KR20020080387A - 촉매, 이의 제조방법, 및 촉매를 이용하는 반응 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 (1) 다공질 지지층, (2) 버퍼층, (3) 계면층, 및 임의로 (4) 촉매층을 갖는 촉매를 포함한다. 본 발명은 또한 반응물이 촉매를 함유하는 반응실을 통과함으로써 생성물로 전환되는 프로세스를 포함한다.
Description
본 출원은 참고로 통합된 미국 특허출원 제09/123,781호의 연속 출원이다.
수증기 개질, 수성 가스 전화반응, 메탄올 합성 및 촉매 연소 등과 같은 것을 포함하는 수소 및 탄화수소 전환반응이 공지되어 있다. 이들 반응은 통상 150 내지 1000℃의 온도에서 행해진다. 현재, 이들 반응은 고 표면적 세라믹 펠릿 상에 배치된 활성 촉매 금속 또는 금속 산화물로 구성되는 촉매 펠릿을 사용하여 산업상 행해진다.
[1]에 기재된 바와 같이, (1) 다공질 지지층, (2) 계면층 및 (3) 촉매 금속으로 된 3개의 층을 갖는 폼 또는 모놀리스(monolith) 촉매가 공지되어 있다. 이들 촉매를 제조하는데 있어서, 계면층은 용액 함침 기술을 포함하여 각종 방법에 의해 부착되어 왔다. 촉매층은 용액 함침 기술에 의해 부착될 수 있다. 계면층은 다공질 지지층보다 표면적이 큰데 반해, 다공질 지지층은 계면층보다 기계적 강도가 크다.
다공질 지지층은 금속 또는 세라믹 폼일 수 있다. 금속 폼은 고도의 열전도성을 나타내며, 기계가공하기가 용이하다. 스펀지상 기계적 특성으로, 기계적 접촉을 통해 반응실에서 편리하게 시일할 수 있다. 금속 폼과 하우징 반응실 사이의 밀접하게 매치되는 열팽창으로 다공질 지지층의 크래킹을 최소화하고 고 반응온도에서 다공질 지지층 주위를 통과하는 가스를 최소화한다. 페스트리아코브 (Pestryakov) 등은 n-부탄의 산화를 위해 중간 감마 알루미나 층을 구비하거나[1] 구비하지 않고서[2] 금속 폼 담지형 전이금속 산화물 촉매를 제조했다. 코사크(Kosak)[3]는 표면을 HCl 용액으로 프리에칭한 각종 금속 폼에 귀금속을 분산시키기 위해 여러 해결책을 조사하여, 무전해 도금이 폼 지지층에 대하여 가장 우수한 귀금속의 부착력을 부여하는 것으로 보고하고 있다. 포디아케바 (Podyacheva) 등[4]은 폼 금속 담지형 LaCoO3페로브스카이트 촉매를 메탄 산화용 다공질 알루미나 중간체를 사용하여 합성했다. 금속 폼 담지형 촉매와 함께 모든 잠재적인 이점에도 불구하고, 금속 폼은 저 내식성을 가지며, 비다공질의 반반한 웨브 면은 세라믹 재료에 대하여 양호하지 못한 부착력을 부여하고, 이들 재료는 열팽창에서의 미스매치(mismatch)로 인해 열사이클링후에 계면층이 부서지기 쉽다.
내식성을 증가시키도록, Al, Cr 및 Si와 합금하는 확산 등의 방법은 페라이트강을 제조하는데 사용되어 왔으며, 페라이트강은 전형적으로 고온 퍼니스 엘리먼트(furnace element)(약 1200℃)를 제작하는데 사용된다[5]. 알루미늄 함유 페라이트강이 적당히 열처리되면, 알루미늄은 합금 표면으로 이동하여 산소 확산에 저항성을 나타내는 강하게 부착하는 산화물막을 형성한다. 이러한 페라이트강박은 >10ppi(pores per inch) 개방 셀을 갖는 금속 모놀리스를 제조하는데 사용되어 왔다[6]. 그러나, 촉매 사용에 적합한 기공(<20ppi, 80ppi 바람직함)을 갖는 유사한 합금 폼에 관한 조사는 무익하다. 이는 미세한 Al-페라이트강 폼의 미숙한 제조방법 및 폼의 제조에 있어서의 합금 전구물질의 부족에 기인한다.
그러므로, 내식성 또는 내산화성을 나타내고 계면층의 내크래킹성을 나타내는 폼의 다공질 지지층용 담지형 촉매의 기술이 필요하다.
참조문헌:
본 발명은 다공질 지지층, 버퍼층 및 계면층을 갖는 촉매, 촉매의 제조방법, 및 촉매를 이용하는 촉매법에 관한 것이다.
도 1은 촉매의 확대 단면도,
도 2a는 스텐레스강 폼(상부선) 및 이산화티탄으로 코팅된 스텐레스강 폼(하부선)에 관하여, 580℃(점선)에서의 시간에 대한 중량 증가(산화에 의한)를 나타내는 그래프,
도 2b는 니켈 폼(상부선) 및 이산화티탄으로 코팅된 니켈 폼(하부선)에 관하여, 500℃에서의 시간에 대한 중량 증가(산화에 의한)를 나타내는 그래프, 및
도 3은 이산화티탄 버퍼층 및 알루미나 워시 코트(wash coat)를 갖는 스텐레스강 폼(좌측)과, 알루미나 워시 코트를 갖는 스텐레스강 폼(버퍼층 없음, 우측)에 대한 열사이클링의 효과를 비교하는 한 쌍의 현미경 사진.
