JP3134638B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JP3134638B2 JP3134638B2 JP05303981A JP30398193A JP3134638B2 JP 3134638 B2 JP3134638 B2 JP 3134638B2 JP 05303981 A JP05303981 A JP 05303981A JP 30398193 A JP30398193 A JP 30398193A JP 3134638 B2 JP3134638 B2 JP 3134638B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silicon compound
- magnetic recording
- back layer
- magnetic
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/735—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer
- G11B5/7356—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer comprising non-magnetic particles in the back layer, e.g. particles of TiO2, ZnO or SiO2
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体に関し、
平滑性に優れしかも長期保存下で磁性層との粘着現象の
ないバック層に関する。
平滑性に優れしかも長期保存下で磁性層との粘着現象の
ないバック層に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、記録密度の向上に伴い磁性層の表
面は益々鏡面化され、安定した走行性を確保することが
難しくなってきている。そこで支持体に対し磁性層と反
対面にバック層を施し走行安定性を付与することが行わ
れているが、バック層の磁性層への形状転写を防ぐため
に、バック層自体の平滑性に対する要求も高まってい
る。しかし磁性層とバック層がともに平滑な場合、磁気
記録媒体を巻かれたまま長期保存すると層間で粘着現象
がおこり、それによる磁性層ダメージがドロップアウト
の増大、画像ジッタ発生等の問題を起こす場合があっ
た。
面は益々鏡面化され、安定した走行性を確保することが
難しくなってきている。そこで支持体に対し磁性層と反
対面にバック層を施し走行安定性を付与することが行わ
れているが、バック層の磁性層への形状転写を防ぐため
に、バック層自体の平滑性に対する要求も高まってい
る。しかし磁性層とバック層がともに平滑な場合、磁気
記録媒体を巻かれたまま長期保存すると層間で粘着現象
がおこり、それによる磁性層ダメージがドロップアウト
の増大、画像ジッタ発生等の問題を起こす場合があっ
た。
【０００３】また、携帯用ビデオカメラの普及に伴い、
屋外での使用等その使用環境は益々多様化してきてお
り、高温高湿度下のようなより厳しい環境下での長期保
存で粘着現象を防止することが要求されてきている。こ
れに対し、粘着防止の目的でシリコンオイルを添加する
ことが知られているが、シリコンオイルは一般に結合剤
との相溶性がわるく、塗膜形成時にハジキ、ピンホール
等の塗膜欠陥をおこしやすい問題がある。また、シリコ
ンオイルを脂肪酸変性することにより結合剤との相溶性
を改良することが提案（特開昭６１−２７３７２０号公
報）されているが、相溶性は改良されるもののシリコン
オイルと結合剤とが固定化されておらず、巻かれたまま
長期保存したときに磁性層へのシリコンオイルの移行が
おこるため、粘着性防止効果が持続せず、また磁性層に
移行したシリコンオイルが電磁変換特性等に影響を及ぼ
す場合があった。また、反応性ポリシロキサンと反応性
樹脂の生成物を使用する試みがなされているが、これら
はポリシロキサンが樹脂中にとりこまれるため、表面へ
の配向が妨げられ、十分な非粘着性が得られていない。
屋外での使用等その使用環境は益々多様化してきてお
り、高温高湿度下のようなより厳しい環境下での長期保
存で粘着現象を防止することが要求されてきている。こ
れに対し、粘着防止の目的でシリコンオイルを添加する
ことが知られているが、シリコンオイルは一般に結合剤
との相溶性がわるく、塗膜形成時にハジキ、ピンホール
等の塗膜欠陥をおこしやすい問題がある。また、シリコ
ンオイルを脂肪酸変性することにより結合剤との相溶性
を改良することが提案（特開昭６１−２７３７２０号公
報）されているが、相溶性は改良されるもののシリコン
オイルと結合剤とが固定化されておらず、巻かれたまま
長期保存したときに磁性層へのシリコンオイルの移行が
おこるため、粘着性防止効果が持続せず、また磁性層に
移行したシリコンオイルが電磁変換特性等に影響を及ぼ
す場合があった。また、反応性ポリシロキサンと反応性
樹脂の生成物を使用する試みがなされているが、これら
はポリシロキサンが樹脂中にとりこまれるため、表面へ
の配向が妨げられ、十分な非粘着性が得られていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】これらの問題を解決す
るために鋭意検討を行った結果、以下の磁気記録媒体を
発明するに到った。
るために鋭意検討を行った結果、以下の磁気記録媒体を
発明するに到った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は支持体
に対し互いに反対面に磁性層及びバック層を有する磁気
記録媒体において、該バック層を充填剤、結合剤及び下
記一般式（Ｉ）で示されるシリコン化合物を含む塗料に
より形成することにより上記問題点を解決できることを
見出したものである。
に対し互いに反対面に磁性層及びバック層を有する磁気
記録媒体において、該バック層を充填剤、結合剤及び下
記一般式（Ｉ）で示されるシリコン化合物を含む塗料に
より形成することにより上記問題点を解決できることを
見出したものである。
【０００６】
【化２】 (式中、Ａ基、Ｂ基、Ｄ基はそれぞれ−ＣＨ3基または−
Ｘ−Ｙ−Ｚ基を示し、Ｘ基は炭素数１〜１１のアルキレ
ン基または−（ＣＨ2）3ＮＨＣＯ−基を示し、Ｙ基はラ
クトンが開環重合した数平均分子量Ｍｎが３００〜３０
００の脂肪族ポリエステル残基を示し、Ｚ基は−ＯＨ基
を示し、ｍは４〜１５０の整数、ｎは１〜６の整数を示
す（ただし、Ａ基、Ｂ基及びＤ基のうち少なくとも１個
は−Ｘ−Ｙ−Ｚ基であり、−Ｘ−Ｙ−Ｚ基の数とｍの比
は１：３〜１：３０である。）。）本発明に係わる充填
剤としては、カーボンブラック、グラファイト、炭酸カ
ルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルファ酸化
鉄、板状アルファ酸化鉄、アルミナ、ジルコニア、炭化
ケイ素、酸化ケイ素、酸化クロム、炭酸マグネシウム、
酸化亜鉛、シリカ等一般にバック層に使用される充填剤
が挙げられるが、導電性、遮光性の点からカーボンブラ
ックが好ましい。具体的なカーボンブラックの例として
は、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ１４００、
