KR101998449B1 - 감광성 흑색 수지 조성물 및 수지 블랙 매트릭스 기판 - Google Patents

감광성 흑색 수지 조성물 및 수지 블랙 매트릭스 기판 Download PDF

Info

Publication number
KR101998449B1
KR101998449B1 KR1020147025452A KR20147025452A KR101998449B1 KR 101998449 B1 KR101998449 B1 KR 101998449B1 KR 1020147025452 A KR1020147025452 A KR 1020147025452A KR 20147025452 A KR20147025452 A KR 20147025452A KR 101998449 B1 KR101998449 B1 KR 101998449B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
resin
resin composition
substrate
black
photosensitive
Prior art date
Application number
KR1020147025452A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20140148377A (ko
Inventor
료스케 아이하라
요시히코 이노우에
Original Assignee
도레이 카부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도레이 카부시키가이샤 filed Critical 도레이 카부시키가이샤
Publication of KR20140148377A publication Critical patent/KR20140148377A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101998449B1 publication Critical patent/KR101998449B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • G03F7/0755—Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/22—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

본 발명은, 수지 블랙 매트릭스를 유리 기판 상에 형성한 경우, 그의 현상시에 있어서의 기판에 대한 접착성이 양호하고, 현상액과의 상용성이 양호하고, 고정밀 패턴 가공이 가능한 흑색 수지 조성물을 제공함과 동시에, 그러한 감광성 흑색 수지 조성물을 사용한 수지 블랙 매트릭스 기판, 나아가 컬러 필터, 터치 패널용 차광막을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은, 적어도 차광재, 알칼리 가용성 수지, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 감광성 흑색 수지 조성물에 있어서, 적어도 특정한 구조를 갖는 옥세탄 화합물을 첨가제로서 포함하고, 상기 옥세탄 화합물을 차광재와 알칼리 가용성 수지의 총합에 대하여 1.5 내지 10.0중량％ 포함하는 감광성 흑색 수지 조성물을 제공한다.

