롯(11)의 패턴이 미세화 됨에 따라 폭 공차 및 슬롯(11) 가장자리의 공차를 정확하게 일치시킬 수 없는 문제점이 있다. 특히 박판을 에칭하여 마스크(10)를 제작하는 경우 박판이 오버 에칭이나 언더 에칭되는 경우 슬롯(11)의 규격을 균일하게 할 수 없었다.
한편, 상기 전기 주형법(electro forming)은 전기도금과 같은 조작으로 금속염 용액의 전기 분해에 의해서 모형(母型) 위에 금속을 전해에 의해 필요한 두께로 증착시킨 후 모형에서 박리하게 되면 모형과 요철이 반대인 전기 주조품이 되는데 이러한 원리를 이용하여 마스크를 제조하는 방법이다.
그런데, 상기 전기 주형법에 의해 마스크를 제조하기 위한 마스크의 재료는 니켈(Ni)과 코발트(Co)의 합금을 사용하게 되는데, 이 재료를 이용하는 경우 제조된 표면 거칠기 및 슬롯 패턴의 정밀도는 매우 높일 수 있으나 용접성이 좋지 않아 프레임과 용접시 마스크에 크랙이 발생하는 문제점이 있다. 즉, 상기 코발트는 타 금속과의 합금시 경도와 강도를 증가시키게 되므로 취성이 상대적으로 증가하여 도 2에 도시된 바와 같이 용접시 쉽게 크랙이 발생되는 문제점이 있다.
마스크와 프레임이 결합된 조립체의 예들이 일본 공개 특허공보2000-0060589호, 일본 공개 특허 공보 1999-0071583호, 일본 공개 특허공보 2000-12238호 등에 개시되어 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 연성을 증가시켜 프레임과의 용접시 크랙의 발생을 억제할 수 있는 증착용 마스크 프레임 조립체와 이의 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.
도 1은 종래 마스크 프레임 조립체의 분리 사시도,
도 2는 코발트 함유 마스크와 프레임의 용접부위를 나타내 보인 사진
도 3은 본 발명에 따른 마스크 프레임 조립체의 분리 사시도,
도 4 및 도 5는 마스크의 일부를 발췌하여 도시한 일부절제 사시도,
도 6A 내지 도 6D 마스크의 제조방법을 단계별로 나타내 보인 도면,
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 증착용 마스크 프레임 조립체는 제1금속으로 이루어지며 증착을 위한 소정 패턴의 슬롯들이 형성된 금속기재와, 상기 금속기재의 표면에 제2금속으로 코팅되어 슬롯의 정밀도와 표면조도를 높인 코팅층을 포함하는 마스크와,
상기 마스크에 인장력이 가하여지도록 이를 지지하는 프레임을 구비하여 된 것을 그 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 상기 제1금속은 니켈로 이루어지며 그 두께는 28 내지 48㎛를 가진다. 그리고 상기 제2금속은 니켈과 코발트의 합금으로 이루어지며 두께는 2 내지 17㎛의 두께를 가진다.
상기 목적을 달성하기 위한 마스크 프레임 조립체의 제조방법은
마스크의 패턴과 동일한 소정의 패턴을 가지는 전착용 플레이트를 이용하여 제2금속을 소정의 두께로 전기주형법에 의해 하부 코팅층을 전착하는 제1단계와,
상기 제2금속의 상면에 제2금속보다 연성을 가지는 제1금속을 전착하여 마스크를 제조하는 제2단계와,
상기 전착용 플레이트로부터 마스크를 분리하는 제3단계와,
상기 분리된 마스크에 인장력이 가하여지도록 프레임에 고정하는 제4단계를 포함하여 된 것을 특징으로 한다.
제2단계에 있어서, 마스크의 표면에 상부 코팅층을 형성하여 표면조도와 정밀도를 높이는 단계를 더 포함하여 된 것을 그 특징으로 한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 한 바람직한 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.
