JPH10157039A

JPH10157039A - 積層フイルム

Info

Publication number: JPH10157039A
Application number: JP31969296A
Authority: JP
Inventors: Mitsumine Toujiyou; 光峰東條; Toshifumi Osawa; 利文大澤; Makoto Iida; 真飯田
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1996-11-29
Filing date: 1996-11-29
Publication date: 1998-06-16

Abstract

(57)【要約】【課題】製膜、加工工程で耐削れ性、ハンドリング性
に優れ、しかも電磁変換特性、ドロップアウト特性、走
行耐久性に優れた磁気記録媒体のベースとなる材料の開
発。【解決手段】平均粒径４０〜４００ｎｍの粒子Ａを含
む熱可塑性樹脂層Ａの片面に、平均粒径ｄ_Bが５〜１０
０ｎｍの不活性粒子Ｂを水溶性樹脂と共に塗布して皮膜
層Ｂを形成せしめた複合フイルム。更にＡ層の他の表面
に不活性粒子Ｃを含む層Ｃを形成して３層とした態様を
も含む。複層フイルムは８０℃から２０℃に変化させた
際の縦横方向の寸法変位の差が８×１０^-4％以下であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用積層
フイルムに関する。更に詳しくは、巻取性、易滑性、ハ
ンドリング性等に優れ、電磁変換特性、ドロップアウト
特性、磁性層の走行性及び耐久性に優れた高密度磁気記
録媒体用として用いるのに適した熱可塑性樹脂積層フイ
ルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化の進歩はめざ
ましく、例えば強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタリ
ング等の物理沈着法又はメッキ法により非磁性支持体上
に形成せしめた強磁性金属薄膜磁気記録媒体、またメタ
ル粉や酸化鉄粉等の針状磁性粉体を２μｍ以下に塗布し
た薄層塗布型磁気記録媒体の開発実用化が進んでいる。

【０００３】前者の例としては、例えば、Ｃｏの蒸着テ
ープ（特開昭５４―１４７０１０号公報）、Ｃｏ―Ｃｒ
合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２―１３４７
０６号公報）が開示されている。また後者の例として
は、例えば極薄層塗布型媒体による高密度磁気記録（電
子通信学会技術報告ＭＲ９４―７８（１９９５―０
２））等が開示されている。

【０００４】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布
してなる磁気記録媒体）は、記録密度が低く、記録波長
も長い為に、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚いのに
対して、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーテ
ィング等の薄膜形成手段によって形成される金属薄膜
は、厚みが０．２μｍ以下と薄い。なお、極薄層塗布型
媒体の場合も、非磁性下地層も提案されているものの、
０．１３μｍの厚みと塗布型磁性体層が提案されており
非常に薄くなっている。

【０００５】この為、上記の高密度磁気記録媒体におい
ては、非磁性支持体の表面状態が磁気記録層の表面性に
大きな影響を及ぼし、特に金属薄膜型の磁気記録媒体の
場合には、非磁性支持体の表面状態がそのまま磁気記録
層表面の凹凸として発現し、それが再生信号の雑音の原
因となる。従って支持体の表面は出来るだけ平滑である
ことが望ましい。

【０００６】一方、ベースフイルムの製膜、加工工程で
の搬送・傷付、巻取、巻出といったハンドリングの観点
からは、フイルム表面が平滑過ぎると、フイルム―フイ
ルム相互の滑り性が悪化し、ブロッキング現象が発生
し、ロールに巻いた時の形状（ロールフォーメーショ
ン）が悪化し、製品歩留の低下、ひいては製品の製造コ
ストの上昇をもたらす。従って製造コストの点では支持
体の表面はある程度粗いことが望ましい。

【０００７】この様に電磁変換特性という観点からは非
磁性支持体の表面は平滑であることが要求され、ハンド
リング性、フイルムコストの観点からは粗いことが要求
される。

【０００８】更に、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体の場合
には、実際に使用される時の問題点として金属薄膜面の
走行性がある。磁性体粉末を有機高分子バンダー中に混
入させてベースフイルムに塗布してなる塗布型磁気記録
媒体の場合には、該バインダー中に潤滑剤を分散させて
磁性面の走行性を向上させることが出来るが、蒸着金属
薄膜型磁気記録媒体の場合にはこの様な対策がとれず、
走行性を安定して保つのは非常に難しく、特に高温高湿
条件下の走行性が劣るなどの欠点を有している。

【０００９】そこで、優れた品質の高密度記録媒体用ベ
ースフイルムを安価に供給する為には上記の相反する性
質を同時に満足することが必要とされる。

【００１０】この為の具体的方法として、フイルム表
面に特定の塗剤を塗布して不連続皮膜を形成させる方法
（特公平３―８０４１０号、特開昭６０―１８０８３９
号、特開昭６０―１８０８３８号、特開昭６０―１８０
８３７号、特開昭５６―１６９３７号、特開昭５８―６
８２２３号等）、連続皮膜を形成する方法（特開平５
―１９４７７２号、特開平５―２１０８３３号）、共
押出等の技術により表裏を異面化する方法（特開平２―
２１４６５７号、特公平７―８０２８２号）及びとし
ての＋又は＋の組み合わせによる方法（特開平
３―７３４０９号）が提案されている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、不連続
皮膜や連続皮膜を形成する従来の方法においては、フイ
ルム―フイルム間の滑り、ブロッキングといった課題は
解決できているものの、皮膜中に微細な不活性粒子を均
一分散させることが難しく凝集粒子による粗大突起を生
じやすい。この原因から電磁変換特性が悪化するなど磁
気テープとしての品質が安定しないという問題があっ
た。また凝集粒子は単分散粒子と比較して製膜工程で用
いられる種々のガイドロールとの接触によって削り取ら
れやすく、ベースフイルム上に付着堆積して突起とな
り、磁気テープとしたときにドロップアウトの原因とな
る問題もある。