Description

감광성 흑색 수지 조성물 및 수지 블랙 매트릭스 기판{PHOTOSENSITIVE BLACK RESIN COMPOSITION AND RESIN BLACK MATRIX SUBSTRATE}
본 발명은 감광성 흑색 수지 조성물 및 수지 블랙 매트릭스 기판에 관한 것이다.
종래, 블랙 매트릭스 재료로서 크롬계 재료를 사용한 금속 박막이 사용되고 있었지만, 근년 비용이나 환경 오염의 면에서 수지와 차광재를 포함하는 수지 블랙 매트릭스가 사용되고 있다. 수지 블랙 매트릭스는, 수지와 카본 블랙 등의 차광 재를 함유하는 흑색 수지 조성물을 기판 상에 도포, 건조시켜 흑색 피막을 형성하고, 이를 포토리소그래피법에 의해 격자상으로 미세 패턴화하여 얻어진다.
근년, 액정 표시 장치의 소형화 및 표시하는 콘텐츠가 문자로부터 화상으로 다양화됨으로써, 컬러 필터의 고성능화, 고정밀화가 요구되고, 수지 블랙 매트릭스에 대해서는 고차광성(OD값) 및 박막화, 그리고 세선 가공의 요구가 높아지고 있다. 차광재의 부피 비율을 증가시킴으로써 고OD값화 및 박막화는 달성되지만, 수지 블랙 매트릭스 중의 수지 비율을 감소시키게 되어 수지 블랙 매트릭스와 유리의 접착성이 저하되어, 알칼리 현상시에 수지 블랙 매트릭스가 박리된다는 문제가 발생한다. 따라서 유리 기판과의 현상 접착성이 양호하고, 고정밀도의 패턴 가공이 가능한 수지 블랙 매트릭스가 요구된다.
또한, 터치 패널용 기판에 있어서도 주변부의 프레임으로서 차광막이 형성되는데, 컬러 필터와 마찬가지로 차광재의 부피 비율을 증가시킨 경우에 있어서도 높은 현상 접착성과, 고정밀도의 패턴 가공이 요구된다.
그러나, 블랙 매트릭스는 그 자체가 차광성이기 때문에, 감광성의 수지 블랙 매트릭스에 있어서는 노광에 의한 광경화가 기판과의 계면 부근에서는 일어나기 어려워져 있다. 그 때문에, 수지 블랙 매트릭스의 차광성이 높아질수록 현상시의 유리 기판과의 접착성이 나빠져, 차광성과 현상 접착성은 트레이드 오프의 관계에 있었다.
또한, 광학 농도가 높은 흑색 수지 조성물은 안료로서 무기 입자를 많이 포함하고 있기 때문에, 알칼리 현상액과의 상용성이 나쁘고, 현상시에 미세한 패턴이 결락된다는 문제가 있었다.
이러한 문제를 해결하기 위해, 수지 블랙 매트릭스의 감도를 높이고, 기판과의 계면 부근까지 광중합 반응을 일으키기 위한 첨가제로서 제3급 아민 화합물, 3가의 인 화합물, 에폭시실란 등이 알려져 있다(특허문헌 1 내지 3). 그러나, 고정밀도의 패터닝 기판을 얻는 것이 곤란하였다.
한편, 안료를 포함하지 않는 계에 있어서는, 옥세탄 화합물을 첨가제로서 가한 감광성 수지 조성물이 알려져 있다(특허문헌 4 및 5). 또한, 안료를 포함하는 감광성 수지 조성물에 있어서, 옥세타닐기를 구조 단위로서 포함하는 공중합체의 수지를 포함하는 경화막이, 기판과의 물리적인 밀착성에 대하여 유효하다는 지견이 있었다(특허문헌 6).
일본 특허 공개 (평)10-282325 공보 일본 특허 공개 (평)10-246955 공보 일본 특허 공개 제2004-347916 공보 일본 특허 공개 제2005-258460 공보 일본 특허 공개 제2001-228610 공보 일본 특허 공개 제2007-316506 공보
본 발명자들은, 우선 현상시의 미세 패턴의 내박리성의 지표가 되는 현상 접착성에 착안하여, 특허문헌 1 내지 3에서는 수지 블랙 매트릭스의 광학 농도가 높은 막에 대해서는 기판 계면에서의 경화 반응이 불충분하여 현상시의 접착성에 영향을 주는 것은 아닌지, 나아가 현상시의 접착성은 바탕 기판의 영향을 받기 쉽고, 특히 터치 패널 용도에서 일반적으로 사용되고 있는 소다 유리와의 접착성이 나쁘기 때문에, 고정밀도의 패터닝 기판을 얻는 것이 곤란해지기는 것은 아닌지에 대해 생각하였다.
또한, 수지 블랙 매트릭스의 광학 농도가 높고, 안료 입자를 많이 포함하는 흑색 수지 조성물에 있어서는 현상액과의 상용성이 더욱 불충분하여, 현상시에 미세 패턴의 박리가 일어나고 있었다. 본 발명자들은 상용성에도 착안한 것이다.
본 발명은 이러한 종래 기술의 결점을 감안하여 창안된 것이며, 그의 목적으로 하는 바는, 수지 블랙 매트릭스를 유리 기판 상에 형성한 경우, 그의 현상시에 있어서의 기판에 대한 접착성이 양호하고, 현상액과의 상용성이 양호하고, 고정밀 패턴 가공이 가능한 흑색 수지 조성물을 제공함과 동시에, 이러한 감광성 흑색 수지 조성물을 사용한 수지 블랙 매트릭스 기판, 나아가 컬러 필터, 터치 패널용 차광막을 제공하는 것에 있다.
특허문헌 4 및 5에는 옥세탄 화합물이 기재되어 있으며, 포스트베이킹 후의 경화막이 기판과의 물리적인 밀착성이 우수하고, 해상성, 감도에 있어서도 우수하다는 지견이 있었지만, 현상시의 기판과의 접착성에 관한 지견은 없고, 또한 수지 블랙 매트릭스의 광학 농도가 높고, 안료 입자를 많이 포함하는 흑색 수지 조성물에 대한 적용은 기재되어 있지 않았다.
한편, 특허문헌 6에서는 안료를 포함하는 감광성 수지 조성물에 있어서, 옥세타닐기를 구조 단위로서 포함하는 공중합체의 수지를 포함하는 포스트베이킹 후의 경화막이 기판과의 물리적인 밀착성에 대하여 유효하다는 지견이 있었지만, 공중합체로서의 사용이며, 현상시의 기판과의 접착성에 관한 지견은 없고, 또한 안료 입자를 많이 포함하는 흑색 수지 조성물에 있어서 현재화(顯在化)되기 쉬운, 현상액과의 상용성에 대해서는 지견이 없었다.
여기서, 본 발명자들은 특정한 옥세탄 화합물을 적당량 첨가함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있다는 것을 발견한 것이다.
본 발명의 목적은 이하의 구성에 의해 달성된다.
(1) 적어도 차광재, 알칼리 가용성 수지, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 감광성 흑색 수지 조성물에 있어서, 적어도 하기 화학식 (A)의 구조를 갖는 옥세탄 화합물을 첨가제로서 포함하고, 상기 옥세탄 화합물을 차광재와 알칼리 가용성 수지의 총합에 대하여 1.5 내지 10.0중량％ 포함하는, 감광성 흑색 수지 조성물.
(2) 상기 (1)에 있어서, 상기 옥세탄 화합물이 실릴기를 갖는 것인 감광성 흑색 수지 조성물.
(3) 상기 (1) 또는 (2)에 있어서, 상기 옥세탄 화합물이 하기 화학식 (B)로 표시되는 것인 감광성 흑색 수지 조성물.
(4) 상기 (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 기재된 감광성 흑색 수지 조성물을 투명 기판 상에 도포하고, 패턴 형성하여 얻어진 것인 수지 블랙 매트릭스 기판.
본 발명의 흑색 수지 조성물을 사용함으로써, 현상 접착성, 패턴 가공 정밀도가 우수한 수지 블랙 매트릭스 기판이 얻어진다는 효과가 있다.
본 발명의 감광성 흑색 수지 조성물은, 적어도 차광재와 알칼리 가용성 수지, 광중합 개시제 및 용매를 포함할 것이 요구되며, 이하에 그의 바람직한 특성을 나타낸다.
본 발명의 감광성 흑색 수지 조성물은 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크, 포토마스크 제작 재료, 인쇄용 프루프 제작용 재료, 에칭 레지스트, 솔더 레지스트, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 격벽, 유전체 패턴, 전극(도체 회로) 패턴, 전자 부품의 배선 패턴, 도전 페이스트, 도전 필름 또는 블랙 매트릭스(이하, 「BM」) 등의 차광 화상 등의 제작에 사용할 수 있다. 바람직하게는, 컬러 액정 표시 장치 등에 사용하는 컬러 필터의 표시 특성 향상을 위해 착색 패턴의 간격부, 주변 부분 및 TFT의 외광측 등에 차광 화상(BM을 포함함)을 설치하기 위해서나, 터치 패널 기판의 주변부에 사용되는 차광막에 적절하게 사용할 수 있다.
특히 바람직하게는, 액정 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 표시 장치, 무기EL을 구비한 EL 표시 장치, CRT 표시 장치, 터치 패널을 구비한 표시 장치의 주변부에 설치된 흑색의 테두리나, 적색, 청색, 녹색의 착색 화소간의 격자상이나 스트라이프상의 흑색 부분, 더욱 바람직하게는 TFT 차광을 위한 도트상이나 선상의 흑색 패턴 등의 BM으로서 적절하게 사용된다.
본 발명에 사용되는 차광재로서는, 예를 들어 카본 블랙, 티타늄 블랙, 산화크롬, 산화철, 아닐린 블랙, 페릴렌계 안료 또는 C.I.솔벤트 블랙 123 등의 흑색 안료, 수지로 피복된 카본 블랙, 티타늄, 망간, 철, 구리 또는 코발트 등의 복합 산화물 등의 무기계 블랙 안료, 또는 유기 안료와 흑색 안료의 조합을 들 수 있지만, 높은 차광성을 갖기 때문에 카본 블랙 또는 티타늄 질화물이 바람직하다.
본 발명에 사용되는 알칼리 가용성 수지로서는, 예를 들어 에폭시 수지, 아크릴 수지, 실록산 중합체계 수지 또는 폴리이미드 수지를 들 수 있지만, 조성물의 저장 안정성 및 도막의 내열성이 우수한 아크릴 수지 또는 폴리이미드 수지가 바람직하다.
아크릴 수지로서는, 카르복실기를 갖는 아크릴 수지가 바람직하게 사용된다. 카르복실기를 갖는 아크릴 수지로서는, 불포화 카르복실산과 에틸렌성 불포화 화합물의 공중합체가 바람직하다. 불포화 카르복실산으로서는, 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 크로톤산, 말레산, 푸마르산 또는 비닐아세트산을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있지만, 다른 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 화합물과 조합하여 사용할 수도 있다.
공중합 가능한 에틸렌성 불포화 화합물로서는, 예를 들어 아크릴산메틸, 메타크릴산메틸, 아크릴산에틸, 메타크릴산에틸, 아크릴산 n-프로필, 아크릴산이소프로필, 메타크릴산 n-프로필, 메타크릴산이소프로필, 아크릴산 n-부틸, 메타크릴산 n-부틸, 아크릴산 sec-부틸, 메타크릴산 sec-부틸, 아크릴산이소-부틸, 메타크릴산이소-부틸, 아크릴산 tert-부틸, 메타크릴산 tert-부틸, 아크릴산 n-펜틸, 메타크릴산 n-펜틸, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트 또는 벤질메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산알킬에스테르, 스티렌, p-메틸스티렌, o-메틸스티렌, m-메틸스티렌 또는 α-메틸스티렌 등의 방향족 비닐 화합물, 아미노에틸아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산아미노알킬에스테르, 글리시딜아크릴레이트 또는 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산글리시딜에스테르, 아세트산비닐 또는 프로피온산비닐 등의 카르복실산비닐에스테르, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 또는 α-클로로아크릴로니트릴 등의 시안화비닐 화합물, 1,3-부타디엔 또는 이소프렌 등의 지방족 공액 디엔, 각각 말단에 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖는 폴리스티렌, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리부틸아크릴레이트 또는 폴리부틸메타크릴레이트를 들 수 있지만, 메타크릴산, 아크릴산, 메타크릴산메틸, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트 또는 스티렌으로부터 선택된 2 내지 4원 공중합체이며 평균 분자량(Mw) 2천 내지 10만, 산가 70 내지 150(mgKOH/g)인 중합체가 알칼리 현상액에 대한 용해성의 관점에서 바람직하다. 이 범위를 벗어나면, 알칼리 현상액에 대한 용해 속도가 저하되거나 또는 지나치게 빨라진다.
