CN102436135A - 无铬光刻板 - Google Patents
无铬光刻板 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102436135A CN102436135A CN2012100031551A CN201210003155A CN102436135A CN 102436135 A CN102436135 A CN 102436135A CN 2012100031551 A CN2012100031551 A CN 2012100031551A CN 201210003155 A CN201210003155 A CN 201210003155A CN 102436135 A CN102436135 A CN 102436135A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pattern
- photoetching
- litho pattern
- plate
- base plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
本发明涉及无铬光刻板，它包括石英基板，石英基板的上表面的预定位置制作有光刻图形，光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面。优选地，石英基板的下表面的对应位置制作有相同的光刻图形，光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面，其中，位于石英基板的上表面与下表面的光刻图形的垂直投影相互重合。本发明解决了现有技术中的缺陷，
实现仅通过使用石英材料本身来制作掩模图形，从而减少光刻板在重复使用过程中的图形失真。
Description
技术领域
本发明涉及一种LED制程中的设备。
背景技术
光刻掩模板一般用石英玻璃作为基体，采用石英是由于其优良的近紫外透过率。掩模板挡光部分用铬（Cr），所以有时也叫铬板。现有技术是在石英上镀铬，再将铬刻制成相应的版图得到的。这种光刻板在使用过程中，尤其是接触式的使用过程中容易受到损坏，从而造成掩模图形的失真。
发明内容
本发明的目的是实现仅通过使用石英材料本身来制作掩模图形，从而减少光刻板在重复使用过程中的图形失真。
为了达到上述技术目的，本发明提供了一种无铬光刻板，它包括石英基板，所述的石英基板的上表面的预定位置制作有光刻图形，所述的光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面。
优选地，所述的石英基板的下表面的对应位置制作有相同的光刻图形，所述的光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面，其中，位于所述的石英基板的上表面与下表面的光刻图形的垂直投影相互重合。
由于采用上述技术方案，在石英的上下表面分别制作出同样的图形，且下表面图形与上表面图形的垂直投影完全重合，上、下表面的图形使用粗化手段(类似于制作毛玻璃)制作从而增强入射光的散射，减小光强。同时，该技术由于增加了边缘的粗化，减弱了因为驻波效应而导致的光刻胶显影后的锯齿缺陷。
附图说明
附图1为根据本发明的无铬光刻板的结构示意图；
附图2为根据本发明的无铬光刻板的工作原理示意图；
附图3为附图1中的A处的局部放大示意图；
附图4为附图1中的B处的局部放大示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
附图1为根据本发明的无铬光刻板的结构示意图；附图2为根据本发明的无铬光刻板的工作原理示意图；附图3为附图1中的A处的局部放大示意图；附图4为附图1中的B处的局部放大示意图。
本实施例中的无铬光刻板，它包括石英基板，石英基板的上表面的预定位置制作有光刻图形，光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面，石英基板的下表面的对应位置制作有相同的光刻图形，光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面，其中，位于石英基板的上表面与下表面的光刻图形的垂直投影相互重合。
如附图3与附图4所示，由于在石英的上下表面分别制作出同样的图形，且下表面图形与上表面图形的垂直投影完全重合，上、下表面的图形使用粗化手段(类似于制作毛玻璃)制作从而增强入射光的散射，减小光强。同时，该技术由于增加了边缘的粗化，减弱了因为驻波效应而导致的光刻胶显影后的锯齿缺陷。
当曝光机进行曝光时，印有光刻图形的上表面部分由于漫反射的效应，从而阻止光线的通过，其余部分则顺利通过石英基板达到光刻胶从而对光刻胶进行蚀刻。 从而实现了仅通过使用石英材料本身来制作掩模图形，减少光刻板在重复使用过程中的图形失真的目的。
以上实施方式只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。
Claims (2)
1.一种无铬光刻板，它包括石英基板，其特征在于：所述的石英基板的上表面的预定位置制作有光刻图形，所述的光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面。
2.根据权利要求1所述的无铬光刻板，其特征在于：所述的石英基板的下表面的对应位置制作有相同的光刻图形，所述的光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面，其中，位于所述的石英基板的上表面与下表面的光刻图形的垂直投影相互重合。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2012100031551A CN102436135A (zh) | 2012-01-07 | 2012-01-07 | 无铬光刻板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2012100031551A CN102436135A (zh) | 2012-01-07 | 2012-01-07 | 无铬光刻板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102436135A true CN102436135A (zh) | 2012-05-02 |
Family
ID=45984251
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2012100031551A Pending CN102436135A (zh) | 2012-01-07 | 2012-01-07 | 无铬光刻板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102436135A (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108627993A (zh) * | 2017-03-24 | 2018-10-09 | 敦捷光电股份有限公司 | 光准直器及其制造方法 |
