KR101958583B1 - 광감응성 복합재료와 그 제조방법, 및 광감응성 복합재료 필름의 사용방법 - Google Patents
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Abstract
점접착제로서 반복 사용할 수 있는 재료를 제공한다. 광감응성 복합재료는, 고분자 화합물과, 액정 화합물과, 광응답성 화합물을 함유한다. 광응답성 화합물은, 자외광과 가시광의 조사에 의해 분자형상이 가역적으로 변화한다. 광감응성 복합재료는, 자외광 조사에 의해 유리전이온도가 하강하고, 자외광 조사에 의해 하강한 유리전이온도가 가시광조사에 의해 상승한다. 고분자 화합물의 질량이 광감응성 복합재료 전체 질량의 40 % ~ 60 %이고, 액정 화합물의 질량과 광응답성 화합물의 질량의 합에 대한 광응답성 화합물의 질량이 2 % ~ 100 %인 것이 바람직하다. 광응답성 화합물로서, 아조벤젠 유도체를 사용할 수 있다.
Description
본 발명은, 점접착(粘接着) 필름, 자기수복도료, 및 자기수복필름 등의 용도에 적합한 광감응성 복합재료에 관한 것이다.
2 개의 물체를 접착하는 점착제(粘着劑)는, 유동하지 않는 것이 큰 특징의 하나이다. 이 때문에 점착제를 사용하면 연직면이나 천장면에 물체를 접착할 수 있다. 그러나 점착제는 부드러운 재료로 구성되어 있기 때문에, 단단한 재료로 구성되어 있는 접착제와 비교하면, 전단방향의 힘에 대한 강도가 떨어지는 것이 많다. 이와 같은 기술적 배경으로부터 종래의 점착제의 결점을 보강하기 위해, 첩부(貼付)시에는 점착제의 간편성을 가지고, 첩부 후에 열이나 빛의 작용에 의해 경화되어 접착제가 되는 소위 「점접착제(粘接着劑)」가 접착제의 이상형으로서 주목받고 있다.
점접착제용의 열경화형 조성물로서는, 1 분자 중에 2 이상의 에폭시기를 가지는 에폭시수지와, 경화제로서 특정한 고체상 트리아진 유도체와, 이온성 액체를 포함하는 조성물이 알려져 있다(특허문헌 1). 또한, 점접착제용의 광경화형 조성물로서는, 말레이미드기 및 에틸렌성 불포화기를 함유하는 화합물과, 에틸렌성 불포화기를 함유하는 화합물과, 광중합 개시제를 포함하는 조성물이 알려져 있다(특허문헌 2). 이들의 재료는, 모두 점접착제로서 양호한 특성을 발휘하는데, 열이나 빛의 작용에 의해 점접착제를 한번 경화시키면, 피착체끼리 박리된 후에 점접착제로서 재사용할 수 없다고 하는 과제가 있었다.
본 발명은, 재료의 경도를 가역적으로 변화시킴으로써, 점접착제로서 반복 사용할 수 있는 광감응성 복합재료를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자는, 고분자 화합물과, 액정 화합물과, 광응답성 화합물을 함유하는 광감응성 복합재료에 다른 파장의 빛을 조사함으로써 유리전이온도가 변화하고, 이 광감응성 복합재료의 경도를 가역적으로 바꿀 수 있음을 발견하였다. 광감응성 복합재료의 유리전이온도의 변화는, 광 조사에 의한 광응답성 재료의 분자형상의 변화에 수반되는 것이다. 광감응성 복합재료의 경도가 가역적으로 변화하므로, 이 광감응성 복합재료는, 점착과 접착의 기능을 구비하며, 또한 반복 사용할 수 있다.
본 발명의 광감응성 복합재료는, 고분자 화합물과, 고분자 화합물 중에 입상 (粒狀)으로 분산되어 있는 액정 화합물과, 다른 파장의 빛의 조사에 의해 분자형상이 가역적으로 변화하는 광응답성 화합물을 함유한다. 본 발명의 광감응성 복합재료에 있어서, 고분자 화합물의 용해도 파라미터와 액정 화합물의 용해도 파라미터와의 차이가 10 이내인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 광감응성 복합재료에 있어서, 광응답성 화합물이 아조벤젠 유도체라도 좋다. 또한, 본 발명의 광감응성 복합재료에 있어서, 고분자 화합물의 질량이 전체 질량의 40 % ~ 60 %인 것이 바람직하다.
본 발명의 광감응성 복합재료에 있어서, 액정 화합물의 질량과 광응답성 화합물의 질량의 합에 대한 광응답성 화합물의 질량이 2 % ~ 100 %인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 광감응성 복합재료에 있어서, 다른 파장의 빛이 자외광과 가시광이고, 자외광 조사에 의해 유리전이온도가 하강하고, 자외광 조사에 의해 하강한 유리전이온도가 가시광 조사에 의해 상승하는 것이 바람직하다.
본 발명의 광감응성 복합재료 필름은, 본 발명의 광감응성 복합재료를 필름모양으로 성형한 것이다. 본 발명의 광감응성 복합재료 필름은, 장식품을 손톱에 첩부하기 위한 접착 필름으로서 사용할 수 있다.
본 발명의 광감응성 복합재료의 제조방법은, 고분자 화합물과, 고분자 화합물 중에 입상으로 분산되어 있는 액정 화합물과, 다른 파장의 빛의 조사에 의해 분자 형상이 가역적으로 변화하는 광응답성 화합물을 함유하는 광감응성 복합재료의 제조방법으로서, 고분자 화합물과, 액정 화합물과, 광응답성 화합물을 휘발성의 유기 용매에 용해하는 용해공정과, 용해공정 후, 유기용매를 제거하는 용매 제거공정을 가진다.
본 발명의 광감응성 복합재료의 손상부위 또는 절단부위의 수복방법은, 고분자 화합물과, 고분자 화합물 중에 입상으로 분산되어 있는 액정 화합물과, 자외광과 가시광의 조사에 의해 분자형상이 가역적으로 변화하는 광응답성 화합물을 함유하는 광감응성 복합재료의 손상부위 또는 절단부위의 수복방법으로서, 광감응성 복합재료의 손상부위 또는 절단부위에 자외광을 조사하여, 손상부위를 연화 또는 절단부위를 점착시키는 복원공정과, 복원공정 후, 손상부위 또는 절단부위에 가시광을 조사하여, 손상부위 또는 절단부위를 경화시키는 경화공정을 가진다.
본 발명의 광감응성 복합재료 필름의 사용방법은, 고분자 화합물과, 고분자 화합물 중에 입상으로 분산되어 있는 액정 화합물과, 자외광과 가시광의 조사에 의해 분자형상이 가역적으로 변화하는 광응답성 화합물을 함유하는 광감응성 복합재료 필름의 사용방법으로서, 광감응성 복합재료 필름에 자외광을 조사하여, 광감응성 복합재료 필름을 연화시키는 연화공정과, 연화된 광감응성 복합재료 필름을, 피접착물에 눌러 붙이는 압압공정과, 피접착물에 눌러 붙여진 광감응성 복합재료 필름에 접착물을 첩부하는 첩부공정과, 부착공정 후 광감응성 복합재료 필름에 가시광을 조사하여, 광감응성 복합재료 필름을 경화시키는 경화공정을 가진다.
본 발명에 의하면, 점접착제로서 반복 사용할 수 있는 광감응성 복합재료가 얻어진다.
도 1은 광감응성 복합재료(1)의 동적 점탄성 측정결과를 나타내는 그래프이다.
