KR20000015855A

KR20000015855A - 방향족 폴리아미드 필름 및 그로부터 제조된 자기 기록 매체

Info

Publication number: KR20000015855A
Application number: KR1019980709405A
Authority: KR
Inventors: 노부아끼 이또; 가즈마사 요네야마
Original assignee: 히라이 가쯔히꼬; 도레이 가부시끼가이샤
Priority date: 1997-03-21
Filing date: 1998-03-19
Publication date: 2000-03-15
Also published as: EP0920976A4; KR100540731B1; WO1998042493A1; CA2256433A1; EP0920976B1; DE69824261D1; US6096419A; CN1226851A; CN1074979C; JP3871225B2; EP0920976A1; DE69824261T2

Abstract

본 발명은 80 kg/cm²하중하에 220℃에서의 TD 방향 열수축률이 0.2 내지 8%이고, 자성층을 설치하는 면과 반대측 면의 ＋점 평균 조도 Rz가 10 내지 200 nm인 방향족 폴리아미드 필름, 및 이 필름의 한쪽면에 자성층이 설치된 자기 기록 매체를 제공한다. 고온 열수축률 및 표면성을 본 발명의 범위로 한 필름을 사용함으로써 비틀림이 적고 평탄성이 우수한 자기 기록 매체가 얻어진다.

Description

방향족 폴리아미드 필름 및 그로부터 제조된 자기 기록 매체

방향족 폴리아미드 필름은 그의 우수한 내열성, 기계 특성을 활용하여 각종 용도로 검토되고 있다. 특히, 파라 배향계의 방향족 폴리아미드는 강성, 강도 등의 기계 특성이 다른 폴리머보다 우수하기 때문에 필름의 박막화에 매우 유리하여 프린터 리본, 자기 테입, 콘덴서 등의 용도로 고안되고 있다. 자기 기록 매체에 관해서는, 예를 들면 일본 특허 공개 제83-168655호, 동 특허 공개 제87-112218호 등에 교시되어 있다.

자기 기록 매체 분야에서는 진공 증착, 스퍼터링, 이온 플레이팅 등의 방법에 의해 Co, Ni, Cr 등을 기재 필름상에 형성시킨 금속 박막형의 자기 기록 매체가 기록 밀도를 향상시키는데 유망시되고 있다. 금속 박막형의 자기 기록 매체는 면내의 기록 밀도의 향상과 동시에 자성층을 얇게 만들 수 있기 때문에 기록 매체 전체의 두께를 얇게 할 수 있고, 길이를 길게 만드는 것이 가능하다는 것도 기록 용량의 증대에 매우 유효하다.

금속 박막형의 자기 기록 매체는 자성층 형성시에 열이 가해지기 때문에 내열성 필름을 사용하는 것은 열적 손상을 줄인다는 점에서는 유효하지만, 자성층을 형성할 때에 필름이 크게 비틀리며, 비틀림의 제거가 어렵다. 이 대책으로서, 예를 들면 일본 특허 공개 제81-16938호에서는 비틀림 제거에 필요한 필름의 고온에서의 열수축률 범위를 제안하고 있으나 재현성 좋고 평활한 자기 테입을 얻기에는 충분하지 않다는 것을 알 수 있었다.

본 발명은 이러한 문제점을 해결하여 방향족 폴리아미드의 우수한 고강성, 내열성을 활용하여 평탄한 자기 기록 매체를 재현성 좋게 얻을 수 있는 방향족 폴리아미드 필름 및 그를 사용한 자기 기록 매체를 제공하는 것을 목적으로 한다.

<발명의 개시>

본 발명은 80 kg/cm²하중하에 220℃에서의 TD 방향 열수축률이 0.2 내지 8%이고, 자성층을 설치하는 면과 반대측 면의 ＋점 평균 조도 Rz가 10 내지 200 nm인 것을 특징으로 하는 방향족 폴리아미드 및 이 필름의 한쪽면에 자성층을 설치한 것을 특징으로 하는 자기 기록 매체이다.

<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>

본 발명의 방향족 폴리아미드로서는 하기 화학식 I 및(또는) 화학식 II로 표시되는 반복 단위를 50 몰% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 70 몰% 이상으로 이루어지는 것이 보다 바람직하다.