| CN108627994A (zh) * | 2017-03-24 | 2018-10-09 | 敦捷光电股份有限公司 | 光准直器及其制造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1472598A (zh) * | 2002-05-31 | 2004-02-04 | �����ձ������ƶ���ʾ��ʽ���� | 用于蒸发的掩模，包括该掩模的掩模框架组件，及其制造方法 |
| CN1959527A (zh) * | 2005-11-03 | 2007-05-09 | 茂德科技股份有限公司 | 相移式掩模及其制备方法与制备半导体元件的方法 |
| CN101713914A (zh) * | 2008-10-01 | 2010-05-26 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 光掩膜及其制造方法 |
| WO2011072409A1 (en) * | 2009-12-18 | 2011-06-23 | Boegli-Gravures S.A. | Method and device for producing masks for a laser installation for the production of microstructures |
-
2012
- 2012-01-07 CN CN2012100031551A patent/CN102436135A/zh active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1472598A (zh) * | 2002-05-31 | 2004-02-04 | �����ձ������ƶ���ʾ��ʽ���� | 用于蒸发的掩模，包括该掩模的掩模框架组件，及其制造方法 |
| CN1959527A (zh) * | 2005-11-03 | 2007-05-09 | 茂德科技股份有限公司 | 相移式掩模及其制备方法与制备半导体元件的方法 |
| CN101713914A (zh) * | 2008-10-01 | 2010-05-26 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 光掩膜及其制造方法 |
| WO2011072409A1 (en) * | 2009-12-18 | 2011-06-23 | Boegli-Gravures S.A. | Method and device for producing masks for a laser installation for the production of microstructures |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108627993A (zh) * | 2017-03-24 | 2018-10-09 | 敦捷光电股份有限公司 | 光准直器及其制造方法 |
| CN108627994A (zh) * | 2017-03-24 | 2018-10-09 | 敦捷光电股份有限公司 | 光准直器及其制造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5365571B2 (ja) | スクリーン印刷版およびその製造方法 | |
| TW200733375A (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
| WO2016112636A1 (zh) | 掩模板及其制备方法和显示面板中封框胶的固化方法 | |
| CN104253089B (zh) | 一种阵列基板的制备方法、阵列基板及显示装置 | |
| CN101986206B (zh) | 利用功能掩膜板制造封接胶固化用掩膜基板的方法 | |
| TW200600963A (en) | Gray scale mask and method of manufacturing the same | |
| TW200801793A (en) | Half-tone type phase-shifting mask and method for manufacturing the same | |
| CN105789118B (zh) | 一种显示基板及其制作方法 | |
| CN202886836U (zh) | 掩膜版 | |
| CN104281014A (zh) | 掩模板、曝光设备及紫外掩模基板的制备方法 | |
| CN106698970B (zh) | 制备带光遮盖边框的玻璃盖板的方法、产品和应用 | |
| CN105717737A (zh) | 一种掩膜版及彩色滤光片基板的制备方法 | |
| US9459524B2 (en) | Mask plate and method of patterning using the mask plate | |
| JP5668168B1 (ja) | プロキシミティ露光用フォトマスク | |
| CN107445489B (zh) | 一种含彩色油墨纹路图案的玻璃板的制备方法及玻璃板 | |
| CN102436135A (zh) | 无铬光刻板 | |
| TW200728905A (en) | Photomask and exposure method using same | |
| CN103576469B (zh) | 光刻胶曝光装置 | |
| JP2009080143A5 (zh) | ||
| CN202383417U (zh) | 无铬光刻板 | |
| TW201306689A (zh) | 形成圖案之方法及採用該方法形成有圖案之殼體 | |
| US9372369B2 (en) | Liquid crystal panel and manufacturing method thereof | |
| JP2009186863A5 (zh) | ||
| CN103389533A (zh) | 一种制造彩色滤光片的方法和彩色滤光片 | |
| JP4887873B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C12 | Rejection of a patent application after its publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20120502 |