１３００、１１００、８００、ＭＯＮＡＲＣＨ１４０
０、１３００、１１００、８００、１２０、ＶＵＬＣＡ
Ｎ−ＸＣ７２、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ Ｌ、三菱化成
工業社製＃３７５０、＃３９５０、＃２６００、＃２４
００、＃９９０、＃９６０、＃８５０、ＭＡ６００、Ｍ
Ａ７、ＭＡ１００、ＭＡ１００Ｒ、コレンビヤンカーボ
ン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ−ＳＣ、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
９７５、ＲＡＢＥＮ７０００、５０００、３５００、、
２０００、１５００、１２５５、１２５０、１１７０、
１０６０、１０２０、７６０、４５０、ＳＥＶＡＣＡＲ
Ｂ ＭＴ、旭カーボン社製＃８０、＃５５、＃５０、＃
３５、＃１５、アサヒサーマル、東海カーボン社製シー
スト９Ｈ、７Ｈ、５Ｈ、アクゾ社製ケッチェンブラック
ＥＣ６００ＪＤ、キャンカーブ製サーマックスＭＴ−Ｎ
９９０などが挙げられる。
Ｘ−Ｙ−Ｚ基を示し、Ｘ基は炭素数１〜１１のアルキレ
ン基または−（ＣＨ2）3ＮＨＣＯ−基を示し、Ｙ基はラ
クトンが開環重合した数平均分子量Ｍｎが３００〜３０
００の脂肪族ポリエステル残基を示し、Ｚ基は−ＯＨ基
を示し、ｍは４〜１５０の整数、ｎは１〜６の整数を示
す（ただし、Ａ基、Ｂ基及びＤ基のうち少なくとも１個
は−Ｘ−Ｙ−Ｚ基であり、−Ｘ−Ｙ−Ｚ基の数とｍの比
は１：３〜１：３０である。）。）本発明に係わる充填
剤としては、カーボンブラック、グラファイト、炭酸カ
ルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルファ酸化
鉄、板状アルファ酸化鉄、アルミナ、ジルコニア、炭化
ケイ素、酸化ケイ素、酸化クロム、炭酸マグネシウム、
酸化亜鉛、シリカ等一般にバック層に使用される充填剤
が挙げられるが、導電性、遮光性の点からカーボンブラ
ックが好ましい。具体的なカーボンブラックの例として
は、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ１４００、
１３００、１１００、８００、ＭＯＮＡＲＣＨ１４０
０、１３００、１１００、８００、１２０、ＶＵＬＣＡ
Ｎ−ＸＣ７２、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ Ｌ、三菱化成
工業社製＃３７５０、＃３９５０、＃２６００、＃２４
００、＃９９０、＃９６０、＃８５０、ＭＡ６００、Ｍ
Ａ７、ＭＡ１００、ＭＡ１００Ｒ、コレンビヤンカーボ
ン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ−ＳＣ、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
９７５、ＲＡＢＥＮ７０００、５０００、３５００、、
２０００、１５００、１２５５、１２５０、１１７０、
１０６０、１０２０、７６０、４５０、ＳＥＶＡＣＡＲ
Ｂ ＭＴ、旭カーボン社製＃８０、＃５５、＃５０、＃
３５、＃１５、アサヒサーマル、東海カーボン社製シー
スト９Ｈ、７Ｈ、５Ｈ、アクゾ社製ケッチェンブラック
ＥＣ６００ＪＤ、キャンカーブ製サーマックスＭＴ−Ｎ
９９０などが挙げられる。
【０００７】本発明に係わる結合剤としては、従来公知
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、繊維素系
樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹脂とし
てはガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子
量が１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜
１０００００のもので、例えば塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アク
リル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、
スチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール等を構
成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン
樹脂、ポリエステル樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ホル
ムアルデヒド樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂と
イソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポ
リオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタン
とポリイソシアネートの混合物等が挙げられる。また繊
維素系樹脂としては、硝化綿、エチルセルロース、セル
ロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプ
ロピオネート等が挙げられる。
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、繊維素系
樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹脂とし
てはガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子
量が１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜
１０００００のもので、例えば塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アク
リル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、
スチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール等を構
成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン
樹脂、ポリエステル樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ホル
ムアルデヒド樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂と
イソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポ
リオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタン
とポリイソシアネートの混合物等が挙げられる。また繊
維素系樹脂としては、硝化綿、エチルセルロース、セル
ロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプ
ロピオネート等が挙げられる。
【０００８】以上の樹脂は単独または組み合わせて使用