도 2는 광감응성 복합재료(1)를 사용하여 제작한 필름의 화상이다.
도 3은 광감응성 복합재료(1)의 인장전단시험결과를 나타내는 그래프이다.
도 4는 광감응성 복합재료(1)의 자기수복의 모습을 나타내는 화상이다.
도 5는 광감응성 복합재료(1)의 요면 수복특성의 평가 결과를 나타내는 그래프이다.
도 6은 광감응성 복합재료(2)의 동적 점탄성 측정결과를 나타내는 그래프이다.
도 7은 광감응성 복합재료(2)를 사용하여 제작한 필름의 화상이다.
도 8은 광감응성 복합재료(2)의 인장전단시험결과를 나타내는 그래프이다.
도 9는 광감응성 복합재료(3)의 동적 점탄성 측정결과를 나타내는 그래프이다.
도 10은 광감응성 복합재료(3)를 사용하여 제작한 필름의 화상이다.
도 11은 광감응성 복합재료(3)의 인장전단시험결과를 나타내는 그래프이다.
도 12는 인공 손톱의 표면에 광감응성 복합재료(3)의 필름을 마련하였을 때의 화상이다.
도 13은 인공 손톱의 표면에 마련한 광감응성 복합재료(3)의 필름에 장식품을 첩부하였을 때의 화상이다.
도 2는 광감응성 복합재료(1)를 사용하여 제작한 필름의 화상이다.
도 3은 광감응성 복합재료(1)의 인장전단시험결과를 나타내는 그래프이다.
도 4는 광감응성 복합재료(1)의 자기수복의 모습을 나타내는 화상이다.
도 5는 광감응성 복합재료(1)의 요면 수복특성의 평가 결과를 나타내는 그래프이다.
도 6은 광감응성 복합재료(2)의 동적 점탄성 측정결과를 나타내는 그래프이다.
도 7은 광감응성 복합재료(2)를 사용하여 제작한 필름의 화상이다.
도 8은 광감응성 복합재료(2)의 인장전단시험결과를 나타내는 그래프이다.
도 9는 광감응성 복합재료(3)의 동적 점탄성 측정결과를 나타내는 그래프이다.
도 10은 광감응성 복합재료(3)를 사용하여 제작한 필름의 화상이다.
도 11은 광감응성 복합재료(3)의 인장전단시험결과를 나타내는 그래프이다.
도 12는 인공 손톱의 표면에 광감응성 복합재료(3)의 필름을 마련하였을 때의 화상이다.
도 13은 인공 손톱의 표면에 마련한 광감응성 복합재료(3)의 필름에 장식품을 첩부하였을 때의 화상이다.
본 발명의 광감응성 복합재료는, 고분자 화합물과, 액정 화합물과, 광응답성 화합물을 함유하고 있다. 액정 화합물은, 고분자 화합물 중에 입상으로 분산되어 있다. 즉, 광감응성 복합재료 중에서 고분자 화합물이 스펀지모양 구조를 형성하고, 이 구조의 공공(空孔)에 액정 화합물이 존재하고 있다. 광응답성 화합물은, 다른 파장의 빛의 조사에 의해 분자형상이 가역적으로 변화한다. 본 발명의 광감응성 복합재료에 빛을 조사하면, 광응답성 화합물의 분자형상이 변화하고, 이것에 수반하여 광감응성 복합재료의 유리전이온도가 변화한다.
따라서, 예를 들어 실온에서 단단한 광감응성 복합재료에, 파장(A)의 빛을 조사함으로써 광감응성 복합재료의 유리전이온도가 하강하고 실온에서 부드러워지면 점착성을 나타낸다. 그리고 이 부드러운 상태의 광감응성 복합재료를 개재시켜 피착물끼리 점착시킨 후에, 파장(A)과 다른 파장(B)의 빛을 조사함으로써 광감응성 복합재료의 유리전이온도가 상승하여 실온에서 단단해지면 피착물끼리 접착한 상태로 된다.
그 후, 다시 광감응성 복합재료에 파장(A)의 빛을 조사함으로써 광감응성 복합재료가 부드럽게 되어, 피착물끼리 박리할 수 있다. 이와 같이, 본 발명의 광감응성 복합재료에서는, 파장(A)과 파장(B)의 빛의 조사에 의해, 실온에서 부드러운 상태와 단단한 상태를 가역적으로 바꿀 수 있다. 따라서, 본 발명의 광감응성 복합재료는, 점접착제로서 반복 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 광감응성 복합재료는, 고분자 화합물을 포함하기 때문에 필름모양으로 성형할 수 있다. 필름에 대한 성형방법에 대해서는 후술한다.
본 발명에서는, 고분자 화합물로서 일반적인 고분자 화합물을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 아크릴계 폴리머, 메타크릴계 폴리머, 스티렌계 폴리머, 올레핀계 폴리머, 비닐계 폴리머 등이다. 이들의 고분자 화합물은, 단독으로 사용하여도 좋고, 2 종류 이상을 병용하여도 좋다. 또한, 상기 고분자 화합물이 화학적으로 가교된 가교 고분자 화합물도 사용할 수 있다. 본 발명에서는, 고분자 화합물의 중량 평균 분자량이 20000 이상인 것이 바람직하다. 고분자 화합물의 중량 평균 분자량이 너무 낮으면, 고분자 화합물끼리 양호한 얽힘이 일어나지 않고, 점착성과 접착성이 저하되기 때문이다.
또한, 본 발명에서는, 고분자 화합물의 질량이 광감응성 복합재료 전체 질량의 40 % ~ 90 %인 것이 바람직하고, 40 % ~ 60 %인 것이 보다 바람직하다. 그리고 본원발명에서 2 개의 수치 사이에 「~」을 기재하여 수치범위를 표시하는 경우에는, 이들 2 개의 수치도 수치범위에 포함되는 것으로 한다. 광감응성 복합재료 중의 고분자 화합물의 질량이 너무 적으면, 광감응성 복합재료 중에서 고분자 화합물과 액정 화합물이 분리되기 쉬워져 접착력이 저하된다. 한편, 광감응성 복합재료 중의 고분자 화합물의 질량이 너무 많으면, 광감응성 복합재료에 광조사하여도 유리전이온도가 그다지 변화하지 않기 때문에, 양호한 점착상태를 얻는 것이 어렵다.
본 발명에서는, 액정 화합물로서 일반적인 액정 화합물을 1 종류 또는 2 종류 이상 사용할 수 있다. 액정 화합물은 고분자 화합물의 가소제로서 기능하고 있고, 고분자 화합물과의 조합에 의해 최적인 액정 화합물이 선택된다. 또한, 액정 화합물이 고분자 화합물 중에 입상으로 분산되어 있기 때문에, 광감응성 복합재료 중에서 고분자쇄끼리 얽힌다. 따라서, 광감응성 복합재료의 경도의 지표인 저장 탄성률(G')이 105 Pa 오더 이상이 되고, 이 광감응성 복합재료는 접착성이 우수하다.
한편, 반대로 고분자 화합물이 액정 화합물 중에 입상으로 포함되는 경우에는, 고분자쇄끼리 얽힘이 없고, 광감응성 복합재료의 G'는 최고라도 104 Pa 오더이다. 이 때문에, 고분자 화합물이 액정 화합물 중에 입상으로 포함되는 광감응성 복합재료는 접착성이 떨어진다. 액정 화합물은 실온에서 액정상을 나타내는 것이 바람직하다. 또한, 액정 화합물의 질량이 광감응성 복합재료 전체의 10 % ~ 60 %인 것이 바람직하고, 40 % ~ 60 %인 것이 보다 바람직하다. 본 발명에서 사용할 수 있는 액정 화합물로서, 4-시아노-4'-펜틸 비페닐을 예로 들 수 있다.
