KR19990088487A - 복합폴리에스테르필름및자기기록매체 - Google Patents
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 98
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 title claims abstract description 86
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 71
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 156
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 139
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 94
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims abstract description 44
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims abstract description 44
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims abstract description 39
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims abstract description 39
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 39
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 39
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims abstract description 37
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 26
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims description 6
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 claims description 5
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 claims description 4
- 239000013543 active substance Substances 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 154
- 239000002585 base Substances 0.000 description 52
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 34
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 27
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 27
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 20
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 9
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 9
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 9
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 9
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 241000047703 Nonion Species 0.000 description 5
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101000999373 Homo sapiens Interferon-related developmental regulator 2 Proteins 0.000 description 2
- 102100036480 Interferon-related developmental regulator 2 Human genes 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=C(CO)C=C1 BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N dimethyl terephthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 2
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 229940071125 manganese acetate Drugs 0.000 description 2
- UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);diacetate Chemical compound [Mn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052982 molybdenum disulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012169 petroleum derived wax Substances 0.000 description 2
- 235000019381 petroleum wax Nutrition 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920003053 polystyrene-divinylbenzene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012178 vegetable wax Substances 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylhex-1-en-3-yne Chemical compound CCC#CC(C)=C IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOBYKYZJUGYBDK-UHFFFAOYSA-N 2-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 UOBYKYZJUGYBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001391944 Commicarpus scandens Species 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000446313 Lamella Species 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCUFZILGIRCDQQ-KRWDZBQOSA-N N-[[(5S)-2-oxo-3-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)-1,3-oxazolidin-5-yl]methyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C1O[C@H](CN1C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F VCUFZILGIRCDQQ-KRWDZBQOSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N [3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-ylmethyl)-1-oxa-2,8-diazaspiro[4.5]dec-2-en-8-yl]-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]methanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CC1=NOC2(C1)CCN(CC2)C(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLBCDFFIIASDOW-UHFFFAOYSA-N [Na].OCC(CO)CS(O)(=O)=O Chemical compound [Na].OCC(CO)CS(O)(=O)=O DLBCDFFIIASDOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940117913 acrylamide Drugs 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 239000002998 adhesive polymer Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N allyl isocyanate Chemical compound C=CCN=C=O HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012164 animal wax Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000013480 data collection Methods 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- GYUVMLBYMPKZAZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl naphthalene-2,6-dicarboxylate Chemical compound C1=C(C(=O)OC)C=CC2=CC(C(=O)OC)=CC=C21 GYUVMLBYMPKZAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTVWZWFKMIUSGS-UHFFFAOYSA-N dimethylethyleneglycol Natural products CC(C)(O)CO BTVWZWFKMIUSGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002706 dry binder Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- WARQUFORVQESFF-UHFFFAOYSA-N isocyanatoethene Chemical compound C=CN=C=O WARQUFORVQESFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004200 microcrystalline wax Substances 0.000 description 1
- 235000019808 microcrystalline wax Nutrition 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000012184 mineral wax Substances 0.000 description 1
- WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C(C)=C WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZHRYYYIOGLPCB-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(hydroxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCN(CO)C(=O)C=C HZHRYYYIOGLPCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOZHLACIXDCHPV-UHFFFAOYSA-N n-(methoxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound COCNC(=O)C(C)=C YOZHLACIXDCHPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULYOZOPEFCQZHH-UHFFFAOYSA-N n-(methoxymethyl)prop-2-enamide Chemical group COCNC(=O)C=C ULYOZOPEFCQZHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C=C YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011242 organic-inorganic particle Substances 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJCDFVKYMIUXCR-UHFFFAOYSA-N oxobarium;oxo(oxoferriooxy)iron Chemical compound [Ba]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O AJCDFVKYMIUXCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920000874 polytetramethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BWILYWWHXDGKQA-UHFFFAOYSA-M potassium propanoate Chemical compound [K+].CCC([O-])=O BWILYWWHXDGKQA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004331 potassium propionate Substances 0.000 description 1
- 235000010332 potassium propionate Nutrition 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G11B5/73927—Polyester substrates, e.g. polyethylene terephthalate
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Abstract
본 발명은 하기를 함유하는 복합 폴리에스테르 필름에 관한 것이다:
(1) 불활성 입자를 함유하지 않거나, 평균 입자 직경이 5 내지 2,000 nm 인 불활성 입자를 방향족 폴리에스테르를 기준으로 0.001 내지 5.0 중량% 의 양으로 함유하는, 방향족 폴리에스테르의 베이스 필름 C;
(2) 베이스 필름 C 의 일면상의 코팅층 A 으로서, 상기 코팅층 A 는 바인더 수지, 불활성 입자, 계면활성제 및 실록산 공중합된 아크릴 수지를 함유하고, 상기 코팅층 A 의 외표면은 그 위에 자성층을 형성하기 위한 표면은 아니며, 상기 실록산 공중합된 아크릴 수지의 함유량은 코팅층 A 를 기준으로 1 내지 50 중량% 인 코팅층 A; 및
(3) 코팅층 A 가 존재하지 않는 베이스 필름 C 상의 다른 한쪽면상의 코팅층 B 로서, 상기 코팅층 B 는 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지, 실록산 공중합된 아크릴 수지, 실리콘 및 왁스로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 성분, 바인더 수지, 불활성 입자 및 계면활성제를 함유하고, 상기 코팅층 B 의 외표면은 그 위에 자성층을 형성하기 위한 표면이며, 상기 성분의 함유량은 상기 성분이 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지일 경우에는 코팅층 B 를 기준으로 5 내지 90 중량% 이고, 상기 성분이 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지가 아닐 경우에는 코팅층 B 를 기준으로 1 내지 50 중량% 인 코팅층 B.
Description
본 발명은 복합 폴리에스테르 필름 및 자기(磁氣) 기록 매체에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 필름의 대전량(amount of electrostatic charge)이 적고, 블록킹(blocking)이 없으며, 쪼개짐(chipping)이 거의 없고, 전자기 변환 특성, 자성층에의 접착성 및 백코트에 대한 접착성이 우수한 고밀도 자기 기록 매체용 베이스 필름으로서 사용되기에 적합한 복합 폴리에스테르 필름, 및 이것을 베이스 필름으로 함유하는 자기 기록 매체에 관한 것이다.
비디오 테이프, 오디오 테이프, 메모리 테이프, 자기 시이트 또는 자기 디스크와 같은 자기 기록 매체는 베이스 필름 및 이 베이스 필름의 표면상에 형성된 자성층을 함유한다. 미끄럼성(slipperiness)을 획득하기 위하여, 많은 경우 상기 자성층의 반대측 표면상에 매끈매끈한 백코트층을 만든다. 상기 자기 기록 매체의 베이스 필름으로서, 폴리에스테르 필름이 주로 사용된다. 폴리에스테르 필름의 자성층에의 접착성 및 폴리에스테르 필름의 매끈한 백코트층에의 접착성은 중요한 성질이다. 이들 접착성이 불충분할 경우, 자성층과 백코트층은 박리되고, 자기 기록 매체의 음향 기록, 영상 기록 또는 재생 단계에서 자기 특성은 완전히 소실된다.
향상된 접착성을 갖는 폴리에스테르 필름은 표면을 코로나 방전 처리한 것, 표면을 접착 수지로 코팅시킨 것 등을 포함한다. 월등한 접착 효과를 제공하기 위해, 폴리에스테르 베이스 필름의 표면을 접착 수지로 코팅하는 것이 바람직하다는 것이 공지되어 있다.
최근, 자기 기록 밀도의 증가와 함께, 사용되는 폴리에스테르 필름의 표면은 덜 거칠고 더 매끄럽게 만들어졌다. 이 경우, 접착 수지로 코팅된 통상적인 폴리에스테르 필름이 롤로 감겨질 경우 쉽게 블록킹이 발생하고, 자기 매체의 생산 공정에서 롤로 감지 않을 경우 필름은 쉽게 울퉁불퉁해지거나 찢어진다.
특히, 증착 비디오 테이프와 같이 진공 증착에 의해 폴리에스테르 필름의 표면상에 형성된 자성의 금속 박막을 갖는 증착 테이프에서, 사용된 베이스 필름은 낮은 표면 거칠기(roughness)를 가지며, 따라서, 테이프 주행 표면의 미끄럼성은 자기면의 반대측 표면상에 백코트층을 형성함으로써 향상될 것이다. 폴리에스테르 필름의 표면을 통상적인 기술에 의해 접착 수지로 코팅하여 백코트층의 폴리에스테르 필름에의 접착성을 향상시킬 경우, 베이스 필름의 표면 거칠기가 아주 낮기 때문에 블록킹이 쉽게 발생한다.
상기 블록킹은 공기중에 포함된 수분이 필름의 표면으로 스며들거나 필름의 접촉 표면 사이를 관통하여, 필름의 접촉면이 필름 사이의 압력에 의해 상호 접착하는 상태가 된다. 필름 생산후 또는 베이스 필름에 사용하기 전의 필름 롤은 공장내에서 낮은 습도로 보관된다. 보관 조건을 엄격히 조절함으로써 블록킹을 어느 정도로 방지하는 것은 가능하다 할지라도, 이 문제에 대한 근본적인 해결책은 없다. 특히, 증착 자기 기록 매체용 폴리에스테르 필름의 경우, 보관하는 동안 습도만을 조절함으로써 접착 필름의 블록킹을 방지하는 것은 불가능하다.
쉽게 블록킹되는 폴리에스테르 필름은 쉽게 대전되며, 고 대전 필름은, 필름 형성 및 테이프 형성시 필름의 취급성을 극도로 악화시키고, 대전에 의해 발생된 불꽃은 테이프의 형성에 사용된 유기 용매를 점화시킬 수 있으며, 상기 필름은 공기중의 부유 분진을 전기적으로 쉽게 흡수하여, 고밀도 기록을 요하는 증착 테이프 등에서 드롭 아웃(drop out)을 유발하는 문제를 수반한다.
JP-A 61-5941 (명세서에서 사용된 "JP-A" 란 용어는 "일본 특허출원 공개공보" 를 의미한다) 에는 자기 금속 박막이 증착된 자기 기록 매체용 베이스 필름으로서 사용되는 접착성 폴리에스테르 필름이 개시되어 있는데, 여기에서 상기 자기 기록 매체는 Ra 값이 0.002 내지 0.030 ㎛ 인 매끄러운 폴리에스테르 필름 및 이 폴리에스테르 필름의 양면에 형성된 중합체층을 함유하고, 이 중합체층중 적어도 하나는 접착 수지 및 이 접착 수지를 기준으로 0.1 내지 30 중량% 의 실리콘으로 주요 구성되며, 자성층이 다른 중합체층상에 형성된다. 접착 수지로서, 폴리우레탄, 폴리에스테르 에테르 공중합체, 수용성 폴리에스테르 공중합체, 및 폴리에틸렌 글리콜-술폰산 알칼리 금속염을 함유하는 폴리에스테르 공중합체를 열거할 수 있다. 사용가능한 실리콘 화합물은 하기식으로 표현되는 사슬 성분을 갖는 화합물이라는 것은 공지되어 있다:
[식중, R1은 CH3, C6H5또는 H 이고, R2는 CH3, C6H5, H, 또는 관능기 (예, 에폭시기, 아미노기 또는 히드록시기) 이고, n 은 100 내지 7,000 의 정수이다].
JP-A 10-261215 에는 SRa 값이 2 내지 4 nm 이고 SRz 값이 10 내지 40 nm 인 표면 A 를 갖는 폴리에스테르 필름, 및 이 폴리에스테르 필름의 다른 표면 B 상에 형성된 코팅층으로 이루어진 자기 기록 매체용 폴리에스테르 필름이 개시되어 있으며, 여기에서 상기 코팅층은 불소 화합물 또는 규소 화합물과 코팅 필름내 및/또는 코팅 필름의 표면상에 존재하는 미립자를 공중합시킴으로써 제조된 20 내지 80 중량% 의 접착 중합체로 이루어지며, 강자성 금속 박막은 표면 A 의 외표면상에 형성되고, 백코트층은 코팅층의 외표면상에 형성된다.