できるが、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、塩化
ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸樹脂、塩化ビニルアク
リルエステル樹脂、硝化綿、フェノキシ樹脂から選ばれ
る１種とポリウレタン樹脂の組み合わせまたはこれらに
ポリイソシアネートを組み合わせたものが好ましく、さ
らに好ましくは硝化綿とウレタン樹脂とポリイソシアネ
ートの組み合わせ、または塩化ビニル樹脂とウレタン樹
脂とポリイソシアネートの組み合わせである。塩化ビニ
ル系共重合体としては、好ましくは塩化ビニル繰り返し
単位と、エポキシ基を有する繰り返し単位と−ＳＯ
3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、ＣＯＯＭ、−ＰＯ（ＯＭ）2 （以
上につきＭは水素原子またはアルカリ金属）等の極性基
を有する繰り返し単位を含む塩化ビニル系共重合体が挙
げられる。
できるが、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、塩化
ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸樹脂、塩化ビニルアク
リルエステル樹脂、硝化綿、フェノキシ樹脂から選ばれ
る１種とポリウレタン樹脂の組み合わせまたはこれらに
ポリイソシアネートを組み合わせたものが好ましく、さ
らに好ましくは硝化綿とウレタン樹脂とポリイソシアネ
ートの組み合わせ、または塩化ビニル樹脂とウレタン樹
脂とポリイソシアネートの組み合わせである。塩化ビニ
ル系共重合体としては、好ましくは塩化ビニル繰り返し
単位と、エポキシ基を有する繰り返し単位と−ＳＯ
3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、ＣＯＯＭ、−ＰＯ（ＯＭ）2 （以
上につきＭは水素原子またはアルカリ金属）等の極性基
を有する繰り返し単位を含む塩化ビニル系共重合体が挙
げられる。
【０００９】ウレタン樹脂としては、ポリエステルポリ
ウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリカーボネー
トポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど
公知のものが使用できる。また必要に応じ−ＣＯＯＭ，
−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）2 （以上に
つきＭは水素原子またはアルカリ金属）、−ＯＨ、ＮＲ
2 、Ｎ+ Ｒ3 （Ｒは炭化水素）、エポキシ基、スルホベ
タイン基などから選ばれる少なくとも１つ以上の極性基
を導入したものを用いることができる。ポリイソシアネ
ートとしては、トリレンジイソシアネート、４−４’ジ
フェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、キシリレンジイソシアネート、オルトト
ルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
ト、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシ
アネート類、またこれらのイソシアネート類とポリアル
コールとの生成物、またイソシアネート類の縮合によっ
て生成したポリイソシアネート等を使用することができ
る。
ウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリカーボネー
トポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど
公知のものが使用できる。また必要に応じ−ＣＯＯＭ，
−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）2 （以上に
つきＭは水素原子またはアルカリ金属）、−ＯＨ、ＮＲ
2 、Ｎ+ Ｒ3 （Ｒは炭化水素）、エポキシ基、スルホベ
タイン基などから選ばれる少なくとも１つ以上の極性基
を導入したものを用いることができる。ポリイソシアネ
ートとしては、トリレンジイソシアネート、４−４’ジ
フェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、キシリレンジイソシアネート、オルトト
ルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
ト、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシ
アネート類、またこれらのイソシアネート類とポリアル
コールとの生成物、またイソシアネート類の縮合によっ
て生成したポリイソシアネート等を使用することができ
る。
【００１０】これらのポリイソシアネートは結合剤中の
極性基と反応し３次元的に架橋し、塗膜の強度、耐久性
をたかめるとともに、本発明のシリコン化合物の水酸基
とも反応し、塗膜表面に固定化させる効果をもつ。本発
明に係わるシリコン化合物の−Ｘ−Ｙ−Ｚ基においてＹ
基は重要な組成の一部を形成する。Ｙ基は少なくとも３
個の
極性基と反応し３次元的に架橋し、塗膜の強度、耐久性
をたかめるとともに、本発明のシリコン化合物の水酸基
とも反応し、塗膜表面に固定化させる効果をもつ。本発
明に係わるシリコン化合物の−Ｘ−Ｙ−Ｚ基においてＹ
基は重要な組成の一部を形成する。Ｙ基は少なくとも３
個の
【００１１】
【化３】 基を含有するカルボキシレートエステル基である。Ｙ基
に含有するカルボキシレートエステル基が２個以下だと
種々の結合剤に対し十分な相溶性を得ることがでできな
い。これらの基は２〜１２個の炭素原子、好ましくは４
〜６個の炭素原子をもつ２価の炭化水素基によって互い
に結合される。５個の炭素原子を持つ飽和脂肪族炭化水
素が特に好ましい。Ｙ基は好ましくは以後詳述するよう
に、カプロラクトンの重合により形成されるポリカプロ
ラクトン基であるのが好ましい。またＹ基は数平均分子
量Ｍｎとして３００〜３０００が好ましく、５００〜１
５００が特に好ましい。
に含有するカルボキシレートエステル基が２個以下だと
種々の結合剤に対し十分な相溶性を得ることがでできな
い。これらの基は２〜１２個の炭素原子、好ましくは４
〜６個の炭素原子をもつ２価の炭化水素基によって互い
に結合される。５個の炭素原子を持つ飽和脂肪族炭化水
素が特に好ましい。Ｙ基は好ましくは以後詳述するよう
に、カプロラクトンの重合により形成されるポリカプロ
ラクトン基であるのが好ましい。またＹ基は数平均分子
量Ｍｎとして３００〜３０００が好ましく、５００〜１
５００が特に好ましい。
【００１２】本発明に係わるシリコン化合物の−Ｘ−Ｙ
−Ｚ基においてＸ基は、炭素数１〜１１のアルキレン基
または−（ＣＨ2 ）3 ＮＨＣＯ−基が好ましい。またＺ
基は−ＯＨ基が好ましい。Ｚ基を−ＣＯＯＨ基、−ＮＣ
Ｏ基、−ＣＨ＝ＣＨ2 基とするともできるが、化合物の
安定性、結合剤との相溶性、反応性の点から−ＯＨ基が
もっとも好ましい。また−ＯＨ基を含有するシリコン化
合物の水酸基価は５（ＫＯＨｍｇ／ｇ）以上が好まし
い。水酸基価が５（ＫＯＨｍｇ／ｇ）より小さいと結合