【００１２】一方無機粒子は硬度が高く、変形しにくい
ため磁気ヘッドのクリーニング性に優れており、また種
々のサイズの微粒子の製造が容易であるものの、ポリマ
ーとの親和性に乏しく粒子の脱落を生じやすい傾向が見
られる。他方、有機粒子はポリマーとの親和性は優れる
ものの、硬度が無機粒子に比べ低く、粒子全体に熱や機
械的摩擦による変形等が加わるため、テープの電磁変換
特性がテープの走行を繰り返すことにより劣化していく
という問題があった。

【００１３】更に、使用する機器（ハードウエア）の小
型化による高密度実装化に伴いテープに対する熱的負荷
はますます高まりつつある。特に高密度磁気記録媒体で
は磁気記録トラックのピッチが１０μｍ前後と非常に狭
いため、熱履歴によるベースフイルムの寸法変化はトラ
ックのずれにつながり、電磁変換特性の低下を惹き起こ
すという問題がある。

【００１４】本発明の目的は、上述の従来技術の欠点を
解消し、製膜工程での削れ性、巻取性に優れ、蒸着金属
薄膜型磁気記録媒体として用いられた場合には電磁変換
特性、ドロップアウト特性、出力低下、走行耐久性に優
れた積層フイルムを提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、平均粒
径４０〜４００ｎｍ、体積形状係数が０．１〜π／６の
粒子Ａを表面の突起頻度が５０００〜５万個／ｍｍ²と
なる様に含有した熱可塑性樹脂層Ａの少なくとも片面
に、平均粒径ｄ_Bが５〜１００ｎｍである不活性粒子Ｂ
を含む水溶性樹脂からなる皮膜層Ｂを設けた積層フイル
ムであって、環境温度を８０℃から２０℃に変化させた
際のフイルム長手方向の寸法変位Ｌ_M（％）及び幅方向
の寸法変位Ｌ_T（％）が下記式（１）を満たすことを特
徴とする積層フイルム。 │Ｌ_T−Ｌ_M│≦８．０×１０^-4 ……（１）

【００１６】本発明における熱可塑性樹脂には、ポリエ
ステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、
ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビ
ニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等を例示することが
できる。これらのうちポリステル系樹脂、殊に芳香族ポ
リエステルが好ましい。

【００１７】この芳香族ポリエステルとしては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ―１，４―シ
クロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート等を好まし
くは例示することができる。これらのうち、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレン
ジカルボキシレートが特に好ましい。

【００１８】上記ポリエステルはホモポリエステルであ
ってもコポリエステルであってもよい。コポリエステル
の場合、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン
―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの共重合成分
としては、例えばジエチレングリコール、プロピレング
リコール、ネオペンチルグリコール、ポリオキシエチレ
ングリコール、ｐ―キシレングリコール、１，４―シク
ロヘキサンジメタノール等のジオール成分、アジピン
酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸（但しポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキ
シレートの場合）、２，６―ナフタレンジカルボン酸
（但しポリエチレンテレフタレートの場合）、５―ナト
リウムスルホイソフタル酸等の他のジカルボン酸成分、
ｐ―オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸成分
等があげられる。尚、共重合成分の量は２０モル％以
下、更には１０モル％以下とするのが好ましい。

【００１９】更に、トリメリット酸、ピロメリット酸等
の３官能以上の多官能化合物を共重合させることもでき
る。この場合ポリマーが実質的に線状である量、例えば
２モル％以下共重合させるとよい。

【００２０】本発明において、熱可塑性樹脂層Ａは平均
粒径が４０〜４００ｎｍ、好ましくは５０〜２００ｎ
ｍ、更に好ましくは６０〜１２０ｎｍである。また堆積
形状係数０．１〜π／６である粒子Ａを、表面の突起頻
度が５０００〜５万個／ｍｍ²、好ましくは７５００〜
４万個／ｍｍ²、更に好ましくは１万〜３万個／ｍｍ^２
となる様に含有する必要がある。一方粒子Ａの平均粒径
が４０ｎｍ未満では磁性層の対ＶＴＲヘッド摩擦が高
く、磁性層の繰り返し走行耐久性が悪く、しかもフイル
ム製膜工程での捲取り性も悪い。他方、平均粒径が４０
０ｎｍより大きいと高密度磁気記録媒体としての電磁変
換特性に支障を来す。粒子Ａの頻度は５０００個／ｍｍ
^２未満ではやはりＶＴＲのヘッド摩擦が高く、磁性層
の繰り返し走行耐久性が悪く、又フイルム製膜工程での
巻取り性も悪い。一方、頻度が５万個／ｍｍ²より多い
高密度磁気記録媒体としての電磁変換特性に支障をきた
す。

【００２１】粒子Ａの下式Ｆ＝Ｖ／ｄ_A ³ （Ｖは粒子の体積を、ｄ_Aは微粒子の平均粒径を表す）
で定義される体積形状係数Ｆは０．１〜π／６の範囲で
ある。更には０．３〜π／６が好ましく、０．４〜π／
６の実質的に球或いはラグビーボール状の楕円球が更に
好ましい。Ｆが０．１より小さい、例えば薄片状粒子で
は薄膜磁性層の磁気特性の劣化を来す。

【００２２】粒子Ａの材質としては、シリコーン樹脂、
ポリスチレン、架橋スチレン―ジビニルベンゼン共重合
体、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート
共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテ
トラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、
ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き
有機高分子粒子、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カ
オリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長
石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウ
ム等の如き無機質のいずれを用いてもよい。

【００２３】本発明における積層フイルムは、環境温度
を８０℃から２０℃に変化させた際のフイルム長手方向
の寸法変位Ｌ_M（％）及び幅方向の寸法変位Ｌ_T（％）
の関係が下記式（１）を満たすことが必要である。 │Ｌ_T−Ｌ_M│≦８．０×１０^-4 ……（１） │Ｌ_T−Ｌ_M│≦８．０×１０^-4を超えると磁気テープ
としたときに高温下での磁気記録トラックのずれが生
じ、電磁変換特性の低下を惹起こす。