또한, 측쇄에 에틸렌성 불포화기를 갖는 아크릴 수지를 사용하면, 노광, 현상시의 감도가 양호해지기 때문에 바람직하다. 에틸렌성 불포화기로서는, 아크릴기 또는 메타크릴기가 바람직하다. 이러한 아크릴 수지는, 카르복실기를 갖는 아크릴계 (공)중합체의 카르복실기에 글리시딜기 또는 지환식 에폭시기를 갖는 에틸렌성 불포화 화합물을 부가 반응시켜 얻을 수 있다.
측쇄에 에틸렌성 불포화기를 갖는 아크릴 수지로서는, 예를 들어 공지 문헌(일본 특허 제3120476호 공보 및 일본 특허 공개 (평)8-262221호 공보)에 기재된 아크릴 수지, 또는 시판되어 있는 아크릴계 수지인 광경화성 수지 "사이크로마(등록 상표) P"(다이셀 가가꾸 고교(주)) 또는 알칼리 가용성 카르도(cardo) 수지를 들 수 있다. 그 중에서도, 측쇄에 에틸렌성 불포화기를 갖는 아크릴 수지이며 평균 분자량(Mw) 2천 내지 10만(테트라히드로푸란을 캐리어로서 겔 투과 크로마토그래피로 측정하고, 표준 폴리스티렌에 의한 검량선을 사용하여 환산한 것), 산가 70 내지 150(mgKOH/g)인 아크릴 수지가 감광 특성, 에스테르계 용매에 대한 용해성 및 알칼리 현상액에 대한 용해성의 각 관점에서 바람직하다.
본 발명의 감광성 흑색 수지 조성물에는 단량체를 더 가할 수 있다. 단량체로서는, 예를 들어 다관능 또는 단관능의 아크릴계 단량체 또는 올리고머를 들 수 있다. 다관능의 아크릴계 단량체로서는, 예를 들어 비스페놀 A 디글리시딜에테르(메트)아크릴레이트, 폴리(메트)아크릴레이트카르바메이트, 변성 비스페놀 A 에폭시(메트)아크릴레이트, 아디프산 1,6-헥산디올(메트)아크릴산에스테르, 무수 프탈산프로필렌옥시드(메트)아크릴산에스테르, 트리멜리트산디에틸렌글리콜(메트)아크릴산에스테르, 로진 변성 에폭시디(메트)아크릴레이트, 알키드 변성 (메트)아크릴레이트, 공지 문헌(일본 특허 제3621533호 공보 및 일본 특허 공개 (평)8-278630호 공보)에 기재된 플루오렌디아크릴레이트계 올리고머, 또는 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜에테르디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 트리아크릴포르말, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 2,2-비스[4-(3-아크릴옥시-2-히드록시프로폭시)페닐]프로판, 비스[4-(3-아크릴옥시-2-히드록시프로폭시)페닐]메탄, 비스[4-(3-아크릴옥시-2-히드록시프로폭시)페닐]술폰, 비스[4-(3-아크릴옥시-2-히드록시프로폭시)페닐]에테르, 4,4'-비스[4-(3-아크릴옥시-2-히드록시프로폭시)페닐]시클로헥산, 9,9-비스[4-(3-아크릴옥시-2-히드록시프로폭시)페닐]플루오렌, 9,9-비스[3-메틸-4-(3-아크릴옥시-2-히드록시프로폭시)페닐]플루오렌, 9,9-비스[3-클로로-4-(3-아크릴옥시-2-히드록시프로폭시)페닐]플루오렌, 비스페녹시에탄올플루오렌디아크릴레이트, 비스페녹시에탄올플루오렌디메타크릴레이트, 비스크레졸플루오렌디아크릴레이트 또는 비스크레졸플루오렌디메타크릴레이트를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
이들 다관능 또는 단관능의 아크릴계 단량체 또는 올리고머의 선택과 조합에 따라, 레지스트의 감도나 가공성의 특성을 제어하는 것이 가능하다. 특히 감도를 높이기 위해서는 관능기가 3개 이상 있는 화합물이 바람직하고, 관능기가 5개 이상 있는 화합물이 보다 바람직하고, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 또는 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트가 더욱 바람직하다.
흑색 안료처럼 광 가교에 유효한 자외선을 흡수하는 안료를 사용하는 경우에는, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 또는 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트에 더하여, 분자 중에 방향환을 많이 포함하며 발수성이 높은 플루오렌환을 갖는 (메트)아크릴레이트를 병용하는 것이 현상시에 패턴을 바람직한 형상으로 제어할 수 있기 때문에 바람직하다. 이 중에서도, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 및/또는 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 10 내지 60중량부와, 플루오렌환을 갖는 (메트)아크릴레이트 90 내지 40중량부의 혼합물을 단량체로서 사용하는 것이 바람직하다.
광중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조페논계 화합물, 아세토페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 이미다졸계 화합물, 벤조티아졸계 화합물, 벤조옥사졸계 화합물, 옥심에스테르 화합물, 카르바졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 인계 화합물 또는 티타네이트 등의 무기계 광중합 개시제를 들 수 있다.
보다 구체적으로는, 예를 들어 벤조페논, N,N'-테트라에틸-4,4'-디아미노벤조페논, 4-메톡시-4'-디메틸아미노벤조페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤질디메틸케탈, α-히드록시이소부틸페논, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로판, "이르가큐어(등록 상표)" 369인 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논(시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬(주) 제조), "이르가큐어(등록 상표)" 379인 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논(시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬(주) 제조), CGI-113인 2-[4-메틸벤질]-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논(시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬(주) 제조), t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논, 2,3-디클로로안트라퀴논, 3-클로로-2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 1,4-나프토퀴논, 9,10-페난트라퀴논, 1,2-벤조안트라퀴논, 1,4-디메틸안트라퀴논, 2-페닐안트라퀴논, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, "이르가큐어(등록 상표)" OXE01인 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)-2-(O-벤조일옥심)](시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬(주) 제조), "이르가큐어(등록 상표)" OXE02인 에타논,1-[9- 에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(0-아세틸옥심), CGI-242인 에타논,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심), 4-(p-메톡시페닐)-2,6-디-(트리클로로메틸)-s-트리아진(시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬(주) 제조) 또는 카르바졸계 화합물인 "아데카(등록 상표) 옵토마" N-1818, N-1919 또는 "아데카(등록 상표) 크루즈" NCI-831(이상, 아사히 덴까 고교(주) 제조)을 들 수 있다.
이들 광중합 개시제는 2종류 이상을 병용하여 사용할 수도 있으며, 그 중에서도 "이르가큐어(등록 상표)" 379, "이르가큐어(등록 상표)" OXE02, "아데카(등록 상표) 옵토마" N-1919 및 "아데카(등록 상표) 크루즈" NCI-831로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2종류를 병용하면 고감도이며 패턴 형상이 양호한 특성을 갖는 감광성 흑색 수지 조성물이 얻어지기 때문에 바람직하다.
또한, 유리판 또는 실리콘 웨이퍼 등의 무기물과의 접착성을 향상시키려는 목적으로 밀착 개량제를 첨가할 수 있다. 밀착 개량제로서는, 예를 들어 실란 커플링제 또는 티타늄 커플링제를 사용할 수 있다. 밀착 개량제의 첨가량은, 통상 폴리이미드 수지 또는 아크릴 수지의 중량을 기준으로 하여 0.2 내지 20중량％ 정도이다.
또한, 본 발명의 감광성 흑색 수지 조성물에 있어서, 차광재의 분산 안정성을 향상시키려는 목적으로 고분자 분산제를 첨가할 수 있다. 고분자 분산제로서는, 예를 들어 폴리에틸렌이민계 고분자 분산제, 폴리우레탄계 고분자 분산제 또는 폴리알릴아민계 고분자 분산제를 들 수 있다. 이들 고분자 분산제는 감광성이나 밀착성을 저하시키지 않을 정도로 첨가하는 것이 바람직하고, 그의 첨가량으로서는 통상 차광재에 대하여 1 내지 40중량％ 정도이다.
본 발명의 감광성 흑색 수지 조성물에 있어서, 차광재/수지 성분의 중량 조성비는 80/20 내지 40/60의 범위인 것이 바람직하고, 75/25 내지 50/50의 범위인 것이 밀착성, 패턴 가공성 및 OD값의 균형의 면에서 보다 바람직하다. 여기서 수지 성분이란, 중합체, 단량체, 올리고머 및 고분자 분산제의 합계로 한다. 수지 성분의 양이 지나치게 적으면, 흑색 피막의 기판과의 밀착성이 불량해지고, 반대로 차광재의 양이 지나치게 적으면 두께당의 광학 농도(OD값/㎛)가 낮아져 문제가 된다.
