KR20110135552A - 지그 일체형 마스크 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

지그 일체형 마스크 및 그 제조방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 지그 일체형 마스크의 제조방법은, 중심부에 개구가 형성되고, 상기 개구에서 내주면을 따라 안착홈이 형성되는 지그 프레임을 준비한 후, 상부에 포토 레지스트 패턴이 형성된 기판을 상기 지그 프레임의 안착홈에 안착시킨다. 다음으로, 상기 안착홈에서 상기 기판과 상기 지그 프레임 사이의 공간에 도전성 페이스트를 충진하여 상기 기판과 상기 지그 프레임을 접합시키고, 전주 도금 방식을 이용하여 상기 기판 상에 마스크 패턴을 형성하며, 상기 기판 상의 포토 레지스트 패턴을 제거한 후, 상기 기판을 제거한다.

Description

지그 일체형 마스크 및 그 제조방법{JIG-INTEGRATED MASK AND FABRICATING METHOD THE SAME}
본 발명의 실시예는 마스크에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 지그 프레임과 마스크를 일체로 형성할 수 있는 기술에 관한 것이다.
최근 전자 기기의 소형화, 경량화, 다기능화의 추세에 따라 인쇄회로기판 및 그 상부에 탑재되는 전자 부품의 집적도 및 평판디스플레이의 해상도가 빠른 속도로 발전하고 있으며, 이를 위해 중요하게 사용되는 제품이 마스크(Mask)이다. 상기 마스크는 사용되는 분야 및 용도에 따라 메탈 마스크(Metal Mask), 쉐도우 마스크(Shadow Mask), 포토 마스크(Photo Mask) 등이 있을 수 있다.
상기 메탈 마스크는 인쇄회로기판 상에 전자 부품을 탑재하는데 사용된다. 예를 들어, 접촉 패드 등이 형성된 인쇄회로기판 상에 상기 접촉 패드와 대응되는 개구부들이 형성된 메탈 마스크를 올려 놓은 후, 메탈 마스크의 개구부를 통해 솔더 크림(Solder Cream)을 밀어 넣는다. 다음으로, 상기 접촉 패드 상에 전자 부품의 리드들을 배열한 후, 해당 부분을 열을 가하면서 납땜을 한다. 여기서, 상기 메탈 마스크는 상기 솔더 크림을 인쇄회로기판 상의 정확한 위치에 정량 도포하기 위해 사용된다.
종래의 메탈 마스크는 얇은 두께의 박막 형태로 형성되기 때문에, 메탈 마스크를 이동시켜 인쇄회로기판 상부에 위치시키는 과정에서 메탈 마스크의 처짐이 발생하며, 그로 인해 정확한 위치를 잡기 어려운 문제점이 있다.
상기 쉐도우 마스크는 예를 들어, 유기전계발광 표시장치(OLED)에서 기판 상에 밀착시켜 선택된 위치에만 발광 유기물을 증착하여 화소를 형성하는데 사용되는 금속막으로, 화면의 화질, 선명도 및 색상을 좌우하는 핵심적인 부품이다.
쉐도우 마스크는 유기 화합물이 증착되는 공정의 온도가 고온(150 ~ 170 ℃)이기 때문에, 열팽창에 의한 치수 변화가 없는 인바(INVAR) 재질을 사용하고 있다. 종래의 쉐도우 마스크는 인바 제품을 화학적 에칭 공정을 통해 제조한 후 지그에 부착하여 사용하였는데, 에칭 공정을 통해 쉐도우 마스크를 제조하는 경우, 테이퍼 앵글(Taper Angle)의 형성에 한계가 있으며, 에칭면이 깨끗하지 못하고, 환경 오염이 발생하는 문제점이 있다.