식 중,

Ar₁, Ar₂및 Ar₃은, 예를 들면

등을 들 수 있으며,

X 및 Y는 -O-, -CH₂-, -CO-, -SO₂-, -S-, -C(CH₃)₂- 등에서 선택되지만, 이것으로 한정되는 것은 아니다.

또한, 이러한 방향환상의 수소 원자의 일부가 할로겐기 (특히 염소), 니트로기, C₁내지 C₃의 알킬기 (특히 메틸기), C₁내지 C₃의 알콕시기 등의 치환기로 치환되어 있는 것도 포함하며, 또한 중합체를 구성하는 아미드 결합 중의 수소가 다른 치환기로 치환되어 있는 것도 포함한다.

특성면에서는 상기 방향환이 파라 위치에서 결합된 것이 전체 방향환의 50% 이상, 바람직하게는 70% 이상을 차지하는 중합체가 필름의 강성이 높고 내열성도 양호해지기 때문에 바람직하다. 또한, 흡습률을 작게 한다는 점에서는 방향환상의 수소 원자의 일부가 할로겐기 (특히 염소)로 치환된 방향환이 전체의 30% 이상인 중합체가 바람직하다.

방향족 폴리아미드의 보다 바람직한 구조로서는

(여기에서, m 및 n은 0 내지 4)를 50 몰% 이상, 더욱 바람직하게는 70 몰% 이상으로 구성된 것이다

본 발명의 방향족 폴리아미드는 화학식 I 및(또는) II로 표시되는 반복 단위를 50 몰% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 50 몰% 미만은 다른 반복 단위가 공중합 (예를 들면 방향족 폴리아미드 등) 또는 블렌딩되어 있어도 상관이 없으며 필름의 물성을 손상시키지 않을 정도로 도전성 입자, 윤활제, 산화 방지제, 기타 첨가제 등이 블렌딩되어 있어도 좋다.

본 발명의 필름의 두께는 1.5 ㎛ 이상, 10 ㎛ 이하의 범위가 바람직하다. 보다 바람직하게는 2 ㎛ 이상, 7 ㎛ 이하이다. 1.5 ㎛보다 얇으면 테입으로 만들었을 때의 강도가 부족하고, 10 ㎛보다 두꺼우면 테입이 두꺼워져 소형화, 장시간화가 어려워지는 경향이 있다.

본 발명의 필름은 80 kg/cm²하중하에 220℃에서의 TD 방향 열수축률이 0.2 내지 8%이고, 바람직하게는 0.2 내지 5%이다. 0.2%보다 작으면 비틀림을 제거할 수가 없다. 한편, 8%보다 크면 역방향으로 비틀리거나 일단은 비틀림이 제거되어도 사용시에 서서히 변형되어 다시 비틀림이 발생되거나 하는 문제가 생긴다.

본 발명의 필름은 자성층을 설치하는 면 (A면이라 함)과 반대측 면 (B면이라 함)의 ＋점 평균 조도 Rz가 10 내지 200 nm인 것이 필요하며, 바람직하게는 20 내지 100 nm이다. 비틀림을 제거할 때에는 가열 롤에 접촉시켜 필름을 수축시키는 방법이 취해지는 수가 많은데, 자성층에 흠을 내지 않기 위하여 B면을 가열 롤에 접촉시킨다. 이때 B면의 Rz가 10 nm보다 작으면 필름과 롤의 마찰이 커져 비틀림이 제거되지 않거나 제거가 불균일해져 재현성 좋고 평탄한 자기 기록 매체가 될 수 없다. 한편, 200 nm보다 크면 가열된 필름이 변형되어 자성면이 거칠어진다. 또한, 롤상에서 필름이 너무 미끄러져 롤과의 접촉 안정성이 결여된다. 이러한 비틀림을 제거하기 위해서는 필름의 B면의 마찰 계수는 0.1 내지 2가 바람직하다.