본 발명의 흑색 수지 조성물에 사용되는 용매로서는, 분산되는 안료의 분산 안정성 및 첨가하는 수지 등의 용해성에 맞춰, 물 또는 유기 용제를 사용할 수 있다. 유기 용제로서는, 예를 들어 에스테르류, 지방족 알코올류, (폴리)알킬렌글리콜에테르계 용제, 케톤류, 아미드계 극성 용매 또는 락톤계 극성 용매를 들 수 있는데, 이들 2종류 이상의 혼합 용매도 바람직하다. 또한 이들 이외의 유기 용제와의 혼합도 바람직하다.
알칼리 가용성 수지로서는 아크릴 수지의 사용이 바람직하다는 점에서, 유기 용제로서는 아크릴 수지를 용해시키는 유기 용제가 바람직하다. 보다 구체적으로는, 예를 들어 벤질아세테이트(비점 214℃), 에틸벤조에이트(비점 213℃), 메틸벤조에이트(비점 200℃), 말론산디에틸(비점 199℃), 2-에틸헥실아세테이트(비점 199℃), 2-부톡시에틸아세테이트(비점 192℃), 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(비점 188℃), 옥살산디에틸(비점 185℃), 아세토아세트산에틸(비점 181℃), 시클로헥실아세테이트(비점 174℃), 3-메톡시-부틸아세테이트(비점 173℃), 아세토아세트산메틸(비점 172℃), 에틸-3-에톡시프로피오네이트(비점 170℃), 2-에틸부틸아세테이트(비점 162℃), 이소펜틸프로피오네이트(비점 160℃), 프로필렌글리콜모노메틸에테르프로피오네이트(비점 160℃), 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(비점 158℃), 아세트산펜틸(비점 150℃) 또는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(비점 146℃)를 들 수 있다.
또한, 상기 이외의 용매로서는, 예를 들어 에틸렌글리콜모노메틸에테르(비점 124℃), 에틸렌글리콜모노에틸에테르(비점 135℃), 프로필렌글리콜모노에틸에테르(비점 133℃), 디에틸렌글리콜모노메틸에테르(비점 193℃), 모노에틸에테르(비점 135℃), 메틸카르비톨(비점 194℃), 에틸카르비톨(비점 202℃), 프로필렌글리콜모노메틸에테르(비점 120℃), 프로필렌글리콜모노에틸에테르(비점 133℃), 프로필렌글리콜터셔리부틸에테르(비점 153℃) 또는 디프로필렌글리콜모노메틸에테르(비점 188℃) 등의 (폴리)알킬렌글리콜에테르계 용제, 아세트산에틸(비점 77℃), 아세트산부틸(비점 126℃) 또는 아세트산이소펜틸(비점 142℃) 등의 지방족 에스테르류, 부탄올(비점 118℃), 3-메틸-2-부탄올(비점 112℃) 또는 3-메틸-3-메톡시부탄올(비점 174℃) 등의 지방족 알코올류, 시클로펜타논 또는 시클로헥사논 등의 케톤류, 크실렌(비점 144℃), 에틸벤젠(비점 136℃) 또는 솔벤트 나프타(석유 유분: 비점 165 내지 178℃)를 들 수 있다.
기판의 대형화에 따라 다이 코팅 장치에 의한 도포가 주류를 이루고 있기 때문에, 적절한 휘발성 및 건조성을 실현하기 위해 2 성분 이상의 혼합 용매가 바람직하다. 상기 혼합 용매를 구성하는 모든 용매의 비점이 150℃ 이하인 경우, 막 두께의 균일성이 얻어지지 않고, 도포 종료부의 막 두께가 두꺼워지고, 도포액을 슬릿으로부터 토출시키는 구금부에 안료의 응집물이 발생하고, 도막에 줄무늬가 발생한다고 하는 많은 문제를 발생한다. 한편, 상기 혼합 용매가 비점이 200℃ 이상인 용매를 많이 포함하는 경우, 도막 표면이 점착성이 되고 스티킹(sticking)이 발생한다. 따라서 비점이 150 내지 200℃인 용매를 30 내지 75중량％ 함유하는 혼합 용매가 바람직하다.
본 발명에 있어서의 첨가제인 옥세탄 화합물은, 하기 화학식 (A)의 구조를 갖는다.
Figure 112014086396034-pct00001
(여기서, R1, R2는 각각 동일할 수도 상이할 수도 있고, R1은 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, 알킬기는 치환기를 더 갖고 있을 수도 있고, R2는 수소, 실릴기 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, 실릴기 및 알킬기는 치환기를 더 갖고 있을 수도 있음)
상기 화학식 (A)에 있어서, 알킬기가 치환기를 더 갖는 경우의 치환기로서는, 예를 들어 알콕시기, 아크릴로일기, 아세톡시기 또는 실릴기를 들 수 있지만, R2가 탄소수 1 내지 10의 알킬기인 경우, R2가 옥세타닐기를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 실릴기가 치환기를 더 갖는 경우에는, 예를 들어 알킬기, 알콕시기, 아크릴로일기 또는 아세톡시기를 들 수 있는데, 그들이 옥세타닐기를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 발명의 효과를 충분히 얻기 위해서는, R2로서 실릴기를 갖는 것이 바람직하고, 하기 화학식 (B)로 표시되는 옥세탄 화합물이 보다 바람직하다.
Figure 112014086396034-pct00002
(여기서, X는 하기 옥세탄 화합물을 나타내고, n은 10 이하의 자연수를 나타냄)
Figure 112014086396034-pct00003
(여기서 *는 연결 부분을 나타내고, R1은 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, 알킬기는 치환기를 더 갖고 있을 수도 있음)
상기 화학식 (B)로 표시되는 옥세탄 화합물 중에서도, n=3 내지 6의 범위인 옥세탄 화합물이 바람직하다. 상기 화학식 (B)에 있어서도, 알킬기가 치환기를 더 갖는 경우의 치환기로서는, 예를 들어 알콕시기, 아크릴로일기 또는 아세톡시기를 들 수 있다.
이들 옥세탄 화합물의 첨가량으로서는, 차광재와 알칼리 가용성 수지의 총합에 대하여 1.5 내지 10.0중량％가 바람직하고, 알칼리 현상액에 대한 용해성이 지나치게 높아지지 않는 범위에서 사용하기 위해 1.5 내지 5.0중량％가 보다 바람직하다.
규소 원자를 갖지 않는 옥세탄 화합물로서는, 하기 화학식 (C)로 표시되는 "알론 옥세탄(등록 상표)" OXT-101(3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄), 하기 화학식 (D)로 표시되는 "알론 옥세탄(등록 상표)" OXT-221(3-에틸-3{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}메틸}옥세탄) 또는 "알론 옥세탄(등록 상표)" OXT-121(주성분 1,4-비스[〔(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시〕메틸]벤젠)(이상, 도아 고세(주) 제조), "에터나콜(등록 상표)" OXBP(비스〔(3-에틸-3-옥세타닐)메틸〕비페닐-4,4'-디카르복실레이트) 또는 "에터나콜" OXTP(비스〔(3-에틸-3-옥세타닐)메틸〕테레프탈레이트)(이상, 우베 고산(주) 제조)를 들 수 있다.
Figure 112014086396034-pct00004
Figure 112014086396034-pct00005
실릴기를 갖는 옥세탄 화합물로서는, 예를 들어 상기 화학식 (B)에 있어서 n=5를 평균으로 하는, 하기 화학식 (E)로 표시되는 "알론 옥세탄(등록 상표)" OXT-191(3-에틸옥세탄-3-일메탄올과 실란테트라올 중축합물의 축합 반응 생성물; 도아 고세(주) 제조), 하기 화학식 (F1) 또는 (F2)로 표시되는 실세스퀴옥산 구조를 갖는 옥세탄 화합물(예를 들어, OX-SQ TX-100 또는 동 SI-20; 이상, 도아 고세(주) 제조), 하기 화학식 (G)로 표시되는 "알론 옥세탄(등록 상표)" TMSOX(3-에틸-3-((3-(트리메톡시실릴)프로폭시)메틸)옥세탄)(도아 고세(주) 제조), (옥세탄-3-일)메틸트리메톡시실란, (옥세탄-3-일)메틸트리에톡시실란, (옥세탄-3-일)메틸트리아세톡시실란, [(옥세탄-3-일)메틸]메틸디메톡시실란, [(옥세탄-3-일)메틸]메틸디에톡시실란, [(옥세탄-3-일)메틸]메틸디아세톡시실란, [(옥세탄-3-일)메틸]에틸디메톡시실란, [(옥세탄-3-일)메틸]에틸디에톡시실란, [(옥세탄-3-일)메틸]에틸디아세톡시실란, [(옥세탄-3-일)메틸]페닐디메톡시실란, [(옥세탄-3-일)메틸]페닐디에톡시실란, [(옥세탄-3-일)메틸]페닐디아세톡시실란, 디[(옥세탄-3-일)메틸]디메톡시실란, 디[(옥세탄-3-일)메틸]디에톡시실란, 디[(옥세탄-3-일)메틸]디아세톡시실란, 디[(옥세탄-3-일)메틸]메틸메톡시실란, 디[(옥세탄-3-일)메틸]메틸에톡시실란, 디[(옥세탄-3-일)메틸]메틸아세톡시실란, 디[(옥세탄-3-일)메틸]에틸메톡시실란, 디[(옥세탄-3-일)메틸]에틸에톡시실란, 디[(옥세탄-3-일)메틸]에틸아세톡시실란, 디[(옥세탄-3-일)메틸]페닐메톡시실란, 디[(옥세탄-3-일)메틸]페닐에톡시실란, 디[(옥세탄-3-일)메틸]페닐아세톡시실란, 트리[(옥세탄-3-일)메틸]메톡시실란, 트리[(옥세탄-3-일)메틸]에톡시실란 또는 트리[(옥세탄-3-일)메틸]아세톡시실란을 들 수 있다. 본 발명에서는 이들 옥세탄 화합물을 2종류 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
Figure 112014086396034-pct00006
Figure 112014086396034-pct00007
Figure 112014086396034-pct00008
또한, 본 발명의 감광성 흑색 수지 조성물에는, 도포성 및 착색 피막의 평활성을 향상시키면서 버나드 셀(benard cell)을 방지하려는 목적으로 계면활성제를 첨가할 수도 있다. 계면활성제의 첨가량은 안료의 0.001 내지 10중량％가 바람직하고, 0.01 내지 1중량％가 보다 바람직하다. 첨가량이 지나치게 적으면 도포성 및 착색 피막의 평활성을 향상시키는 효과나 버나드 셀을 방지하는 효과가 없고, 지나치게 많으면 반대로 도막 물성이 불량이 되는 경우가 있다. 계면활성제로서는, 예를 들어 라우릴황산암모늄 또는 폴리옥시에틸렌알킬에테르황산트리에탄올아민 등의 음이온 계면활성제, 스테아릴아민아세테이트 또는 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 양이온 계면활성제, 라우릴디메틸아민옥시드 또는 라우릴카르복시메틸히드록시에틸이미다졸륨베타인 등의 양쪽성 계면활성제, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르 또는 소르비탄모노스테아레이트 등의 비이온 계면활성제, 폴리디메틸실록산 등을 주골격으로 하는 실리콘계 계면활성제 또는 불소계 계면활성제를 들 수 있다. 본 발명에서는, 이들 계면활성제를 1종 또는 2종 이상 사용할 수 있다.
본 발명의 감광성 흑색 수지 조성물에 있어서 수지 성분(단량체나 올리고머 및 광중합 개시제 등의 첨가제도 포함함)과 차광재를 합한 고형분 농도로서는, 도공성 및 건조성의 관점에서 2 내지 30％가 바람직하고, 5 내지 20％가 보다 바람직하다. 따라서, 본 발명의 감광성 흑색 수지 조성물은 용매, 수지 성분 및 차광재로 본질적으로 되는 것이 바람직하고, 수지 성분과 차광재의 합계량이 2 내지 30％인 것이 보다 바람직하고, 5 내지 20％인 것이 더욱 바람직하다. 고형분을 제외한 잔량부는 용매이며, 상기한 바와 같이 계면활성제를 더 함유하고 있을 수도 있다.