【００２４】本発明における皮膜層Ｂを構成する水溶性
樹脂とは、水溶性有機樹脂及び水分散有機樹脂のことを
言い、水溶性のアルキッド樹脂、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニル
樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体等を例示するこ
とができる。熱可塑性樹脂層Ａに対する密着性、突起保
持性、易滑性などの点から、水溶性のアクリル樹脂、ポ
リエステル樹脂、アクリル―ポリエステル樹脂が好まし
い。これら水溶性樹脂は単一重合体でも共重合体でもよ
く、また混合物でもよい。

【００２５】前記水溶性アクリル樹脂は、例えばアクリ
ル酸エステル（アルコール残基としては、メチル基、エ
チル基、ｎ―プロピル基、イソプロピル基、ｎ―ブチル
基、イソブチル基、ｔ―ブチル基、２―エチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェ
ニルエチル基等を例示できる）；メタクリル酸エステル
（アルコール残基は上記と同じ）；２―ヒドロキシエチ
ルアクリレート、２―ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、２―ヒドロキシプロピルアクリレート、２―ヒドロ
キシプロピルメタクリレート等の如きヒドロキシ含有モ
ノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ―メチ
ルメタクリルアミド、Ｎ―メチルアクリルアミド、Ｎ―
メチロールアクリルアミド、Ｎ―メチロールメタクリル
アミド、Ｎ，Ｎ―ジメチロールアクリルアミド、Ｎ―メ
トキシメチルアクリルアミド、Ｎ―メトキシメチルメタ
クリルアミド、Ｎ―フェニルアクリルアミド等の如きア
ミド基含有モノマー；Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエチルア
クリレート、Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエチルメタクリレ
ート等の如きアミノ基含有モノマー；グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジル
エーテル等の如きエポキシ基含有モノマー；スチレンス
ルホン酸、ビニルスルホン酸、及びこれらの塩（例えば
ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等の如
きスルホン酸基又はその塩を含有するモノマー；クロト
ン酸、イタコン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマール
酸、及びそれらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム
塩、アンモニウム塩等）等の如きカルボキシル基又はそ
の塩を含有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコ
ン酸等の無水物を含有するモノマー；その他ビニルイソ
シアネート、アリルイソシアネート、スチレン、ビニル
メチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリス
アルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、
アルキルフマール酸モノエステル、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、アルキルイタコン酸モノエステ
ル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、塩化ビニル等の単量
体の組合せからつくられたものであるが、アクリル酸誘
導体、メタクリル酸誘導体の如き（メタ）アクリル単量
体の成分が５０モル％以上含まれているものが好まし
く、特にメタクリル酸メチルの成分を含有しているもの
が好ましい。

【００２６】水溶性アクリル樹脂は分子内の官能基で自
己架橋することができるし、メラミン樹脂やエポキシ化
合物等の架橋剤を用いて架橋することもできる。

【００２７】本発明に供する水溶性ポリエステル樹脂を
構成する酸成分としては、例えばテレフタル酸、イソフ
タル酸、フタル酸、１，４―シクロヘキサンジカルボン
酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、４，４′―ジフ
ェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカ
ンジカルボン酸、コハク酸、５―ナトリウムスルホイソ
フタル酸、２―カリウムスルホテレフタル酸、トリメリ
ット酸、トリメシン酸、無水トリメリット酸、無水フタ
ル酸、ｐ―ヒドロキシ安息香酸、トリメリット酸モノカ
リウム塩等の多価カルボン酸を例示することができる。
また、ヒドロキシ化合物成分としては、例えばエチレン
グリコール、プロピレングリコール、１，３―プロパン
ジオール、１，４―ブタンジオール、１，６―ヘキサン
ジオール、ネオペンチルグリコール、１，４―シクロヘ
キサンジメタノール、ｐ―キシリレングリコール、ビス
フェノールＡのエチレンオキシド付加物、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ポリエチレンオキ
シドグリコール、ポリテトラメチレンオキシドグリコー
ル、ジメチロールプロピオン酸、グリセリン、トリメチ
ロールプロパン、ジメチロールエチルスルホン酸ナトリ
ウム、ジメチロールプロパン酸カリウム等の多価ヒドロ
キシ化合物を例示することができる。これらの化合物か
ら常法によってポリエステル樹脂をつくることができ
る。水性塗料をつくる点からは、５―ナトリウムスルホ
イソフタル酸成分又はカルボン酸塩基を含有する水溶性
ポリエステル樹脂を用いるのが好ましい。かかるポエス
テル樹脂は分子内に官能基を有する自己架橋型とするこ
とができるし、メラミン樹脂、エポキシ樹脂のような硬
化剤を用いて架橋することもできる。

【００２８】本発明では、前記水性アクリル―ポリエス
テル樹脂はアクリル変性ポリエステル樹脂とポリエステ
ル変性アクリル樹脂とを包含する意味で用いており、ア
クリル樹脂成分とポリエステル樹脂成分とが互いに結合
したものであって、例えばグラフトタイプ、ブロックタ
イプ等を包含する。アクリル―ポリエステル樹脂は、例
えばポリエステル樹脂の両端にラジカル開始剤を付加し
てアクリル単量体の重合を行わせたり、ポリエステル樹
脂の側鎖にラジカル開始剤を付加してアクリル単量体の
重合を行わせたり、あるいはアクリル樹脂の側鎖に水酸
基を付け、末端にイソシアネート基やカルボキシル基を
有するポリエステルと反応させて櫛形ポリマーとする等
によって製造することができる。

【００２９】本発明に供する内部より外部の方が軟質な
粒子（以下、シェルコア粒子と呼ぶ）Ｂとは、内外部の
それぞれが性質の異なる物質で構成される多層構造の粒
子をいう。この場合多層とは２層以上のことをいい、性
質が径方向に連続的に変化するものであってもよい。こ
の粒子の外部（以下、シェル部と呼ぶ）はフイルム上に
塗布後フイルム基部と反応し、または熱処理を行うこと
により反応、溶融、軟化もしくは変形してフイルム基部
に固着する機能を有し、内部（以下、コア部と呼ぶ）は
シェル部と共にフイルムに適度の滑り性及び磁気ヘッド
との最適なスペーシングを与える、いわゆる粒子として
の機能を担うと推測される。上記シェル部、コア部それ
ぞれの機能分担の観点から、シェル部にはフイルム基部
との親和性に優れ、かつ製膜熱処理温度での適切な物理
的、化学的、熱的特性を備えることが要求され、コア部
には機械的摩擦等によって変形せず、シェル部もしくは
基層フイルムに対し相対的に大なる硬度を有することが
求められる。