본 발명은 3개 이상의 층, (1) 다공질 지지층, (2) 버퍼층, (3) 계면층, 및 임의로 촉매 활성층을 갖는 촉매를 포함한다. 몇몇 실시형태에 있어서는, 다공질 지지층과 계면층 사이에 배치되는 버퍼층은 조성이 상이한 2개 이상의 서브층을 포함한다. 버퍼층은 전형적으로 다공질 지지층에서 계면층으로의 열팽창계수의 전이를 행함으로써, 촉매가 고 작용온도로 가열되고 이 온도로부터 냉각되기 때문에 열팽창응력을 감소시킨다. 버퍼층은 또한 다공질 지지층의 부식 및 산화를 줄이고, 다공성 지지층의 표면에 의해 촉진되는 부반응을 최소화한다.
본 발명은 또한 다공질 지지층, 다공성 지지층과 계면층 사이에 배치된 버퍼층 및 계면층을 갖는 촉매에 있어서, 촉매는 공기 중에서 2500분간 580℃에서 가열되면, 촉매가 5% 미만으로 중량이 증가되도록 내산화성을 지니는 촉매를 제공한다. 또는, 촉매는 또한 열사이클링시에 내플레이크성(flaking resistance)의 특징이 있다.
본 발명은 또한 하나 이상의 반응물이 하나 이상의 생성물로 전환하는 방법에 있어서, 반응물이 촉매를 포함하는 반응실을 통과하는 것을 특징으로 하는 방법을 제공한다.
다층 촉매(3개 이상의 층)을 제조하기 위한 본 발명의 방법은 (1) 다공질 지지층을 선택하는 단계, (2) 다공성 지지층에 버퍼층을 부착시키는 단계, (3) 그 위에 계면층을 부착시키는 단계, 및 임의로 계면층 상 또는 계면층과 일체 성형되게 촉매활성층을 부착시키는 단계를 갖는 것으로, 버퍼층은 다공질 지지층과 계면층 사이에 배치된다. 버퍼층이 증착되는 경우에 양호한 결과가 얻어질 수 있다. 촉매활성층은 계면층의 부착후나 부착시에 부착될 수 있다.
버퍼층 및 계면층을 갖는 다공질 지지층을 포함하는 본 발명의 이점으로는 온도 변화에 대한 열팽창계수의 양호한 매치성 및 양호한 안정성, 코킹 등의 부반응의 감소, 원하는 금속-산화물 상호작용, 고 표면적 계면층에 대한 강한 결합력, 및 밑에 있는 다공질 지지층의 향상된 보호를 들 수 있다.
본 발명의 주제는 특히 본 명세서의 결론부에 나타내어 명료하게 제시되어 있다. 그러나, 본 발명의 추가의 이점 및 목적과 함께, 구성 및 조작방법은 동일한참고부호가 동일한 기소를 나타내는 첨부도면과 관련하여 취해진 하기 상세한 설명을 참조하여 가장 잘 알 수 있다.
본 발명의 촉매는 도 1에 나타낸 바와 같이, 다공질 지지층(100), 버퍼층(102), 계면층(104), 및 임의로 촉매층을 갖는다. 층은 스폿 또는 도트 형태, 또는 갭 또는 구멍을 갖는 층 형태로서 연속적이거나 비연속적일 수 있다.
다공질 지지층(100)은 다공질 세라믹 또는 금속 폼일 수 있다. 본 발명에 사용하기에 적합한 다른 다공질 지지층으로는 탄화물, 질소화물, 및 복합재료를 들 수 있다. 층을 부착하기 전에, 다공질 지지층은 수은 다공도계로 측정된 것으로서 5% 이상의 다공률과, 광학 주사형 전자 현미경으로 측정된 것으로서 1㎛∼1000㎛의평균 기공 크기(기공 직경/기공수의 합)를 갖는다. 바람직하게는, 다공질 지지층은 다공률이 약 30%∼99%, 더욱 바람직하게는 70%∼98%이다. 다공질 지지층의 바람직한 형태는 폼, 펠트, 와드(wad) 및 이들의 조합이다. 폼은 구조체를 통해 기공을 형성하는 연속벽을 갖는 구조체이다. 펠트는 이들 사이에 간극을 갖는 섬유 구조체이다. 와드는 스틸 울과 같은 얽힌 스트랜드의 구조체이다. 덜 바람직하게는, 다공질 지지층은 또한 이들은 상술한 다공률 및 기공 크기 특성을 갖는다면, 펠릿 및 벌집 형상 등의 다른 다공질 매질을 포함할 수 있다. 금속 폼의 개방 셀은 바람직하게는 약 20ppi∼약 3000ppi, 더욱 바람직하게는 약 40ppi∼약 120ppi의 범위이다. PPI는 가장 큰 수의 ppi로서 정의된다(등방성 물질에서는 측정 방향이 관계없으나, 이방성 재료에서는 측정은 기공수를 최대화하는 방향으로 행해진다.). 본 발명에 있어서, ppi는 주사형 전자 현미경법으로 측정된다. 다공질 지지층이 저 압력강하, 통상적인 세라믹 펠릿 지지층에 대하여 향상된 열전도율, 화학 반응기에서의 로딩/언로딩(loading/unloading)의 용이성을 포함하여 다수의 본 발명의 이점을 제공하는 것을 알아냈다.