본 발명의 필름은 B면의 조도 또는 마찰 계수를 유지하기 위하여 필름중에 입자를 존재시켜 두는 것이 바람직하다. 입자의 종류로서는 SiO₂, TiO₂, Al₂O₃, CaSO₄, BaSO₄, CaCO₂, 카본 블랙, 제올라이트, 그밖의 금속 미분말 등의 무기 입자 또는 실리콘 입자, 폴리이미드 입자, 가교 공중합체 입자, 가교 폴리에스테르 입자, 테프론 입자 등의 유기 고분자 등이 있으나, 내열성의 관점에서 무기 입자가 보다 바람직하다. 평균 입경은 0.01 내지 2.0 ㎛, 보다 바람직하게는 0.05 내지 0.5 ㎛의 범위이다. 또한, 함유량은 0.01 내지 10 wt%가 바람직하고, 0.1 내지 5 wt%가 보다 바람직하다.

A면과 B면의 표면성은 동일하여도 상이하여도 좋으나, 특히 금속 박막형의 경우에는 B면측을 A면측보다 거칠게 하는 것이 바람직하다. 마찰 계수를 내림으로써 자기 기록 매체를 생산할 때의 주행성 안정성 또는 비틀림 제거시의 재현성을 향상시킬 수 있기 때문이다. 표면성을 바꾸기 위해서는 공지된 방법으로 행할 수가 있으며, 예를 들면 표면에 입자와 결합제를 도포하는 방법, 구금 또는 적층관으로 적층하는 방법 등이 있다.

필름의 자성면측의 표면 조도는 평균 조도 Ra로 0.1 내지 30 nm, 보다 바람직하게는 0.2 내지 10 nm이다.

또한, 본 발명 필름의 길이 방향의 영률이 1000 kg/mm²이상인 것이 바람직하다. 또한, 필름은 길이 방향으로 신장되거나 또는 폭 방향으로 신장되어도 좋다. 신장의 정도는 특별히 한정되지 않지만, 신도, 인렬 저항력 등의 특성을 고려하면 길이 방향의 인장 영률 E_MD와 폭 방향의 인장 영률 E_TD가

0.5≤E_MD/E_TD≤2

의 범위인 것이 실용적이다.

본 발명의 필름의 신도는 10% 이상, 보다 바람직하게는 20% 이상, 더욱 바람직하게는 30% 이상이면 테입이 적당한 유연성을 가지므로 바람직하다.

본 발명의 필름의 흡습률은 4% 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 3% 이하, 더욱 바람직하게는 2% 이하이다. 흡습률이 작을수록 습도 변화에 의한 테입의 크기 변화가 작아 양호한 전자 변환 특성을 유지하므로 바람직하다.

또한, 본 발명의 필름은 금속 박막형의 자기 기록 매체에 사용하면 충분한 효과를 발휘할 수 있는데, 산화철 또는 금속 분말을 결합제와 함께 도포하는 자기 기록 매체로서 사용할 수가 있으며, 금속 박막형과 마찬가지로 비틀림의 조절에 유효하다.

본 발명의 자기 기록 매체는 상기한 필름에 자성층을 구비한 것이다. 기록 매체의 전체 두께는 너무 두꺼우면 소형화할 수가 없게 되는 경우가 있으므로 10 ㎛ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 7 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 5 ㎛ 이하이다.

자성층의 두께는 2 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이하이다. 단파장 기록에는 얇은 것이 좋은데, 너무 얇으면 출력 저하가 초래되므로 하한은 일반적으로는 0.1 ㎛ 이상이다. 자성층으로서는 Ni, Cr, Fe, Co 등의 금속 또는 이들의 합금이 사용되나, 이에 한정되는 것은 아니다.

자기 기록 매체로서는, 일반적으로는 이면 도포층을 설치하는 것이 좋다. 금속 박막형의 경우, 비틀림 제거를 행하고 나서 이면 도포층을 설치하면 좋다. 이면 도포층의 두께는 1 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.

또한, 자성층 위에는 내구성 향상을 위하여 보호층을 설치할 수가 있다. 예를 들면, 카본층 또는 윤활제층 등이며, 1종 또는 복수종을 조합하여 설치할 수가 있다.