JP-A 10-261216 에는 SRa 값이 2 내지 4 nm 이고 SRz 값이 10 내지 40 nm 인 표면 A 를 갖는 폴리에스테르 필름, 및 이 폴리에스테르 필름의 다른 표면 B 상에 형성된 접착 수지로 주요 구성된 중합체층으로 이루어진 자기 기록 매체용 폴리에스테르 필름이 개시되어 있으며, 여기에서 상기 접착 수지는 0.1 내지 30 중량% 의 불소 화합물 또는 규소 화합물을 공중합시켜 제조되고, 강자성 금속 박막은 표면 A 의 외표면상에 형성되고, 백코트층은 코팅층의 외표면상에 형성된다.
WO 98/49008 에는 베이스 필름 C, 베이스 필름 C 의 한쪽면에 존재하는 코팅층 A 및 베이스 필름 C 의 다른 한쪽면에 존재하는 코팅층 B 로 이루어진 복합 필름인 저 대전성 복합 폴리에스테르 필름이 개시되어 있으며, 여기에서,
(1) 코팅층 A 는 평균 입자 직경이 5 내지 100 nm 이고 표면 돌기 밀도가 1×106내지 1×108개/㎟ 이며 중심선 평균 표면 거칠기 (Ra-A) 는 0.1 내지 2 nm 인 불활성 입자를 함유하는 수용성 수지 또는 수분산성 수지로부터 만들어지고;
(2) 코팅층 B 는 상기층 B 를 기준으로, 평균 입자 직경이 20 내지 100 nm 인 불활성 입자 1 내지 40 중량%, 및 5 내지 85 중량% 의 실리콘-개질 폴리에스테르 수지 또는 1 내지 30 중량% 의 실리콘 또는 왁스를 함유하는, 수용성 수지 또는 수분산성 수지 함유 조성물 60 내지 99 중량% 로 이루어지며;
(3) 베이스 필름 C 는 불활성 입자를 함유하지 않거나, 또는 평균 입자 직경이 5 내지 2,000 nm 인 불활성 입자를 0.001 내지 5.0 중량% 의 양으로 함유하는, 방향족 폴리에스테르 필름이다.
상기의 복합 폴리에스테르 필름은 코팅층 A 의 외표면상에 자기 기록층을 갖는 자기 기록 매체를 제조하기 위한 베이스 필름으로서 사용된다.
본 발명의 목적은 대전량이 적고, 블록킹이 없으며, 쪼개짐이 거의 없고, 전자기 변환 특성, 자성층에의 접착성 및 백코트에 대한 접착성이 우수한 고밀도 자기 기록 매체용 베이스 필름으로 사용하기에 적합한 복합 폴리에스테르 필름을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 상기 특성을 가지면서, 새로운 조성의 백코트층을 갖는 복합 폴리에스테르 필름을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 상기 특성을 가지면서, 그 위에 자성층을 형성하기 위한 새로운 조성을 갖는 코팅층을 갖는 복합 폴리에스테르 필름을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 상기 특성을 가지면서, 새로운 조성을 갖는 백코트층 및 그 위에 자성층을 형성하기 위한 새로운 조성을 갖는 코팅층을 갖는 복합 폴리에스테르 필름을 제공하는 것이다.
본 발명의 기타 목적 및 잇점은 하기의 명세서를 통해 명백히 드러날 것이다.
본 발명에 따르면, 첫째, 상기의 목적 및 본 발명의 이점은 하기로 구성된 복합 폴리에스테르 필름 (이하에서는 "본 발명의 제 1 복합 폴리에스테르 필름" 으로 지칭되기도 함) 을 통해서 성취된다:
(1) 불활성 입자를 함유하지 않거나, 또는 방향족 폴리에스테르를 기준으로 0.001 내지 5.0 중량% 의 양으로 5 내지 2,000 nm 의 평균 입자 직경을 가지는 불활성 입자를 함유하는, 방향족 폴리에스테르의 베이스 필름 C; 및
(2) 베이스 필름 C 의 한쪽면상의 코팅층 A 로서, 상기 코팅층 A 는 바인더 수지, 불활성 입자, 계면 활성제 및 실록산 공중합된 아크릴 수지를 함유하고, 상기 코팅층 A 의 외표면은 그 위에 자성층을 형성하기 위한 표면이 아니며, 실록산 공중합된 아크릴 수지는 코팅층 A 를 기준으로 1 내지 50 중량% 의 양으로 함유되어 있는 코팅층 A.
둘째, 상기의 목적 및 본 발명의 이점은 하기로 구성된 복합 폴리에스테르 필름 (이하에서는 "본 발명의 제 2 복합 폴리에스테르 필름" 으로 지칭되기도 함) 을 통해서 성취된다:
(1) 불활성 입자를 함유하지 않거나, 또는 5 내지 2,000 nm 의 평균 입자 직경을 가지는 불활성 입자를 방향족 폴리에스테르를 기준으로 0.001 내지 5.0 중량% 의 양으로 함유하는, 방향족 폴리에스테르의 베이스 필름 C; 및
(2) 베이스 필름 C 의 한쪽면상의 코팅층 B 로서, 상기 코팅층 B 는 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지, 실록산 공중합된 아크릴 수지, 실리콘 및 왁스로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 성분, 바인더 수지, 불활성 입자 및 계면 활성제을 함유하고, 상기 코팅층 B 의 외표면은 그 위에 자성층을 형성하기 위한 표면이며, 상기 성분의 함유량은 상기 성분이 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지일 때는 코팅층 B 를 기준으로 5 내지 90 중량% 이고, 상기 성분이 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지가 아닐 경우에는 코팅층 B 를 기준으로 1 내지 50 중량% 인 코팅층 B.
셋째, 상기의 목적 및 본 발명의 이점은 하기로 구성된 복합 폴리에스테르 필름 (이하에서는 "본 발명의 제 3 복합 폴리에스테르 필름" 으로 지칭되기도 함) 을 통해서 성취된다:
(1) 불활성 입자를 함유하지 않거나, 또는 5 내지 2,000 nm 의 평균 입자 직경을 가지는 불활성 입자를 방향족 폴리에스테르를 기준으로 0.001 내지 5.0 중량% 의 양으로 함유하는, 방향족 폴리에스테르의 베이스 필름 C;
(2) 베이스 필름 C 의 한쪽면상의 코팅층 A 로서, 상기 코팅층 A 는 바인더 수지, 불활성 입자, 계면 활성제 및 실록산 공중합된 아크릴 수지를 함유하고, 상기 코팅층 A 의 외표면은 그 위에 자성층을 형성하기 위한 표면이 아니며, 실록산 공중합된 아크릴 수지는 코팅층 A 를 기준으로 1 내지 50 중량% 의 양으로 함유되어 있는 코팅층 A; 및
(3) 코팅층 A 가 존재하지 않는 베이스 필름 C 의 한쪽면상의 코팅층 B 로서, 상기 코팅층 B 는 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지, 실록산 공중합된 아크릴 수지, 실리콘 및 왁스로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 성분, 바인더 수지, 불활성 입자 및 계면 활성제을 함유하고, 상기 코팅층 B 의 외표면은 그 위에 자성층을 형성하기 위한 표면이며, 상기 성분의 함유량은 상기 성분이 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지일 때는 코팅층 B 를 기준으로 5 내지 90 중량% 이고, 상기 성분이 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지가 아닐 경우에는 코팅층 B 를 기준으로 1 내지 50 중량% 인 코팅층 B.
더욱 상세한 설명은 하기와 같다:
본 발명의 제 1 복합 폴리에스테르 필름을 먼저 이하에 설명한다.
베이스 필름 C 는 방향족 폴리에스테르로부터 만들어진다. 방향족 폴리에스테르는 불활성 입자를 함유할 수 있다. 그것이 불활성 입자를 함유할 때, 그것은 0.001 내지 5.0 중량% 의 5 내지 2,000 nm 의 평균 입자 직경을 가지는 불활성 입자를 함유한다.
방향족 폴리에스테르는 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 이소프탈레이트, 폴리테트라메틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-시클로헥실렌 디메틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 등으로부터 선택된다. 이들중 폴리에틸렌 테레프탈레이트 및 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트가 바람직하다.
방향족 폴리에스테르는 단독폴리에스테르 또는 공폴리에스테르일 수 있다. 공폴리에스테르인 경우, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 및 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트와 공중합가능한 성분은 디올 성분, 예를 들어 디에틸렌 글리콜, 프로필렌 그리콜, 네오펜틸 글리콜, 폴리옥시에틸렌 글리콜, p-크실렌 글리콜 및 1,4-시클로헥산디메탄올; 다른 디카르복실산 성분, 예를 들어 아디프산, 세바스산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 (폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트용), 2,6-나프탈렌디카르복실산 (폴리에틸렌 테레프탈레이트용) 및 5-소듐 술포이소프탈산; 옥시카르복실산 성분, 예를 들어 p-옥시에톡시벤조산; 등을 포함한다. 공중합가능한 성분의 양은 20 mol% 이하, 바람직하게는 10 mol% 이하이다.
또한, 트리멜리트산 또는 파이로멜리트산과 같은 3 이상의 관능기를 가지는 다관능성 화합물을 공중합시킬 수 있다. 이경우, 그것은 바람직하게는 중합체가 실질적으로 선형, 예를 들어 2 mol% 이하가 되는 양으로 공중합된다.
베이스 필름 C 의 두께는 바람직하게는 1 내지 20 ㎛, 더욱 바람직하게는 2 내지 10 ㎛ 이다.
본 발명에 있어서 베이스 필름 C 는 상술한 바처럼 불활성 입자를 포함하거나 포함하지 않을 수 있다. 그것이 불활성 입자를 포함할 때, 불활성 입자는 유기성 입자 또는 무기성 입자일 수 있다. 베이스 필름 C 에 함유되어 있는 불활성 입자는 코팅층 A 및 코팅층 B 에 함유되어 있는 불활성 입자와 동등하거나 상이할 수 있으며, 하기에 그것의 형태 및 평균 입자 직경이 상세히 설명된다. 불활성 입자의 예시적 예는 코어-쉘(core-shell) 구조의 유기성 입자, 예를 들어 폴리스티렌, 폴리스티렌-디비닐벤젠, 폴리메틸 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트 공중합체, 메틸 메타크릴레이트 공중합체 가교 물질, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리아크릴로니트릴, 벤조구아나민 수지 및 이들 중합체를 함유하는 그래프트 공중합체; 및 무기성 입자, 예를 들어 실리카, 알루미나, 산화 티탄, 장석, 카올린, 활석, 흑연, 칼슘 카르보네이트, 몰리브덴 디술피드, 카본 블랙 및 바륨 술페이트를 포함한다. 이들 입자를 바람직하게는 폴리에스테르의 제조도중, 예를 들어 에스테르 교환 방법에 의해 제조될 때는 에스테르 교환반응 또는 다중 축합반응 도중의 언제든지, 또는 직접 중합법에 의해 제조될 때는 언제든지, 글리콜내에 함유된 슬러리로서 반응계에 첨가한다. 불활성 입자의 평균 입자 직경은 바람직하게는 5 내지 2,000 nm, 더욱 바람직하게는 10 내지 1,800 nm 이다. 불활성 입자의 양은 0.001 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 0.001 내지 2.0 중량%, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 1.5 중량% 이다.
불활성 입자의 용적 형상 계수는 바람직하게는 0.1 내지 π/6, 더욱 바람직하게는 0.4 내지 π/6 이다.