버퍼층(102)은 지지층 및 계면층과는 상이한 조성 및/또는 밀도를 갖고, 바람직하게는 다공질 지지층 및 계면층의 열팽창계수의 중간값인 열팽창계수를 갖는다. 바람직하게는, 버퍼층은 금속 산화물 또는 금속 탄화물이다. 본 발명자들은 수회의 열사이클후에도 양호한 부착력 및 내플레이크성을 나타내기 때문에 증착층이 우수하다는 것을 알아냈다. 보다 바람직하게는, 버퍼층은 Al2O3, TiO2, SiO2및 ZrO2또는 이들의 혼합물이다. 특히, Al2O3는 α- Al2O3, γ- Al2O3및 이들의 혼합물이다. α- Al2O3는 내산소확산성이 우수하므로 더욱 바람직하다. 따라서, 고온 산화에 대한 저항성이 다공질 지지층(100)에 코팅된 알루미나로 향상될 수 것으로 추정된다. 버퍼층은 조성이 상이한 2개 이상의 서브층으로 형성될 수도 있다. 다공질 지지층(100)이 금속, 예를 들면 스텐레스강 폼이면, 바람직한 실시형태는 조성이 상이한 2개의 서브층(도시되지 않음)으로 형성된 버퍼층(102)을 갖는다. 제 1 서브층(다공질 지지층(100)과 접촉하고 있음)은 다공질 금속 지지층(100)에 대하여 우수한 부착력을 나타내기 때문에 TiO2인 것이 바람직하다. 제 2 서브층은 α- Al2O3인 것이 바람직하며, 이는 TiO2에 놓여진다. 바람직한 실시형태에 있어서, α- Al2O3서브층은 밑에 있는 금속 표면의 우수한 보호력을 부여하는 조밀층이다. 그 다음에, 덜 조밀한 고 표면적의 알루미나 계면층은 촉매 활성층의 지지층으로서 부착될 수 있다.
전형적으로, 다공질 지지층(100)은 계면층(104)과는 다른 열팽창계수를 갖고 있다. 따라서, 고온 촉매반응(T > 150℃)에 관해서는, 버퍼층(102)은 2개의 열팽창계수 간의 전이에 필요하다. 버퍼층의 열팽창계수는 다공질 지지층과 계면층의 팽창계수와 호환가능한 팽창계수를 얻도록 조성을 콘트롤함으로써 맞게 할 수 있다. 또 하나의 버퍼층(102)의 이점은 벗겨진 금속 폼 표면으로 인한 코킹 또는 크래킹 등의 부반응에 대하여 저항성을 부여한다는 것이다. 촉매 연소 등의 표면적이 큰 지지층을 필요로 하지 않는 화학반응에 관해서는, 버퍼층(102)은 강한 금속 대 금속-산화물 상호작용으로 인해 촉매 금속을 안정화시킨다. 큰 표면적의 지지층을 필요로 하는 화학반응에 있어서는, 버퍼층(102)은 고 표면적의 계면층(104)에 대하여 더욱 더 강한 결합력을 부여한다. 바람직하게는, 버퍼층은 개구 및 핀홀이 없으므로, 이는 밑에 있는 지지층의 우수한 보호상태를 제공한다. 더욱 바람직하게는, 버퍼층은 비다공질을 나타낸다. 버퍼층은 두께가 다공질 지지층의 평균 기공 크기의 절반 미만이다. 바람직하게는, 버퍼층은 두께가 약 0.05∼약 10㎛, 더욱 바람직하게는 5㎛ 미만이다. 버퍼층은 승온에서 열안정성 및 화학적 안정성을 나타내야 한다.
계면층(104)은 질소화물, 탄화물, 황화물, 할로겐화물, 금속 산화물, 탄소 및 이들의 혼합물로 구성될 수 있다. 계면층은 고 표면적을 제공하고/하거나 담지형 촉매에 바람직한 촉매-지지층 상호작용을 부여한다. 계면층은 통상 촉매 지지층으로서 사용되는 재료로 구성될 수 있다. 바람직하게는, 계면층은 금속 산화물이다. 금속 산화물의 예로는 γ- Al2O3, SiO2, ZrO2, TiO2, 산화텅스텐, 산화마그네슘, 산화바나듐, 산화크롬, 산화망간, 산화철, 산화니켈, 산화코발트, 산화구리, 산화아연, 산화몰리브덴, 산화주석, 산화칼슘, 산화알루미늄, 란탄 계열 산화물(들), 제올라이트(들) 및 이들의 혼합물을 들 수 있으나, 이것들에 한정되어 있지는 않다. 계면층(104)은 그 위에 부착되는 촉매 활성재가 추가되지 않고도 촉매 활성층으로서 작용할 수 있다. 그러나, 통상, 계면층(104)은 촉매 활성층(106)와 결합하여 사용된다. 계면층은 또한 조성이 다른 2개 이상의 서브층으로 형성될 수 있다.계면층은 두께가 다공질 지지층의 평균 기공 크기의 절반 미만이다. 바람직하게는, 계면층은 두께가 약 0.5∼약 100㎛, 더욱 바람직하게는 약 1∼약 50㎛이다. 계면층은 결정질이거나 비결정질일 수 있고, BET 표면적이 1㎡/g 이상인 것이 바람직하다.
