KR101330488B1 - 쉐도우 마스크 및 그의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유기 전계 발광 표시 장치의 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층 및 전자주입층과 같은 유기물층을 증착할 때 사용될 수 있는 쉐도우 마스크에 관한 것으로 상하가 관통되며 일정 너비의 슬릿이 형성된 슬릿 영역과 상기 슬릿 영역을 제외한 영역에 형성되는 쉐도우 영역을 구비하고 있으며, 상기 쉐도우 영역은 마스크 기판과 그 표면을 일정 두께로 덮고 있는 코팅층으로 구성된 쉐도우 마스크에 관한 것으로, 상기 코팅층의 두께를 조절함으로써 쉐도우 마스크에 구비된 슬릿 영역의 너비를 조절할 수 있어 미세한 폭의 유기물층이 증착 가능한 쉐도우 마스크 및 그 제조 방법을 제공하고 있다.
쉐도우 마스크, 유기 전계 발광 표시 장치, 전기도금, 코팅층, 선폭

Description

쉐도우 마스크 및 그의 제조 방법{SHADOW MASK AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}
도 1은 유기 전계 발광 표시 장치의 발광원리를 설명하기 위한 일반적인 유기물층을 도시한 단면도이다.
도 2는 종래 기술에 의한 유기물층을 증착하는 방법을 도시한 개략도이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 일실시 예에 따른 쉐도우 마스크를 도시하는 사시도 및 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 쉐도우 마스크의 마스크 기판을 도시하는 단면도이다.
도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 쉐도우 마스크를 제조하는 방법을 도시한 단면도들이다.
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 쉐도우 마스크를 제조하는 방법을 도시한 단면도들이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100 : 쉐도우 마스크 110 : 지지대
120 : 마스크 기판 125 : 코팅층
130 : 슬릿 영역 140 : 쉐도우 영역
150 : 보강부재
본 발명은 쉐도우 마스크 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 고해상도의 유기전계발광표시장치를 제조하기 위해 사용되는 쉐도우 마스크 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
최근, 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시장치들이 대두되고 있다. 이러한 평판 표시 장치로는 크게 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시 장치(Field Emission Display), 플라즈마 표시 장치(Plasma Display Panel) 및 유기 전계 발광 표시 장치(Organic electro luminescence Display device) 등이 있다.
이들 중 유기 전계 발광 표시 장치는 전자와 정공의 재결합으로 발광물질을 발광시키는 자발광소자이다.
이때, 상기 유기 전계 발광 표시 장치는 액정 표시장치와 같이 별도의 광원을 필요로 하는 수동형 발광소자에 비하여 응답속도가 음극선관과 같은 수준으로 빠르다는 장점을 갖고 있다. 또한, 상기 유기 전계 발광 표시 장치는 저전압 구동, 자기발광, 박막형, 넓은 시야각, 빠른 응답속도 및 높은 콘트라스트 등의 많은 장점을 가지고 있어 차세대 표시장치로 기대되고 있다.
도 1은 유기 전계 발광 표시 장치의 발광원리를 설명하기 위한 일반적인 유 기물층을 도시한 단면도이다.
도 1을 참조하여 설명하면, 유기 전계 발광 표시 장치의 유기물층은 제 1 전극(10)과 제 2 전극(30) 사이에 위치하는 유기물층(20)을 구비하고 있다.
이때, 유기물층(20)은 정공주입층(21), 정공수송층(22), 발광층(23), 전자수송층(24) 및 전자주입층(25)을 구비한다.
제 1 전극(10)과 제 2 전극(30) 사이에 전원(40)을 인가하면, 제 1 전극(10)으로부터 발생된 정공은 정공주입층(21) 및 정공수송층(22)을 통해 발광층(23) 쪽으로 이동한다. 그리고, 제 2 전극(30)으로부터 발생된 전자는 전자주입층(25) 및 전자수송층(24)을 통해 상기 발광층(23) 쪽으로 이동한다.