용적 형상 계수 (f) 는 하기의 일반식으로 정의된다.
f = V/R3
[식중 f 는 용적 형상 계수, V 는 불활성 입자의 부피 (㎛3) 및 R 은 불활성 입자의 평균 입자 직경 (㎛)이다.]
계수 (f) 가 π/6 일때, 불활성 입자는 구상 (구형) 이다. 계수가 0.4 내지 π/6 일때, 불활성 입자는 실질적으로 구상 (구형) 또는 럭비공과 같은 타원형이다. 0.1 미만의 용적 형상 계수 (f) 를 가지는 입자, 예를 들어 플레이크형(flake-like) 입자가 충분한 주행 내구성을 성취하는 것은 어렵다.
베이스 필름 C 는 단일층 필름 또는 각층의 상이한 조성물을 가지는 방향족 폴리에스테르 필름이로 이루어진 다층 필름일 수 있다.
본 발명의 제 1 복합 폴리에스테르 필름은 베이스 필름 C 의 한쪽면상에 코팅층 A 를 가진다. 코팅층 A 는 바인더 수지, 불활성 입자, 계면 활성제 및 실록산 공중합된 아크릴 수지를 함유한다.
바인더 수지의 예시적 예는 알키드 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 아미노 수지, 폴리우레탄 수지, 셀룰로오스 수지, 비닐 아세테이트 수지, 비닐 클로라이드-비닐 아세테이트 공중합체, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지 및 아크릴-폴리에스테르 수지를 포함한다.
이들중, 수용성 또는 수-분산성 수지인 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지 및 아크릴-폴리에스테르 수지가 베이스 필름으로써 폴리에스테르 필름에의 접착성, 돌기 정체성 및 미끄럼성의 관점에서는 바람직하다. 이들 수지는 단독중합체, 공중합체 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 바인더 수지의 함량은 바람직하게는 20 내지 90 중량% 이다.
상기 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지는 바람직하게는 수용성 또는 수분산성이다. 상기 수지는, 폴리에스테르 수지의 양 말단에 라디칼 개시제를 첨가하여 실록산의 중합을 수행하거나, 또는 실록산의 측쇄에 히드록실기를 첨가하고, 말단에 이소시아네이트기 또는 카르복실기를 갖는 폴리에스테르와 반응시켜 빗-모양(comb-like) 중합체를 형성하여, 실록산의 중합 반응을 수행함으로써 제조될수 있다.
중합에 사용되는 폴리에스테르 수지의 예로는, 본 발명의 제 1 복합 폴리에스테르 필름의 코팅층 A 에 사용된 폴리에스테르 수지로 예시된 것과 동일한 것을 들 수 있다. 실록산은 상기 화학식 1로 표시된 사슬 성분을 가지고 있는 화합물 또는, 에폭시기, 아미노기, 히드록실기 또는 다른 관능성 말단기를 가지고 있는 화합물이다. 본 발명에서, 상기 실록산 화합물은 반드시 단일 중합체일 필요는 없으며, 공중합체 또는 여러 단일 중합체의 혼합물이 될수도 있다.
폴리에스테르 수지성분 대 실록산 성분의 중량비는 바람직하게는 98:2 내지 60:40, 더욱 바람직하게는 95:5 내지 80:20이다.
실록산 공중합된 아크릴 수지의 예로는, 본 발명의 제 1 복합 폴리에스테르 필름의 코팅층 A 에서 기술된 실록산 공중합된 아크릴 수지로 예시된 것과 동일한 것을 들 수 있다. 실리콘의 예로는 상기 실록산 공중합된 아크릴 수지의 실록산 성분으로 예시된 것과 동일한 중합체를 들수 있다.
왁스는 석유왁스, 식물성 왁스, 광물성 왁스, 동물성 왁스, 저분자량 폴리올레핀 등을 들수 있으며, 특별하게 제한되지는 않는다. 석유 왁스의 예로는, 파라핀 왁스, 마이크로결정성 왁스, 산화물 왁스등을 들수 있다. 식물성 왁스로는, 칸델라 왁스, 카르나우바 왁스, 재팬 왁스, 오리쿠리에 왁스, 카네 왁스, 로진 개질 왁스 등을 들수 있다.
코팅층 B 에서 실록산 공중합된 아크릴 수지, 실리콘 또는 왁스의 함유량은 1 내지 50 중량%, 바람직하게는 1 내지 30 중량% 이다. 상기 함량이 1 중량% 미만이면, 블로킹이 발생하고, 이로 인해 대전량이 증가하며, 상기 함량이 50 중량% 를 초과하면, 자성층의 접착성이 저하되거나 필름의 주행시 접촉 롤이 오염된다.
코팅층 B 에서 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지의 함유량은 5 내지 90 중량%, 바람직하게는 20 내지 80 중량% 이다. 상기 함량이 5 중량% 미만이면, 효과가 만족스럽지 않으며, 블로킹이 발생하고, 대전량이 증가하며, 상기 함량이 90 중량% 를 초과하면, 자성층의 접착성이 저하되거나 필름의 주행시 접촉 롤이 오염된다.
코팅층 B 는 추가로 바인더 수지, 불활성 입자 그리고 계면활성제를 함유한다. 상기 각 성분에 대해 여기에서 기술되지 않은 것에 대해서는, 본 발명의 제 1 복합 폴리에스테르 필름의 코팅층 A 에 대해 기술된 것을 그대로 적용할수 있는 것으로 이해할수 있다.
바람직하게는 상기 바인더 수지는 JIS-K7206 (건조 바인더 수지에 대해)에 따라 측정된 연화점이 50℃ 이상으로서 코로나 처리 내블록킹성을 개선시킨다. 그러나, 코팅층 B 의 표면은 코팅층 B 의 수지의 Tg 가 너무 높다면 코팅 조건 등에 따라 거칠게 될수 있다. 따라서, 유리전이온도 Tg 가 높은 바인더 수지가 사용될 경우, 전자기 변환 특성이 거친 표면에 의해 질적으로 저하되는 것을 방지할수 있도록 코팅 조건을 조절함으로써 코팅층 B 의 표면을 거칠게 하지 않도록 하는 것이 중요하다. 이 경우에 "거칠기"는 접촉 표면 거칠기 측정기로 10 ㎛2의 면적을 측정하였을때 수득된 입방평균 거칠기를 의미한다. 거칠기는 바람직하게는 2.0 nm 이하, 더욱 바람직하게는 1.8 nm 이하, 더욱더 바람직하게는 1.5 nm 이하이다.
불활성 입자는 바람직하게는 평균 입자직경이 5 내지 100 nm, 더욱 바람직하게는 10 내지 50 nm 이다. 더욱이, 불활성 입자는 균일한 입자크기 분포를 가지고 있는 것이 바람직하다. 평균입자직경이 5 nm 미만일 경우, 미끄럼성과 내쪼개짐성(chipping resistance)이 저하되기 쉽다. 평균입자직경이 100 nm 를 초과할 경우, 입자의 탈락이 발생되며, 내쪼개짐성이 저하되기 쉽다. 자기 헤드와 필름사이의 공간이 크게 되기 때문에, 고밀도 자기 기록 매체를 제공하기가 어렵다.
상기 불활성 입자는 코팅층 B 의 표면 돌기밀도가 1 내지 100 개/㎛2이 되도록 코팅층 B 에 함유된다. 표면돌기밀도가 1 개/㎛2미만일 경우, 수득한 자기 기록 매체의 주행 내구성이 불만족스럽게 되는 경향이 있다. 표면돌기밀도가 100 개/㎛2를 초과하는 경우, 전자기 변환 특성이 나쁜 영향을 받을 수 있다. 표면돌기밀도는 바람직하게는 2 내지 50 개/㎛2, 더욱 바람직하게는 3 내지 30 개/㎛2이다. 코팅층 B 에 함유된 상기 불활성 입자의 응집율은 바람직하게는 20 % 이하이다. 응집율이 20 % 이상인 경우, 입자는 쉽게 탈락되거나, 혹은 수득한 자기 기록 매체의 전자기 변환 특성이 나쁜 영향을 받을 수도 있다.
비접촉 3차원 거칠기 측정기로 수득된 표면거칠기 프로파일로부터 계산된 높이 4 nm 이상의 큰 돌기는 바람직하게는 200 개/mm2이하, 더욱 바람직하게는 100 개/mm2이하의 최대밀도에서 코팅층 B 의 베이스 필름 C 와 접촉하지 않는 표면상에 존재한다. 우수한 주행 내구성은 상기 돌기의 존재에 의해 수득될수 있다.
불활성 입자의 함량은 바람직하게는 0.5 내지 30 중량%, 바람직하게는 1 내지 20 중량% 이다. 코팅층 B 의 두께는 바람직하게는 1 내지 100 nm, 더욱 바람직하게는 2 내지 20 nm 이다.
코팅층 B 의 외표면의 RaB는 바람직하게는 0.1 내지 2 nm, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 1.5 nm 이다. RaB가 2 nm 를 초과하는 경우, 수득한 금속 박막 자기 기록 매체의 전자기 변환 특성은 저하될수 있으며, RaB가 0.1 nm 미만인 경우 미끄럼성이 현저하게 저하될수 있으며, 주행 내구성이 불만족스럽게 되고, 상기 필름은 자기 헤드에 들러붙어 테이프로부터 소음이 발생된다.
따라서, 상기 테이프는 실제적인 용도에 사용되기 어려울수 있다.
계면활성제는 바람직하게는 코팅층 B 에서 10 내지 50 중량%, 더욱 바람직하게는 12 내지 40 중량%, 특히 바람직하게는 15 내지 30 중량% 로 사용된다. 계면활성제의 양이 10 중량% 미만 (전체 고형분을 기준으로) 인 경우, 시싱(cissing)과 같은 결점이 코팅시에 발생되기 쉬우며, 상기 함량이 50 중량% 를 초과하는 경우, 발포에 의해 선형 코팅 결점이 형성된다. 바람직하게는 코로나 처리 내블로킹성을 양호하게 하기 위해서는 계면활성제는 JIS-K7206 (건조 계면활성제에 대해) 에 따라 측정한 연화점이 30℃ 이상인 것이 좋다.
계면활성제로서는 비이온성 계면활성제가 바람직하며, 특히 알킬 알콜, 알킬 페닐 알콜 또는 고급 지방산에 (폴리)에틸렌 옥사이드를 첨가하거나 결합시킴으로써 제조한 계면활성제가 바람직하다.
비이온성 계면활성제의 예로는, NOF사의 Nonion NS-230, NS-240, HS-220 및 HS-240, 산요화학회사의 Nonipole 200, Nonipole 400, Nonipole 500 및 Octapole 400과 같은 폴리옥시에틸렌 알킬페닐에테르계 화합물, NOF사의 Nonion E-230, K-220 및 K-230과 같은 폴리옥시에틸렌 알킬에테르계 화합물 그리고 NOF사의 Nonion S-15.4 및 S-40과 같은 고급 지방산의 폴리옥시에틸렌 에스테르계 화합물을 들수 있다.
상기외에 다른 계면활성제가 코팅층 B 의 코팅액을 코팅할때, 코팅되지 않은 부분이 발생되는 것을 방지하기위해 (전체 고형분의 함량을 기준으로) 10 중량% 미만의 양으로 상기외에 다른 계면활성제가 조합되어 사용될수도 있다.
상기 코팅층 B 는 그의 외표면과 기재필름 C의 코로나 처리된 노출표면간의 박리강도를 15 g/10 cm 이하로 유지시킬수 있도록 하는 성질을 가지고 있는 것이 바람직하다. 상기 박리강도가 15 g/10 cm 를 초과하는 경우, 필름이 사용될때 블로킹에 의해 파손되기 쉽다. 상기 박리강도는 10 g/10 cm 이하인 것이 바람직하다.