또한, 에칭 공정을 통해 제조된 쉐도우 마스크를 지그에 부착할 때 그 부착 방법이 어렵다는 문제점이 있다. 즉, 쉐도우 마스크를 형성하는 공정이 이루어진 후, 쉐도우 마스크를 지그에 부착하여야 하는데, 이때 쉐도우 마스크의 각 테두리에 외측으로 인장력을 가한 후, 지그에 용접하여 접합시킨다. 이 경우, 쉐도우 마스크에 물리적인 힘과 열이 가해지기 때문에 쉐도우 마스크가 변형될 염려가 있다.특히, 쉐도우 마스크의 두께가 50 ㎛ 이하가 될 경우, 지그에 부착하여 고정시키는 방법은 더욱 어려워진다.
본 발명의 실시예는 지그 프레임과 마스크를 일체로 형성함으로써, 마스크의 인장력을 강화하여 마스크의 처짐을 방지하고자 한다.
본 발명의 실시예들에 의한 다른 기술적 해결 과제는 하기의 설명에 의해 이해될 수 있으며, 이는 특허청구범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 지그 일체형 마스크 제조방법은, (A) 중심부에 개구가 형성되고, 상기 개구로 인해 형성된 내주면을 따라 안착홈이 형성되는 지그 프레임을 준비하는 단계; (B) 상부에 포토 레지스트 패턴이 형성된 기판을 상기 지그 프레임의 안착홈에 안착시키는 단계; (C) 상기 기판과 상기 지그 프레임 사이의 이음새 영역에 도전성 물질을 형성하는 단계; (D) 전주 도금 방식을 이용하여 상기 기판 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계; 및 (E) 상기 기판 상의 포토 레지스트 패턴을 제거한 후, 상기 기판을 제거하는 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 지그 일체형 마스크 제조방법은, (a) 중심부에 개구가 형성되고, 상기 개구로 인해 형성된 내주면을 따라 안착홈이 형성되는 지그 프레임을 준비하는 단계; (b) 상기 지그 프레임의 안착홈에 기판을 안착시키는 단계; (c) 상기 기판과 상기 지그 프레임 사이의 영역에 도전성 물질을 형성하는 단계; (d) 상기 기판 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계; 및 (e) 상기 기판을 제거하는 단계를 포함한다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 지그 일체형 마스크 제조방법은, (가) 중심부에 개구가 형성된 지그 프레임의 내주면에 상기 지그 프레임의 두께 보다 작은 두께의 보조 프레임을 부착하는 단계; (나) 상부에 포토 레지스트 패턴이 형성된 기판을 상기 보조 프레임 상에 안착시키는 단계; (다) 상기 기판과 상기 지그 프레임 사이의 영역에 도전성 물질을 형성하는 단계; (라) 전주 도금 방식을 이용하여 상기 기판 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계; 및 (마) 상기 보조 프레임 및 상기 기판을 제거한 후, 상기 포토 레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 지그 일체형 마스크는, 중심부에 개구가 형성된 지그 프레임; 상기 지그 프레임 상에서 상기 개구의 테두리를 따라 형성되는 도전성 물질; 및 상기 개구의 상부에서 상기 도전성 물질과 연결되어 상기 지그 프레임과 일체로 형성되는 마스크를 포함한다.
본 발명의 실시예들에 의하면, 지그 프레임과 마스크를 일체로 형성함으로써, 마스크가 처지는 것을 방지할 수 있으며, 그로 인해 마스크를 이용하여 정확한 위치에 소정 패턴을 증착할 수 있게 된다.
또한, 마스크에 별다른 물리적 힘이나 열을 가하지 않고도 지그 프레임과 마스크를 일체로 형성함으로써, 마스크에 변형이 발생하는 것을 방지할 수 있으며, 그로 인해 마스크를 이용하여 정확한 패턴을 증착할 수 있게 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 지그 일체형 마스크 제조방법을 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 지그 프레임을 나타낸 사시도.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 지그 일체형 마스크의 제조방법을 나타낸 도면.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 지그 일체형 마스크의 제조방법을 나타낸 도면.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 지그 일체형 마스크를 나타낸 도면.