이어서, 본 발명의 제조 방법에 대하여 설명하지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 우선, 방향족 폴리아미드는 산 염화물과 디아민으로부터 얻는 경우에는 N-메틸피롤리돈 (NMP), 디메틸아세트아미드 (DMAc), 디메틸포름아미드 (DMF) 등의 비양성자성 유기 극성 용매 중에서 용액 중합하거나, 수계 매체를 사용하는 계면 중합 등으로 합성된다. 폴리머 용액은 단량체로서 산 염화물과 디아민을 사용하면 염화 수소가 부생되는데, 이것을 중화하는 경우에는 수산화칼슘, 수산화리튬, 탄산칼슘, 탄산리튬 등의 무기 중화제, 또한 에틸렌옥시드, 프로필렌옥시드, 암모니아, 트리에틸아민, 트리에탄올아민, 디에탄올아민 등의 유기 중화제가 사용된다. 또한, 이소시아네이트와 카르복실산의 반응은 비양성자성 유기 극성 용매 중 촉매의 존재하에서 이루어진다.

이러한 폴리머 용액은 그대로 막형성 원액으로서 사용하여도 좋으며, 또는 폴리머를 한번 단리하고 나서 상기 유기 용매 또는 황산 등의 무기 용제에 재용해하여 막형성 원액을 제조하여도 좋다.

본 발명의 방향족 폴리아미드 필름을 얻기 위해서는 폴리머의 고유 점도 (폴리머 0.5 g을 황산 속에서 100 ㎖ 용액으로 하여 30℃에서 측정한 값)은 0.5 이상인 것이 바람직하다.

막형성 원액에는 용해 보조제로서 무기염, 예를 들면 염화칼슘, 염화마그네슘, 염화리튬, 질산리튬 등을 첨가하는 경우가 있다. 막형성 원액 중의 폴리머 농도는 2 내지 40 wt% 정도가 바람직하다.

입자의 첨가 방법은 입자를 미리 용매 속에 충분히 슬러리화한 후, 중합용 용매 또는 희석용 용매로서 사용하는 방법, 또는 막형성 원액을 제조한 후에 직접 첨가하는 방법 등이 있다.

상기와 같이 제조된 막형성 원액은 이른바 용액 막형성법에 의해 필름화가 이루어진다. 용액 막형성법으로는 건습식법, 건식법, 습식법 등이 있으며, 어떤 방법으로 막이 형성되어도 상관이 없지만, 여기에서는 건습식법을 예로 들어 설명한다.

건습식법으로 제조하는 경우는 그 원액을 구금에서 니켈, 스테인레스, 구리, 티탄, 하스텔로이 (Hastelloy), 탄탈 등의 재질로 이루어지는 드럼, 엔들리스 벨트 등의 지지체상에 압출하여 박막으로 만들고, 이어서 이러한 박막층에서 용액을 비산시켜 박막이 자기 유지성을 가질때까지 건조한다. 건조 조건은 실온 내지 250℃, 60분 이내의 범위이며, 바람직하게는 실온 내지 200℃의 범위이다. 건조 온도가 250℃를 초과하면 급격한 가열에 의한 균열 발생, 표면 거치름 등이 일어나 실용적인 필름을 얻을 수 없다.

상기 건식 공정을 마친 필름은 지지체에서 박리되어 습식 공정에 도입되고, 여기에서 필름속에 함유되어 있는 용제 또는 불순물이 제거된다. 이 욕은 일반적으로 수계 용매로 이루어지는 것이며, 물 외에 유기 용매 또는 무기염 등을 함유하고 있어도 좋다. 그러나, 일반적으로 물을 30% 이상, 바람직하게는 50% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 욕 온도는 통상 0 내지 100℃에서 사용된다. 또한, 필름 속의 불순물을 감소시키기 위하여 욕 온도를 50℃ 이상으로 올리거나, 유기 용제의 욕을 설치하여 이 속을 통과시키는 것이 유효하다.

습식 공정을 나온 필름은 다시 건조 및 연신이 이루어진다. 건조 및 연신은 250 내지 400℃에서, 연신 배율은 면 배율로 0.8 내지 5.0 (면 배열이란 연신 후의 필름 면적을 연신 전의 필름 면적으로 나눈 값으로 정의한다. 1 이하는 풀림을 의미한다.)의 범위에서 이루어진다. 보다 바람직한 연신 배율은 1.1 내지 3.0이다. 또한, TD 방향 열수축률을 본 발명의 범위로 유지하기 위해서는 연신 온도보다도 낮은 온도에서 필름을 TD 방향으로 다시 연신하고, 200 ℃/초 이상의 속도로 급냉시켜 얻는 것이 바람직하다.

