KR102637745B1 - 입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들 및 입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들을 형성하는 방법들 - Google Patents
입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들 및 입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들을 형성하는 방법들 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102637745B1 KR102637745B1 KR1020217020450A KR20217020450A KR102637745B1 KR 102637745 B1 KR102637745 B1 KR 102637745B1 KR 1020217020450 A KR1020217020450 A KR 1020217020450A KR 20217020450 A KR20217020450 A KR 20217020450A KR 102637745 B1 KR102637745 B1 KR 102637745B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- transistor
- delete delete
- isolation material
- packaged
- bond wire
- Prior art date
Links
- 238000002955 isolation Methods 0.000 title claims description 222
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 179
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 36
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 17
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 17
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 17
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 17
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 15
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVHJCRXBQPGLOV-UHFFFAOYSA-N azanylidynetungsten Chemical compound [W]#N IVHJCRXBQPGLOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
- H01L23/64—Impedance arrangements
- H01L23/66—High-frequency adaptations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/565—Moulds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
- H01L23/293—Organic, e.g. plastic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/315—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed the encapsulation having a cavity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/552—Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
- H01L23/64—Impedance arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/38—Impedance-matching networks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
- H01L2223/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
- H01L2223/64—Impedance arrangements
- H01L2223/66—High-frequency adaptations
- H01L2223/6605—High-frequency electrical connections
- H01L2223/6611—Wire connections
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
- H01L2223/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
- H01L2223/64—Impedance arrangements
- H01L2223/66—High-frequency adaptations
- H01L2223/6644—Packaging aspects of high-frequency amplifiers
- H01L2223/6655—Matching arrangements, e.g. arrangement of inductive and capacitive components
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48095—Kinked
- H01L2224/48096—Kinked the kinked part being in proximity to the bonding area on the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48153—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
- H01L2224/48195—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate the item being a discrete passive component
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49175—Parallel arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49175—Parallel arrangements
- H01L2224/49176—Wire connectors having the same loop shape and height
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1901—Structure
- H01L2924/1904—Component type
- H01L2924/19041—Component type being a capacitor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1901—Structure
- H01L2924/1904—Component type
- H01L2924/19042—Component type being an inductor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/191—Disposition
- H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
- H01L2924/19105—Disposition of discrete passive components in a side-by-side arrangement on a common die mounting substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/191—Disposition
- H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
- H01L2924/19107—Disposition of discrete passive components off-chip wires
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
- H01L2924/30111—Impedance matching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3025—Electromagnetic shielding
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Amplifiers (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
패키징된 트랜지스터 디바이스의 베이스 상의 트랜지스터 - 트랜지스터는 제어 단자 및 출력 단자를 포함함 -, 트랜지스터의 제어 단자와 입력 리드 사이에 전기적으로 결합된 제1 본드 와이어, 트랜지스터의 출력 단자와 출력 리드 사이에 전기적으로 결합된 제2 본드 와이어, 및 제1 본드 와이어와 제2 본드 와이어 사이에 물리적으로 있는 격리 재료를 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스들이 제공되고, 격리 재료는 제1 본드 와이어와 제2 본드 와이어 사이의 결합을 감소시키도록 구성된다.
Description
본 발명은 일반적으로 라디오 주파수(RF) 트랜지스터들에 관한 것이며, 보다 구체적으로, 본 발명은 패키징된 RF 트랜지스터의 입력 신호와 출력 신호 사이에 격리(isolation)를 갖는 패키징된 RF 트랜지스터들에 관한 것이다.
패키징된 RF 전력 디바이스들은 전형적으로 베이스 상에 탑재되고 패키지 내에 둘러싸인 트랜지스터 다이를 포함한다. RF 입력 신호는 패키지 외부로부터 패키지의 내부로 연장되는 RF 입력 리드(lead)를 통해 트랜지스터에 공급되고, RF 출력 신호는 패키지 내부로부터 외부로 연장되는 RF 출력 리드를 통해 디바이스로부터 전달된다. 입력 정합 회로는 패키지 내에 포함될 수 있고, RF 입력 리드와 RF 트랜지스터의 입력 단자 사이에 접속될 수 있다. 입력 정합 회로는 트랜지스터의 기본 동작 주파수에서 트랜지스터의 입력에서의 임피던스 정합을 제공한다. 출력 정합 회로가 또한 패키지 내에 포함될 수 있고, RF 트랜지스터의 출력 단자와 RF 출력 리드 사이에 접속될 수 있다. 출력 정합 회로는 트랜지스터의 기본 동작 주파수에서 트랜지스터의 출력에서의 임피던스 정합을 제공할 수 있다.
RF 트랜지스터는 전기적으로 병렬로 접속되는 공통 기판 상의 다수의 개별 트랜지스터 셀들을 포함하는 큰 주변 트랜지스터 다이를 포함할 수 있다. 입력 정합은, 디바이스들의 이용가능한 대역폭을 증가시킬 수 있기 때문에, 이러한 디바이스들에 대해 특히 유익할 수 있다. 또한, 입력 및/또는 출력 정합 네트워크의 요소들의 임피던스 값들은 특이한 모드 발진들을 생성하는 것을 피하도록 주의깊게 선택되어야 한다. 본드 와이어 길이들을 통한 적절한 인덕턴스들의 선택을 포함한 임피던스 값들의 선택은 정합 네트워크의 토폴로지를 제한할 수 있다.
패키징된 RF 전력 디바이스들은 공기-공동(air-cavity) 및 오버몰드 구성들을 갖는다. 공기-공동 구성에서, 트랜지스터 다이와 같은 패키징된 RF 전력 디바이스의 요소들 및/또는 정합 네트워크의 컴포넌트들은 패키징된 RF 전력 디바이스 내의 공기 공동에 배치될 수 있다. 오버몰딩된 플라스틱(OMP) 구성에서, 패키징된 RF 전력 디바이스의 요소들은 패키징된 RF 전력 디바이스의 디바이스들 및 본드 와이어들을 둘러싸고 이들과 접촉하는 중합체 재료로 감싸질 수 있다.
본 명세서에 설명된 다양한 실시예들은 입력 본드 와이어와 출력 본드 와이어 사이에 증가된 격리를 갖는 트랜지스터 디바이스를 제공한다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 패키징된 트랜지스터 디바이스의 베이스 상의 트랜지스터 - 트랜지스터는 제어 단자 및 출력 단자를 포함함 -, 트랜지스터의 제어 단자와 입력 리드 사이에 전기적으로 결합된 제1 본드 와이어, 트랜지스터의 출력 단자와 출력 리드 사이에 전기적으로 결합된 제2 본드 와이어, 및 제1 본드 와이어와 제2 본드 와이어 사이에 물리적으로 있는 격리 재료 - 격리 재료는 제1 본드 와이어와 제2 본드 와이어 사이의 결합을 감소시키도록 구성됨 - 를 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스들이 제공된다.
일부 실시예들에서, 트랜지스터는 전기적으로 병렬로 접속되는 복수의 단위 셀 트랜지스터를 포함한다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 전도성 격리 재료, 자성 격리 재료, 또는 손실성 유전체 격리 재료이다. 손실성 유전체 격리 재료는 0.1보다 큰 손실 탄젠트를 포함할 수 있다.
일부 실시예들에서, 패키징된 트랜지스터 디바이스는 트랜지스터를 수용하는 패키지를 더 포함하며, 입력 리드 및 출력 리드는 패키지로부터 연장된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료의 일부분은 패키지와 접촉한다.
일부 실시예들에서, 패키지는 공기 공동을 포함하고, 제1 본드 와이어의 적어도 일부분 및 제2 본드 와이어의 적어도 일부분은 공기 공동 내로 연장된다.
일부 실시예들에서, 패키지는 플라스틱 오버몰드를 포함한다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 트랜지스터 위에 배치된다.
일부 실시예들에서, 제어 단자는 트랜지스터의 제1 측 상에 있고, 출력 단자는 제1 측에 대향하는, 트랜지스터의 제2 측 상에 있고, 복수의 제3 본드 와이어들은 트랜지스터의 제3 측으로부터 트랜지스터의 제4 측으로 연장되고, 트랜지스터의 제3 측 및 제4 측은 제1 측 및 제2 측과 상이하다.
일부 실시예들에서, 제3 본드 와이어들 중 첫 번째 본드 와이어의 제1 부분은 제1 높이에서 트랜지스터 위로 연장되고, 제3 본드 와이어들 중 두 번째 본드 와이어의 제2 부분은 제1 높이보다 큰 제2 높이에서 트랜지스터 위로 연장된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 복수의 금속 세그먼트를 포함한다.
일부 실시예들에서, 복수의 금속 세그먼트는 트랜지스터의 최상부 표면에 실질적으로 수직인 방향으로 연장된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 금속 벽을 포함한다.
일부 실시예들에서, 금속 벽은 트랜지스터의 최상부 표면에 실질적으로 수직인 방향으로 연장된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 접지 신호에 접속되도록 구성된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 전기적으로 플로팅되도록 구성된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 금속 메쉬를 포함한다.
일부 실시예들에서, 패키징된 트랜지스터 디바이스는 입력 리드와 제어 단자 사이에 전기적으로 결합되는 입력 정합 회로를 더 포함하고, 제1 본드 와이어는 입력 정합 회로 내의 유도성 요소이다.
본 발명의 추가 실시예들에 따르면, 패키징된 트랜지스터 디바이스의 베이스 상의 트랜지스터 - 트랜지스터는 트랜지스터의 대향 측들 상의 제어 단자 및 출력 단자를 포함함 -, 제어 단자에 접속된 제1 인덕터 - 제1 인덕터는 트랜지스터의 최상부 표면보다 베이스로부터 더 먼 제1 레벨에서 연장되는 제1 부분을 포함함 -, 출력 단자에 접속된 제2 인덕터 - 제2 인덕터는 트랜지스터의 최상부 표면보다 베이스로부터 더 먼 제2 레벨에서 연장되는 제2 부분을 포함함 -, 및 제1 부분과 제2 부분 사이에 있는 격리 재료 - 격리 재료는 제1 인덕터와 제2 인덕터 사이의 결합을 감소시키도록 구성됨 - 를 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스가 제공된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 기준 신호에 전기적으로 접속된다.
일부 실시예들에서, 제1 인덕터는 임피던스 정합 회로 또는 고조파 감소 회로의 컴포넌트이다.
일부 실시예들에서, 패키징된 트랜지스터 디바이스는 트랜지스터를 수용하는 패키지를 더 포함하고, 패키지로부터 입력 리드 및 출력 리드가 연장되고, 입력 리드는 제어 단자에 접속되고, 출력 리드는 출력 단자에 접속된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료의 일부분은 패키지와 접촉한다.
일부 실시예들에서, 패키지는 공기 공동을 포함하고, 제1 인덕터의 적어도 일부분 및 제2 인덕터의 적어도 일부분은 공기 공동 내로 연장된다.
일부 실시예들에서, 패키지는 플라스틱 오버몰드를 포함한다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 전도성 격리 재료, 자성 격리 재료, 또는 손실성 유전체 격리 재료이다. 일부 실시예들에서, 손실성 유전체 격리 재료는 0.1보다 큰 손실 탄젠트를 포함한다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 복수의 본드 와이어들을 포함한다.
일부 실시예들에서, 본드 와이어들 중 제1 본드 와이어의 제1 부분은 제1 높이에서 트랜지스터 위로 연장되고, 본드 와이어들 중 제2 본드 와이어의 제2 부분은 제1 높이보다 큰 제2 높이에서 트랜지스터 위로 연장된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 트랜지스터 위에 배치된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 복수의 금속 세그먼트를 포함한다.
일부 실시예들에서, 복수의 금속 세그먼트는 트랜지스터의 최상부 표면에 실질적으로 수직인 방향으로 연장된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 금속 벽을 포함한다.
본 발명의 추가 실시예들에 따르면, 패키징된 트랜지스터 디바이스를 제조하는 방법은, 제어 단자 및 출력 단자를 포함하는 트랜지스터를 트랜지스터의 대향 측들 상에 제공하는 단계, 제1 본드 와이어를 제어 단자에 접속시키는 단계, 제2 본드 와이어를 출력 단자에 접속시키는 단계, 제1 본드 와이어와 제2 본드 와이어 사이의 트랜지스터 상에 격리 재료를 배치하는 단계 - 격리 재료는 제1 본드 와이어와 제2 본드 와이어 사이의 결합을 감소시키도록 구성됨 -, 및 트랜지스터, 제1 본드 와이어, 제2 본드 와이어, 및 격리 재료를 둘러싸는 패키지를 제공하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 트랜지스터를 제공하는 단계는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 공기 공동 내에 트랜지스터를 제공하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 공기 공동의 측벽 내로 연장된다.
