WO2013146183A1 - 感光性黒色樹脂組成物及び樹脂ブラックマトリックス基板 - Google Patents

感光性黒色樹脂組成物及び樹脂ブラックマトリックス基板 Download PDF

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WO2013146183A1
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resin
resin composition
substrate
black
photosensitive
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PCT/JP2013/056437
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相原涼介
井上欣彦
Original Assignee
東レ株式会社
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/22—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive black resin composition and a resin black matrix substrate.
  • the black matrix material Conventionally, a metal thin film using a chromium-based material has been used as the black matrix material, but in recent years, a resin black matrix made of a resin and a light shielding material has been used from the viewpoint of cost and environmental pollution.
  • the resin black matrix is obtained by applying a black resin composition containing a resin and a light shielding material such as carbon black on a substrate and drying it to form a black film, which is finely patterned into a lattice pattern by a photolithography method. .
  • a light-shielding film is formed as a frame on the periphery of touch panel substrates, but high development adhesion and high-definition pattern processing are required even when the volume ratio of the light-shielding material is increased as with color filters. Is done.
  • the black matrix itself is light-shielding, photocuring due to exposure is less likely to occur near the interface with the substrate in the photosensitive resin black matrix. Therefore, the higher the light-shielding property of the resin black matrix, the worse the adhesiveness with the glass substrate during development, and the light-shielding property and development adhesiveness have a trade-off relationship.
  • the black resin composition having a high optical density contains many inorganic particles as a pigment, there is a problem that the compatibility with the alkali developer is poor and a fine pattern is lost during development.
  • tertiary amine compounds, trivalent phosphorus compounds, epoxy silanes, etc. are known as additives for increasing the sensitivity of the resin black matrix and causing the photopolymerization reaction to occur near the interface with the substrate. ing.
  • Patent Documents 4 and 5 In a photosensitive resin composition containing a pigment, a cured film made of a copolymer resin containing an oxetanyl group as a structural unit is effective for physical adhesion to a substrate. There was knowledge that there was (Patent Document 6).
  • Patent Documents 1 to 3 a film having a high optical density of a resin black matrix is observed at the substrate interface. Insufficient curing reaction may affect the adhesiveness during development, and the adhesiveness during development is easily affected by the underlying substrate, soda glass generally used in touch panel applications. Therefore, it was thought that it would be difficult to obtain a high-definition patterning substrate.
  • the black resin composition having a high optical density of the resin black matrix and containing a lot of pigment particles is still insufficient in compatibility with the developer, and the fine pattern has been peeled off during development.
  • the inventors have also paid attention to compatibility.
  • the present invention was devised in view of the drawbacks of the prior art, and the object of the present invention is that when a resin black matrix is formed on a glass substrate, the adhesion to the substrate at the time of development is good, and the developer and
  • a resin black matrix substrate using such a photosensitive black resin composition, as well as a color filter and a light-shielding film for touch panels are provided. There is to do.
  • Patent Documents 4 and 5 an oxetane compound is described, and there was a knowledge that a cured film after post-baking is excellent in physical adhesion with a substrate and in resolution and sensitivity. There is no knowledge about the adhesiveness to the substrate, and the optical density of the resin black matrix is high and application to a black resin composition containing a large amount of pigment particles has not been described.
  • Patent Document 6 in a photosensitive resin composition containing a pigment, a post-baked cured film made of a copolymer resin containing an oxetanyl group as a structural unit is effective for physical adhesion to a substrate.
  • a post-baked cured film made of a copolymer resin containing an oxetanyl group as a structural unit is effective for physical adhesion to a substrate.
  • the adhesion to the substrate during development and the developer is easily manifested in a black resin composition containing a large amount of pigment particles.
  • compatibility There was no knowledge about the compatibility.
  • the present inventors have found that the above problem can be solved by adding an appropriate amount of a specific oxetane compound.
  • the object of the present invention is achieved by the following configurations.
  • an oxetane compound having at least the structure of the following general formula (A) is included as an additive, A photosensitive black resin composition comprising 1.5 to 10.0% by weight based on the total of a light shielding material and an alkali-soluble resin.
  • the photosensitive black resin composition according to (1) or (2), wherein the oxetane compound is represented by the following structural formula (B).
  • a resin black matrix substrate obtained by applying the photosensitive black resin composition according to any one of (1) to (3) above onto a transparent substrate to form a pattern.
  • the black resin composition of the present invention By using the black resin composition of the present invention, there is an effect that a resin black matrix substrate excellent in development adhesiveness and pattern processing accuracy can be obtained.
  • the photosensitive black resin composition of the present invention needs to contain at least a light-shielding material, an alkali-soluble resin, a photopolymerization initiator, and a solvent.
  • the photosensitive black resin composition of the present invention comprises printing ink, inkjet ink, photomask preparation material, printing proof preparation material, etching resist, solder resist, plasma display panel (PDP) partition, dielectric pattern, electrode ( Conductive circuit) patterns, wiring patterns of electronic components, conductive pastes, conductive films or black matrix (hereinafter referred to as “BM”) and the like can be used for the production of shading images.
  • a light-shielded image (including BM) is provided on the interval portion of the coloring pattern, the peripheral portion, the outside light side of the TFT, and the like. It can be suitably used for a light shielding film used in the peripheral portion of the touch panel substrate.
  • a liquid crystal display device a plasma display device, an EL display device equipped with an inorganic EL, a CRT display device, a black edge provided at the periphery of a display device equipped with a touch panel, red, blue, green It is suitably used as a BM such as a grid-like or stripe-like black portion between colored pixels, more preferably a dot-like or linear black pattern for TFT light shielding.
  • a BM such as a grid-like or stripe-like black portion between colored pixels, more preferably a dot-like or linear black pattern for TFT light shielding.
  • the light shielding material used in the present invention for example, carbon black, titanium black, chromium oxide, iron oxide, aniline black, perylene pigment or C.I. I.
  • black pigments such as Solvent Black 123, carbon black coated with resin, inorganic black pigments such as composite oxides such as titanium, manganese, iron, copper or cobalt, or a combination of an organic pigment and a black pigment.
  • carbon black or titanium nitride is preferable because it has high light shielding properties.
  • alkali-soluble resin used in the present invention examples include an epoxy resin, an acrylic resin, a siloxane polymer resin, or a polyimide resin, and an acrylic resin or a polyimide that is excellent in the storage stability of the composition and the heat resistance of the coating film. Resins are preferred.
  • an acrylic resin having a carboxyl group is preferably used.
  • the acrylic resin having a carboxyl group a copolymer of an unsaturated carboxylic acid and an ethylenically unsaturated compound is preferable.
  • the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, and vinyl acetic acid. These may be used alone or in combination with other copolymerizable ethylenically unsaturated compounds.
  • Examples of the copolymerizable ethylenically unsaturated compound include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, N-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, iso-butyl acrylate, iso-butyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, acrylic acid Unsaturated carboxylic acid alkyl esters such as n-pentyl, n-pentyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate or benzyl methacrylate, st
  • an acrylic resin having an ethylenically unsaturated group in the side chain because the sensitivity during exposure and development is improved.
  • an acryl group or a methacryl group is preferable.
  • Such an acrylic resin can be obtained by adding an ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group or an alicyclic epoxy group to a carboxyl group of an acrylic (co) polymer having a carboxyl group.
  • acrylic resin having an ethylenically unsaturated group in the side chain examples include, for example, acrylic resins described in known documents (Japanese Patent No. 3120476 and JP-A-8-262221) or commercially available acrylic resins. Examples thereof include a curable resin “Cyclomer (registered trademark) P” (Daicel Chemical Industries, Ltd.) or an alkali-soluble cardo resin.
  • an acrylic resin having an ethylenically unsaturated group in the side chain has an average molecular weight (Mw) of 2,000 to 100,000 (measured by gel permeation chromatography using tetrahydrofuran as a carrier and converted using a standard polystyrene calibration curve)
  • An acrylic resin having an acid value of 70 to 150 (mg KOH / g) is preferable from the viewpoints of photosensitive characteristics, solubility in an ester solvent, and solubility in an alkali developer.
  • a monomer can be further added to the photosensitive black resin composition of the present invention.
  • the monomer include polyfunctional or monofunctional acrylic monomers or oligomers.
  • polyfunctional acrylic monomers include bisphenol A diglycidyl ether (meth) acrylate, poly (meth) acrylate carbamate, modified bisphenol A epoxy (meth) acrylate, adipic acid 1,6-hexanediol (meth) acrylic acid Esters, propylene oxide (phthalate) anhydride (meth) acrylate, trimellitic acid diethylene glycol (meth) acrylate, rosin-modified epoxy di (meth) acrylate, alkyd-modified (meth) acrylate, known literature (Japanese Patent No.
  • a compound having 3 or more functional groups is preferable, a compound having 5 or more functional groups is more preferable, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate or dipentaerythritol penta (meth) acrylate is more preferable.
  • the molecule When using a pigment that absorbs ultraviolet rays that is effective for photocrosslinking, such as black pigment, in addition to dipentaerythritol hexa (meth) acrylate or dipentaerythritol penta (meth) acrylate, the molecule contains many aromatic rings. It is preferable to use a (meth) acrylate having a fluorene ring having high water repellency, because the pattern can be controlled to a desired shape during development.
  • a mixture of 10 to 60 parts by weight of dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and / or dipentaerythritol penta (meth) acrylate and 90 to 40 parts by weight of (meth) acrylate having a fluorene ring is used as a monomer. Is preferred.
  • photopolymerization initiators examples include benzophenone compounds, acetophenone compounds, oxanthone compounds, imidazole compounds, benzothiazole compounds, benzoxazole compounds, oxime ester compounds, carbazole compounds, triazine compounds, phosphorus compounds. Or inorganic type photoinitiators, such as titanate, are mentioned.
  • benzophenone N, N′-tetraethyl-4,4′-diaminobenzophenone, 4-methoxy-4′-dimethylaminobenzophenone, 2,2-diethoxyacetophenone
  • benzoin benzoin methyl ether
  • Benzoin isobutyl ether benzyldimethyl ketal
  • ⁇ -hydroxyisobutylphenone thioxanthone
  • 2-chlorothioxanthone 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
  • 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane "Irgacure (registered trademark)" 369
  • 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone manufactured by Ciba Specialty Chemicals
  • Irgacure registered trademark
  • photopolymerization initiators can be used in combination of two or more.