도 6a는 본 발명의 일 실시예에 따른 지그 프레임을 나타낸 사진.
도 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 지그 일체형 마스크를 나타낸 사진,
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 지그 일체형 마스크를 나타낸 도면.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 지그 일체형 마스크를 나타낸 사진.
이하, 도 1 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 지그 일체형 마스크 및 그 제조방법의 구체적인 실시예를 설명하기로 한다. 그러나 이는 예시적 실시예에 불과하며 본 발명은 이에 제한되지 않는다.
본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명과 관련된 공지기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하기로 한다. 그리고, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
본 발명의 기술적 사상은 청구범위에 의해 결정되며, 이하 실시예는 진보적인 본 발명의 기술적 사상을 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에게 효율적으로 설명하기 위한 일 수단일 뿐이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 지그 일체형 마스크 제조방법을 나타낸 도면이다.
먼저, 지그 프레임(110)을 준비한다(도 1a). 상기 지그 프레임(110)은 도 2에 도시한 바와 같이, 중심부에 개구(111)가 형성된 사각형 틀 형상으로 형성된다. 또한, 상기 지그 프레임(110)에는 상기 지그 프레임(110)의 내주면을 따라 안착홈(114)이 형성된다. 상기 지그 프레임(110)은 목재, 합성 수지, 및 금속 중 어느 하나의 재질로 이루어질 수 있다.
다음으로, 상부에 포토 레지스트(Photo Resist : PR) 패턴(121)이 형성된 기판(120)을 상기 지그 프레임(110)에 안착시킨다(도 1b). 이때, 상기 기판(120)은 상기 지그 프레임(110)의 안착홈(114)에 안착되게 된다.
상기 포토 레지스트 패턴(121)은 포토 리소그래피(Photo Lithography) 공정을 통해 형성하는데, 포토 리소그래피 공정은 이미 공지된 기술이므로 이에 대한 자세한 설명은 생략하기로 한다. 상기 포토 레지스트 패턴(121)은 후술할 마스크 패턴에 따라 형성되게 된다.
다음으로, 상기 지그 프레임(110)과 상기 기판(120) 사이의 이음새 영역에 도전성 물질(130)을 형성한다(도 1c). 예를 들어, 은(Ag) 페이스트와 같은 도전성 페이스트를 상기 지그 프레임(110)과 상기 기판(120) 사이의 이음새 상에 형성할 수 있다.
다음으로, 전주 도금 방식을 이용하여 상기 기판(120) 상에 마스크 패턴(125)을 형성한다(도 1d). 여기서, 상기 포토 레지스트 패턴(121)은 금속성 재질이 아니므로 상기 포토 레지스트 패턴(121)에는 도금이 형성되지 않으며, 상기 포토 레지스트 패턴(121)이 형성된 부분을 제외한 부분에 상기 마스크 패턴(125)이 형성되게 된다. 따라서, 도 1b에서 상기 기판(120) 상에 포토 레지스트 패턴(121)을 형성할 때, 상기 포토 레지스트 패턴(121)을 제외한 부분이 마스크 패턴(125)이 되도록 상기 포토 레지스트 패턴(121)을 형성한다.
이때, 상기 도전성 물질(130) 상에도 도금이 이루어지기 때문에, 상기 마스크 패턴(125)이 상기 도전성 물질(130) 상에도 형성되며, 이를 통해 상기 마스크 패턴(125)은 상기 지그 프레임(110)과 연결되게 된다.
만약, 상기 지그 프레임(110)이 금속 재질인 경우에는 상기 지그 프레임(110)의 표면에 테이프 등을 부착하여 전주 도금 시 상기 지그 프레임(110)에 도금이 형성되지 않도록 할 수 있다.