본 발명에서의 감광성 흑색 수지 조성물의 제조 방법으로서는, 예를 들어 분산기를 사용하여 수지 용액 중에 직접 안료를 분산시키는 방법, 또는 분산기를 사용하여 물 또는 유기 용매 중에 안료를 분산시켜 안료 분산액을 제작하고, 그 후 수지 용액과 혼합하는 방법을 들 수 있다. 안료의 분산 방법으로서는, 예를 들어 볼 밀, 샌드 그라인더(sand grinder), 3롤 밀 또는 고속도 충격 밀을 들 수 있는데, 분산 효율 및 미분산화의 관점에서 비즈 밀이 바람직하다. 비즈 밀로서는, 예를 들어 코볼 밀(coball mill), 바스켓 밀, 핀 밀 또는 다이노 밀(dyno mill)을 들 수 있다. 비즈 밀의 비즈로서는, 예를 들어 티타니아 비즈, 지르코니아 비즈 또는 지르콘 비즈를 들 수 있다. 분산에 사용하는 비즈 직경으로서는 0.01 내지 5.0mm가 바람직하고, 0.03 내지 1.0mm가 보다 바람직하다. 안료의 1차 입자 직경 및 1차 입자가 응집되어 형성된 2차 입자의 입자 직경이 작은 경우에는, 0.03 내지 0.10mm와 같은 미소한 분산 비즈를 사용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 미소한 분산 비즈와 분산액을 분리하는 것이 가능한, 원심 분리 방식에 의한 세퍼레이터를 갖는 비즈 밀을 사용하여 분산시키는 것이 바람직하다. 한편, 서브마이크로미터 정도의 조대한 입자를 포함하는 안료를 분산시킬 때에는, 0.10mm 이상의 분산 비즈를 사용함으로써 충분한 분쇄력이 얻어져 안료를 미세하게 분산시킬 수 있기 때문에 바람직하다.
본 발명의 수지 BM 기판의 제조예를 이하에 나타낸다. 감광성 흑색 수지 조성물을 투명 기판 상에 도포하는 방법으로서는, 예를 들어 디핑법, 롤 코터법, 스피너법, 다이 코팅법, 와이어 바에 의한 방법, 투명 기판을 감광성 흑색 수지 조성물의 용액 중에 침지시키는 방법 또는 감광성 흑색 수지 조성물의 용액을 투명 기판에 분무하는 방법을 들 수 있다. 투명 기판으로서는, 예를 들어 석영 유리, 붕규산 유리, 알루미노규산염 유리 또는 표면을 실리카 코팅한 소다 석회 유리 등의 무기 유리류 또는 유기 플라스틱의 필름 또는 시트를 들 수 있다. 또한, 기판 상에 도포하는 경우, 실란 커플링제, 알루미늄 킬레이트제 또는 티타늄 킬레이트제 등의 접착 보조제로 기판 표면을 처리해 두면, BM 피막과 기판의 접착력을 향상시킬 수 있다.
감광성 흑색 수지 조성물을 투명 기판 상에 도포한 후, 풍건, 가열 건조 또는 진공 건조 등에 의해 가열 건조 및 경화를 행하여, 건조 피막을 형성한다. 피막을 형성할 때의 건조 불균일 또는 반송 불균일을 억제하기 위해, 도포액을 도포한 투명 기판을 가열 장치를 구비한 감압 건조기로 감압 건조시킨 후, 가열 건조 및 경화를 하는 것이 바람직하다.
이와 같이 하여 얻어진 건조 피막은, 통상 포토리소그래피 등의 방법을 사용하여 패턴 가공된다. 감광성의 수지로부터 얻어진 건조 피막은 그대로 또는 그의 표면에 산소 차단막을 형성한 후에 노광 현상을 행하여, 원하는 패턴으로 할 수 있다. 그 후, 필요에 따라 산소 차단막을 제거한 후, 가열 경화시킴으로써 수지 BM 기판이 얻어진다. 가열 경화 조건은 수지에 따라 상이하지만, 아크릴 수지를 사용하는 경우에는 통상 200 내지 250℃에서 1 내지 60분 가열하는 것이 일반적이다.
본 발명의 수지 BM 기판을 사용하여 액정 표시용 컬러 필터 기판 또는 터치 패널용 차광막을 제조할 수 있다. 즉 본 발명은, 본 발명의 수지 BM 기판을 구비하는 액정 표시용 컬러 필터 기판 및 터치 패널용 차광막을 제공할 수 있다. 상기 컬러 필터는, 투명 기판의 일부 영역 상에 수지 BM이 형성된 수지 BM 기판과, 투명 기판 상의 수지 BM이 형성되어 있지 않은 영역에 형성된 화소를 적어도 구비하는 컬러 필터이며, 상기 수지 BM 기판이 본 발명의 수지 BM 기판인 것이다.
<실시예>
이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
열 플라즈마법에 의해 제조한 티타늄 질화물 입자(닛신 엔지니어링(주) 제조; 400g)에 아크릴 수지로서 공지 문헌(일본 특허 제3120476호 공보)에 기재된 방법에 의해 메틸메타크릴레이트/메타크릴산/스티렌 공중합체(중량 조성비 30/40/30)를 합성한 후, 글리시딜메타크릴레이트 40중량부를 부가시키고, 정제수로 재침, 여과 및 건조시킴으로써, 평균 분자량(Mw) 15,000 및 산가 110(mgKOH/g)의 아크릴 수지 (P-1)을 얻었다. 얻어진 아크릴 수지 (P-1)의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 40중량％ 용액(187.5g), 고분자 분산제(BYK21116; 빅 케미사 제조; 62.5g) 및 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(890g)를 탱크에 투입하고, 호모 믹서(도꾸슈 기까 제조)로 1시간 교반하여 예비 분산액 1을 얻었다. 그 후, 0.10mmφ지르코니아 비즈(도레이 제조)를 70％ 충전한 원심 분리 세퍼레이터를 구비한 울트라 아펙스 밀(고토부키 고교 제조)에 예비 분산액 1을 공급하고, 회전 속도 8m/s로 2시간 분산을 행하여, 고형분 농도 25중량％, 안료/수지(중량비)=80/20의 티타늄 블랙 안료 분산액 TB-1을 얻었다.
카본 블랙(TPX1291; 캐봇(CABOT) 제조; 400g)에 아크릴 수지 (P-1)의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 40중량％ 용액(187.5g), 고분자 분산제(BYK21116; 62.5g) 및 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(890g)를 탱크에 투입하고, 호모 믹서로 1시간 교반하여 예비 분산액 2를 얻었다. 그 후, 0.10mmφ지르코니아 비즈를 70％ 충전한 원심 분리 세퍼레이터를 구비한 울트라 아펙스 밀에 예비 분산액 2를 공급하고, 회전 속도 8m/s로 2시간 분산을 행하여, 고형분 농도 20중량％, 안료/수지(중량비)=80/20의 카본 블랙 안료 분산액 CB-1을 얻었다.
프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(14.31g)에 광중합 개시제로서 "아데카(등록 상표) 크루즈" NCI-831(1.69g)을 첨가하고, 고형분이 용해될 때까지 교반하였다.
또한, 아크릴 중합체 (P-1)의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 40중량％ 용액(5.50g), 다관능 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸(주) 제조)의 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 50중량％ 용액(3.61g), 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물인 "알론 옥세탄" OXT-191(이하, 「옥세탄 화합물 1」; 도아 고세 가부시끼가이샤 제조)의 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 50중량％ 용액(0.41g), KBM5103(신에츠 가가쿠(주) 제조; 0.41g) 및 계면활성제로서 실리콘계 계면활성제 BYK333의 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 10중량％ 용액(0.24g)을 첨가하고, 실온에서 1시간 교반을 행함으로써 감광성 레지스트를 얻었다. 이 감광성 레지스트에 상기 안료 분산액 1을 13.93g, 안료 분산액 2를 19.90g 첨가함으로써 전체 고형분 농도 23％, 안료/수지(중량비)=46/54의 감광성 흑색 수지 조성물 1을 제조하였다.
제조한 감광성 흑색 수지 조성물 1을 2㎛의 테플론(등록 상표)제 필터로 여과한 후, 막 두께가 1㎛(포스트베이킹 후)가 되도록 소다 유리 기판 상에 스핀 코팅 장치(1H-DS; 미카사(주) 제조)로 도포하고, 도포한 기판을 90℃의 핫 플레이트 상의 핀상 돌기물로 2분 가열 처리하고, 2분간 핫 플레이트 상에 직접 기판을 정치시켜 프리베이킹을 행하였다. 이 도포막에 마스크 얼라이너(PEM-6M; 유니온 고가꾸(주) 제조)를 사용하여, 해상도 테스트용 마스크를 통해 자외선을 200mJ/cm2의 노광량으로 노광하였다.
이어서, 0.1중량％ TMAH 수용액의 알칼리 현상액으로 현상하고, 이어서 순수(純水) 세정함으로써 패터닝 기판을 얻었다. 얻어진 패터닝 기판을 열풍 오븐 내 230℃에서 30분 유지시키고, 포스트베이킹을 행함으로써 수지 BM 기판 1을 얻었다.
실시예 2
사용하는 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물 1 대신에 실세스퀴옥산 구조를 갖는 옥세탄 화합물인 OX-SQ TX-100(이하, 「옥세탄 화합물 2」; 도아 고세 가부시끼가이샤 제조)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 흑색 수지 조성물 2를 얻었다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 2를 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 2를 얻었다.
실시예 3
사용하는 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물 1 대신에 실세스퀴옥산 구조를 갖는 옥세탄 화합물인 OX-SQ SI-20(이하, 「옥세탄 화합물 3」; 도아 고세 가부시끼가이샤 제조)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 흑색 수지 조성물 3을 얻었다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 3을 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 3을 얻었다.
실시예 4
사용하는 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물 1 대신에 "알론 옥세탄(등록 상표)" TMSOX(이하, 「옥세탄 화합물 4」; 도아 고세 가부시끼가이샤 제조)를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 흑색 수지 조성물 4를 얻었다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 4를 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 4를 얻었다.
실시예 5