촉매 활성재(106; 존재하는 경우)는 계면층(104)에 부착될 수 있다. 또는, 촉매 활성재는 계면층과 동시에 부착될 수 있다. 촉매 활성층(존재하는 경우)은 전형적으로 계면층에 밀접하게 부착된다. 촉매층이 계면층에 "배치"되거나 "부착"된다는 것은 미시적인 촉매 활성입자가 지지층(즉, 계면층) 표면, 지지층의 갈라진 틈, 및 지지층의 개방 기공에 분산된다는 것이다. 촉매 활성층은 이것들에 한정되는 것은 아니나, 귀금속, 전이금속 및 이들의 혼합물을 포함하는 촉매 금속; 이것들에 한정되는 것은 아니나, 알칼리 원소, 알칼리 토류 원소, 붕소, 갈륨, 게르마늄, 비소, 셀레늄, 텔루륨, 납, 비스무트, 폴로늄, 마그네슘, 티타늄, 바나듐, 크롬, 망간, 철, 니켈, 코발트, 구리, 아연, 지르코늄, 몰리브덴, 주석, 칼슘, 알루미늄, 규소, 란탄 계열 원소(류) 및 이들의 혼합물을 포함하는 금속 산화물; 복합물; 제올라이트(류); 질화물; 탄화물; 황화물; 할로겐화물; 인산염; 및 상술한 화합물의 혼합물을 들 수 있다.
촉매(다공질 지지층, 버퍼층, 계면층 및 존재하는 경우, 촉매 활성층을 포함)는 바람직하게는 반응실내에 피트되는 치수로 구조된다. 촉매는 분자가 촉매를 통해 확산할 수 있도록 연속적인 다공성을 갖는 것이 바람직하다. 이러한 바람직한 실시형태에 있어서, 촉매는 가스가 실제로 그 주위 보다 촉매를 통해 유동하도록반응실에 배치될 수 있다. 바람직한 실시형태에 있어서, 촉매의 단면적은 반응실의 단면적의 80% 이상, 더욱 바람직하게는 95% 이상을 차지한다. 바람직한 실시형태에 있어서, 촉매 활성재는 촉매를 통과하는 반응물이 촉매를 통해 경로를 따라 어디에서나 반응할 수 있도록 촉매를 통해 표면에 분포되어 있는데, 이는 펠릿 내부의 미사용 공간이나 촉매 효과 없이 사용된 공간의 체적이 큰 펠릿형 촉매에 대하여 상당한 이점을 갖는다. 본 발명의 촉매는 또한 패킹된 분말이 심한 압력강하를 일으킬 수 있으므로 분말에 비해 우수하다.
본 발명의 촉매는 또한 이들이 나타내는 특성을 갖는 특징이 있다. 이들 특성에 영향을 주도록 조절될 수 있는 인자로는 본 발명의 상세한 설명을 고려하여 명백한 바와 같이, 다공성 지지층, 버퍼층, 계면층, 및 촉매 활성층의 선택; 열팽창계수 변화, 결정도, 금속-지지층 상호작용, 부착 기술 및 기타 인자를 들 수 있다. 이들 인자를 이용하는 통상적인 실험법과 결합된 버퍼층의 사용으로, 각종 화학 반응을 촉진하기 위한 촉매를 제조할 수 있다. 본 발명의 촉매에 대한 바람직한 실시형태는 하나 이상의 하기 특성을 나타낸다: (1) 부착성 - 공기 중의 3회의 열사이클후에, 촉매는 SEM(주사형 전자현미경) 분석에 의해 관찰되는 바와 같이 플레이킹이 2%(면적으로) 미만이다. (2) 내산화성. 공기 중에 580℃에서 2500분간 가열한 후에, 촉매는 중량이 5% 미만, 더욱 바람직하게는 3% 미만 증가하고, 보다 더 바람직하게는 공기 중에서 750℃에서 1500분간 가열한 후에, 촉매는 중량이 0.5% 미만 증가한다. 중량 증가량은 열중력 분석(TGA)에 의해 측정된다. 각각의 열사이클은 10℃/min의 가열속도로 공기 중에서 실온 내지 600℃에서 가열하고, 온도를3000분간 600℃로 유지하며, 10℃/min의 속도로 냉각시키는 것으로 이루어진다. 촉매는 BET에 의해 측정된 것으로서, 표면적이 약 0.5㎡/g 이상, 더욱 바람직하게는 약 2.0㎡/g 이상이다.
본 발명은 또한 본 발명의 촉매를 포함하는 반응실로 하나 이상의 반응물을 통과시키고, 하나 이상의 반응물을 하나 이상의 생성물로 전환시키며, 생성물을 반응실 외부로 통과시키는 촉매 프로세스를 제공한다. 바람직한 실시형태에 있어서, 촉매 프로세스는 마이크로채널을 갖는 장치에서 행해진다. 적절한 마이크로채널 장치 및 각종 프로세스와 관련된 인자는 미국 특허 제5,611,214호, 제 5,811,062호, 제5,534,328호, 및 미국 특허출원 제08/883,643호, 제08/938,228호, 제09/375,610호, 제09/123,779호, 공동출원계류 중인 미국 특허출원 제09/492,246호(attorney docket no. E-1666B-CIP), 제09/375,614호(1999년 8월 17일 출원) 및 제09/265.227호(1999년 5월 8일 출원)에 기재되어 있으며, 이들은 하기에서 충분히 재현되는 것처럼 참고로 통합되어 있다. 또 하나의 실시형태에 있어서, 촉매는 모놀리스 - 단일 연속적이나, 다공질, 촉매 피스, 또는 용이하게 삽입되고 반응실에서 추출될 수 있는 함께 적층되는(마이크로채널 벽의 패킹된 분말 또는 펠릿의 베드 또는 코팅이 아니다) 다수의 연속 피스이다. 촉매 피스나 촉매 피스의 스택은 바람직하게는 폭이 0.1㎜∼약 2㎝, 두께가 1㎝미만, 더욱 바람직하게는 약 1∼약 3㎜이다. 본 발명의 촉매는 화학적 안정성, 반복된 열사이클링에 대한 안정성, 열안정성 촉매의 효과적인 로딩 및 언로딩, 고 열이동률 및 물질이동률, 및 원하는 촉매 활성 유지 등의 촉매 프로세스에 다수의 이점을 제공한다.