상기 전주 도금 방식으로 형성되는 마스크 패턴(125)은 인바(INVAR) 합금으로 형성할 수 있다. 상기 인바 합금은 니켈-철 합금의 일종으로서, 니켈 36% 및 철 64% 조성을 갖는 것을 말한다. 상기 인바 합금은 열팽창 계수가 매우 낮기 때문에 예를 들어, 쉐도우 마스크 등으로 사용되기에 적당하다. 이때, 전주 도금조 내의 전해액은 니켈 36% 및 철 64% 조성을 갖도록 형성한다.
예를 들어, 상기 전해액은 증류수(또는 물) 1L 당, 100g의 염화 제1철(Ferrous Chloride), 220g의 황산니켈(Nikel Sulfate), 25g의 염산(Hydrochloric Acid), 2g의 소듐사카린(Sodium Saccharin), 0.2g의 나트륨라우릴설페이트(Sodium Lauryl Sulfate), 38g의 염화칼슘(Calcium Chloride)을 포함하여 형성할 수 있다.
이와 같이, 전주 도금 방식으로 인바 합금의 마스크 패턴(125)을 형성하는 경우, 인바 합금의 마스크 패턴(125)을 형성하는 공정을 단순화 할 수 있고, 이를 제조하는 설비 비용을 줄일 수 있으며, 얇은 두께(예를 들어, 20 ~ 30㎛)의 대면적의 박막을 형성할 수 있게 된다.
다음으로, 상기 기판(120) 상의 포토 레지스트 패턴(121)을 제거하고, 상기 기판(120)을 제거한다(도 1e). 그러면, 상기 마스크 패턴(125) 만이 남아 마스크를 이루게 되며, 상기 마스크 패턴(125)은 상기 도전성 물질(130)을 통해 상기 지그 프레임(110)과 연결되어 일체로 형성되게 된다. 상기 포토 레지스트 패턴(121) 및 상기 기판(120)은 화학적 방법으로 제거할 수 있다. 예를 들어, 포토 레지스트 패턴(121) 및 상기 기판(120)은 상기 포토 레지스트 패턴(121) 및 상기 기판(120) 만을 선택적으로 식각하는 에칭 용액을 이용하여 제거할 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 지그 프레임(110)과 마스크를 일체로 형성하기 때문에, 마스크가 처지는 것을 방지할 수 있으며, 그로 인해 마스크를 이용하여 정확한 위치에 소정 패턴을 증착할 수 있게 된다.
또한, 마스크에 별다른 물리적 힘이나 열을 가하지 않고도 지그 프레임(110)과 마스크를 일체로 형성할 수 있기 때문에, 마스크에 변형이 발생하는 것을 방지할 수 있으며, 그로 인해 마스크를 이용하여 정확한 패턴을 증착할 수 있게 된다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 지그 일체형 마스크의 제조방법을 나타낸 도면이다.
도 3을 참조하면, 지그 프레임(210)을 준비한다(도 3a). 상기 지그 프레임(210)은 중심부에 개구(211)가 형성된 사각형 틀 형상으로 형성된다. 또한, 상기 지그 프레임(210)에는 상기 지그 프레임(210)의 내주면을 따라 안착홈(214)이 형성된다. 상기 지그 프레임(210)은 목재, 합성 수지, 및 금속 중 어느 하나의 재질로 이루어질 수 있다.
다음으로, 기판(220)을 상기 지그 프레임(210)의 안착홈(214)에 안착시킨다(도 3b).
다음으로, 상기 지그 프레임(210)과 상기 기판(220) 사이의 이음새 영역에 도전성 물질(230)을 형성한다(도 2c). 예를 들어, 은(Ag) 페이스트와 같은 도전성 페이스트를 상기 지그 프레임(210)과 상기 기판(220) 사이의 이음새 상에 형성할 수 있다.
