JP2016125097A - 蒸着マスク及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マスク本体2に多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられ、蒸着通孔5は、気化源側に位置する小孔部5aと、被蒸着基板30側に位置し、小孔部5aの開口形状よりも大きく形成された大孔部5bとが連通形成されているものである。これにより、蒸着通孔5が気化源に向かって外広がり形状となって、広い角度で気化源からの有機材料を受け入れることが可能となり、均一な高さ寸法を有する発光層を精度良く形成することが可能となる。
【選択図】図1
Description
図1において、蒸着マスク1は、マスク本体2に、多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられたものである。マスク本体2は、ニッケルやニッケル−コバルト等のニッケル合金、銅、その他の電着金属を素材として、電鋳法により形成される。図2において、マスク本体2は、200×200mmの四角形状の母型領域の中に、例えば50×50mmの正方形状に4つ独立して形成されており、その内部にパターン形成領域4を備える。このパターン形成領域4に、蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が形成されている。
本発明の第2実施形態に係る蒸着マスクを図6ないし図12に基づいて説明する。図6において、蒸着マスク1は、多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられたマスク本体2を備え、このマスク本体2は、ニッケルやニッケルコバルト等のニッケル合金、銅、その他の電着金属を素材として、電鋳法により形成される。図9において、蒸着マスク1は、500mm×400mmの四角形状を呈しており、その内部に複数個のマスク本体2を備える。各マスク本体2は、50×40mmの四角形状に形成されており、その内部にパターン形成領域4を備える。パターン形成領域4には、多数独立の蒸着通孔5からなる発光層形成用の蒸着パターン6が形成されている。
本発明の第3実施形態に係る蒸着マスクを図13ないし図15に基づいて説明する。上記各実施形態におけるマスク本体2(蒸着マスク1)は、母型として導電性基板を用い、その表面にパターンレジストを形成後、電鋳して製造しているが、母型として絶縁性基板を用いて製造することもできる。図13および図14は、本実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を示すものであり、以下に該製造方法の各工程について説明する。
2 マスク本体
3 枠体
4 パターン形成領域
4a パターン形成領域の外周縁
5 蒸着通孔
6 蒸着パターン
9 金属層
10 母型
12 一次パターンレジスト
13 第一金属層
15 二次パターンレジスト
16 第二金属層
17 パターンフィルム
18 三次パターンレジスト
21 通孔
40 母型
43 パターンレジスト
44 第一金属層
45 第二金属層
50 微小凹み
60 張出部
Claims (6)
- マスク本体2に、多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられた蒸着マスクであって、
前記蒸着通孔5は、気化源側に位置する小孔部5aと、被蒸着基板30側に位置し、前記小孔部5aの開口形状よりも大きく形成された大孔部5bとが連通形成されていることを特徴とする蒸着マスク。 - 前記マスク本体2は、第一金属層13・44と第二金属層16・45とを有し、前記第一金属層13・44の上面及び側面を覆うように前記第二金属層16・45が形成されており、前記蒸着通孔5間におけるマスク本体2の断面形状は、段差状となっていることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。
- 前記大孔部5bおよび前記小孔部5aの周面に臨む前記第二金属層16・45の各上端周縁部をR状とすることを特徴とする請求項2に記載の蒸着マスク。
- 前記蒸着パターン6がパターン形成領域4内に形成されており、前記マスク本体2の外周に、低熱線膨張係数の材質からなる枠体3が配置され、前記マスク本体2のパターン形成領域4の外周縁4aと前記枠体3とを金属層9を介して一体的に接合してあることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の蒸着マスク。
- マスク本体2に、多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられた蒸着マスクの製造方法であって、
母型10の表面に、レジスト体12aを有する一次パターンレジスト12を形成する工程と、
前記一次パターンレジスト12を用いて、前記母型10上に第一金属層13を形成する工程と、
前記母型10の表面に、レジスト体15aを有する二次パターンレジスト15を形成する工程と、
前記二次パターンレジスト15を用いて、前記母型10及び前記第一金属層13上に第二金属層16を形成する工程と、
前記母型10から前記第一金属層13および前記第二金属層16を一体に剥離する工程とを含むことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - マスク本体2に、多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられた蒸着マスクの製造方法であって、
金属膜41がパターン形成された母型40を準備する工程と、
前記母型40表面に、レジスト体43aを有するパターンレジスト43を形成する工程と、
前記パターンレジスト43を用いて、前記金属膜41上に第一金属層44を形成する工程と、
前記金属膜41及び前記第一金属層44上に、第二金属層45を形成する工程と、
前記母型10から前記第一金属層44および前記第二金属層45を一体に剥離する工程とを含むことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。
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