마이크로채널 장치내의 금속 표면은 버퍼층과 계면층 중 어느 하나 또는 양쪽을 사용하여 코팅될 수 있다. 이는 본 명세서에 기재된 프로세스, 바람직하게는 증착을 이용하여 행해질 수 있다. 바람직한 코팅재로는 이산화티탄 및 5∼10% SiO2/Al2O3을 들 수 있다. 반응실, 열교환기의 내부면 및 마이크로채널 장치의 다른 면이 코팅될 수 있다. 몇몇 실시형태에 있어서, 반응실의 벽은 임의의 버퍼층, 계면층 및 촉매 활성재로 코팅될 수 있고 - 전형적으로 촉매 활성재 및 계면층은 결합하여 담지형 촉매를 형성한다. 코팅은 또한 마이크로채널에 대해서나 그 내부에 커넥션을 형성하는 튜브 및 파이프의 금속벽에 도포될 수도 있다.
본 발명의 촉매 프로세스로는 아세틸화, 부가 반응, 알킬화, 탈알킬기 반응, 수소화 탈알킬기 반응, 환원성 알킬화, 아미노화, 방향족화, 아릴화, 자열개질(autothermal reforming), 카보닐화, 탈카보닐화, 환원성 카보닐화, 카복시화, 환원성 카복시화, 환원성 커플링, 축합, 크래킹, 하이드로크래킹, 고리화, 사이클로올리고머화, 할로겐 이탈 반응, 이량체화, 에폭시화, 에스테르화, 교환, 피셔ㆍ트롭슈, 할로겐화, 할로겐화수소 첨가, 동족체화, 수화, 탈수, 수소화, 탈수소, 하이드로카복시화, 하이드로포르밀화, 가수소 분해, 하이드로메탈레이션 (hydrometallation), 하이드로실레이션(hydrosilation), 가수분해, 하이드로트리팅 (hydrotreating), 수소화 탈황/수소화 탈질소(HDS/HDN), 이성질화, 메탄올 합성, 메틸화, 탈메틸, 복분해, 니트로화, 산화, 부분 산화, 중합, 환원, 증기ㆍ이산화소 개질, 술폰화, 텔로메리제이션(telomerization), 에스테르 교환반응, 삼량체화, 수성가스 전화반응(WGS), 및 역 수성가스 전화반응(RWGS)을 들 수 있다.
본 발명의 촉매의 제조방법은 다공질 지지층(100)을 선택하는 단계, 다공질 지지층(100)에 버퍼층(102)을 부착하는 단계, 및 그 위에 계면층을 부착하는 단계를 갖는다. 임의로 촉매층(106)이 계면층(104)에 부착되거나, 계면층 및 촉매층이 버퍼층(102)에 동시에 부착될 수 있다.
금속이 비다공질로 반반한 웨브 표면을 갖기 때문에, 버퍼층의 부착은 방해될 수 있다. 이 문제를 완화시키기 위한 한 방법으로는 화학적 에칭에 의해 금속 표면을 거칠하게 하는 것이다. 금속 폼에 대한 고 표면적의 감마 알루미나 담지형 금속 촉매의 부착은 금속 폼이 무기산 용액, 예를 들면 0.1∼1M HCl을 사용한 화학적 에칭에 의해 거칠해지면 상당히 향상된다. 거칠해진 웨브 표면은 또한 열사이클링하에 촉매층의 파손에 대하여 향상된 저항성을 나타낸다. 바람직한 실시형태에 있어서, 금속 폼이 다공질 지지층(100)으로서 사용되면, 금속 폼은 버퍼층(102)을 증착하기 전에 에칭된다. 에칭은 산, 예를 들면 HCl를 사용하여 행해지는 것이 바람직하다.
버퍼층(102)의 부착은 이것들에 한정되어 있지는 않지만, 화학 증착, 물리 증착 또는 이들의 조합을 포함하는 증착에 의해 이루어지는 것이 바람직하다. 의외로, 전형적으로 고온에서 행해지는 증착에 의해, 다공질 지지층의 표면에 대한 버퍼층의 우수한 부착력을 부여하는 다결정상 또는 비결정질상이 형성되는 것을 알아냈다. 이 방법은 금속 다공질 지지층에 금속 산화물 버퍼층을 부착시키는데 특히 유리하다. 또는, 버퍼층(102)은 용액 코팅에 의해 얻어질 수 있다. 예를 들면, 용액 코팅은 금속 표면의 노출을 통해 금속 표면을 기능화하여 표면 수산기를 생성시킨 다음, 알콕시드의 표면 반응 및 가수분해에 의해 금속 산화물 코팅을 얻는 단계를 갖는다. 이러한 용액 코팅은 저렴한 버퍼층(102)의 부착방법으로서 바람직하다.