다음으로, 상기 기판(220) 상에 마스크 막(240)을 형성한다(도 3d). 이때, 상기 마스크 막(240)은 상기 도전성 물질(230) 상에도 형성된다. 상기 마스크 막(240)은 니켈, 구리, 철, 크롬 등의 금속으로 이루어질 수 있으며, 그 이외에 다양한 금속 및 합금으로 이루어질 수 있다. 상기 마스크 막(240)은 예를 들어, 물리 증착, 스퍼터링, 기상 화학 증착 등을 이용하여 형성할 수 있으며, 그 이외에도 다양한 방법을 통해 형성할 수 있다.
다음으로, 상기 마스크 막(240)의 일부를 제거하여 상기 기판(220) 상에 마스크 패턴(245)을 형성한다(도 3e). 여기서, 상기 마스크 패턴(245)은 포토리소그래피 공정을 통해 형성할 수 있다. 이때, 상기 마스크 패턴(245)은 상기 도전성 물질(230) 상에도 형성되도록 한다.
다음으로, 상기 기판(220)을 제거한다(도 3f). 그러면, 상기 마스크 패턴(245)만이 남아 마스크를 이루게 된다. 이때, 상기 마스크 패턴(245)은 상기 도전성 물질(230)을 통해 상기 지그 프레임(210)과 연결되어 일체로 형성되게 된다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 지그 일체형 마스크 제조방법을 나타낸 도면이다.
먼저, 중심부에 개구(311)가 형성된 사각형 틀 형상의 지그 프레임(310)의 내주면에 보조 프레임(315)을 부착시킨다(도 4a). 이때, 상기 보조 프레임(315)의 두께는 상기 지그 프레임(310)의 두께 보다 작은 것을 사용한다. 예를 들어, 상기 지그 프레임(310)이 금속으로 이루어지는 경우, 상기 보조 프레임(315)은 자석으로 이루어지는 것을 사용하여 상기 지그 프레임(310)에 부착시킬 수 있다.
다음으로, 상부에 포토 레지스트 패턴(321)이 형성된 기판(320)을 상기 보조 프레임(315) 상에 안착시킨다(도 4b). 이때, 상기 기판(320)의 두께는 상기 지그 프레임(310)과 상기 보조 프레임(315)의 두께 차이에 해당하는 것을 사용한다.
다음으로, 상기 지그 프레임(310)과 상기 기판(320) 사이의 이음새 영역에 도전성 물질(330)을 형성한다(도 4c).
다음으로, 전주 도금 방식을 이용하여 상기 기판(320) 상에 마스크 패턴(325)을 형성한다(도 4d). 여기서, 상기 포토 레지스트 패턴(321)에는 도금이 형성되지 않으며, 상기 포토 레지스트 패턴(321)을 제외한 부분에 마스크 패턴(325)이 형성된다. 이때, 상기 마스크 패턴(325)은 상기 도전성 물질(330) 상에도 형성된다.
다음으로, 상기 보조 프레임(315)을 제거한 후, 상기 기판(320)을 제거한다(도 4e). 이때, 상기 보조 프레임(315) 및 상기 기판(320)은 물리적으로 용이하게 제거할 수 있다.
다음으로, 상기 포토 레지스트 패턴(321)을 제거한다(도 4f). 그러면, 상기 마스크 패턴(325) 만이 남아 마스크를 이루게 된다. 이때, 상기 마스크 패턴(325)은 상기 도전성 물질(330)을 통해 상기 지그 프레임(310)과 일체로 연결되게 된다. 상기 포토 레지스트 패턴(321)은 화학적 방법으로 용이하게 제거할 수 있다.
여기서는, 전주 도금 방식에 의해 마스크 패턴을 형성하는 방법을 기술하였지만, 도 3에서와 마찬가지로 포토리소그래피 방법에 의해 마스크 패턴을 형성할 수도 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 지그 일체형 마스크를 나타낸 도면이다.
도 1 및 도 5를 참조하면, 지그 프레임(110)에 마스크(150)가 일체형으로 연결되어 형성된다. 여기서, 상기 마스크(150)의 테두리부(151)는 상기 지그 프레임(110)의 안착홈(114)에 형성된 도전성 페이스트(130) 상에 형성된다. 이 경우, 상기 도전성 페이스트(130)를 통해 상기 마스크(150)와 상기 지그 프레임(110)이 연결되게 된다.