코팅층 B 의 두께는 바람직하게는 1 내지 100 nm, 더욱 바람직하게는 2 내지 50 nm, 더욱더 바람직하게는 3 내지 10 nm, 특히 바람직하게는 3 내지 8 nm 이다.
코팅층 B 의 외표면은 그위에 자성층을 형성하기위한 표면이다.
마지막으로, 본 발명의 제 3 복합 폴리에스테르 필름을 이하에서 기술한다.
상기 제 3 복합 폴리에스테르 필름은 기재필름 C, 코팅층 B, 및 코팅층 A 을 함유한다. 베이스 필름 C 와 코팅층 A 에 대해 여기에서 기재되지 않은 것은 제 2 복합 폴리에스테르 필름에 대해 기재된 것이 그대로 사용될수 있는 것으로 이해할수 있다. 코팅층 B 에 대해 여기에서 기재되지 않은 것은 제 2 복합 폴리에스테르 필름에 대해 기재된 것이 그대로 사용될수 있는 것으로 이해할수 있다.
상기 수용성 및 수분산성 아크릴 수지로는, 예를 들어, 아크릴산 에스테르 (알콜 잔기로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 2-에틸헥실기, 시클로헥실기, 페닐기, 벤질기, 페닐에틸기 등이 포함된다); 메타크릴산 에스테르 (알콜 잔기는 상기와 동일하다); 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트, 2-히드록시프로필 아크릴레이트 및 2-히드록시프로필 메타크릴레이트와 같은 히드록시-함유 단량체; 아크릴아미드, 메타크릴아미드, N-메틸 메타크릴아미드, N-메틸 아크릴아미드, N-메틸올 아크릴아미드, N-메틸올 메타크릴아미드, N,N-디메틸올 아크릴아미드, N-메톡시메틸 아크릴아미드, N-메톡시메틸 메타크릴아미드 및 N-페닐 아크릴아미드와 같은 아미드기-함유 단량체; N,N-디에틸 아미노에틸 아크릴레이트 및 N,N-디에틸 아미노에틸 메타크릴레이트와 같은 아미노기-함유 단량체; 글리시딜 아크릴레이트, 글리시딜 메타크릴레이트 및 알릴 글리시딜 에테르와 같은 에폭시기-함유 단량체; 스티렌술폰산, 비닐술폰산 및 그의 염 (나트륨염, 칼륨염 및 암모늄염)과 같은 술폰산기 또는 그의 염을 함유하는 단량체; 크로톤산, 이타콘산, 아크릴산, 말레산, 푸마르산 및 그의 염 (나트륨염, 칼륨염 및 암모늄염)과 같은 카르복실기 또는 그의 염을 함유하는 단량체; 말레산 무수물 및 이타콘산 무수물과 같은 무수물을 함유하는 단량체; 및 비닐 이소시아네이트, 알릴 이소시아네이트, 스티렌, 비닐 메틸 에테르, 비닐 에틸 에테르, 비닐 트리스알콕시실란, 알킬 말레산 모노에스테르, 알킬 푸마르산 모노에스테르, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 알킬 이타콘산 모노에스테르, 비닐리덴 클로라이드, 비닐 아세테이트 및 비닐 클로라이드과 같은 단량체의 조합을 들 수 있다. 아크릴산 유도체 또는 메타크릴산 유도체와 같은 (메트)아크릴 단량체를 50 몰% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 메틸 메타크릴레이트를 함유하는 것이 특히 바람직하다.
수용성 또는 수분산성 아크릴 수지는 분자내에서 관능기와 자가-가교결합될 수 있거나 또는 멜라민 수지 또는 에폭시 화합물과 같은 가교결합제를 이용하여 가교결합될 수 있다.
상기 수용성 또는 수분산성 폴레에스테르 수지는 폴리카르복실산 및 폴리히드록시 화합물을 함유한다. 폴리카르복실산의 예시적인 예로는 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 4,4'-디페닐디카르복실산, 아디프산, 세바스산, 도데칸디카르복실산, 숙신산, 5-나트륨 술포이소프탈산, 2-칼륨 술포테레프탈산, 트리멜리트산, 트리메스산, 트리멜리트산 무수물, 프탈산 무수물, p-히드록시벤조산, 모노칼륨 트리멜리테이트 등이 포함된다. 폴리히드록실 화합물의 예시적인 예로는 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸 글리콜, 1,4-시클로헥산 디메탄올, p-크실릴렌 글리콜, 비스페놀 A 와 에틸렌 옥시드와의 부가물, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 폴리에틸렌 옥시드 글리콜, 폴리테트라메틸렌 옥시드 글리콜, 디메틸올프로피온산, 글리세린, 트리메틸올 프로판, 디메틸올 에틸 술폰산나트륨, 디메틸올 프로피온산 칼륨 등이 포함된다. 폴리에스테르 수지는 통상적으로 사용되는 방법에 따라서 상기 화합물들로부터 생성될 수 있다. 수용성 또는 수분산성 폴리에스테르 수지를 생산하기 위해서, 5-나트륨 술포이소프탈산 성분 또는 카르복실레이트기를 함유하는 수성 폴리에스테르 수지가 바람직하게 사용된다. 폴리에스테르 수지는 분자내에서 관능기와 자가-가교결합될 수 있거나 또는 멜라민 수지 또는 에폭시 수지와 같은 경화제를 사용하여 가교결합될 수 있다.
상기 수용성 또는 수분산성 아크릴-폴리에스테르 수지는 그라프트형 및 블록형 수지와 같이, 아크릴 수지 성분 및 폴리에스테르 수지 성분이 함께 결합되어 있는, 아크릴 개질 폴리에스테르 수지 및 폴리에스테르 개질 아크릴 수지 모두를 내포한다. 아크릴-폴리에스테르 수지는, 예를 들어, 폴리에스테르 수지의 양 말단에 라디칼 개시제를 첨가하여 아크릴 단량체를 중합화하므로써, 폴리에스테르 수지의 측쇄에 라디칼 개시제를 첨가하여 아크릴 단량체를 중합화함으로써, 또는 아크릴 수지의 측쇄에 히드록실기를 첨가하고 말단에 이소시아네이트기 또는 카르복실기를 갖는 폴리에스테르와 반응시켜 빗-모양 중합체를 형성하므로써 생성될 수 있다.
코팅층 A 중에 함유된 불활성 입자는 폴리스티렌, 폴리스티렌-디비닐벤젠, 폴리메틸 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트 공중합체, 메틸 메타크릴레이트 가교결합된 공중합체, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리아크릴로니트릴 또는 벤조구아나민 수지와 같은 유기 입자, 또는 실리카, 알루미나, 티타늄 디옥시드, 카올린, 탈크, 흑연, 탄산칼슘, 장석, 몰리브덴 디술피드, 카본 블랙 또는 황산바륨과 같은 무기 입자일 수 있다. 코어 및 쉘이 상이한 성질을 갖는 물질들로부터 제조된 다층 구조의 코어-쉘 형태 입자가 사용될 수 있다.
불활성 입자는 바람직하게는 평균 입자 직경이 10 내지 200 nm, 보다 바람직하게는 20 내지 100 nm 이다. 코팅층 A 중에 불활성 입자의 함량은 바람직하게는 5 내지 40 중량%, 보다 바람직하게는 5 내지 20 중량% 이다. 더욱이, 불활성 입자는 바람직하게는 균일한 입자 크기 분포를 갖는다. 불활성 입자의 평균 입자 직경이 5 nm 보다 작거나 그의 함량이 5 중량% 미만일 경우에, 필름 형성 공정중에 감김성(winding property) 및 수송성(conveyance)이 만족스럽지 못하거나 블록킹이 쉽게 발생한다. 평균 입자 직경이 200 nm 보다 크거나 함량이 40 중량% 를 초과할 경우, 코팅층 A 가 쉽게 쪼개진다.
코팅층 A 의 외표면의 RaA는 바람직하게는 1 내지 30 nm, 보다 바람직하게는 2 내지 20 nm 이다. RaA가 1 nm 미만인 경우, 필름 형성 공정중에 감김성 및 수송성이 만족스럽지 못하거나 블록킹이 쉽게 발생한다. RaA가 30 nm 를 초과하는 경우, 코팅층 A 이 쉽게 쪼개지고 필름을 감을 때 다른 표면에 대한 형태 전사가 쉽게 발생한다. 이러한 거칠기는 코팅층 A, 폴리에스테르 필름 또는 코팅층 A 와 폴리에스테르의 조합에 의해 나타날 수 있다.
실록산 공중합된 아크릴 수지가 1 내지 50 중량%의 양으로 코팅층 A 에 더 함유되어 있다. 본 발명의 실록산 공중합된 아크릴 수지는 실록산 성분과 아크릴 수지 성분이 함께 결합되어 있는 것으로, 그라프트형 및 블록형 수지를 내포한다. 공중합체는, 예를 들어, 아크릴 수지의 양 말단에 라디칼 개시제를 첨가하여 실록산의 중합화를 수행하므로써 또는 실록산의 측쇄에 히드록실기를 첨가하고 말단에 이소시아네이트기 또는 카르복실기를 갖는 아크릴 화합물과 반응시켜 빗-모양 중합체를 형성하므로써 생성될 수 있다.
아크릴 수지는 바람직하게는 코팅층 A 에 사용되는 아크릴 수지에 대해 계측된 것과 동일한 단량체 성분들을 함유한다.
실록산 성분은 바람직하게는 하기식으로 나타낸 사슬 성분을 갖는 중합체이다 .
[식중, R3은 수소원자, 메틸기 또는 페닐기이고, R4은 수소원자, 메틸기, 페닐기 또는 관능기 (예, 에폭시기, 아미노기 또는 히드록실기) 이고, m 은 100 내지 7000 의 정수이다].
이들중, 말단에 에폭시기, 아미노기, 히드록실기 또는 다른 관능성 말단기를 갖는 중합체가 바람직하다. 본 발명에 있어서, 실록산 화합물은 단독중합체이어야 하는 것은 아니고 공중합체 또는 몇가지 단독중합체의 혼합물일 수 있다.
아크릴 수지 성분 대 실록산 성분의 중량비는 바람직하게는 98:2 내지 50:50, 보다 바람직하게는 95:5 내지 60:40 이다. 코팅층 A 중 실록산 공중합된 아크릴 수지의 함량은 바람직하게는 1 내지 50 중량%, 보다 바람직하게는 1 내지 30 중량%이다. 함량이 1 중량% 미만인 경우, 효과는 만족스럽지 못하게 되고, 쉽게 블록킹 및 대전량의 증가를 유발한다. 함량이 50 중량% 를 초과하는 경우는, 백코트의 접착성이 저하되고, 필름을 감을 때 접촉 표면의 전사가 발생하거나, 필름의 운반시에 접촉롤이 쉽게 오염된다.
계면활성제는 특히 제한되지는 않으나, 바람직하게는 비이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제 또는 양이온성 계면활성제이다. 이중, 비이온성 계면활성제가 특히 바람직하다. 계면활성제의 함량은 바람직하게는 5 내지 40 중량% 이다.
바인더 수지, 불활성 입자, 계면활성제 및 실록산 공중합된 아크릴 수지 이외의 성분을 본 발명에 영향을 주지 않는 한도에서 코팅층 A 에 첨가할 수 있다. 예를 들어, 바람직하게는 셀룰로오스-베이스 수지가 미끄럼성을 증진시키기 위해서 첨가된다. 코팅층 A 의 두께는 바람직하게는 1 내지 100 nm, 보다 바람직하게는 2 내지 20 nm 이다.
코팅층 A 의 외표면은 그 위에 자성층을 형성하기 위한 표면은 아니다. 자성층은 베이스 필름 C 의 외표면 또는 베이스 필름 C 의 외표면상에 형성된 중간층의 외표면상에 형성된다.
