KR102003139B1

KR102003139B1 - 체 클리너, 체 유닛 및 방법

Info

Publication number: KR102003139B1
Application number: KR1020177013969A
Authority: KR
Inventors: 시몬 퀸즐레; 니콜라스 에게르
Original assignee: 뷔흘러 에이지
Priority date: 2014-10-24
Filing date: 2015-10-22
Publication date: 2019-07-23
Also published as: US10335831B2; EP3209434B1; JP2017535414A; BR112017007915A2; CN106999986A; PL3209434T3; BR112017007915B1; US20170333950A1; EP3209434A1; KR20170076740A; CN106999986B; WO2016062826A1; ES2906574T3; RU2687727C2; RU2017117650A3; JP6622304B2; RU2017117650A

Abstract

본 발명은 체가름 표면(2) 및 체 바닥(4)을 포함한 체가름 박스(3)의 체가름 표면(2)을 클리닝하는 체 클리너(sieve cleaner)(1)에 관한 것이다. 그 체 클리너(2)는, 체 클리너(1)의 메인 축선(A)을 따라 연장하는 흔들림용 발(5)로서, 체 바닥(4) 상에 놓일 수 있고 체 클리너(1)가 흔들림용 발(5)을 중심으로 기울어질 수 있도록 하는 식으로 구성된 흔들림용 발(5); 및 체가름 표면(2)을 클리닝하는 복수의 클리닝 표면(8)을 각각 구비한 클리닝 영역(7)을 갖는 적어도 하나의 클리닝 요소(6)를 포함한다. 그 클리닝 표면(8)들은 각각 체가름 표면(2)과 적어도 선 접촉하고 클리닝 영역(7)에 형성된 슬롯(9)에 의해 서로 분리되도록 구성된다. 본 발명은 또한 체 유닛 및 체가름 박스(3)를 업그레이드 및 수정하는 방법에 관한 것이다.

Description

체 클리너, 체 유닛 및 방법{SIEVE CLEANERS, SIEVE UNIT, AND METHODS}

본 발명은, 체가름 표면과 체 바닥을 포함하는 체가름 박스(sieve box)의 체가름 표면을 클리닝하는 체 클리너에 관한 것이다. 특히, 이러한 종류의 체 클리너는 플랜 시프트(plan sifter)의 체가름 박스의 체가름 표면을 클리닝하도록 구성될 수 있다. 게다가, 본 발명은 체 유닛 및 체가름 박스를 업그레이드 또는 수정하는 방법에 관한 것이다.

체가름 박스의 체 바닥 상에 놓일 수 있고 체가름 박스의 체가름 표면을 클리닝할 수 있는 가동 체 클리너는 그 자체로 공지되어 있다. 이러한 종류의 체는 적층 가능한 것으로서, 플랜 시프터에 체 스택으로서 배치되어, 예를 들면 알갱이(granular) 내지 가루(floury) 제품들을 상이한 분획(fraction) 또는 품질로 분리 또는 선별(sifting)할 수 있다. 이 경우, 체 클리너는 플랜 시프터 및 체가름 박스의 진동 운동을 흡수하며, 그 결과 체 바닥 상에서 랜덤하게 돌아다니게 되며, 그 클리너들은 반복적으로 체 프레임에 부딪혀 튕겨지게 된다.

일반적인 체 클리너는 예를 들면 EP 0 694 341 B1로부터 공지되어 있다. 이들 체 클리너는 체 클리너의 중립 축선을 따라 연장하는 흔들림용 발(wobble foot)을 포함하며, 그 흔들림용 발은 체 바닥 상에 놓일 수 있고 체 클리너가 그 흔들림용 발을 중심으로 기울어질 수 있도록 하는 식으로 구성된다. 이러한 운동은 관성, 흔들림용 발과 체 바닥 간의 미끄럼 마찰, 및 체 클리너의 비대칭적 구조에 영향을 받는다. 실제 클리닝 작용은 체 클리너의 흔들림 운동으로 인해 체가름 표면을 타격하거나 및/또는 그 체가름 표면을 따라 미끄러지는 라운드진 매듭(burl) 또는 브러시에 의해 달성된다. 이 경우, 브러시는 85 내지 250㎛ 범위의 메시 폭을 갖는 보다 미세한 체가름 표면에 이용되는 경향이 있는 한편, 매듭은 예를 들면 250㎛ 이상의 메시 폭을 갖는 성긴 체가름 표면에 대해 이용되는 경향이 있다. 체가름 표면을 타격하는 매듭 또는 브러시에 의해 클리닝이 수행되는 유사한 체 클리너가, DE 10 2006 005 970 A1; US 6,095,339 A; DE 36 40 569 A1; DE 24 11 455 A1;, DE 29 52 215 A1; DE 79 36 430 U1; DE 90 15 461 U1; DE 86 31 814 U1; EP 0 536 803 B1; EP 2 465 616 A1; WO 99/28053 A1; DE 1 507 747 A1; DE 873 345 C; US 2,086,199; 및 DE 164924에도 개시되어 있다.

하지만, 당업계에 공지된 그러한 체 클리너는 모두 특정한 단점을 갖고 있다. 브러시의 강모(bristle)는 기계적 스트레스로 인해 시간이 지남에 따라 빠질 수 있고, 그 중 몇몇은 위생적 견지에서, 특히 곡물 또는 제분 곡물(milled grain) 제품 등의 식품을 선별하는 플랜 시프터에 이용되는 경우에 허용될 수 없다. 매듭을 갖는 체 클리너는 체가름 표면에 붙은 제품의 층을 제거하기보다는 더욱 더 문지르는 경향이 있는 것으로 확인되었다. 게다가, 공지의 체 클리너 대부분은 체가름 표면을 단지 부적절한 정도로만 클리닝할 수 있기 때문에 특히 효율적이지는 않은 것으로 드러났다.