剤との反応が十分に行われず、磁性層へのシリコン化合
物の移行がおこり、粘着防止効果の持続性が劣る。
−Ｚ基においてＸ基は、炭素数１〜１１のアルキレン基
または−（ＣＨ2 ）3 ＮＨＣＯ−基が好ましい。またＺ
基は−ＯＨ基が好ましい。Ｚ基を−ＣＯＯＨ基、−ＮＣ
Ｏ基、−ＣＨ＝ＣＨ2 基とするともできるが、化合物の
安定性、結合剤との相溶性、反応性の点から−ＯＨ基が
もっとも好ましい。また−ＯＨ基を含有するシリコン化
合物の水酸基価は５（ＫＯＨｍｇ／ｇ）以上が好まし
い。水酸基価が５（ＫＯＨｍｇ／ｇ）より小さいと結合
剤との反応が十分に行われず、磁性層へのシリコン化合
物の移行がおこり、粘着防止効果の持続性が劣る。
【００１３】本発明に係わるシリコン化合物において、
Ａ基、Ｂ基は−Ｘ−Ｙ−Ｚ基をＤ基が−ＣＨ3 基を示す
のが好ましい。これらはいわゆる線上シロキサンであ
る。もう一つの好ましい例は、Ａ基とＢ基が−ＣＨ3 基
を示し、Ｄ基が−Ｘ−Ｙ−Ｚ基を示す事である。また−
Ｘ−Ｙ−Ｚ基の数と数ｍとの比は１：３〜１：３０の範
囲が好ましく、１：４〜１：１６の範囲が特に好まし
い。−Ｘ−Ｙ−Ｚ基の数と数ｍとの比が１：３０以上に
なると、結合剤との相溶性が大きく低下する。本発明に
係わるシリコン化合物において、ｍは４〜１５０、ｎは
１〜６が好ましい。
Ａ基、Ｂ基は−Ｘ−Ｙ−Ｚ基をＤ基が−ＣＨ3 基を示す
のが好ましい。これらはいわゆる線上シロキサンであ
る。もう一つの好ましい例は、Ａ基とＢ基が−ＣＨ3 基
を示し、Ｄ基が−Ｘ−Ｙ−Ｚ基を示す事である。また−
Ｘ−Ｙ−Ｚ基の数と数ｍとの比は１：３〜１：３０の範
囲が好ましく、１：４〜１：１６の範囲が特に好まし
い。−Ｘ−Ｙ−Ｚ基の数と数ｍとの比が１：３０以上に
なると、結合剤との相溶性が大きく低下する。本発明に
係わるシリコン化合物において、ｍは４〜１５０、ｎは
１〜６が好ましい。
【００１４】本発明に係わるシリコン化合物は、−ＯＨ
基、−ＣＯＯＨ基、−ＮＨ2 基を含有する反応性ポリシ
ロキサンによりつくられうる。本発明においてエステル
基含有ポリシロキサンをつくるための反応に必要なポリ
シロキサン出発物質の当量の決定は水酸基価、酸化、ま
たはアミン価を決定することによりなされる。ベータプ
ロピオラクトン、デルタ−パレロラクトン、イプシロン
カプロラクトン、ドデカラクトン等のラクトンとＯＨ基
含有反応性シロキサンとの反応は、開環エステル化法に
よって行われる。開環重合を開始するのに要求されるＯ
Ｈ基は、ＯＨ基含有反応性シロキサンによって得られ、
ポリエステルの鎖長は、水酸基によって用いられるラク
トンのモル量により決定される。ラクトン重合は例え
ば、高沸点ガソリン留分、アルキルベンゼン、エステル
またはケトンのような適当な溶剤中または直接溶融状態
で、約１００〜１８０℃の温度でパラトルエンスルホン
酸またはジブチル錫ジラウレートの存在下、以下の式
（II）によって進行する。
基、−ＣＯＯＨ基、−ＮＨ2 基を含有する反応性ポリシ
ロキサンによりつくられうる。本発明においてエステル
基含有ポリシロキサンをつくるための反応に必要なポリ
シロキサン出発物質の当量の決定は水酸基価、酸化、ま
たはアミン価を決定することによりなされる。ベータプ
ロピオラクトン、デルタ−パレロラクトン、イプシロン
カプロラクトン、ドデカラクトン等のラクトンとＯＨ基
含有反応性シロキサンとの反応は、開環エステル化法に
よって行われる。開環重合を開始するのに要求されるＯ
Ｈ基は、ＯＨ基含有反応性シロキサンによって得られ、
ポリエステルの鎖長は、水酸基によって用いられるラク
トンのモル量により決定される。ラクトン重合は例え
ば、高沸点ガソリン留分、アルキルベンゼン、エステル
またはケトンのような適当な溶剤中または直接溶融状態
で、約１００〜１８０℃の温度でパラトルエンスルホン
酸またはジブチル錫ジラウレートの存在下、以下の式
（II）によって進行する。
【００１５】
【化４】 本発明に係わるシリコン化合物は塗膜乾燥時に表面に配
向、固定されるため少量の使用により大きな効果が得ら
れる。本発明に係わるシリコン化合物のバック層組成物
中に使用する量としては、バック組成物中の不揮発分に
対し０．０５〜１０．０％で、好ましくは０．１〜５．
０％である。シリコン化合物の量が０．０５％より少な
いと十分な粘着防止効果が得られず、また１０．０％を
越えると塗膜表面の平滑性の低下を引き起こす。本発明
に係わる塗料の製造方法としては、従来公知の方法で製
造することができる。即ち、メチルエチルケトン、トル
エン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル、シクロヘ
キサノン、テトロヒドロフラン等の有機溶剤中に結合剤
の一部または全量を溶解した溶液に、充填剤を混合し、
２本ロールミル、３本ロールミル、サンドミル、アトラ
イター、ニーダー、ディゾルバー等の各種分散機で分散
する。本発明に係わるシリコン化合物は、分散時に添加
してもよいし、塗料分散後に添加してもよい。また塗料
分散時には、特開昭６１−２２４１３６、特開平１−２
３２５２４にある有機色素化合物および／またはカップ
リング剤、界面活性剤等従来公知の分散剤を使用しても
よい。また上記塗料には必要に応じて、従来公知の潤滑
剤、硬化触媒を添加してもよい。またポリイソシアネー
トは磁気記録媒体の塗工直前に前記塗料に混合するのが
好ましい。
向、固定されるため少量の使用により大きな効果が得ら
れる。本発明に係わるシリコン化合物のバック層組成物
中に使用する量としては、バック組成物中の不揮発分に
対し０．０５〜１０．０％で、好ましくは０．１〜５．
０％である。シリコン化合物の量が０．０５％より少な
いと十分な粘着防止効果が得られず、また１０．０％を
越えると塗膜表面の平滑性の低下を引き起こす。本発明
に係わる塗料の製造方法としては、従来公知の方法で製
造することができる。即ち、メチルエチルケトン、トル
エン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル、シクロヘ
キサノン、テトロヒドロフラン等の有機溶剤中に結合剤
の一部または全量を溶解した溶液に、充填剤を混合し、
２本ロールミル、３本ロールミル、サンドミル、アトラ
イター、ニーダー、ディゾルバー等の各種分散機で分散
する。本発明に係わるシリコン化合物は、分散時に添加
してもよいし、塗料分散後に添加してもよい。また塗料
分散時には、特開昭６１−２２４１３６、特開平１−２
３２５２４にある有機色素化合物および／またはカップ
リング剤、界面活性剤等従来公知の分散剤を使用しても
よい。また上記塗料には必要に応じて、従来公知の潤滑
剤、硬化触媒を添加してもよい。またポリイソシアネー
トは磁気記録媒体の塗工直前に前記塗料に混合するのが
好ましい。
【００１６】本発明に係わるシリコン化合物の製造例を
以下に示す。 製造例１ 攪拌機と還流冷却管を備えた反応容器中に 平均式;
以下に示す。 製造例１ 攪拌機と還流冷却管を備えた反応容器中に 平均式;
【００１７】
【化５】 を有し、水酸基価９９（ＫＯＨｍｇ／ｇ）を有するポリ
シロキサン０．５モルを、ジブチルスズラウレート１０
０ｐｐｍを１６０℃に加熱されたチッ素雰囲気下で添加
し、イプシロンカプロラクトン５モルと反応させた。８
時間反応させた結果、下記平均式のシリコン化合物Ａが
得られた。このシリコン化合物Ａの水酸基価は４５（Ｋ
ＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は２４０（ＫＯＨｍｇ／
ｇ）であった。平均式;
シロキサン０．５モルを、ジブチルスズラウレート１０
０ｐｐｍを１６０℃に加熱されたチッ素雰囲気下で添加
し、イプシロンカプロラクトン５モルと反応させた。８
時間反応させた結果、下記平均式のシリコン化合物Ａが
得られた。このシリコン化合物Ａの水酸基価は４５（Ｋ
ＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は２４０（ＫＯＨｍｇ／
ｇ）であった。平均式;
【００１８】
【化６】 製造例２ 製造例１と同じ方法で、平均式；
【００１９】
【化７】 を有し、水酸基価１４３（ＫＯＨｍｇ／ｇ）を有するポ
リシロキサン０．５モルをイプシロンカプロラクトン４
モルと反応させ下記平均式のシリコン化合物Ｂを得た。
水酸基価は６０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は２
５６（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であった。平均式;
リシロキサン０．５モルをイプシロンカプロラクトン４
モルと反応させ下記平均式のシリコン化合物Ｂを得た。
水酸基価は６０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は２
５６（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であった。平均式;
【００２０】
【化８】 製造例３ 製造例１と同じ方法で、平均式；
【００２１】
【化９】 を有し、水酸基価５５（ＫＯＨｍｇ／ｇ）を有するポリ
シロキサン０．３モルをイプシロンカプロラクトン９モ
ルと反応させ下記平均式のシリコン化合物Ｃを得た。水
酸基価は１５（ＫＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は３４
０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であった。平均式;
シロキサン０．３モルをイプシロンカプロラクトン９モ
ルと反応させ下記平均式のシリコン化合物Ｃを得た。水
酸基価は１５（ＫＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は３４
０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であった。平均式;
【００２２】
【化１０】 製造例４ 製造例１と同じ方法で、平均式；
【００２３】
【化１１】 を有し、水酸基価５０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）を有するポリ
シロキサン０．３モルをイプシロンカプロラクトン８モ
ルと反応させ下記平均式のシリコン化合物Ｄを得た。水
酸基価は３５（ＫＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は２４
０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であった。平均式;
シロキサン０．３モルをイプシロンカプロラクトン８モ
ルと反応させ下記平均式のシリコン化合物Ｄを得た。水
酸基価は３５（ＫＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は２４
０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であった。平均式;
【００２４】
【化３】 製造例５ 製造例１と同じ方法で、平均式；
【００２５】
【化１３】 を有し、水酸基価６０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）を有するポリ
シロキサン０．３モルをイプシロンカプロラクトン１０
モルと反応させ下記平均式のシリコン化合物Ｅを得た。
水酸基価は２５（ＫＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は２
８０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であった。平均式;
シロキサン０．３モルをイプシロンカプロラクトン１０
モルと反応させ下記平均式のシリコン化合物Ｅを得た。
水酸基価は２５（ＫＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は２
８０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であった。平均式;
【００２６】
【化４】 製造例６ 製造例１と同じ方法で、平均式；
【００２７】
【化１５】 を有し、水酸基価１５（ＫＯＨｍｇ／ｇ）を有するポリ
シロキサン０．３モルをイプシロンカプロラクトン９モ
ルと反応させ下記平均式のシリコン化合物Ｆを得た。水
酸基価は４（ＫＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は２００
（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であった。平均式;
シロキサン０．３モルをイプシロンカプロラクトン９モ
ルと反応させ下記平均式のシリコン化合物Ｆを得た。水
酸基価は４（ＫＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は２００
（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であった。平均式;
【００２８】
【化１６】 製造例７ 製造例１と同じ方法で、平均式；
【００２９】
【化１７】 を有し、水酸基価７０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）を有するポリ
シロキサン０．５モルをイプシロンカプロラクトン１モ
ルと反応させ下記平均式のシリコン化合物Ｇを得た。水
酸基価は２０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は１０
０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であった。平均式;
シロキサン０．５モルをイプシロンカプロラクトン１モ
ルと反応させ下記平均式のシリコン化合物Ｇを得た。水
酸基価は２０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）でありケン化価は１０
０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であった。平均式;
【００３０】
【化１８】
【００３１】
【実施例】本発明を実施例に基づいて説明する。例中、
「部」「％」は、それぞれ「重量部」「重量％」であ
る。なお樹脂については、固形分量を示す。 実施例１ メタル鉄磁性粉（比表面積５０ｍ2 ／ｇ，保磁力１５００Ｏｅ） １００部 塩化ビニル樹脂（ＭＲ−１１０，日本ゼオン（株）） １０部 ウレタン樹脂（タケラックＥ−７６０，武田薬品（株）） ５部 α−アルミナ（粒子径：０．５μ） ３部 カーボンブラック（コンダクテックスＳＣ， コロンビアカーボン（株）） ５部 ステアリン酸 １部 ステアリン酸ブチル １部 メチルエチルケトン １２０部 トルエン １２０部 シクロヘキサノン ６０部 上記組成物をサンドミルで分散した磁性塗料にポリイソ