다음은 본 발명의 제 2 복합 폴리에스테르 필름에 대해 기재된다.
베이스 필름 C 는 제 1 복합 폴리에스테르 필름에 대해 기재된 베이스 필름 C 와 동일하다.
본 발명의 이차 복합 폴리에스테르 필름은 베이스 필름 C 의 한쪽면상에 코팅층 B 를 갖는다. 코팅층 B 는 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지, 실록산 공중합된 아크릴 수지, 실리콘 및 왁스로 구성된 군으로부터 선택된 하나의 성분, 바인더 수지, 불활성 입자 및 계면활성제로 이루어진다.
제 3 복합 폴리에스테르 필름의 총 두께는 바람직하게는 2.5 내지 20㎛, 좀더 바람직하게는 3.0 내지 10㎛, 좀더 더 바람직하게는 4.0 내지 10㎛ 이다. 코팅층 A 의 두께는 바람직하게는 1 내지 100 nm, 좀더 바람직하게는 2 내지 20 nm 이다. 코팅층 B 의 두께는 바람직하게는 1 내지 100 nm, 좀더 바람직하게는 2 내지 50 nm, 좀더 더 바람직하게는 3 내지 10 nm, 특히 바람직하게는 3 내지 8 nm 이다.
본 발명의 제 1, 2 및 3 복합 폴리에스테르 필름 모두에 적용되는 설명이 하기에 주어질 것이다.
본 발명의 베이스 필름 C 는 통상의 공지된 방법으로 제조할 수 있다.
예컨대, 폴리에스테르 필름이 단층 필름인 경우, 폴리에스테르 수지는 Tm 내지 (Tm + 70)℃ (Tm : 폴리에스테르의 융점) 의 온도에서 다이를 통해 필름으로 압출한후, 40 내지 90 ℃ 에서 급냉하여 고형화시켜 비연신 필름을 수득한다. 이어서, 비연신 필름을 (Tg - 10) 내지 (Tg + 70)℃ (Tg : 폴리에스테르의 유리 전이 온도) 의 온도에서 단축으로 (종 또는 횡방향) 2.5 내지 8.0 배, 바람직하게는 3.0 내지 7.5 배로 연신한후, 코팅층 A 및/또는 코팅층 B 형성용 코팅용액을 필름의 양면에 도포하고, 이어서 필름을 Tg 내지 (Tg + 70)℃ 의 온도에서 상기 방향에 대한 직각 방향으로, 2.5 내지 8.0 배, 바람직하게는 3.0 내지 7.5 배 연신시킨다. 필름은 필요에 따라 다시 종 방향 및/또는 횡 방향으로 연신시킬 수 있다.
즉, 2-단, 3-단, 4-단 또는 다단의 연신을 행할 수 있다. 총 연신률은면적 연신률로 나타내어 통상적으로 9 배이상, 바람직하게는 12 내지 35 배, 좀더 바람직하게는 15 내지 32 배이다. 이어서, 수득한 양축 배향 필름을 열경화시키고, (Tg + 70) 내지 (Tm - 10)℃ 의 온도, 예컨대 180 내지 250℃ 에서 결정화시켜 우수한 치수 안정성을 부여한다. 열경화 시간은 바람직하게는 1 내지 60 초이다.
상기의 방법에 있어서, 코팅층 A 및 B 용 코팅 용액은 최종 연신전 폴리에스테르 베이스 필름 C 의 표면에 도포한다. 코팅후, 필름은 바람직하게는 최소한 단축으로 연신시킨다. 코팅 필름은 상기 연신전 또는 동안 건조시킨다. 코팅은 바람직하게는 비연신된 적층 필름 또는 단축 (종방향) 연신 적층 필름, 특히 바람직하게는 단축 (종방향) 연신 적층 필름상에 실행한다. 코팅은 특별히 제한되지 않으며, 롤 코팅, 다이 코팅 등 일 수 있다.
상기 코팅 용액의 고형분 함량, 특히 코팅 수용액은 바람직하게는 0.2 내지 8 중량%, 좀더 바람직하게는 0.3 내지 6 중량%, 특히 바람직하게는 0.5 내지 4 중량% 이다. 이 코팅 용액 (바람직하게는 코팅 수용액) 은 기타 계면활성제, 안정화제, 분산제, UV 흡수제, 증점제등과 같은 기타 성분을 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위내에서 함유할 수 있다.
본 발명에 있어서, 생성된 자기 기록 매체의 헤드 터치 및 주행 내구성과 같은 특징적인 특성을 향상시키고, 동시에 매체의 두께를 감소시키기 위해서는, 복합 필름의 종 및 횡방향에서의 영률은,각각, 바람직하게는 450 kg/mm2이상 및 600 kg/mm2이상, 좀더 바람직하게는 480 kg/mm2이상 및 680 kg/mm2이상, 좀더 더 바람직하게는 550 kg/mm2이상 및 800 kg/mm2이상, 특히 바람직하게는 550 kg/mm2이상 및 1000 kg/mm2이상 이다. 베이스 필름 C 가 폴리에틸렌 테레프탈레이트층인 경우, 층의 결정화도는 바람직하게는 30 내지 50% 이고, 베이스 필름 C 가 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트층인 경우, 결정화도는 바람직하게는 28 내지 38 % 이다. 결정화도가 상기 하한선 미만인 경우에는, 열수축이 커지기 쉽고, 결정화도가 상기 상한선을 초과하는 경우에는, 필름의 내마모성은 악화되기 쉬우며, 필름과 롤 또는 가이드 핀의 표면 사이에서의 활주(sliding)접촉에 의해 백색 분말이 쉽게 생성된다.
또한 본 발명에 의해, 베이스 필름으로서 본 발명의 복합 필름을 함유하는 자기 기록 매체, 즉, 본 발명의 제 1 복합 필름의 베이스 필름 C 또는 본 발명의 제 2 또는 제 3 복합 필름의 코팅층 B 상에 형성된 자성층을 함유하는 자기 기록 매체가 제공된다.
자기 기록 매체는 본 발명의 복합 필름을 이용하여 다음과 같이 제조한다 :
단파장에서의 출력, S/N 및 C/N, 적은 드롭아웃 및 적은 에러율과 같은 우수한 전자기 변환 특성을 갖는 고밀도 기록용 증착 자기 기록 매체는 진공 증착, 스퍼터링(sputtering), 이온 도금 등으로 철, 코발트, 크롬 또는 이들로 필수구성된 합금 또는 산화물로 만들어진 강자성 금속 박막층을 제 1 복합 필름의 베이스 필름 C 또는 제 2 또는 3 복합 필름의 코팅층 B 의 표면상에 형성시키고, 다이아몬드형 탄소 (DLC) 로 만들어진 보호층 및 불소함유 카르복실산 기재 윤활층을 목적 또는 용도에 따라 강자성 금속 박막층의 표면상에 형성시키거나, 또는 필요에 따라, 자성층의 반대면에 공지된 백코트층을 형성시켜 수득한다. 이 증착 자기 기록 매체는 아날로그 시그널 기록용 Hi8 및 디지탈 시그널 기록용 디지탈 비디오 카세트 레코더 (DVC), 데이타 8mm 및 DDSIV 용 테이프 매체로서 매우 유용하다.
단파장에서의 출력, S/N 및 C/N, 적은 드롭아웃 및 적은 에러율과 같은 우수한 전자기 변환 특성을 갖는 고밀도 기록용 금속 피복 자기기록 매체는 철 또는 철로 필수구성된 침상 자기 미분말(금속분말)을 폴리비닐 클로라이드 또는 비닐 클로라이드-비닐 아세테이트 공중합체와 같은 결합제에 균일하게 분산시키고, 수득한 결합제를 본 발명의 제 1 복합 필름의 베이스 필름 C 또는 본 발명의 제 2 또는 3 복합 필름의 코팅층 B 의 표면상에 자성층의 두께가 1㎛ 이하, 바람직하게는 0.1 내지 1㎛ 가 되도록 도포하고, 추가로, 필요에 따라 자성층의 반대면에 백코트층을 공지된 방법으로 형성시켜 수득할 수 있다. 산화티탄 미립자를 함유하는 비자성 층을 자성층에서와 동일한 유기 결합제에 분산시켜, 필요한 자성층을 함유한 금속분말용 1 차 코팅물로서 베이스 필름 C 상에 형성시킬 수 있다. 이 금속 피복 자기 기록 매체는 아날로그 시그널 기록용 8mm 비디오, Hi8, β-캠 SP 및 W-VHS 및 디지탈 시그널 기록용 디지탈 비디오 카세트 레코더 (DVC), 데이타 8 mm, DDSIV, 디지탈 β-캠, D2, D3 및 SX 등의 테이프 매체로서 매우 유용하다.
추가로, 단파장에서의 출력, S/N 및 C/N, 적은 드롭아웃 및 적은 에러율과 같은 우수한 전자기 변환 특성을 갖는 고밀도 기록용 피복 자기 기록 매체는 산화철 또는 산화크롬과 같은 침상 자기 미세 분말 또는 아철산 바륨과 같은 판상 자기 미세 분말을 폴리비닐 클로라이드 또는 비닐 클로라이드-비닐 아세테이트 공중합체와 같은 결합제에 균일하게 분산시킨 후, 수득한 결합제를 본 발명의 제 1 복합 필름의 베이스 필름 C 또는 본 발명의 제 2 또는 3 의 복합 필름의 코팅층 B 의 표면에 자성층의 두께가 1㎛ 이하, 바람직하게는 0.1 내지 1㎛ 가 되도록 도포하고, 추가로, 필요에 따라 자성층의 반대면에 백 코트층을 공지의 방법으로 형성시켜 수득할 수 있다. 산화티탄 미립자를 함유하는 비자성층은 자성층에서와 동일한 유기 결합제에 분산시켜, 필요한 자성층을 함유하는 자기분말용 1 차 코팅물로서 베이스 필름 C 상에 형성시킬 수 있다. 이 산화물 피복 자기 기록 매체는 디지탈 시그널 기록용 데이타 스트리머 QIC 의 고밀도 산화물 피복 자기 기록 매체로서 유용하다.
상기 W-VHS 는 아날로그 HDTV 시그널 기록용 VTR 이고, DVC 는 디지탈 HDTV 시그널을 기록하기 위해 사용할 수 있다. 본 발명의 필름은 HDTV 에 적용되는 VTR 용 자기기록 매체용 베이스 필름으로서 매우 유용할 수 있다.
다음의 실시예는 본 발명을 추가로 설명하기 위한 것이다. 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 7 에서, 하기 측정 방법 (1) 내지 (10) 을 사용한다.
(1) 입자의 평균 입자 직경 (평균 입자 직경 : 0.06 ㎛ 이상)
이것은 CP-50 원심분리 입자크기 분석기 (시마드즈사제) 를 이용하여 구한다. 입자직경, 50 질량% 에 해당하는 "등가 구형 직경(equivalent spherical diameter)" 은 각 직경의 입자 및 수득한 원심분리 침전 곡선에 근거하여 계산된 이의 양의 누적곡선으로부터 읽어, 상기 평균 입자 직경으로 취한다 (참조 "Particle Size Measurement Technology" Nikkan Kogyo Press, pp 242-247, 1975).
(2) 초미립자의 평균 입자 직경 (평균 입자 직경: 0.06 ㎛ 미만)
작은 돌기를 형성하는 0.06 ㎛ 미만의 평균 입자 직경을 갖는 입자는 광산란법에 의해 측정된다. 즉, 입자의 평균 입자 직경은 NICOMP MODEL 270 SUBMICRON PARTICLES SIZER (Nicomp Instrunments Inc.) 에 의해 수득된 전체 입자의 50 중량% 를 차지하는 입자의 "등가 구형 직경"으로 표현된다.