이에 따라, 발광층(23)에서는 정공수송층(22)과 전자수송층(24)으로부터 공급되어진 정공과 전자 재결합함에 의해 빛이 발생하게 되고, 이 빛은 제 1 전극(10) 또는 제 2 전극(25)을 통해 외부로 방출되어 화상이 표시되게 한다.
이러한, 종래의 유기 전계 발광 표시 장치의 유기물층(20)의 여러 유기물층들은 증착 장치를 이용한 진공 증착법 등에 의해 형성된다.
도 2는 종래 기술에 의한 유기물층을 증착하는 방법을 도시한 개략도이다.
도 2를 참조하여 설명하면, 상기 도 1에서 상술한 유기물층(20) 중 특히, 발광층(23)은 각각의 적색(R), 녹색(G) 및 파란색(B) 별로 따로 증착하여야 한다.
이때, 발광층(23)을 증착하기 위해서 쉐도우 마스크가 이용될 수 있다.
도 2에서 도시한 바와 같이 적어도 제 1 전극(10)이 형성된 기판(50)과 기판(50)에 대응하는 위치에 발광층을 이루는 유기물이 증발하는 증발원(60)을 구비 하고, 기판(50)과 증착원(60) 사이에 원하는 위치에 발광층(23)이 형성될 수 있도록 하는 쉐도우 마스크(70)이 구비될 수 있다.
이때, 증착원(60)에서 증화된 유기물이 상기 쉐도우 마스크(70)의 오프된 영역, 즉 슬릿 영역(72) 영역을 통해 기판(50)상에 증착되어 발광층(23)을 형성할 수 있다.
그러나, 종래의 쉐도우 마스크(70)는 그 두께가 적어도 40㎛ 이상(그 이하로 제조될 경우 처짐 현상이 발생함)임으로 상기 슬릿 영역(72)의 너비가 40㎛ 이하가 되도록 제조할 수 없어 선폭이 미세한 고해상도의 유기 전계 발광 표시 장치를 제조할 수 없다는 단점이 있었다.
본 발명의 하나의 목적은 미세한 폭의 유기물층이 증착 가능한 쉐도우 마스크를 제공함에 있다.
본 발명의 다른 하나의 목적은 상기 쉐도우 마스크를 제조하는 방법을 제공함에 있다.
본 발명의 상기 목적은 몸체를 관통하며 몸체를 관통하며 서로 이격된 다수의 슬릿을 구비하는 마스크 기판 및 상기 마스크 기판의 표면을 덮는 코팅층을 포함하는 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크에 의해 달성된다.
또한, 본 발명의 상기 목적은 상기 코팅층 상에 보강부재를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크에 의해서도 달성된다.
또한, 본 발명의 상기 목적은 기판을 준비하는 단계, 상기 기판 전면 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계, 상기 포토레지스트층을 노광 및 현상하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계, 상기 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 하여 상기 기판을 식각하여 상기 기판을 관통하는 슬릿들을 형성하여 마스크 기판을 형성하는 단계 및 상기 포토레지스트 패턴을 제거하고, 상기 마스크 기판의 표면에 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크 제조 방법에 의해서도 달성된다.
또한, 본 발명의 상기 목적은 상기 코팅층을 형성하는 단계 이후, 상기 코팅층상에 보강부재를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크 제조 방법에 의해서도 달성된다.
본 발명의 상기 목적과 기술적 구성 및 그에 따른 작용효과에 관한 자세한 사항은 본 발명의 바람직한 실시예를 도시하고 있는 도면을 참조한 이하 상세한 설명에 의해 보다 명확하게 이해될 것이다.