상기 마스크(150)는 복수 개의 셀(155)을 포함하는데, 상기 셀(155)에는 하나 이상의 개구부(157)가 형성될 수 있다. 상기 개구부(157)는 상기 마스크(150)를 이용하여 소정 패턴을 증착하는데 사용된다. 여기서는 상기 개구부(157)를 스트라이프 형태로 형성하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며 원형, 타원형, 사각형 등 다양한 형태로 형성될 수 있다.
도 6a는 본 발명의 일 실시예에 따른 지그 프레임을 나타낸 사진이고, 도 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 지그 일체형 마스크를 나타낸 사진이다. 본 발명의 실시예에 따르면 도 6b에 도시된 바와 같이, 지그 프레임과 마스크가 일체형으로 연결되어 형성되게 된다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 지그 일체형 마스크를 나타낸 도면이고, 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 지그 일체형 마스크를 나타낸 사진이다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 지그 프레임(110)에 마스크(150)가 일체형으로 연결되어 형성된다. 이때, 상기 마스크(150)의 테두리부(151)는 상기 지그 프레임(110)의 안착홈(114)에 형성된 도전성 페이스트(130) 상에 형성되어 상기 마스크(150)와 상기 지그 프레임(110)이 연결되게 된다.
여기서, 상기 테두리부(151)의 내측에는 소정 폭을 가지는 메쉬부(153)가 형성된다. 이때, 상기 메쉬부(153)는 상기 마스크(150) 내의 복수 개의 셀(155)들과 상기 테두리부(151)를 연결하며 형성된다.
상기 메쉬부(153)는 벌집 모양의 육각형으로 도시하였지만, 이에 한정되는 것은 아니며 삼각형, 사각형, 오각형, 원형, 타원형 등 다양한 형태로 형성할 수 있다. 이와 같이 상기 메쉬부(153)를 형성하는 경우, 상기 마스크(150)의 인장력을 강화시킬 수 있게 되며, 그로 인해 상기 마스크(150)의 처짐 현상을 방지할 수 있게 된다.
여기서는 상기 메쉬부(153)가 상기 테두리부(151)와 복수 개의 셀(155)들을 연결하는 형태로 설명하였지만, 상기 메쉬부(153)가 직접 지그 프레임(110)과 연결되고록 형성할 수도 있다. 즉, 상기 테두리부(151) 없이 상기 메쉬부(153)가 상기 도전성 페이스트(130) 상에 형성되어 상기 마스크(150)를 상기 지그 프레임(110)과 연결하도록 형성할 수도 있다.
이상에서 대표적인 실시예를 통하여 본 발명에 대하여 상세하게 설명하였으나, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 상술한 실시예에 대하여 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 변형이 가능함을 이해할 것이다.
그러므로 본 발명의 권리범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
110 : 지그 프레임 114 : 안착홈
120 : 기판 121 : 포토 레지스트 패턴
125 : 마스크 패턴 130 : 도전성 페이스트
150 : 마스크 151 : 테두리부
153 : 메쉬부 155 : 셀
157 : 개구부

Claims (15)

  1. (A) 중심부에 개구가 형성되고, 상기 개구로 인해 형성된 내주면을 따라 안착홈이 형성되는 지그 프레임을 준비하는 단계;
    (B) 상부에 포토 레지스트 패턴이 형성된 기판을 상기 지그 프레임의 안착홈에 안착시키는 단계;
    (C) 상기 기판과 상기 지그 프레임 사이의 이음새 영역에 도전성 물질을 형성하는 단계;
    (D) 전주 도금 방식을 이용하여 상기 기판 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계; 및
    (E) 상기 기판 상의 포토 레지스트 패턴을 제거한 후, 상기 기판을 제거하는 단계를 포함하는, 지그 일체형 마스크 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 (D) 단계에서,
    상기 마스크 패턴은 상기 포토 레지스트 패턴을 제외한 부분 및 상기 도전성 물질 상에 형성되어 상기 지그 프레임과 연결되는, 지그 일체형 마스크 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 (D) 단계에서,
    상기 마스크 패턴은 인바(INVAR) 합금으로 형성되는, 지그 일체형 마스크 제조방법.