보다 콤팩트한 체 클리너도 US 1,925,447 및 WO 2010/045284 A1에 개시되어 있다. 이들 체 클리너는 볼, 실린더 및 다면체 등의 단순한 기학적 형상으로 이루어진다. 하지만, 적어도 유사한 체 클리너들에 대한 테스트에서는 그 클리너들이 체가름 표면에서의 폐색을 야기하는 경향이 있는 것으로 드러났다.

이러한 종래 기술의 단점들을 고려하여, 본 발명에 의해 해결되는 과제는, 개선되고 및/또는 대안적인 체 클리너를 제공하는 것이다. 특히, 체 클리너는, 체 클리너 또는 체 프레임을 손상시키는 일 없이 가능한 한 효율적으로 체가름 표면을 클리닝할 수 있어야 하고, 식품 가공의 측면에서 위생 요건도 충족해야 한다.

비용이 많이 드는 테스트 시리즈의 일부로서, 복수의 매우 상이한 형태의 가능한 체 클리너들을 상기한 요건을 충족하는 지를 확인하기 위해 테스트되었다. 예를 들면, 매듭 또는 브러시 대신에 규소수지 피륙을 갖거나 알루미늄 핀(pin)을 갖는 체 클리너를 이용하였으며, 편심 초점을 생성하였으며, 탄성 특성을 변화시켰으며, 그리고 치수 및 그 비의 영향을 평가하는 등을 행하였다. 이들 테스트 시리즈에서 드러난 바와 같이, 아래에서 설명하고 청구하는 체 클리너는 특히 유익한 것으로 입증되었다.

따라서, 상기한 과제는 본 발명의 제1 양태에서의 체 클리너에 의해 해결된다. 이 체 클리너는 체가름 표면 및 체 바닥을 포함하는 체가름 박스의 체가름 표면을 클리닝하도록 구성된다. 체가름 표면은 예를 들면 체 직물(sieve fabric)일 수 있다. 체 클리너는 예를 들면 플랜 시프터의 체가름 박스의 체 직물 등의 체가름 표면을 클리닝하도록 구성될 수 있다. 그 체 클리너는, 체 클리너의 메인 축선을 따라 연장하는 흔들림용 발을 포함하며, 이 흔들림용 발은 체 바닥 상에 놓일 수 있고 체 클리너가 그 흔들림용 발을 중심으로 기울어질 수 있도록 하는 식으로 구성된다. 상기한 메인 축선은 예를 들면 체 클리너의 중립 축선일 수 있다. 게다가, 체 클리너는 클리닝 영역을 갖는 적어도 하나의 클리닝 요소를 포함하며, 해당 클리닝 영역은 체가름 표면을 클리닝하기 위한 복수의 클리닝 표면을 구비한다.

본 발명에 따르면, 클리닝 표면들은 각각 체가름 표면과 적어도 선 접촉하고 클리닝 영역에 형성된 슬롯에 의해 서로 분리되도록 구성된다.

상기한 경우는 물론 이하의 경우에 있어서의 선 접촉은 종래기술로부터 공지된 라운드진 매듭 또는 강모의 단부와 편평한 체가름 표면 간에 존재하는 점 형태의 소위 영차원(zero-dimension)의 접촉과 달리, 일차원을 의미하는 것으로 받아들여져야 할 것이다. 이 경우, "적어도 선"이란 표현은 이차원의 면 접촉도 포함한다.

적어도 선 접촉은 클리닝 표면이 체 클리너의 메인 축선을 중심으로 한 회전 중에 체가름 표면의 평면, 다시 말해 이차원 영역을 쓸도록(sweeping) 한다. 이러한 식으로, 클리닝의 상당 부분이 체가름 표면을 통과한 미세한 물질을 체가름 표면으로부터 와이핑(wiping)함으로써 달성된다. 따라서, 종래기술로부터 공지된 매듭에 의해 주로 야기되는 것과 같은 태핑(tapping: 두들김)은 다소 무시될 수도 있다. 결과적으로, 그러한 태핑과 동반하는 체가름 표면에 대한 손상도 감소된다. 이 경우, 클리닝 표면들 사이에 형성된 슬롯은 미세한 물질의 일부가 슬롯을 통과할 수 있게 하는 것을 보장한다. 이에 의해, 클리닝 영역에서의 미세한 물질은 체가름 표면 내로 단순히 와이핑되는 것이 방지되거나, 그 체가름 표면이 축적되는 미세한 물질로 인해 체 클리너로부터 멀어지게 밀리는 것이 방지된다. 따라서, 본 발명에 따른 체 클리너는 대체로 체가름 표면을 종래기술의 형태에 비해 적어도 양호하게 혹은 훨씬 더 효과적으로 클리닝할 수 있다는 이점을 갖는다. 이러한 이점은 또한 종래기술에서 강모를 갖는 체 클리너가 이용되는 비교적 작은 메시 폭을 갖는 체가름 표면에, 특히 체 직물에 적용되며, 따라서, 특히 250㎛ 미만, 바람직하게는 180㎛ 미만, 보다 바람직하게는 150㎛ 미만, 훨씬 더 바람직하게는 125㎛ 미만, 특히 바람직하게는 90㎛ 미만의 메시 폭을 갖는 체가름 표면에 대해 적용될 수 있다.