(3) 필름의 표면 거칠기 (중심선 평균 거칠기: Ra)
중심선 평균 거칠기 (Ra) 는 JIS-B601 에 따라 측정된다. 본 발명에서, 탐침형 표면 거칠기 측정기 (SURFCORDER SE, 30C, Kosaka Kenkyusho Co., Ltd.) 는 하기 조건하에서 거칠기를 측정하기 위해 사용된다.
(a) 탐침의 첨단(tip) 반경: 2 ㎛
(b) 측정 압력: 30 mg
(c) 컷오프: 0.08 mm
(d) 측정 길이: 8.0 mm
(e) 데이터 수집: 단일 샘플의 표면 거칠기는 6회 측정하고, 가장 큰 값을 제외한 5회의 측정값을 사용해서 중심선 평균 거칠기 (Ra)로서 평균값을 얻는다.
(4) 입자 돌기의 수
SEM (전자 주사 현미경 T-300, JEOL Corp.) 을 사용해서, 적층 필름의 표면 사진 20장을 0 °각도에서 30,000 배율로 찍어서 과립상 돌기의 수를 헤아리고, 이의 평균값은 돌기의 수/1 mm2으로 계산한다.
(5) 입자의 응집율
돌기의 수 A 는 돌기를 형성하는 각 입자가 둘 이상의 입자의 응집물일 때 상기 (4)에서 얻은 20 장의 사진으로부터 계산하고, 응집율은 하기와 같이 계산한다:
응집율 = (응집물에서 유래한 돌기의 수 A) ÷ (입자에서 유래한 모든 돌기의 수) × 100 (%)
(6) 층 두께
필름의 전체 두께는 마이크로미터를 사용하여 필름의 무작위로 10 군데 위치에서 측정하고, 측정 값의 평균 값을 필름의 전체 두께로 간주한다. 박층의 두께는 하기 방법으로 측정되는데, 두꺼운 층의 두께는 전체 두께로부터 박층의 두께를 빼서 얻는다. 즉, 2차 이온 질량 분석기 (SIMS) 를 사용하여, 표층으로부터 5,000 nm 의 깊이까지의 필름의 영역에 함유되어 있는 입자중에서 가장 높은 농도를 갖는 입자에서 유래한 원소 대 폴리에스테르의 탄소 원소의 농도비 (M+/C+) 를 입자 농도로 간주하고, 표면에서 깊이 5,000 nm 의 부분은 두께 방향으로 분석한다. 입자 농도는 표층에서 낮지만 표면에서의 거리가 증가함에 따라 높게 된다. 본 발명의 경우에서, 두 가지 경우가 있다. 즉, 하나는 입자 농도가 안정치 1 로 된 후에, 안정치 2 로 증가하거나 감소하는 경우이고, 다른 하나는 입자 농도가 안정치 1 로 된 후에, 계속해서 감소하는 경우이다. 분포 곡선에 기초해서, 전자의 경우에, (안정치 1 + 안정치 2)/2 의 입자 농도를 제공하는 깊이를 층의 두께로 간주하지만, 후자의 경우에, 안정치 1 의 1/2 의 입자 농도를 제공하는 깊이 (안정치 1 의 깊이 보다 더 깊음) 를 층의 두께로 간주한다.
2차 이온 질량 분석기 (SIMS: 6300, PERKIN ELMER Co., Ltd.) 의 측정 조건은 하기와 같다:
1차 이온의 종류: O2+
1차 이온 가속압: 12 kV
1차 이온 전류: 200 mA
광택 면적: 400 ㎛ □
분석 면적: 게이트 30 %
진공의 측정도: 6.0 × 10-9Torr
E-GUNN: 0.5 kV-3.0 A
표층으로부터 깊이 5,000 nm 의 면적에 포함되어 있는 대부분의 입자가 실리콘 수지 이외의 유기 폴리머 입자인 경우에, SIMS 로 측정하기는 어렵다. 따라서, 표면으로부터 필름을 조금씩 에칭하면서, 상기와 유사한 농도 분포 곡선은 평행선에 의존해서 FT-IR (Fourier 변환 적외선 분광측정법) 또는 XPS (X 선 광전자 분광측정법) 로 측정해서 층의 두께를 얻는데, 필름은 표면으로부터 조금씩 에칭된다.
상기 측정법은 공압출된 층의 경우에 아주 효과적이다. 코팅층의 경우에, 한 조각의 필름은 에폭시 수지로 고정되고 성형되어 흐름 방향과 평행하게 필름을 절단해서 마이크로톰(microtome)으로 약 60 nm 의 두께를 갖는 박편을 만든다. 이 샘플은 투과형 전자 현미경 (H-800, Hitachi, Ltd.) 으로 관찰하여 층의 경계면으로부터 층의 두께를 얻는다.
(7) 대전성
폴리에스테르 필름(폭 500 mm × 길이 3,000 mm)을 23 ℃ 및 75 % RH 에서 150 m/min 의 속도로 되감고, 롤(roll)의 재검토 시에 발행한 대전량을 Model-203 디지털 테스트 전기 측정 장치 (Hugle Electronics Co., Ltd.) 를 사용해서 측정한다.
○ : 2.5 kV 미만
△ : 2.5 ∼ 5.0 kV
× : 5.0 kV 초과
(8) 블록킹
하나의 필름의 처리된 표면과 다른 하나의 필름의 처리되지 않은 표면을 서로 접촉시키는 방식으로 두 개의 필름을 겹쳐 놓고, 수득된 적층물에, 60 ℃ 및 80 % RH 에서 65 시간 동안 150 kg/cm2의 압력을 가하여 이들 필름을 서로 박리하고, 그 박리 강도 (g/5 cm) 를 기준으로 내블록킹성을 평가한다.
하기를 기준으로 박리 강도를 평가한다.
○ : 0 ∼ 10 g/cm
△ : 10 ∼ 15 g/cm
× : 15 g/cm 이상 ∼ 부서짐
(9) 내쪼개짐성 (chipping resistance)
필름을 길이 25 ∼ 30 cm 및 폭 1/2 인치로 절단하고, 면도날의 모서리를 90 °각도 및 0.5 mm 깊이로 필름의 코팅층에 사용하고, 필름이 500 g/0.5 인치의 하중으로 6.7 cm/sec 의 속도로 주행할 때 면도날에 부착된 쪼개짐의 깊이 방향의 현미경사진 (배율: 160)을 얻는다. 쪼개짐의 깊이 방향에서 폭이 작으면 작을수록, 내쪼개짐성은 더 크다.
○ : 3 nm 미만
△ : 3 nm ∼ 5 nm
× : 5 nm 이상
(10) 마그네틱 테이프의 제조 및 특성 평가
적층 필름의 코발트 층 B 의 표면 상에, 두 개의 100 % 코발트 강자성 박막층이 진공 증착법에 의해 총 두께 0.02 ㎛ (각 층은 약 0.1 ㎛ 의 두께를 갖는다) 로 형성된다. 다이아몬드형 탄소 (DLC) 필름 층 및 플루오르 함유 카르복실산 기재 윤활층은 박막층의 표면 상에 순차적으로 형성되고, 추가로, 하기 조성을 갖는 백코트층은 코팅층 B 의 표면 상에 형성되어 건조된다.
건조 후의 백코트층의 두께는 0.8 ㎛ 이다.
백코트층의 조성:
카본 블랙 100 중량부
열가소성 폴리우레탄 60 중량부
이소시아네이트 화합물 18 중량부
(Colonate L, Nippon Polyurethane Kogyo Co., Ltd.)
실리콘 오일 0.5 중량부
메틸 에틸 케톤 250 중량부
이후, 필름을 폭 8 mm 로 잘라서 8 mm 비디오 카세트에 사용한다. 하기 장치를 사용해서 테이프의 특성을 측정한다:
8 mm 비디오 테이프 레코더: EDV-6000 (Sony Corporation)
C/N 측정: 노이즈 측정기 (Shibasoku Co., Ltd.)
① C/N 측정
0.5 ㎛ 의 기록 파장 (약 7.4 MHz 의 주파수) 을 갖는 신호를 테이프상에 기록하고, 그의 재생신호의 6.4 MHz 및 7.4 MHz 를, 시판용 8 mm 비디오 증착 테이프의 C/N 이 0 dB 일 때 테이프의 C/N 상대값으로 간주한다.
○ : 0 dB 초과
△ : -3 내지 0 dB
× : -3 dB 미만
② 주행 내구성
기록 후 테이프의 C/N 을 측정하고, 40 ℃ 및 80 % RH 에서 85 cm/분의 주행 속도로 500 회 재생을 반복하고, 테이프의 주행 내구성을 초기값으로부터의 편차를 기준으로 판단한다.
○ : 초기값으로부터 + 0.0 dB 이상
△ : 초기값으로부터 - 1.0 내지 + 0.0 미만
× : 초기값으로부터 - 1.0 dB 미만
③ 자성층의 접착
스카치 테이프 600 호 (3M 사) 를 공기 버블이 들어가지 않도록 하는 방법으로 2 mm2조각으로 교차 절단된 자성층에 부착하고, 테이프를 JIS C. 2701 (1975) 에 명시된 수동 하중 롤에 의해 압연(roll)하고, 상기 샘플의 5 cm 적층부를 Toyo Baldwin 사의 UM-11 텐실론을 이용하여 100 mm/분의 헤드속도에서 수직 방향으로 박리시키고, 자성층의 접착을 (박리된 교차-절단 자성층의 수)/(교차-절단 자성층의 총 수) × 100 (%) 로부터 수득한다.
○ : 0 ∼ 3 % 미만
△ : 3 ∼ 10 % 미만
× : 10 % 이상
④ 백코트의 접착성
폭 19.4 mm 및 길이 8 cm 의 스카치 테이프 600 호 (3M 사) 를, 공기 버블이 사이에 포함되지 않도록 하는 방법으로 백코트에 부착하고, 테이프를 JIS C2701 (1975) 에 명시된 수동 하중 롤에 의해 압연하고, 상기 샘플의 5 cm 적층부를 Toyo Baldwin 사의 UM-11 텐실론을 이용하여 300 mm/분의 주행 속도로 수직방향으로 박리하고, 이 지점에서 박리 강도를 수득하고 테이프의 폭으로 나누어 g/cm 단위의 백코트의 접착성을 수득한다. 수직방향으로 박리시, 적층물을 5 cm 의 척 (chuck) 간격으로 테이프의 겉을 밑으로 하여 분리시킨다.
백코트의 접착성을 하기 기준을 기초로 하여 박리 강도로부터 평가한다.
○ : 50 g/cm2이상
△ : 20 g/cm2이상 ∼ 50 g/cm2미만
× : 20 g/cm2미만
(11) 탈기 지수
필름 40 개를 우선 Toyo Seiki 사의 Beck smoothness tester 를 이용하여 겹쳐 두고, 5 mm 직경의 홀을 최상층 필름을 제외한 39 개의 필름에 만들고, 상기 일련의 필름을 샘플 테이블에 정렬한다. 홀의 중앙을 샘플 테이블의 중앙에 위치시킨다. 이 상태로, 0.5 kg/cm2의 하중을 일련의 필름에 적용하고 최종 진공을 550 mmHg 으로 맞춘다. 압력은 정상 수준으로 가려는 경향이 있으므로, 550 mmHg 이 된 후, 공기가 필름 사이의 공간으로 흘러들어온다. 이 지점에서, 강하 진공도 (falling vacuum degree, mmHg) 를 1 시간동안 30 초의 간격으로 측정하고, 측정시간 (hr) 에 대한 진공도를 직선 근사한 기울기 (=mmHg/hr) 를 탈기 지수 G 로 간주한다.