사용하는 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물 1 대신에 "알론 옥세탄(등록 상표)" OXT-101(이하, 「옥세탄 화합물 5」; 도아 고세 가부시끼가이샤 제조)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 흑색 수지 조성물 5를 얻었다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 5를 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 5를 얻었다.
실시예 6
사용하는 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물 1 대신에 "알론 옥세탄(등록 상표)" OXT-221(이하, 「옥세탄 화합물 6」; 도아 고세 가부시끼가이샤 제조)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 흑색 수지 조성물 6을 얻었다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 6을 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 6을 얻었다.
실시예 7
사용하는 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물 1의 첨가량을 3.0％로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 흑색 수지 조성물 7을 얻었다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 7을 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 7을 얻었다.
실시예 8
사용하는 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물 1의 첨가량을 5.0％로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 흑색 수지 조성물 8을 얻었다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 8을 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 8을 얻었다.
실시예 9
사용하는 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물 1의 첨가량을 7.0％로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 흑색 수지 조성물 9를 얻었다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 9를 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 9를 얻었다.
실시예 10
사용하는 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물 1의 첨가량을 10.0％로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 흑색 수지 조성물 10을 얻었다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 10을 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 10을 얻었다.
실시예 11
프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(19.05g)에 광중합 개시제로서 "아데카(등록 상표) 크루즈" NCI-831(1.69g)을 첨가하고, 고형분이 용해될 때까지 교반하였다. 또한 아크릴 중합체 (P-1)의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 40중량％ 용액(6.73g), 다관능 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸(주) 제조)의 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 50중량％ 용액(3.62g), 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물인 OXT-191(도아 고세 가부시끼가이샤 제조)의 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 50중량％ 용액(0.41g) 및 신에츠 가가쿠(주) 제조 KBM5103(0.41g), 계면활성제로서 실리콘계 계면활성제 BYK333의 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 10중량％ 용액(0.24g)을 첨가하고, 실온에서 1시간 교반을 행함으로써 감광성 레지스트를 얻었다. 이 감광성 레지스트에 상기 티타늄 블랙 안료 분산액 TB-1을 27.84g 첨가함으로써 전체 고형분 농도 23％, 안료/수지(중량비)=46/54의 감광성 흑색 수지 조성물 11을 제조하였다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 11을 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 11을 얻었다.
실시예 12
프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(9.57g)에 광중합 개시제로서 "아데카(등록 상표) 크루즈" NCI-831(1.69g)을 첨가하고, 고형분이 용해될 때까지 교반하였다. 또한 아크릴 수지 (P-1)의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 40중량％ 용액(4.28g), 다관능 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸(주) 제조)의 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 50중량％ 용액(3.60g), 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물인 OXT-191(도아 고세 가부시끼가이샤 제조)의 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 50중량％ 용액(0.41g), KBM5103(0.41g) 및 계면활성제로서 실리콘계 계면활성제 BYK333의 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 10중량％ 용액(0.24g)을 첨가하고, 실온에서 1시간 교반을 행함으로써 감광성 레지스트를 얻었다. 이 감광성 레지스트에 카본 블랙 안료 분산액 CB-1을 19.9g 첨가함으로써, 전체 고형분 농도 23％, 안료/수지(중량비)=46/54의 감광성 흑색 수지 조성물 12를 제조하였다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 12를 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 12를 얻었다.
비교예 1
사용하는 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물 1 대신에 오르토규산테트라메틸을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 흑색 수지 조성물 13을 얻었다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 13을 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 13을 얻었다.
비교예 2
사용하는 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물을 첨가하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 흑색 수지 조성물 14를 얻었다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 14를 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 14를 얻었다.
비교예 3
사용하는 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물 1의 첨가량을 0.5％로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 흑색 수지 조성물 15를 얻었다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 15를 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 15를 얻었다.
비교예 4
사용하는 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물 1의 첨가량을 13.0％로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 흑색 수지 조성물 16을 얻었다. 또한, 감광성 흑색 수지 조성물 16을 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 수지 BM 기판 16을 얻었다. 얻어진 수지 BM 기판 16에 대하여, 패턴 형상, 현상 접착성 및 OD값에 대하여 하기 방법으로 평가를 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[현상 접착성]
상기 방법과 마찬가지로 선 폭이 상이한 수지 BM을 형성하고, 각 선 폭에 있어서 패턴의 박리나 결함이 발생하지 않았는지 육안으로 판정을 행하였다. 또한, 판정은, ○: 결함ㆍ박리 없음, ×: 결함ㆍ박리 있음으로 하였다.
[패턴 직선성]
패턴 가공 부분의 직선성에 대하여 BH-C1410(올림푸스(주) 제조)을 사용하여 평가를 행하였다. 판정에 대해서는 직선성이 양호한 것은 ○, 사행(蛇行)이나 형상 단부에 결함이 보이는 것은 정도에 따라 △, ×로 하였다.
[OD값]
X-라이트 361T(비주얼) 덴시토미터(X-rite 361T(visual) densitometer)를 사용하여 하기 관계식으로부터 구한 것이다.
OD값=log10(I0/I)
여기서, I0은 입사광 강도, I는 투과광 강도이다. 또한, OD값은 막 두께에 비례하여 차광성의 크기는 막 두께에 비례하기 때문에, 본 발명에서는 1.0㎛당의 OD값으로서 나타내고 있다.
표 1에 나타낸 결과에 대하여, 밀착 개량제로서 옥세탄 화합물을 첨가함으로써 측쇄의 치환기의 종류에 관계 없이 패턴 직선성에 개선이 보인다. 또한, 실릴기를 포함하는 옥세탄을 첨가함으로써 현상 접착성, 패턴 직선성이 모두 우수한 감광성 흑색 수지 조성물이 얻어지는 결과가 되었다.
옥세탄 화합물의 첨가량에 대하여, 페이스트 고형분에 대하여 1.5％ 이하 또는 10.0％ 이상으로 한 경우에는 현상 접착성에 대하여 떨어진 결과가 되며, 적절한 첨가량은 1.5 내지 10.0％이다.
비교예 1로서, 옥세탄환을 갖지 않고 실릴기만을 갖는 오르토규산테트라메틸을 첨가했지만, 현상 접착성, 패턴 직선성이 모두 개선되어 있지 않아, 본 발명의 요건인 실릴기를 갖는 옥세탄 화합물이 감광성 흑색 수지 조성물의 현상성, 패턴 직선성을 향상시키고 있는 결과가 되었다.
Figure 112014086396034-pct00009