본 발명의 쉐도우 마스크는 상하가 관통되며 일정 너비의 슬릿이 형성된 슬릿 영역과 상기 슬릿 영역을 제외한 영역에 형성되는 쉐도우 영역을 구비하고 있으며, 상기 쉐도우 영역은 마스크 기판과 그 표면을 일정 두께로 덮고 있는 코팅층으로 구성되어 있다. 이때, 상기 코팅층의 두께를 조절함으로써 상기 슬릿 영역의 너비를 조절할 수 있어 상기 쉐도우 마스크를 이용하여 유기 전계 발광 표시 장치의 유기물층, 특히 발광층을 진공 증착하는 경우 미세한 선폭을 갖는 유기물층을 형성할 수 있어 고해상도의 유기 전계 발광 표시 장치를 제조할 수 있다.
이때, 상기 쉐도우 영역의 코팅층 상에 보강부재를 구비하고 있어 상기 쉐도우 마스크가 처지거나 휘는 등의 문제가 발생하는 것을 방지한다.
이때, 상기 마스크 기판은 철 또는 철-니켈 합금으로 이루어져 있을 수 있다.
또한, 상기 코팅층은 전기도금법으로 도금되어 형성될 수 있는데, 그 재료는 Fe, Cu, Ni, Ti, Al 또는 이들의 산화물 중 어느 하나를 이용할 수 있다.
또한, 상기 마스크 기판의 두께는 40㎛ 내지 300㎛일 수 있는데, 두께가 얇은 것일 수 록 바람직하기는 하나 처짐 또는 휘는 현상이 발생할 수 있음으로 이를 감안하여 결정하는 것이 바람직하다.
실시예 1
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 쉐도우 마스크를 도시하는 사시도 및 단면도이다. 이때, 도 3b는 도 3a에 도시된 A-A'선을 따라 절단한 단면도이다.
도 3a 및 도 3b를 참조하여 설명하면, 본 발명의 쉐도우 마스크(100)는 몸체를 관통하며 제 1 너비(R1)를 갖는 슬릿들이 형성된 슬릿 영역(130)과 슬릿 영역(130)을 제외한 영역에 형성되는 쉐도우 영역(140)을 구비하고 있다.
여기서, 쉐도우 마스크는 제 2 너비(R3)를 갖는 슬릿들이 형성된 마스크 기판(120) 및 마스크 기판(120)의 표면을 덮는 코팅층(125)을 포함한다.
따라서, 코팅층(125)의 두께(R2)를 조절함으로써 슬릿 영역의 너비(R1)를 조절할 수 있다.
즉, 종래 기술의 도 2를 참조하여 설명한 바와 같이 쉐도우 마스크(100)의 마스크 기판(120)은 두께가 최소 40㎛ 이상은 되어야 처짐 또는 휘는 현상이 발생하지 않음으로 마스크 기판(120)의 두께는 적어도 40㎛ 이상이 된다. 이로 인해 슬릿 영역의 너비는 40㎛ 이하로 형성하는 것이 어렵게 된다. 이는, 쉐도우 마스크(100)는 금속 기판을 포토레지스트를 이용한 식각공정을 포함해서 제조되는데, 상기 금속 기판은 등방성 식각을 하기 때문에 미세한 폭을 갖도록 식각하기 어렵기 때문이다. 또한, 마스크 기판(120)이 대형화될 수록 이런 현상은 더욱 커지게 되어 미세한 선폭을 갖는 마스크 기판(120)을 제조하는 것이 어려워게 된다.
그러나, 본 발명의 쉐도우 마스크는 몸체의 두께를 40㎛ 이상의 두께를 가지면서도 슬릿 영역(130)의 너비(R1)는 미세하게 할 수 있다.
이는, 코팅층(125)의 두께(R2)를 두껍게 함으로써 슬릿 영역의 너비(R1)는 작게할 수 있어 미세한 선폭을 갖는 쉐도우 마스크를 제공할 수 있다.
즉, 슬릿 영역(130)의 너비(R1)는 마스크 기판(120)에 구비된 슬릿들의 너비(R3)에서 코팅층(125)의 두께(R)의 2배수를 뺀 것이 되기 때문에, 미세한 선폭을 갖는 쉐도우 마스크가 제작된다.