  4. (a) 중심부에 개구가 형성되고, 상기 개구로 인해 형성된 내주면을 따라 안착홈이 형성되는 지그 프레임을 준비하는 단계;
    (b) 상기 지그 프레임의 안착홈에 기판을 안착시키는 단계;
    (c) 상기 기판과 상기 지그 프레임 사이의 영역에 도전성 물질을 형성하는 단계;
    (d) 상기 기판 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계; 및
    (e) 상기 기판을 제거하는 단계를 포함하는, 지그 일체형 마스크 제조방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 (d) 단계는,
    (d-1) 상기 기판 상에 마스크 막을 형성하는 단계; 및
    (d-2) 상기 마스크막의 일부를 제거하여 상기 기판 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계를 포함하는, 지그 일체형 마스크 제조방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 (d-2) 단계에서,
    상기 마스크 패턴은 상기 도전성 물질 상에도 형성되어 상기 지그 프레임과 연결되는, 지그 일체형 마스크 제조방법.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 (d) 단계에서,
    상기 마스크 패턴은 인바(INVAR) 합금으로 형성되는, 지그 일체형 마스크 제조방법.
  8. (가) 중심부에 개구가 형성된 지그 프레임의 내주면에 상기 지그 프레임의 두께 보다 작은 두께의 보조 프레임을 부착하는 단계;
    (나) 상부에 포토 레지스트 패턴이 형성된 기판을 상기 보조 프레임 상에 안착시키는 단계;
    (다) 상기 기판과 상기 지그 프레임 사이의 영역에 도전성 물질을 형성하는 단계;
    (라) 전주 도금 방식을 이용하여 상기 기판 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계; 및
    (마) 상기 보조 프레임 및 상기 기판을 제거한 후, 상기 포토 레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함하는, 지그 일체형 마스크 제조방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 (가) 단계에서,
    상기 지그 프레임은 금속 재질로 이루어지고, 상기 보조 프레임은 자석으로 이루어지는, 지그 일체형 마스크 제조방법.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 (라) 단계에서,
    상기 마스크 패턴은 상기 포토 레지스트 패턴을 제외한 부분 및 상기 도전성 물질 상에 형성되어 상기 지그 프레임과 연결되는, 지그 일체형 마스크 제조방법.
  11. 중심부에 개구가 형성된 지그 프레임;
    상기 지그 프레임 상에서 상기 개구의 테두리를 따라 형성되는 도전성 물질; 및
    상기 개구의 상부에서 상기 도전성 물질과 연결되어 상기 지그 프레임과 일체로 형성되는 마스크를 포함하는, 지그 일체형 마스크.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 마스크는,
    상기 도전성 물질 상에 형성되어 상기 지그 프레임과 연결되는 테두리부; 및
    상기 테두리부의 내측에 형성되고, 소정 구획으로 나뉘어 형성되는 복수 개의 셀을 포함하는, 지그 일체형 마스크.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 마스크는,
    상기 테두리부와 상기 복수 개의 셀을 연결하며 형성되는 메쉬부를 더 포함하는, 지그 일체형 마스크.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 마스크는,
    상기 도전성 물질 상에 형성되어 상기 지그 프레임과 연결되는 메쉬부를 포함하는, 지그 일체형 마스크.
  15. 제13항 또는 제14항에 있어서,
    상기 메쉬부는,
    삼각형, 사각형, 오각형, 육각형, 원형, 타원형 중 어느 하나로 이루어지는, 지그 일체형 마스크.

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