일부 실시예들에서, 트랜지스터 상에 격리 재료를 배치하는 단계는 제1 본드 와이어와 제2 본드 와이어 사이에 복수의 제3 본드 와이어들을 제공하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 패키지를 제공하는 단계는 트랜지스터 상에 플라스틱 오버몰드를 배치하는 단계를 포함하고, 트랜지스터 상에 격리 재료를 배치하는 단계는 플라스틱 오버몰드를 리세싱(recessing)하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 플라스틱 오버몰드를 리세싱하는 단계는, 플라스틱 오버몰드 내에 복수의 리세스를 제공하는 단계, 및 복수의 리세스 내에 금속 재료를 제공하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 플라스틱 오버몰드를 리세싱하는 단계는, 플라스틱 오버몰드 내에 트랜지스터 상에서 연장되는 트렌치를 제공하는 단계, 및 트렌치 내에 금속 재료를 제공하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 접지 신호에 접속되도록 구성된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 트랜지스터 위에 배치된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 전도성 격리 재료, 자성 격리 재료, 또는 손실성 유전체 격리 재료이다.
일부 실시예들에서, 손실성 유전체 격리 재료는 0.1보다 큰 손실 탄젠트를 포함한다.
본 발명의 추가적인 이해를 제공하기 위해 포함되고 본 출원의 일부에 포함되고 이를 구성하는 첨부 도면들은 본 발명의 특정 실시예(들)를 도시한다.
도 1a는 예시적인 패키징된 RF 전력 트랜지스터 디바이스의 사시도이다.
도 1b는 도 1a의 패키징된 RF 전력 트랜지스터 디바이스의 예시적인 레이아웃의 기능 블록도이다.
도 2a는 RF 전력 트랜지스터, 입력 정합 회로, 및 출력 정합 회로를 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스에 대한 개략적인 회로도이다.
도 2b는 도 2a에 예시된 패키징된 트랜지스터 디바이스의 예시적인 물리적 레이아웃이다.
도 3은 그 안에서 발생할 수 있는 기생 결합을 예시하는 본드 와이어들을 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 개략적인 측면도이다.
도 4는 입력 본드 와이어와 출력 본드 와이어 사이의 결합의 효과를 감소시키기 위해 격리 재료를 이용하는 본 발명에 따른 패키징된 트랜지스터 디바이스의 사시도이다.
도 5는 도 4의 실시예에 도시된 격리 재료를 포함하는 프로토타입 패키징된 트랜지스터 디바이스의 개략도이다.
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 실시예들에 따른 패키징된 트랜지스터 디바이스의 시뮬레이션된 성능과 종래의 패키징된 트랜지스터 디바이스의 시뮬레이션된 성능의 비교를 예시하는 그래프들이다.
도 7a 및 도 7b는 격리 재료를 포함하는 도 5의 프로토타입 패키징된 트랜지스터 디바이스의 측정된 성능과, 격리 재료를 포함하지 않는 것을 제외하고는 이와 동일한 종래의 패키징된 트랜지스터 디바이스의 비교를 예시하는 그래프들이다.
도 8a는 본 발명의 실시예들에 따른 격리 재료로서 본드 와이어들을 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 사시도이다. 도 8b는 도 8a의 패키징된 트랜지스터 디바이스의 격리 재료의 구성을 예시하는 단면도이다. 도 8c는 도 8a의 패키징된 트랜지스터 디바이스의 격리 재료의 추가적인 구성을 예시하는 단면도이다.
도 9a는 본 발명의 추가 실시예들에 따른 격리 재료로서 격리 본드 와이어들을 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 사시도이다. 도 9b는 도 9a의 패키징된 트랜지스터 디바이스의 격리 재료의 구성을 예시하는 단면도이다. 도 9c는 도 9a의 패키징된 트랜지스터 디바이스의 격리 재료의 추가적인 구성을 예시하는 단면도이다.
도 10a 및 도 10b는 본 발명의 추가 실시예들에 따른 격리 재료를 예시하는 개략적인 단면도이다.
도 11a 내지 도 14b는 본 발명의 일부 실시예들에 따라 플라스틱 오버몰드를 이용하여 패키징된 트랜지스터 디바이스를 제조하기 위한 예시적인 실시예들을 도시한다.
도 15a 내지 도 16b는 본 발명의 일부 실시예들에 따라 플라스틱 오버몰드를 이용하여 패키징된 트랜지스터 디바이스를 제조하기 위한 추가의 예시적인 기술들을 도시한다.
도 1a는 예시적인 패키징된 RF 전력 트랜지스터 디바이스의 사시도이다.
도 1b는 도 1a의 패키징된 RF 전력 트랜지스터 디바이스의 예시적인 레이아웃의 기능 블록도이다.
도 2a는 RF 전력 트랜지스터, 입력 정합 회로, 및 출력 정합 회로를 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스에 대한 개략적인 회로도이다.
도 2b는 도 2a에 예시된 패키징된 트랜지스터 디바이스의 예시적인 물리적 레이아웃이다.
도 3은 그 안에서 발생할 수 있는 기생 결합을 예시하는 본드 와이어들을 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 개략적인 측면도이다.
도 4는 입력 본드 와이어와 출력 본드 와이어 사이의 결합의 효과를 감소시키기 위해 격리 재료를 이용하는 본 발명에 따른 패키징된 트랜지스터 디바이스의 사시도이다.
도 5는 도 4의 실시예에 도시된 격리 재료를 포함하는 프로토타입 패키징된 트랜지스터 디바이스의 개략도이다.
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 실시예들에 따른 패키징된 트랜지스터 디바이스의 시뮬레이션된 성능과 종래의 패키징된 트랜지스터 디바이스의 시뮬레이션된 성능의 비교를 예시하는 그래프들이다.
도 7a 및 도 7b는 격리 재료를 포함하는 도 5의 프로토타입 패키징된 트랜지스터 디바이스의 측정된 성능과, 격리 재료를 포함하지 않는 것을 제외하고는 이와 동일한 종래의 패키징된 트랜지스터 디바이스의 비교를 예시하는 그래프들이다.
도 8a는 본 발명의 실시예들에 따른 격리 재료로서 본드 와이어들을 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 사시도이다. 도 8b는 도 8a의 패키징된 트랜지스터 디바이스의 격리 재료의 구성을 예시하는 단면도이다. 도 8c는 도 8a의 패키징된 트랜지스터 디바이스의 격리 재료의 추가적인 구성을 예시하는 단면도이다.
도 9a는 본 발명의 추가 실시예들에 따른 격리 재료로서 격리 본드 와이어들을 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 사시도이다. 도 9b는 도 9a의 패키징된 트랜지스터 디바이스의 격리 재료의 구성을 예시하는 단면도이다. 도 9c는 도 9a의 패키징된 트랜지스터 디바이스의 격리 재료의 추가적인 구성을 예시하는 단면도이다.
도 10a 및 도 10b는 본 발명의 추가 실시예들에 따른 격리 재료를 예시하는 개략적인 단면도이다.
도 11a 내지 도 14b는 본 발명의 일부 실시예들에 따라 플라스틱 오버몰드를 이용하여 패키징된 트랜지스터 디바이스를 제조하기 위한 예시적인 실시예들을 도시한다.
도 15a 내지 도 16b는 본 발명의 일부 실시예들에 따라 플라스틱 오버몰드를 이용하여 패키징된 트랜지스터 디바이스를 제조하기 위한 추가의 예시적인 기술들을 도시한다.
이제, 본 발명의 실시예들이 도시된 첨부 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 보다 완전하게 이하에서 설명할 것이다. 그러나, 본 발명은 많은 상이한 형태들로 구현될 수 있고 본 명세서에 제시된 실시예들로 제한되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 오히려, 이러한 실시예들은 본 개시내용이 철저하고 완전하며 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 본 발명의 범위를 완전히 전달할 것이도록 제공된다. 유사한 번호들은 전반에 걸쳐 유사한 요소들을 지칭한다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 입력 본드 와이어와 출력 본드 와이어 사이의 결합을 감소시키기 위해 입력 본드 와이어와 출력 본드 와이어 사이에 배치된 격리 재료를 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스들이 제공된다. 이러한 입력 및 출력 본드 와이어들은 패키징된 트랜지스터 디바이스의 트랜지스터를 패키징된 트랜지스터 디바이스의 각각의 입력 및 출력 리드들에 결합하는데 이용될 수 있고, 또한 패키징된 트랜지스터 디바이스에 대한 임피던스 정합 및/또는 고조파 감소를 제공하는데 이용될 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들은 패키징된 RF 전력 트랜지스터들을 제공한다. RF 전력 트랜지스터들은 전형적으로 병렬로 동작하는 복수의 트랜지스터 셀들을 포함한다. 본 발명의 실시예들에 따른 패키지들에 포함될 수 있는 트랜지스터들은, LDMOSFET(laterally diffused MOSFET)들을 포함하는 MOSFET들 또는 다른 반도체 디바이스들, 예컨대 바이폴라 디바이스들, MESFET(metal-semiconductor FET) 디바이스들, HBT(heterojunction bipolar transistor) 디바이스들, 및 HEMT(high-electron-mobility transistor) 디바이스들을 포함할 수 있다. 트랜지스터들은 좁은 또는 넓은 밴드갭 반도체들을 이용하여 제조될 수 있다. 예를 들어, 트랜지스터들은 실리콘 LDMOS 및/또는 바이폴라 트랜지스터들, 및/또는 III-V족 디바이스들, 예컨대 GaAs MESFET들, InGaP HBT들, GaN HEMT 디바이스들, GaN 바이폴라 트랜지스터들 등을 포함할 수 있다.
10 와트 이상의 전력을 제공하는 RF 전력 트랜지스터들은 개별 디바이스들로서 패키징될 수 있다. 도 1a는 예시적인 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 사시도이다. 도 1b는 도 1a의 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 예시적인 레이아웃의 기능 블록도이다.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)는 (예를 들어, FET 또는 바이폴라 디바이스일 수 있는) 트랜지스터(15)를 포함할 수 있다. 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)는 입력 리드(14)를 트랜지스터(15)의 제어 전극(예를 들어, FET의 게이트 G 또는 바이폴라 트랜지스터의 베이스)에 접속시키는 입력 정합 회로(12)를 포함할 수 있다. 트랜지스터(15)는 병렬로 접속된 복수의 트랜지스터 셀을 포함하는 큰 주변 RF 트랜지스터일 수 있다. 출력 리드(18)는 트랜지스터(15)의 출력 전극(예를 들어, FET의 드레인 D 또는 바이폴라 트랜지스터의 컬렉터 또는 이미터)에 접속될 수 있다. RF 입력 리드(14) 및 출력 리드(18)는 도 1a에 도시된 바와 같이 패키징된 트랜지스터 디바이스(100) 외부로 연장될 수 있다. 일부 실시예들에서, 트랜지스터(15)의 소스 S는 접지될 수 있다.
도 1b에 도시된 바와 같이, 입력 정합 회로(12)는 패키징된 트랜지스터 디바이스(100) 내에 제공될 수 있다. 본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 입력 정합 회로(12)는 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 입력 리드(14)에 임피던스 정합을 제공하기 위해 하나 이상의 커패시터 및/또는 다른 유도성 요소들을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 입력 정합 회로(12)는 고조파 감소를 위한 회로 요소들을 포함할 수 있다. 와이어본드 접속들은 하나 이상의 커패시터로부터 트랜지스터(15)(예를 들어, 멀티-셀 RF 트랜지스터 다이)의 각각의 셀들(또는 셀들의 그룹들)에 제공될 수 있다.
출력 정합 회로(116)가 또한 디바이스 패키지 내부에 제공될 수 있다. 출력 정합 회로(116)는 신호가 출력 리드(18)에 도달하기 전에 고조파 감소가 발생할 수 있도록 임피던스 정합 요소들 및/또는 고조파 감소기를 포함할 수 있다. 예를 들어, 임피던스 정합 요소들은 출력 리드(18)에서 보이는 임피던스와 정합하도록 용량성 및/또는 유도성 요소들을 제공할 수 있다. 일부 실시예들에서, 출력 정합 회로(116)는 DC 차단 요소로서 동작하는 션트 커패시터를 포함할 수 있다. 고조파 감소기는 디바이스 패키지 자체 내의 2차 및/또는 더 높은 차수의 고조파들을 감소시킴으로써 패키징된 전력 트랜지스터의 선형성을 개선할 수 있다. (패키지 외부에 대비하여) 패키지 내부에 출력 정합 회로(116)를 배치하는 것은 넓은 범위의 주파수들 및/또는 출력 전력 레벨들에 걸쳐 출력 정합 회로(116)의 성능을 개선할 수 있다.