계면층(104)은 증착 기술에 공지된 것으로서의 전구물질을 사용하는 증착 또는 용액 증착에 의해 형성되는 것이 바람직하다. 적절한 전구물질로는 유기 금속 화합물, 할로겐화물, 카보닐, 아세토네이트, 아세테이트, 금속, 금속 산화물의 콜로이드 분산액, 질산염, 슬러리 등을 들 수 있다. 예를 들면, 다공질 알루미나 계면층은 PQ 알루미나(Nyacol Products, Ashland, MA) 콜로이드 분산액으로 워시 코팅된 다음에, 하룻밤 동안 진공 오븐에서 건조시켜서 500℃에서 2시간 동안 하소될 수 있다.
촉매 활성재는 적절한 방법으로 부착될 수 있다. 예를 들면, 촉매 전구물질은 콜로이드상 금속 산화물 입자와, 버퍼로 코팅된 다공질 지지층에 코팅된 슬러리에 부착된 다음에, 건조시켜서 환원될 수 있다.
실시예 1:
본 발명의 버퍼층의 특정 이점을 증명하기 위해 실험을 행한다.
에칭되지 않은 스텐레스강 폼(Astromet, Cincinnati OH)을 화학 증착에 의해 1000 옹스트롱 TiO2으로 코팅한다. 티타늄이소프로폭시드(Strem Chemical, Newburyport, MA)을 0.1∼100torr의 압력하에 250∼800℃에서 증착한다. 600℃의 부착 온도 및 3torr의 반응기 압력에서 폼에 대하여 우수한 부착력을 갖는 이산화티탄 코팅을 얻는다.
SEM(주사형 전자현미경) 분석에 의하면, TiO2버퍼층을 갖는 스텐레스강 폼 담지형 감마 알루미나가 실온 내지 600℃의 수회(3) 열사이클후에 파손되지 않음을 보여준다. TiO2버퍼층을 갖지 않는 감마 알루미나로 코팅된 스텐레스강 폼 지지층을 사용하는 대조 실험에 있어서는, 동일한 시험조건하에서 감마 알루미나의 심한 플레이킹이나 파손이 관찰된다. 고온 내산화성은 도 2a 및 도 2b에 나타낸다. 도 2a에서 알 수 있는 바와 같이, 미코팅된 강철 폼은 재빠르게 산화되는 반면에(중량 증가량, 열중력값으로 나타낸 바와 같이), 이산화티탄으로 코팅된 강철은 비교적 더디게 산화한다. 도 2b에서 알 수 있는 바와 같이, 미코팅된 니켈 폼은 산화되는 반면에, 동일한 조건하에서 이산화티탄으로 코팅된 니켈 폼은 제로 상태(즉, 검출불가능한 레벨)의 산화를 나타낸다.
본 발명의 바람직한 실시형태가 기술되었지만, 본 발명의 광범위한 측면에서 본 발명을 이탈하지 않고서 다양한 변경 및 변형이 이뤄질 수 있음은 당해 기술분야의 숙련가에게 명백할 것이다. 따라서, 첨부된 청구의 범위는 본 발명의 의도 및 범위내에 속하는 모든 변경 및 변형을 포함한다.
Claims (56)
- 다공질 금속 지지층, 버퍼층, 계면층, 및 표면 상의 촉매 활성층을 갖는 촉매에 있어서, 다공질 금속 지지층은 평균 기공 크기가 1㎛∼1000㎛이고, 다공질 금속 지지층은 벌집, 폼, 펠트 및 와드로 구성되는 그룹 중에서 선택되며, 버퍼층은 다공질 지지층과 계면층사이에 배치되고, 계면층은 촉매 활성층과 버퍼층사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 다공질 지지층, 버퍼층, 및 계면층을 갖는 촉매에 있어서, 다공질 금속 지지층은 평균 기공 크기가 1㎛∼1000㎛이고, 다공질 금속 지지층은 벌집, 폼, 펠트 및 와드로 구성되는 그룹 중에서 선택되며, 버퍼층은 조성이 상이한 2개 이상의 서브층으로 구성되고, 버퍼층은 다공질 지지층과 계면층사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 2 항에 있어서, 추가로 계면층 상의 촉매 활성층을 갖는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 다공질 금속 지지층, 버퍼층, 및 계면층을 갖는 촉매에 있어서, 다공질 금속 지지층은 평균 기공 크기가 1㎛∼1000㎛이고, 다공질 금속 지지층은 벌집, 폼, 펠트 및 와드로 구성되는 그룹 중에서 선택되며, 버퍼층은 다공질 지지층과 계면층사이에 배치되고, 촉매는 공기 중에서 3회의 열사이클에 노출되는 경우, 촉매가 2% 미만의 플레이킹을 나타내도록 열사이클링 안정성을 지니는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 4 항에 있어서, 다공질 지지층은 금속이고, 촉매는 공기 중에서 2500분간 580℃에서 가열되면, 촉매가 5% 미만으로 중량이 증가되도록 내산화성을 지니는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 벌집, 폼, 펠트 및 와드로 구성되는 그룹 중에서 선택되는 다공질 지지층을 선택하는 단계,다공질 지지층에 버퍼층을 증착시키는 단계, 및버퍼층에 계면층을 부착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 하나 이상의 반응물을 제 1 항의 촉매를 포함하는 반응실로 통과시키는 단계,하나 이상의 반응물을 하나 이상의 생성물로 전환시키는 단계, 및생성물을 반응실 외부로 통과시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 하나 이상의 반응물을 하나 이상의 생성물로 전환시키는 프로세스.