Claims (4)

  1. 적어도 차광재, 알칼리 가용성 수지, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 감광성 흑색 수지 조성물에 있어서, 적어도 하기 화학식 (A)의 구조를 갖는 옥세탄 화합물을 첨가제로서 포함하고, 상기 옥세탄 화합물이 실릴기를 갖고, 상기 옥세탄 화합물을 차광재와 알칼리 가용성 수지의 총합에 대하여 1.5 내지 10.0중량％ 포함하는, 감광성 흑색 수지 조성물.
    Figure 112019023888070-pct00010

    (여기서, R1, R2는 각각 동일할 수도 상이할 수도 있고, R1은 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, 알킬기는 치환기를 더 갖고 있을 수도 있고, R2는 수소 원자, 실릴기 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, 실릴기 및 알킬기는 치환기를 더 갖고 있을 수도 있음)
  2. 제1항에 있어서, 상기 차광재/수지 성분의 중량 조성비는 80/20 내지 40/60인 감광성 흑색 수지 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 옥세탄 화합물이 하기 화학식 (B)로 표시되는 것인 감광성 흑색 수지 조성물.
    Figure 112014086396034-pct00011

    (여기서, X는 하기 옥세탄 화합물을 나타내고, n은 10 이하의 자연수를 나타냄)
    Figure 112014086396034-pct00012

    (여기서, *는 연결 부분을 나타내고, R1은 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, 알킬기는 치환기를 더 갖고 있을 수도 있음)
  4. 제1항 또는 제2항에 기재된 감광성 흑색 수지 조성물을 투명 기판 상에 도포하고, 패턴 형성하여 얻어진 것인 수지 블랙 매트릭스 기판.
KR1020147025452A 2012-03-26 2013-03-08 감광성 흑색 수지 조성물 및 수지 블랙 매트릭스 기판 KR101998449B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2012-068902 2012-03-26
JP2012068902 2012-03-26
PCT/JP2013/056437 WO2013146183A1 (ja) 2012-03-26 2013-03-08 感光性黒色樹脂組成物及び樹脂ブラックマトリックス基板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140148377A KR20140148377A (ko) 2014-12-31
KR101998449B1 true KR101998449B1 (ko) 2019-07-09