흔들림용 발은 라운드질 수 있으며, 그 결과 기울어짐이 더 간단해지며 체 클리너의 운동의 자유도가 증가될 수 있다. 클리닝 영역은 바람직하게는 브러시가 없다. 그 결과, 강모가 뽑힐 수 없기 때문에, 그 체 클리너는 위생 요건을 충족할 수 있다.

바람직하게는 슬롯은 메인 축선에 대한 반경방향에 대해 0° 내지 90°의 범위, 바람직하게는 30° 내지 60°의 범위, 특히 바람직하게는 40° 내지 50°의 범위, 매우 특히 바람직하게는 45°의 각도를 형성하는 슬롯 방향으로 연장한다. 이러한 종류의 각도는 상이한 이동 방향에 대해 특히 유용한 와이핑 에지가 보다 많도록 보장한다.

메인 축선을 중심으로 회전 시에, 클리닝 표면들은 각각의 경우에 가상 클리닝 라인을 메인 축선에 대한 반경방향으로 쓸게 된다. 2개의 서로 인접한 클리닝 라인들 간의 반경방향 간격과 클리닝 라인의 반경 방향 길이 간의 비는 바람직하게는 50% 내지 100%의 범위, 특히 바람직하게는 90% 내지 95%의 범위 내에 있다.

대안적으로, 개별 클리닝 표면의 클리닝 라인들이 직접 서로 연결되거나 심지어는 서로 겹치는 것도 본 발명의 프레임워크 내에서 생각할 수 있고 그에 포함된다.

클리닝 요소, 특히 아래에서 더 설명할 바람직한 클리닝 아암은 메인 축선에 대해 평행한 높이를 가질 수 있고, 슬롯은 메인 축선에 대해 평행한 깊이를 가질 수 있다. 슬롯의 깊이와 클리닝 요소, 특히 클리닝 아암의 높이 간의 비는 바람직하게는 0%보다는 크고 20% 이하이고, 그 비는 대략 10%인 것이 바람직하다. 그 비가 클수록, 체 클리너와 체가름 표면 간의 미끄럼 마찰이 작고 클리닝 요소의 주어진 높이에서의 미세한 물질의 축적이 작으며, 또한 체 클리너가 고장날 우려도 작아진다. 반면, 그 비가 과도하게 크다면, 슬롯 내에 축적되는 미세한 물질의 양이 고도하게 많아진다.

하나의 클리닝 요소의 슬롯들은 서로 평행하게 연장한다.

체 클리너는 특히 유리하게는 메인 축선을 포함한 중앙 영역을 구비하며, 이 중앙 영역을 흔들림용 발과는 반대측에 상측부를 구비하며, 이 상측부는 체가름 표면과 접촉할 수 없도록, 특히 실질적으로 평면형의 체가름 표면과 접촉할 수 없도록 클리닝 표면에 대해 오목하게 되어 있다. 따라서, 특히 상기한 상측부는 체가름 표면을 클리닝하기 위한 클리닝 표면을 형성하지 않는다. 중앙 영역의 상측부에 존재하고 클리닝 요소의 클리닝 표면에 대해 오목하지 않은 클리닝 표면은 체 클리너가 기울어지지 않은 상태에서도 클리닝 표면이 체가름 표면과 접촉하게 할 것이다. 이는 체 클리너가 느려지거나 체 바닥과 체가름 표면 사이에 끼이게(jamming) 할 것이다.

체 클리너는 바람직하게는 적어도 3개의 클리닝 요소, 특히 아래에서 상세하게 설명하는 바와 같이 적어도 3개의 클리닝 아암을 포함한다. 이러한 실시예에서, 적어도 3개의 클리닝 아암 각각에는 클리닝 영역이 마련되며, 각 클리닝 영역은 체가름 표면을 클리닝하는 복수의 클리닝 표면을 구비한다. 클리닝 표면들은, 체가름 박스가 작동하지 않고(이에 따라, 체가름을 지원하는 체가름 박스의 움직임이 없고) 체가름 표면이 팽팽하게 잡아 늘려진 경우, 모든 클리닝 요소의 클리닝 표면들이 아니라 적어도 2개의 클리닝 요소의 클리닝 표면들이 동시에 체가름 표면과 접촉하고 있거나 접촉할 수 있으며, 이 경우, 그 클리닝 요소들의 실질적으로 모든 클리닝 표면이 체가름 표면과 접촉하고 있거나 접촉할 수 있다.

다시 말해, 모든 클리닝 요소들이 동시에 체가름 표면과 접촉하는 것은 불가능하다. 그 대신에, 체 클리너의 흔들림 운동은 상이한 클리닝 요소들의 클리닝 표면들이 반복적으로 체가름 표면과 접촉하게 됨을 의미한다. 각 경우에 체가름 표면과 접촉하지 않는 클리닝 요소의 슬롯은 각각 비워질 수 있다. 예를 들면, 체 클리너가 정확히 3개의 클리닝 요소를 포함한다면, 체가름 박스가 정지 상태에 있고 체가름 표면이 팽팽하게 잡아 늘려진 경우에 정확히 2개의 클리닝 요소가 동시에 체가름 표면과 접촉하게 된다.