내부 고조파 감소기들 및 입력/출력 정합 네트워크들을 형성하는 방법들은, 예를 들어, 파렐(Farrell) 등의 "RF power transistor packages with internal harmonic frequency reduction and methods of forming RF power transistor packages with internal harmonic frequency reduction"이라는 명칭의 미국 특허 제8,076,994호, 및/또는 안드레(Andre) 등의 "RF transistor packages with high frequency stabilization features and methods of forming RF transistor packages with high frequency stabilization features"라는 명칭의 미국 특허 제9,741,673호에서 논의되며, 이들 모두는 그 전체가 본 명세서에 참조로 포함된다.
예를 들어, 도 1b에 도시된 바와 같이, 고조파 감소기를 포함하는 출력 정합 회로(116)는 트랜지스터(15)의 출력(드레인)에서 RF 전력 트랜지스터(15)를 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 패키지 내에 포함될 수 있다. 출력 정합 회로(116)의 고조파 감소기는 출력 신호에서, 제2 고조파 주파수와 같은 고조파 주파수에서 에너지를 감소시키도록 구성될 수 있다.
도 1b는 트랜지스터(15)의 입력에서 임피던스 정합 요소들을 포함하는 입력 정합 회로(12) 및 트랜지스터(15)의 출력에서 고조파 감소기를 포함하는 출력 정합 회로(116)를 도시하지만, 다른 구성들이 가능하다는 것을 이해할 것이다. 예를 들어, 출력 정합 회로(116)는 입력 정합 회로(12)의 임피던스 정합 요소들에 더하여, 또는 그 대신에 추가적인 임피던스 정합 요소들을 포함할 수 있다. 유사하게, 입력 정합 회로(112)는 RF 출력 리드(18)가 아니라 입력 리드(14)에 결합되는 고조파 감소기를 또한 포함할 수 있거나, 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)는 입력 정합 회로(12) 및 출력 정합 회로(116) 둘 다에서 고조파 감소기를 포함할 수 있다. 편의상, 도 1b의 구성은 예로서 논의될 것이지만, 본 발명은 트랜지스터(15)의 입력 또는 출력에서 임피던스 정합 회로들 및 고조파 감소기들의 다른 구성들에 동등하게 적용될 수 있다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 입력 정합 회로는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 입력에서 임피던스 정합 및/또는 고조파 감소를 제공하는데 이용되는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 트랜지스터와 입력 리드 사이에 있는(예를 들어, 그 사이에 전기적으로 결합되는) 임의의 회로를 지칭한다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 출력 정합 회로는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 출력에서 임피던스 정합 및/또는 고조파 감소를 제공하는데 이용되는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 출력 리드와 트랜지스터 사이에 있는(예를 들어, 그 사이에 전기적으로 결합되는) 임의의 회로를 지칭한다.
도 2a는 도 1b의 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)와 같이, 트랜지스터(15), 입력 정합 회로(12), 및 출력 정합 회로(116)를 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)에 대한 개략적인 회로도이다. 도 2b는 도 2a에 예시된 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 예시적인 물리적 레이아웃이다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 입력 정합 회로(12)는 트랜지스터(15)의 게이트 G와 입력 리드(14) 사이에 접속될 수 있다. 입력 정합 회로(12)는 입력 리드(14)와 커패시터(36)의 제1 단자 사이에 연장되는 본드 와이어(32)를 포함하는 유도성 와이어 본드 접속, 및 커패시터(36)의 제1 단자로부터 트랜지스터(15)의 게이트 G로 연장되는 본드 와이어(34)를 포함하는 유도성 와이어 본드 접속을 포함할 수 있다. 커패시터(36)는 트랜지스터(15)와 입력 리드(14) 사이의 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 베이스(140) 상에 형성될 수 있다. 본드 와이어(32) 및 본드 와이어(34)의 인덕턴스, 및 커패시터(36)의 커패시턴스는 입력 리드(14)에 접속되는 외부 임피던스를 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 내부 임피던스와 정합시키도록 선택될 수 있다.
트랜지스터(15)의 소스 S는 접지될 수 있고, 출력 리드(18)는 트랜지스터의 드레인 D로부터 출력 리드(18)로 연장되는 본드 와이어(38)를 포함하는 유도성 와이어 본드 접속을 통해 트랜지스터(15)의 드레인 D에 접속될 수 있다.
패키징된 트랜지스터 디바이스(100)는 또한 트랜지스터(15)의 드레인 D와 접지 사이에 접속되는 출력 정합 회로(116)를 포함할 수 있다. 도 2a에 도시된 실시예에서, 출력 정합 회로(116)는 커패시터(122)와 직렬인 유도성 요소(예를 들어, 유도성 본드 와이어)(120)를 갖는 고조파 감소기를 포함한다. 커패시터(122)는 트랜지스터(15)에 인접한 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 베이스(140) 상에 탑재될 수 있고, 유도성 본드 와이어(120)는 트랜지스터(15)의 드레인 D로부터 커패시터(122)로 연장되는 본드 와이어(120)를 포함할 수 있다. 특히, 커패시터(122)는 트랜지스터(15)와 출력 리드(18) 사이의 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 베이스(140) 상에 형성될 수 있다. 일부 실시예들에서, 유도성 본드 와이어(38)는 커패시터(122) 위를 지나갈 수 있다.
패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 베이스(140)는 트랜지스터(15)가 탑재되는 임의의 구조적 부재를 지칭할 수 있고, 따라서 기판, 플랜지, 다이 캐리어 등에 대응할 수 있다는 점이 이해될 것이다.
본드 와이어(120)의 인덕턴스 및 커패시터(122)의 커패시턴스는 트랜지스터(15)의 기본 동작 주파수에 대한 고조파 주파수에서의 신호들에 대한 접지로의 단락 회로 및/또는 낮은 임피던스 경로를 제공하도록 선택될 수 있다. 예를 들어, 2.5 GHz의 기본 동작 주파수에 대해, 커패시턴스 및 인덕턴스의 값들은 5 GHz의 주파수에서 단락 회로를 제공하도록 선택될 수 있다. 이러한 값들의 선택이 관련 기술분야에 공지되어 있다. 이용되는 실제 값들은 회로의 구성 및/또는 물리적 레이아웃에 의존할 수 있다. 제한이 아닌 예로서, 기본 동작 주파수(f)에서 동작하도록 설계된 트랜지스터(15)에 대해, 커패시터(122)의 커패시턴스(C) 및 유도성 본드 와이어(120)의 인덕턴스(L)는 각각 다음의 수학식을 만족시키도록 선택될 수 있다:
제한이 아닌 예로서, 2.5 GHz의 기본 동작 주파수를 가정하면, 제2 고조파 주파수에서(즉, 5 GHz에서) 단락 회로/낮은 임피던스 경로를 제공하기 위해, 커패시터(122)는 약 0.4 pF의 커패시턴스(C)를 가질 수 있고, 인덕터는 약 2.5 nH의 인덕턴스(L)를 가질 수 있다. 커패시터(122)의 존재는 전력 및/또는 효율의 관점에서 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 성능을 저하시킬 수 있지만, 이러한 성능의 감소는 일부 실시예들에 따라 획득될 수 있는 넓은 주파수 범위에 걸친 선형성의 개선에 의해 상쇄될 수 있다.
본 명세서에 설명된 본 발명은, 부분적으로, 도 1a, 도 1b, 도 2a 및 도 2c의 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)와 같은 패키징된 트랜지스터 디바이스의 임피던스 정합 및/또는 고조파 감소 회로에 이용되는 본드 와이어들의 구성이 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 성능에 악영향을 미치는 본드 와이어들 사이의 결합을 초래할 수 있다는 인식으로부터 기인한다. 예를 들어, 도 2a 및 도 2b의 본드 와이어들(34, 38, 및 120)과 같은 게이트 및 드레인 본드 와이어들은 트랜지스터(15)의 게이트와 드레인 사이에 기생 커패시턴스(예를 들어, Cgd)를 도입할 수 있으며, 이는 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 안정성 및 효율에 악영향을 줄 수 있다. 더욱이, 이러한 본드 와이어들은 또한 자기 결합(예를 들어, M)을 가질 수 있으며, 이는 패키징된 트랜지스터 디바이스(100) 내의 피드백 네트워크에 기여하여, 그 성능을 악화시킬 수 있다.
도 3은 본드 와이어들 사이에 발생할 수 있는 기생 결합을 예시하는 본드 와이어들을 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 개략적인 측면도이다. 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)는 본드 와이어(32)를 통해 커패시터(36)의 제1 단자에 결합된 입력 리드(14), 및 본드 와이어(34)를 통해 트랜지스터(15)에 결합된 커패시터(36)의 제1 단자를 포함한다. 트랜지스터(15)는 본드 와이어(120)를 통해 커패시터(122)의 제1 단자에 그리고 본드 와이어(38)를 통해 출력 리드(18)에 결합된다. 도 3에 도시된 바와 같이, 본드 와이어(120) 및 본드 와이어(34)는 서로 용량성 및 자기적으로 결합되도록 배열될 수 있다. 예를 들어, 입력 본드 와이어(34)는 커패시턴스(Cgd)에 의해 출력 본드 와이어(120) 및/또는 출력 본드 와이어(38)에 용량성 결합될 수 있다. 또한, 입력 본드 와이어(34)는 자기 결합(M)에 의해 출력 본드 와이어(120) 및/또는 출력 본드 와이어(38)에 자기적으로 결합될 수 있다. 용량성 결합(Cgd) 및/또는 자기 결합(M)은 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 성능을 감소시키고/시키거나 그 안정성을 감소시킬 수 있는 패키징된 트랜지스터 디바이스(100) 내의 피드백 네트워크를 생성 및/또는 확대할 수 있다.
도 4는 입력 본드 와이어와 출력 본드 와이어 사이의 결합의 효과를 감소시키기 위해 격리 재료(410)를 이용하는 본 발명에 따른 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)의 사시도이다. 도 5는 도 4의 실시예에 도시된 격리 재료(410)를 포함하는 프로토타입 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)의 개략도이다.
도 4의 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)는 도 2a, 도 2b 및 도 3의 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)와 많은 점들에서 유사하다. 도 4에 예시된 바와 같이, 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)는 본드 와이어(32)를 통해 커패시터(36)의 제1 단자에 결합된 입력 리드(14)를 포함할 수 있고, 커패시터(36)의 제1 단자는 본드 와이어(34)를 통해 트랜지스터(15)에 결합될 수 있다. 트랜지스터(15)는 본드 와이어(120)를 통해 커패시터(122)의 제1 단자에 그리고 본드 와이어(38)를 통해 출력 리드(18)에 결합될 수 있다. 본드 와이어(34), 본드 와이어(120), 및/또는 본드 와이어(38) 중 적어도 하나는 트랜지스터(15)의 최상부 표면 위로 연장될 수 있다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 실시예들은 트랜지스터(15)의 입력에 결합되는 입력 본드 와이어들(예를 들어, 본드 와이어(34))과 트랜지스터(15)의 출력에 결합되는 출력 본드 와이어들(예를 들어, 본드 와이어(120) 및/또는 본드 와이어(38)) 사이에 격리 재료(410)를 삽입할 수 있다. 격리 재료(410)는 트랜지스터(15)의 최상부 표면 상에 연장될 수 있고, 격리 재료(410)의 적어도 일부분은 입력 본드 와이어들과 출력 본드 와이어들 사이에(예를 들어, 트랜지스터(15) 위에) 물리적으로 있을 수 있다. 본 명세서에서 이용되는 바와 같이, 제1 요소는 제2 요소의 일부분으로부터 제3 요소의 일부분까지의 직선이 제1 요소와 교차할 때 물리적으로 제2 요소와 제3 요소 사이에 있다. 격리 재료(410)는 입력 본드 와이어(들)와 출력 본드 와이어(들) 사이의 용량성 및/또는 자기 결합을 감소시킬 수 있다. 일부 실시예들에서, 격리 재료(410)는 입력 본드 와이어와 출력 본드 와이어 사이에 전자기 차폐를 제공하도록 구성될 수 있다.