  • two types selected from the group consisting of “ADEKA (registered trademark) Cruise” NCI-831 are preferable because a photosensitive black resin composition having high sensitivity and good pattern shape can be obtained.
  • an adhesion improving agent can be added for the purpose of improving the adhesiveness with an inorganic substance such as a glass plate or a silicon wafer.
  • an adhesion improving agent for example, a silane coupling agent or a titanium coupling agent can be used.
  • the addition amount of the adhesion improving agent is usually about 0.2 to 20% by weight based on the weight of the polyimide resin or acrylic resin.
  • a polymer dispersant can be added for the purpose of improving the dispersion stability of the light shielding material.
  • the polymer dispersant include a polyethyleneimine polymer dispersant, a polyurethane polymer dispersant, and a polyallylamine polymer dispersant. These polymer dispersants are desirably added to such an extent that the photosensitivity and adhesion are not deteriorated, and the addition amount is usually about 1 to 40% by weight with respect to the light shielding material.
  • the weight composition ratio of the light shielding material / resin component is preferably in the range of 80/20 to 40/60, and more preferably in the range of 75/25 to 50/50. , More preferable in terms of the balance of adhesion, pattern processability and OD value.
  • the resin component is the total of the polymer, monomer, oligomer and polymer dispersant. If the amount of the resin component is too small, the adhesion of the black coating to the substrate becomes poor. Conversely, if the amount of the light shielding material is too small, the optical density per unit thickness (OD value / ⁇ m) is lowered, causing a problem.
  • water or an organic solvent can be used in accordance with the dispersion stability of the pigment to be dispersed and the solubility of the resin to be added.
  • organic solvent include esters, aliphatic alcohols, (poly) alkylene glycol ether solvents, ketones, amide polar solvents, or lactone polar solvents. preferable. Mixing with other organic solvents is also preferred.
  • the organic solvent is preferably an organic solvent that dissolves the acrylic resin. More specifically, for example, benzyl acetate (boiling point 214 ° C.), ethyl benzoate (boiling point 213 ° C.), methyl benzoate (boiling point 200 ° C.), diethyl malonate (boiling point 199 ° C.), 2-ethylhexyl acetate (boiling point 199 ° C.) 2-butoxyethyl acetate (bp 192 ° C.), propylene glycol monoethyl ether acetate (bp 188 ° C.), diethyl oxalate (bp 185 ° C.), ethyl acetoacetate (bp 181 ° C.), cyclohexyl acetate (bp 174 ° C.), 3-methoxy-buty
  • solvents examples include ethylene glycol monomethyl ether (boiling point 124 ° C.), ethylene glycol monoethyl ether (boiling point 135 ° C.), propylene glycol monoethyl ether (boiling point 133 ° C.), diethylene glycol monomethyl ether (boiling point 193 ° C.).
  • a mixed solvent of two or more components is preferable in order to achieve appropriate volatility and drying properties.
  • the boiling points of all the solvents constituting the mixed solvent are 150 ° C. or less, film thickness uniformity cannot be obtained, the film thickness of the coating end part is increased, and the pigment is applied to the base part for discharging the coating liquid from the slit. Aggregates are formed, causing many problems that streaks occur in the coating film.
  • the mixed solvent contains a large amount of solvent having a boiling point of 200 ° C. or higher, the surface of the coating film becomes sticky and sticking occurs. Therefore, a mixed solvent containing 30 to 75% by weight of a solvent having a boiling point of 150 to 200 ° C. is desirable.
  • the oxetane compound which is an additive in the present invention has a structure represented by the following general formula (A).
  • R 1 and R 2 may be the same or different, and R 1 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the alkyl group further has a substituent.
  • R 2 represents hydrogen, a silyl group, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the silyl group and the alkyl group may further have a substituent.
  • examples of the substituent when the alkyl group further has a substituent include an alkoxy group, an acryloyl group, an acetoxy group, and a silyl group, and R 2 has 1 to 10 carbon atoms.
  • R 2 preferably contains an oxetanyl group.
  • silyl group when the silyl group further has a substituent, examples thereof include an alkyl group, an alkoxy group, an acryloyl group, and an acetoxy group, and it is preferable that they include an oxetanyl group.
  • R 2 preferably has a silyl group, and an oxetane compound represented by the following structural formula (B) is more preferable.
  • X represents the following oxetane compound, and n represents a natural number of 10 or less.
  • R 1 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the alkyl group may further have a substituent.
  • substituent when the alkyl group further has a substituent include an alkoxy group, an acryloyl group, and an acetoxy group.
  • the addition amount of these oxetane compounds is preferably 1.5 to 10.0% by weight with respect to the total of the light-shielding material and the alkali-soluble resin, and is used in such a range that the solubility in the alkali developer does not become too high. 1.5 to 5.0% by weight is more preferable.
  • Examples of the oxetane compound having no silicon atom include “Aron oxetane (registered trademark)” OXT-101 (3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane) represented by the following general formula (C), “Aron oxetane (registered trademark)” OXT-221 (3-ethyl-3 ⁇ [(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy ⁇ methyl ⁇ oxetane) or "Aron oxetane (registered trademark)” OXT- 121 (main component 1,4-bis [[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl] benzene) (above, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), “Etanacol (registered trademark)” OXBP (bis [(3 -Ethyl-3-oxetanyl) methyl] biphenyl-4
  • An oxetane compound having the following formula for example, OX-SQ TX-100 or SI-20; above, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.
  • a surfactant can be added to the photosensitive black resin composition of the present invention for the purpose of preventing Benard cells while improving the coatability and the smoothness of the colored film.
  • the addition amount of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by weight of the pigment, and more preferably 0.01 to 1% by weight. If the addition amount is too small, the coating property and the smoothness of the colored coating are not improved and the effect of preventing Benard cell is not obtained. If the addition amount is too large, the physical properties of the coating film may be poor.
  • the surfactant examples include an anionic surfactant such as ammonium lauryl sulfate or polyoxyethylene alkyl ether sulfate triethanolamine, a cationic surfactant such as stearylamine acetate or lauryltrimethylammonium chloride, lauryldimethylamine oxide, or lauryl.
  • Amphoteric surfactants such as carboxymethylhydroxyethylimidazolium betaine
  • nonionic surfactants such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether or sorbitan monostearate
  • silicone-based interfaces mainly composed of polydimethylsiloxane An activator or a fluorosurfactant is mentioned. In the present invention, one or more of these surfactants can be used.
  • the solid content concentration of the resin component (including additives such as monomers and oligomers and a photopolymerization initiator) and the light-shielding material, from the viewpoint of coating properties and drying properties 2 to 30% is preferable, and 5 to 20% is more preferable.
  • the photosensitive black resin composition of the present invention preferably consists essentially of a solvent, a resin component and a light shielding material, and more preferably the total amount of the resin component and the light shielding material is 2 to 30%. More preferably, it is 5 to 20%.
  • the remainder excluding the solid content is a solvent, and as described above, may further contain a surfactant.
  • Examples of the method for producing the photosensitive black resin composition in the present invention include a method of directly dispersing a pigment in a resin solution using a disperser, or a method of dispersing a pigment in water or an organic solvent using a disperser. Then, a method of preparing a pigment dispersion and then mixing it with a resin solution can be mentioned.
  • Examples of the method for dispersing the pigment include a ball mill, a sand grinder, a three-roll mill, and a high-speed impact mill.
  • a bead mill is preferable from the viewpoint of dispersion efficiency and fine dispersion. Examples of the bead mill include a coball mill, a basket mill, a pin mill, and a dyno mill.
  • beads of the bead mill examples include titania beads, zirconia beads, and zircon beads.
  • the bead diameter used for dispersion is preferably 0.01 to 5.0 mm, and more preferably 0.03 to 1.0 mm.
  • fine dispersed beads 0.03 to 0.10 mm.
  • a dispersion bead of 0.10 mm or more because sufficient pulverization force can be obtained and the pigment can be finely dispersed.
  • Examples of the method for applying the photosensitive black resin composition on the transparent substrate include a dipping method, a roll coater method, a spinner method, a die coating method, a method using a wire bar, and a transparent substrate in a solution of the photosensitive black resin composition. And a method of spraying a solution of the photosensitive black resin composition on a transparent substrate.
  • the transparent substrate include quartz glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, inorganic glass such as soda lime glass whose surface is silica-coated, or an organic plastic film or sheet.
  • the photosensitive black resin fat composition After the photosensitive black resin fat composition is applied on a transparent substrate, it is dried and cured by air drying, heat drying or vacuum drying to form a dry film. In order to suppress drying unevenness or transport unevenness when forming the coating, it is preferable to dry and cure the transparent substrate coated with the coating liquid after being dried under reduced pressure using a vacuum dryer equipped with a heating device.
  • the dried film thus obtained is usually patterned using a method such as photolithography.
  • the dry film obtained from the photosensitive resin can be exposed or developed as it is or after an oxygen-blocking film is formed on the surface thereof to form a desired pattern.
  • the resin BM substrate is obtained by heat curing.
  • the heat curing conditions vary depending on the resin, but when an acrylic resin is used, it is generally heated at 200 to 250 ° C. for 1 to 60 minutes.
  • the color filter substrate for liquid crystal display or the light shielding film for touch panel can be manufactured using the resin BM substrate of the present invention. That is, the present invention can provide a color filter substrate for liquid crystal display and a light-shielding film for touch panel, each including the resin BM substrate of the present invention.
  • the color filter is a color filter comprising at least a resin BM substrate in which a resin BM is formed on a partial region of a transparent substrate and pixels formed in a region on the transparent substrate where the resin BM is not formed.
  • the resin BM substrate is the resin BM substrate of the present invention.