광감응성 복합재료 중의 액정 화합물의 질량이 너무 많으면, 광감응성 복합재료 중에서 고분자 화합물과 액정 화합물이 분리되기 쉬워지고, 접착력이 저하된다. 한편, 광감응성 복합재료 중의 질량이 너무 적으면, 광감응성 복합재료에 광 조사하여도 유리전이온도가 그다지 하강하지 않고, 광감응성 복합재료의 경도가 그다지 변화하지 않는다. 이 때문에, 양호한 점착상태를 얻는 것이 어렵다.
고분자 화합물과 액정 화합물의 호적의 조합은, 고분자 화합물과 가소제와의 상용성 평가에 사용되는 용해도 파라미터를 사용하여 결정할 수 있다. 통상, 고분자 화합물과 가소제의 용해도 파라미터의 값이 가까울수록 양자는 혼합되기 쉽고, 용해도 파라미터의 값이 멀어질수록 양자는 혼합되기 어려운 것으로 알려져 있다. 본 발명의 광감응성 복합재료에 사용하는 고분자 화합물과 액정 화합물의 조합에서는, 양자의 용해도 파라미터의 값의 차이가 10 이내인 것이 바람직하고, 5 이내인 것이 보다 바람직하며, 2 이내인 것이 더욱 바람직하다.
예를 들어, 고분자 화합물인 폴리메타크릴산 메틸의 용해도 파라미터는 9.1 ~ 9.5이고, 액정 화합물인 4-시아노-4'-펜틸 비페닐의 용해도 파라미터는 10.95 이고, 그 차이는 1.45 ~ 1.85가 된다. 이 때문에, 고분자 화합물로서 폴리 메타크릴산 메틸을, 액정 화합물로서 4-시아노-4'-펜틸 비페닐을 각각 사용한 광감응성 복합재료는, 고분자 화합물과 액정 화합물이 혼합하기 쉽기 때문에 접착력이 우수하다.
광응답성 화합물은, 빛의 흡수에 의해 분자형상이 변화하여, 즉 광이성화반응에 의해 극성이나 분자 사이즈가 크게 변화하거나, 액정 화합물의 상 구조를 액정상으로부터 등방상으로 변화시키거나 할 수 있는 화합물이다. 구체적으로는, 광응답성 화합물로서 아조벤젠 유도체를 예로 들 수 있다. 광감응성 복합재료에 빛을 조사하면 광응답성 화합물의 분자형상 등이 변화하고, 이에 수반하여, 광감응성 복합재료의 유리전이온도가 변화한다. 또한, 광응답성 화합물은, 액정 화합물에 용해하는 것이 바람직하다. 광응답성 화합물과 액정 화합물이 균일하게 혼합됨으로써, 광감응성 복합재료에 빛을 조사하였을 때에 액정 화합물의 상 구조가 변화하기 쉬워져, 광감응성 복합재료의 유리전이온도의 변화가 커지기 때문이다.
광감응성 복합재료의 경도를 가역적으로 변화시키는 수단으로서 빛을 사용하는 것은, 열을 사용하는 것에 비해, 에너지절약·고생산성의 관점에서 압도적으로 유리하다. 조사광의 파장은, 광응답성 화합물에 따라서 자외광, 가시광, 근적외광 등 중에서 적절하게 선택된다. 이 중에서도 파장 254 nm ~ 1064 nm의 빛이 바람직하고, 파장 365 nm ~ 632 nm의 빛이 보다 바람직하다. 파장 254 nm ~ 1064 nm의 빛은, 시판되고 있는 일반적인 광원으로부터 조사할 수 있고, 파장 365 nm ~ 632 nm의 빛은, 보다 범용성이 높은 광원, 예를 들어, 수은램프 광원, 아르곤이온 레이저 광원 또는 헬륨-네온 레이저 광원으로부터 조사할 수 있기 때문이다.
실용상의 관점에서, 자외광과 가시광의 조사에 의해 광응답성 화합물의 분자형상이 가역적으로 변화하는 것이 바람직하다. 즉, 예를 들어, 자외광 조사에 의해 유리전이온도가 하강하고, 자외광 조사에 의해 하강한 유리전이온도가 가시광 조사에 의해 상승하는 것이 바람직하다. 조사광의 강도는 광감응성 복합재료 중의 광응답성 화합물의 함유량에 따라서 적절하게 선택되는데, 0.2 mW/㎠ 이상인 것이 바람직하다. 조사광의 강도가 너무 적으면, 광응답성 화합물의 광이성화반응을 충분히 유기(誘起)할 수 없기 때문이다. 한편, 고분자 화합물, 액정 화합물, 또는 광응답성 화합물을 현저하게 열화, 분해 등 시키지 않는 한, 조사광의 강도의 상한은 특별히 제한이 없다. 그러나 실용상의 관점에서 0.2 mW/㎠ ~ 200 mW/㎠가 바람직하고, 1 mW/㎠ ~ 200 mW/㎠가 보다 바람직하다.
액정 화합물의 질량과 광응답성 화합물의 질량의 합에 대한 광응답성 화합물의 질량은 2 % ~ 100 %인 것이 바람직하다. 액정 화합물의 질량과 광응답성 화합물의 질량의 합에 대한 광응답성 화합물의 질량이 너무 적으면, 광감응성 복합재료의 광이성화반응에 의한 유리전이점의 변화가 충분히 일어나지 않고, 광감응성 복합재료의 경도가 그다지 변화하지 않는다. 이 때문에, 양호한 점착상태를 얻는 것이 어렵다. 그리고 광응답성 화합물이 실온에서 액정성을 나타내는 경우에는, 광응답성 화합물은 액정 화합물로서도 사용할 수 있다. 즉, 액정 화합물과 광응답성 화합물의 혼합물 대신 광응답성 화합물만을 사용하여도 좋다. 액정 화합물의 질량과 광응답성 화합물의 질량의 합에 대한 광응답성 화합물의 질량이 100 %라 함은, 이와 같이 광응답성 화합물이 실온에서 액정성을 나타내고, 광응답성 화합물만을 사용하는 경우이다.
본 발명의 광감응성 복합재료의 제조방법은, 고분자 화합물과, 액정 화합물과, 광응답성 화합물을 휘발성의 유기용매에 용해하는 용해공정과, 그 후, 유기용매를 제거하는 용매 제거공정을 구비하고 있다. 광감응성 복합재료 중의 고분자 화합물의 질량 비율이 많아지면 점성이 높아지고, 고분자 화합물, 액정 화합물, 및 광응답성 화합물을 단순하게 혼합하여도, 균일한 광감응성 복합재료를 얻는 것이 어렵다. 그래서, 아세톤 등의 휘발성의 유기용매에 고분자 화합물, 액정 화합물, 및 광응답성 화합물을 미리 용해시킨 균일 용액을 제작해 두고, 그 후 가열·감압하에서 휘발성의 유기용매를 제거함으로써, 균일한 광감응성 복합재료를 제조할 수 있다.
고분자 화합물과, 액정 화합물과, 자외광과 가시광의 조사에 의해 분자형상이 가역적으로 변화하는 광응답성 화합물을 함유하는 광감응성 복합재료는, 자외광 조사에 의해 유도되는 부드러운 상태를 이용함으로써, 손상부위나 절단부위의 자기수복도 가능하다. 즉, 본 발명의 광감응성 복합재료의 손상부위 또는 절단부위의 수복방법은, 복원공정과, 그 후의 경화공정을 구비하고 있다.