일부 실시예들에서, 격리 재료(410)는 전도성 격리 재료(410)를 형성하기 위해 전도성 재료로 구성될 수 있다. 전도성 격리 재료(410)는 기준 전압원(예를 들어, 접지)에 결합될 수 있다. 예를 들어, 전도성 격리 재료(410)는 접지된 전도성 플랜지, 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)의 베이스 상의 접지된 패드, 및/또는 접지 신호를 제공할 수 있는 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)의 다른 요소에 결합될 수 있다. 일부 실시예들에서, 전도성 격리 재료(410)는 트랜지스터(15)의 최상부 표면 상에 제공되는 패드 또는 다른 접속 요소에 결합될 수 있다. 패드는 트랜지스터(15)의 내부 접속들을 통해 기준 신호(예를 들어, 접지)에 접속될 수 있다. 일부 실시예들에서, 전도성 격리 재료(410)는 접지에 결합되는 것과는 대조적으로 전기적으로 플로팅되도록 제공될 수 있다. 일부 실시예들에서, 격리 재료(410)는 금속, 전도성 금속 질화물, 전도성 금속 산화물, 또는 이러한 재료들의 조합을 포함할 수 있다. 예를 들어, 격리 재료(410)는 텅스텐(W), 텅스텐 질화물(WN), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 티타늄 알루미늄 질화물(TiAlN), 이리듐(Ir), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 루테늄(Ru), 지르코늄(Zr), 로듐(Rh), 니켈(Ni), 코발트(Co), 크롬(Cr), 주석(Sn), 아연(Zn), 인듐 주석 산화물(ITO), 이러한 금속들의 합금, 또는 이러한 금속들의 조합을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 격리 재료(410)는 전도성 재료(예를 들어, 금속 또는 금속 함유 물질)로 도금 및/또는 코팅된 비전도성 재료를 포함할 수 있다.
격리 재료(410)는 전도성 격리 재료일 수 있지만, 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 일부 실시예들에서, 격리 재료(410)는 마이크로파 및/또는 RF 방출들을 흡수할 수 있는 유전체 재료를 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 격리 재료(410)는 손실성 유전체로 형성될 수 있다. 손실성 유전체는 입력 본드 와이어와 출력 본드 와이어 사이의 결합을 형성하는 것들과 같이 전자기파들을 흡수 및/또는 감소시키도록 구성될 수 있다. 격리 재료(410) 내의 재료들로서 유용할 수 있는 손실성 유전체들은 0.1보다 큰 손실 탄젠트를 갖는 손실성 유전체들을 포함할 수 있다. tan δ로도 알려진 손실 탄젠트는 유전율의 실수부와 허수부 사이의 비율이다. 일부 실시예들에서, 격리 재료(410)로서 이용되는 손실성 유전체에 대한 손실 탄젠트는 트랜지스터 디바이스(400)의 동작 주파수에 기반할 수 있다. 손실성 유전체들의 예들은 탄소를 함유하는 유전체들을 포함할 수 있다.
일부 실시예들에서, 격리 재료(410)는 예를 들어 페라이트 및/또는 니켈과 같은 자성 재료를 포함할 수 있다.
격리 재료(410)는 트랜지스터(15)에 접속되는 입력 본드 와이어들(예를 들어, 본드 와이어들(34)) 및/또는 출력 본드 와이어들(예를 들어, 본드 와이어들(38 및/또는 120))에 실질적으로 직교하는 제1 방향으로 연장될 수 있다. 트랜지스터(15)의 제어 단자(예를 들어, 게이트 단자)는 트랜지스터(15)의 제1 측 상에 있을 수 있고, 출력 단자(예를 들어, 드레인 단자)는 제1 측에 대향하는, 트랜지스터(15)의 제2 측 상에 있을 수 있다. 입력 본드 와이어들(예를 들어, 본드 와이어들(34))은 제1 측 상의 트랜지스터(15)의 입력 단자에 접속될 수 있다. 출력 본드 와이어들(예를 들어, 본드 와이어들(38 및/또는 120))은 제2 측 상의 트랜지스터(15)의 출력 단자에 접속될 수 있다.
도 5에서, 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)의 프로토타입은 격리 재료(410)로서 금속 차폐 벽을 포함한다. 도 5의 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)는 격리 재료(410)의 성능에 대한 영향을 결정하기 위해 종래의 패키징된 트랜지스터 디바이스들과 비교되었다.
격리 재료(410)의 유효성을 정량화하는 하나의 방법은 동일한 정합 네트워크들을 갖지만 하나가 격리 재료(410)로 구현되는 2개의 트랜지스터 디바이스의 신호 응답들을 비교하는 것이다. 분석될 수 있는 메트릭의 일 예는 트랜지스터 디바이스의 입력과 출력 사이의 격리의 척도인 산란 파라미터 S12를 포함한다. 더 낮은 S12 값은 트랜지스터 디바이스의 입력과 출력 사이의 격리의 더 높은 레벨을 나타낸다. 분석될 수 있는 메트릭의 다른 예는 트랜지스터 디바이스의 안정성을 정량화하는 μ-인자이다. μ-인자가 높을수록, 디바이스가 더 안정적일 것이다. 1보다 큰 μ-인자는 무조건적으로 안정적인 트랜지스터 디바이스를 나타내고, 1보다 작은 μ-인자는 잠재적으로 불안정한 디바이스를 나타낸다.
도 6a 및 도 6b는 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)의 시뮬레이션된 성능과, 도 2a 및 도 2b에 예시된 것과 같은 종래의 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 시뮬레이션된 성능의 비교를 예시하는 그래프들이다.
도 6a 및 도 6b는 격리 재료(410)를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스(400) 및 격리 재료(410)가 없는 패키징된 트랜지스터 디바이스에 대한 관심 주파수 대역에서의 시뮬레이션된 S12 및 μ-인자를 도시한다. 도 6a 및 도 6b의 시뮬레이션된 디바이스는 2.1-2.2 GHz 주파수 대역에 대해 설계되었다. 도 6a는 격리 재료(410)를 갖는 트랜지스터 디바이스에 대한 S12 시뮬레이션된 성능(610) 및 격리 재료(410)가 없는 트랜지스터 디바이스에 대한 S12 시뮬레이션된 성능(620)을 예시한다. 도 6a는 격리 재료(410)를 추가하는 것이 격리 재료(410)가 없는 패키징된 트랜지스터 디바이스에 비해 2.14 GHz에서 대략 7dB 더 많은 격리를 제공한다는 것을 도시한다.
도 6b는 격리 재료(410)를 갖는 트랜지스터 디바이스에 대한 μ-인자 시뮬레이션된 성능(630) 및 격리 재료(410)가 없는 트랜지스터 디바이스에 대한 μ-인자 시뮬레이션된 성능(640)을 도시한다. 도 6b는 격리 재료(410)의 추가에 기반하여 관심 주파수 대역 내에서 μ-인자가 1.08로부터 1.55로 증가한 것을 도시하며, 이는 더 안정적인 디바이스를 나타낸다.
도 7a 및 도 7b는 격리 재료(410)를 포함하는 도 5의 프로토타입 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)의 측정된 성능과, 도 2a 및 도 2b에 도시된 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)와 같이, 격리 재료(410)가 없는 종래의 패키징된 트랜지스터 디바이스의 비교를 예시하는 그래프들이다. 도 7a는 격리 재료(410)를 포함하는 도 5의 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)가 종래의 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 측정된 S12 성능(720)보다 2.14 GHz에서의 S12 격리에서 9dB 더 기여하는 측정된 S12 성능(710)을 갖는다는 것을 도시한다. 도 7b는 격리 재료(410)를 포함하는 도 5의 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)가 종래의 패키징된 트랜지스터 디바이스(100)의 측정된 μ-인자 성능(740)에 비해 μ-인자를 0.79에서 1.14로 증가시키는 2.14 GHz에서의 측정된 μ-인자 성능(730)을 갖는다는 것을 도시한다.
도 4 및 도 5가 격리 재료(410)로서 금속 벽의 이용을 예시하지만, 격리 재료(410)의 다른 구성들이 본 발명으로부터 벗어나지 않고 이용될 수 있다는 점이 이해될 것이다. 예를 들어, 일부 실시예들에서, 격리 재료는 금속 메쉬와 같은 메쉬로 형성될 수 있다. 일부 실시예들에서, 격리 재료(410)는 개별 본드 와이어들로 형성될 수 있다. 도 8a는 본 발명의 실시예들에 따른, 격리 재료(410)로서 격리 본드 와이어들(810)을 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스(800)의 사시도이다. 도 8b는 도 8a의 패키징된 트랜지스터 디바이스(800)의 격리 재료(410)의 구성을 예시하는 단면도이다.
패키징된 트랜지스터 디바이스(800)의 입력 및 출력 본드 와이어들의 구성은 도 4에 예시된 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)와 실질적으로 유사할 수 있다. 도 8a에 도시된 바와 같이, 패키징된 트랜지스터 디바이스(800)는 본드 와이어(32)를 통해 커패시터(36)에 결합된 입력 리드(14)를 포함할 수 있고, 커패시터(36)는 본드 와이어(34)를 통해 트랜지스터(15)에 결합될 수 있다. 트랜지스터(15)는 본드 와이어(120)를 통해 커패시터(122)에 그리고 본드 와이어(38)를 통해 출력 리드(18)에 결합될 수 있다. 본드 와이어(34), 본드 와이어(120), 및/또는 본드 와이어(38) 중 적어도 하나는 트랜지스터(15)의 최상부 표면 위로 연장될 수 있다.
도 8a 및 도 8b를 참조하면, 격리 재료(410)는 기준 전압원(예를 들어, 접지 신호)에 접속될 수 있는 복수의 격리 본드 와이어(810)로 구성될 수 있다. 일부 실시예들에서, 격리 재료(410)의 격리 본드 와이어들(810)은 트랜지스터(15)의 제1 측으로부터 트랜지스터(15)의 제2 측으로의 제1 방향으로 연장될 수 있다. 입력 본드 와이어들(예를 들어, 본드 와이어들(34))은 입력 리드(14)로부터 트랜지스터(15)의 제3 측으로 연장하는 제2 방향으로 연장할 수 있다. 출력 본드 와이어들(예를 들어, 본드 와이어들(38 및/또는 120))은 제2 방향으로(예를 들어, 트랜지스터(15)의 제4 측으로부터 출력 리드(18)로 연장하는 방향으로) 연장할 수 있다. 일부 실시예들에서, 제1 방향은 제2 방향에 직교할 수 있다. 격리 본드 와이어들(810) 중 적어도 하나의 일부분은 입력 본드 와이어들과 출력 본드 와이어들 사이에(예를 들어, 트랜지스터(15) 위에) 물리적으로 있을 수 있다.
일부 실시예들에서, 격리 본드 와이어들(810)은 트랜지스터(15)의 제1 측 상의 패키징된 트랜지스터 디바이스(800)의 베이스 및/또는 기판에 접속될 수 있고, 트랜지스터(15) 위의 높이에서 트랜지스터(15) 상에 연장될 수 있고/있거나 트랜지스터(15)의 제2 측 상의 패키징된 트랜지스터 디바이스(800)의 베이스 및/또는 기판에 접속될 수 있다. 일부 실시예들에서, 복수의 격리 본드 와이어들(810)의 개별 격리 본드 와이어들의 부분들은 (예를 들어, 수평 및/또는 수직 방향으로) 서로 중첩될 수 있지만, 본 발명은 이에 제한되지 않는다.
도 8a 및 도 8b가 베이스 및/또는 기판에 접속된 격리 본드 와이어들(810)을 도시하지만, 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 일부 실시예들에서, 트랜지스터(15)는 (예를 들어, 기판에 대한) 트랜지스터(15)의 내부 또는 외부 접속들을 통해 기준 신호(예를 들어, 접지)에 접속되는 패드들 및/또는 다른 접속 요소를 그 표면 상에 가질 수 있다. 도 8c는 복수의 본드 와이어(810)가 하나 이상의 접지 패드(182)에 접속되는 실시예를 도시한다. 일부 실시예들에서, 복수의 격리 본드 와이어(810)는, 예를 들어, 최상부 표면 또는 측면과 같은, 트랜지스터(15)의 표면 상의 접지 패드들(182)에 접속될 수 있다.