  • Example 1 Methyl methacrylate / methacrylic acid / styrene copolymer as an acrylic resin on titanium nitride particles (manufactured by Nissin Engineering Co., Ltd .; 400 g) produced by a thermal plasma method, according to the method described in publicly known literature (Japanese Patent No. 3120476) After synthesizing (weight composition ratio 30/40/30), 40 parts by weight of glycidyl methacrylate was added, reprecipitated with purified water, filtered and dried to obtain an average molecular weight (Mw) of 15,000 and an acid value of 110 (mgKOH / G) acrylic resin (P-1) was obtained.
  • Mw average molecular weight
  • P-1 an acid value of 110 (mgKOH / G) acrylic resin
  • Propylene glycol monomethyl ether acetate 40 wt% solution (187.5 g) of the obtained acrylic resin (P-1), polymer dispersant (BYK21116; manufactured by BYK Chemie; 62.5 g) and propylene glycol monoethyl ether acetate (890 g) ) was stirred in a tank for 1 hour with a homomixer (manufactured by Tokushu Kika) to obtain Preliminary Dispersion 1.
  • Carbon black (TPX1291; made by CABOT; 400 g), acrylic resin (P-1) in 40% by weight propylene glycol monomethyl ether acetate solution (187.5 g), polymer dispersant (BYK21116; 62.5 g) and propylene glycol mono Ethyl ether acetate (890 g) was charged into a tank and stirred with a homomixer for 1 hour to obtain a preliminary dispersion 2. Thereafter, the pre-dispersion liquid 2 was supplied to an ultra apex mill equipped with a centrifugal separator filled with 70% of 0.10 mm ⁇ zirconia beads, dispersed at a rotational speed of 8 m / s for 2 hours, and a solid content concentration of 20% by weight.
  • a carbon black pigment dispersion CB-1 having a pigment / resin (weight ratio) of 80/20 was obtained.
  • a propylene glycol monomethyl ether acetate 40 wt% solution (5.50 g) of acrylic polymer (P-1) and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a polyfunctional monomer 50 wt% solution (3.61 g), propylene glycol monoethyl ether acetate of “Aron oxetane” OXT-191 (hereinafter referred to as “oxetane compound 1”; manufactured by Toagosei Co., Ltd.), which is an oxetane compound as an adhesion improving agent A solution (0.41 g), KBM5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; 0.41 g) and a 10% by weight solution of propylene glycol monoethyl ether acetate (0.24 g) of a silicone surfactant BYK333 as a sur
  • composition 1 was prepared.
  • the prepared photosensitive black resin composition 1 is filtered through a 2 ⁇ m Teflon (registered trademark) filter and spin coated on a soda glass substrate (1H-DS; so that the film thickness becomes 1 ⁇ m (after post-baking)).
  • Micasa Co., Ltd. the coated substrate was heat-treated for 2 minutes with pin-shaped projections on a hot plate at 90 ° C., and the substrate was further left to stand on the hot plate for 2 minutes for prebaking. .
  • a mask aligner (PEM-6M; manufactured by Union Optics Co., Ltd.) was used for this coating film, and ultraviolet rays were exposed at a dose of 200 mJ / cm 2 through a resolution test mask.
  • a patterning substrate was obtained by developing with an alkaline developer of 0.1 wt% TMAH aqueous solution and then washing with pure water.
  • substrate was hold
  • Example 2 Implemented except that OX-SQ TX-100 (hereinafter referred to as “oxetane compound 2”; manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), which is an oxetane compound having a silsesquioxane structure, was used as an adhesion improver in place of oxetane compound 1.
  • oxetane compound 2 OX-SQ TX-100
  • Example 3 Implemented except that OX-SQ SI-20 (hereinafter referred to as “oxetane compound 3”; manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), which is an oxetane compound having a silsesquioxane structure, was used instead of oxetane compound 1 as an adhesion improver to be used.
  • OX-SQ SI-20 hereinafter referred to as “oxetane compound 3”; manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.
  • oxetane compound 3 which is an oxetane compound having a silsesquioxane structure
  • photosensitive black resin composition 3 was obtained.
  • substrate 3 was obtained similarly to Example 1 using the photosensitive black resin composition 3.
  • Example 4 Photosensitivity in the same manner as in Example 1 except that “Aron oxetane (registered trademark)” TMSOX (hereinafter referred to as “oxetane compound 4”; manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used in place of oxetane compound 1 as the adhesion improver to be used. A black resin composition 4 was obtained. Moreover, the resin BM board
  • Example 5 The same procedure as in Example 1 was performed except that “Aron oxetane (registered trademark)” OXT-101 (hereinafter referred to as “oxetane compound 5”; manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used instead of oxetane compound 1 as the adhesion improver to be used.
  • the photosensitive black resin composition 5 was obtained.
  • substrate 5 was obtained similarly to Example 1 using the photosensitive black resin composition 5.
  • Example 6 Photosensitive in the same manner as in Example 1 except that Alonoxetane (registered trademark) “OXT-221 (hereinafter referred to as“ oxetane compound 6 ”; manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used in place of oxetane compound 1 as the adhesion improver to be used. Black resin composition 6 was obtained. Moreover, the resin BM board
  • Example 7 A photosensitive black resin composition 7 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of the oxetane compound 1 was changed to 3.0% as an adhesion improver to be used. Moreover, the resin BM board
  • Example 8 A photosensitive black resin composition 8 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of the oxetane compound 1 was changed to 5.0% as the adhesion improver to be used. Moreover, the resin BM board
  • Example 9 A photosensitive black resin composition 9 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of oxetane compound 1 added was 7.0% as an adhesion improver to be used. Moreover, the resin BM board
  • Example 10 A photosensitive black resin composition 10 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of the oxetane compound 1 was 10.0% as the adhesion improver to be used. Moreover, the resin BM board
  • Example 11 “ADEKA (registered trademark) CRUISE” NCI-831 (1.69 g) was added to propylene glycol monoethyl ether acetate (19.05 g) as a photopolymerization initiator and stirred until the solid content was dissolved.
  • a propylene glycol monomethyl ether acetate 40 wt% solution (6.73 g) of acrylic polymer (P-1), dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a polyfunctional monomer 50
  • a 50% by weight solution (0.41 g) of propylene glycol monoethyl ether acetate of OXT-191 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), which is an oxetane compound as an adhesion improver, and Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • Example 12 “ADEKA (registered trademark) CRUISE” NCI-831 (1.69 g) was added to propylene glycol monoethyl ether acetate (9.57 g) as a photopolymerization initiator and stirred until the solid content was dissolved.
  • acrylic resin P-1
  • dipentaerythritol hexaacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co.
  • Comparative Example 1 A photosensitive black resin composition 13 was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetramethyl orthosilicate was used in place of the oxetane compound 1 as the adhesion improver to be used. Moreover, the resin BM board
  • substrate 13 was obtained similarly to Example 1 using the photosensitive black resin composition 13. FIG. 1 A photosensitive black resin composition 13 was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetramethyl orthosilicate was used in place of the oxetane compound 1 as the adhesion improver to be used. Moreover, the resin BM board
  • Comparative Example 2 A photosensitive black resin composition 14 was obtained in the same manner as in Example 1 except that no oxetane compound was added as an adhesion improver to be used. Moreover, the resin BM board
  • substrate 14 was obtained similarly to Example 1 using the photosensitive black resin composition 14. FIG. 1 A photosensitive black resin composition 14 was obtained in the same manner as in Example 1 except that no oxetane compound was added as an adhesion improver to be used. Moreover, the resin BM board
  • Comparative Example 3 A photosensitive black resin composition 15 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of the oxetane compound 1 was changed to 0.5% as the adhesion improver to be used. Moreover, the resin BM board
  • Comparative Example 4 A photosensitive black resin composition 16 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of the oxetane compound 1 was 13.0% as an adhesion improver to be used. Moreover, the resin BM board
  • OD value This is obtained from the following relational expression using an X-rite 361T (visual) densitometer.
  • OD value log 10 (I 0 / I)
  • I 0 the incident light intensity
  • I the transmitted light intensity. Since the OD value is proportional to the film thickness, the light shielding property is proportional to the film thickness. Therefore, in the present invention, the OD value is shown as an OD value per 1.0 ⁇ m.
  • the addition amount of the oxetane compound is 1.5% or less or 10.0% or more with respect to the solid content of the paste, the result is inferior in developing adhesion, and the appropriate addition amount is 1.5 to 10.0%. It is.