2개의 이상의 클리닝 요소의 클리닝 표면들이 동시에 체가름 표면과 접촉하는 경우, 그 클리닝 요소들의 실질적으로 모든 클리닝 표면들이 체가름 표면과 접촉한다. 이 경우, "실질적으로 모든"은 상기한 두 클리닝 요소의 클리닝 표면들 중 적어도 50%, 바람직하게는 적어도 70%, 더 바람직하게는 적어도 90%, 특히 바람직하게는 전부가 체가름 표면과 접촉함을 의미한다. 따라서, 이 실시예에서, 예를 들면 단지 2개의 클리닝 요소가 체가름 표면과 접촉하는 단일 클리닝 표면을 갖게 하는 것은 불가능하다. 이러한 식으로, 체가름 표면과의 접촉 및 이에 따른 클리닝 효과가 증가된다.

체 클리너는 유리하게는 충분한 탄성을 갖는 재료로 제조된다. 이를 위해, 체 클리너를 예를 들면 BASF로부터 입수 가능한 Elastollan® 등의 비교적 연질의 폴리우레탄으로 제조하는 것이 유리한 것으로 입증되었다. Elastollan®은 또한 곡물 또는 제분 곡물 제품 등의 식품의 처리에 허용된다. 탄성 재료는 무엇보다도 체가름 박스의 체 프레임이 체 클리너의 거친 움직임(jolting)으로 인해 덜 손상된다는 이점이 있다. 본 발명에 따른 체 클리너는 예를 들면 사출 성형에 의해 제조될 수 있다.

마찬가지로, 체 클리너는 유리하게는 홀수개의 클리닝 요소, 특히 클리닝 아암을 갖는다. 이 경우, 그 개수는 바람직하게는 3개이고, 특히 바람직하게는 정확히 3개이다. 마찬가지로 바람직하게는, 클리닝 요소들은 둘레방향으로 균일하게 분포된다. 이러한 구조는 특히 단순한 한편, 클리닝 요소들, 특히 클리닝 아암들 사이에 형성된 자유 공간과 클리닝 작용 간에 유리한 절충에 도달할 수 있게 한다.

마찬가지로, 클리닝 요소들은 메인 축선을 포함하는 중앙 영역으로부터 반경방향 외측으로 연장하는 클리닝 아암으로서 구성하는 것이 특히 유리하다. 이는 또한 상기한 유리한 절충에도 기여한다.

마찬가지로, 클리닝 표면들이 클리닝 아암을 따라 단일 열(row)로 배치되는 것이 바람직하다. 이러한 식으로, 체 클리너와 체가름 표면 간의 충분히 낮은 미끄럼 마찰이 달성되어, 슬롯이 미세한 물질로 막히는 것을 방지하고 또한 체 클리너가 작동하지 않게 되는 것을 방지한다.

클리닝 아암은 5 내지 15㎝, 바람직하게는 6.5 내지 7.5㎝ 범위 내에 포함되는 길이를 가질 수 있다. 게다가, 클리닝 영역은 바람직하게는 소정 반경방향 길이를 가지며, 클리닝 아암의 길이에 대한 그 반경방향 길이의 비는 50 내지 100%의 범위 내에, 바람직하게는 대략 85%이다.

클리닝 요소, 특히 클리닝 아암의 외측 단부에는 충돌 보호구가 배치될 수 있다. 이에 의해, 체 프레임과 접촉으로 인한 클리닝 표면의 마모의 우려가 감소될 수 있다. 충돌 보호구는 예를 들면 메인 축선에 직교하게 연장하는 평면 내에서 클리닝 요소의 보강부의 형상을 취할 수 있다.

클리닝 요소의 도움으로 체가름 표면으로부터 제거된 미세한 물질을 체가름 박스로부터 제거하기 위해, 체 클리너는 체가름 박스의 체 프레임에 형성된 소제 개구(cleaning opening)를 통해 체 바닥에 있는 미세한 물질을 제거하는 적어도 하나의 클리어러(clearer)를 구비할 수 있다. 유리하게는, 그러한 종류의 소제 개구가 클리닝 아암의 단부에 배치된다.

체 클리너는 바람직하게는 일체형 구조를 갖는다. 이는 그 제조를 보다 용이하게 하는 한편, 개별 부품들을 분실할 우려를 감소시킨다.

본 발명의 다른 양태는 체 유닛에 관한 것이다. 이 체 유닛은 체 바닥과 체가름 표면, 특히 체 직물을 갖는 적어도 하나의 체가름 박스와, 체 바닥 상에 놓일 수 있거나 놓여 있는 적어도 하나의 체 클리너를 포함한다.

본 발명에 따른 체 유닛의 체 클리너는 클리닝 영역을 각각 구비하는 적어도 3개의 클리닝 요소, 특히 3개의 클리닝 아암을 구비하며, 각각의 클리닝 영역은 체가름 표면을 클리닝하는 복수의 클리닝 표면을 구비한다. 이 경우, 클리닝 표면들은, 체가름 박스가 정지 상태에 있고(이에 따라, 특히 체가름을 지원하는 체가름 박스의 움직임이 없고) 체가름 표면이 팽팽하게 잡아 늘려진 경우에, 모든 클리닝 요소의 클리닝 표면이 아니라 적어도 2개의 클리닝 요소의 클리닝 표면들이 동시에 체가름 표면과 접촉하며, 그 클리닝 요소들의 실질적으로 모든 클리닝 표면들이 체가름 표면과 접촉해 있거나 접촉할 수 있도록 하는 식으로 배치 및 구성된다.