도 9a는 본 발명의 실시예들에 따른, 격리 재료(410)로서 격리 본드 와이어들(820)을 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스(900)의 사시도이다. 도 9b는 도 9a의 패키징된 트랜지스터 디바이스(900)의 격리 재료(410)의 구성을 예시하는 단면도이다.
패키징된 트랜지스터 디바이스(900)의 입력 및 출력 본드 와이어들의 구성은 도 4 및 도 8에 예시된 패키징된 트랜지스터 디바이스(400)와 실질적으로 유사할 수 있다. 도 9a에 도시된 바와 같이, 패키징된 트랜지스터 디바이스(900)는 본드 와이어(32)를 통해 커패시터(36)에 결합된 입력 리드(14)를 포함할 수 있고, 커패시터(36)는 본드 와이어(34)를 통해 트랜지스터(15)에 결합될 수 있다. 트랜지스터(15)는 본드 와이어(120)를 통해 커패시터(122)에 그리고 본드 와이어(38)를 통해 출력 리드(18)에 결합될 수 있다. 본드 와이어(34), 본드 와이어(120), 및/또는 본드 와이어(38) 중 적어도 하나는 트랜지스터(15)의 최상부 표면 위로 연장될 수 있다.
도 9a 및 도 9b를 참조하면, 격리 재료(410)는 기준 전압원(예를 들어, 접지 신호)에 접속될 수 있는 복수의 격리 본드 와이어(910)로 구성될 수 있다. 격리 재료(410)의 격리 본드 와이어들(910)은 트랜지스터(15)의 제1 측으로부터 트랜지스터(15)의 제2 측으로의 제1 방향으로 연장될 수 있다. 입력 본드 와이어들(예를 들어, 본드 와이어들(34))은 제2 방향으로(예를 들어, 입력 리드(14)로부터 트랜지스터(15)의 제3 측으로의 방향으로) 연장될 수 있다. 출력 본드 와이어들(예를 들어, 본드 와이어들(38 및/또는 120))은 제2 방향으로(예를 들어, 트랜지스터(15)의 제4 측으로부터 출력 리드(18)로의 방향으로) 연장될 수 있다. 일부 실시예들에서, 제1 방향은 제2 방향에 직교할 수 있다. 격리 본드 와이어들(910) 중 적어도 하나의 일부분은 입력 본드 와이어들과 출력 본드 와이어들 사이에(예를 들어, 트랜지스터(15) 위에) 배치될 수 있다.
일부 실시예들에서, 격리 본드 와이어들(910)은 트랜지스터(15)의 제1 측 상의 패키징된 트랜지스터 디바이스(900)의 베이스 및/또는 기판에 접속될 수 있고, 트랜지스터(15) 위의 높이에서 트랜지스터(15) 상에 연장될 수 있고/있거나, 트랜지스터(15)의 제2 측 상의 패키징된 트랜지스터 디바이스(900)의 베이스 및/또는 기판에 접속될 수 있다. 일부 실시예들에서, 복수의 격리 본드 와이어들(910) 중 제1 격리 본드 와이어는 복수의 격리 본드 와이어들(910) 중 제2 격리 본드 와이어보다 더 높은(예를 들어, 트랜지스터(15)로부터 더 먼) 레벨에서 연장될 수 있다. 일부 실시예들에서, 복수의 격리 본드 와이어들(910)의 개별 격리 본드 와이어들의 부분들은 서로 실질적으로 평행하게 연장될 수 있지만, 본 발명은 이에 제한되지 않는다.
도 9a 및 도 9b가 베이스 및/또는 기판에 접속된 격리 본드 와이어들(910)을 도시하지만, 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 도 9c는 복수의 본드 와이어(910)가 하나 이상의 접지 패드(182)에 접속되는 실시예를 도시한다. 일부 실시예들에서, 트랜지스터(15)는 (예를 들어, 기판에 대한) 트랜지스터(15)의 내부 또는 외부 접속들을 통해 기준 신호(예를 들어, 접지)에 접속되는 접지 패드들(182) 및/또는 다른 접속 요소들을 그 표면 상에 가질 수 있다. 일부 실시예들에서, 복수의 격리 본드 와이어(910)는, 예를 들어, 최상부 표면 또는 측면과 같은, 트랜지스터(15)의 표면 상의 접지 패드들(182)에 접속될 수 있다.
도 10a는 본 발명의 추가 실시예들에 따른 격리 재료(410)를 나타내는 개략적인 단면도이다. 도 10a에 도시된 바와 같이, 격리 재료(410)는 하나 이상의 격리 세그먼트(1010)로 구성될 수 있다. 일부 실시예들에서, 격리 세그먼트들(1010)은 트랜지스터(15)로부터 멀어지는 방향으로(예를 들어, 수직 방향으로) 트랜지스터(15)의 최상부 표면으로부터 멀어지게 연장될 수 있다. 일부 실시예들에서, 격리 세그먼트들(1010)은 트랜지스터(15)의 최상부 표면에 실질적으로 수직인 방향으로 연장할 수 있다. 도 10a에 도시된 격리 재료(410)는 도 4, 도 8a 및 도 9a의 패키징된 트랜지스터 디바이스들과 유사한 방식으로 입력 및 출력 본드 와이어들과 같은 패키징된 트랜지스터 디바이스의 다른 요소들에 대해 트랜지스터(15) 상에 배치될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 즉, 격리 재료(410)의 격리 세그먼트들(1010)은 트랜지스터(15) 위의 입력 및 출력 본드 와이어들 사이에 배치될 수 있다. 일부 실시예들에서, 격리 세그먼트들(1010)은 금속, 전도성 금속 질화물, 전도성 금속 산화물, 또는 이러한 재료들의 조합을 포함할 수 있다. 예를 들어, 격리 세그먼트들은 텅스텐(W), 텅스텐 질화물(WN), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 티타늄 알루미늄 질화물(TiAlN), 이리듐(Ir), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 루테늄(Ru), 지르코늄(Zr), 로듐(Rh), 니켈(Ni), 코발트(Co), 크롬(Cr), 주석(Sn), 아연(Zn), 인듐 주석 산화물(ITO), 이러한 금속들의 합금, 또는 이러한 금속들의 조합을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 격리 세그먼트들(1010)은 손실성 유전체 및/또는 자성 재료를 포함할 수 있다.
일부 실시예들에서, 격리 세그먼트들(1010)은 베이스 격리 세그먼트(1020) 상에 형성될 수 있지만, 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 일부 실시예들에서, 베이스 격리 세그먼트(1020)는 트랜지스터(15)의 한 측 상의 베이스 및/또는 기판에 접속될 수 있고, 트랜지스터(15) 위의 트랜지스터(15) 상에 연장될 수 있고/있거나 트랜지스터(15)의 제2 측 상의 베이스 및/또는 기판에 접속될 수 있다. 일부 실시예들에서, 베이스 격리 세그먼트(1020)는, 도 9a 및 도 9b에 예시된 복수의 본드 와이어들(910)과 같은, 복수의 본드 와이어들 중 하나일 수 있다. 도 10a가 베이스 및/또는 기판에 접속된 베이스 격리 세그먼트(1020)를 나타내고 있지만, 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 일부 실시예들에서, 트랜지스터(15)는 (예를 들어, 기판에 대한) 트랜지스터(15)의 내부 또는 외부 접속들을 통해 기준 신호(예를 들어, 접지)에 접속되는 패드들 및/또는 다른 접속 요소를 그 표면 상에 가질 수 있다. 도 10b는 트랜지스터(15)가 트랜지스터(15)의 최상부 표면 상에 접지 패드들(182)을 갖는 실시예를 도시한다. 일부 실시예들에서, 베이스 격리 세그먼트(1020)는 트랜지스터(15)의 표면 상의 접지 패드들(182)에 접속될 수 있다. 일부 실시예들에서, 베이스 격리 세그먼트(1020)의 적어도 하나의 단부는 기준 신호(예를 들어, 접지 신호)에 접속될 수 있다. 일부 실시예들에서, 베이스 격리 세그먼트(1020)는 본드 와이어일 수 있다. 일부 실시예들에서, 베이스 격리 세그먼트(1020)는 트랜지스터(15)의 최상부 표면 상에 형성된 금속 트레이스 및/또는 세그먼트일 수 있다.
도 4, 도 8a 및 도 9a가 공기 공동을 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스(400, 800, 900)의 실시예들을 도시하지만, 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 일부 실시예들에서, 격리 재료(410)는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 컴포넌트들을 감싸는데 이용되는 플라스틱 오버몰드 내에 형성될 수 있다. 예를 들어, 공기 공동 구성에서, 격리 재료(410)는, 예컨대 공기 공동의 측벽과의 접속을 통해 그리고/또는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 베이스에 대한 접속을 통해, 트랜지스터(15) 상에 배치될 수 있다. 오버몰드 구성에서, 격리 재료(410)는 공기 공동 구성에서와 같이 트랜지스터(15) 상에 유사하게 배치될 수 있고/있거나 트랜지스터(15)를 덮는 오버몰드 내의 트랜지스터(15) 상에 배치될 수 있다. 따라서, 본 명세서에 설명되는 격리 재료(410)는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 복수의 구성들에서 이용될 수 있다.
도 11a 내지 도 14b는 본 발명의 일부 실시예들에 따라 플라스틱 오버몰드를 이용하여 패키징된 트랜지스터 디바이스(1100)를 제조하기 위한 예시적인 기술들을 도시한다.
도 11a는 트랜지스터 구성의 평면도이고, 도 11b는 도 11a의 선 A-A'를 따라 취해진 단면도이다. 도 11a 및 도 11b를 참조하면, 입력 리드(14) 및 출력 리드(18)에 결합된 트랜지스터(15)를 포함하는 트랜지스터 구성이 제공될 수 있다. 트랜지스터(15)는 본 명세서에 설명된 바와 같이, 유도성 요소들로서 본드 와이어들을 이용하는 정합 네트워크 및/또는 고조파 감소기에 결합될 수 있다. 베이스 격리 세그먼트(1120)는 트랜지스터(15) 상에 제공될 수 있다. 일부 실시예들에서, 베이스 격리 세그먼트(1120)는 본드 와이어일 수 있다. 일부 실시예들에서, 베이스 격리 세그먼트(1120)는 트랜지스터(15)의 한 측 상의 베이스 및/또는 기판에 접속될 수 있고, 트랜지스터(15) 위의 트랜지스터(15) 상에 연장될 수 있으며, 트랜지스터(15)의 제2 측 상의 베이스 및/또는 기판에 접속될 수 있다. 일부 실시예들에서, 베이스 격리 세그먼트(1120)는 트랜지스터(15)의 표면 상의 패드에 접속될 수 있고, 여기서, 패드는 추가로, 트랜지스터(15)의 내부 접속들 및/또는 외부 접속들을 통해 기준 신호(예를 들어, 접지)에 접속된다. 베이스 격리 세그먼트(1120)의 적어도 한 측은 기준 신호(예를 들어, 접지 신호)에 접속될 수 있다. 예를 들어, 트랜지스터(15)의 최상부 표면 상의 접지 신호에 접속된 패드를 포함하는 실시예들과 같은 일부 실시예들에서, 베이스 격리 세그먼트(1120)는 생략될 수 있다.
도 12b가 도 12a의 선 A-A'를 따라 취해진 단면도인, 도 12a 및 도 12b를 참조하면, 플라스틱 오버몰드(1220)가 트랜지스터 구성 상에 형성될 수 있다. 플라스틱 오버몰드(1220)는, 존재한다면, 베이스 격리 세그먼트(1120)를 포함하는, 트랜지스터 구성의 요소들을 감쌀 수 있다. 플라스틱 오버몰드(1220)는 플라스틱 또는 플라스틱 중합체 화합물로 구성될 수 있다.
도 13b가 도 13a의 선 A-A'를 따라 취해진 단면도인, 도 13a 및 도 13b를 참조하면, 리세스(1320)가 플라스틱 오버몰드(1220)에 형성될 수 있다. 리세스(1320)의 적어도 일부분은 플라스틱 오버몰드(1220)의 표면으로부터 베이스 격리 세그먼트(1120)를 향해 연장될 수 있다. 일부 실시예들에서, 리세스(1320)는 베이스 격리 세그먼트(1120)를 노출시키도록 연장될 수 있지만, 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 예를 들어, 트랜지스터(15)의 최상부 표면 상의 접지 신호에 접속된 패드를 포함하는 실시예들과 같은 일부 실시예들에서, 리세스(1320)는 패드를 노출시키도록 연장될 수 있다. 일부 실시예들에서, 리세스(1320)는 베이스 격리 세그먼트(1120)와 동일한 방향으로 연장되도록 형성될 수 있다.