도 3 내지 도 5에는 본 발명에 따른 증착용 마스크 프레임 조립체의 일 실시예를 나타내 보였다.
도면을 참조하면, 증착용 마스크 프레임 조립체(100)는 소정 패턴의 슬롯(111)이 형성된 마스크(110)와, 이 마스크(110)를 인장력이 가하여 지도록 지지되는 프레임(120)을 포함한다.
상기 마스크(110)는 연성을 가지는 제1금속인 니켈(Ni)로 이루어지며 증착을 위한 소정 패턴의 슬롯(111)들이 형성된 박판상의 금속기재(112)와, 상기 금속기재(112)의 표면에 정밀도와 표면조도를 높인 제2금속이 코팅되어 이루어진 코팅층(113)을 포함한다. 상기 제1금속은 순수 100%의 니켈로 이루어지나 이에 한정 되지 않고 전기 주형법에 의해 상기 슬롯을 가진 금속기재(112)를 제작할 수 있는 구조이면 어느 것이나 가능하다. 그리고 상기 금속기재(112)의 표면에 코팅된 코팅층(113)은 니켈(Ni)과 코발트(Co)의 합금으로 이루어지는데, 이 합금은 니켈 85 중량 %와 코발트 15중랑%로 이루어질 수 있다. 여기에서 상기 마스크를 이루는 금속기재(112)의 두께와 상기 코팅층(113)의 두께는 각각 28 내지 48㎛와 2 내지 17㎛를 갖도록 함이 바람직하다. 한편, 상기 금속기재는 철(Fe) 크롬(Cr) 니켈 (ni)을 주성분으로 하는 합금으로 이루어질 수 있으며, 상기 코팅층은 금속기재에 코발트를 함유한 합금으로 이루어질 수 있다.
상술한 바와 같이 구성된 본 발명에 따른 증착용 마스크 프레임 조립체의 제조방법을 도 6A 내지 도 6D에 나타내 보였다.
상기 증착용 마스크의 제조는 전기 주형법을 이용한 것으로, 도면을 참조하면, 마스크(110)의 형상 즉, 마스크의 외형과 슬롯을 형성하기 스트립들과 대응되는 부위가 관통된 필름(201)이 부착된 전착용 플레이트(200)를 준비하는 제 1단계와, 상기 필름(201)이 부착된 전착용 플레이트(200)의 준비가 완료되면, 도 6A에 도시된 바와 같이 전기 주형법을 이용하여 상기 필름(201)에 의해 노출된 전착용 플레이트(200)에 제2금속을 이용하여 상기 코팅층(113)의 일부를 이루는 하부 코팅층(113a)을 5㎛ 정도로 전착 하는 제2단계를 수행한다.
그리고 도 6B에 도시된 바와 같이 하부 코팅층(113a)의 형성이 완료되면, 하부 코팅층(113a)의 상면에 상기 제2금속 보다 연성을 가지는 1금속인 니켈을 전착하여 마스크의 금속기재(112)를 형성하는 제 3단계를 수행한다. 여기에서 상기 금속기재(112)의 전착은 두께가 28 내지 48㎛ 이상의 두께를 갖도록 함이 바람직하다. 상술한 하부 코팅층(113a)과 금속기재(112)의 전착을 위한 전착은 마스크의 사용조건에 따라 다양하게 변형될 수 있음은 물론이다.
상기 금속기재(112)층의 전착이 완료되면 이의 상면에 상기 제2금속을 이용하여 상부 코팅층(113b)을 형성하는 제4단계를 수행한다. 상기 상부 코팅층(113b)의 두께는 상기 하부 코팅층(113a)의 두께와 동일한 두께를 갖도록 형성함이 바람직하다.
상기와 같이 마스크의 제작을 위한 전착이 완료되면, 전착용 플레이트(200)로부터 마스크(110)를 분리하는 제5단계를 수행하고, 이 분리된 마스크를 프레임(120)에 인장력이 가하여지도록 지지하는 제6단계를 수행한다. 상기 제6단계에 있어서, 프레임(120)에 마스크를 고정하는 과정에서 마스크의 각 부위에 인장력이 균일하게 가하여지도록 하여 슬롯(111)의 변형이 이루어지지 않도록 함이 바람직하다.