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Abstract

本発明は、樹脂ブラックマトリックスをガラス基板上に形成した場合、その現像時における基板への接着性が良く、現像液との相溶性が良く、高精細パターン加工が可能な黒色樹脂組成物を提供するとともに、そのような感光性黒色樹脂組成物を用いた樹脂ブラックマトリックス基板、さらにはカラーフィルター、タッチパネル用遮光膜を提供することを目的とする。本発明は、少なくとも遮光材、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤及び溶媒を含む感光性黒色樹脂組成物において、少なくとも特定の構造を有するオキセタン化合物を添加剤として含み、上記オキセタン化合物を遮光材とアルカリ可溶性樹脂との総和に対して１．５～１０．０重量％含む、感光性黒色樹脂組成物を提供する。

Description

感光性黒色樹脂組成物及び樹脂ブラックマトリックス基板
　本発明は、感光性黒色樹脂組成物及び樹脂ブラックマトリックス基板に関する。
　従来、ブラックマトリックス材料として、クロム系材料を用いた金属薄膜が用いられていたが、近年、コストや環境汚染の面から樹脂と遮光材からなる樹脂ブラックマトリックスが用いられている。樹脂ブラックマトリックスは、樹脂とカーボンブラック等の遮光材を含有する黒色樹脂組成物を基板上に塗布、乾燥して黒色被膜を形成し、これをフォトリソグラフィー法により格子状に微細パターン化して得られる。
　近年、液晶表示装置の小型化及び表示するコンテンツが文字から画像へと多様化したことにより、カラーフィルターの高性能化、高精細化が要求され、樹脂ブラックマトリックスに対しては、高遮光性（ＯＤ値）及び薄膜化、そして細線加工の要求が高まっている。遮光材の体積比率を増加させることにより高ＯＤ値化及び薄膜化は達成されるものの、樹脂ブラックマトリックス中の樹脂比率を減少させることになり樹脂ブラックマトリックスとガラスとの接着性が低下し、アルカリ現像時に樹脂ブラックマトリックスが剥がれるといった問題が生じる。そこでガラス基板との現像接着性が良く、高精細なパターン加工が可能な樹脂ブラックマトリックスが必要となる。
　また、タッチパネル用基板においても周辺部の額縁として遮光膜が形成されるが、カラーフィルターと同様に遮光材の体積比率を増加させた場合においても高い現像接着性と、高精細なパターン加工が要求される。
　しかしながら、ブラックマトリックスはそれ自身が遮光性であるため、感光性の樹脂ブラックマトリックスにおいては露光による光硬化が基板との界面付近では起こりにくくなっている。そのため、樹脂ブラックマトリックスの遮光性が高くなるほど現像時のガラス基板との接着性が悪くなり、遮光性と現像接着性はトレードオフの関係にあった。
　また、光学濃度の高い黒色樹脂組成物は顔料として無機粒子を多く含んでいるため、アルカリ現像液との相溶性が悪く、現像時に微細なパターンが欠落するという問題があった。
　これらの問題を解決するため、樹脂ブラックマトリックスの感度を上げ、基板との界面付近まで光重合反応が起こすための添加剤として第三級アミン化合物、３価のリン化合物、エポキシシラン等が知られている。（特許文献１～３）しかし、高精細なパターニング基板を得ることが困難であった。
　一方、顔料を含まない系においては、オキセタン化合物を添加剤として加えた感光性樹脂組成物が知られている。（特許文献４及び５）また、顔料を含む感光性樹脂組成物において、オキセタニル基を構造単位として含む共重合体の樹脂からなる硬化膜が、基板との物理的な密着性に対して有効であるとの知見があった（特許文献６）。
特開平１０－２８２３２５公報 特開平１０－２４６９５５公報 特開２００４－３４７９１６公報 特開２００５－２５８４６０公報 特開２００１－２２８６１０公報 特開２００７－３１６５０６公報
　本発明者らは、まず現像時の微細パターンの剥がれにくさの指標となる、現像接着性に着目して、特許文献１～３では、樹脂ブラックマトリックスの光学濃度が高い膜に関しては基板界面での硬化反応が不十分であり現像時の接着性に影響を与えるのではないか、さらに現像時の接着性は下地基板の影響を受けやすく、特にタッチパネル用途で一般的に使用されているソーダガラスとの接着性が悪いことから、高精細なパターニング基板を得ることが困難になるのではないかと考えた。
　また、樹脂ブラックマトリックスの光学濃度が高く、顔料粒子を多く含む黒色樹脂組成物においては現像液との相溶性がなお不十分であり、現像時に微細パターンの剥がれが起こっていた。本発明者らは、相溶性にも着目したものである。
　本発明はかかる従来技術の欠点に鑑み創案されたもので、その目的とするところは、樹脂ブラックマトリックスをガラス基板上に形成した場合、その現像時における基板への接着性が良く、現像液との相溶性が良く、高精細パターン加工が可能な黒色樹脂組成物を提供するとともに、そのような感光性黒色樹脂組成物を用いた樹脂ブラックマトリックス基板、さらにはカラーフィルター、タッチパネル用遮光膜を提供することにある。
　特許文献４及び５では、オキセタン化合物が記載され、ポストベイク後の硬化膜が基板との物理的な密着性に優れ、解像性、感度においても優れているとの知見があったが、現像時の基板との接着性に関する知見はなく、また、樹脂ブラックマトリックスの光学濃度が高く、顔料粒子を多く含む黒色樹脂組成物への適用は記載されていなかった。
　一方、特許文献６では、顔料を含む感光性樹脂組成物において、オキセタニル基を構造単位として含む共重合体の樹脂からなるポストベイク後の硬化膜が、基板との物理的な密着性に対して有効であるとの知見があったが、共重合体としての使用であり、現像時の基板との接着性に関する知見はなく、また、顔料粒子を多く含む黒色樹脂組成物において顕在化しやすい、現像液との相溶性については知見がなかった。
　ここで、本発明者らは、特定のオキセタン化合物を適量添加することで、上記課題が解決できることを見出したものである。
　本発明の目的は以下の構成により達成される。
（１）　少なくとも遮光材、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤及び溶媒を含む感光性黒色樹脂組成物において、少なくとも下記一般式（Ａ）の構造を有するオキセタン化合物を添加剤として含み、上記オキセタン化合物を遮光材とアルカリ可溶性樹脂との総和に対して１．５～１０．０重量％含む、感光性黒色樹脂組成物。
（２）　上記オキセタン化合物がシリル基を有する、上記（１）に記載の感光性黒色樹脂組成物。
（３）　上記オキセタン化合物が下記構造式（Ｂ）で表される、上記（１）又は（２）に記載の感光性黒色樹脂組成物。
（４）　上記（１）～（３）のいずれかに記載の感光性黒色樹脂組成物を透明基板上に塗布し、パターン形成して得られた樹脂ブラックマトリックス基板。
　本発明の黒色樹脂組成物を用いることにより、現像接着性、パターン加工精度に優れた樹脂ブラックマトリックス基板が得られるという効果がある。
　本発明の感光性黒色樹脂組成物は、少なくとも遮光材とアルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤及び溶媒を含むことが必要であり、以下にその望ましい特性を示す。
　本発明の感光性黒色樹脂組成物は、印刷インク、インクジェットインク、フォトマスク作製材料、印刷用プルーフ作製用材料、エッチングレジスト、ソルダーレジスト、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の隔壁、誘電体パターン、電極（導体回路）パターン、電子部品の配線パターン、導電ペースト、導電フィルム又はブラックマトリックス（以下、「ＢＭ」）等の遮光画像等の作製に用いることができる。好ましくは、カラー液晶表示装置等に用いるカラーフィルターの表示特性向上のために、着色パターンの間隔部、周辺部分、及びＴＦＴの外光側等に遮光画像（ＢＭを含む。）を設けるためや、タッチパネル基板の周辺部に使用される遮光膜に好適に用いることができる。
　特に好ましくは、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、無機ＥＬを備えたＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置、タッチパネルを具備した表示装置の周辺部に設けられた黒色の縁や、赤、青、緑の着色画素間の格子状やストライプ状の黒色の部分、更に好ましくはＴＦＴ遮光のためのドット状や線状の黒色パターン等のＢＭとして好適に用いられる。
　本発明に使用される遮光材としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、酸化クロム、酸化鉄、アニリンブラック、ペリレン系顔料若しくはＣ．Ｉ．ソルベントブラック１２３等の黒色顔料、樹脂で被覆されたカーボンブラック、チタン、マンガン、鉄、銅若しくはコバルト等の複合酸化物等の無機系ブラック顔料、又は、有機顔料と黒色顔料との組み合わせが挙げられるが、高い遮光性を有することから、カーボンブラック又はチタン窒化物が好ましい。
　本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シロキサンポリマ系樹脂又はポリイミド樹脂が挙げられるが、組成物の貯蔵安定性及び塗膜の耐熱性に優れる、アクリル樹脂又はポリイミド樹脂が好ましい。
　アクリル樹脂としては、カルボキシル基を有するアクリル樹脂が好ましく用いられる。カルボキシル基を有するアクリル樹脂としては、不飽和カルボン酸とエチレン性不飽和化合物との共重合体が好ましい。不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸又はビニル酢酸が挙げられる。これらは単独で用いてもよいが、他の共重合可能なエチレン性不飽和化合物と組み合わせて用いてもよい。
　共重合可能なエチレン性不飽和化合物としては、例えば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ－プロピル、アクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ－プロピル、メタクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ－ブチル、メタクリル酸ｎ－ブチル、アクリル酸ｓｅｃ－ブチル、メタクリル酸ｓｅｃ－ブチル、アクリル酸イソ－ブチル、メタクリル酸イソ－ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ－ブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ－ブチル、アクリル酸ｎ－ペンチル、メタクリル酸ｎ－ペンチル、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルアクリレート若しくはベンジルメタクリレート等の不飽和カルボン酸アルキルエステル、スチレン、ｐ－メチルスチレン、ｏ－メチルスチレン、ｍ－メチルスチレン若しくはα－メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アミノエチルアクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル、グリシジルアクリレート若しくはグリシジルメタクリレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル、酢酸ビニル若しくはプロピオン酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル若しくはα－クロルアクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物、１，３－ブタジエン若しくはイソプレン等の脂肪族共役ジエン、それぞれ末端にアクリロイル基若しくはメタクリロイル基を有するポリスチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルアクリレート又はポリブチルメタクリレートが挙げられるが、メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸メチル、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート又はスチレンから選ばれた２～４元共重合体で平均分子量（Ｍｗ）２千～１０万、酸価７０～１５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）のポリマーがアルカリ現像液に対する溶解性の観点から好ましい。この範囲を外れると、アルカリ現像液に対する溶解速度が低下又は速くなりすぎる。
　また、側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル樹脂を用いると、露光、現像の際の感度がよくなるので好ましい。エチレン性不飽和基としては、アクリル基又はメタクリル基が好ましい。このようなアクリル樹脂は、カルボキシル基を有するアクリル系（共）重合体のカルボキシル基に、グリシジル基又は脂環式エポキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を付加反応させて得ることができる。