복원공정에서는, 이 광감응성 복합재료의 손상부위 또는 절단부위에 자외광을 조사하여, 손상부위를 연화 또는 절단부위를 점착시킨다. 경화공정에서는, 손상부위 또는 절단부위에 가시광을 조사하여, 손상부위 또는 절단부위를 경화시킨다. 그리고 광감응성 복합재료 주위의 가시광에 의해서도 손상부위 또는 절단부위가 경화되므로, 복원공정 후, 손상부위 또는 절단부위에 능동적으로 가시광을 조사하지 않고 방치하여도 자기수복한다. 이 때문에, 이 광감응성 복합재료는, 자기수복도료나 자기수복필름 등에 적용할 수 있다.
본 발명의 광감응성 복합재료는, 전술한 복원공정과 경화공정에 의한 손상부위나 절단부위의 자기수복 외, 요면의 자연복원도 가능하다. 고분자 화합물과, 액정 화합물과, 광응답성 화합물의 조성을 조정하고, 복합재료 중에 있어서 고분자 화합물의 유리상태와 고무상태를 공존시키면, 고무상태에 있는 고분자 화합물의 탄성에 의해, 재료 표면에 생긴 요면이 자연적으로 복원된다.
고분자 화합물과, 액정 화합물과, 자외광과 가시광의 조사에 의해 분자형상이 가역적으로 변화하는 광응답성 화합물을 함유하는 광감응성 복합재료 필름은, 점접착제로서 호적하게 사용할 수 있다. 이 광감응성 복합재료 필름에서는, 자외광 조사에 의해 유도되는 부드러운 상태에 근거하는 점착성은, 광응답성 재료의 분자형상이 자외광 조사 전의 형상으로 되돌아갈 때까지(예를 들어, 실온·암소라면 약 24 시간) 유지된다. 이 때문에, 이 광감응성 복합재료 필름은, 바로 경화되는 접착제와 비교하여, 피착체의 접착 개소의 위치결정을 행하기 쉽다.
또한, 이 광감응성 복합재료 필름에서는, 자외광 조사에 의해 유도된 부드러운 상태를 가시광 조사에 의해 자외광 조사 전의 단단한 상태로 되돌아갈 수 있기 때문에, 접착성을 발휘시킬 수 있다. 그리고 이 광감응성 복합재료 필름의 부드러운 상태는, 자외광 조사 외에, 이 광감응성 복합재료 필름의 유리전이온도 이상으로 가열하는 것에 의해서도 유도할 수 있다. 이 광감응성 복합재료 필름은, 광감응성 복합재료가 부드러운 상태에서 압력을 균일하게 가함으로써, 임의의 두께로 얻어진다. 이 광감응성 복합재료 필름은, 집광된 자외광이나 가시광을 사용함으로써, 임의의 장소에서 임의의 사이즈로, 점착성이나 접착성을 발휘시킬 수 있다. 단단한 상태의 광감응성 복합재료 필름은 점착성을 나타내지 않기 때문에, 오점착 방지층이 불필요해져, 보존이나 취급이 용이하게 된다.
즉, 본 발명의 광감응성 복합재료 필름의 사용방법은, 연화공정과, 압압공정과, 첩부공정과, 경화공정을 구비하고 있다. 연화공정에서는, 이 광감응성 복합재료 필름에 자외광을 조사하여, 광감응성 복합재료 필름을 연화시킨다. 압압공정에서는, 연화한 광감응성 복합재료 필름을, 피접착물에 눌러 붙인다. 첩부공정에서는, 피접착물에 눌러 붙여진 광감응성 복합재료 필름에 접착물을 첩부한다. 부착공정 후의 경화공정에서는, 광감응성 복합재료 필름에 가시광을 조사하여, 광감응성 복합재료 필름을 경화시킨다.
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 내용은 실시예에 한정되는 것이 아니다.
실시예
1
(광감응성 복합재료(1)의 조제)
고분자 화합물인 폴리 메타크릴산 메틸(와코순약공업주식회사 제, 138-02735, 중량평균 분자량은 약 10 만) 0.40 g, 액정 화합물인 4-시아노-4'-펜틸 비페닐(멜크·재팬 주식회사 제, K-15) 0.57 g, 광응답성 화합물인 4-부틸-4'-메톡시 아조벤젠 0.030 g을 아세톤 10 mL로 용해하고, 40 ℃로 교반하여 균일한 용액으로 한 후, 60 ℃로 아세톤을 감압 유거(留去)하여 광감응성 복합재료(1)를 조제하였다. 광감응성 복합재료(1)에는, 폴리 메타크릴산 메틸이 40 질량%, 4-시아노-4'-펜틸 비페닐이 57 질량%, 4-부틸-4'-메톡시 아조벤젠이 3 질량% 함유되어 있다.
그리고 4-부틸-4'-메톡시 아조벤젠은 하기 순서로 합성하였다. 먼저, 4-부틸아닐린 10 g과 2 규정 염산 100 mL를 비이커에 넣었다. 다음으로, 아질산나트륨 5.5 g을 물 50 mL에 용해한 용액을, 온도 0 ℃로 유지하면서 이 비이커에 천천히 추가하고, 다시 온도 0 ℃에서 1 시간 교반하였다. 그리고 수산화나트륨 9.0 g과 페놀 9.5 g을 물 90 mL에 용해한 용액을 이 비이커에 소량씩 적하하고, 온도 0 ℃에서 2 시간 교반한 후, 다시 실온에서 2 시간 교반하였다. 그 후 2 규정 염산을 사용하여 이 비이커 내의 용액의 pH를 2로 하였다. 다음으로, 이 비이커 내의 침전물을 여과 제거하고 초산에틸을 용해하였다.
그리고 이 초산에틸용액을 황산 마그네슘으로 탈수한 후, 초산에틸을 감압 유거하고, 헥산을 사용한 재결정에 의해 중간체인 4-부틸-4'-히드록시 아조벤젠의 결정 12.0 g을 얻었다. 그 후, 이 중간체 6.0 g, 탄산나트륨 3.83 g, 요오드화 메틸 5.1 g, 및 아세톤 50 mL를 가지는 형(型) 플라스크에 넣고, 가열 환류하에서 6 시간 교반하였다. 다음으로, 침전물을 여과하고 얻은 후, 감압 건조하여 조질의 생성물을 얻었다. 그리고 클로로포름을 사용한 칼럼 크로마토그래피에 의해 이 조질의 생성물을 정제한 후, 메탄올과 물의 혼합액을 사용하고 재결정하여 4-부틸-4'-메톡시 아조벤젠 2.4 g을 얻었다.
(동적 점탄성 측정)
도 1은 광감응성 복합재료(1)의 동적 점탄성 측정결과를 나타내고 있다. 광감응성 복합재료(1)를 동적 점탄성 측정장치(안톤 펄 재팬사, MCR302)에 설치하고, 직경 8 mm의 페러럴 플레이트를 사용하고, 갭 500 ㎛, 온도 25 ℃, 왜곡 0.1 %, 주파수 1.0 Hz의 조건에서 동적 점탄성을 평가하였다. 유리전이온도는 38.3 ℃이고, 경도의 지표가 되는 저장 탄성률(G') 및 손실 탄성률(G")은, 각각 2.4 × 105 Pa 및 4.0 × 105 Pa이었다. 다음으로, 광감응성 복합재료(1)에 파장 365 nm의 자외광을 조사하면서 측정한바, 유리전이온도가 21.6 ℃, 저장 탄성률(G')이 3.8 × 104 Pa, 손실 탄성률(G")이 2.3 × 104 Pa가 되며(총 조사 에너지 78 J/㎠), 광감응성 복합재료(1)의 유리전이온도가 변화하여 부드럽게 되는 것을 확인하였다.