【００３０】このシェルコア粒子Ｂのコア部の材質とし
ては、ポリスチレン、ポリスチレン―ジビニルベンゼ
ン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート
共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテ
トラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、
ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き
有機質、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カオリン、
タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長石、二硫化
モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウム等の如き
無機質のいずれを用いてもよい。

【００３１】シェル部の材質については一般に熱可塑性
樹脂が好ましく、特にアクリル系樹脂、ポリエステル系
樹脂等が好ましく、さらにはフイルム基部との親和性を
高めるため、その分子中に任意の割合でフイルム基部と
の反応性もしくは親和性を有する官能基、具体的にはカ
ルボキシル基、水酸基、グリシジル基、アミド基、エポ
キシ基、イソシアネート基等を導入したものがよい。こ
れらの官能基は単独、場合によっては２種以上併用して
もよい。またシェル部のガラス転移温度（以下Ｔｇとす
る）は好ましくは８０℃以下、さらに好ましくは２０℃
以下である。Ｔｇが８０℃を超えるとシェルコア粒子の
フイルム上からの脱落が目立つようになる。このような
組成のポリマーをシェル部に使用することにより優れた
耐削れ性を発現させることができる。

【００３２】シェルコア粒子Ｂの平均粒径は５〜１００
ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍである。更に粒度分布
が均一であるものが好ましい。平均粒径が５ｎｍを下ま
わると滑り性、耐削れ性が悪化し、ロール状に巻取った
場合はブロッキング現象が発生する。一方平均粒径が１
００ｎｍを超えると、粒子の脱落が発生し、耐削れ性が
悪化する。また、磁気ヘッドとのスペーシングが大きく
なり高密度の磁気記録媒体として供することが困難とな
る。

【００３３】シェルコア粒子Ｂの皮膜層Ｂ中での凝集率
［後述する実施例の測定項目（６）参照］は１０％以下
が好ましく、より好ましくは５％以下である。この凝集
率が１０％を超えると、粒子凝集体の異常突起としての
性質が顕著となり、また粒子の脱落も発生しやすくな
り、磁気テープとしての性能に悪影響を及ぼし易くな
る。

【００３４】シェルコア粒子Ｂは、皮膜層Ｂの表面突起
頻度が１×１０⁶〜１×１０⁸個／ｍｍ²となる量とな
るように該皮膜層Ｂ中に含有される。この表面突起頻度
が１×１０⁶個／ｍｍ²未満では磁気記録媒体としたと
きの走行耐久性が不足する。他方、１×１０⁸個／ｍｍ
²を超えると電磁変換特性に悪影響を及ぼす。より好ま
しい表面突起頻度は２×１０⁶〜５×１０⁷個／ｍ
ｍ²、更に好ましくは３．０×１０⁶〜３．０×１０⁷
個／ｍｍ²である。

【００３５】皮膜層Ｂの層厚みｔ_B（ｎｍ）とシェルコ
ア粒子Ｂのコア部の粒径ｄ_Bの比（ｔ_B／ｄ_B）は、
０．０５〜０．８、好ましくは０．０８〜０．６、更に
好ましくは０．１〜０．５である。この比（ｔ_B／
ｄ_B）が０．８を超えると、シェルコア粒子Ｂの突起形
成作用が減少し、磁気記録媒体としたときの走行耐久性
が不足する。一方、０．０５より小さくなると、製膜工
程における種々のガイドロールとの接触によって積層フ
イルム表面の粒子が削りとられて走行耐久性が不足した
り、削り取られた粒子がフイルム上に付着堆積してドロ
ップアウトの増加を惹起こしたりする。

【００３６】シェルコア粒子Ｂは、例えばコア部の粒子
が存在する系で、シェル部の重合性単量体を乳化重合せ
しめ、コア部の粒子表面を被覆する方法で製造すること
ができるが、粒子の製造方法によって限定されるもので
はない。

【００３７】本発明における皮膜層Ｂは熱可塑性樹脂層
Ａの少なくとも片面に、前述したシェルコア粒子及び水
溶性樹脂を含む塗液、好ましくは水溶性塗液として塗
布、乾燥することで形成する。この塗液の固形分濃度は
０．２〜１０重量％、さらには０．５〜５重量％、特に
０．７〜３重量％であることが好ましい。そしてこの塗
液、好ましくは水溶性塗液には本発明の効果を損わない
範囲であれば所望により他の成分、例えば界面活性剤、
安定剤、分散剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等を添加すること
ができる。

【００３８】塗布は最終延伸を施す以前の熱可塑性樹脂
フイルムに施し、塗布後にフイルムを少なくとも一軸方
向に延伸することが好ましい。この延伸の前乃至途中で
塗膜は乾燥される。その中で塗布は未延伸熱可塑性樹脂
フイルム又は縦（一軸）延伸熱可塑性樹脂フイルムに行
うことが好ましい。塗布方法としては特に限定されない
が、例えばロールコート法、ダイコート法等が好ましく
例示できる。

【００３９】皮膜層Ｂの表面の、原子間力顕微鏡（ＡＦ
Ｍ）による表面粗さＡＲａ_B（ｎｍ）は、０．３〜５．
０ｎｍ、さらに好ましくは０．５〜４．０ｎｍ、特に好
ましくは０．７〜２．５ｎｍである。また１０点平均粗
さＡＲｚ_B（ｎｍ）は、１０〜１００ｎｍであり、さら
に１５〜７０ｎｍ、特に好ましくは２０〜４０ｎｍであ
る。一方、ＡＲｚ_Bが５．０ｎｍを超える場合、あるい
はＡＲｚ_Bが１００ｎｍを超える場合には、特に金属薄
膜型磁気記録媒体としたときに電磁変換特性が悪化す
る。これに対しＡＲｚ_Bが０．３ｎｍ未満の場合、ある
いはＡＲｚ_Bが１０ｎｍ未満の場合には、滑り性が極度
に悪化して走行耐久性が不足したり、磁気ヘッドに貼り
付いてテープ鳴きを生じたりして実用に供することがで
きなくなり易い。