　側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル樹脂のとしては、例えば、公知文献（特許第３１２０４７６号公報及び特開平８－２６２２２１号公報）記載のアクリル樹脂、又は、市販のアクリル系樹脂である光硬化性樹脂“サイクロマー（登録商標）Ｐ”（ダイセル化学工業（株））又はアルカリ可溶性カルド樹脂が挙げられる。中でも、側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル樹脂で平均分子量（Ｍｗ）２千～１０万（テトラヒドロフランをキャリヤーとしてゲルパーミェーションクロマトグラフィーで測定し、標準ポリスチレンによる検量線を用いて換算したもの）、酸価７０～１５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）のアクリル樹脂が、感光特性、エステル系溶媒に対する溶解性及びアルカリ現像液に対する溶解性の各観点から好ましい。
　本発明の感光性黒色樹脂組成物には、さらにモノマーを加えることができる。モノマーとしては、例えば、多官能若しくは単官能のアクリル系モノマー又はオリゴマーが挙げられる。多官能のアクリル系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、ポリ（メタ）アクリレートカルバメート、変性ビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、アジピン酸１，６－ヘキサンジオール（メタ）アクリル酸エステル、無水フタル酸プロピレンオキサイド（メタ）アクリル酸エステル、トリメリット酸ジエチレングリコール（メタ）アクリル酸エステル、ロジン変性エポキシジ（メタ）アクリレート、アルキッド変性（メタ）アクリレート、公知文献（特許第３６２１５３３号公報及び特開平８－２７８６３０号公報）記載のフルオレンジアクリレート系オリゴマー、あるいはトリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリアクリルホルマール、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、２，２－ビス［４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］プロパン、ビス［４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］メタン、ビス［４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］スルホン、ビス［４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］エーテル、４，４’－ビス［４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］シクロヘキサン、９，９－ビス［４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン、９，９－ビス［３－メチル－４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン、９，９－ビス［３－クロロ－４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジメタアクリレート、ビスクレゾールフルオレンジアクリレート又はビスクレゾールフルオレンジメタアクリレートが挙げられる。これらは単独又は混合して用いることができる。
　これらの多官能若しくは単官能のアクリル系モノマー又はオリゴマーの選択と組み合わせにより、レジストの感度や加工性の特性をコントロールすることが可能である。とくに感度を上げるためには、官能基が３以上ある化合物が好ましく、官能基が５以上ある化合物がより好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート又はジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートがさらに好ましい。
　黒色顔料のように光架橋に有効な紫外線を吸収する顔料を使用する場合には、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート又はジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートに加え、分子中に芳香環を多く含み撥水性が高いフルオレン環を有する（メタ）アクリレートを併用することが、現像時にパターンを望ましい形状にコントロールできるので好ましい。中でも、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート１０～６０重量部と、フルオレン環を有する（メタ）アクリレート９０～４０重量部との混合物を、モノマーとして用いることが好ましい。
　光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、オキサントン系化合物、イミダゾール系化合物、ベンゾチアゾール系化合物、ベンゾオキサゾール系化合物、オキシムエステル化合物、カルバゾール系化合物、トリアジン系化合物、リン系化合物又はチタネート等の無機系光重合開始剤が挙げられる。
　より具体的には、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’－テトラエチル－４，４’－ジアミノベンゾフェノン、４－メトキシ－４’－ジメチルアミノベンゾフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α－ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、２－クロロチオキサントン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノ－１－プロパン、“イルガキュア（登録商標）”３６９である２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン（チバ・スペシャルティ・ケミカル（株）製）、“イルガキュア（登録商標）”３７９である２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン（チバ・スペシャルティ・ケミカル（株）製）、ＣＧＩ－１１３である２－［４－メチルベンジル］－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン（チバ・スペシャルティ・ケミカル（株）製）、ｔ－ブチルアントラキノン、１－クロロアントラキノン、２，３－ジクロロアントラキノン、３－クロル－２－メチルアントラキノン、２－エチルアントラキノン、１，４－ナフトキノン、９，１０－フェナントラキノン、１，２－ベンゾアントラキノン、１，４－ジメチルアントラキノン、２－フェニルアントラキノン、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール２量体、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、“イルガキュア（登録商標）”ＯＸＥ０１である１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］（チバ・スペシャルティ・ケミカル（株）製）、“イルガキュア（登録商標）”ＯＸＥ０２であるエタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）、ＣＧＩ－２４２であるエタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）、４－（ｐ－メトキシフェニル）－２，６－ジ－（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン（チバ・スペシャルティ・ケミカル（株）製造）又はカルバゾール系化合物である“アデカ（登録商標）オプトマー”Ｎ－１８１８、Ｎ－１９１９若しくは“アデカ（登録商標）クルーズ”ＮＣＩ－８３１（以上、旭電化工業（株）製）が挙げられる。
　これらの光重合開始剤は２種類以上を併用して用いることもでき、中でも、“イルガキュア（登録商標）”３７９、“イルガキュア（登録商標）”ＯＸＥ０２、“アデカ（登録商標）オプトマー”Ｎ－１９１９及び“アデカ（登録商標）クルーズ”ＮＣＩ－８３１からなる群から選ばれる２種類を併用すると高感度でパターン形状が良好な特性を有する感光性黒色樹脂組成物が得られるので好ましい。
　さらに、ガラス板又はシリコンウエハー等の無機物との接着性を向上させる目的で、密着改良剤を加えることができる。密着改良剤としては、例えば、シランカップリング剤又はチタンカップリング剤を使用することができる。密着改良剤の添加量は、通常、ポリイミド樹脂又はアクリル樹脂の重量を基準として０．２～２０重量％程度である。
　また、本発明の感光性黒色樹脂組成物において、遮光材の分散安定性を向上させる目的で、高分子分散剤を加えることができる。高分子分散剤としては、例えば、ポリエチレンイミン系高分子分散剤、ポリウレタン系高分子分散剤又はポリアリルアミン系高分子分散剤が挙げられる。これらの高分子分散剤は感光性や密着性を低下させない程度に添加することが望ましく、その添加量としては、通常、遮光材に対して１～４０重量％程度である。
　本発明の感光性黒色樹脂組成物において、遮光材／樹脂成分の重量組成比は、８０／２０～４０／６０の範囲であることが好ましく、７５／２５～５０／５０の範囲であることが、密着性、パターン加工性及びＯＤ値のバランスの点でより好ましい。ここで、樹脂成分とは、ポリマー、モノマー、オリゴマー及び高分子分散剤の合計とする。樹脂成分の量が少なすぎると、黒色被膜の基板との密着性が不良となり、逆に遮光材の量が少なすぎると厚み当たりの光学濃度（ＯＤ値／μｍ）が低くなり問題となる。
　本発明の黒色樹脂組成物に用いられる溶媒としては、分散する顔料の分散安定性及び添加する樹脂等の溶解性に合わせて、水又は有機溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、例えば、エステル類、脂肪族アルコール類、（ポリ）アルキレングリコールエーテル系溶剤、ケトン類、アミド系極性溶媒又はラクトン系極性溶媒が挙げられるが、これらの２種類以上の混合溶媒も好ましい。またこれら以外の有機溶剤との混合も好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂としてはアクリル樹脂の使用が好ましいことから、有機溶剤としては、アクリル樹脂を溶解する有機溶剤が好ましい。より具体的には、例えば、ベンジルアセテート（沸点２１４℃）、エチルベンゾエート（沸点２１３℃）、メチルベンゾエート（沸点２００℃）、マロン酸ジエチル（沸点１９９℃）、２－エチルヘキシルアセテート（沸点１９９℃）、２－ブトキシエチルアセテート（沸点１９２℃）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（沸点１８８℃）、シュウ酸ジエチル（沸点１８５℃）、アセト酢酸エチル（沸点１８１℃）、シクロヘキシルアセテート（沸点１７４℃）、３－メトキシ－ブチルアセテート（沸点１７３℃）、アセト酢酸メチル（沸点１７２℃）、エチル－３－エトキシプロピオネート（沸点１７０℃）、２－エチルブチルアセテート（沸点１６２℃）、イソペンチルプロピオネート（沸点１６０℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート（沸点１６０℃）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（沸点１５８℃）、酢酸ペンチル（沸点１５０℃）又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点１４６℃）が挙げられる。
　また、上記以外の溶媒としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル（沸点１２４℃）、エチレングリコールモノエチルエーテル（沸点１３５℃）、プロピレングリコールモノエチルエーテル（沸点１３３℃）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（沸点１９３℃）、モノエチルエーテル（沸点１３５℃）、メチルカルビトール（沸点１９４℃）、エチルカルビトール（２０２℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１２０℃）、プロピレングリコールモノエチルエーテル（沸点１３３℃）、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル（沸点１５３℃）若しくはジプロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１８８℃）等の（ポリ）アルキレングリコールエーテル系溶剤、酢酸エチル（沸点７７℃）、酢酸ブチル（沸点１２６℃）若しくは酢酸イソペンチル（沸点１４２℃）等の脂肪族エステル類、ブタノール（沸点１１８℃）、３－メチル－２－ブタノール（沸点１１２℃）若しくは３－メチル－３－メトキシブタノール（沸点１７４℃）等の脂肪族アルコール類、シクロペンタノン若しくはシクロヘキサノン等のケトン類、キシレン（沸点１４４℃）、エチルベンゼン（沸点１３６℃）又はソルベントナフサ（石油留分：沸点１６５～１７８℃）が挙げられる。