이러한 이점 및 기타 이점은, 체 클리너와 체가름 박스가, 체가름 박스가 정지 상태에 있고(이에 따라, 특히 체가름을 지원하는 체가름 박스의 움직임이 없고) 체가름 표면이 정확하게 클램핑되어 있고 흔들림용 발이 체 바닥 상에 놓여 있는 경우, 모든 클리닝 요소의 클리닝 표면들이 체가름 표면으로부터 5㎜ 미만, 바람직하게는 3㎜ 미만, 특히 바람직하게는 1.4㎜ 미만의 간격을 갖도록 구성되고 서로에 대해 조절된다는 점에서 달성된다. 이와 같이 체가름 표면으로부터의 최대 간격이 작음으로 인해, 체 클리너가 흔들림용 발을 중심으로 기울어질 때에 체가름 표면에 대해 직교하는 속도 성분, 특히 클리닝 표면이 체가름 표면과 부닥칠 때의 수직 속도 성분이 제한된다.

앞서 이미 설명한 바와 같이, 체가름 표면의 효율적 클리닝은 또한, 체가름 표면, 특히 체 직물의 메시 폭이 250㎛ 미만, 바람직하게는 180㎛ 미만, 보다 바람직하게는 150㎛ 미만, 훨씬 더 바람직하게는 125㎛ 미만, 특히 바람직하게는 90㎛ 미만인 경우에 가능하다.

마지막으로, 본 발명의 다른 양태는 체가름 박스를 업그레이드 또는 수정하는 방법에 관한 것이다. 이 방법에서, 본 발명에 따른 체 클리너가, 전술한 형태의 체 유닛이 형성되도록 하는 식으로 체가름 박스의 체 바닥 상에 배치된다.

본 발명을 복수의 바람직한 실시예 및 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 제1 체 클리너를 사시도로 도시하며,
도 2는 본 발명에 따른 제2 체 클리너를 사시도로 도시하며,
도 3은 본 발명에 따른 제3 체 클리너를 사시도로 도시하며,
도 4는 도 2 및 도 3에 따른 체 클리너의 클리닝 표면에 의해 쓸리는 클리닝 라인 나타내는 도면을 도시하며,
도 5는 본 발명에 따른 제4 체 클리너를 사시도로 도시하며,
도 6은 본 발명에 따른 제4 체 클리너를 제1 측면도로 도시하며,
도 7은 본 발명에 따른 제4 체 클리너를 제2 측면도로 도시하며,
도 8은 본 발명에 따른 제4 체 클리너를 평면도로 도시하며,
도 9는 도 8에서 라인 A-A를 따라 취한 본 발명에 따른 제4 체 클리너의 단면도를 도시하며,
도 10은 체가름 박스 내에 수용된 본 발명에 따른 제4 체 클리너의 측면도를 도시한다.

도 1에 도시한 제1 실시예의 체 클리너(1')는 그 도면에서는 확인할 수 없는 흔들림용 발을 포함한다. 이 흔들림용 발은 체 클리너(1')의 메인 축선(A')을 따라 연장하며, 그 메인 축선은 또한 동시에 그 중립 축선들 중 하나를 형성한다. 그 흔들림용 발은 도 5 내지 도 9의 본 발명에 따른 제4 바람직한 실시예에서의 흔들림용 발(5)과 같이 구성된다.

체 클리너(1')의 중앙 영역(10')으로부터, 클리닝 아암(6')으로서 구성된 3개의 클리닝 요소가 연장하며, 그 클리닝 아암들은 중립 축선(A')를 중심으로 둘레방향으로 균일하게 분포된다. 각각의 클리닝 아암(6')은 각각의 경우에 클리닝 영역(7')을 포함한다. 각 클리닝 영역(7')은, 중립 축선(A')에 대해 직교하게 연장하고 도 1에는 도시하지 않은 체가름 표면(이를 위해서는 체가름 박스 및 그 내에 배치된 본 발명에 따른 체 클리너를 도시하는 도 10을 참조)과 면 접촉하도록 각각 구성된 복수의 직사각형 클리닝 표면(8')을 포함한다. 이들 클리닝 표면(8')은 해당 클리닝 영역(7')에 형성된 슬롯(9')에 이해 서로 분리되어 있다. 도 1에 도시한 제1 바람직한 실시예에서, 슬롯(9')은 중립 축선(A')에 대한 반경방향(R')에 대해 90°의 각도 (α')의 슬롯 방향(S')으로 연장한다. 다시 말해, 슬롯(9')은 클리닝 아암(6')의 길이방향에 대해 직교하게 연장한다.

또한, 2개의 클리닝 아암(6')들 사이의 영역에 각각, 다시 말해 체 클리너(1')의 중앙 영역(10')에 클리닝 영역(18')이 또한 존재한다. 게다가, 중앙 영역(10')은 미세한 물질이 통과할 수 있게 된 3개의 개구(19')를 포함한다. 체가름 박스가 정지 상태에 있고 체가름 표면이 팽팽하게 잡아 늘려진 경우, 정확히 2개의 클리닝 아암(6')의 클리닝 표면(8')들이 체가름 표면과 항시 동시에 접촉할 수 있으며, 본 예의 경우에 이들 2개의 클리닝 아암(6')의 실질적으로 모든 클리닝 표면(8')이 체가름 표면과 접촉할 수 있다.

도 2에 도시한 본 발명에 따른 제2 체 클리너(1'')는 중앙 영역(10'')에 클리닝 영역(18')이나 개구(19')가 없다는 점에서 도 1에 도시한 것과는 상이하다. 중앙 영역(10'')에 클리닝 영역(18')이 존재하지 않음으로 인해, 체 클리너(1'')의 기울어진 상태에서만 체 클리너(1'')와 체가름 표면 간의 접촉이 존재한다. 이는 체 클리너가 조금이라도 기울어질 수 있기 전에 체 바닥과 체가름 표면 사이에서 체 클리너(1'')의 멈춤(braking) 또는 심지어는 끼임(jamming)이 방지될 수 있음을 의미한다.