상술한 바와 같은 제조방법에 의해 제조된 마스크 프레임 조립체는 마스크를 이루는 금속기재(112)가 상대적으로 연성이 좋은 니켈로 이루어져 있으므로 프레임(120)과의 용접시 용접부위가 깨어지는 것을 방지할 수 있으며, 금속기재의 외면에 코팅층(113)이 형성되어 있으므로 마스크(110)의 항복강도가 높으며, 나아가서는 마스크(110)에 형성된 슬롯(111)의 변형을 억제할 수 있다. 그리고 상기 금속기재(112)의 표면에 형성된 코팅층(113)은 마스크의 표면조도를 높여 슬롯의 정밀도를 향상시킬 수 있으며, 마스크의 세정이 원활하게 이루어지도록 하다.
또한 상기와 같이 증착용 마스크를 전기 주형법에 의해 제작하는 경우 슬롯을 형성하는 스트립이 구형을 이루게 되므로 증착시 발생하는 섀도우 이펙트(shadow effect)를 줄일 수 있게 된다.
상기와 같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 증착용 마스크 프레임 조립체 및 이의 제조방법은 마스크와 프레임의 용접시 발생되는 크랙을 최소화 하고 항복강도를 높임으로써 마스크의 변형을 최소화 할 수 있는 이점을 가진다.
본 명세서에서는 본 발명을 한정된 실시예를 중심으로 설명하였으나, 본 발명의 사상적 범위 내에서 다양한 실시예가 가능하다. 그리고 설명되지는 않았으나 균등한 수단도 본 발명에 포함되는 것이라 할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 정해져야 할 것이다.

Claims (5)

  1. 증착용 마스크 프레임 조립체는 제1금속으로 이루어지며 증착을 위한 소정 패턴의 슬롯들이 형성된 금속기재와, 상기 금속판 기재의 표면에 제2금속이 코팅되어 슬롯의 정밀도와 표면조도를 높인 코팅층을 포함하는 섀도우마스크와,
    상기 섀도우마스크에 인장력이 가하여지도록 이를 지지하는 프레임을 구비하여 된 것을 특징으로 하는 증착용 마스크 프레임 조립체.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1금속은 니켈로 이루어지며 상기 제2금속은 니켈과 코발트의 합금으로 이루어진 것을 특징으로 하는 증착용 마스크 프레임 조립체.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 금속기재와 코팅층의 두께는 각각 두께는 28 내지 48㎛와 2 내지 17㎛인 것을 특징으로 하는 증착용 마스크 프레임 조립체.
  4. 마스크의 패턴과 동일한 소정의 패턴을 가지는 전착용 플레이트를 이용하여 제2금속을 소정의 두께로 전기주형법에 의해 하부 코팅층을 전착하는 제1단계와,
    상기 제2금속의 상면에 제2금속보다 연성을 가지는 제1금속을 전착하여 마스크를 제조하는 제2단계와,
    상기 전착용 플레이트로부터 마스크를 분리하는 제3단계와,
    상기 분리된 마스크에 인장력이 가하여지도록 프레임에 고정하는 제4단계를 포함하여 된 것을 특징으로 하는 증착용 마스크 프레임 조립체의 제조 방법.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 제2단계에 있어서, 전착이 완료된 마스크의 표면에 상부 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함하여 된 것을 특징으로 하는 전착용 마스크 프레임 조립체의 제조방법.