【００４０】本発明ではフイルムの巻取り性を付与する
ために、熱可塑性樹脂層Ａの、皮膜層Ｂとは接しない面
に不活性粒子Ｃを含有する皮膜層Ｃを設けることが好ま
しい。

【００４１】皮膜層Ｃは塗布層として形成してもよく、
また後述する共押出法により形成してもよい。皮膜層Ｃ
が塗布層である場合は、含有する不活性粒子Ｃは単独粒
子又は大きさの異なる２種以上の粒子からなる。２種以
上の粒子の場合の最も大きい粒子の平均粒径は、２０〜
２００ｎｍ、好ましくは３０〜１００ｎｍである。皮膜
層Ｃ中の不活性粒子Ｃの含有量は３〜５０重量％、好ま
しくは５〜３０重量％である。粒子Ｃの平均粒径が２０
ｎｍ未満、あるいは含有量が３重量％未満であると、フ
イルムの巻取り性、製膜工程での搬送性等の点で満足で
きず、またブロッキングを起こし易くなる。一方、平均
粒径が２００ｎｍを超える場合には粒子が塗膜から脱落
しやすくなる。また皮膜層Ｃ中の不活性粒子Ｃの含有量
が５０重量％を超える場合には皮膜層Ｃ自体の強度が低
下して削れ易くなる。

【００４２】皮膜層Ｃに含有する不活性粒子Ｃとして
は、ポリスチレン、ポリスチレン―ジビニルベンゼン、
ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重
合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテトラ
フルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリ
アクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き有機
質からなる粒子、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カ
オリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長
石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウ
ム等の如き無機質からなる粒子のいずれを用いてもよ
い。また皮膜層Ｂに用いるシェルコアの粒子であっても
よい。

【００４３】前記粒子Ｃを含有して、塗布層を形成する
樹脂としては、皮膜層Ｂの形成に用いた水溶性樹脂と同
じ樹脂を例示することができる。またこれらに更にセル
ロース系樹脂を含有させてもよい。

【００４４】皮膜層Ｃが共押出法により形成される場合
は、含有する不活性粒子Ｃが単独粒子又は大きさの異な
る２種以上の粒子からなる。単独粒子及び２種以上の粒
子の最も大きい粒子の平均粒径は１００〜１０００ｎ
ｍ、好ましくは１００〜５００ｎｍである。皮膜層Ｃ中
の不活性粒子Ｃの含有量は０．００１〜５．０重量％、
好ましくは０．００５〜１．０重量％である。平均粒径
が１００ｎｍ未満、あるいは含有量が０．００１重量％
未満であると、フイルムの巻取り性、製膜工程での搬送
性等が満足できず、またブロッキングを起こし易くな
る。平均粒径が１０００ｎｍを超える場合、あるいは含
有量が５重量％を超える場合には皮膜層Ｂ側の面への突
き上げ効果が著しくなり、電磁変換特性の悪化が起こ
る。

【００４５】不活性粒子Ｃの種類としては皮膜層Ｃを塗
布層とした場合に用いた粒子と同じ粒子を例示できる。

【００４６】本発明の積層フイルムは、従来から知られ
ている方法で製造することができる。例えば、二軸配向
ポリエステルフイルムで説明すると、塗布法の場合ま
ず、前記熱可塑性樹脂Ａを口金より融点Ｔｍ℃〜（Ｔｍ
＋７０）℃の温度でフイルム状に押出した後、４０〜９
０℃で急冷固化し未延伸フイルムを得る。しかる後に、
該未延伸フイルムを常法に従って一軸方向（縦方向又は
横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度
（但し、Ｔｇ：ポリエステルのガラス転移温度）におい
て２．５〜８．０倍の倍率、好ましくは３．０〜７．５
倍の倍率、で延伸し、次いで、皮膜層Ｂ、Ｃを形成する
塗液をフイルム両面にそれぞれ塗布し、その後に前記方
向とは直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度におい
て２．５〜８．０倍の倍率、好ましくは３．０〜７．５
倍の倍率、で延伸する。更に必要に応じて縦方向及び／
又は横方向に再度延伸してもよい。即ち、２段、３段、
４段、或いは多段の延伸を行うとよい。全延伸倍率は、
面積延伸倍率として通常９倍以上、好ましくは１２〜３
５倍、更に好ましくは１５〜３２倍である。更に引き続
いて、二軸配向フイルムを（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１
０）℃の温度、例えば１８０〜２５０℃で熱固定結晶化
することによって優れた寸法安定性が付与される。な
お、熱固定時間は１〜６０秒間が好ましい。

【００４７】共押出法の場合、層Ａ、層Ｃ用の２種の熱
可塑性樹脂を押出口金内又は口金以前（一般に前者はマ
ルチマニホールド方式、後者はフィードブロック方式と
呼ぶ）で溶融状態にて積層複合し、好適な厚み比となし
て共押出をして２層積層の未延伸フイルムとし、更に一
軸延伸後に皮膜層Ｂを形成する塗液を塗布する以外は前
記塗布法と同様に行う。この方法により層間密着性に優
れた二軸配向積層ポリエステルフイルムが得られる。

【００４８】なお、積層フイルムの製造に際し、熱可塑
性樹脂に、所望により添加剤例えば安定剤、着色剤、溶
融ポリマーの固有抵抗調整剤（制電剤）等を添加含有さ
せることができる。