A면과 B면에서 표면성을 변경하기 위해서는 공지된 방법으로 행할 수가 있다. 예를 들면 표면에 입자와 결합제를 도포하는 방법, 구금 또는 적층관에 다른 입자를 함유한 폴리머 용액을 적층하는 방법 등이 있다.

이어서, 이 필름에 자성층을 설치한다. 금속 박막을 설치하기 위해서는 A면측에 미리 글로우 방전 처리 또는 코로나 표면 처리를 행하는 것이 필름과 자성층의 밀착성을 향상시키는데 유효하다.

이어서, 진공 증착 또는 스퍼터링 등의 방법으로 자성층을 설치한다. 이때 A면을 내측으로 하여 비틀림이 발생되는 수가 많은데, 자기 기록 매체로서 사용하기 위해서는 비틀림을 제거할 필요가 있다. 이것을 위해서는 B면측을 가열 롤에 접촉시키고 필름을 가열 수축시켜 비틀림을 제거하는 방법이 생산성, 안정성의 점에서 바람직하다. 또한, B면측을 롤 접촉시키므로 자성층에 흠이 생기는 일도 없다. 비틀림은 완전히 제거되어 평탄한 것이 바람직한데, 자성면과 자기 헤드의 접촉이 양호하게 유지되면 다소의 잔류는 문제가 없다. 또한, 비틀림의 방향은 비틀림의 양이 작으면 내면 또는 외면 중 어느 쪽이어도 지장이 없다.

또한, 비틀림 제거 후 자성층과 반대측의 면에 공지된 방법으로 이면 도포층을 설치하는 것이 바람직하다. 이러한 처리가 끝난 후 슬릿하여 본 발명의 자기 기록 매체가 된다.

(측정 방법, 평가법)

본 발명의 물성 측정 방법, 효과 평가 방법은 하기 방법에 따른다.

(1) ＋점 평균 조도 Rz

고사까 연구소 제조의 박막 단차 측정기 (ET-10)로 촉침 선단 반경 0.5 ㎛, 촉침 하중 5 mg, 컷오프 (cut-off) 값 0.008 mm, 측정 길이 0.5 mm의 조건으로 5회 측정하여 그 평균을 나타낸다.

(2) 열수축률

폭 10 mm×길이 250 mm가 되도록 TD 방향으로 긴 샘플을 잘라 200 mm의 간격으로 표선을 그린다. TD 방향 필름의 단면당 80 kg/cm²가 되도록 하중을 가하고 220℃에서 10분간 오븐에서 가열한 후, 필름을 꺼내 표선의 간격을 측정한다. 가열 전후의 치수로부터 수축률을 구한다.

(3) 마찰 계수

직경 8 mm, 길이 30 mm의 크롬 도금을 한 금속 핀 (표면 조도는 0.4S)에 10 mm 폭으로 자른 필름의 B면측을 대고 필름을 주행시켜 그의 장력으로 구한다.

(4) 비틀림 제거

자성층은 설치되어 있고, 이면 도포층은 없는 상태에서 실시한다.

220℃로 가열된 표면 조도 0.2S의 가열 롤에 MD 방향으로 50 kg/cm²의 장력으로 필름의 B면측을 0.3초 이상 접촉시킨다.

(5) 자기 테입의 비틀림 평가

비틀림 제거를 한 시료에서 MD 방향으로 슬릿하여 3.8 mm 폭의 테입을 만든다. 이것으로부터 길이 2 cm의 샘플을 자르고 25℃, 55% RH의 분위기 중에서 2시간 방치한 후 수평면에 놓는다.

A. 비틀림의 방향

자성층을 내측으로 하여 비틀린 것을 +, 자성층을 외측으로 하여 비틀린 것을 -로 한다.

B. 비틀림의 양

수평선에서 가장 높은 테입의 위치를 계측하여 구한다.

비틀림의 양이 1 mm 이하인 것을 ○, 1 내지 2 mm인 것을 △, 2 mm를 초과하는 것을 ×라 한다.

C. 재현성

비틀림 제거를 5회 실시하고, 2회 이상 비틀림의 양이 2 mm를 초과하는 것을 ×로 하였다.