도 3은 마찬가지로 둘레방향으로 균일하게 분포된 3개의 클리닝 아암(6''')을 포함한 본 발명에 따른 제3 체 클리너(1''')를 도시한다. 그 체 클리너(1''')는 또한 하단부에서 라운드진 흔들림용 발(5''')을 구비하며, 그 결과 체 클리너(1''')의 기울어짐이 보다 용이하게 이루어진다.

도 1 및 도 2에 도시한 바람직한 실시예와는 달리, 클리닝 표면(8''')들 사이에 형성된 슬롯(9''')은 중립 축선(A''')에 대한 반경방향(R''')에 대해 45°의 각도(α''')로 생성된 슬롯 방향(S''')으로 연장한다. 이러한 각도는, 체 클리너(1''')와 체가름 표면 사이의 선형적 지지와 미끄럼 마찰 간의 특히 유리한 절충을 제공한다. 게다가, 클리닝 아암(6''')의 단부에는 메인 축선(A''')에 대해 직교하게 연장하는 평면 내에 보강부(11''')가 마련되며, 이 보강부는 충돌 보호구로로서 기능하여, 체 클리너(1''')가 체 프레임과 부딪힐 때 클리닝 영역에 대한 손상의 우려를 감소시킨다.

이에 대해서는 도 4를 참조하여 보다 상세하게 설명한다. 도 4는 좌측에서는 도 2에 따른 체 클리너(1'')의 클리닝 아암(6'')의 세부 구성을, 우측에서는 도 3에 따른 체 클리너(1''')의 클리닝 아암(6''')의 세부 구성을 평면도로 도시한다. 둘레방향(U)으로 이동 중에, 클리닝 표면(8'' 또는 8''')은 각각 가상 클리닝 라인(L'' 또는 L''')을 쓸게 된다. 우측에 도시한 제3 바람직한 실시예의 경우, 클리닝 표면(8''') 및 슬롯(9''')의 경사진 배치로 인해, 클리닝 라인(L''')의 반경방향 길이와 2개의 인접한 클리닝 라인(L''')의 간격 간의 비가 좌측에 도시한 제2 바람직한 실시예의 경우보다 크다. 따라서, 선형적 지지는 제2 바람직한 실시예에서보다는 제3 바람직한 실시예에서 더 크다. 이러한 이유로, 제3 체 클리너(1''')은 제1 체 클리너(1'')보다 효율적 클리닝을 생성한다.

도 5 내지 도 9에서는 제4 바람직한 실시예의 바람직한 체 클리너(1)를 도시한다. 이 체 클리너(1)는 예를 들면 앞서 이미 언급한 Elastollan®으로 사출 성형함으로써 일체형으로 제조될 수 있다. 체 클리너(1)는 또한 체 클리너(1)의 메인 축선을 형성하는 중립 축선(A)을 따라 연장하는 흔들림용 발(5)을 구비한다. 흔들림용 발(5)은 그 흔들림용 발이 체 바닥 상에 놓일 수 있고 체 클리너(1)가 흔들림용 발(5)을 중심으로 기울어질 수 있도록 하는 식으로 구성된다. 게다가, 흔들림용 발(5)은 그 하단부에서 라운드지며, 그 결과 체 클리너(1)의 기울어짐이 단순화된다. 본 예의 경우에도 3개의 클리닝 아암(6)이 둘레방향으로 중립 축선(A)을 중심으로 균일하게 분포된다. 클리닝 아암(6)의 단부에는 보강부(11)가 역시 본 바람직한 실시예에서 메인 축선(A)에 직교하게 연장하는 평면 내에 마련되며, 그 보강부는 충돌 보호구로서 기능하여, 체 클리너(1)가 체 프레임에 부딪힐 때에 클리닝 영역에 대한 손상의 우려를 감소시킨다.

도 3에 따른 체 클리너(1''')와는 달리, 중앙 영역(10)의 상측부(15)가 클리닝 아암(6)의 클리닝 표면(8)에 대해 오목하게 되어 있어, 그 상측부(15)가 체가름 표면과 접촉할 수 없도록 된다. 이는 도 2와 관련하여 이미 설명한 바와 동일한 이점을 가져온다. 게다가, 체 클리너(1)는 클리어러(clearer)(12)를 포함하며, 이에 의해 체 바닥에 위치한 미세한 물질들이 체가름 박스의 체 프레임에 형성된 소제 개구를 통해 제거될 수 있다.

도 6은 제4 체 클리너(1)의 제1 측면도를 도시하고, 도 7은 제2 측면도를 도시하고, 도 8은 평면도를 도시한다.

도 9는 도 8에 따른 라인 A-A를 따라 취한 상세 단면도를 도시한다. 이로부터, 클리닝 표면(8)이 라운드져 있음을 확인할 수 있다. 하지만, 클리닝 표면들이 그 단면에 대해 직교하는 직선으로 연장하기 때문에, 평면형의 체가름 표면의 선 접촉이 가능하다.

도 9에 따르면, 이에 도시 생략한 중립 축선(A)에 대해 평행하게, 슬롯(9)이 1.5㎜의 깊이(t)를 갖는다. 이 깊이(t)와 클리닝 아암(6)의 높이(h) 간의 비는 대략 10%이다.