【００４９】本発明の積層フイルムは、皮膜層Ｂの表面
に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング
等の方法により、鉄、コバルト、クロム又はこれらを主
成分とする合金もしくは酸化物より成る強磁性金属薄膜
層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に応じ
てダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、
含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑性
樹脂層Ａ又は皮膜層Ｃの表面に公知のバックコート層を
設けることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ
／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラー
レートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とする
ことが出来る。この蒸着型電磁記録媒体は、アナログ信
号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデ
オカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤ
ＳIV用テープ媒体として極めて有用である。

【００５０】本発明の積層フイルムは、また、皮膜層Ｂ
の表面に、鉄又は鉄を主成分とする針状微細磁性粉をポ
リ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体
等のバインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以
下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更
に熱可塑性樹脂層Ａ又は皮膜層Ｃの表面に公知の方法で
バックコート層を設けることにより、特に短波長領域で
の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロ
ップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル
塗布型磁気記録媒体とすることが出来る。また、必要に
応じて皮膜層Ｂの上に、メタル粉含有磁性層の下地層と
して微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性
層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することもで
きる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号
記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ―ＶＨ
Ｓ、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットコ
ーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV、ディジタ
ルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等用テープ媒体として極め
て有用である。

【００５１】本発明の積層フイルムは、また、皮膜層Ｂ
の表面に、酸化鉄又は酸化クロム等の針状微細磁性粉、
又はバリウムフェライト等の板状微細磁性粉をポリ塩化
ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバ
インダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ま
しくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に熱可塑
性樹脂層Ａ又は皮膜層Ｃの上に公知の方法でバックコー
ト層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ
／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウ
ト、エラーレートの少ない高密度記録用塗布型磁気記録
媒体とすることが出来る。また、必要に応じて皮膜層Ｂ
の上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸
化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有
機バインダー中に分散、塗設することも出来る。この酸
化物塗布型磁気記録媒体は、ディジタル信号記録用デー
タストリーマー用ＱＩＣ等の高密度酸化物塗布型磁気記
録媒体として有用である。

【００５２】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。尚、本発明において用いた測定法は次の通りで
ある。

【００５３】（１）粒子の平均粒径（平均粒径：０．０
６μｍ以上）島津製作所製ＣＰ―５０型セントリフューグルパーテ
ィクルサイズアナライザー（Centrifugal Particle
Size Analyzer）を用いて測定する。得られる遠心沈降
曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算
曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球
直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（Book
「粒度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、頁２
４２〜２４７参照）。

【００５４】（２）超微細粒子の平均粒径（平均粒径：
０．０６μｍ未満）小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、
光散乱法を用いて測定する。即ち、ニコム・インスツル
メンツ・インコーポレイテッド（ＮｉｃｏｍｐＩｎｓｔ
ｒｕｍｅｎｔｓＩｎｃ．）社製のＮＩＣＯＭＰＭＯ
ＤＥＬ２７０ＳＵＢＭＩＣＲＯＮＰＡＲＴＩＣＬ
ＥＳＩＺＥＲにより求められる全粒子の５０重量％
の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。

【００５５】（３）体積形状係数Ｆ走査型電子顕微鏡により用いたサイズに応じた倍率にて
各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼックス
５００（日本レギュレーター製）を用い、投影面最大径
及び粒子の体積を算出し、次式により算出する。Ｆ＝Ｖ／ｄ³ 式中、Ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の体積（μｍ³）、
ｄは投影面の最大径（μｍ）を表す。

【００５６】（４）層厚フイルムの全厚はマイクロメーターにてランダムに１０
点測定し、その平均値を用いる。層厚は、薄い側の層厚
を以下に述べる方法にて測定し、また厚い側の層厚は全
厚より薄い側の層厚に引き算して求める。即ち、二次イ
オン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ
５０００ｎｍの範囲のフイルム中の粒子の内最も高濃度
の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度
比（Ｍ⁺／Ｃ⁺）を粒子濃度とし、表面から深さ５００
０ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では粒子濃度は
低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。
本発明の場合、粒子濃度は一旦安定値１になった後、上
昇或いは減少して安定値２になる場合と、単調に減少す
る場合とがある。この分布曲線をもとに、前者の場合は
（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える深さを
もって、また後者の場合は粒子濃度が安定値１の１／２
になる深さ（この深さは安定値１を与える深さよりも深
い）をもって、当該層の層厚とする。

【００５７】測定装置に二次イオン質量分析装置（Ｓ
ＩＭＳ）：ＰＥＲＫＩＮＥＬＭＥＲ社製６３００を
使用し、測定条件は下記の通りである。一次イオン種：Ｏ２＋一次イオン加速電圧：１２ＫＶ一次イオン電流：２００ｍＡラスター領域：４００μｍ□ 分析領域：ゲート３０％測定真空度：６．０×１０^-9ＴｏｒｒＥ―ＧＵＮＮ：０．５ＫＶ―３．０Ａ

【００５８】尚、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多
く含有する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子
の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッ
チングしながらＦＴ―ＩＲ（フーリエトランスフォーム
赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線高電子分光
法）等で上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を求め
る。

【００５９】以上は共押出層の場合に有効な測定法であ
って、塗布層の場合はフイルムの小片をエポキシ樹脂に
て固定成形し、ミクロトームにて約６０ｎｍの厚みの超
薄切片（フイルムの流れ方向に平行に切断する）を作成
し、この試料を透過型電子顕微鏡（日立製作所製Ｈ―８
００型）にて観察し、層の境界面より層厚みを求める。

【００６０】（５）ＡＦＭ表面粗さＡＲａ及びＡＲｚＤｉｇｉｔａｌＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製の原子間
力顕微鏡ＮａｎｏＳｃｏｐｅIII ＡＦＭのＪスキャナ
ーを使用し、以下の条件で算出されるＡＲａ（２乗平均
粗さ）及びＡＲｚ（１０点平均粗さ）を下記の条件で測
定する。探針；単結合シリコンセンサー走査モード：タッピングモード走査範囲：２μｍ×２μｍ画素数：２５６×２５６データポイントスキャン速度：２．０Ｈｚ測定環境：室温、大気中