예를 들어, 슬릿들의 너비(R3)가 50㎛인 마스크 기판(120)인 경우, 코팅층(125)의 두께(R2)를 10㎛로 코팅한다면 슬릿 영역(130)의 너비(R1)는 30㎛가 되어 30㎛의 미세 선폭을 증착할 수 있는 쉐도우 마스크(100)을 제공할 수 있게 된다.
또한, 슬릿이 형성된 마스크 기판(120)의 표면에 코팅층(125)이 더 구비됨에 따라, 슬릿 영역(130)의 너비가 감소됨과 동시에 쉐도우 마스크(100)의 두께는 증가한다.
따라서, 쉐도우 마스크(100)는 코팅층(125)이 구비됨에 따라, 쉐도우 마스크(100)가 휘어지는 것을 방지할 수도 있다.
그러나, 마스크 기판(120)의 두께는 300㎛를 초과하지 않는다. 마스크 기판(120)을 두껍게 형성하여 마스크 기판(120)이 휘어지는 것을 방지할 수 있으나, 300㎛를 초과하게 되면, 마스크 기판(120)이 휘어지는 문제는 개선되기 때문에 마스크 기판(120)을 두껍게 가져갈 필요는 없다.
마스크 기판(120)은 진공증착은 고온에서 진행되기 때문에 열에 의한 변형이 적은 재질로 이루어져야 한다. 예를 들면, 마스크 기판(120)의 재질은 철 또는 철-니켈 합금일 수 있다.
또한, 코팅층(125)은 전기도금법으로 도금되어 형성될 수 있는데, 그 재료는 Fe, Cu, Ni, Ti, Al 또는 이들의 산화물 중 어느 하나를 이용할 수 있다.
이에 더하여, 쉐도우 마스크(100)는 마스크 기판(120)을 지지하기 위해, 마스크 기판(120)의 외각부에 배치된 지지대(110)를 더 포함한다.
이때, 상기 본 발명의 코팅층은 상기 도 3a 및 도 3b에서는 스트라이프(stripe) 형태의 유기물층을 형성할 수 있는 쉐도우 마스크를 도시하고 있으나, 스폿(Spot) 형태의 유기물층을 형성할 수 있는 쉐도우 마스크에도 적용될 수 있다.
실시예 2
도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 쉐도우 마스크의 마스크 기판을 도시 하는 단면도이다. 이때, 도 4는 상기 도 3a의 A-A'선을 따라 절취한 영역과 동일한 영역을 도시하고 있다.
본 발명의 제 2 실시예에서는 보강부재를 제외하고 앞서 설명한 제 2 실시예의 쉐도우 마스크와 동일한 구성을 갖는다. 따라서, 동일한 구성요소에 대한 중복된 설명은 생략하기로 하며, 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 명칭 및 참조번호를 부여하기로 한다.
도 4를 참조하여 설명하면, 본 발명의 쉐도우 마스크(100)는 쉐도우 영역(140)의 코팅층(125) 상에 일정 두께를 갖는 보강부재(150)을 더 구비하고 있어, 쉐도우 마스크가 처지거나 휘는 등의 문제가 발생하는 것을 방지한다.
특히, 보강부재(150)는 쉐도우 영역(140)의 마스크 기판(120)의 두께를 줄일 수 있는 역할이나 마스크 기판(120)을 대형화할 수 있게 하는 역할을 한다.
쉐도우 마스크(100)는 도 3a에서 도시한 바와 같이 지지대(110)에 체결(예컨데, 용접)되어 있을 수 있는데, 마스크 기판(120)을 먼저 제조하고, 마스크 기판(120)에 적당한 인장력을 가한 후, 지지대(110)에 체결하여 제조될 수 있다.
이때, 상기 인장력에 의해 마스크 기판(120)이 처지거나 휘지 않게 되는데, 마스크 기판(120)의 두께가 얇아질 수 록 상기 인장력은 약하게 가할 수 밖에 없어 마스크 기판(120)이 처지거나 휘어지는 문제가 발생한다.