본 발명은 방향족 폴리아미드 필름 및 그를 사용한 자기 기록 매체에 관한 것이다.

이하에 실시예를 바탕으로 본 발명을 설명하지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.

<실시예 1>

중합조에 수분률 45 ppm의 N-메틸-2-피롤리돈 (NMP)을 넣고, 이 중에 방향족 폴리아미드 성분으로서 85 몰%에 상당하는 2-크롤파라페닐렌디아민과 15 몰%에 상당하는 4,4'-디아미노디페닐에테르를 용해시켰다. 여기에 98.5 몰%에 상당하는 2-크롤테레프탈산 클로라이드를 첨가하고 2시간 교반하여 완료하였다. 다시 수산화리튬으로 발생 염화수소의 97 몰%를 중화하고, 이어서 디에탄올아민을 6 몰% 첨가하여 폴리머 용액을 얻었다.

이것을 2분할하여, 한쪽에는 NMP 중에서 1차 입경 0.02 ㎛의 건식 실리카 입자를 평균 입경 0.3 ㎛으로 분산시킨 슬러리를, 입자량이 폴리머에 대하여 1.5 wt%가 되도록 첨가하였다. 이어서, 폴리머 농도 11 wt%, 30℃에서의 용액 점도를 4000 포이즈로 조정하여 막형성 원액으로 하였다 (이것을 B액이라 함).

또한, 한쪽 폴리머 용액에는 1차 입경 0.05 ㎛의 단분산 입자를 0.1 wt% 첨가하여 폴리머 농도 11 wt%, 30℃에서의 용액 점도를 4100 포이즈로 조정하여 막형성 원액으로 하였다 (이것을 A액이라 함).

A액, B액 모두 각각 3 ㎛ 커트의 필터를 통과한 후 최종 필름 두께가 A액측이 2.5 ㎛, B액측이 2 ㎛가 되도록 구금내에서 혼합하고, 구금에서 금속 벨트상으로 캐스팅하였다. 여기에서, B액이 벨트면측이 되도록 캐스팅하였다. 이 캐스팅된 필름을 140℃의 열풍으로 3분간 가열하여 용매를 증발시키고, 자기 유지성을 얻은 필름을 벨트에서 연속적으로 박리하였다. 이어서, 수조내로 필름을 도입하여 잔존 용매와 중화로 발생한 무기염 등의 압출을 행하였다. 또한, 욕 중에서 세로 방향 (MD 방향)으로 1.2배 연신하였다.

이어서, 텐터에 도입하여 300℃에서 수분의 건조와 열처리를 행하였다. 그 동안에 필름의 폭 방향으로 1.4배 연신을 행하였다. 다시 200℃에서 TD 방향으로 1.03배의 연신을 행하고, 50℃의 냉각실에 0.5초만에 이동시켜 급냉시켰다. 얻어진 필름은 두께 4.5 ㎛이고, 필름 특성은 표 1에 나타냈다. 또한, 흡습률은 1.5%, 표면 조도는 A면이 Ra로 1 nm, B면의 값은 표 1에 나타냈다. 또한, 이 필름의 영률은 MD 방향이 1300 kg/mm², TD 방향이 1400 kg/mm²이었다.

이어서, 이 필름의 A면측을 글로우 방전 처리하여 클리닝한 후 진공 증착법에 의해 Co/Ni (조성비: 80/20%)를 0.2 ㎛의 두께로 증착하였다.

얻어진 필름은 증착면측으로 크게 비틀리게 되어 있었다. 그래서 220℃의 가열 롤에 이 필름을 접촉시켜 비틀림 제거를 행하였다. 결과를 표 1에 나타냈는데, 얻어진 자기 테입의 비틀림은 작아 양호하였다.

<실시예 2>

실시예 1과 같은 폴리머 용액을 2종 사용하여 실시예 1과 같은 방법으로 막형성을 행하였다. B액에는 실시예 1과 같은 입자를 0.5 wt% 첨가하고, 막형성하여 4.5 ㎛의 필름을 얻었고, 다시 증착층을 형성하여 비틀림 제거를 행하였는데 양호하였다. 결과를 표 1에 나타냈다.