シアネート化合物（コロネートＬ，日本ポリウレタン
（株））を３部加え，１０μｍ厚のポリエチレンテレフ
タレート支持体上に塗布，配向，乾燥後，カレンダー処
理による鏡面加工を行い３μｍ厚の磁性塗膜を作成し
た。
「部」「％」は、それぞれ「重量部」「重量％」であ
る。なお樹脂については、固形分量を示す。 実施例１ メタル鉄磁性粉（比表面積５０ｍ2 ／ｇ，保磁力１５００Ｏｅ） １００部 塩化ビニル樹脂（ＭＲ−１１０，日本ゼオン（株）） １０部 ウレタン樹脂（タケラックＥ−７６０，武田薬品（株）） ５部 α−アルミナ（粒子径：０．５μ） ３部 カーボンブラック（コンダクテックスＳＣ， コロンビアカーボン（株）） ５部 ステアリン酸 １部 ステアリン酸ブチル １部 メチルエチルケトン １２０部 トルエン １２０部 シクロヘキサノン ６０部 上記組成物をサンドミルで分散した磁性塗料にポリイソ
シアネート化合物（コロネートＬ，日本ポリウレタン
（株））を３部加え，１０μｍ厚のポリエチレンテレフ
タレート支持体上に塗布，配向，乾燥後，カレンダー処
理による鏡面加工を行い３μｍ厚の磁性塗膜を作成し
た。
【００３２】次に，下記バックコート組成物を一定の方
法で前処理後、更にサンドミルを用いて分散し，更にコ
ロネートＬを２０部加えて得られたカーボンブラック分
散体を磁性層と反対面に塗布，乾燥して０．７μｍ膜厚
のバック層を形成した後，６０℃×２０時間硬化し，１
／２インチ幅に裁断し磁気テープを作成した。 カーボンブラック（ブラックパールズ８００，キャボット（株））１００部 シリコン化合物Ａ（製造例１で示したもの） ３部 硝化綿（セルラインＦＭ−２００Ｓ，ダイセル化学工業（株）） ６０部 ウレタン樹脂（タケラックＥ−７６０，武田薬品（株）） ４０部 有機色素化合物 ５部 ＣｕＰｃ−ＳＯ2 ＮＨ（ＣＨ2 ）3 Ｎ（ＣＨ2 −ＣＨ3 ）2 （ＣｕＰｃ：銅フタロシアニン） メチルエチルケトン ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部 実施例２ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを製造例２で示したシリコン化合物Ｂに変えた
以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。
法で前処理後、更にサンドミルを用いて分散し，更にコ
ロネートＬを２０部加えて得られたカーボンブラック分
散体を磁性層と反対面に塗布，乾燥して０．７μｍ膜厚
のバック層を形成した後，６０℃×２０時間硬化し，１
／２インチ幅に裁断し磁気テープを作成した。 カーボンブラック（ブラックパールズ８００，キャボット（株））１００部 シリコン化合物Ａ（製造例１で示したもの） ３部 硝化綿（セルラインＦＭ−２００Ｓ，ダイセル化学工業（株）） ６０部 ウレタン樹脂（タケラックＥ−７６０，武田薬品（株）） ４０部 有機色素化合物 ５部 ＣｕＰｃ−ＳＯ2 ＮＨ（ＣＨ2 ）3 Ｎ（ＣＨ2 −ＣＨ3 ）2 （ＣｕＰｃ：銅フタロシアニン） メチルエチルケトン ４００部 トルエン ４００部 シクロヘキサノン ２００部 実施例２ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを製造例２で示したシリコン化合物Ｂに変えた
以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。
【００３３】実施例３ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを製造例３で示したシリコン化合物Ｃに変えた
以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。 実施例４ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを製造例４で示したシリコン化合物Ｄに変えた
以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。
化合物Ａを製造例３で示したシリコン化合物Ｃに変えた
以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。 実施例４ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを製造例４で示したシリコン化合物Ｄに変えた
以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。
【００３４】実施例５ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを製造例５で示したシリコン化合物Ｅに変えた
以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。 実施例６ 実施例１のバックコート塗料組成物において，硝化綿を
塩化ビニル樹脂（ＭＲ−１１０，日本ゼオン（株））に
変えた以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成し
た。
化合物Ａを製造例５で示したシリコン化合物Ｅに変えた
以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。 実施例６ 実施例１のバックコート塗料組成物において，硝化綿を
塩化ビニル樹脂（ＭＲ−１１０，日本ゼオン（株））に
変えた以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成し
た。
【００３５】実施例７ 実施例１のバックコート塗料組成物において，有機色素
化合物を除いた以外は実施例１と同様にして磁気テープ
を作成した。 比較例１ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを除いた以外は実施例１と同様にして磁気テー
プを作成した。 比較例２ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを以下の平均式の反応性ポリシロキサンに変え
た以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。
平均式；
化合物を除いた以外は実施例１と同様にして磁気テープ
を作成した。 比較例１ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを除いた以外は実施例１と同様にして磁気テー
プを作成した。 比較例２ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを以下の平均式の反応性ポリシロキサンに変え
た以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。
平均式；
【００３６】
【化１９】 比較例３ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを以下の平均式の反応性ポリシロキサンに変え