더욱이, 이 자외광 조사 후의 부드러운 상태의 광감응성 복합재료(1)에, 파장 450 nm의 가시광을 조사하면서 측정한바, 저장 탄성률(G')이 1.2 × 105 Pa, 손실 탄성률(G")이 1.2 × 105 Pa로 단단해졌다(총 조사 에너지 108 J/㎠). 이 결과로부터 자외광 및 가시광의 조사에 의해, 광감응성 복합재료(1)의 경도를 가역적으로 제어할 수 있음을 확인할 수 있었다.
(광감응성 복합재료(1)의 필름의 제작)
아래의 순서로 광감응성 복합재료(1)를 사용하여 제작하였다. 먼저, 광감응성 복합재료(1)와 두께 0.12 mm의 스테인리스 필름 스페이서를 슬라이드 유리 상에 설치한 후, 광감응성 복합재료(1)를 60 ℃로 가열하여 부드러운 상태로 하였다. 다음으로, 이 부드러운 광감응성 복합재료(1)와 스테인리스 필름 스페이서의 위에서 다른 슬라이드 유리를 설치하고, 광감응성 복합재료(1)와 스테인리스 필름 스페이서를 2 장의 슬라이드 유리로 끼워서 균일하게 압력을 가하였다. 그리고 광감응성 복합재료(1)를 실온까지 냉각한 후, 슬라이드 유리로부터 광감응성 복합재료(1)를 박리하여 광감응성 복합재료 필름을 얻었다. 도 2는, 광감응성 복합재료(1)를 사용하여 제작한 필름의 외관을 나타내고 있다.
(인장전단강도측정)
도 3은, 광감응성 복합재료(1)의 인장전단시험의 결과를 나타내고 있다. 두께 0.08 mm의 폴리에틸렌 필름 스페이서를 사용하여, 상기 순서와 동일하게 하여 광감응성 복합재료(1)의 필름을 제작하였다. 다음으로, 이 필름을 2 장의 유리기판으로 끼우고, 60 ℃에서 3 분간 가열한 후, 실온으로 냉각하여 접착면적 1 ㎠의 시료(A)를 제작하였다. 시료(A)를 인장시험기(ORIENTEC사, TENSILON)에 설치하고, 온도 24.4 ℃, 매초 8.3 ㎛의 인장속도로, 접착상태의 시료(A)의 인장전단강도를 평가하였다. 도 3의 「Initial」에 나타내는 바와 같이, 시료(A)의 인장전단강도는 0.30 MPa이었다.
한편, 별도로 제작한 면적 1 ㎠, 두께, 0.08 mm의 광감응성 복합재료(1)의 필름을 유리기판상에 올려놓고, 25 ℃에서, 파장 365 nm, 조사에너지 54 J/㎠의 자외광을 조사하였다. 그리고 25 ℃에서 다른 유리기판을 눌러 붙여 점착시킨 시료(B)에 대해, 상기와 같이 하여 인장전단강도를 측정하였다. 도 3의 「UV」에 나타내는 바와 같이, 점착상태의 시료(B)의 인장전단강도는 0.01 MPa이었다.
또한, 다시 별도로 제작한 면적 1 ㎠, 두께 0.08 mm의 광감응성 복합재료(1)의 필름을 유리기판상에 올려놓고 25 ℃에서 파장 365 nm, 조사에너지 54 J/㎠의 자외광을 조사한 후, 25 ℃에서 다른 유리기판을 눌러 붙여 점착시키고, 다시 25 ℃에서 파장 450 nm, 조사에너지 45 J/㎠의 가시광을 조사하여, 접착면적 1 ㎠의 접착상태의 시료(C)를 제작하였다. 상기와 같이 하여 시료(C)의 인장전단강도를 측정한바, 도 3의 「Visible」에 나타내는 바와 같이, 0.10 MPa이었다. 이상으로부터, 광감응성 복합재료(1)에 자외광과 가시광을 조사함으로써, 접착상태와 점착상태를 가역적으로 제어할 수 있었다.
(광감응성 복합재료(1)의 자기수복)
도 4는, 광감응성 복합재료(1)의 자기수복의 모습을 나타내고 있다. 먼저, 두께 1 mm의 유리 스페이서를 사용하고, 상기 순서와 동일하게 하여, 가로 9 mm × 세로 5 mm × 두께 1 mm의 광감응성 복합재료(1)의 필름을 제작하였다. 다음으로, 커터 나이프를 사용하여 이 필름을 중앙에서 2 개로 절단하였다. 그 후, 절단한 작은 조각끼리 접촉시켜서, 파장 365 nm, 조사에너지 6O J/㎠의 자외광을 이 접촉부에 조사한바, 작은 조각의 절단면이 자기수복되어 일체화하는 것을 확인하였다.
(요면의 자연복원에 사용하는 광감응성 복합재료(1)의 시험편의 제작)
아래의 순서로 광감응성 복합재료(1)를 사용하여 시험편을 제작하였다. 먼저, 광감응성 복합재료(1)와 두께 1 mm의 유리 스페이서를 슬라이드 유리상에 설치하였다. 그 후, 광감응성 복합재료를 60 ℃로 가열하여 부드러운 상태로 하였다. 다음으로, 이 부드러운 광감응성 복합재료(1)와 유리 스페이서의 위에서 다른 슬라이드 유리를 설치하고, 광감응성 복합재료(1)와 슬라이드 유리를 2 장의 슬라이드 유리로 끼워서 균일하게 압력을 가하였다. 그리고 광감응성 복합재료(1)를 실온까지 냉각한 후, 슬라이드 유리로부터 광감응성 복합재료(1)를 박리하여, 광감응성 복합재료 필름을 얻었다. 얻어진 필름을 커터 나이프로 반경 4 mm의 원형으로 절단하고, 왜곡수복특성시험의 시험편을 얻었다.
(광감응성 복합재료(1)의 요면 수복특성)
도 5는, 동적 점탄성 측정장치(안톤 펄 재팬사, MCR302)를 사용하여, 광감응성 복합재료(1)의 요면 수복특성을 평가한 결과를 나타내고 있다. 시험편을 동적 점탄성 측정장치에 설치하고, 접촉면적이 0.05 ㎠인 마이너스 드라이버형의 지그를 사용하고, 온도 25 ℃, 왜곡 0 %, 주파수 0 Hz의 조건에서 마이너스 드라이버형 지그의 선단과 장치 측정면과의 갭을 좁혀가고, 갭 값이 0.9 mm가 될 때까지 광감응성 복합재료(1)에 변형을 가하였다(test 1). 도 5의 test 1에 나타내는 바와 같이, 마이너스 드라이버형 지그가 광감응성 복합재료(1)와 접촉하고, 응력이 발생하는 갭의 값은 1.8 mm이었다.