도 14b가 도 14a의 선 A-A'를 따라 취해진 단면도인, 도 14a 및 도 14b를 참조하면, 전도성 재료(1420)는 본 발명의 실시예들에 따른 패키징된 트랜지스터 디바이스(1100)를 형성하기 위해 리세스(1320) 내에 배치될 수 있다. 일부 실시예들에서, 전도성 재료(1420)는 리세스(1320)를 채울 수 있다. 전도성 재료(1420)는, 예를 들어, 금속 또는 금속 함유 재료(예를 들어, 은 에폭시)를 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 전도성 재료(1420)는 마이크로파 및/또는 RF 방출들을 흡수할 수 있는 유전체 재료를 포함할 수 있다.
일부 실시예들에서, 전도성 재료(1420)는 플라스틱 오버몰드(1220) 내에 격리 재료(410)를 형성하기 위해 베이스 격리 세그먼트(1120)에 전기적으로 결합될 수 있다. 일부 실시예들에서, 전도성 재료(1420)는 베이스 격리 세그먼트(1120)로부터 분리될 수 있다. 예를 들어, 트랜지스터(15)의 최상부 표면 상의 접지 신호에 접속된 패드를 포함하는 실시예들과 같은 일부 실시예들에서, 전도성 재료(1420)는 패드와 전기적으로 접촉하도록 형성될 수 있다.
도 15a 내지 도 16b는 본 발명의 일부 실시예들에 따른, 패키징된 트랜지스터 디바이스를 제조하기 위한 추가의 예시적인 기술들을 도시한다. 도 15a 내지 도 16b에 도시된 실시예들에서는 도 11a 내지 도 12b와 관련하여 본 명세서에서 논의된 것들과 유사한 동작들이 선행될 수 있다. 도 15b가 도 15a의 선 A-A'를 따라 취해진 단면도인, 도 15a 및 도 15b를 참조하면, 복수의 리세스(1520)가 플라스틱 오버몰드(1220)에 형성될 수 있다. 복수의 리세스(1520) 중 적어도 하나는 플라스틱 오버몰드(1220)의 표면으로부터 베이스 격리 세그먼트(1120)로 연장될 수 있다. 일부 실시예들에서, 복수의 리세스(1520)의 각각의 리세스들은 트랜지스터(15)의 최상부 표면으로부터 멀어지게 연장되는 기둥 형상으로 형성될 수 있다.
도 16b가 도 16a의 선 A-A'를 따라 취해진 단면도인, 도 16a 및 도 16b를 참조하면, 전도성 재료(1620)는 본 발명의 실시예들에 따른 패키징된 트랜지스터 디바이스(1100)를 형성하기 위해 복수의 리세스(1520) 내에 배치될 수 있다. 일부 실시예들에서, 전도성 재료(1620)는 복수의 리세스(1520) 중 하나 이상을 채울 수 있다. 전도성 재료(1620)는, 예를 들어, 금속 또는 금속 함유 재료(예를 들어, 은 에폭시)를 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 전도성 재료(1620)는 마이크로파 및/또는 RF 방출들을 흡수할 수 있는 유전체 재료를 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 복수의 리세스(1520)의 각각의 리세스들 내의 전도성 재료(1620)는 플라스틱 오버몰드(1220) 내에 격리 재료(410)를 형성하기 위해 베이스 격리 세그먼트(1120)에 전기적으로 결합될 수 있다.
일부 실시예들에서, 베이스 격리 세그먼트(1120)는 임의적일 수 있다. 예를 들어, 복수의 리세스(1520)는 도 15a 및 도 15b와 관련하여 논의된 바와 같이 형성될 수 있다. 복수의 리세스(1520)를 채우기 전 또는 후에, 접속 리세스(예를 들어, 홈)가 플라스틱 오버몰드(1220)의 최상부 표면에 형성될 수 있다. 접속 리세스는 복수의 리세스(1520)의 최상부 표면들을 접속시키도록 연장될 수 있다. 복수의 리세스(1520) 및 접속 리세스는 전도성 재료(1620)로 채워져서 격리 재료(410)를 형성할 수 있다. 격리 재료(410)는 입력 본드 와이어와 출력 본드 와이어 사이의 결합을 최소화 및/또는 감소시키기 위해 기준 신호(예를 들어, 접지)에 추가로 접속되거나 플로팅 상태로 남겨질 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 패키징된 트랜지스터 디바이스의 베이스 상의 트랜지스터 - 트랜지스터는 제어 단자 및 출력 단자를 포함함 -, 트랜지스터의 제어 단자와 입력 리드 사이에 전기적으로 결합된 제1 본드 와이어, 트랜지스터의 출력 단자와 출력 리드 사이에 전기적으로 결합된 제2 본드 와이어, 및 제1 본드 와이어와 제2 본드 와이어 사이에 물리적으로 있는 격리 재료 - 격리 재료는 제1 본드 와이어와 제2 본드 와이어 사이의 결합을 감소시키도록 구성됨 - 를 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스들이 제공된다.
일부 실시예들에서, 트랜지스터는 전기적으로 병렬로 접속되는 복수의 단위 셀 트랜지스터를 포함한다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 전도성 격리 재료, 자성 격리 재료, 또는 손실성 유전체 격리 재료이다. 손실성 유전체 격리 재료는 0.1보다 큰 손실 탄젠트를 포함할 수 있다.
일부 실시예들에서, 패키징된 트랜지스터 디바이스는 트랜지스터를 수용하는 패키지를 더 포함하며, 입력 리드 및 출력 리드는 패키지로부터 연장된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료의 일부분은 패키지와 접촉한다.
일부 실시예들에서, 패키지는 공기 공동을 포함하고, 제1 본드 와이어의 적어도 일부분 및 제2 본드 와이어의 적어도 일부분은 공기 공동 내로 연장된다.
일부 실시예들에서, 패키지는 플라스틱 오버몰드를 포함한다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 트랜지스터 위에 배치된다.
일부 실시예들에서, 제어 단자는 트랜지스터의 제1 측 상에 있고, 출력 단자는 제1 측에 대향하는, 트랜지스터의 제2 측 상에 있고, 복수의 제3 본드 와이어들은 트랜지스터의 제3 측으로부터 트랜지스터의 제4 측으로 연장되고, 트랜지스터의 제3 측 및 제4 측은 제1 측 및 제2 측과 상이하다.
일부 실시예들에서, 제3 본드 와이어들 중 첫 번째 본드 와이어의 제1 부분은 제1 높이에서 트랜지스터 위로 연장되고, 제3 본드 와이어들 중 두 번째 본드 와이어의 제2 부분은 제1 높이보다 큰 제2 높이에서 트랜지스터 위로 연장된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 복수의 금속 세그먼트를 포함한다.
일부 실시예들에서, 복수의 금속 세그먼트는 트랜지스터의 최상부 표면에 실질적으로 수직인 방향으로 연장된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 금속 벽을 포함한다.
일부 실시예들에서, 금속 벽은 트랜지스터의 최상부 표면에 실질적으로 수직인 방향으로 연장된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 접지 신호에 접속되도록 구성된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 전기적으로 플로팅되도록 구성된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 금속 메쉬를 포함한다.
일부 실시예들에서, 패키징된 트랜지스터 디바이스는 입력 리드와 제어 단자 사이에 전기적으로 결합되는 입력 정합 회로를 더 포함하고, 제1 본드 와이어는 입력 정합 회로 내의 유도성 요소이다.
본 발명의 추가 실시예들에 따르면, 패키징된 트랜지스터 디바이스의 베이스 상의 트랜지스터 - 트랜지스터는 트랜지스터의 대향 측들 상의 제어 단자 및 출력 단자를 포함함 -, 제어 단자에 접속된 제1 인덕터 - 제1 인덕터는 트랜지스터의 최상부 표면보다 베이스로부터 더 먼 제1 레벨에서 연장되는 제1 부분을 포함함 -, 출력 단자에 접속된 제2 인덕터 - 제2 인덕터는 트랜지스터의 최상부 표면보다 베이스로부터 더 먼 제2 레벨에서 연장되는 제2 부분을 포함함 -, 및 제1 부분과 제2 부분 사이에 있는 격리 재료 - 격리 재료는 제1 인덕터와 제2 인덕터 사이의 결합을 감소시키도록 구성됨 - 를 포함하는 패키징된 트랜지스터 디바이스가 제공된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 기준 신호에 전기적으로 접속된다.
일부 실시예들에서, 제1 인덕터는 임피던스 정합 회로 또는 고조파 감소 회로의 컴포넌트이다.
일부 실시예들에서, 패키징된 트랜지스터 디바이스는 트랜지스터를 수용하는 패키지를 더 포함하고, 패키지로부터 입력 리드 및 출력 리드가 연장되고, 입력 리드는 제어 단자에 접속되고, 출력 리드는 출력 단자에 접속된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료의 일부분은 패키지와 접촉한다.
일부 실시예들에서, 패키지는 공기 공동을 포함하고, 제1 인덕터의 적어도 일부분 및 제2 인덕터의 적어도 일부분은 공기 공동 내로 연장된다.
일부 실시예들에서, 패키지는 플라스틱 오버몰드를 포함한다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 전도성 격리 재료, 자성 격리 재료, 또는 손실성 유전체 격리 재료이다. 일부 실시예들에서, 손실성 유전체 격리 재료는 0.1보다 큰 손실 탄젠트를 포함한다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 복수의 본드 와이어들을 포함한다.
일부 실시예들에서, 본드 와이어들 중 제1 본드 와이어의 제1 부분은 제1 높이에서 트랜지스터 위로 연장되고, 본드 와이어들 중 제2 본드 와이어의 제2 부분은 제1 높이보다 큰 제2 높이에서 트랜지스터 위로 연장된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 트랜지스터 위에 배치된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 복수의 금속 세그먼트를 포함한다.
일부 실시예들에서, 복수의 금속 세그먼트는 트랜지스터의 최상부 표면에 실질적으로 수직인 방향으로 연장된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 금속 벽을 포함한다.
본 발명의 추가 실시예들에 따르면, 패키징된 트랜지스터 디바이스를 제조하는 방법은, 제어 단자 및 출력 단자를 포함하는 트랜지스터를 트랜지스터의 대향 측들 상에 제공하는 단계, 제1 본드 와이어를 제어 단자에 접속시키는 단계, 제2 본드 와이어를 출력 단자에 접속시키는 단계, 제1 본드 와이어와 제2 본드 와이어 사이의 트랜지스터 상에 격리 재료를 배치하는 단계 - 격리 재료는 제1 본드 와이어와 제2 본드 와이어 사이의 결합을 감소시키도록 구성됨 -, 및 트랜지스터, 제1 본드 와이어, 제2 본드 와이어, 및 격리 재료를 둘러싸는 패키지를 제공하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 트랜지스터를 제공하는 단계는 패키징된 트랜지스터 디바이스의 공기 공동 내에 트랜지스터를 제공하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 공기 공동의 측벽 내로 연장된다.
일부 실시예들에서, 트랜지스터 상에 격리 재료를 배치하는 단계는 제1 본드 와이어와 제2 본드 와이어 사이에 복수의 제3 본드 와이어들을 제공하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 패키지를 제공하는 단계는 트랜지스터 상에 플라스틱 오버몰드를 배치하는 단계를 포함하고, 트랜지스터 상에 격리 재료를 배치하는 단계는 플라스틱 오버몰드를 리세싱하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 플라스틱 오버몰드를 리세싱하는 단계는, 플라스틱 오버몰드 내에 복수의 리세스를 제공하는 단계, 및 복수의 리세스 내에 금속 재료를 제공하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 플라스틱 오버몰드를 리세싱하는 단계는, 플라스틱 오버몰드 내에 트랜지스터 상에서 연장되는 트렌치를 제공하는 단계, 및 트렌치 내에 금속 재료를 제공하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 접지 신호에 접속되도록 구성된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 트랜지스터 위에 배치된다.
일부 실시예들에서, 격리 재료는 전도성 격리 재료, 자성 격리 재료, 또는 손실성 유전체 격리 재료이다.
일부 실시예들에서, 손실성 유전체 격리 재료는 0.1보다 큰 손실 탄젠트를 포함한다.