(12) 코로나 처리후 박리 강도
길이 100 mm, 폭 200 mm 직사각형의 샘플을 압연 필름으로부터 절단하고 샘플의 베이스 필름 C 를 25 ℃ ± 5 ℃ 의 온도 및 50 % ± 5 % 의 습도에서 코로나 처리를 수행한다.
상기 처리를 CG-102 고주파 전원 (Kasuga Denki 사) 을 이용하여 하기 조건하에서 수행한다.
전류 : 4.5 A
전극간 거리 : 1.0 mm
처리시간 : 1.2 m/분의 속도로 전극간 전송
처리된 필름을 샘플의 베이스 필름 C 의 반대측 표면과 접촉시키고, 100 kg/cm2의 압력, 60 ℃ 의 온도 및 80 % 의 습도에서 17 시간 동안 숙성시킨 후, 응력하에서 폭 100 mm 당 박리강도를 수득한다.
[실시예]
실시예 1
디메틸 2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 및 에틸렌 글리콜을 에스테르 교환 촉매로서 망간 아세테이트, 중합 촉매로서 삼산화 안티몬 및 안정화제로서 인산의 존재하에 통상적으로 사용된 방법에 따라 중합하여 실질적으로 불활성 입자를 함유하지 않는 폴리에틸렌 2,6-나프탈레이트 (PEN) 을 수득하였다.
상기 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트를 6 시간 동안 170 ℃ 에서 건조시키고 압출기에 넣어, 280 내지 300 ℃ 에서 용융시키고, 다이로부터 시트로 압출하여 급냉시켜 82 ㎛-두께 미연신 필름을 수득하였다.
수득된 미연신 필름을 예비가열하고, 95 ℃ 의 필름 온도에서 고속 및 저속 롤 사이에서 길이 방향으로 3.5 배 연신하고 급냉하였다.
표 1 에 나타난 코팅층 B 용 수용성 코팅 용액을 (연신 및 건조 후) 두께 0.009 ㎛ 로 상기 연신 필름의 한면에 적용하고 코팅층 A 용 수용성 코팅 용액을 두께 0.035 ㎛ 로 상기 필름의 다른 한면에 적용한다. 이후에, 필름을 스텐터(stenter)에 공급하여 150 ℃ 에서 폭방향으로 5.6 배 연신한다.
수득된 이축 배향 필름을 4 초간 200 ℃ 에서 가열된 온풍으로써 경화시켜 4.9 ㎛ 두께 이축 배향 폴리에스테르 필름을 수득하였다.
① 코팅층 A
＊ 결합제 수지
SH551A 아크릴 개질 폴리에스테르 수지 (Takamatsu Yushi 사) 43.3 부
SM15 메틸 셀룰로스 (Shin-Etsu Chemical 사) 21.7 부
＊ 실록산 공중합된 아크릴 수지
X-22-8053 (Shin-Etsu Chemical 사) 5 부
＊ 불활성 입자
아크릴 입자 (평균 입자 직경 40 nm) 10 부
＊ 계면활성제
Nonion NS-240 (NOF Corporation 사) 20 부
② 코팅층 B
＊ 결합제 수지
IN-170-6 아크릴 개질된 폴리에스테르 (Takamatsu Yushi 사) 70 부
＊ 불활성 입자
아크릴 입자 (평균 입자 직경 40 nm) 10 부
＊ 계면활성제
Nonion NS-240 (NOF Corporation 사) 20 부
비교예 1, 2 및 7
코팅층 A 및 코팅층 B 의 조성물을 표 1 에 나타난 바와 같이 바꾼 것을 제외하고는, 폴리에스테르 필름을 실시예 1 과 동일한 방법으로 수득하였다.
실시예 2 및 비교예 3 내지 6
디메틸 테레프탈레이트 및 에틸렌 글리콜을 에스테르 교환 촉매로서 망간 아세테이트, 중합 촉매로서 삼산화 안티몬 및 안정화제로서 인산의 존재하에 통상적으로 사용된 방법에 따라 중합하여 실질적으로 불활성 입자를 함유하지 않는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET) 를 수득하였다.
상기 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 3 시간 동안 170 ℃ 에서 건조시키고 압출기에 넣어, 280 내지 300 ℃ 에서 용융시키고, 다이로부터 시트로 압출하여 급냉시켜 82 ㎛-두께 미연신 필름을 수득하였다.
수득된 미연신 필름을 예비가열하고, 95 ℃ 의 필름 온도에서 고속 및 저속 롤사이에서 길이 방향으로 3.2 배 연신하고 급냉하였다.
코팅층 B 용 수용성 코팅 용액을 (연신 및 건조 후) 두께 0.009 ㎛ 로 상기 연신 필름의 한면에 적용하고, 코팅층 A 용 수용성 코팅 용액을 두께 0.035 ㎛ 로 상기 필름의 다른면에 적용한다. 이후에, 필름을 스텐터에 적용시켜 110 ℃ 에서 폭방향으로 4.1 배 연신한다. 수득된 이축 배향 필름을 4 초간 220 ℃ 에서 가열된 온풍으로써 경화시켜 6.0 ㎛ 두께 이축 배향 폴리에스테르 필름을 수득하였다.
실시예 3
실질적으로 불활성 입자가 없는 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트 및 200 nm 의 평균 입자 직경을 갖는 0.2 중량 % 의 실리카 입자를 함유하는 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트를 6 시간동안 170 ℃ 에서 건조시키고, 2 개의 압출기를 이용하여 310 ℃ 에서 용융시키고, 다중-복합(multi-manifold) 공압출 다이를 이용하여 같이 적층시킴으로써, 입자가 없는 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트 대 입자를 함유하는 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트의 두께비가 2 : 1 이 되게 하고, 표 1 에 나타난 코팅층 A 를 입자-함유 층상에 형성시키고 코팅층 B 를 다른 면에 형성시키는 것을 제외하고는, 실시예 1 과 동일한 방법으로 수득하였다.
표 1 및 표 2 로부터 명백한 바로서, 본 발명의 복합 폴리에스테르 필름은 필름의 대전량이 적고, 블록킹이 없으며, 쪼개짐이 거의 없고, 전자기 변환 특성, 자성층에 대한 접착성 및 백코트에 대한 접착성이 우수하다. 반면에, 본 발명의 요건을 충족하지 않는 복합 폴리에스테르 필름은 동시에 상기 특징적인 특성을 달성하지 않는다.
(주) 코팅층의 수지 유형
a; 아크릴 개질 폴리에스테르 (다까마쓰 유시사제 IN-170-6)
b; 공폴리에스테르 (2,6-나프탈렌디카르복실산/이소프탈산/5-소듐 술포이소프탈산//에틸렌 글리콜/비스페놀 A 와 2 몰의 프로필렌 옥사이드와의 부가물)
c; 아크릴 개질 폴리에스테르 (다까마쓰 유시사제 SH551A)
d; 아크릴 개질 폴리에스테르 SH551A/메틸 셀룰로오스 (신-이쓰 케미칼사제 SM15) = 2/1
e; 실록산 공중합된 아크릴 (신-이쓰 케미칼사제 X-22-8053)
f; 실록산 공중합된 아크릴 (신-이쓰 케미칼사제 X-22-8053EM)
베이스 필름
① 단일층 PEN
② 단일층 PET
③ 2층 공압출된 PEN
| 코팅층B | 코팅층A 의 RaAnm) | |||
| 응집율(%) | 돌기밀도(단위:106/㎟) | RaB(nm) | ||
| 실시예 1 | 8 | 20 | 0.7 | 2.5 |
| 실시예 2 | 12 | 21 | 0.8 | 2.3 |
| 실시예 3 | 18 | 8 | 0.6 | 5.7 |
| 비교예 1 | 10 | 20 | 0.7 | 2.4 |
| 비교예 2 | 9 | 21 | 0.8 | 2.7 |
| 비교예 3 | 15 | 32 | 0.9 | 2.6 |
| 비교예 4 | 10 | 10 | 0.6 | 1.9 |
| 비교예 5 | 13 | 0.5 | 0.6 | 2.5 |
| 비교예 6 | 40 | 130 | 1.5 | 2.5 |
| 비교예 7 | 11 | 18 | 0.8 | 4 |
| 필름의 특성 | 자기기록매체의 특성 | |||||||
| 대전성 | 블록킹 | 코팅층B의내쪼개짐성 | 코팅층A의내쪼개짐성 | 전자기변환특성 | 주행내구성 | 자성층의 접착성 | 백코트의 접착성 | |
| 실시예 1 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ |
| 실시예 2 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ |
| 실시예 3 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ |
| 비교예 1 | Ｘ | Ｘ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ |
| 비교예 2 | ○ | ○ | Ｘ | ○ | Ｘ | ○ | Ｘ | ○ |
| 비교예 3 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | Ｘ |
| 비교예 4 | ○ | Ｘ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ |
| 비교예 5 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | Ｘ | ○ | ○ |
| 비교예 6 | ○ | ○ | Ｘ | ○ | Ｘ | ○ | ○ | ○ |
| 비교예 7 | ○ | ○ | ○ | Ｘ | ○ | ○ | ○ | ○ |
발명에 의해 대전량이 적고, 블록킹이 없으며, 쪼개짐이 거의 없고, 전자기 환 특성, 자성층에의 접착성 및 백코트에 대한 접착성이 우수한 고밀도 자기 기록 매체용 베이스 필름으로 사용하기에 적합한 복합 폴리에스테르 필름이 제공된다.
Claims (23)
- 하기를 함유하는 복합 폴리에스테르 필름:(1) 불활성 입자를 함유하지 않거나, 평균 입자 직경이 5 내지 2,000 nm 인 불활성 입자를 방향족 폴리에스테르를 기준으로 0.001 내지 5.0 중량% 의 양으로 함유하는, 방향족 폴리에스테르의 베이스 필름 C; 및(2) 베이스 필름 C 의 한쪽면상의 코팅층 A 로서, 상기 코팅층 A 는 바인더 수지, 불활성 입자, 계면활성제 및 실록산 공중합된 아크릴 수지를 함유하고, 상기 코팅층 A 의 외표면은 그 위에 자성층을 형성하기 위한 표면은 아니며, 상기 실록산 공중합된 아크릴 수지의 함유량은 코팅층 A 를 기준으로 1 내지 50 중량% 인 코팅층 A.
- 제 1 항에 있어서, 코팅층 A 에 포함된 바인더 수지는 수용성 또는 수분산성 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지 및 아크릴-폴리에스테르 수지로 이루어지는 군으로부터 선택된 1 종 이상의 수용성 또는 수분산성 수지인 복합 폴리에스테르 필름.
- 제 1 항에 있어서, 코팅층 A 의 외표면의 중심선 평균 거칠기(roughness) RaA가 1 내지 30 nm 인 복합 폴리에스테르 필름.
- 제 1 항에 있어서, 코팅층 A 에 포함된 불활성 입자의 평균 입자 직경이 10 내지 200 nm 인 복합 폴리에스테르 필름.
- 제 1 항에 있어서, 코팅층 A 의 불활성 입자의 함량이 5 내지 40 중량% 인 복합 폴리에스테르 필름.
- 제 1 항에 있어서, 코팅층 A 에 포함된 계면활성제가 비이온성 계면활성제인 복합 폴리에스테르 필름.
- 하기를 함유하는 복합 폴리에스테르 필름:(1) 불활성 입자를 함유하지 않거나, 평균 입자 직경이 5 내지 2,000 nm 인 불활성 입자를 방향족 폴리에스테르를 기준으로 0.001 내지 5.0 중량% 의 양으로 함유하는, 방향족 폴리에스테르의 베이스 필름 C; 및(2) 베이스 필름 C 의 한쪽면상의 코팅층 B 로서, 상기 코팅층 B 는 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지, 실록산 공중합된 아크릴 수지, 실리콘 및 왁스로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 성분, 바인더 수지, 불활성 입자 및 계면활성제를 함유하고, 상기 코팅층 B 의 외표면은 그 위에 자성층을 형성하기 위한 표면이며, 상기 성분의 함유량은 상기 성분이 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지일 경우에는 코팅층 B 를 기준으로 5 내지 90 중량% 이고, 상기 성분이 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지가 아닐 경우에는 코팅층 B 를 기준으로 1 내지 50 중량% 인 코팅층 B.