그곳으로부터 갭을 더 좁혀 가면, 재료 표면에 함몰이 생기고 응력은 직선적으로 증가하였다. 갭 값이 0.9 mm로 된 후, 갭을 넓혀가면 응력은 감소하고, 갭 값이 약 1.5 mm인 지점에서, 지그는 광감응성 복합재료(1)로부터 멀어졌다. 상기 test 1을 실시하여, 30 분간, 시료를 방치한 후에 상기와 같은 측정(test 2)을 행하였다. 도 5의 test 2에 나타내는 바와 같이, 지그가 광감응성 복합재료와 접촉하고, 응력이 발생하는 갭 값은 test 1일 때와 같은 1.8 mm이었다. 이것은, 마이너스 드라이버형 지그를 압입함으로써 생긴 요면이, 30분간 원래의 상태로 복원된 것을 나타내고 있고, 광감응성 복합재료(1)의 표면에 생긴 요면이 자연복원되는 것을 확인하였다.
실시예 2
(광감응성 복합재료(2)의 조제)
폴리 메타크릴산 메틸, 4-시아노-4'-펜틸 비페닐, 및 4-부틸-4'-메톡시 아조벤젠의 질량을 각각 0.50 g, 0.475 g 및 0.025 g으로 변경한 점을 제외하고, 실시예 1과 동일하게 하여 광감응성 복합재료(2)를 조제하였다. 광감응성 복합재료(2)에는, 폴리 메타크릴산 메틸이 50 질량%, 4-시아노-4'-펜틸 비페닐이 47.5 질량%, 4-부틸-4'-메톡시 아조벤젠이 25 질량% 포함되어 있다.
(동적 점탄성 측정)
실시예 1과 동일하게 하여 광감응성 복합재료(2)의 동적 점탄성을 평가하였다. 도 6은 광감응성 복합재료(2)의 동적 점탄성 측정결과를 나타내고 있다. 광감응성 복합재료(2)의 유리전이온도는 38.3 ℃이고, 저장 탄성률(G')은 7.4 × 105 Pa이고, 손실 탄성률(G")은 1.3 × 106 Pa이었다. 다음으로, 파장 365 nm의 자외광을 광감응성 복합재료(2)에 조사하면서 측정한바, 저장 탄성률(G')이 3.4 × 105 Pa, 손실 탄성률(G")이 4.8 × 105 Pa가 되고(총 조사에너지 90 J/㎠), 광감응성 복합재료(2)가 부드러워진 것을 확인하였다.
더욱이, 이 자외광 조사 후의 부드러운 상태의 광감응성 복합재료(2)에, 파장 450 nm의 가시광을 조사하면서 측정한바, 유리전이온도가 28.2 ℃, 저장 탄성률(G')이 4.5 × 105 Pa, 손실탄성률(G")이 7.0 × 105 Pa가 되고(총 조사에너지 63 J/㎠), 광감응성 복합재료(2)는 단단해졌다. 이 결과로부터, 자외광 및 가시광의 조사에 의해, 광감응성 복합재료(2)가 경도를 가역적으로 제어할 수 있음을 확인할 수 있었다.
(광감응성 복합재료(2)의 필름의 제작)
아래의 순서로 광감응성 복합재료(2)를 사용하여 필름을 제작하였다. 먼저, 광감응성 복합재료(2)와 두께 0.05 mm의 폴리 에틸렌 필름 스페이서를 슬라이드 유리상에 설치한 후, 광감응성 복합재료(2)를 60 ℃로 가열하여 부드러운 상태로 하였다. 다음으로, 부드러운 광감응성 복합재료(2)와 폴리 에틸렌 필름 스페이서의 위에서 다른 슬라이드 유리를 설치하고, 광감응성 복합재료(1)와 폴리 에틸렌 필름 스페이서를 2 장의 슬라이드 유리로 끼워서 균일하게 압력을 가하였다. 그리고 광감응성 복합재료(2)를 실온까지 냉각한 후, 슬라이드 유리로부터 광감응성 복합재료(2)를 박리하여, 광감응성 복합재료 필름을 얻었다. 도 7은, 광감응성 복합재료(2)를 사용하여 제작한 필름의 외관을 나타내고 있다.
(인장전단강도측정)
도 8은, 광감응성 복합재료(2)의 인장전단시험의 결과를 나타내고 있다. 두께 0.12 mm의 폴리에틸렌 필름 스페이서를 사용하여, 상기 순서와 동일하게 하여 광감응성 복합재료(2)의 필름을 제작하였다. 다음으로, 이 필름을 2 장의 유리기판으로 끼우고, 60 ℃에서 3 분간 가열한 후, 실온으로 냉각하여 접착면적 0.25 ㎠의 시료(D)를 제작하였다. 시료(D)에 대해, 실시예 1과 동일하게 하여 인장전단강도를 평가하였다. 도 8의 「Initial」에 나타내는 바와 같이, 시료(D)의 인장전단강도는 0.57 MPa이었다.
한편, 별도로 제작한 면적 0.25 ㎠, 두께 0.12 mm의 광감응성 복합재료(2)의 필름을 유리기판상에 올려놓고, 25 ℃에서, 파장 365 nm, 조사에너지 54 J/㎠의 자외광을 조사하였다. 그리고 25 ℃에서 다른 유리기판을 눌러 붙여 점착시킨 시료(E)에 대해, 상기와 동일하게 하여 인장전단강도를 측정하였다. 도 8의 「UV」에 나타내는 바와 같이, 점착상태의 시료(E)의 인장전단강도는 0.26 MPa이었다.
또한, 다시 별도로 제작한 면적 0.25 ㎠, 두께 0.12 mm의 광감응성 복합재료(2)의 필름을 유리기판상에 올려놓고 25 ℃에서, 파장 365 nm, 조사에너지 54 J/㎠의 자외광을 조사한 후, 25 ℃에서 다른 유리기판을 눌러 붙여 점착시키고, 다시 25 ℃에서 파장 450 nm, 조사에너지 45 J/㎠의 가시광을 조사하여, 접착면적의 0.25 ㎠의 접착상태의 시료(F)를 제작하였다. 상기와 동일하게 하여 시료(F)의 인장전단강도를 측정한바, 도 8의 「Visible」에 나타내는 바와 같이, 0.44 MPa이었다. 이상으로부터, 광감응성 복합재료(2)에 자외광과 가시광을 조사함으로써, 접착상태와 점착상태를 가역적으로 제어할 수 있었다.
실시예
3
(광감응성 복합재료(3)의 조제)
폴리 메타크릴산 메틸, 4-시아노-4'-펜틸 비페닐, 및 4-부틸-4'-메톡시 아조벤젠의 질량을, 각각 0.60 g, 0.38 g, 및 0.02 g으로 변경한 점을 제외하고, 실시예 1과 동일하게 하여 광감응성 복합재료(3)를 조제하였다. 광감응성 복합재료(3)에는, 폴리 메타크릴산 메틸이 60 질량%, 4-시아노-4'-펜틸 비페닐이 38 질량%, 4-부틸-4'-메톡시 아조벤젠이 2 질량% 함유되어 있다.
(동적 점탄성 측정)
실시예 1과 동일하게 하여 광감응성 복합재료(3)의 동적 점탄성을 평가하였다. 도 9는 광감응성 복합재료(3)의 동적 점탄성 측정결과를 나타내고 있다. 조제 직후의 광감응성 복합재료(3)의 저장탄성률(G')은 1.9 × 106 Pa이고, 손실탄성률(G")은 3.2 × 106 Pa이었다. 다음으로, 파장 365 nm의 자외광을 광감응성 복합재료(3)에 조사하면서 측정한바, 저장탄성률(G')이 1.0 × 106 Pa, 손실탄성률(G")이 1.9 × 106 Pa가 되고(총 조사에너지 63 J/㎠), 광감응성 복합재료(3)가 부드럽게 되는 것을 확인하였다.