- 하나 이상의 반응물을 제 2 항의 촉매를 포함하는 반응실로 통과시키는 단계,하나 이상의 반응물을 하나 이상의 생성물로 전환시키는 단계, 및생성물을 반응실 외부로 통과시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 하나 이상의 반응물을 하나 이상의 생성물로 전환시키는 프로세스.
- 하나 이상의 반응물을 제 3 항의 촉매를 포함하는 반응실로 통과시키는 단계,하나 이상의 반응물을 하나 이상의 생성물로 전환시키는 단계, 및생성물을 반응실 외부로 통과시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 하나 이상의 반응물을 하나 이상의 생성물로 전환시키는 프로세스.
- 제 9 항에 있어서, 상기 프로세스는 아세틸화, 부가 반응, 알킬화, 탈알킬기 반응, 수소화 탈알킬기 반응, 환원성 알킬화, 아미노화, 방향족화, 아릴화, 자열개질(autothermal reforming), 카보닐화, 탈카보닐화, 환원성 카보닐화, 카복시화, 환원성 카복시화, 환원성 커플링, 축합, 크래킹, 하이드로크래킹, 고리화, 사이클로올리고머화, 할로겐 이탈 반응, 이량체화, 에폭시화, 에스테르화, 교환, 피셔ㆍ트롭슈, 할로겐화, 할로겐화수소 첨가, 동족체화, 수화, 탈수, 수소화, 탈수소, 하이드로카복시화, 하이드로포르밀화, 가수소 분해, 하이드로메탈레이션 (hydrometallation), 하이드로실레이션(hydrosilation), 가수분해, 하이드로트리팅(hydrotreating), 수소화 탈황/수소화 탈질소(HDS/HDN), 이성질화, 메탄올 합성, 메틸화, 탈메틸, 복분해, 니트로화, 산화, 부분 산화, 중합, 환원, 증기ㆍ이산화소 개질, 술폰화, 텔로메리제이션, 에스테르 교환반응, 삼량체화, 수성가스 전화반응(WGS), 및 역 수성가스 전화반응(RWGS)로 구성되는 그룹 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 하나 이상의 반응물을 하나 이상의 생성물로 전환시키는 프로세스.
- 제 7 항에 있어서, 상기 프로세스는 아세틸화, 부가 반응, 알킬화, 탈알킬기 반응, 수소화 탈알킬기 반응, 환원성 알킬화, 아미노화, 방향족화, 아릴화, 자열개질, 카보닐화, 탈카보닐화, 환원성 카보닐화, 카복시화, 환원성 카복시화, 환원성 커플링, 축합, 크래킹, 하이드로크래킹, 고리화, 사이클로올리고머화, 할로겐 이탈 반응, 이량체화, 에폭시화, 에스테르화, 교환, 피셔ㆍ트롭슈, 할로겐화, 할로겐화수소 첨가, 동족체화, 수화, 탈수, 수소화, 탈수소, 하이드로카복시화, 하이드로포르밀화, 가수소 분해, 하이드로메탈레이션, 하이드로실레이션, 가수분해, 하이드로트리팅, 수소화 탈황/수소화 탈질소(HDS/HDN), 이성질화, 메탄올 합성, 메틸화, 탈메틸, 복분해, 니트로화, 산화, 부분 산화, 중합, 환원, 증기ㆍ이산화소 개질, 술폰화, 텔로메리제이션, 에스테르 교환반응, 삼량체화, 수성가스 전화반응(WGS), 및 역 수성가스 전화반응(RWGS)로 구성되는 그룹 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 하나 이상의 반응물을 하나 이상의 생성물로 전환시키는 프로세스.
- 제 8 항에 있어서, 상기 프로세스는 아세틸화, 부가 반응, 알킬화, 탈알킬기 반응, 수소화 탈알킬기 반응, 환원성 알킬화, 아미노화, 방향족화, 아릴화, 자열개질, 카보닐화, 탈카보닐화, 환원성 카보닐화, 카복시화, 환원성 카복시화, 환원성 커플링, 축합, 크래킹, 하이드로크래킹, 고리화, 사이클로올리고머화, 할로겐 이탈 반응, 이량체화, 에폭시화, 에스테르화, 교환, 피셔ㆍ트롭슈, 할로겐화, 할로겐화수소 첨가, 동족체화, 수화, 탈수, 수소화, 탈수소, 하이드로카복시화, 하이드로포르밀화, 가수소 분해, 하이드로메탈레이션, 하이드로실레이션, 가수분해, 하이드로트리팅, 수소화 탈황/수소화 탈질소(HDS/HDN), 이성질화, 메탄올 합성, 메틸화, 탈메틸, 복분해, 니트로화, 산화, 부분 산화, 중합, 환원, 증기ㆍ이산화소 개질, 술폰화, 텔로메리제이션, 에스테르 교환반응, 삼량체화, 수성가스 전화반응(WGS), 및 역 수성가스 전화반응(RWGS)로 구성되는 그룹 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 하나 이상의 반응물을 하나 이상의 생성물로 전환시키는 프로세스.
- 마이크로채널 장치의 내벽 중 적어도 하나는 버퍼층으로 코팅되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 장치.
- 제 13 항에 있어서, 버퍼층에 배치된 계면층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 장치.
- 제 13 항에 있어서, 버퍼층은 증착되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 장치.
- 제 14 항에 있어서, 상기 벽은 반응실의 하나 이상의 벽을 포함하고, 계면층에 배치된 촉매 활성층을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 장치.