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JP2003156777A JP4744790B2 (ja) 2002-05-31 2003-06-02 蒸着用マスク、蒸着用マスクフレーム組立体及びこれらの製造方法

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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100700660B1 (ko) * 2005-04-06 2007-03-27 삼성에스디아이 주식회사 마스크 및 그의 제조 방법
KR100778512B1 (ko) * 2006-07-31 2007-11-22 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광 표시 장치 제조용 마스크 조립체 및 그 제조방법
KR101330488B1 (ko) * 2006-12-08 2013-11-15 엘지디스플레이 주식회사 쉐도우 마스크 및 그의 제조 방법
KR20170109042A (ko) * 2015-07-17 2017-09-27 도판 인사츠 가부시키가이샤 메탈 마스크용 기재의 제조 방법, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 메탈 마스크용 기재, 및, 증착용 메탈 마스크
KR20180049159A (ko) * 2015-07-17 2018-05-10 도판 인사츠 가부시키가이샤 증착용 메탈 마스크 기재, 증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크 기재의 제조 방법, 및, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법
US10273569B2 (en) 2015-07-17 2019-04-30 Toppan Printing Co., Ltd. Metal mask substrate, metal mask substrate control method, metal mask, and metal mask production method
US10903426B2 (en) 2015-07-17 2021-01-26 Toppan Printing Co., Ltd. Metal mask base, metal mask and method for producing metal mask
KR20210046872A (ko) * 2016-05-24 2021-04-28 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 내플라즈마성 코팅을 갖는 섀도우 마스크

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100490534B1 (ko) * 2001-12-05 2005-05-17 삼성에스디아이 주식회사 유기 전자 발광 소자의 박막 증착용 마스크 프레임 조립체
US6955726B2 (en) * 2002-06-03 2005-10-18 Samsung Sdi Co., Ltd. Mask and mask frame assembly for evaporation
JP3794407B2 (ja) * 2003-11-17 2006-07-05 セイコーエプソン株式会社 マスク及びマスクの製造方法、表示装置の製造方法、有機el表示装置の製造方法、有機el装置、及び電子機器
JP3765314B2 (ja) 2004-03-31 2006-04-12 セイコーエプソン株式会社 マスク、マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法および電子機器
JP2006233286A (ja) * 2005-02-25 2006-09-07 Seiko Epson Corp マスク、マスクの製造方法、パターン形成装置、パターン形成方法
JP4692290B2 (ja) * 2006-01-11 2011-06-01 セイコーエプソン株式会社 マスクおよび成膜方法
US7465597B2 (en) * 2006-06-29 2008-12-16 Home Diagnostics, Inc. Method of manufacturing a diagnostic test strip
KR101156432B1 (ko) * 2009-12-15 2012-06-18 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 유기 발광 디스플레이 장치
KR20130057794A (ko) * 2011-11-24 2013-06-03 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크 및 증착용 마스크의 제조 방법
CN102436135A (zh) * 2012-01-07 2012-05-02 聚灿光电科技(苏州)有限公司 无铬光刻板
TWI601838B (zh) * 2012-01-12 2017-10-11 大日本印刷股份有限公司 A method of manufacturing a vapor deposition mask, and a method of manufacturing an organic semiconductor element
CN103205784A (zh) * 2012-01-16 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 一种蒸镀掩模板的制备方法
CN103205693A (zh) * 2012-01-16 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 一种掩模板组件
CN103205700A (zh) * 2012-01-16 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 一种有效提高蒸镀质量的掩模板及其制备工艺
CN103205782A (zh) * 2012-01-16 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 一种镍铁合金蒸镀掩模板的制备方法
CN103203549B (zh) * 2012-01-16 2015-11-25 昆山允升吉光电科技有限公司 一种应用于掩模板组装的激光焊接方法
CN103668049A (zh) * 2012-09-07 2014-03-26 昆山允升吉光电科技有限公司 一种大尺寸oled蒸镀用掩模板组件
KR101980232B1 (ko) 2012-11-14 2019-05-21 삼성디스플레이 주식회사 패터닝 슬릿 시트 프레임 어셈블리
KR102100446B1 (ko) 2012-12-10 2020-04-14 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 조립체 및 이의 제조 방법