- 제 7 항에 있어서, 코팅층 B 의 외표면과 베이스 필름 C 상의 코로나 처리된 노출면 사이의 박리 강도가 15 g/10 cm 이하인 복합 폴리에스테르 필름.
- 제 7 항에 있어서, 코팅층 B 에 포함된 바인더 수지는 수용성 또는 수분산성 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지 및 아크릴-폴리에스테르 수지로 이루어지는 군으로부터 선택된 1 종 이상의 수용성 또는 수분산성 수지인 복합 폴리에스테르 필름.
- 제 7 항에 있어서, 코팅층 B 의 외표면의 중심선 평균 거칠기 RaB가 0.1 내지 2 nm 인 복합 폴리에스테르 필름.
- 제 7 항에 있어서, 코팅층 B 에 포함된 불활성 입자로부터 유래한 돌기가 코팅층 B 의 외표면상에 1 내지 100 개/㎛2의 밀도로 존재하는 복합 폴리에스테르 필름.
- 제 7 항에 있어서, 코팅층 B 에 포함된 불활성 입자의 평균 입자 직경이 5 내지 100 nm 인 복합 폴리에스테르 필름.
- 제 7 항에 있어서, 코팅층 B 에 포함된 불활성 입자의 응집율이 20% 이하인 복합 폴리에스테르 필름.
- 제 7 항에 있어서, 코팅층 B 에 포함된 불활성 입자의 함량이 0.5 내지 30 중량% 인 복합 폴리에스테르 필름.
- 제 7 항에 있어서, 높이 4 nm 이상의 큰 돌기가 코팅층 B 의 외표면상에 최대 밀도 200 개/㎟ 으로 존재하는 복합 폴리에스테르 필름.
- 제 7 항에 있어서, 코팅층 B 에 포함된 계면활성제가 비이온성 계면활성제인 복합 폴리에스테르 필름.
- 하기를 함유하는 복합 폴리에스테르 필름:(1) 불활성 입자를 함유하지 않거나, 평균 입자 직경이 5 내지 2,000 nm 인 불활성 입자를 방향족 폴리에스테르를 기준으로 0.001 내지 5.0 중량% 의 양으로 함유하는, 방향족 폴리에스테르의 베이스 필름 C;(2) 베이스 필름 C 의 한쪽면상의 코팅층 A 로서, 상기 코팅층 A 는 바인더 수지, 불활성 입자, 계면활성제 및 실록산 공중합된 아크릴 수지를 함유하고, 상기 코팅층 A 의 외표면은 그 위에 자성층을 형성하기 위한 표면은 아니며, 상기 실록산 공중합된 아크릴 수지의 함유량은 코팅층 A 를 기준으로 1 내지 50 중량% 인 코팅층 A; 및(3) 코팅층 A 가 존재하지 않는 베이스 필름 C 상의 다른 한쪽면상의 코팅층 B 로서, 상기 코팅층 B 는 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지, 실록산 공중합된 아크릴 수지, 실리콘 및 왁스로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 성분, 바인더 수지, 불활성 입자 및 계면활성제를 함유하고, 상기 코팅층 B 의 외표면은 그 위에 자성층을 형성하기 위한 표면이며, 상기 성분의 함유량은 상기 성분이 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지일 경우에는 코팅층 B 를 기준으로 5 내지 90 중량% 이고, 상기 성분이 실록산 공중합된 폴리에스테르 수지가 아닐 경우에는 코팅층 B 를 기준으로 1 내지 50 중량% 인 코팅층 B.
- 제 1 항에 따른 복합 폴리에스테르 필름을 함유하는, 자기 기록 매체용 베이스 필름.
- 제 7 항에 따른 복합 폴리에스테르 필름을 함유하는, 자기 기록 매체용 베이스 필름.
- 제 17 항에 따른 복합 폴리에스테르 필름을 함유하는, 자기 기록 매체용 베이스 필름.
- 제 1 항의 복합 폴리에스테르 필름 및 이 복합 폴리에스테르 필름의 코팅층 A 가 존재하지 않는 베이스 필름 C 의 표면상의 자기 기록층을 함유하는 자기 기록 매체.
- 제 7 항의 복합 폴리에스테르 필름 및 이 복합 폴리에스테르 필름의 코팅층 B 의 외표면상의 자기 기록층을 함유하는 자기 기록 매체.
- 제 17 항의 복합 폴리에스테르 필름 및 이 복합 폴리에스테르 필름의 코팅층 B 의 외표면상의 자기 기록층을 함유하는 자기 기록 매체.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13978298 | 1998-05-21 | ||
| JP98-139782 | 1998-05-21 | ||
| JP27314298A JP4746163B2 (ja) | 1998-09-28 | 1998-09-28 | 積層フィルム |
| JP98-273142 | 1998-09-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19990088487A true KR19990088487A (ko) | 1999-12-27 |
| KR100517045B1 KR100517045B1 (ko) | 2005-09-26 |
Family
ID=26472486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR10-1999-0018497A KR100517045B1 (ko) | 1998-05-21 | 1999-05-21 | 복합 폴리에스테르 필름 및 자기 기록 매체 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6379774B1 (ko) |
| EP (1) | EP0959097B1 (ko) |
| KR (1) | KR100517045B1 (ko) |
| DE (1) | DE69932884T2 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100837254B1 (ko) * | 2001-05-10 | 2008-06-12 | 미쓰비시 쥬시 가부시끼가이샤 | 폴리에스테르계 수지 시트상 물질 및 이것을 이용한 수지피복 금속판 |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1174457B1 (en) * | 1999-12-03 | 2004-12-22 | Toray Industries, Inc. | Biaxially stretched polyester film for forming |
| KR100443193B1 (ko) * | 2001-03-14 | 2004-08-04 | 에스케이씨 주식회사 | 열수축성 폴리에스테르 필름 |
| US7344786B2 (en) * | 2001-10-29 | 2008-03-18 | Fujifilm Corporation | Magnetic recording medium including a smooth coating layer on one side of the support |
| CN1512934A (zh) * | 2001-12-10 | 2004-07-14 | ���˶Ű�����ձ���ʽ���� | 光学用粘结性聚酯膜 |
| KR20030070823A (ko) * | 2002-02-26 | 2003-09-02 | 도레이 가부시끼가이샤 | 자기기록매체용 폴리에스테르 필름, 자기기록테이프 및디지탈 기록장치 |
| GB0208506D0 (en) * | 2002-04-12 | 2002-05-22 | Dupont Teijin Films Us Ltd | Film coating |
| WO2003093008A1 (fr) * | 2002-05-02 | 2003-11-13 | Teijin Dupont Films Japan Limited | Film lamelle a usage optique |
| JP2003346317A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
| JP2004005789A (ja) | 2002-05-30 | 2004-01-08 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体用ポリエステルフィルム及び磁気記録テープ |
| JP4471611B2 (ja) * | 2003-09-11 | 2010-06-02 | 三菱樹脂株式会社 | 高解像度用ドライフィルムレジスト用ポリエステルフィルム |
| JP2005317182A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-11-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | リーダーテープおよびこれを用いた磁気テープカートリッジ |
| EP1777249B1 (de) | 2005-10-22 | 2009-02-18 | Mitsubishi Polyester Film GmbH | Verwendung einer haftvermittelnd beschichteten, biaxial orientierten Polyesterfolie zur Verarbeitung auf Digitaldruckmaschinen |
| US20100068355A1 (en) * | 2006-11-01 | 2010-03-18 | Dupont Teijin Films U.S. Limited Partnership | Heat-sealable composite polyester film |
| EP2125941B1 (en) * | 2007-02-26 | 2013-05-01 | Saint-Gobain Performance Plastics Chaineux S.A. | A layered structure comprising nanoparticles |
| US20110209901A1 (en) * | 2007-08-02 | 2011-09-01 | Dupont Teijin Films U.S. Limited Partnership | Coated polyester film |
| KR101539711B1 (ko) * | 2007-08-30 | 2015-07-27 | 듀폰 테이진 필름즈 유.에스. 리미티드 파트너쉽 | 열성형성 폴리에스테르 필름 뚜껑을 구비한 오븐용 듀얼 식품 패키지 |
| EP2272669B1 (en) * | 2008-04-21 | 2013-09-18 | Teijin Limited | Biaxially oriented multilayer film |
| US9724894B2 (en) * | 2008-11-06 | 2017-08-08 | Deetz Family, Llc | Magnetic receptive extruded films |
| KR101557346B1 (ko) * | 2011-03-09 | 2015-10-05 | 후지필름 가부시키가이샤 | 폴리에스테르 필름의 제조 방법, 폴리에스테르 필름 및 태양전지용 백시트 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4759991A (en) * | 1984-03-06 | 1988-07-26 | Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. | Magnetic recording medium having a lubricating coating layer |
| JP2555998B2 (ja) | 1984-06-19 | 1996-11-20 | 東レ株式会社 | 易接着性ポリエステルフイルム |
| JPS6139223A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-25 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| US4832991A (en) * | 1987-11-03 | 1989-05-23 | Eastman Kodak Company | Coating process |
| US5262492A (en) * | 1990-08-31 | 1993-11-16 | Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co., Ltd. | Siloxane-modified polyester resins and production processes thereof |
| KR940003889B1 (ko) | 1991-08-01 | 1994-05-04 | 제일합섬 주식회사 | 고투명 이활(易滑) 이형성 필름의 제조방법 |
| JPH05131537A (ja) | 1991-11-07 | 1993-05-28 | Diafoil Co Ltd | 積層ポリエステルフイルム |
| JPH06228490A (ja) * | 1992-12-07 | 1994-08-16 | Hitachi Maxell Ltd | 潤滑性塗料および磁性塗料並びに磁気記録媒体 |
| JP3134638B2 (ja) | 1993-12-03 | 2001-02-13 | 東洋インキ製造株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US6051308A (en) * | 1997-04-08 | 2000-04-18 | Mitsubishi Chemical Corporation | Magnetic recording medium and process for its production |
| JPH10261215A (ja) | 1997-03-18 | 1998-09-29 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体用ポリエステルフィルム及び磁気記録テープ |
| JPH10261216A (ja) | 1997-03-18 | 1998-09-29 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体用ポリエステルフィルム及び磁気記録テープ |
| DE69819447T2 (de) | 1997-04-30 | 2004-09-09 | Teijin Ltd. | Niedrigelektrisierbare polyesterverbundfolie |
-
1999
- 1999-05-20 US US09/315,404 patent/US6379774B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-20 DE DE1999632884 patent/DE69932884T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-20 EP EP19990303916 patent/EP0959097B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-21 KR KR10-1999-0018497A patent/KR100517045B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100837254B1 (ko) * | 2001-05-10 | 2008-06-12 | 미쓰비시 쥬시 가부시끼가이샤 | 폴리에스테르계 수지 시트상 물질 및 이것을 이용한 수지피복 금속판 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6379774B1 (en) | 2002-04-30 |
| EP0959097A2 (en) | 1999-11-24 |
| KR100517045B1 (ko) | 2005-09-26 |
| DE69932884D1 (de) | 2006-10-05 |
| EP0959097B1 (en) | 2006-08-23 |
| DE69932884T2 (de) | 2007-05-24 |
| US20020045068A1 (en) | 2002-04-18 |
| EP0959097A3 (en) | 2000-07-19 |
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