【００６１】（６）粒子突起の個数及び凝集率ＳＥＭ（走査電子顕微鏡、日本電子製Ｔ―３００型）を
使用して、積層フイルムの表面を倍率３万倍、角度０°
で２０枚写真撮影して、粒状突起の数をカウントし、そ
の平均値を面積換算により個／ｍｍ²当たりの突起個数
として算出する。また凝集率は同じＳＥＭ写真を用いて
下記式にて算出する。凝集率（％）＝［（２個以上の粒子が凝集した凝集塊の
総数）／（１個以上の粒子塊の総数）］×１００

【００６２】（７）フイルムの長手方向と幅方向の寸法
変位差フイルム長手方向の寸法変位Ｌ_T（％）真空理工社（株）製熱機械試験機ＴＡ―１５００を用い
て、１５ｃｍ長のフイルム２００ｇ／ｍｍ²の荷重をか
け、２℃／分の速度でフイルム環境温度を２０℃→８０
℃→２０℃の順で変化させ、８０℃→２０℃の際の寸法
変位Ｌ_T（％）を測定する。フイルム幅方向の寸法変位Ｌ_M（％）荷重を６０ｇ／ｍｍ²とする以外は上記と同じ方法で
寸法変位Ｌ_M（％）を測定する。下記式より寸法変位差（％）を計算する。 │Ｌ_T−Ｌ_M│

【００６３】（８）耐削れ性フイルムを２５〜３０ｃｍ長さ、幅１／２インチにサン
プリングし、レザー刃を皮膜層Ｂの面に対し９０°の角
度、深さ０．５ｍｍの条件であてがい、荷重５００ｇ／
０．５インチ、速度６．７ｃｍ／ｓｅｃで走行させたと
きに、レザー刃に付着した削れ粉の深さ方向の幅を顕微
鏡写真撮影（×１６０倍）して求めた。削れ粉の深さ方
向の幅が３μｍ以下を（◎）、３〜５μｍを（○）、５
μｍ以上を（×）とする。削れ粉の深さ方向の幅が小さ
いほど削れ性に優れている。

【００６４】（９）巻取り性スリット時の巻取り条件を最適化後、幅５６０ｍｍ×長
さ９０００ｍのサイズで、１０ロールのスリットを行
い、１週間放置後の、フイルムシワの発生のないロール
本を良品として、以下の基準にて巻取り性の評価をす
る。良品ロール本数判定基準８本以上 ◎ ５〜７本 ○ ３〜４本 × ２本以下 ××

【００６５】（１０）磁気テープの製造及び特性評価積層フイルムの皮膜層Ｂの表面に、真空蒸着法により、
コバルト１００％の強磁性薄膜を０．０２μｍの厚みに
なるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成し、その表
面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、更に含
フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑性樹
脂Ａ又は皮膜層Ｃの表面に公知方法でバックコート層を
設ける。その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍ
ビデオカセットにローディングする。次いで、以下の市
販の機器を用いてテープの特性を測定する。使用機器：８ｍｍビデオテープレコーダー：ソニー（株）製ＥＤＶ
―６０００Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーター

【００６６】Ｃ／Ｎ測定記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／ＮをＯｄＢとし、相対値で表す。 ◎ ：＋２ｄＢ以上 ○ ：−１〜＋２ｄＢ × ：−４〜−２ｄＢ ××：−４ｄＢ以下

【００６７】ドロップアウト（Ｄ／Ｏ）測定ドロップアウトカウンターを用いて、１５μｓ／１８ｄ
Ｂにて１分間当たりの個数を測定する。 ◎ ：０〜１０個／分 ○ ：１０〜２０個／分 × ：２０〜５０個／分 ××：５０個／分以上

【００６８】走行耐久性４０℃、８０％ＲＨで、テープ、走行速度８５ｃｍ／分
で記録再生を５００回繰り返した後のＣ／Ｎを測定し、
初期値からのずれを次の基準で判定する。 ◎ ：初期値に対して＋０．０ｄＢ以上 ○ ：初期値に対して−１．０ｄＢ〜＋０．０ｄＢ × ：初期値に対して−１．０ｄＢ未満

【００６９】［実施例１］ジメチルテレフタレートとエ
チレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マ
ンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤
として亜燐酸を、更に滑剤として表１に示す不活性粒子
を添加して常法により重合し、実質的に不活性粒子を含
有しないポリエチレンテフタレート（ＰＥＴ）を得た。

【００７０】このポリエチレンテレフタレートを１７０
℃で３時間乾燥後、押出機に供給し、溶融温度２８０〜
３００℃にて溶融して、ダイよりシート状に押出し、急
冷して厚さ８２μｍの未延伸フイルムを得た。

【００７１】得られた未延伸フイルムを予熱し、更に低
速・高速のロール間でフイルム温度９５℃にて縦方向に
３．２倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フイルムの一
方の面に表１、２の皮膜層Ｂの水溶性樹脂および粒子Ｂ
を含む水溶性塗液を、他の面に皮膜層Ｃの樹脂および粒
子Ｃを含む水溶性塗液を各々０．００９μｍ、０．０３
５μｍ（延伸乾燥後）の厚みになるよう塗布し、続いて
ステンターに供給し、１１０℃にて横方向に４．１倍に
延伸した。得られた二軸延伸フイルムを２２０℃の熱風
で４秒間熱固定し、厚み６．４μｍの積層二軸配向ポリ
エステルフイルムを得た。

【００７２】［比較例１及び８］皮膜層Ｂと皮膜層Ｃの
樹脂及び粒子、熱可塑性樹脂層Ａの厚み及び粒子を表
１、２のように変更する以外は実施例１と同様の方法で
積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。尚、比較例
１０では縦×横の延伸倍率を３．６×３．８とした。

【００７３】

【表１】

【００７４】

【表２】

【００７５】［実施例３、比較例５及び６］表１、２に
示す熱可塑性樹脂層Ａ、皮膜層Ｃ用のポリエチレンテレ
フタレートをそれぞれ２台の押出機に供給して、マルチ
マニホールド型共押し出しダイを用いて積層し、表１の
皮膜層Ｂの樹脂及び粒子を含む水性塗液を皮膜層Ｃ側の
面と反対の面に塗布する以外は実施例１と同様の方法で
積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。尚、実施例
３、比較例６では縦×横の延伸倍率を３．６×３．８と
した。