US9695522B2 (en) * 2014-11-21 2017-07-04 Samsung Display Co., Ltd. Deposition mask, method of manufacturing deposition mask, and method of manufacturing display apparatus
JP6770708B2 (ja) * 2015-09-17 2020-10-21 大日本印刷株式会社 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び有機半導体素子の製造方法
US10541387B2 (en) * 2015-09-30 2020-01-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Deposition mask, method of manufacturing deposition mask and metal plate
EP3358038B1 (en) * 2015-09-30 2023-01-18 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Deposition mask, method for manufacturing deposition mask, and metal plate
KR102586048B1 (ko) * 2016-01-12 2023-10-10 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체, 이의 제조방법 및 이를 포함한 표시 장치의 제조장치
JP2017150017A (ja) * 2016-02-23 2017-08-31 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクの製造方法及び有機elディスプレイの製造方法
KR102616578B1 (ko) * 2016-06-24 2023-12-22 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 어셈블리와, 이의 제조 방법
KR102640221B1 (ko) * 2016-09-22 2024-02-23 삼성디스플레이 주식회사 분할 마스크의 제조 방법
CN108559947B (zh) * 2018-05-14 2019-10-11 昆山国显光电有限公司 掩膜板、掩膜组件及掩膜板制作方法
CN111842885B (zh) * 2019-04-26 2021-10-19 上海微电子装备(集团)股份有限公司 金属薄膜打印装置及打印方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5180165A (ja) * 1975-01-10 1976-07-13 Hitachi Ltd Jochakuyokinzokumasuku
US4114983A (en) * 1977-02-18 1978-09-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polymeric optical element having antireflecting surface
JPS5726163A (en) * 1980-07-23 1982-02-12 Hitachi Ltd Mask for forming thin film and its manufacture
US4374869A (en) * 1982-01-18 1983-02-22 Western Electric Company, Inc. Selective metal etch technique
JPS60103308A (ja) * 1983-11-11 1985-06-07 Pioneer Electronic Corp マイクロフレネルレンズの製造方法
US5334908A (en) * 1990-07-18 1994-08-02 International Business Machines Corporation Structures and processes for fabricating field emission cathode tips using secondary cusp
DE69325123T2 (de) * 1992-03-23 1999-11-18 Koninkl Philips Electronics Nv Verfahren zum Herstellen einer Platte aus einem elektrisch isolierenden Material mit einem Muster von Löchern oder Hohlräumen zum Gebrauch in Wiedergabeanordungen
JPH09125228A (ja) * 1995-10-31 1997-05-13 Nikon Corp マスク及びこれを用いた誘電体薄膜のパターン形成方法
JP3939785B2 (ja) * 1996-03-14 2007-07-04 九州日立マクセル株式会社 電鋳製薄状金属板およびその製造方法
JPH09279366A (ja) * 1996-04-16 1997-10-28 Mitsubishi Materials Corp 微細構造部品の製造方法
US5744214A (en) * 1997-01-30 1998-04-28 International Business Machines Corporation Corrosion resistant molybdenum mask
JPH10298738A (ja) * 1997-04-21 1998-11-10 Mitsubishi Chem Corp シャドウマスク及び蒸着方法
US5937272A (en) * 1997-06-06 1999-08-10 Eastman Kodak Company Patterned organic layers in a full-color organic electroluminescent display array on a thin film transistor array substrate
JP4151922B2 (ja) 1997-06-25 2008-09-17 ハイモ株式会社 アクリル酸(コ)ポリマー分散液およびその用途
KR100244231B1 (ko) * 1997-11-29 2000-02-01 구자홍 음극선관용 새도우마스크
JP2000012238A (ja) 1998-06-29 2000-01-14 Futaba Corp 有機el素子、有機el素子製造用マスク及び有機el素子の製造方法
JP3789234B2 (ja) 1998-08-26 2006-06-21 三井化学株式会社 6−ヒドロキシピコリン酸の製造方法
JP2001006881A (ja) * 1999-06-23 2001-01-12 Toray Ind Inc 有機電界発光装置