마지막으로, 도 10에는 체가름 박스(3)와 본 발명에 따른 바람직한 체 클리너(1)들 중 하나를 포함하는 체 유닛이 도시되어 있다. 그 체가름 박스(3)는 수평한 체 바닥(4), 이로부터 수직 방향으로 연장하는 체 프레임(13), 및 이 체 프레임(13) 위에 잡아 늘려 펴진 체 직물(2)로서 구성된 체가름 표면을 포함한다. 체 클리너(1)는 흔들림용 발(5)에 의해 체 바닥(4) 상에 놓인다. 체가름 박스(3)가 정지 상태에 있고 체 직물(2)이 팽팽하게 잡아 늘려진 경우, 정확하게 2개의 클리닝 아암(6)의 클리닝 표면들이 체 직물(2)과 항시 동시에 접촉한다. 이 경우, 그 2개의 클리닝 아암(6)의 실질적으로 모든 클리닝 표면들이 체 직물(2)과 접촉한다. 게다가, 체 클리너(1)는 모든 클리닝 아암(6)의 클리닝 표면(8)들이 체 직물(2)로부터 1.4㎜ 미만으로 일정하게 떨어져 있도록 하는 식으로 구성된다.

Claims

체가름 표면(2) 및 체 바닥(4)을 포함하는 체가름 박스(sieve box)(3)의 체가름 표면(2)을 클리닝하는 브러시리스 체 클리너(brushless sieve cleaner)(1; 1'; 1''; 1''')로서,
- 상기 브러시리스 체 클리너(1; 1'; 1''; 1''')의 메인 축선(A; A'; A'', A''')을 따라 연장하는 흔들림용 발(wobble foot)(5; 5''')로서, 상기 흔들림용 발은 흔들림용 발이 상기 체 바닥(4) 상에 위치될 수 있고 상기 브러시리스 체 클리너(1; 1'; 1''; 1''')가 상기 흔들림용 발(5; 5''')을 중심으로 기울어질 수 있도록 하는 식으로 구성되는 것인 흔들림용 발(5; 5''); 및
- 브러시 또는 강모를 가지지 않는 적어도 하나의 클리닝 영역(7; 7'; 7''; 7''')을 갖는 적어도 하나의 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6''')로서, 각 클리닝 영역(7; 7'; 7''; 7''')은 상기 체가름 표면(2)을 클리닝하는 복수의 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')을 구비하는 것인 적어도 하나의 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6''')
을 포함하는 브러시리스 체 클리너(1; 1'; 1''; 1''')에 있어서,
복수의 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')은 각각 적어도 접촉 라인을 따라 상기 체가름 표면(2)과 접촉이 이루어지도록 구성 및 배치되어, 메인 축선을 중심으로 한 브러시리스 체 클리너(1; 1'; 1''; 1''')의 회전 중에 각 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')이 평면 영역을 쓸게되고,
복수의 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''') 각각은 상기 클리닝 영역(7; 7'; 7''; 7''')에 형성된 슬롯(9; 9'; 9''; 9''')에 의해 이웃한 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')으로부터 분리되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 브러시리스 체 클리너.
제1항에 있어서,
각 슬롯(9; 9''')은 상기 메인 축선(A; A'; A''; A''')에 대한 반경방향(R; R''')에 대해 일 각도(α''')인 슬롯 방향(S; S''')으로 연장하는 것을 특징으로 하는 브러시리스 체 클리너.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''') 각각에 의해 쓸어지는 상기 평면 영역 각각은 상기 메인 축선(A; A'; A''; A''')에 대한 반경방향(R; R'; R''; R''')으로 상기 평면 영역의 반경 치수에 대응되는 가상 클리닝 라인(L''; L''')을 구획하고,
상기 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''') 및 상기 슬롯(9; 9''')은, 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''') 중 하나의 가상 클리닝 라인(L''; L''') 및 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''') 중 이웃한 하나의 가상 클리닝 라인(L''; L''') 사이에 존재할 수 있는 틈새가 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''') 중 하나의 가상 클리닝 라인(L''; L''')의 길이보다 짧은 길이를 가지는 것을 특징으로 하는 브러시리스 체 클리너.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6''')는 상기 메인 축선(A; A'; A''; A''')에 대해 평행한 높이(h)를 가지며, 상기 슬롯(9; 9'; 9''; 9''')은 상기 메인 축선(A; A'; A''; A''')에 대해 평행한 깊이(t)를 가지며,
상기 슬롯(9; 9'; 9''; 9''')의 깊이(t)는 상기 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6''')의 높이(h)의 0%보다는 크고 20% 이하인 것을 특징으로 하는 브러시리스 체 클리너.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 메인 축선(A; A'; A''; A''')을 포함한 중앙 영역(10; 10'')을 구비하며, 상기 중앙 영역은 상기 흔들림용 발(5, 5''')과는 반대측에 상측부(15; 15'')를 구비하며, 이 상측부는 상기 체가름 표면(2)과 접촉하지 않도록 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')에 대해 오목한 것을 특징으로 하는 브러시리스 체 클리너.
제1항 또는 제2항에 있어서,
