KR20010033185A - 포커스 링 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 플라즈마 작동 동안 전극으로서 작동하도록 고주파(RF) 전력을 받는 기질 유지 척의 적어도 일부를 중첩하도록 구성된 플라즈마 처리챔버에서 사용하는 포커스 링으로서, 플라즈마 작동동안 플라즈마 처리챔버내에서 플라즈마 지역에 노출되는 상부 표면과 상기 기질 유지 척 부위를 중첩하며 포커스 링의 나머지 부위보다 낮은 유전상수를 갖는 제 1 재료로 형성된 척 중첩부위를 포함하는 포커스 링.
- 제 1 항에 있어서, 상기 척 중첩부위가 제 1 재료로 형성된 복수의 인서트를 포함함을 특징으로 하는 포커스 링.
- 제 1 항에 있어서, 상기 척 중첩부위가 제 1 재료로 형성되며 상기 상부 표면에 평행하게 배치된 인서트를 포함함을 특징으로 하는 포커스 링.
- 제 3 항에 있어서, 상기 인서트가 상기 플라즈마 처리챔버에서 플라즈마에 노출되지 않도록 포커스 링내에 캡슐화됨을 특징으로 하는 포커스 링.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 재료가 챔버 진공이며 상기 척 중첩부위가 기질유지척의 적어도 일부를 중첩하는 진공갭을 포함하고 상기 진공 갭은 플라즈마 작동 동안 진공 갭내에서 플라즈마가 발화하지 않도록 플라즈마 작동동안 플라즈마 처리챔버의 작동 압력 및 RF 전력 설정에 반응하는 크기를 가짐을 특징으로 하는 포커스 링.
- 플라즈마 작동동안 전극으로서 작동하도록 고주파(RF) 전력을 받는 기질유지척의 적어도 일부를 중첩하도록 구성된 플라즈마 처리챔버에서 사용하는 포커스 링으로서, 플라즈마 작동동안 플라즈마 처리챔버내에서 플라즈마 지역에 노출되는 상부표면과 상기 기질유지척 부위를 중첩하며 포커스 링이 플라즈마 처리챔버에 설치될 때 기질유지척의 적어도 일부를 중첩하는 전도성 인서트를 포함한 척 중첩부위를 포함하는 포커스 링.
- 제 6 항에 있어서, 상기 금속인서트가 접지됨을 특징으로 하는 포커스 링.
- 제 7 항에 있어서, 상기 척 중첩부위의 적어도 일부가 포커스 링의 나머지 부위보다 낮은 유전상수를 갖는 제 1 재료로 형성되며 상기 척 중첩부위의 적어도 일부가 상기 금속 인서트와 상기 포커스 링의 나머지 부위와 상이함을 특징으로 하는 포커스 링.
- 제 8 항에 있어서, 상기 제 1 재료가 챔버 진공이며 상기 척 중첩부위가 기질유지척의 적어도 일부를 중첩하는 진공갭을 포함하고 상기 진공 갭은 플라즈마 작동 동안 진공 갭내에서 플라즈마가 발화하지 않도록 플라즈마 작동동안 플라즈마 처리챔버의 작동 압력 및 RF 전력 설정에 반응하는 크기를 가짐을 특징으로 하는 포커스 링.
- 플라즈마 처리챔버에서 사용하도록 구성되며 플라즈마 작동동안 플라즈마 처리챔버내에서 플라즈마에 노출되도록 구성된 상부표면을 가지며 플라즈마 작동동안 고주파(RF) 전력을 받아 전극으로서 작용하는 기질유지척의 적어도 일부를 중첩하도록 구성된 포커스 링의 부식 감소 방법으로서, 기질유지척의 부위를 중첩하는 상기 포커스 링의 척 중첩부위에 포커스 링의 다른 부위보다 낮은 유전상수를 갖는 저 유전상수 부위를 형성하는 단계를 포함하는 포커스 링 부식 감소 방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 저 유전상수 부위가 상기 상부 표면에 평행하게 배치된 인서트임을 특징으로 하는 방법.
- 제 11 항에 있어서, 플라즈마 작동동안 인서트가 플라즈마 처리챔버에서 플라즈마에 노출되지 않도록 인서트가 포커스 링내에 캡슐화됨을 특징으로 하는 방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 저 유전상수 부위가 상기 기질유지척의 적어도 일부 위에 놓이는 갭이며, 상기 진공갭이 플라즈마 작동동안 플라즈마 처리챔버의 작동압력 및 RF 전력 설치에 반응하여 플라즈마가 진공갭에서 발화하지 않도록 하는 크기를 가짐을 특징으로 하는 방법.
- 플라즈마 처리챔버에서 사용하도록 구성되며 플라즈마 작동동안 플라즈마 처리챔버내에서 플라즈마에 노출되도록 구성된 상부표면을 가지며 플라즈마 작동동안 고주파(RF) 전력을 받아 전극으로서 작용하는 기질유지척의 적어도 일부를 중첩하도록 구성된 포커스 링의 부식 감소 방법으로서, 기질유지척의 부위를 중첩하며 포커스 링의 다른 부위보다 낮은 유전상수를 갖는 척 중첩부위를 가지며 플라즈마 작동동안 플라즈마 처리챔버내에서 플라즈마 지역에 노출되는 상부 표면을 갖는 포커스 링을 제공하며;상기 포커스 링은 플라즈마 처리챔버내부에 설치하는 단계를 포함하는 포커스 링 부식 감소방법.
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