JP2001199038A (ja) * 2000-01-19 2001-07-24 Pioneer Electronic Corp マスク装置
JP2001237073A (ja) * 2000-02-24 2001-08-31 Tohoku Pioneer Corp 多面取り用メタルマスク及びその製造方法
JP2001326075A (ja) * 2000-05-18 2001-11-22 Tohoku Pioneer Corp 有機el素子の製造方法
JP4006173B2 (ja) * 2000-08-25 2007-11-14 三星エスディアイ株式会社 メタルマスク構造体及びその製造方法
TW451599B (en) * 2000-10-02 2001-08-21 Chi Mei Optoelectronics Corp Organic electro luminescent display panel and manufacturing method thereof
KR100382491B1 (ko) * 2000-11-28 2003-05-09 엘지전자 주식회사 유기 el의 새도우 마스크

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100700660B1 (ko) * 2005-04-06 2007-03-27 삼성에스디아이 주식회사 마스크 및 그의 제조 방법
KR100778512B1 (ko) * 2006-07-31 2007-11-22 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광 표시 장치 제조용 마스크 조립체 및 그 제조방법
KR101330488B1 (ko) * 2006-12-08 2013-11-15 엘지디스플레이 주식회사 쉐도우 마스크 및 그의 제조 방법
US10903426B2 (en) 2015-07-17 2021-01-26 Toppan Printing Co., Ltd. Metal mask base, metal mask and method for producing metal mask
KR20180049159A (ko) * 2015-07-17 2018-05-10 도판 인사츠 가부시키가이샤 증착용 메탈 마스크 기재, 증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크 기재의 제조 방법, 및, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법
KR20180112088A (ko) * 2015-07-17 2018-10-11 도판 인사츠 가부시키가이샤 메탈 마스크용 기재의 제조 방법, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 메탈 마스크용 기재, 및, 증착용 메탈 마스크
US10273569B2 (en) 2015-07-17 2019-04-30 Toppan Printing Co., Ltd. Metal mask substrate, metal mask substrate control method, metal mask, and metal mask production method
US10876215B2 (en) 2015-07-17 2020-12-29 Toppan Printing Co., Ltd. Metal mask substrate for vapor deposition, metal mask for vapor deposition, production method for metal mask substrate for vapor deposition, and production method for metal mask for vapor deposition
KR20170109042A (ko) * 2015-07-17 2017-09-27 도판 인사츠 가부시키가이샤 메탈 마스크용 기재의 제조 방법, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 메탈 마스크용 기재, 및, 증착용 메탈 마스크
US11111585B2 (en) 2015-07-17 2021-09-07 Toppan Printing Co., Ltd. Method for producing base for metal masks, method for producing metal mask for vapor deposition, base for metal masks, and metal mask for vapor deposition
KR20220053686A (ko) * 2015-07-17 2022-04-29 도판 인사츠 가부시키가이샤 메탈 마스크용 기재의 제조 방법, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 메탈 마스크용 기재, 및, 증착용 메탈 마스크
US11453940B2 (en) 2015-07-17 2022-09-27 Toppan Printing Co., Ltd. Metal mask substrate for vapor deposition, metal mask for vapor deposition, production method for metal mask substrate for vapor deposition, and production method for metal mask for vapor deposition
US11706968B2 (en) 2015-07-17 2023-07-18 Toppan Printing Co., Ltd. Metal mask base, metal mask and method for producing metal mask
US11746423B2 (en) 2015-07-17 2023-09-05 Toppan Printing Co., Ltd. Method for producing base for metal masks, method for producing metal mask for vapor deposition, base for metal masks, and metal mask for vapor deposition
KR20210046872A (ko) * 2016-05-24 2021-04-28 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 내플라즈마성 코팅을 갖는 섀도우 마스크
US11566322B2 (en) 2016-05-24 2023-01-31 Applied Materials, Inc. Shadow mask with plasma resistant coating

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