　基板の大型化に伴いダイコーティング装置による塗布が主流になってきているので、適度の揮発性及び乾燥性を実現するため、２成分以上の混合溶媒が好ましい。該混合溶媒を構成する全ての溶媒の沸点が１５０℃以下の場合、膜厚の均一性が得られない、塗布終了部の膜厚が厚くなる、塗液をスリットから吐出する口金部に顔料の凝集物が生じ、塗膜にスジが発生するという多くの問題を生じる。一方、該混合溶媒の沸点が２００℃以上の溶媒を多く含む場合、塗膜表面が粘着性となり、スティッキングを生じる。したがって沸点が１５０～２００℃の溶媒を、３０～７５重量％含有する混合溶媒が望ましい。
　本発明における添加剤であるオキセタン化合物は、下記一般式（Ａ）の構造を有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
（ここで、Ｒ１、Ｒ２とはそれぞれ同じであっても異なっていてもよく、Ｒ１は水素又は炭素数１～１０のアルキル基を表し、アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。また、Ｒ２は水素、シリル基又は炭素数１～１０のアルキル基を表し、シリル基及びアルキル基はさらに置換基を有していても良い。）
　上記一般式（Ａ）において、アルキル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、例えば、アルコキシ基、アクリロイル基、アセトキシ基又はシリル基が挙げられるが、Ｒ２が炭素数１～１０のアルキル基の場合、Ｒ２がオキセタニル基を含むことが好ましい。また、シリル基がさらに置換基を有する場合には、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アクリロイル基又はアセトキシ基が挙げられるが、それらがオキセタニル基を含むことが好ましい。
　また、発明の効果を十分に得るためには、Ｒ２としてシリル基を有することが好ましく、下記構造式（Ｂ）で表されるオキセタン化合物がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
（ここで、Ｘは下記のオキセタン化合物を表し、ｎは１０以下の自然数を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
（ここで＊は連結部分を表す。また、Ｒ１は水素又は炭素数１～１０のアルキル基を表し、アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。）
　上記構造式（Ｂ）で表されるオキセタン化合物の中でも、ｎ＝３～６の範囲であるオキセタン化合物が好ましい。上記構造式（Ｂ）においても、アルキル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、例えば、アルコキシ基、アクリロイル基又はアセトキシ基が挙げられる。
　これらのオキセタン化合物の添加量としては、遮光材とアルカリ可溶性樹脂の総和に対して１．５～１０．０重量％が好ましく、アルカリ現像液への溶解性が高くなりすぎない範囲で使用するため、１．５～５．０重量％がより好ましい。
　ケイ素原子を有さないオキセタン化合物としては、下記一般式（Ｃ）で表される“アロンオキセタン（登録商標）”ＯＸＴ－１０１（３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン）、下記一般式（Ｄ）で表される“アロンオキセタン（登録商標）”ＯＸＴ－２２１（３－エチル－３｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ｝メチル｝オキセタン）若しくは“アロンオキセタン（登録商標）”ＯＸＴ－１２１（主成分１，４－ビス［〔（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ〕メチル］ベンゼン）（以上、東亜合成（株）製）、“エタナコール（登録商標）”ＯＸＢＰ（ビス〔（３－エチル－３－オキセタニル）メチル〕ビフェニル－４，４’－ジカルボキシレート）又は“エタナコール”ＯＸＴＰ（ビス〔（３－エチル－３－オキセタニル）メチル〕テレフタレート）（以上、宇部興産（株）製）が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　シリル基を有するオキセタン化合物としては、例えば、上記構造式（Ｂ）においてｎ＝５を平均とする、下記一般式（Ｅ）で表される“アロンオキセタン（登録商標）”ＯＸＴ－１９１（３－エチルオキセタン－３－イルメタノールとシランテトラオール重縮合物との縮合反応生成物；東亜合成（株）製）、下記構造式（Ｆ１）又は（Ｆ２）で表されるようなシルセスキオキサン構造を有するオキセタン化合物（例えば、ＯＸ－ＳＱ　ＴＸ－１００又は同ＳＩ－２０；以上、東亜合成（株）製）、下記一般式（Ｇ）で表される“アロンオキセタン（登録商標）”ＴＭＳＯＸ（３－エチル－３－（（３－（トリメトキシシリル）プロポキシ）メチル）オキセタン）（東亜合成（株）製）、（オキセタン－３－イル）メチルトリメトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルトリエトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルトリアセトキシシラン、［（オキセタン－３－イル）メチル］メチルジメトキシシラン、［（オキセタン－３－イル）メチル］メチルジエトキシシラン、［（オキセタン－３－イル）メチル］メチルジアセトキシシラン、［（オキセタン－３－イル）メチル］エチルジメトキシシラン、［（オキセタン－３－イル）メチル］エチルジエトキシシラン、［（オキセタン－３－イル）メチル］エチルジアセトキシシラン、［（オキセタン－３－イル）メチル］フェニルジメトキシシラン、［（オキセタン－３－イル）メチル］フェニルジエトキシシラン、［（オキセタン－３－イル）メチル］フェニルジアセトキシシラン、ジ［（オキセタン－３－イル）メチル］ジメトキシシラン、ジ［（オキセタン－３－イル）メチル］ジエトキシシラン、ジ［（オキセタン－３－イル）メチル］ジアセトキシシラン、ジ［（オキセタン－３－イル）メチル］メチルメトキシシラン、ジ［（オキセタン－３－イル）メチル］メチルエトキシシラン、ジ［（オキセタン－３－イル）メチル］メチルアセトキシシラン、ジ［（オキセタン－３－イル）メチル］エチルメトキシシラン、ジ［（オキセタン－３－イル）メチル］エチルエトキシシラン、ジ［（オキセタン－３－イル）メチル］エチルアセトキシシラン、ジ［（オキセタン－３－イル）メチル］フェニルメトキシシラン、ジ［（オキセタン－３－イル）メチル］フェニルエトキシシラン、ジ［（オキセタン－３－イル）メチル］フェニルアセトキシシラン、トリ［（オキセタン－３－イル）メチル］メトキシシラン、トリ［（オキセタン－３－イル）メチル］エトキシシラン又はトリ［（オキセタン－３－イル）メチル］アセトキシシランが挙げられる。本発明ではこれらのオキセタン化合物を２種類以上混合して用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　また、本発明の感光性黒色樹脂組成物には、塗布性及び着色被膜の平滑性を向上させながらベナードセルを防止する目的で、界面活性剤を添加することもできる。界面活性剤の添加量は、顔料の０．００１～１０重量％が好ましく、０．０１～１重量％がより好ましい。添加量が少なすぎると塗布性及び着色被膜の平滑性を向上させる効果やベナードセルを防止する効果がなく、多すぎると逆に塗膜物性が不良となる場合がある。界面活性剤としては、例えば、ラウリル硫酸アンモニウム若しくはポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸トリエタノールアミン等の陰イオン界面活性剤、ステアリルアミンアセテート若しくはラウリルトリメチルアンモニウムクロライド等の陽イオン界面活性剤、ラウリルジメチルアミンオキサイド若しくはラウリルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミダゾリウムベタイン等の両性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル若しくはソルビタンモノステアレート等の非イオン界面活性剤、ポリジメチルシロキサン等を主骨格とするシリコーン系界面活性剤又はフッ素系界面活性剤が挙げられる。本発明では、これらの界面活性剤を１種又は２種以上用いることができる。
　本発明の感光性黒色樹脂組成物において樹脂成分（モノマーやオリゴマー及び光重合開始剤等の添加剤も含む）と遮光材をあわせた固形分濃度としては、塗工性及び乾燥性の観点から、２～３０％が好ましく、５～２０％がより好ましい。従って、本発明の感光性黒色樹脂組成物は、溶媒、樹脂成分及び遮光材から本質的になることが好ましく、樹脂成分と遮光材との合計量が２～３０％であることがより好ましく、５～２０％であることがさらに好ましい。固形分を除く残部は溶媒であり、上記のとおり、界面活性剤をさらに含有していてもよい。
　本発明での感光性黒色樹脂組成物の製造方法としては、例えば、分散機を用いて樹脂溶液中に直接顔料を分散させる方法、又は、分散機を用いて水若しくは有機溶媒中に顔料を分散して顔料分散液を作製し、その後樹脂溶液と混合する方法が挙げられる。顔料の分散方法としては、例えば、ボールミル、サンドグラインダー、３本ロールミル又は高速度衝撃ミルが挙げられるが、分散効率及び微分散化の観点から、ビーズミルが好ましい。ビーズミルとしては、例えば、コボールミル、バスケットミル、ピンミル又はダイノーミルが挙げられる。ビーズミルのビーズとしては、例えば、チタニアビーズ、ジルコニアビーズ又はジルコンビーズが挙げられる。分散に用いるビーズ径としては、０．０１～５．０ｍｍが好ましく、０．０３～１．０ｍｍがより好ましい。顔料の一次粒子径及び一次粒子が凝集して形成された二次粒子の粒子径が小さい場合には、０．０３～０．１０ｍｍといった微小な分散ビーズを用いることが好ましい。この場合、微小な分散ビーズと分散液とを分離することが可能な、遠心分離方式によるセパレーターを有するビーズミルを用いて分散することが好ましい。一方、サブミクロン程度の粗大な粒子を含む顔料を分散させる際には、０．１０ｍｍ以上の分散ビーズを用いることにより十分な粉砕力が得られ顔料を微細に分散できるため、好ましい。
　本発明の樹脂ＢＭ基板の製造例を以下に示す。感光性黒色樹脂組成物を透明基板上に塗布する方法としては、例えば、ディップ法、ロールコータ法、スピナー法、ダイコーティング法、ワイヤーバーによる方法、透明基板を感光性黒色樹脂組成物の溶液中に浸漬する方法又は感光性黒色樹脂組成物の溶液を透明基板に噴霧する方法が挙げられる。透明基板としては、例えば、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス若しくは表面をシリカコートしたソーダライムガラス等の無機ガラス類又は有機プラスチックのフィルム若しくはシートが挙げられる。なお、基板上に塗布する場合、シランカップリング剤、アルミニウムキレート剤又はチタニウムキレート剤等の接着助剤で基板表面を処理しておくと、ＢＭ被膜と基板との接着力を向上させることができる。
　感光性黒色樹脂脂組成物を透明基板上に塗布した後、風乾、加熱乾燥又は真空乾燥等により加熱乾燥及び硬化を行い、乾燥被膜を形成する。被膜を形成する際の乾燥ムラ又は搬送ムラを抑制するため、塗液を塗布した透明基板を加熱装置を備えた減圧乾燥機で減圧乾燥した後、加熱乾燥及び硬化をすることが好ましい。
　こうして得られた乾燥被膜は、通常、フォトリソグラフィー等の方法を用いてパターン加工される。感光性の樹脂から得られた乾燥被膜は、そのままか又はその表面に酸素遮断膜を形成した後に露光現像を行い、所望のパターンにすることができる。その後、必要に応じて酸素遮断膜を除去した後、加熱硬化させることで、樹脂ＢＭ基板が得られる。加熱硬化条件は、樹脂により異なるが、アクリル樹脂を用いる場合には、通常、２００～２５０℃で１～６０分加熱するのが一般的である。
　本発明の樹脂ＢＭ基板を使用して、液晶表示用カラーフィルター基板又はタッチパネル用遮光膜を製造することができる。すなわち本発明は、本発明の樹脂ＢＭ基板を具備する、液晶表示用カラーフィルター基板及びタッチパネル用遮光膜を提供することができる。該カラーフィルターは、透明基板の一部領域上に樹脂ＢＭが形成された樹脂ＢＭ基板と、透明基板上の、樹脂ＢＭが形成されていない領域に形成された画素を少なくとも具備するカラーフィルターであって、上記樹脂ＢＭ基板が、本発明の樹脂ＢＭ基板であるものである。
　以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　実施例１
　熱プラズマ法により製造したチタン窒化物粒子（日清エンジニアリング（株）製；４００ｇ）にアクリル樹脂として、公知文献（特許第３１２０４７６号公報）記載の方法により、メチルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合体（重量組成比３０／４０／３０）を合成後、グリシジルメタクリレート４０重量部を付加させ、精製水で再沈、濾過及び乾燥することにより、平均分子量（Ｍｗ）１５，０００及び酸価１１０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）のアクリル樹脂（Ｐ－１）を得た。得られたアクリル樹脂（Ｐ－１）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０重量％溶液（１８７．５ｇ）、高分子分散剤（ＢＹＫ２１１１６；ビックケミー社製；６２．５ｇ）及びプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（８９０ｇ）をタンクに仕込み、ホモミキサー（特殊機化製）で１時間撹拌し、予備分散液１を得た。その後、０．１０ｍｍφジルコニアビーズ（東レ製）を７０％充填した遠心分離セパレーターを具備した、ウルトラアペックスミル（寿工業製）に予備分散液１を供給し、回転速度８ｍ／ｓで２時間分散を行い、固形分濃度２５重量％、顔料／樹脂（重量比）＝８０／２０のチタンブラック顔料分散液ＴＢ－１を得た。
　カーボンブラック（ＴＰＸ１２９１；ＣＡＢＯＴ製、；４００ｇ）にアクリル樹脂（Ｐ－１）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０重量％溶液（１８７．５ｇ）、高分子分散剤（ＢＹＫ２１１１６；６２．５ｇ）及びプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（８９０ｇ）をタンクに仕込み、ホモミキサーで１時間撹拌し、予備分散液２を得た。その後、０．１０ｍｍφジルコニアビーズを７０％充填した遠心分離セパレーターを具備した、ウルトラアペックスミルに予備分散液２を供給し、回転速度８ｍ／ｓで２時間分散を行い、固形分濃度２０重量％、顔料／樹脂（重量比）＝８０／２０のカーボンブラック顔料分散液ＣＢ－１を得た。
　プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（１４．３１ｇ）に、光重合開始剤として“アデカ（登録商標）クルーズ”ＮＣＩ－８３１（１．６９ｇ）を添加し、固形分が溶解するまで撹拌した。
　さらに、アクリルポリマー（Ｐ－１）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０重量％溶液（５．５０ｇ）、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）のプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート５０重量％溶液（３．６１ｇ）、密着改良剤としてオキセタン化合物である“アロンオキセタン”ＯＸＴ－１９１（以下、「オキセタン化合物１」；東亜合成株式会社製）のプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート５０重量％溶液（０．４１ｇ）、ＫＢＭ５１０３（信越化学（株）製；０．４１ｇ）及び界面活性剤としてシリコーン系界面活性剤ＢＹＫ３３３のプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート１０重量％溶液（０．２４ｇ）を添加し、室温にて１時間撹拌を行うことで感光性レジストを得た。この感光性レジストに上記顔料分散液１を１３．９３ｇ、顔料分散液２を１９．９０ｇ添加することで全固形分濃度２３％、顔料／樹脂（重量比）＝４６／５４の感光性黒色樹脂組成物１を調製した。
　調製した感光性黒色樹脂組成物１を、２μｍのテフロン（登録商標）製フィルターで濾過後、膜厚が１μｍ（ポストベーク後）になるようにソーダガラス基板上にスピンコーティング装置（１Ｈ－ＤＳ；ミカサ（株）製）で塗布し、塗布した基板を９０℃のホットプレート上のピン状突起物で２分加熱処理し、さらに２分間ホットプレート上に直接基板を静置してプリベイクを行った。この塗布膜にマスクアライナー（ＰＥＭ－６Ｍ；ユニオン光学（株）製）を用い、解像度テスト用マスクを介して紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光した。
　次に、０．１重量％ＴＭＡＨ水溶液のアルカリ現像液で現像し、続いて純水洗浄することにより、パターンニング基板を得た。得られたパターンニング基板を熱風オーブン中２３０℃で３０分保持し、ポストベイクを行なうことで樹脂ＢＭ基板１を得た。
　実施例２
　使用する密着改良剤としてオキセタン化合物１の代わりにシルセスキオキサン構造を有するオキセタン化合物であるＯＸ－ＳＱ　ＴＸ－１００（以下、「オキセタン化合物２」；東亜合成株式会社製）を用いた以外は実施例１と同様にして感光性黒色樹脂組成物２を得た。また、感光性黒色樹脂組成物２を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板２を得た。
　実施例３
　使用する密着改良剤としてオキセタン化合物１の代わりにシルセスキオキサン構造を有するオキセタン化合物であるＯＸ－ＳＱ　ＳＩ－２０（以下、「オキセタン化合物３」；東亜合成株式会社製）を用いた以外は実施例１と同様にして感光性黒色樹脂組成物３を得た。また、感光性黒色樹脂組成物３を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板３を得た。
　実施例４
　使用する密着改良剤としてオキセタン化合物１の代わりに“アロンオキセタン（登録商標）”ＴＭＳＯＸ（以下、「オキセタン化合物４」；東亜合成株式会社製）を用いた以外は実施例１と同様にして感光性黒色樹脂組成物４を得た。また、感光性黒色樹脂組成物４を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板４を得た。
　実施例５
　使用する密着改良剤としてオキセタン化合物１の代わりに“アロンオキセタン（登録商標）”ＯＸＴ－１０１（以下、「オキセタン化合物５」；東亜合成株式会社製）を用いた以外は実施例１と同様にして感光性黒色樹脂組成物５を得た。また、感光性黒色樹脂組成物５を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板５を得た。
　実施例６
　使用する密着改良剤としてオキセタン化合物１の代わりにアロンオキセタン（登録商標）”ＯＸＴ－２２１（以下、「オキセタン化合物６」；東亜合成株式会社製）を用いた以外は実施例１と同様にして感光性黒色樹脂組成物６を得た。また、感光性黒色樹脂組成物６を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板６を得た。
　実施例７
　使用する密着改良剤としてオキセタン化合物１の添加量を３．０％とした以外は実施例１と同様にして感光性黒色樹脂組成物７を得た。また、感光性黒色樹脂組成物７を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板７を得た。
　実施例８
　使用する密着改良剤としてオキセタン化合物１の添加量を５．０％とした以外は実施例１と同様にして感光性黒色樹脂組成物８を得た。また、感光性黒色樹脂組成物８を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板８を得た。
　実施例９
　使用する密着改良剤としてオキセタン化合物１の添加量を７．０％とした以外は実施例１と同様にして感光性黒色樹脂組成物９を得た。また、感光性黒色樹脂組成物９を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板９を得た。
　実施例１０
　使用する密着改良剤としてオキセタン化合物１の添加量を１０．０％とした以外は実施例１と同様にして感光性黒色樹脂組成物１０を得た。また、感光性黒色樹脂組成物１０を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板１０を得た。
　実施例１１
　プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（１９．０５ｇ）に、光重合開始剤として“アデカ（登録商標）クルーズ”ＮＣＩ－８３１（１．６９ｇ）を添加し、固形分が溶解するまで撹拌した。さらにアクリルポリマー（Ｐ－１）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０重量％溶液（６．７３ｇ）、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）のプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート５０重量％溶液（３．６２ｇ）、密着改良剤としてオキセタン化合物であるＯＸＴ－１９１（東亜合成株式会社製）のプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート５０重量％溶液（０．４１ｇ）、及び信越化学（株）製ＫＢＭ５１０３（０．４１ｇ）、界面活性剤としてシリコーン系界面活性剤ＢＹＫ３３３のプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート１０重量％溶液（０．２４ｇ）を添加し、室温にて１時間撹拌を行うことで感光性レジストを得た。この感光性レジストに上記チタンブラック顔料分散液ＴＢ－１を２７．８４ｇ添加することで全固形分濃度２３％、顔料／樹脂（重量比）＝４６／５４の感光性黒色樹脂組成物１１を調製した。また、感光性黒色樹脂組成物１１を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板１１を得た。
　実施例１２
　プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（９．５７ｇ）に、光重合開始剤として“アデカ（登録商標）クルーズ”ＮＣＩ－８３１（１．６９ｇ）を添加し、固形分が溶解するまで撹拌した。さらにアクリル樹脂（Ｐ－１）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０重量％溶液（４．２８ｇ）、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）のプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート５０重量％溶液（３．６０ｇ）、密着改良剤としてオキセタン化合物であるＯＸＴ－１９１（東亜合成株式会社製）のプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート５０重量％溶液（０．４１ｇ）、ＫＢＭ５１０３（０．４１ｇ）及び界面活性剤としてシリコーン系界面活性剤ＢＹＫ３３３のプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート１０重量％溶液（０．２４ｇ）を添加し、室温にて１時間撹拌を行うことで感光性レジストを得た。この感光性レジストにカーボンブラック顔料分散液ＣＢ－１を１９．９ｇ添加することで、全固形分濃度２３％、顔料／樹脂（重量比）＝４６／５４の感光性黒色樹脂組成物１２を調製した。また、感光性黒色樹脂組成物１２を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板１２を得た。
　比較例１
　使用する密着改良剤としてオキセタン化合物１の代わりにオルトケイ酸テトラメチルを用いた以外は実施例１と同様にして感光性黒色樹脂組成物１３を得た。また、感光性黒色樹脂組成物１３を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板１３を得た。
　比較例２
　使用する密着改良剤としてオキセタン化合物を添加しなかった事以外は実施例１と同様にして感光性黒色樹脂組成物１４を得た。また、感光性黒色樹脂組成物１４を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板１４を得た。
　比較例３
　使用する密着改良剤としてオキセタン化合物１の添加量を０．５％とした以外は実施例１と同様にして感光性黒色樹脂組成物１５を得た。また、感光性黒色樹脂組成物１５を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板１５を得た。
　比較例４
　使用する密着改良剤としてオキセタン化合物１の添加量を１３．０％とした以外は実施例１と同様にして感光性黒色樹脂組成物１６を得た。また、感光性黒色樹脂組成物１６を用いて実施例１と同様に樹脂ＢＭ基板１６を得た。得られた樹脂ＢＭ基板１６について、パターン形状、現像接着性、及びＯＤ値について下記の方法で評価を行った。結果を表１に示す。
　［現像接着性］
　上記方法と同様に、線幅の異なる樹脂ＢＭを形成し、各線幅に於いてパターンの剥がれや欠けが発生していないか目視で判定を行った。また、判定は、○：欠け・剥がれ無し、×：欠け剥がれ有りとした。
　［パターン直線性］
　パターン加工部分の直線性についてＢＨ－Ｃ１４１０（オリンパス（株）製）を用いて評価を行った。判定については、直線性が良好であるものは○、蛇行や形状端部に欠けの見られるものは程度に応じて△、×とした。
　［ＯＤ値］
　Ｘ－ｒｉｔｅ　３６１Ｔ（ｖｉｓｕａｌ）ｄｅｎｓｉｔｏｍｅｔｅｒを用いて下記の関係式より求めたものである。
ＯＤ値　＝　ｌｏｇ１０（Ｉ０／Ｉ）
ここで、Ｉ０は入射光強度、Ｉは透過光強度である。なお、ＯＤ値は膜厚に比例するので、遮光性の大きさは膜厚に比例するので、本発明では１．０μｍあたりのＯＤ値として示している。
　表１に示した結果について、密着改良剤としてオキセタン化合物を添加することで、側鎖の置換基の種類によらずパターン直線性に改善が見られる。また、シリル基を含むオキセタンを添加することで現像接着性、パターン直線性ともに優れた感光性黒色樹脂組成物が得られる結果となった。
　オキセタン化合物の添加量について、ペースト固形分に対して１．５％以下、又は１０．０％以上した場合には現像接着性について劣る結果となり、適切な添加量は１．５～１０．０％である。