그러나, 본 발명에서와 같이 코팅층(125) 상에 일정 두께를 갖는 보강부재(150)을 더 구비함으로써 마스크 기판(120)의 탄성은 더 높아지게 되고, 이로 인해 상기 인장력을 더 크게 가할 수 있게 되어 마스크 기판(120)이 처지거나 휘어지 는 문제가 발생하지 않게 된다.
따라서, 본 발명의 쉐도우 마스크는 쉐도우 영역(140)의 코팅층(125)의 두께를 조절하여 슬릿 영역(130)의 너비를 조절할 수 있어 미세한 선폭을 가질 수 있고, 프레임(140)의 코팅층 상에 보강구조물 더 구비함으로써 쉐도우 마스크의 처짐 또는 휘는 현상을 방지할 수 있다.
실시예 3
도 5a 내지 도 5d는 제 3 실시예에 따른 쉐도우 마스크를 제조하는 방법을 도시한 단면도들이다.
도 5a를 참조하여 설명하면, 쉐도우 마스크를 제조하기 위해, 기판(120a)을 준비한다.
이어서, 기판(120a) 전면 상에 포토레지스트층을 형성한다.
이어서, 포토레지스트층이 형성된 기판(120a)을 노광 및 현상하여 제 1 포토레지스트 패턴(210)을 형성한다.
도 5b를 참조하여 설명하면, 상기 제 1 포토레지스트 패턴(210)이 형성된 기판(120)을 식각하여 기판(120)에서 제 1 포토레지스트 패턴(210)이 있는 부분은 남겨 마스크 기판(120)을 형성하고, 제 1 포토레지스트 패턴(210)이 없는 영역은 상하가 관통되고, 일정 너비를 갖는 슬릿(220)을 형성한다.
도 5c를 참조하여 설명하면, 제 1 포토레지스트 패턴(210)을 제거하고, 마스크 기판(120)의 표면에 일정 두께(R2)를 갖는 코팅층(125)을 형성한다.
이때, 코티층(125)은 전해질 도금법, 무전해질 도금, 증착법등을 통해 형성 할 수 있다.
따라서, 마스크 기판(120)상에 코팅층(144)이 형성된 쉐도우 영역(140) 및 쉐도우 영역(140) 사이에 일정 너비(R1)를 갖는 슬릿 영역(130)을 구비한 쉐도우 마스크(100)가 완성된다.
도 5d를 참조하여 설명하면, 쉐도우 마스크는 코팅층(125)이 형성된 마스크 기판(120)을 지지대(230)에 체결하는 단계를 더 포함할 수 있다.
이때, 지지대(110)는 마스크 기판(120)을 지지하는 역할 및 쉐도우 기판(100)을 이송할 때 또는 진공 증착 장치 내부에서 정렬할 때 고정되는 고정부의 역할을 한다.
이때, 마스크 기판(120)을 좌우 방향 또는 상하 방향으로 인장력을 가한 후, 지지대(230)에 용접하여 체결할 수 있는데, 이는 상기 마스크 기판(120)이 상기에서 상술한 바와 같이 아주 얇기 때문에 처지거나 휘어지는 등의 문제가 발생하는 데 이를 방지하기 위해서이다.
실시예 4
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 쉐도우 마스크를 제조하는 방법을 도시한 단면도들이다.
본 발명의 제 4 실시예에서는 보강부재를 형성하는 단계를 제외하고 앞서 설명한 제 3 실시예의 쉐도우 마스크의 제조 방법과 동일하다. 따라서, 동일한 제조 방법에 대한 중복된 설명은 생략하기로 하며, 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 명칭 및 참조번호를 부여하기로 한다.
도 6a를 참조하여 설명하면, 쉐도우 마스크를 제조하기 위해 코팅층(125)이 형성된 마스크 기판(120)상에 코팅층의 일부를 노출하는 제 2 포토레지스트 패턴(230)을 형성한다.