<실시예 3>

실시예 1과 동일한 A액, B액을 막형성하였다. 여기에서 TD 방향의 연신을 300℃에서 1.4배 연신한 후, 다시 200℃에서 TD 방향으로 1.02배의 연신을 행하여 40℃의 냉각실에 0.5초 이동시켜 급냉시켰다. 여기에 증착층을 형성하여 비틀림 제거를 행하였는데 양호하였다. 결과를 표 1에 나타냈다.

<실시예 4>

실시예 1과 같은 방법으로 필름을 형성하였다. 여기에서 A면측의 두께를 2.2 μ, B면측의 두께를 1.2 ㎛가 되도록 적층시켜 최종 3.4 μ의 필름을 얻었다. 다시 막형성 과정에서 연신후의 재연신 조건으로서 200℃에서 1.05배의 연신을 행하고, 40℃까지 0.5초만에 냉각시켜 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성은 표 1에 나타내는 바와 같다. 또한, 자성층을 설치한 필름의 비틀림 제거를 행하였는데 표 1에 나타내는 바와 같이 양호하였다.

<비교예 1>

실시예 1과 같은 막형성 방법으로 막형성시키고, 재연신 배율을 320℃에서 1.05배로 하였더니, TD 방향의 열수축률은 표 1에 나타내는 바와 같이 작은 것이었다.

이것을 비틀림 제거했더니 충분히 비틀림이 제거되지 않았다.

<비교예 2>

실시예 1과 같은 막형성 방법으로 막형성시키고, 재연신 배율을 200℃에서 1.1배로 하였더니, TD 방향의 열수축률은 표 1에 나타내는 바와 같이 매우 커졌다.

이것을 비틀림 제거했더니 비틀림이 역방향이 되어 평탄성이 나빠졌다.

<비교예 3>

실시예 1의 막형성 원액으로 B면측의 입자 첨가량을 0.1%로 하여 실시예 1과 동일 조건으로 필름을 제조하였다. 이것을 비틀림 제거했더니 표면이 평활하고 표 1에 나타내는 바와 같이 비틀림 제거가 안정되지 않아 재현성이 나빴다.

	기재 필름	자기 테입의 비틀림
	두께 (㎛)	TD 열수축률(%)	Rz(nm)	μk (-)	방향	비틀림의 양	재현성
실시예 1	4.5	1.5	69	0.27	+	O	O
실시예 2	4.5	1.5	25	0.50	+	O	O
실시예 3	4.5	0.9	63	0.28	+	O	O
실시예 4	3.4	2.6	70	0.30	-	O	O
비교예 1	4.5	0.1	58	0.25	+	X	X
비교예 2	4.5	8.3	72	0.26	-	X	X
비교예 3	4.5	1.3	7	2.3	+	X∼O	X

본 발명에 의해 얻어진 방향족 폴리아미드 필름을 사용함으로써 비틀림이 작고 평탄성이 우수한 고밀도의 자기 기록 매체를 제조할 수가 있다.

Claims

80 kg/cm²하중하에 220℃에서의 TD 방향 열수축률이 0.2 내지 8%이고, 자성층을 설치하는 면과 반대측 면의 ＋점 평균 조도 Rz가 10 내지 200 nm인 것을 특징으로 하는 방향족 폴리아미드 필름.
제1항에 있어서, 자성층을 설치하는 면과 반대측 면의 마찰 계수가 0.1 이상, 2 이하인 방향족 폴리아미드 필름.
제1항에 있어서, 80 kg/cm²하중하에 220℃에서의 TD 방향 열수축률이 0.2 내지 5 %인 방향족 폴리아미드 필름.
제1항에 있어서, 자성층을 설치하는 면과 반대측 면을 형성하는 층내에 평균 입경이 0.01 내지 2.0 ㎛인 입자를 0.01 내지 10 wt% 포함하는 방향족 폴리아미드 필름.
제1항에 있어서, 길이 방향의 인장 영률 E_MD와 폭 방향의 인장 영률 E_TD가 0.5≤E_MD/E_TD≤2를 충족시키는 방향족 폴리아미드 필름.
제1항에 있어서, 흡습률이 4% 이하인 방향족 폴리아미드 필름.
제1 내지 6항 중 어느 한 항에 기재된 방향족 폴리아미드 필름의 한쪽면에 자성층을 설치한 것을 특징으로 하는 자기 기록 매체.