【００７６】［実施例２及び５、比較例２、３及び７］
表１、２に示す粒子を用い、かつジメチルテレフタレー
トの代わりに２，６―ナフタレンジカルボン酸ジメチル
を同モル量使用した以外は実施例１と同様の方法でポリ
エチレン―２，６―ナフタレート（ＰＥＮ）を得た。

【００７７】このポリエチレン―２，６―ナフタレート
を１７０℃で６時間乾燥後、実施例１と同様にして、各
実施例、比較例を満たす未延伸フイルムを得た。

【００７８】得られた未延伸フイルムを予熱し、更に低
速・高速のロール間でフイルム温度１３５℃にて縦方向
に延伸し、急冷し、次いで表１、２に示す皮膜層Ｂ及び
皮膜層Ｃの水性塗液を実施例１と同様に塗布し、続いて
ステンターに供給し、１５５℃にて横方向に延伸した。
得られた二軸延伸フイルムを２００℃の熱風で４秒間熱
固定し、積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。
尚、各例の縦×横の延伸倍率は、実施例５、比較例３は
４．０×５．１、実施例２、比較例７は３．５×５．
６、比較例２は５．５×３．０である。

【００７９】［実施例４、比較例４］ポリエチレンテレ
フタレートの代りに、表１、２に示すようにポリエチレ
ン―２，６―ナフタレートを用いる以外は実施例３と同
様の方法で積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。
尚、縦×横の延伸倍率は、４．５×４．６である。

【００８０】表２から明らかなように、本発明による積
層フイルムは製膜工程での削れ性、巻取り性に優れ、磁
気記録媒体として用いられる場合に電磁変換特性、ドロ
ップアウト特性、走行耐久性に極めて優れる。これに対
し、本発明の要件を満たさないものはこれらの特性を同
時に満足することはできない。

【００８１】［発明の利用性］本発明の積層フイルムは
全厚みが２．５〜２０μｍ程度であり、磁気記録媒体の
ベースに好適に用いられる。そして磁気記録媒体として
は金属薄膜型のものに有用である。また本発明の積層フ
イルム基材は磁性層の厚みが１μｍ以下の塗布型磁気記
録媒体にも供し得る他に、デジタル信号記録型磁気記録
媒体にも使うことができる。

【００８２】

【発明の効果】本発明によれば、製膜工程での耐削れ
性、巻取り性に優れ、しかも電磁変換特性、ドロップア
ウト特性、走行耐久性に優れた磁気記録媒体のベースフ
イルムとして有用な積層フイルムを提供することができ
る。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】平均粒径４０〜４００ｎｍ、体積形状係
数が０．１〜π／６の粒子Ａを表面の突起頻度が５００
０〜５万個／ｍｍ²となる様に含有した熱可塑性樹脂層
Ａの少なくとも片面に、平均粒径ｄ_Bが５〜１００ｎｍ
である不活性粒子Ｂを含む水溶性樹脂からなる皮膜層Ｂ
を設けた積層フイルムであって、環境温度を８０℃から
２０℃に変化させた際のフイルム長手方向の寸法変位Ｌ
_M（％）及び幅方向の寸法変位Ｌ_T（％）が下記式
（１）を満たすことを特徴とする積層フイルム。 │Ｌ_T−Ｌ_M│≦８．０×１０^-4 ……（１）
【請求項２】不活性粒子Ｂの平均粒径ｄ_B（ｎｍ）、
皮膜層Ｂの層厚ｔ_B（ｎｍ）が下記式（２）を満足し、
該粒子からなる表面突起の頻度が１×１０⁶〜１×１０
⁸個／ｍｍ²であることを特徴とする積層フイルム。０．０５≦ｔ_B／ｄ_B≦０．８ ……（２）
【請求項３】不活性粒子Ｂが該粒子の内部より外部が
柔軟なコアシェル型構造を備えてなる請求項２に記載の
積層フイルム。
【請求項４】水溶性樹脂がアクリル樹脂、ポリエステ
ル樹脂及びアクリル―ポリエステル樹脂の群から選ばれ
る少くとも１種の樹脂である請求項１に記載された積層
フイルム。
【請求項５】原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて測定した
皮膜層Ｂの表面突起の表面粗さＡＲａ_B（ｎｍ）及び１
０点平均粗さＡＲｚ_B（ｎｍ）が下記式（３）及び
（４）を同時に満たすことを特徴とする請求項１に記載
の積層フイルム。０．３≦ＡＲａ_B≦５．０ ……（３）１０≦ＡＲｚ_B≦１００ ……（４）
【請求項６】熱可塑性樹脂層Ａの皮膜層Ｂとは接しな
い面に、不活性粒子を含有する皮膜層Ｃを積層してなる
請求項１に記載の積層フイルム。
【請求項７】皮膜層Ｃが塗布層であり、該皮膜層Ｃ中
の不活性粒子が単独粒子又は大きさの異なる２種類以上
の粒子からなり、単独粒子の平均粒径又は２種類以上の
粒子のうち最も大きい粒子の平均粒径が２０〜２００ｎ
ｍであり、しかも皮膜層Ｃに占める不活性粒子の含有量
が１〜５０重量％である請求項６に記載の積層フイル
ム。
【請求項８】皮膜層Ｃが共押出層で構成され、該皮膜
層Ｃ中の不活性粒子が単独粒子又は大きさの異なる２種
類以上の粒子からなり、単独粒子の平均粒径又は２種類
以上の粒子のうち最も大きい粒子の平均粒径が０．１〜
１μｍであり、しかも皮膜層Ｃに占める不活性粒子の含
有量が０．００１〜５．０重量％である請求項６に記載
の積層フイルム。
【請求項９】磁気記録媒体のベースフイルムとして用
い得る請求項１に記載の積層フイルム。