클리닝 영역(7; 7'; 7''; 7'')을 각각 구비한 적어도 3개의 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6''')를 포함하며, 각 클리닝 영역(7; 7'; 7''; 7'')은 상기 체가름 표면(2)을 클리닝하는 복수의 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')을 구비하며, 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6'''), 클리닝 영역(7; 7'; 7''; 7'') 및 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')은, 브러시리스 체 클리너(1; 1'; 1''; 1''')가 체 바닥(4) 상에 배치되고 체가름 박스(3)가 정지되며 체가름 표면(2)이 팽팽한 경우에, 적어도 2개의 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6''')의 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')의 50% 를 초과하는 부분이 상기 체가름 표면(2)과 동시에 접촉하도록 하는 식으로 배치 및 구성되며, 이 경우, 모든 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6''')들의 모든 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')들이 상기 체가름 표면(2)과 동시에 접촉되지 않는 것을 특징으로 하는 브러시리스 체 클리너.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 브러시리스 체 클리너는 홀수의 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6''')를 갖는 것을 특징으로 하는 브러시리스 체 클리너.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6''')는 상기 메인 축선(A; A'; A''; A''')을 포함하는 상기 브러시리스 체 클리너의 중앙 영역(10; 10'; 10''; 10''')으로부터 반경방향 외측으로 연장하는 클리닝 아암(6; 6'; 6''; 6''')으로서 구성되는 것을 특징으로 하는 브러시리스 체 클리너.
제8항에 있어서,
상기 클리닝 표면(8; 8''; 8''')들은 상기 클리닝 아암(6; 6''; 6''')을 따라 단일 열(row)로 배치되는 것을 특징으로 하는 브러시리스 체 클리너.
제8항에 있어서,
상기 클리닝 아암(6; 6'; 6''; 6''')은 5 내지 15㎝ 범위 내에 포함되는 길이(l₁, l₂)를 갖는 것을 특징으로 하는 브러시리스 체 클리너.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 브러시리스 체 클리너(1)는 상기 체가름 박스(3)에 형성된 개구(opening)를 통해 체 바닥(4) 상에 위치한 미세한 물질들을 제거하는 적어도 하나의 클리어러(clearer)(12)를 구비하는 것을 특징으로 하는 브러시리스 체 클리너.
체 유닛으로서;
- 체 바닥(4)과 체가름 표면(2)을 구비한 적어도 하나의 체가름 박스(3); 및
- 상기 체 바닥(4) 상에 배치되는 적어도 하나의 브러시리스 체 클리너(1; 1'; 1''; 1''')
를 포함하는 체 유닛에 있어서,
상기 브러시리스 체 클리너(1; 1'; 1''; 1''')는 브러시리스 체 클리너(1; 1'; 1''; 1''')의 메인 축선(A; A'; A'', A''')을 따라 연장하는 흔들림용 발(wobble foot)(5; 5''')을 포함하고, 흔들림용 발이 상기 체 바닥(4) 상에 위치될 수 있고 상기 브러시리스 체 클리너(1; 1'; 1''; 1''')가 상기 흔들림용 발(5; 5''')을 중심으로 기울어질 수 있도록 하는 식으로 구성되며,
상기 브러시리스 체 클리너(1; 1'; 1''; 1''')는 클리닝 영역(7; 7'; 7''; 7'')을 각각 구비한 적어도 3개의 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6''')를 구비하며, 각 클리닝 영역(7; 7'; 7''; 7'')은 상기 체가름 표면(2)을 클리닝하는 복수의 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')을 구비하며,
복수의 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')은 각각 적어도 접촉 라인을 따라 상기 체가름 표면(2)과 접촉이 이루어지도록 구성 및 배치되어, 메인 축선을 중심으로 한 브러시리스 체 클리너(1; 1'; 1''; 1''')의 회전 중에 각 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')이 평면 영역을 쓸게되고,
복수의 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''') 각각은 상기 클리닝 영역(7; 7'; 7''; 7''')에 형성된 슬롯(9; 9'; 9''; 9''')에 의해 이웃한 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')으로부터 분리되도록 구성되며,
상기 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6'''), 클리닝 영역(7; 7'; 7''; 7'') 및 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')은, 브러시리스 체 클리너(1; 1'; 1''; 1''')가 체 바닥(4) 상에 배치되고 체가름 박스(3)가 정지되며 체가름 표면(2)이 팽팽한 경우에, 적어도 2개의 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6''')의 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')의 50% 를 초과하는 부분이 상기 체가름 표면(2)과 동시에 접촉하도록 하는 식으로 배치 및 구성되며, 이 경우, 모든 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6''')들의 모든 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''')들이 상기 체가름 표면(2)와 동시에 접촉되지 않는 것을 특징으로 하는 체 유닛.
제12항에 있어서,
흔들림용 발(5; 5'''), 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6'''), 클리닝 영역(7; 7'; 7''; 7''), 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''') 및 체가름 박스(3)는, 서로에 대하여, 체가름 박스(3)가 정지 상태에 있고 상기 체가름 표면(2)이 팽팽하며 흔들림용 발(5; 5''')이 체 바닥(4) 상에 배치된 경우에, 모든 클리닝 영역(7; 7'; 7''; 7'')의 모든 클리닝 요소(6; 6'; 6''; 6''')의 클리닝 표면(8; 8'; 8''; 8''') 각각이 체가름 표면(2)과 접촉되거나 또는 체가름 표면(2)으로부터 5mm 미만의 간격을 갖도록 배치되고 구성되는 것을 특징으로 하는 체 유닛.
체가름 박스(3)를 업그레이드 또는 수정하는 방법으로서,
제12항에 따른 체 유닛이 형성되도록 제1항에 따른 브러시리스 체 클리너(1)를 체가름 박스(3)의 체 바닥(4) 상에 배치하는 단계를 포함하는 것인 방법.