다양한 요소들을 설명하기 위해 제1, 제2 등의 용어들이 본 명세서에 사용될 수 있더라도, 이들 요소들은 이들 용어들로 제한되어서는 안 됨을 이해할 것이다. 이들 용어들은 단지 하나의 요소를 다른 요소와 구별하는데 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않고, 제1 요소는 제2 요소라고 할 수 있고, 유사하게, 제2 요소는 제1 요소라고 할 수 있다. 본 명세서에서 사용된 용어 "및/또는"은 연관된 열거 항목들 중 하나 이상의 임의의 조합 및 모든 조합들을 포함한다.
본 명세서에 사용된 전문용어는 단지 특정 실시예들을 설명하기 위한 것이고, 본 발명을 제한하는 것으로 의도된 것은 아니다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 단수 형태들은, 문맥이 명확하게 달리 나타내지 않는 한, 복수 형태들도 포함하는 것으로 의도된다. 용어들 "포함한다", "포함하는"이, 본 명세서에서 사용될 때, 언급된 특징들, 정수들, 단계들, 동작들, 요소들, 및/또는 컴포넌트들의 존재를 명시하지만, 하나 이상의 다른 특징, 정수, 단계, 동작, 요소, 컴포넌트, 및/또는 이들의 그룹의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다는 것이 추가로 이해될 것이다.
달리 정의되지 않는 한, 본 명세서에 사용된 모든 용어들(기술적 및 과학적 용어들을 포함함)은 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술자에 의해 통상적으로 이해되는 바와 동일한 의미를 갖는다. 본 명세서에서 사용되는 용어들은 본 명세서 및 관련 분야와 관련된 그 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백히 그렇게 정의되지 않는 한, 이상적인 또는 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않을 것이라는 것을 추가로 이해할 것이다.
층, 영역, 또는 기판과 같은 요소가 다른 요소 "상"에 있거나 다른 요소 "상으로" 연장된다고 언급될 때, 이 요소는 그 다른 요소 상에 직접 있거나 그 다른 요소 상으로 직접 연장되거나, 또는 개재 요소들이 또한 존재할 수 있다는 것이 이해될 것이다. 반면, 요소가 다른 요소 "상에 직접" 있거나 다른 요소 "상으로 직접" 연장된다고 언급될 때, 개재 요소들은 존재하지 않는다. 또한, 요소가 다른 요소에 "접속"되거나 "결합"된다고 언급될 때, 이 요소는 그 다른 요소에 직접 접속되거나 결합될 수 있거나, 또는 개재 요소들이 존재할 수 있다는 것을 이해할 것이다. 반면, 요소가 다른 요소에 "직접 접속된" 또는 "직접 결합된" 것으로 언급될 때, 개재 요소들은 존재하지 않는다.
본 명세서에서 "아래", "위", "상부", "하부", "수평", "측방" 또는 "수직"과 같은 관계 용어들은 도면들에 도시된 바와 같은 하나의 요소, 층 또는 영역과 다른 요소, 층 또는 영역의 관계를 설명하는데 사용될 수 있다. 이들 용어들은 도면들에 도시한 배향 외에 디바이스의 상이한 배향들을 포함하고자 한다는 것을 이해할 것이다.
본 발명의 실시예들이 본 발명의 이상적인 실시예들(및 중간 구조들)의 개략도들인 단면도들을 참조하여 본 명세서에서 설명된다. 도면들 내의 층들 및 영역들의 두께는 명료화를 위해 과장될 수 있다. 게다가, 예를 들어 제조 기술들 및/또는 허용 오차들의 결과로서의 도면들의 형상들로부터의 변형들이 예상될 것이다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 본 명세서에 도시된 영역들의 특정 형상들에 제한되는 것으로서 해석되어서는 안 되고, 예를 들어 제조로부터 발생하는 형상들에서의 편차들을 포함할 것이다.
유사한 번호들은 전반에 걸쳐 유사한 요소들을 지칭한다. 따라서, 동일하거나 유사한 번호들은 그것이 대응하는 도면에서 언급되지 않고 설명되지 않은 경우에도 다른 도면들을 참조하여 설명될 수 있다. 또한, 참조 번호들로 표시되지 않은 요소들은 다른 도면들을 참조하여 설명될 수 있다.
도면들 및 명세서에서, 본 발명의 전형적인 실시예들에 대해 개시하였으며, 특정 용어들을 사용하였지만, 이러한 용어들은 일반적이고 설명적인 의미로만 사용되었을 뿐이고, 제한하기 위한 목적으로 사용된 것이 아니며, 본 발명은 범위는 이하의 청구항들에 기재되어 있다.
Claims (46)
- 패키징된 트랜지스터 디바이스로서,
상기 패키징된 트랜지스터 디바이스의 베이스 상의 트랜지스터 - 상기 트랜지스터는 제어 단자 및 출력 단자를 포함함 -;
상기 트랜지스터의 제어 단자와 입력 리드(lead) 사이에 전기적으로 결합된 제1 본드 와이어;
상기 트랜지스터의 출력 단자와 출력 리드 사이에 전기적으로 결합된 제2 본드 와이어;
상기 제1 본드 와이어와 상기 제2 본드 와이어 사이에 물리적으로 있는 격리 재료(isolation material) - 상기 격리 재료는 상기 제1 본드 와이어와 상기 제2 본드 와이어 사이의 결합을 감소시키도록 구성됨 -; 및
상기 트랜지스터 상의 플라스틱 오버몰드 - 상기 플라스틱 오버몰드는 상기 플라스틱 오버몰드의 외부 표면으로부터 내측으로 연장되는 리세스를 포함하고, 상기 격리 재료는 상기 리세스 내에 있음 -
를 포함하는, 패키징된 트랜지스터 디바이스. - 제1항에 있어서,
상기 격리 재료는 전도성 격리 재료, 자성 격리 재료, 또는 손실성 유전체 격리 재료인, 패키징된 트랜지스터 디바이스. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 입력 리드 및 상기 출력 리드는 상기 플라스틱 오버몰드로부터 연장되고,
상기 격리 재료의 일부분은 상기 플라스틱 오버몰드와 접촉하는, 패키징된 트랜지스터 디바이스. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 격리 재료는 제3 본드 와이어를 포함하는, 패키징된 트랜지스터 디바이스. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 격리 재료는 상기 트랜지스터의 최상부 표면에 실질적으로 수직인 방향으로 연장되는 복수의 금속 세그먼트를 포함하는, 패키징된 트랜지스터 디바이스. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 격리 재료는 상기 트랜지스터의 최상부 표면에 실질적으로 수직인 방향으로 연장되는 금속 벽을 포함하는, 패키징된 트랜지스터 디바이스. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 격리 재료는 접지 신호에 접속되도록 구성되는, 패키징된 트랜지스터 디바이스. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 입력 리드와 상기 제어 단자 사이에 전기적으로 결합되는 입력 정합 회로를 더 포함하고,
상기 제1 본드 와이어는 상기 입력 정합 회로 내의 유도성 요소인, 패키징된 트랜지스터 디바이스. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 격리 재료는 전기적으로 플로팅되도록 구성되는, 패키징된 트랜지스터 디바이스. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020247005018A KR20240040755A (ko) | 2018-12-04 | 2019-12-02 | 입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들 및 입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들을 형성하는 방법들 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/208,821 | 2018-12-04 | ||
US16/208,821 US10770415B2 (en) | 2018-12-04 | 2018-12-04 | Packaged transistor devices with input-output isolation and methods of forming packaged transistor devices with input-output isolation |
PCT/US2019/063961 WO2020117652A1 (en) | 2018-12-04 | 2019-12-02 | Packaged transistor devices with input-output isolation and methods of forming packaged transistor devices with input-output isolation |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020247005018A Division KR20240040755A (ko) | 2018-12-04 | 2019-12-02 | 입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들 및 입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들을 형성하는 방법들 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210098505A KR20210098505A (ko) | 2021-08-10 |
KR102637745B1 true KR102637745B1 (ko) | 2024-02-23 |
Family
ID=69056136
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020217020450A KR102637745B1 (ko) | 2018-12-04 | 2019-12-02 | 입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들 및 입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들을 형성하는 방법들 |
KR1020247005018A KR20240040755A (ko) | 2018-12-04 | 2019-12-02 | 입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들 및 입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들을 형성하는 방법들 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020247005018A KR20240040755A (ko) | 2018-12-04 | 2019-12-02 | 입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들 및 입력-출력 격리를 갖는 패키징된 트랜지스터 디바이스들을 형성하는 방법들 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10770415B2 (ko) |
EP (1) | EP3891791A1 (ko) |
JP (2) | JP7382405B2 (ko) |
KR (2) | KR102637745B1 (ko) |
CN (1) | CN113272954A (ko) |
WO (1) | WO2020117652A1 (ko) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11621322B2 (en) * | 2020-07-30 | 2023-04-04 | Wolfspeed, Inc. | Die-to-die isolation structures for packaged transistor devices |
FR3117267B1 (fr) * | 2020-12-04 | 2023-03-03 | St Microelectronics Alps Sas | Puce électronique |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003115732A (ja) * | 2001-10-03 | 2003-04-18 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
US20160380606A1 (en) * | 2015-06-29 | 2016-12-29 | Analog Devices Global | Vertical magnetic barrier for integrated electronic module |
WO2018078686A1 (ja) * | 2016-10-24 | 2018-05-03 | 三菱電機株式会社 | 高周波増幅器 |
Family Cites Families (86)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3683241A (en) * | 1971-03-08 | 1972-08-08 | Communications Transistor Corp | Radio frequency transistor package |
US4498093A (en) | 1981-09-14 | 1985-02-05 | At&T Bell Laboratories | High-power III-V semiconductor device |
US4721986A (en) | 1984-02-21 | 1988-01-26 | International Rectifier Corporation | Bidirectional output semiconductor field effect transistor and method for its maufacture |
US4639760A (en) * | 1986-01-21 | 1987-01-27 | Motorola, Inc. | High power RF transistor assembly |
JPH01107141U (ko) * | 1988-01-07 | 1989-07-19 | ||
US5025296A (en) | 1988-02-29 | 1991-06-18 | Motorola, Inc. | Center tapped FET |
EP0606350B1 (en) | 1991-09-30 | 1998-05-13 | Luminis Pty. Limited | Gallium arsenide mesfet imager |
JPH0643970A (ja) | 1992-07-24 | 1994-02-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報記憶媒体とこの情報記憶媒体に使用される情報記憶媒体用機能ブロックとこの情報記憶媒体を使用した情報記憶装置 |
US5825042A (en) | 1993-06-18 | 1998-10-20 | Space Electronics, Inc. | Radiation shielding of plastic integrated circuits |
US5430247A (en) | 1993-08-31 | 1995-07-04 | Motorola, Inc. | Twisted-pair planar conductor line off-set structure |
US5592006A (en) | 1994-05-13 | 1997-01-07 | International Rectifier Corporation | Gate resistor for IGBT |
US5744843A (en) | 1996-08-28 | 1998-04-28 | Texas Instruments Incorporated | CMOS power device and method of construction and layout |
US6023086A (en) | 1997-09-02 | 2000-02-08 | Motorola, Inc. | Semiconductor transistor with stabilizing gate electrode |
US6316793B1 (en) | 1998-06-12 | 2001-11-13 | Cree, Inc. | Nitride based transistors on semi-insulating silicon carbide substrates |
JP2001094094A (ja) | 1999-09-21 | 2001-04-06 | Hitachi Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
US6274896B1 (en) | 2000-01-14 | 2001-08-14 | Lexmark International, Inc. | Drive transistor with fold gate |
SE520109C2 (sv) | 2000-05-17 | 2003-05-27 | Ericsson Telefon Ab L M | Effekttransistorer för radiofrekvenser |
JP4322414B2 (ja) | 2000-09-19 | 2009-09-02 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置 |
JP3542116B2 (ja) | 2000-09-29 | 2004-07-14 | ユーディナデバイス株式会社 | 高周波回路 |
US6548333B2 (en) | 2000-12-01 | 2003-04-15 | Cree, Inc. | Aluminum gallium nitride/gallium nitride high electron mobility transistors having a gate contact on a gallium nitride based cap segment |
JP3712111B2 (ja) | 2001-03-30 | 2005-11-02 | ユーディナデバイス株式会社 | 電力増幅用半導体装置 |
US6849882B2 (en) | 2001-05-11 | 2005-02-01 | Cree Inc. | Group-III nitride based high electron mobility transistor (HEMT) with barrier/spacer layer |
JP2003007727A (ja) | 2001-06-22 | 2003-01-10 | Sanyo Electric Co Ltd | 化合物半導体装置 |
JP2003168736A (ja) | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Hitachi Ltd | 半導体素子及び高周波電力増幅装置並びに無線通信機 |
US7030428B2 (en) | 2001-12-03 | 2006-04-18 | Cree, Inc. | Strain balanced nitride heterojunction transistors |
US6982204B2 (en) | 2002-07-16 | 2006-01-03 | Cree, Inc. | Nitride-based transistors and methods of fabrication thereof using non-etched contact recesses |
JP2005183770A (ja) | 2003-12-22 | 2005-07-07 | Mitsubishi Electric Corp | 高周波用半導体装置 |
US7045404B2 (en) | 2004-01-16 | 2006-05-16 | Cree, Inc. | Nitride-based transistors with a protective layer and a low-damage recess and methods of fabrication thereof |
US7135747B2 (en) | 2004-02-25 | 2006-11-14 | Cree, Inc. | Semiconductor devices having thermal spacers |
GB0416174D0 (en) | 2004-07-20 | 2004-08-18 | Koninkl Philips Electronics Nv | Insulated gate field effect transistors |