더욱이, 이 자외광 조사 후의 부드러운 상태의 광감응성 복합재료(3)에, 파장 450 nm의 가시광을 조사하면서 측정한바, 저장탄성률(G')이 1.5 × 106 Pa, 손실탄성률(G")이 2.7 × 106 Pa로 단단해졌다(총 조사에너지 54 J/㎠). 이 결과로부터, 자외광 및 가시광의 조사에 의해, 광감응성 복합재료(3)의 경도를 가역적으로 제어할 수 있음을 확인할 수 있었다.
(광감응성 복합재료(3)의 필름의 제작)
실시예 2와 동일한 순서로 광감응성 복합재료(3)를 사용하여 필름을 제작하였다. 이 결과, 투명한 필름이 얻어졌다. 도 10은, 광감응성 복합재료(3)를 사용하여 제작한 필름의 외관을 나타내고 있다. 이 필름의 광 투과율은, 가시광 영역 중 파장 550 nm ~ 800 nm의 범위에서 90 % 이상의 높은 값을 나타내었다.
(인장전단강도측정)
도 11은, 광감응성 복합재료(3)의 인장전단시험의 결과를 나타내고 있다. 두께 0.25 mm의 폴리에틸렌 필름 스페이서를 사용하여, 상기 순서와 동일하게 하여 광감응성 복합재료(3)의 필름을 제작하였다. 다음으로, 이 필름을 2 장의 유리기판으로 끼우고, 60 ℃에서 3 분간 가열한 후, 실온으로 냉각하여 접착면적 0.25 ㎠의 시료(G)를 제작하였다. 시료(G)에 대해, 실시예 1과 동일하게 하여 인장전단강도를 평가하였다. 도 11의 「Initial」에 나타내는 바와 같이, 시료(G)의 인장전단강도는 1.63 MPa이었다.
한편, 별도로 제작한 면적 0.25 ㎠, 두께 0.25 mm의 광감응성 복합재료(3)의 필름을 유리기판상에 올려놓고, 25 ℃에서, 파장 365 nm, 조사 에너지 54 J/㎠의 자외광을 조사하였다. 그리고 25 ℃에서 다른 유리기판을 눌러 붙여서 점착시킨 시료(H)에 대해, 상기와 동일하게 하여 인장전단강도를 측정하였다. 도 11의 「UV」에 나타내는 바와 같이, 점착상태의 시료(H)의 인장전단강도는 0.30 MPa이었다.
또한, 다시 별도로 제작한 면적 0.25 ㎠, 두께 0.25 mm의 광감응성 복합재료(3)의 필름을 유리기판상에 올려놓고, 25 ℃에서, 파장 365 nm, 조사에너지 54 J/㎠의 자외광을 조사한 후, 25 ℃에서 다른 유리기판을 눌러 붙여 점착시키고, 다시 25 ℃에서, 파장 450 nm, 조사에너지 45 J/㎠의 가시광을 조사하여, 접착면적 0.25 ㎠의 접착상태의 시료(I)를 제작하였다. 상기와 동일하게 하여 시료(I)의 인장전단강도를 측정한바, 도 11의 「Visible」에 나타내는 바와 같이, 0.99 MPa이었다. 이상으로부터, 광감응성 복합재료(3)에 자외광과 가시광을 조사함으로써, 접착상태와 점착상태를 가역적으로 제어할 수 있었다.
(인공손톱으로의 전사와 네일 파츠(Nail parts)의 첩부)
먼저, 두께 0.05 mm의 광감응성 복합재료(3)의 필름을 슬라이드 유리 상에서 제작하였다. 다음으로, 슬라이드 유리로부터 이 필름을 박리하고, 시판의 메타크릴 수지제의 인공손톱 위에 밀착시키고, 인공손톱 형태에 맞춰서 조형하였다. 그리고 25 ℃에서, 파장 365 nm, 빛 강도 150 mW/㎠의 자외광을 이 필름에 300 초간 조사하여(조사에너지는 45 J/㎠), 인공손톱 표면에 광감응성 복합재료(3)의 필름을 전사하였다. 인공손톱 표면에 전사된 광감응성 복합재료(3)의 필름을 도 12에 나타낸다.
다음으로, 이 필름에 자외광을 다시 300 초간 조사하여(조사에너지는 45 J/㎠) 이 필름을 부드럽게 하고, 네일 파츠인 시판의 아크릴수지제 스톤 6 개를 이 필름에 눌러 붙여서 점착시켰다. 그리고 25 ℃에서, 파장 450 nm, 빛 강도 100 mW/㎠의 가시광을 이 필름에 300 초간 조사하고(조사에너지는 30 J/㎠), 이 필름을 경화시켜서 접착상태로 하고, 네일 파츠를 첩부하였다. 이와 같이 하여, 광감응성 복합재료(3)의 필름을 개재시켜, 인공손톱에 네일 파츠를 첩부한 상태를 도 13에 나타낸다.
이 상태에서 네일 파츠에 1 MPa의 응력을 인가함으로써, 광감응성 복합재료(3)의 필름으로부터 네일 파츠를 탈리(脫離)할 수가 있었다. 또한, 이 상태에서 필름 전체에 파장 365 nm, 빛 강도 150 mW/㎠의 자외광을 300 초간 조사하여(조사에너지는 45 J/㎠) 필름을 연화시키는 것에 의해서도, 네일 파츠를 필름으로부터 탈리할 수 있었다.
본 발명의 광감응성 복합재료는, 낚시용 유사미끼, 건축, 수송기계, 일렉트로닉스, 의료, 우주 등의 광범위한 분야에 있어서의 점접착이나 도장 등에 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 광감응성 복합재료로 구성되는 시트나 필름은, 네일 아트용 점접착제 등의 화장품 등에 사용할 수 있다.
Claims (14)
- 점접착제(粘接着劑)로서 사용되는 광감응성 복합재료에 있어서,
고분자 화합물과,
상기 고분자 화합물에 대해 가소제로서 기능하는 액정 화합물과,
다른 파장의 빛의 조사에 의해 분자형상이 가역적으로 변화하여 상기 액정 화합물의 상(相) 구조를 변화시키는 광응답성 화합물을 함유하고,
상기 액정 화합물의 질량과 상기 광응답성 화합물의 질량의 합에 대한 상기 광응답성 화합물의 질량이 2 % ~ 100 %이며,
상기 액정 화합물의 질량과 상기 광응답성 화합물의 질량의 합에 대한 상기 광응답성 화합물의 질량이 100 %가 되고, 그 비율결과에 있어서의 액정 화합물과 광응답성 화합물과의 관계에 있어서, 액정 화합물이 존재하지 않고 광응답성 화합물만이 사용되는 경우는, 그 광응답성 화합물이, 광응답성 화합물로서 사용할 수 있을 뿐만 아니라 액정 화합물로서도 사용할 수 있는 것일 때인 광감응성 복합재료. - 제1항에 있어서,
상기 고분자 화합물의 용해도 파라미터와 상기 액정 화합물의 용해도 파라미터와의 차이가 10 이내인 광감응성 복합재료. - 제1항에 있어서,
상기 광응답성 화합물이 아조벤젠 유도체인 광감응성 복합재료. - 제1항에 있어서,
상기 고분자 화합물의 질량이 전체 질량의 40 % ~ 60 %인 광감응성 복합재료. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 다른 파장의 빛이 자외광과 가시광이고,
자외광 조사에 의해 유리전이온도가 하강하고, 자외광 조사에 의해 하강한 유리전이온도가 가시광 조사에 의해 상승하는 광감응성 복합재료. - 제1항 내지 제4항, 제6항 중 어느 한 항의 광감응성 복합재료를 필름모양으로 성형한 광감응성 복합재료 필름.