- 제 6 항에 있어서, 상기 버퍼층은 이산화티탄인 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 촉매는 공기 중에서 3회의 열사이클에 노출되는 경우, 촉매가 2% 미만의 플레이킹을 나타내도록 열사이클링 안정성을 지니는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 1 항에 있어서, 촉매는 공기 중에서 2500분간 580℃에서 가열되면, 촉매가 5% 미만으로 중량이 증가되도록 내산화성을 지니는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 7 항에 있어서, 상기 반응실은 벽을 갖고, 상기 벽 중 적어도 하나에는 버퍼층, 계면층 및 촉매 활성층이 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 하나 이상의 반응물을 하나 이상의 생성물로 전환시키는 프로세스.
- 제 1 항에 있어서, 촉매는 공기 중에서 1500분간 750℃에서 가열되면, 촉매가 0.5% 미만으로 중량이 증가되도록 내산화성을 지니는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 1 항에 있어서, 다공질 지지층은 금속이고, 촉매 활성층은 촉매를 통과하는 반응물이 촉매를 통해 경로를 따라 어디에서나 반응할 수 있도록 촉매를 통해 표면에 분포되는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 2 항에 있어서, 상기 2개 이상의 서브층은 TiO2로 구성되는 다공질 지지층과 접촉하는 제 1 서브층 및 α- Al2O3로 구성되는 제 2 서브층을 포함하는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 1 항에 있어서, 상기 버퍼층은 비다공질인 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 5 항에 있어서, 버퍼층은 두께가 0.05∼10㎛인 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 2 항에 있어서, 계면층은 금속 산화물로 구성되는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 2 항에 있어서, 계면층은 그 위에 부착되는 촉매 활성층이 추가되지 않고도 촉매 활성층으로서 작용할 수 있는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 2 항에 있어서, 계면층은 조성이 상이한 2개 이상의 서브층을 포함하는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 1 항에 있어서, 계면층은 BET 표면적이 1㎡/g 이상인 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 4 항에 있어서, 촉매는 폭이 0.1㎜∼약 2㎝, 두께가 1㎝ 미만인 모놀리스인 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 6 항에 있어서, 촉매 활성재는 계면층과 동시에 부착되는 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 제 6 항에 있어서, 계면층은 용액으로부터 부착되는 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 제 6 항에 있어서, 증착 단계는 화학 증착을 포함하는 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 제 6 항에 있어서, TiO2층을 증착하는 단계, TiO2층에 조밀한 알루미나층을 증착하는 단계, 및 조밀한 알루미나층에 덜 조밀한 고 표면적의 알루미나층을 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 제 6 항에 있어서, 다공질 지지층은 금속 폼을 포함하고, 촉매는 표면적이 2.0g/㎤ 보다 큰 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 제 6 항에 있어서, 다공질 지지층은 금속 폼을 포함하고, 금속 폼은 버퍼층을 증착하기 전에 에칭되는 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 제 33 항에 있어서, 다공질 지지층은 금속 폼을 포함하고, 화학 증착은 250∼800℃의 온도범위에서 행해지는 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 제 33 항에 있어서, 화학 증착용 전구물질은 유기 금속 화합물, 할로겐화물, 카보닐, 아세토네이트 및 아세테이트로 구성되는 그룹 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 제 6 항에 있어서, 지지층은 벌집, 폼, 펠트 및 와드로 구성되는 그룹 중에서 선택되는 금속을 포함하고, 촉매는 공기 중에서 1500분간 750℃에서 가열되면,촉매가 0.5% 미만으로 중량이 증가되도록 내산화성을 지니는 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 계면층은 질소화물, 탄화물, 황화물, 할로겐화물, 및 탄소로 구성되는 그룹 중에서 선택되는 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 23 항에 있어서, 계면층은 제 2 서브층보다 덜 조밀한 고 표면적의 알루미나층을 포함하는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 41 항에 있어서, 계면층에 부착되는 촉매를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 1 항에 있어서, 공기 중에서 1500분간 750℃에서 가열되면, 촉매가 0.5% 미만으로 중량이 증가되도록 내산화성을 지니는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 6 항에 있어서, 다공질 지지층은 다공률이 70%∼98%인 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 제 2 항에 있어서, 다공질 지지층은 다공률이 70%∼98%인 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 4 항에 있어서, 다공질 지지층은 다공률이 70%∼98%인 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 1 항에 있어서, 다공질 지지층은 폼, 펠트, 와드 또는 이들의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 2 항에 있어서, 다공질 지지층은 폼, 펠트, 와드 또는 이들의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 4 항에 있어서, 다공질 지지층은 폼, 펠트, 와드 또는 이들의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 6 항에 있어서, 다공질 지지층은 폼, 펠트, 와드 또는 이들의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 제 50 항에 있어서, 증착 단계는 화학 증착을 포함하는 것을 특징으로 하는 촉매의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 다공질 금속 지지층은 평균 기공 크기가 1㎛∼500㎛인 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 4 항에 있어서, 다공성 금속 지지층은 평균 기공 크기가 1㎛∼500㎛인 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 1 항에 있어서, 계면층은 두께가 1㎛∼50㎛인 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 2 항에 있어서, 계면층은 두께가 1㎛∼50㎛인 것을 특징으로 하는 촉매.
- 제 4 항에 있어서, 계면층은 두께가 1㎛∼50㎛인 것을 특징으로 하는 촉매.
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