　比較例１として、オキセタン環を持たず、シリル基のみを有するオルトケイ酸テトラメチルを添加したが、現像接着性、パターン直線性ともに改善されておらず、本発明の要件である、シリル基を有するオキセタン化合物が感光性黒色樹脂組成物の現像性、パターン直線性を向上させている結果となった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012

Claims (4)

  1. 　少なくとも遮光材、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤及び溶媒を含む感光性黒色樹脂組成物において、少なくとも下記一般式（Ａ）の構造を有するオキセタン化合物を添加剤として含み、前記オキセタン化合物を遮光材とアルカリ可溶性樹脂との総和に対して１．５～１０．０重量％含む、感光性黒色樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （ここで、Ｒ１、Ｒ２とはそれぞれ同じであっても異なっていてもよく、Ｒ１は水素又は炭素数１～１０のアルキル基を表し、アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。また、Ｒ２は水素原子、シリル基又は炭素数１～１０のアルキル基を表し、シリル基及びアルキル基はさらに置換基を有していてもよい。）
  2. 　前記オキセタン化合物がシリル基を有する、請求項１記載の感光性黒色樹脂組成物。
  3. 　前記オキセタン化合物が下記構造式（Ｂ）で表される、請求項１又は２記載の感光性黒色樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （ここで、Ｘは下記のオキセタン化合物を表し、ｎは１０以下の自然数を表す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （ここで、＊は連結部分を表す。また、Ｒ１は水素又は炭素数１～１０のアルキル基を表し、アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。）
  4. 　請求項１～３のいずれか一項記載の感光性黒色樹脂組成物を透明基板上に塗布し、パターン形成して得られた、樹脂ブラックマトリックス基板。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2016194619A1 (ja) * 2015-05-29 2018-03-22 住友ベークライト株式会社 着色感光性樹脂組成物、着色パターンまたはブラックマトリクス、カラーフィルタ、液晶表示装置または固体撮像素子およびカラーフィルタの製造方法
WO2019064993A1 (ja) * 2017-09-26 2019-04-04 富士フイルム株式会社 構造体、隔壁形成用組成物、固体撮像素子および画像表示装置

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI544281B (zh) * 2014-11-25 2016-08-01 奇美實業股份有限公司 黑色矩陣用之感光性樹脂組成物及其應用
TWI613486B (zh) * 2014-08-01 2018-02-01 Toppan Printing Co Ltd 黑色電極基板、黑色電極基板之製造方法、及顯示裝置
TWI564657B (zh) * 2014-08-28 2017-01-01 Chi Mei Corp Photosensitive resin composition for color filter and its application
JP6607682B2 (ja) * 2015-03-05 2019-11-20 日鉄ケミカル＆マテリアル株式会社 遮光膜用黒色樹脂組成物、当該組成物を硬化させた遮光膜を有する遮光膜付基板、並びに当該遮光膜付基板を有するカラーフィルター及びタッチパネル
KR102431444B1 (ko) 2015-07-14 2022-08-11 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
JPWO2019059169A1 (ja) * 2017-09-22 2020-09-03 東レ株式会社 透明感光性樹脂組成物、フォトスペーサー、液晶表示装置、フォトスペーサーの製造方法、液晶表示装置の製造方法および透明感光性樹脂組成物のレンズスキャン露光への使用
KR102229633B1 (ko) * 2017-12-26 2021-03-17 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
KR102284582B1 (ko) * 2018-04-04 2021-08-02 삼성에스디아이 주식회사 적색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
KR20210115795A (ko) * 2020-03-16 2021-09-27 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 블랙 매트릭스 및 화상표시장치
TWI744014B (zh) 2020-09-29 2021-10-21 新應材股份有限公司 黑色樹脂組成物、硬化膜以及黑色濾光片

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003252955A (ja) * 2001-12-25 2003-09-10 Asahi Kasei Corp 感光性を有する着色性組成物およびその硬化物
JP2006008740A (ja) * 2004-06-22 2006-01-12 Nitto Denko Corp 紫外線硬化型樹脂組成物
JP2007017458A (ja) * 2005-07-05 2007-01-25 Taiyo Ink Mfg Ltd 着色感光性樹脂組成物及びその硬化物
JP2007071995A (ja) * 2005-09-05 2007-03-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂組成物
WO2010116653A1 (ja) * 2009-03-30 2010-10-14 Jsr株式会社 着色組成物、カラーフィルタ及びカラー液晶表示素子
JP2011048064A (ja) * 2009-08-26 2011-03-10 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性樹脂組成物及び積層体、並びにこれを用いた電磁波シールド及び透明導電性基板
WO2012002134A1 (ja) * 2010-07-02 2012-01-05 東レ株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物フィルムおよびこれらを用いた半導体装置
JP2012008262A (ja) * 2010-06-23 2012-01-12 Fujifilm Corp 着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、およびそれを備えた表示装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3230800B2 (ja) 1997-03-06 2001-11-19 日本化薬株式会社 黒色感放射線性樹脂組成物、黒色硬化膜及びブラックマトリックス
JP3921730B2 (ja) 1997-04-08 2007-05-30 三菱化学株式会社 カラーフィルター用光重合性組成物
JP2005258460A (ja) 1999-09-17 2005-09-22 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
JP2001228610A (ja) 2000-02-15 2001-08-24 Showa Denko Kk 感光性樹脂組成物及び硬化皮膜の製造方法
WO2001073510A1 (fr) * 2000-03-29 2001-10-04 Kanagawa University Composition de resine photodurcissante/thermodurcissante, couche seche photosensible preparee au moyen de cette resine et procede de creation de configurations
JP2004347916A (ja) 2003-05-23 2004-12-09 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ形成用感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP4706560B2 (ja) 2006-05-29 2011-06-22 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP4947300B2 (ja) * 2007-06-14 2012-06-06 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズならびにそれらの形成方法
JP5515714B2 (ja) * 2009-12-16 2014-06-11 Ｊｓｒ株式会社 着色組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
KR20110130151A (ko) * 2010-05-27 2011-12-05 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 액정 표시 장치
KR20120002864A (ko) * 2010-07-01 2012-01-09 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 액정 표시 장치

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003252955A (ja) * 2001-12-25 2003-09-10 Asahi Kasei Corp 感光性を有する着色性組成物およびその硬化物
JP2006008740A (ja) * 2004-06-22 2006-01-12 Nitto Denko Corp 紫外線硬化型樹脂組成物
JP2007017458A (ja) * 2005-07-05 2007-01-25 Taiyo Ink Mfg Ltd 着色感光性樹脂組成物及びその硬化物
JP2007071995A (ja) * 2005-09-05 2007-03-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂組成物
WO2010116653A1 (ja) * 2009-03-30 2010-10-14 Jsr株式会社 着色組成物、カラーフィルタ及びカラー液晶表示素子
JP2011048064A (ja) * 2009-08-26 2011-03-10 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性樹脂組成物及び積層体、並びにこれを用いた電磁波シールド及び透明導電性基板
JP2012008262A (ja) * 2010-06-23 2012-01-12 Fujifilm Corp 着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、およびそれを備えた表示装置
WO2012002134A1 (ja) * 2010-07-02 2012-01-05 東レ株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物フィルムおよびこれらを用いた半導体装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2016194619A1 (ja) * 2015-05-29 2018-03-22 住友ベークライト株式会社 着色感光性樹脂組成物、着色パターンまたはブラックマトリクス、カラーフィルタ、液晶表示装置または固体撮像素子およびカラーフィルタの製造方法
WO2019064993A1 (ja) * 2017-09-26 2019-04-04 富士フイルム株式会社 構造体、隔壁形成用組成物、固体撮像素子および画像表示装置
KR20200028028A (ko) * 2017-09-26 2020-03-13 후지필름 가부시키가이샤 구조체, 격벽 형성용 조성물, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치
JPWO2019064993A1 (ja) * 2017-09-26 2020-11-19 富士フイルム株式会社 構造体、隔壁形成用組成物、固体撮像素子および画像表示装置
KR102442301B1 (ko) * 2017-09-26 2022-09-13 후지필름 가부시키가이샤 구조체, 격벽 형성용 조성물, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치

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