도 6b를 참조하여 설명하면, 제 2 포토레지스트 패턴(230)이 형성된 마스크 기판(120)상에 예비 보강부재를 형성한다.
이때, 예비 보강부재는 코팅층(125)을 형성하는 방법과 동일할 수 있을 뿐만 아니라 재료 역시 동일하게 사용할 수 있다.
이어서, 제 2 포토레지스트 패턴(230)을 제거하여 코팅층(125)상에 보강부재(150)를 형성한다.
상기에서는 본 발명의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
따라서, 본 발명의 쉐도우 마스크 및 그의 제조 방법은 종래에는 구조상 40㎛ 이하의 미세 선폭을 구비한 쉐도우 마스크를 제조하는 것은 공정상 불가능하나, 본 발명에서와 같이 쉐도우 마스크의 프레임의 표면에 코팅층을 형성하는 경우에는 상기 쉐도우 마스크의 슬릿 영역의 너비를 조절할 수 있어 미세한 선폭을 갖는 고해상도의 유기 전계 발광 표시 장치를 제조할 수 있는 쉐도우 마스크를 제공할 수 있다는 효과가 있고, 상기 프레임의 코팅층 상에 보강부재를 형성하면 상기 세도우 마스크의 처짐 또는 휘는 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.

Claims (11)

  1. 몸체를 관통하며 서로 이격된 다수의 슬릿을 구비하는 마스크 기판; 및
    상기 마스크 기판의 상·하부면과 상기 슬릿의 측벽을 덮는 코팅층을 포함하는 쉐도우 마스크.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크 기판은 철 또는 철-니켈 합금으로 이루어진 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 코팅층은 Fe, Cu, Ni, Ti, Al 또는 이들의 산화물 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 슬릿들사이의 상기 코팅층상에 구비된 보강부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 보강부재는 Fe, Cu, Ni, Ti, Al 또는 이들의 산화물 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크 기판의 두께는 40㎛ 내지 300㎛인 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크.
  7. 기판을 준비하는 단계;
    상기 기판 전면 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계;
    상기 포토레지스트층을 노광 및 현상하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;
    상기 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 하여 상기 기판을 식각하여 상기 기판을 관통하는 슬릿들을 형성하여 마스크 기판을 형성하는 단계; 및
    상기 포토레지스트 패턴을 제거하고, 상기 마스크 기판의 상·하부면과 상기 슬릿의 측벽에 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크 제조 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 코팅층은 전기 도금법, 무전해 도금법 또는 증착법을 통해 형성하는 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크 제조 방법.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 코팅층을 형성하는 단계 이후,
    상기 슬릿들 사이의 상기 코팅층상에 보강부재를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크 제조 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 보강부재를 형성하는 단계는
    상기 코팅층의 일부를 개구하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;
    상기 포토레지스트 패턴을 포함하는 상기 코팅층상에 전기 도금하여 예비 보강부재를 형성하는 단계; 및
    상기 포토레지스트 패턴을 제거하여 보강부재를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크 제조 방법.
  11. 제 7 항에 있어서,
    상기 코팅층은 Fe, Cu, Ni, Ti, Al 또는 이들의 산화물 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크 제조 방법.
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KR101236578B1 (ko) * 2010-07-26 2013-02-22 주식회사 엘지화학 마스크
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KR102286464B1 (ko) * 2015-03-30 2021-08-04 엘지디스플레이 주식회사 표시 장치

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030092790A (ko) * 2002-05-31 2003-12-06 삼성 엔이씨 모바일 디스플레이 주식회사 증착용 마스크 프레임 조립체와 이의 제조방법

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030092790A (ko) * 2002-05-31 2003-12-06 삼성 엔이씨 모바일 디스플레이 주식회사 증착용 마스크 프레임 조립체와 이의 제조방법

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