US7288803B2 (en) | 2004-10-01 | 2007-10-30 | International Rectifier Corporation | III-nitride power semiconductor device with a current sense electrode |
JP2006156902A (ja) | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Mitsubishi Electric Corp | 高周波用半導体装置 |
JP5011549B2 (ja) | 2004-12-28 | 2012-08-29 | 株式会社村田製作所 | 半導体装置 |
JP2007173731A (ja) | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Mitsumi Electric Co Ltd | 半導体装置 |
US7956421B2 (en) | 2008-03-13 | 2011-06-07 | Tela Innovations, Inc. | Cross-coupled transistor layouts in restricted gate level layout architecture |
US7492235B2 (en) | 2006-10-25 | 2009-02-17 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Transmission line transistor attenuator |
JP5300238B2 (ja) | 2006-12-19 | 2013-09-25 | パナソニック株式会社 | 窒化物半導体装置 |
US20080157222A1 (en) | 2006-12-27 | 2008-07-03 | Mediatek Inc. | Rf integrated circuit device |
US9741673B2 (en) | 2007-06-22 | 2017-08-22 | Cree, Inc. | RF transistor packages with high frequency stabilization features and methods of forming RF transistor packages with high frequency stabilization features |
US8076994B2 (en) | 2007-06-22 | 2011-12-13 | Cree, Inc. | RF power transistor packages with internal harmonic frequency reduction and methods of forming RF power transistor packages with internal harmonic frequency reduction |
US8330265B2 (en) * | 2007-06-22 | 2012-12-11 | Cree, Inc. | RF transistor packages with internal stability network and methods of forming RF transistor packages with internal stability networks |
JP2009016686A (ja) | 2007-07-06 | 2009-01-22 | Toshiba Corp | 高周波用トランジスタ |
US8026596B2 (en) | 2007-08-15 | 2011-09-27 | International Rectifier Corporation | Thermal designs of packaged gallium nitride material devices and methods of packaging |
JP5106041B2 (ja) | 2007-10-26 | 2012-12-26 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
US8178908B2 (en) | 2008-05-07 | 2012-05-15 | International Business Machines Corporation | Electrical contact structure having multiple metal interconnect levels staggering one another |
JP2010147254A (ja) | 2008-12-18 | 2010-07-01 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
US7908799B2 (en) | 2009-01-30 | 2011-03-22 | Anchor Wall Systems, Inc. | Wall blocks, wall block kits, walls resulting therefrom, and methods |
US20120012908A1 (en) | 2009-03-30 | 2012-01-19 | Koji Matsunaga | Semiconductor device |
JP5238633B2 (ja) | 2009-07-27 | 2013-07-17 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
US8212321B2 (en) | 2009-10-30 | 2012-07-03 | Freescale Semiconductor, Inc. | Semiconductor device with feedback control |
WO2011114535A1 (ja) | 2010-03-19 | 2011-09-22 | 富士通株式会社 | 化合物半導体装置及びその製造方法 |
JP2012084743A (ja) | 2010-10-13 | 2012-04-26 | Fujitsu Semiconductor Ltd | 半導体装置及び電源装置 |
JP2012182438A (ja) | 2011-02-08 | 2012-09-20 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP5733616B2 (ja) | 2011-04-21 | 2015-06-10 | 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 | 半導体装置 |
JP2013183061A (ja) | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
US20130313653A1 (en) | 2012-05-25 | 2013-11-28 | Infineon Technologies Austria Ag | MOS Transistor with Multi-finger Gate Electrode |
JP5580365B2 (ja) | 2012-05-29 | 2014-08-27 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 電流制御回路およびこれを用いたpll回路 |
JP5983117B2 (ja) | 2012-07-11 | 2016-08-31 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
WO2014097524A1 (ja) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | パナソニック株式会社 | 半導体装置 |
US9419667B2 (en) * | 2013-04-16 | 2016-08-16 | Skyworks Solutions, Inc. | Apparatus and methods related to conformal coating implemented with surface mount devices |
US10236236B2 (en) | 2013-09-10 | 2019-03-19 | Delta Electronics, Inc. | Heterojunction semiconductor device for reducing parasitic capacitance |
TWI577022B (zh) | 2014-02-27 | 2017-04-01 | 台達電子工業股份有限公司 | 半導體裝置與應用其之半導體裝置封裝體 |
US10833185B2 (en) | 2013-09-10 | 2020-11-10 | Delta Electronics, Inc. | Heterojunction semiconductor device having source and drain pads with improved current crowding |
US9741653B2 (en) | 2013-09-18 | 2017-08-22 | Skyworks Solutions, Inc. | Devices and methods related to radio-frequency switches having reduced-resistance metal layout |
JP5505915B1 (ja) * | 2013-10-30 | 2014-05-28 | 太陽誘電株式会社 | 通信モジュール |
JP6219140B2 (ja) | 2013-11-22 | 2017-10-25 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US9673164B2 (en) | 2014-04-25 | 2017-06-06 | Nxp Usa, Inc. | Semiconductor package and system with an isolation structure to reduce electromagnetic coupling |
US9641163B2 (en) | 2014-05-28 | 2017-05-02 | Cree, Inc. | Bandwidth limiting methods for GaN power transistors |
JP6600491B2 (ja) | 2014-07-31 | 2019-10-30 | エイブリック株式会社 | Esd素子を有する半導体装置 |
US9564861B2 (en) * | 2014-10-31 | 2017-02-07 | Nxp Usa, Inc. | Broadband radio frequency power amplifiers, and methods of manufacture thereof |
US20160240448A1 (en) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | Ampleon Netherlands B.V. | RF Package |
WO2016181954A1 (ja) * | 2015-05-11 | 2016-11-17 | 株式会社村田製作所 | 高周波モジュール |
US9607953B1 (en) * | 2016-02-24 | 2017-03-28 | Nxp Usa, Inc. | Semiconductor package with isolation wall |
US9653410B1 (en) | 2016-03-15 | 2017-05-16 | Nxp Usa, Inc. | Transistor with shield structure, packaged device, and method of manufacture |
US9786660B1 (en) | 2016-03-17 | 2017-10-10 | Cree, Inc. | Transistor with bypassed gate structure field |
JP6724546B2 (ja) * | 2016-05-24 | 2020-07-15 | Tdk株式会社 | 電子部品パッケージ |
US10249725B2 (en) | 2016-08-15 | 2019-04-02 | Delta Electronics, Inc. | Transistor with a gate metal layer having varying width |
US9979360B1 (en) * | 2016-12-20 | 2018-05-22 | Nxp Usa, Inc. | Multi baseband termination components for RF power amplifier with enhanced video bandwidth |
US9979361B1 (en) * | 2016-12-27 | 2018-05-22 | Nxp Usa, Inc. | Input circuits for RF amplifier devices, and methods of manufacture thereof |
US10103258B2 (en) | 2016-12-29 | 2018-10-16 | Texas Instruments Incorporated | Laterally diffused metal oxide semiconductor with gate poly contact within source window |
US10515924B2 (en) | 2017-03-10 | 2019-12-24 | Skyworks Solutions, Inc. | Radio frequency modules |
US10270402B1 (en) * | 2017-11-30 | 2019-04-23 | Nxp Usa, Inc. | Broadband input matching and video bandwidth circuits for power amplifiers |
US10763334B2 (en) | 2018-07-11 | 2020-09-01 | Cree, Inc. | Drain and/or gate interconnect and finger structure |
US10483352B1 (en) | 2018-07-11 | 2019-11-19 | Cree, Inc. | High power transistor with interior-fed gate fingers |
US10600746B2 (en) | 2018-07-19 | 2020-03-24 | Cree, Inc. | Radio frequency transistor amplifiers and other multi-cell transistors having gaps and/or isolation structures between groups of unit cell transistors |
US10593619B1 (en) | 2018-08-28 | 2020-03-17 | Nsp Usa, Inc. | Transistor shield structure, packaged device, and method of manufacture |
-
2018
- 2018-12-04 US US16/208,821 patent/US10770415B2/en active Active
-
2019
- 2019-12-02 KR KR1020217020450A patent/KR102637745B1/ko active IP Right Grant
- 2019-12-02 KR KR1020247005018A patent/KR20240040755A/ko active Application Filing
- 2019-12-02 WO PCT/US2019/063961 patent/WO2020117652A1/en unknown
- 2019-12-02 JP JP2021531735A patent/JP7382405B2/ja active Active
- 2019-12-02 EP EP19828937.3A patent/EP3891791A1/en active Pending
- 2019-12-02 CN CN201980088036.0A patent/CN113272954A/zh active Pending
-
2020
- 2020-09-02 US US17/010,479 patent/US11417617B2/en active Active
-
2023
- 2023-11-06 JP JP2023189071A patent/JP2024016171A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003115732A (ja) * | 2001-10-03 | 2003-04-18 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
US20160380606A1 (en) * | 2015-06-29 | 2016-12-29 | Analog Devices Global | Vertical magnetic barrier for integrated electronic module |
WO2018078686A1 (ja) * | 2016-10-24 | 2018-05-03 | 三菱電機株式会社 | 高周波増幅器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11417617B2 (en) | 2022-08-16 |
US20200402933A1 (en) | 2020-12-24 |
EP3891791A1 (en) | 2021-10-13 |
US20200176402A1 (en) | 2020-06-04 |
CN113272954A (zh) | 2021-08-17 |
WO2020117652A1 (en) | 2020-06-11 |
US10770415B2 (en) | 2020-09-08 |
KR20240040755A (ko) | 2024-03-28 |
JP7382405B2 (ja) | 2023-11-16 |
KR20210098505A (ko) | 2021-08-10 |
JP2022510411A (ja) | 2022-01-26 |
JP2024016171A (ja) | 2024-02-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2024016171A (ja) | 入力と出力が分離された、パッケージングされたトランジスタ・デバイス、及び入力と出力が分離された、パッケージングされたトランジスタ・デバイスを形成する方法 | |
CN103117254B (zh) | 封装 | |
CN108233881B (zh) | 放大器电路和经封装的放大器电路 | |
CN107644852B (zh) | 用于rf功率放大器封装件的集成无源器件 | |
KR102632903B1 (ko) | 트랜지스터 레벨 입력 및 출력 고조파 종단들 | |
KR20210030963A (ko) | 격리 구조체들을 갖는 라디오 주파수 트랜지스터 증폭기들 및 다른 멀티-셀 트랜지스터들 | |
KR20200091867A (ko) | 결합된 기저대역, 기본 및 고조파 튜닝 네트워크를 갖는 rf 전력 증폭기 | |
EP2722880B1 (en) | Packaged RF amplifier circuit | |
CN110034736B (zh) | 封装式射频功率放大器 | |
US11356070B2 (en) | RF amplifiers having shielded transmission line structures | |
EP3185295A1 (en) | Semiconductor package structure based on cascade circuits | |
EP2933835A1 (en) | RF power transistor | |
US6982479B2 (en) | Semiconductor package with leadframe inductors | |
US10707818B1 (en) | RF amplifier with impedance matching components monolithically integrated in transistor die | |
EP4009366A1 (en) | Capacitor networks for harmonic control in power devices | |
US11677362B2 (en) | Radio frequency transistor amplifiers having multi-layer encapsulations that include functional electrical circuits | |
US20240194584A1 (en) | Capacitor networks for harmonic control in power devices | |
JP4164013B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2021125713A (ja) | 高周波半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right |