Family

ID=49259451

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147025452A KR101998449B1 (ko) 2012-03-26 2013-03-08 감광성 흑색 수지 조성물 및 수지 블랙 매트릭스 기판

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JP5333696B1 (ko)
KR (1) KR101998449B1 (ko)
CN (1) CN104204945B (ko)
SG (1) SG11201405096WA (ko)
TW (1) TWI575314B (ko)
WO (1) WO2013146183A1 (ko)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI544281B (zh) * 2014-11-25 2016-08-01 奇美實業股份有限公司 黑色矩陣用之感光性樹脂組成物及其應用
TWI613486B (zh) * 2014-08-01 2018-02-01 Toppan Printing Co Ltd 黑色電極基板、黑色電極基板之製造方法、及顯示裝置
TWI564657B (zh) * 2014-08-28 2017-01-01 Chi Mei Corp Photosensitive resin composition for color filter and its application
JP6607682B2 (ja) * 2015-03-05 2019-11-20 日鉄ケミカル＆マテリアル株式会社 遮光膜用黒色樹脂組成物、当該組成物を硬化させた遮光膜を有する遮光膜付基板、並びに当該遮光膜付基板を有するカラーフィルター及びタッチパネル
WO2016194619A1 (ja) * 2015-05-29 2016-12-08 住友ベークライト株式会社 着色感光性樹脂組成物、着色パターンまたはブラックマトリクス、カラーフィルタ、液晶表示装置または固体撮像素子およびカラーフィルタの製造方法
KR102431444B1 (ko) 2015-07-14 2022-08-11 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
WO2019059169A1 (ja) * 2017-09-22 2019-03-28 東レ株式会社 透明感光性樹脂組成物、フォトスペーサー、液晶表示装置、フォトスペーサーの製造方法、液晶表示装置の製造方法および透明感光性樹脂組成物のレンズスキャン露光への使用
JP6842560B2 (ja) * 2017-09-26 2021-03-17 富士フイルム株式会社 構造体、隔壁形成用組成物、固体撮像素子および画像表示装置
KR102229633B1 (ko) * 2017-12-26 2021-03-17 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
KR102284582B1 (ko) * 2018-04-04 2021-08-02 삼성에스디아이 주식회사 적색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
KR20210115795A (ko) * 2020-03-16 2021-09-27 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 블랙 매트릭스 및 화상표시장치
TWI744014B (zh) 2020-09-29 2021-10-21 新應材股份有限公司 黑色樹脂組成物、硬化膜以及黑色濾光片

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012002134A1 (ja) * 2010-07-02 2012-01-05 東レ株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物フィルムおよびこれらを用いた半導体装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3230800B2 (ja) 1997-03-06 2001-11-19 日本化薬株式会社 黒色感放射線性樹脂組成物、黒色硬化膜及びブラックマトリックス
JP3921730B2 (ja) 1997-04-08 2007-05-30 三菱化学株式会社 カラーフィルター用光重合性組成物
JP2005258460A (ja) 1999-09-17 2005-09-22 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
JP2001228610A (ja) 2000-02-15 2001-08-24 Showa Denko Kk 感光性樹脂組成物及び硬化皮膜の製造方法
JP4606684B2 (ja) * 2000-03-29 2011-01-05 学校法人神奈川大学 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物、その感光性ドライフィルム及びそれを用いたパターン形成方法
JP4034588B2 (ja) * 2001-12-25 2008-01-16 旭化成ケミカルズ株式会社 感光性を有する着色性組成物およびその硬化物
JP2004347916A (ja) 2003-05-23 2004-12-09 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ形成用感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP2006008740A (ja) * 2004-06-22 2006-01-12 Nitto Denko Corp 紫外線硬化型樹脂組成物
JP4809006B2 (ja) * 2005-07-05 2011-11-02 太陽ホールディングス株式会社 着色感光性樹脂組成物及びその硬化物
JP4763390B2 (ja) * 2005-09-05 2011-08-31 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物
JP4706560B2 (ja) 2006-05-29 2011-06-22 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP4947300B2 (ja) * 2007-06-14 2012-06-06 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズならびにそれらの形成方法
JP5454571B2 (ja) * 2009-03-30 2014-03-26 Ｊｓｒ株式会社 着色組成物、カラーフィルタ及びカラー液晶表示素子
JP2011048064A (ja) * 2009-08-26 2011-03-10 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性樹脂組成物及び積層体、並びにこれを用いた電磁波シールド及び透明導電性基板
JP5515714B2 (ja) * 2009-12-16 2014-06-11 Ｊｓｒ株式会社 着色組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
KR20110130151A (ko) * 2010-05-27 2011-12-05 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 액정 표시 장치
JP2012008262A (ja) * 2010-06-23 2012-01-12 Fujifilm Corp 着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、およびそれを備えた表示装置
KR20120002864A (ko) * 2010-07-01 2012-01-09 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 액정 표시 장치

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012002134A1 (ja) * 2010-07-02 2012-01-05 東レ株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物フィルムおよびこれらを用いた半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2013146183A1 (ja) 2015-12-10
CN104204945B (zh) 2017-10-03
TW201348864A (zh) 2013-12-01
TWI575314B (zh) 2017-03-21
KR20140148377A (ko) 2014-12-31
WO2013146183A1 (ja) 2013-10-03
CN104204945A (zh) 2014-12-10
SG11201405096WA (en) 2014-11-27
JP5333696B1 (ja) 2013-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101998449B1 (ko) 감광성 흑색 수지 조성물 및 수지 블랙 매트릭스 기판
JP4821206B2 (ja) カラーフィルター用感光性着色組成物、およびカラーフィルター
TWI719016B (zh) 著色感光性樹脂組合物、濾色器及具備其之圖像顯示裝置
JP6172395B2 (ja) 着色樹脂組成物、着色膜、加飾基板及びタッチパネル
JP2007034119A5 (ko)
JP2006259716A (ja) 感光性着色組成物およびカラーフィルター
JP2008122750A (ja) カラーフィルター用感光性レジスト組成物およびカラーフィルター
JP2010097210A (ja) 感光性黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス基板、カラーフィルター基板および液晶表示装置
JP2015041104A (ja) 着色感光性樹脂組成物、これを含むカラーフィルタおよび表示装置
JPWO2018061384A1 (ja) 感光性樹脂組成物、導電性パターンの製造方法、基板、タッチパネル及びディスプレイ
CN107111232A (zh) 用于液晶显示面板的黑色矩阵光致抗蚀剂组合物
JP6365298B2 (ja) 樹脂ブラックマトリクス基板およびタッチパネル
KR102548098B1 (ko) 착색 수지 조성물
JPWO2011129312A1 (ja) ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、およびタッチパネル用部材
CN107272341B (zh) 遮光膜用感光性树脂组合物、显示器用基板及其制造方法
WO2014126088A1 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機ｅｌ表示装置
JP2015001654A (ja) 積層樹脂ブラックマトリクス基板の製造方法
JP2017173787A (ja) 着色感光性樹脂組成物、これを含むカラーフィルタおよび表示装置
JP6330412B2 (ja) 遮光膜形成基板及びタッチパネル
JP2008249987A (ja) 感光性レジスト組成物およびカラーフィルター
JP2009204641A (ja) カラーフィルター用感光性着色組成物、およびカラーフィルター
JP2015001655A (ja) 積層樹脂ブラックマトリックス基板
JP2016126324A (ja) 着色感光性樹脂組成物
JP2008233605A (ja) カラーフィルター用感光性レジスト組成物およびカラーフィルター
JP2012058498A (ja) カラーフィルター用感光性着色組成物及びカラーフィルター

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant