KR20030002987A - 치환금 도금액 - Google Patents

치환금 도금액 Download PDF

Info

Publication number
KR20030002987A
KR20030002987A KR1020020024989A KR20020024989A KR20030002987A KR 20030002987 A KR20030002987 A KR 20030002987A KR 1020020024989 A KR1020020024989 A KR 1020020024989A KR 20020024989 A KR20020024989 A KR 20020024989A KR 20030002987 A KR20030002987 A KR 20030002987A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gold
plating
substitution
plating solution
nickel
Prior art date
Application number
KR1020020024989A
Other languages
English (en)
Inventor
하야시카츠노리
히로세요시마사
Original Assignee
니혼 엘렉트로플레이팅 엔지니어스 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 니혼 엘렉트로플레이팅 엔지니어스 가부시키가이샤 filed Critical 니혼 엘렉트로플레이팅 엔지니어스 가부시키가이샤
Publication of KR20030002987A publication Critical patent/KR20030002987A/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/42Coating with noble metals
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing the conductive pattern
    • H05K3/244Finish plating of conductors, especially of copper conductors, e.g. for pads or lands

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

본 발명은, 기판이 무전해 니켈-붕소 도금이나 전해 니켈 도금으로 되어 있더라도, 밀착성이나 납 용접성이 양호한 치환금 도금처리가 가능한, 비시안계의 치환금 도금액을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 치환금 도금액은, 아황산 금 나트륨 또는 아황산 금 나트륨의 에틸렌 디아민 착체를 금 농도로 0.01 ~ 1.0 g/L, 아황산염 10 ~ 100 g/L, 유기 카르복시산 또는 그 염을 5 ~ 50 g/L, 에틸렌 디아민 4 아세트산 또는 그 염을 5 ~ 50 g/L 를 함유하고, 약산성 영역인 pH 4.5 ~ 6.0인 치환금 도금액이다.

Description

치환금 도금액{DISPLACEMENT GOLD PLATING SOLUTION}
본 발명은 비시안(non-cyanide) 치환금 도금액에 관련된 것으로, 특히 전해 니켈도금 기판 위에 치환에 의하여 금 도금처리를 행하는 경우에 적합한 비시안 계열의 치환금 도금액에 관련한 것이다.
최근, 반도체 소자의 고집적화가 급속히 진행되어, 이를 탑재하는 프린트 배선판 등의 기판도 또한 높은 배선밀도를 갖게 되었다. 상기 배선기판에는, 납 용접성(solderability) 및 배선 결합성능(wire bonding ability) 등을 개선시키기위해, 배선회로의 부품 실장부분 이나 단자 부분 등에 금 도금처리가 행해진다. 이 경우 , 일반적으로, 금 도금처리의 기판으로서 니켈계의 도금처리가 행해지고 있다.
상기 금 도금처리의 기판으로 되는 니켈계의 도금에는, 전해 니켈 도금, 또는 무전해 니켈-인 도금이나 니켈-붕소 도금과 같은 것이 알려져 있다. 그리고, 이들 기판에 대한 금 도금처리는, 미소한 틈새나 복잡한 형상 등에 대응하여 균일한 두께의 도금을 용이하게 행하는 관점으로부터, 전해 도금처리보다는 무전해 도금처리가 채용되는 경우가 많다.
상기 무전해 금 도금액은, 대표적으로는 시안화 금 착체(complex)를 사용한것이 알려져 있으며, 최근 환경문제 등의 영향으로부터, 비시안계의 금 도금액도 제안되고 있다.
상기 비시안계의 금 도금액에서는, 착화제로서, 아황산염(sulfite), 메르캅토 숙신산(mercaptosuccinic acid), 에틸렌 디아민 등을 사용하는 경우가 있는데, 대별하면, 기판 금속과의 치환에 의한 치환금 도금액과, 환원제를 사용하여 금 피막을 석출하는, 소위 무전해 금 도금액으로 분류된다.
그런데, 상기 종래의 치환금 도금액에서는, 무전해에 의한 니켈 - 인 도금의 기판에 대하여 금의 치환 도금처리가 행해질 수 있기는 하지만, 무전해에 의한 니켈 - 붕소도금의 기판에 대하여는, 금 도금처리가 양호하게 행해지지 않는 경향이 있었다. 즉, 금 도금의 밀착성이나 납 용접성에 대하여 실용적인 특성을 만족하는 치환 도금처리를 할 수 없었다.
그리고, 기판이 전해 니켈도금인 경우에는, 종래 제안되어 온 시안계나 비시안계의 치환금 도금액에 있어서, 니켈 산화물의 영향때문에, 니켈과 금과의 치환반응을 일으키는 것이 매우 곤란하다고 되어 있다. 또한, 전해 니켈도금 기판 위에 치환 금 도금처리가 행해질 수 있다 하더라도, 그 밀착성은 매우 나쁘고, 납 용접성도 실용적인 수준으로 실현하는 것이 가능하지 않다.
본 발명은, 상기와 같은 사정을 기초로 하여 이루어진 것으로, 기판이 무전해 니켈 - 붕소도금이나 니켈도금이더라도, 밀착성이나 납 용접성이 양호한 치환금 도금처리가 가능한, 비시안계의 치환금 도금액을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명자는, 아황산계의 치환금 도금액에 관하여 예의 연구한 결과, 본 발명의 치환금 도금액을 생각해 내는데 이르렀다.
본 발명의 치환금 도금액은, 아황산 금 나트륨 또는 아황산 금 나트륨의 에틸렌 디아민 착체를 금 농도로 0.01 ~ 1.0 g/L, 아황산염을 10 ~ 100g/L , 유기 카르복시산(carboxylic acid) 또는 그 염을 5 ~ 50 g/L, 에틸렌디아민 4 아세트산 또는 그 염을 5 ~ 50 g/L 을 함유하고, 약산성 영역인 pH 4.5 ~ 6.0인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 치환금 도금액은, 금 농도가 0.01 ~ 1.0 g/L 로 매우 낮고, pH 4.5 ~ 6.0인 약산성 영역에 있는 것을 큰 특징으로 한다. 본 발명의 치환금 도금액에 따르면, 무전해 니켈 - 인도금의 기판에 뿐만 아니라, 무전해 니켈 - 붕소도금의 기판에 있어서도, 밀착성이 우수하고, 납 용접성도 양호한 치환금 도금처리를 행할수 있다. 그리고, 본 발명의 치환금 도금액은, 기판이 전해 니켈 도금으로 된 경우에도, 양호한 밀착성을 가지며, 실용적인 납 용접성을 만족시키는 치환금 도금처리가 가능하게 된다.
본 발명의 치환금 도금액은, 도금액 중의 금 화합물이 아황산 금 나트륨 또는 아황산 금 나트륨의 에틸렌 디아민 착체의 형태로 함유되고, 이 때의 금 농도는 0.01 ~ 1.0 g/L 이다. 0.01 g/L 미만이면, 치환에 의해 석출되는 금이 매우 적게 되며, 도금처리 시간을 길게 하지 않으면 안되기 때문에 실용적이지 않게 된다. 또한, 1.0 g/L를 초과하면, 밀착이 불량하게 되는 경향이 있기 때문이다.
그리고, 본 발명의 치환금 도금액에서는, 착화제로서, 아황산염, 유기 카르복시산 또는 그 염, 에틸렌 디아민 4아세트산(이하, EDTA로 칭함) 또는 그 염의 3종류가 함유되어 있으며, 본 발명에 있어서는, 아황산염을 기본이 되는 제 1 착화제라 칭하고, 유기 카르복시산 또는 그 염과 EDTA 또는 그 염을 제 2 착화제로 칭한다.
제 1 착화제인 아황산염은, 그 SO3 2-가 니켈의 과잉 산화를 억제하고, 니켈과 금과의 치환을 안정적으로 진행시키는 역할을 하는 것이다. 상기 아황산염은 10 ~ 100 g/L 의 농도범위에 있는 것이 바람직한데, 10 g/L 미만이면, 산화 억제의 효과가 작게 되고, 100 g/L 를 초과하면, 니켈의 융출이 과도하게 억제되어, 역으로 밀착이 불량한 치환금 도금으로 되기 때문이다.
제 2 착화제인 유기 카르복시산 또는 그 염은, 아황산에 의한 pH 상승을 억제하고 약산성 영역으로 유지하는 역할을 하는 것이다. 상기 유기 카르복시산 또는 그 염으로는, 구연산(citric acid), 능금산(malic acid), 유산(lactic acid) 등을 들 수 있다. 유기 카르복시산 또는 그 염은, 5 ~ 50 g/L 의 농도범위인 것이 바람직하다. 5 g/L 미만이면, 아황산 금염의 안정성이 나쁘게 되고, 50 g/L 를 초과하면, 액 비중이 높아져서 석출 속도가 저하되기 때문이다.
그리고, 또 다른 제 2 착화제인 EDTA 또는 그 염은, 아황산 금 나트륨 또는 아황산 금 나트륨의 에틸렌 디아민 착체에 있어서 금 착체를 안정화시키는 역할을 하는 것이다. EDTA의 염으로는, EDTA - 2Na(나트륨), EDTA - 2K(칼륨) 등을 들 수있다. 그리고, 상기 EDTA 또는 그 염은, 5 ~ 50 g/L 의 농도범위인 것이 바람직하다. 5 g/L 미만이면, 아황산 금염의 안정성이 나빠지고, 50 g/L를 초과하면, 밀착이 불량하게 되는 경향이 있기 때문이다.
더욱이, 상기와 같은 본 발명의 치환금 도금액은, pH가 4.5 ~ 6.0인 약산성 영역인 것이 바람직하다. pH 4.5 미만으로 되면, 아황산 금염의 안정성이 나쁘게 되고, pH 6.0을 초과하면, 석출속도가 저하하는 경향으로 되기 때문이다. 또한, 액온(solution temperature)은, 45 ~ 65℃ 의 범위인 것이 바람직하다. 액 온이 45℃ 미만이면, 치환반응의 진행이 저하되고, 65℃를 초과하면, 도금액 자체가 자기분해를 하는 경향으로 되어, 양호한 치환금 도금처리를 행할 수 없기 때문이다.
본 발명의 치환금 도금액은, 기판이 무전해의 니켈 - 인 도금이나 니켈 - 붕소 도금인 경우에 있어서, 밀착성이 향상되고, 납 용접성도 양호한 치환금 도금처리가 가능하다. 그리고, 종래에는 치환금 도금처리 자체가 곤란하였던 전해 니켈 도금의 기판인 경우에 대하여도 사용될 수 있는 것이다. 즉, 피도금 대상물의 표면이 전해 니켈 도금처리되어 있는 경우에 있어서, 높은 밀착성을 가지고, 납 용접성도 양호한 치환금 도금처리를 행할 수 있는 것이다.
(실시형태)
본 발명의 바람직한 실시형태에 관하여, 이하의 실시예 및 비교예를 참조하여 설명한다.
실시예: 본 발명에 관한 치환금 도금액으로서, 표1에 나타낸 각 조성의 도금액을 준비하였다, 또한, 표1중에 나타낸 기호는, 표2에 나타낸 바와 같다.
A B C D pH
실시예1 0.1 10 5 5 6.0
실시예2 0.5 60 25 30 6.0
실시예3 1.0 100 50 60 6.0
A 금농도 (g/L)
B 아황산 나트륨 농도 (g/L)
C 구연산 농도 (g/L)
D EDTA - 2Na 농도 (g/L)
표1에 나타낸 각 실시예의 치환금 도금액은, 다음과 같이 만들어졌다. 우선, 아황산 금 나트륨과 에틸렌 디아민을 혼합하는 것에 의해, 아황산 금 나트륨의 에틸렌 디아민 착체를 준비하고, 그리고나서, 표1에 나타낸 각 농도가 되도록, 아황산 금 나트륨의 에틸렌 디아민 착체, 구연산, EDTA - 2Na를 순수한 물에 투입하여 조정한다.
비교예: 비교로서, 다음의 시안계 치환금 도금액을 만들었다. 시안화 금 칼륨을 금 농도로 2.0 g/L, 구연산 칼륨을 30 g/L, EDTA - 2Na을 30 g/L 함유하는, pH 6.0인 시안계 치환금 도금액이다.
상기 실시예 및 비교예의 치환금 도금액을 사용하여, 아래의 3종류의 도금처리된 기판상에, 금의 치환금 도금처리를 행하였다. 피도금 대상물로서, 동판을 사용하여, 그 표면에 전해 니켈 도금(기판1), 무전해 니켈 - 인 도금(기판2), 무전해 니켈 - 붕소 도금(기판3)을 각각 실시한 것을 준비하였다. 상기 전해 니켈 도금, 무전해 니켈 - 인 도금 및 무전해 니켈 - 붕소 도금은, 공지의 도금액 및 도금방법에 따라서, 금 도금처리의 기판 피복(被覆)으로서, 두께 5 ㎛로 형성된 것이다.
치환금 도금처리 조건은, 액온 55℃ 로, 상술한 3종류의 기판을 가지는 피 도금 대상물을, 약 15분간, 침지(沈漬)시키는 것에 의해, 금 도금두께가 0.1㎛ 로 되도록 피복하였다. 그리고나서, 상기 금 도금피막에 대하여, 밀착성 및 납 용접성의 평가를 행하였다.
밀착성 평가는, 테이프 시험법에 의하여 행하여, 금 도금처리된 표면에, 셀로판 점착 테이프를 점착시키고, 상기 테이프를 박리하였을 때, 금 도금의 박리 유무가 있는지를 눈으로 확인하였다. 또한, 납 용접성 평가는, 납 유성(濡性, wettability)과 납 접합성(bondability)의 2방법으로 평가하였다. 납 유성은, 230℃의 납 욕조(bath)에 금 도금처리된 피도금 대상물을 침지시키고, 끌어 올렸을 때의 금 도금표면에의 납의 부착상태를 관찰하는 것에 의하여 평가하였다. 또한, 납 접합성은 쉬어 테스터(shear tester)를 사용하여, 금 도금의 박리 모드(mode)에 의하여 평가하였다. 표3에는, 밀착성, 납 용접성의 평가결과를 나타낸다.
밀착성 납 용접성
납 유성 박리 모드
기판 1 2 3 1 2 3 1 2 3
실시예1 납면 납면 납면
실시예2 납면 납면 납면
실시예3 Ni면 납면 Ni면
비교예 × × Ni면 납면 Ni면
밀착성 : ◎ 매우 긴밀한 밀착. O 금도금의 박리 없음.
△ 약간 박리된 부분 있음. × 전면적으로 박리.
납 유성 : ◎ 매우 양호. O 양호.
△ 다소 납을 퉁겨냄. × 전혀 묻지 않음(Not wetted at all)
박리 모드 : 납면 = 쉬어 테스터에 의하여 긁힌 부분에 납이 확실히 잔존하 고 있는 상태.
Ni면 = 쉬어 테스터에 의하여 긁힌 부분에, 기판의 니켈 도금 이 노출된 상태.
표3에 나타낸 바와 같이, 비교예의 치환 도금액에서는, 기판이 무전해 니켈 - 인인 경우에는 특별히 문제가 안되지만, 무전해 니켈 - 붕소 도금인 경우에는, 밀착성도, 납 용접성도 다소 나쁘게 되는 경향이 있으며, 전해 니켈도금에서는, 밀착성이 매우 나쁘고, 납 용접성도 실용적이지 않은 것이 확인되었다. 한편, 실시예의 치환금 도금액에서는, 기판이 무전해 니켈 - 인 도금이거나, 무전해 니켈 - 붕소 도금이라도, 양호한 치환금 도금처리가 되어 있고, 전해 니켈도금에 있어서도, 밀착성이 매우 양호하고, 납 용접성도 충분히 실용적인 수준인 것이 판명되었다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 치환금 도금액에 의하면, 기판이 무전해의 니켈 - 인 도금이나 니켈 - 붕소 도금의 경우뿐만 아니라, 치환금 도금처리가 곤란하다고 하던 전해 니켈도금의 기판에 있어서도, 밀착성, 납 용접성이 우수한 금 도금을 치환 도금처리할 수 있다.

Claims (2)

  1. 아황산 금 나트륨 또는 아황산 금 나트륨의 에틸렌 디아민 착체를 금 농도로 0.01 ~ 1.0 g/L, 아황산염을 10 ~ 100 g/L, 유기 카르복시산 또는 그 염을 5 ~ 50 g/L, 에틸렌 디아민 4 아세트산 또는 그 염을 5 ~ 50 g/L를 함유하고, 약산성 영역인 pH 4.5 ~ 6.0인 것을 특징으로 하는 치환금 도금액.
  2. 제1항에 있어서,
    전해 니켈 도금처리된 표면에 대한 치환금 도금처리용인 것을 특징으로 하는 치환금 도금액.
KR1020020024989A 2001-06-29 2002-05-07 치환금 도금액 KR20030002987A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001197737A JP3482402B2 (ja) 2001-06-29 2001-06-29 置換金メッキ液
JPJP-P-2001-00197737 2001-06-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20030002987A true KR20030002987A (ko) 2003-01-09

Family

ID=19035287

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020020024989A KR20030002987A (ko) 2001-06-29 2002-05-07 치환금 도금액

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6767392B2 (ko)
EP (1) EP1285979A1 (ko)
JP (1) JP3482402B2 (ko)
KR (1) KR20030002987A (ko)
TW (1) TW546408B (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100832630B1 (ko) * 2004-11-15 2008-05-27 닛코킨조쿠 가부시키가이샤 무전해금도금액
KR100894127B1 (ko) * 2007-07-20 2009-04-20 한국생산기술연구원 무전해 니켈 도금액 및 비시안계 치환형 무전해 금 도금액

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3892730B2 (ja) * 2002-01-30 2007-03-14 関東化学株式会社 無電解金めっき液
JP4299300B2 (ja) 2003-06-05 2009-07-22 日鉱金属株式会社 無電解金めっき液
WO2006006367A1 (ja) 2004-07-09 2006-01-19 Nippon Mining & Mrtals Co., Ltd. 無電解金めっき液
JP2006111960A (ja) * 2004-09-17 2006-04-27 Shinko Electric Ind Co Ltd 非シアン無電解金めっき液及び無電解金めっき方法
WO2006090775A1 (ja) * 2005-02-23 2006-08-31 Daikin Industries, Ltd. コーティング膜、コーティング膜で被覆された物品及び耐食性コーティング方法
US20070275498A1 (en) * 2006-05-26 2007-11-29 Paul Beecher Enhancing performance in ink-jet printed organic semiconductors
US20100002324A1 (en) * 2006-08-31 2010-01-07 Cambridge Enterprise Limited Optical Nanomaterial Compositions
US8323789B2 (en) 2006-08-31 2012-12-04 Cambridge Enterprise Limited Nanomaterial polymer compositions and uses thereof
JP4881129B2 (ja) * 2006-11-07 2012-02-22 メタローテクノロジーズジャパン株式会社 金バンプ又は金配線形成用非シアン系電解金めっき浴
US9052289B2 (en) * 2010-12-13 2015-06-09 Schlumberger Technology Corporation Hydrogen sulfide (H2S) detection using functionalized nanoparticles
KR101444687B1 (ko) * 2014-08-06 2014-09-26 (주)엠케이켐앤텍 무전해 금도금액

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH555894A (fr) * 1972-08-10 1974-11-15 Oxy Metal Industries Corp Utilisation de derives organophosphores dans les bains sulfitiques pour l'electrodeposition de l'or et des alliages d'or.
US4012294A (en) * 1972-08-10 1977-03-15 Oxy Metal Industries Corporation Gold sulfite baths containing organophosphorous compounds
DD268484A1 (de) * 1983-12-22 1989-05-31 Mittweida Ing Hochschule Cyanidfreies bad zur stromlosen abscheidung von hartgoldschichten
JPH05295558A (ja) 1992-04-17 1993-11-09 Okuno Chem Ind Co Ltd 高速置換型無電解金めっき液
US5277790A (en) * 1992-07-10 1994-01-11 Technic Incorporated Non-cyanide electroplating solution for gold or alloys thereof
DE630991T1 (de) * 1992-11-25 1995-07-13 Kanto Kagaku Stromloses goldbeschichtungsbad.
JP2927142B2 (ja) * 1993-03-26 1999-07-28 上村工業株式会社 無電解金めっき浴及び無電解金めっき方法
DE69406701T2 (de) * 1993-03-26 1998-04-02 Uyemura & Co C Chemisches Vergoldungsbad
JP3227505B2 (ja) 1993-07-16 2001-11-12 奥野製薬工業株式会社 置換型無電解金めっき液
US5910340A (en) * 1995-10-23 1999-06-08 C. Uyemura & Co., Ltd. Electroless nickel plating solution and method
JP3566498B2 (ja) 1997-05-14 2004-09-15 株式会社大和化成研究所 置換金めっき浴
WO1999018255A1 (en) * 1997-10-03 1999-04-15 Massachusetts Institute Of Technology Selective substrate metallization
JP3816241B2 (ja) * 1998-07-14 2006-08-30 株式会社大和化成研究所 金属を還元析出させるための水溶液
US6383269B1 (en) * 1999-01-27 2002-05-07 Shipley Company, L.L.C. Electroless gold plating solution and process
JP3455709B2 (ja) * 1999-04-06 2003-10-14 株式会社大和化成研究所 めっき方法とそれに用いるめっき液前駆体
JP3466521B2 (ja) * 1999-10-04 2003-11-10 新光電気工業株式会社 置換型無電解金めっき液及び無電解金めっき方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100832630B1 (ko) * 2004-11-15 2008-05-27 닛코킨조쿠 가부시키가이샤 무전해금도금액
KR100894127B1 (ko) * 2007-07-20 2009-04-20 한국생산기술연구원 무전해 니켈 도금액 및 비시안계 치환형 무전해 금 도금액

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003013249A (ja) 2003-01-15
EP1285979A1 (en) 2003-02-26
JP3482402B2 (ja) 2003-12-22
TW546408B (en) 2003-08-11
US20030047108A1 (en) 2003-03-13
US6767392B2 (en) 2004-07-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8124174B2 (en) Electroless gold plating method and electronic parts
EP0795043B1 (en) Silver plating
US6736886B2 (en) Electroless gold plating bath and method
Christie et al. Gold electrodeposition within the electronics industry
KR100303930B1 (ko) 주석합금도금조성물
KR102096117B1 (ko) 플렉시블 기판 상의 무전해 니켈 인 합금 성막 방법
KR20100073378A (ko) 무전해 니켈 도금액 조성물, 연성인쇄회로기판 및 이의 제조 방법
US9416453B2 (en) Electroless gold plating liquid
KR20110073512A (ko) 접합용 웨이퍼 표면을 위한 응력-감소 니켈-인/팔라듐 스택
KR20030002987A (ko) 치환금 도금액
KR20080066570A (ko) 무전해 금 도금욕의 도금 능력 유지관리 방법
KR100933243B1 (ko) 무전해 금 도금 공정 및 금층 형성 공정
US5750016A (en) Process for plating palladium or palladium alloy onto iron-nickel alloy substrate
JPH10287994A (ja) ボンディング部のメッキ構造
TWI408252B (zh) 非氰化物無電黃金電鍍液及無電黃金電鍍方法
EP4141148A1 (en) Electrolytic nickel plating surface modifier and electrolytic nickel plating solution comprising same
JP2007177268A (ja) 無電解ニッケルめっき用貴金属表面活性化液
KR101719180B1 (ko) 무전해 팔라듐 도금 또는 무전해 팔라듐 합금 도금의 전처리용 활성화액
CN109457239B (zh) 还原型非氰镀金液、镀金方法以及镀金产品
JP4831710B1 (ja) 無電解金めっき液及び無電解金めっき方法
JP5305079B2 (ja) 還元型無電解金めっき用前処理液及び無電解金めっき方法
EP3693495A1 (en) Electroless palladium plating solution, and electroless palladium plated coating
JP5216372B2 (ja) 無電解錫めっき浴及び無電解錫めっき方法
KR20040051470A (ko) 치환 무전해 금 도금욕
CN102753732A (zh) 氰系电解镀金浴及使用其的镀敷方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application