た以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。
平均式；
化合物Ａを以下の平均式の反応性ポリシロキサンに変え
た以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。
平均式；
【００３７】
【化５】
【００３８】比較例４ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを製造例６で示したシリコン化合物Ｆに変えた
以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。 比較例５ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを製造例７で示したシリコン化合物Ｇに変えた
以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。
化合物Ａを製造例６で示したシリコン化合物Ｆに変えた
以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。 比較例５ 実施例１のバックコート塗料組成物において，シリコン
化合物Ａを製造例７で示したシリコン化合物Ｇに変えた
以外は実施例１と同様にして磁気テープを作成した。
【００３９】以上の実施例１〜７、比較例１〜５で作成
した磁気テープのバック層の中心線表面粗さＲａ、塗膜
表面状態、磁性層との粘着性、磁性層へのシリコン化合
物の移行性、走行耐久性、ドロップアウトを評価した。
中心線表面粗さＲａは触針式表面粗さ測定機により、JI
S-B-0601-1982 に基づきカットオフ値０．０８で測定し
た。塗膜表面状態は、塗膜表面のピンホール、ハジキ、
均一性について目視評価を行い以下の基準にしたがい判
定した。 ○；ピンホール、ハジキが認められない △；ピンホール、ハジキが一部発生 ×；ピンホール、ハジキが多発 磁性層との粘着性は磁気テープを一定張力でリールに巻
いた後、６０℃、ＲＨ８０％の高温高湿度下に２４ｈｒ
放置した後、テープを巻きほぐすときの角度をJIS.C624
0 に基づいて測定した。また剥離したバック層表面のダ
メージを顕微鏡で観察し以下の基準で判定した。
した磁気テープのバック層の中心線表面粗さＲａ、塗膜
表面状態、磁性層との粘着性、磁性層へのシリコン化合
物の移行性、走行耐久性、ドロップアウトを評価した。
中心線表面粗さＲａは触針式表面粗さ測定機により、JI
S-B-0601-1982 に基づきカットオフ値０．０８で測定し
た。塗膜表面状態は、塗膜表面のピンホール、ハジキ、
均一性について目視評価を行い以下の基準にしたがい判
定した。 ○；ピンホール、ハジキが認められない △；ピンホール、ハジキが一部発生 ×；ピンホール、ハジキが多発 磁性層との粘着性は磁気テープを一定張力でリールに巻
いた後、６０℃、ＲＨ８０％の高温高湿度下に２４ｈｒ
放置した後、テープを巻きほぐすときの角度をJIS.C624
0 に基づいて測定した。また剥離したバック層表面のダ
メージを顕微鏡で観察し以下の基準で判定した。
【００４０】○；バック層のダメージがまったく見られ
ない。 △；バック層の一部に剥がれが見られる。 ×；バック層の剥がれが５０％以上 磁性層へのシリコン化合物の移行性については、粘着試
験を行う前後のバック層表面及び磁性層表面の臨界表面
張力の変化を接触角を測定することにより測定した。シ
リコン化合物は臨界表面張力が低いため、粘着試験後に
シリコン化合物の移行があれば、バック層の臨界表面張
力は増大し、磁性層の臨界表面張力は減少するはずであ
る。
ない。 △；バック層の一部に剥がれが見られる。 ×；バック層の剥がれが５０％以上 磁性層へのシリコン化合物の移行性については、粘着試
験を行う前後のバック層表面及び磁性層表面の臨界表面
張力の変化を接触角を測定することにより測定した。シ
リコン化合物は臨界表面張力が低いため、粘着試験後に
シリコン化合物の移行があれば、バック層の臨界表面張
力は増大し、磁性層の臨界表面張力は減少するはずであ
る。
【００４１】また走行耐久性は、テープ走行試験機によ
り２００パス走行後のバック層表面の傷つき程度を、ド
ロップアウトはドロップアウトカウンターにて測定し
た。以上の評価結果を表１に示した。表１から明らかな
ように、本発明に係わるシリコン化合物を添加した塗料
により形成されたバック層は、高温高湿度の厳しい条件
下においても磁性層との粘着がない。また粘着試験後の
シリコン化合物の移行がなく磁性層への影響もない。ま
た塗料中での相溶性に優れるため、バック層の表面には
ピンホール、ハジキ、ムラ等の塗膜欠陥は認められな
い。さらにシリコン化合物の潤滑効果により走行耐久性
についても向上効果が認めらる。
り２００パス走行後のバック層表面の傷つき程度を、ド
ロップアウトはドロップアウトカウンターにて測定し
た。以上の評価結果を表１に示した。表１から明らかな
ように、本発明に係わるシリコン化合物を添加した塗料
により形成されたバック層は、高温高湿度の厳しい条件
下においても磁性層との粘着がない。また粘着試験後の
シリコン化合物の移行がなく磁性層への影響もない。ま
た塗料中での相溶性に優れるため、バック層の表面には
ピンホール、ハジキ、ムラ等の塗膜欠陥は認められな
い。さらにシリコン化合物の潤滑効果により走行耐久性
についても向上効果が認めらる。
【００４２】
【表１】
【００４３】
【発明の効果】本発明は特定のシリコン化合物を含む塗
料によりバック層を形成させることにより、バック層の
平滑性を損わずかつ磁性層にも影響を与えずに、磁性層
とバック層の粘着現象を長期間にわた改善させるもので
あり、さらには走行耐久性、表面平滑性に優れる磁気記
録媒体を提供するものである。
料によりバック層を形成させることにより、バック層の
平滑性を損わずかつ磁性層にも影響を与えずに、磁性層
とバック層の粘着現象を長期間にわた改善させるもので
あり、さらには走行耐久性、表面平滑性に優れる磁気記
録媒体を提供するものである。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−306518（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−169223（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−273720（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−259750（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−246195（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−37724（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−48120（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−94233（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−180517（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−32904（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−94233（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−168921（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−301015（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−1919（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/00 - 5/86 C09D 1/00 - 201/10 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】 支持体に対し互いに反対面に磁性層及び