- 제7항에 있어서,
장식품을 손톱에 첩부(貼付)하기 위한 접착필름인 광감응성 복합재료 필름. - 고분자 화합물과, 상기 고분자 화합물에 대해 가소제로서 기능하는 액정 화합물과, 다른 파장의 빛의 조사에 의해 분자형상이 가역적으로 변화하여 상기 액정 화합물의 상 구조를 변화시키는 광응답성 화합물을 함유하고, 상기 액정 화합물의 질량과 상기 광응답성 화합물의 질량의 합에 대한 상기 광응답성 화합물의 질량이 2 % ~ 100 %이며, 상기 액정 화합물의 질량과 상기 광응답성 화합물의 질량의 합에 대한 상기 광응답성 화합물의 질량이 100 %가 되고, 그 비율결과에 있어서의 액정 화합물과 광응답성 화합물과의 관계에 있어서, 액정 화합물이 존재하지 않고 광응답성 화합물만이 사용되는 경우는, 그 광응답성 화합물이, 광응답성 화합물로서 사용할 수 있을 뿐만 아니라 액정 화합물로서도 사용할 수 있는 것일 때이며, 점접착제로서 사용되는 광감응성 복합재료의 제조방법으로서,
상기 고분자 화합물과, 상기 액정 화합물과, 상기 광응답성 화합물을 휘발성의 유기용매에 용해하는 용해공정과,
상기 용해공정 후, 상기 유기용매를 제거하는 용매 제거공정을 가지는 광감응성 복합재료의 제조방법. - 고분자 화합물과, 상기 고분자 화합물에 대해 가소제로서 기능하는 액정 화합물과, 자외광과 가시광의 조사에 의해 분자형상이 가역적으로 변화하여 상기 액정 화합물의 상 구조를 변화시키는 광응답성 화합물을 함유하고, 상기 액정 화합물의 질량과 상기 광응답성 화합물의 질량의 합에 대한 상기 광응답성 화합물의 질량이 2 % ~ 100 %이며,
상기 액정 화합물의 질량과 상기 광응답성 화합물의 질량의 합에 대한 상기 광응답성 화합물의 질량이 100 %가 되고, 그 비율결과에 있어서의 액정 화합물과 광응답성 화합물과의 관계에 있어서, 액정 화합물이 존재하지 않고 광응답성 화합물만이 사용되는 경우는, 그 광응답성 화합물이, 광응답성 화합물로서 사용할 수 있을 뿐만 아니라 액정 화합물로서도 사용할 수 있는 것일 때인 광감응성 복합재료의 손상부위 또는 절단부위의 수복방법으로서,
상기 광감응성 복합재료의 손상부위 또는 절단부위에 자외광을 조사하여, 상기 손상부위를 연화 또는 상기 절단부위를 점착시키는 복원공정과,
상기 복원공정 후, 상기 손상부위 또는 상기 절단부위에 가시광을 조사하여, 상기 손상부위 또는 상기 절단부위를 경화시키는 경화공정을 가지는 광감응성 복합재료의 손상부위 또는 절단부위의 수복방법. - 고분자 화합물과, 상기 고분자 화합물에 대해 가소제로서 기능하는 액정화합물과, 자외광과 가시광의 조사에 의해 분자형상이 가역적으로 변화하여 액정 화합물의 상 구조를 변화시키는 광응답성 화합물을 함유하고, 상기 액정 화합물의 질량과 상기 광응답성 화합물의 질량의 합에 대한 상기 광응답성 화합물의 질량이 2 % ~ 100 %이며, 상기 액정 화합물의 질량과 상기 광응답성 화합물의 질량의 합에 대한 상기 광응답성 화합물의 질량이 100 %가 되고, 그 비율결과에 있어서의 액정 화합물과 광응답성 화합물과의 관계에 있어서, 액정 화합물이 존재하지 않고 광응답성 화합물만이 사용되는 경우는, 그 광응답성 화합물이, 광응답성 화합물로서 사용할 수 있을 뿐만 아니라 액정 화합물로서도 사용할 수 있는 것일 때인 광감응성 복합재료 필름의 사용방법으로서,
상기 광감응성 복합재료 필름에 자외광을 조사하여, 상기 광감응성 복합재료 필름을 연화시키는 연화공정과,
연화된 상기 광감응성 복합재료 필름을, 피접착물에 눌러 붙이는 압압공정과,
상기 피접착물에 눌러 붙여진 상기 광감응성 복합재료 필름에 접착물을 첩부하는 첩부공정과,
상기 첩부공정 후, 상기 광감응성 복합재료 필름에 가시광을 조사하여, 상기 광감응성 복합재료 필름을 경화시키는 경화공정을 가지는 광감응성 복합재료 필름의 사용방법. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 고분자 화합물이, 아크릴계 폴리머, 메타크릴계 폴리머, 스티렌계 폴리머, 올레핀계 폴리머, 비닐계 폴리머 중 어느 1 종 또는 2 종 이상이 사용되는 것으로 되어 있는 것을 특징으로 하는 광감응성 복합재료. - 제1항에 있어서,
상기 고분자 화합물의 용해도 파라미터와 상기 액정 화합물의 용해도 파라미터와의 차이가 10 이내이고,
상기 광응답성 화합물이 아조벤젠 유도체이고,
상기 고분자 화합물의 질량이 전체 질량의 40 % ~ 60 %이고,
상기 다른 파장의 빛이 자외광과 가시광이고,
자외광 조사에 의해 유리전이온도가 하강하고, 자외광 조사에 의해 하강한 유리전이온도가 가시광 조사에 의해 상승하도록 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 광감응성 복합재료. - 삭제
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015013499 | 2015-01-27 | ||
JPJP-P-2015-013499 | 2015-01-27 | ||
JP2015129091 | 2015-06-26 | ||
JPJP-P-2015-129091 | 2015-06-26 | ||
PCT/JP2016/051877 WO2016121651A1 (ja) | 2015-01-27 | 2016-01-22 | 光感応性複合材料とその製造方法、および光感応性複合材料フィルムの使用方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170049552A KR20170049552A (ko) | 2017-05-10 |
KR101958583B1 true KR101958583B1 (ko) | 2019-03-14 |
Family
ID=56543264
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020177008765A KR101958583B1 (ko) | 2015-01-27 | 2016-01-22 | 광감응성 복합재료와 그 제조방법, 및 광감응성 복합재료 필름의 사용방법 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6449340B2 (ko) |
KR (1) | KR101958583B1 (ko) |
CN (1) | CN107075263B (ko) |
WO (1) | WO2016121651A1 (ko) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6950914B2 (ja) * | 2016-09-20 | 2021-10-13 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 受光応答装置 |
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-
2016
- 2016-01-22 CN CN201680003233.4A patent/CN107075263B/zh active Active
- 2016-01-22 JP JP2016571995A patent/JP6449340B2/ja active Active
- 2016-01-22 WO PCT/JP2016/051877 patent/WO2016121651A1/ja active Application Filing
- 2016-01-22 KR KR1020177008765A patent/KR101958583B1/ko active IP Right Grant
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2016121651A1 (ja) | 2017-08-03 |
KR20170049552A (ko) | 2017-05-10 |
WO2016121651A1 (ja) | 2016-08-04 |
CN107075263B (zh) | 2020-06-30 |
CN107075263A (zh) | 2017-08-18 |
JP6449340B2 (ja) | 2019-01-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
X701 | Decision to grant (after re-examination) |