バック層を有する磁気記録媒体において、該バック層は
充填剤、結合剤及び下記一般式（Ｉ）で示されるシリコ
ン化合物を含む塗料により形成された事を特徴とする磁
気記録媒体。 【化１】 (式中、Ａ基、Ｂ基、Ｄ基はそれぞれ−ＣＨ3基または−
Ｘ−Ｙ−Ｚ基を示し、Ｘ基は炭素数１〜１１のアルキレ
ン基または−（ＣＨ2）3ＮＨＣＯ−基を示し、Ｙ基はラ
クトンが開環重合した数平均分子量Ｍｎが３００〜３０
００の脂肪族ポリエステル残基を示し、Ｚ基は−ＯＨ基
を示し、ｍは４〜１５０の整数、ｎは１〜６の整数を示
す（ただし、Ａ基、Ｂ基及びＤ基のうち少なくとも１個
は−Ｘ−Ｙ−Ｚ基であり、−Ｘ−Ｙ−Ｚ基の数とｍの比
は１：３〜１：３０である。）。） - 【請求項２】 結合剤がポリイソシアネートを含むこと
を特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 シリコン化合物の水酸基価が、５ (KOHm
g/g)以上であることを特徴とする請求項１記載の磁気記
録媒体。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05303981A JP3134638B2 (ja) | 1993-12-03 | 1993-12-03 | 磁気記録媒体 |
| US08/346,738 US5637405A (en) | 1993-12-03 | 1994-11-30 | Magnetic recording medium having a backcoat layer containing carbon black, an organic colorant residue and a silicone compound |
| DE69411681T DE69411681T2 (de) | 1993-12-03 | 1994-12-05 | Magnetisches Aufzeichnungsmedium |
| EP94119165A EP0656623B1 (en) | 1993-12-03 | 1994-12-05 | Magnetic recording medium |
| US08/780,689 US5868825A (en) | 1993-12-03 | 1997-01-08 | Paint used in forming a magnetic recording medium backcoat layer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05303981A JP3134638B2 (ja) | 1993-12-03 | 1993-12-03 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07161029A JPH07161029A (ja) | 1995-06-23 |
| JP3134638B2 true JP3134638B2 (ja) | 2001-02-13 |
Family
ID=17927607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05303981A Expired - Lifetime JP3134638B2 (ja) | 1993-12-03 | 1993-12-03 | 磁気記録媒体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5637405A (ja) |
| EP (1) | EP0656623B1 (ja) |
| JP (1) | JP3134638B2 (ja) |
| DE (1) | DE69411681T2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6379774B1 (en) | 1998-05-21 | 2002-04-30 | Teijin Limited | Composite polyester film and magnetic recording medium |
| JP4149648B2 (ja) * | 2000-09-29 | 2008-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JP5624947B2 (ja) * | 2011-06-03 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープの巻取方法、磁気テープの巻取装置、磁気テープカートリッジの製造方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52108804A (en) * | 1976-03-10 | 1977-09-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording material |
| US4328935A (en) * | 1980-06-12 | 1982-05-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Flexible magnetic recording tape having low-friction backside coating |
| JPS61246261A (ja) * | 1985-04-25 | 1986-11-01 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 顔料分散剤 |
| JPS61273720A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-04 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
| DE3535283A1 (de) * | 1985-10-03 | 1987-04-09 | Byk Chemie Gmbh | Polyestergruppenhaltige polysiloxane fuer lacke und formmassen und die verwendung hierfuer |
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