CN113508318B - 层叠体 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种层叠体，是存在多个层叠有基材膜和光学功能层的部位的层叠体，可以从光学功能层优先地剥离所期望的基材膜。层叠体(10)依次具备：第1基材膜(1A)、包含第1聚合性液晶化合物固化而得的层的第1光学功能层(2A)、包含第2聚合性液晶化合物固化而得的层的第2光学功能层(2B)、和第2基材膜(1B)。第1基材膜(1A)与第1光学功能层(2A)之间的面内剥离力(P1)、和第2基材膜(1B)与第2光学功能层(2B)之间的面内剥离力(P2)满足下述式(1)，第1基材膜(1A)的厚度(T1)、和第2基材膜(1B)的厚度(T2)满足下述式(2)。0.67＜P1/P2＜1.50…(1)1.05≤T1/T2…(2)。

Description

层叠体
技术领域
本发明涉及一种层叠体。
背景技术
有机EL显示装置为了高效地利用发光层的光，设有反射性优异的金属电极。另一方面，因使用此种金属电极，外来光反射变大，产生对比度降低的不佳状况。因而，为了赋予防反射功能，有机EL显示装置在有机EL显示元件的可视侧具备圆偏振板。
圆偏振板中层叠有偏振片和相位差膜。圆偏振板被要求在宽的波长范围中同样地转换为圆偏振光、或从斜向观察时在反射光中不会着色的功能。为了发挥该功能，相位差膜有时具备多个相位差层。具体而言，相位差膜有时是λ/2板与λ/4板的层叠体、逆波长分散性的λ/4板与正C板的层叠体。
提出过使用聚合性液晶化合物作为相位差层的材料的方案。若使用聚合性液晶化合物，则可以减小所得的相位差层的厚度。要获得此种相位差层，首先在基材膜形成取向膜。在取向膜上涂布包含聚合性液晶化合物的组合物后使之取向，照射紫外线而使聚合性液晶化合物聚合。
最后，剥离基材膜，由此得到相位差层。
如上所述，在相位差膜具备多个相位差层的情况下，此种相位差膜可以通过如下操作获得，即，将包含基材膜和聚合性液晶化合物固化而得的层(相位差层)的层叠体之间以使聚合性液晶化合物固化而得的层相互成为贴合面的方式用粘接剂贴合，并依次剥离基材膜而得(例如参照专利文献1)。
另外，近年来，通过与聚合性液晶化合物一起地使用二色性色素，可以制造极薄的偏振片(偏振元件层)，在这一点上受到关注。此种偏振片也可以通过如下操作来制造，即，在适当的基材膜上，形成包含聚合性液晶化合物及二色性色素的组合物层，在使该组合物层中含有的聚合性液晶化合物取向后使聚合性液晶化合物聚合，由此在基材膜上形成偏振片(薄膜偏振片)，然后剥离基材膜而制造(例如参照专利文献2)。通过将此种薄膜偏振片与如前所述的使用了聚合性液晶化合物的相位差膜贴合，能够制造极薄的圆偏振板。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第6221455号公报
专利文献2：日本特开2016-170368号公报
发明内容
发明所要解决的问题
然而，在如前所述地剥离基材膜的方法中，在制造具备多个相位差层的相位差膜时、制造薄的圆偏振板时，在剥离基材膜的工序中，存在无法在预想的界面处剥离的问题。具体而言，在将想要剥离的基材膜拉起时，有在相反一侧的基材膜与相位差层之间发生剥离的情况。针对该问题，以往采用在一侧的剥离力与另一侧的剥离力中设置差别的对策，然而若在剥离力中设置差别，则会有在将剥离力大的基材剥离时产生拉链现象(日文：ジッピング)、或想要以确保转印性的剥离力来剥离基材时依然无法在预想的界面处剥离的情况。这样的问题不仅在剥离基材膜的对象为相位差层时发生，还在剥离基材膜的对象为其他光学功能层时发生。
本发明的目的在于，提供一种层叠体，是存在多个层叠有基材膜和光学功能层的部位的层叠体，可以从光学功能层优先地剥离所期望的基材膜。
用于解决问题的手段
本发明提供一种层叠体，其依次具备第1基材膜、包含第1聚合性液晶化合物固化而得的层的第1光学功能层、包含第2聚合性液晶化合物固化而得的层的第2光学功能层、和第2基材膜，第1基材膜与第1光学功能层之间的面内剥离力P1、和第2基材膜与第2光学功能层之间的面内剥离力P2满足下述式(1)，第1基材膜的厚度T1、和第2基材膜的厚度T2满足下述式(2)。
0.67＜P1/P2＜1.50…(1)
1.05≤T1/T2…(2)
另外，本发明提供一种层叠体，其依次具备第1基材膜、包含第1聚合性液晶化合物固化而得的层的第1光学功能层、包含第2聚合性液晶化合物固化而得的层的第2光学功能层、和第2基材膜，第1基材膜与第1光学功能层之间的面内剥离力P1、和第2基材膜与第2光学功能层之间的面内剥离力P2满足下述式(1)，第1基材膜的硬挺度S1、和第2基材膜的硬挺度S2满足下述式(3)。
0.67＜P1/P2＜1.50…(1)
1.10≤S1/S2…(3)
本发明中，第1光学功能层与第2光学功能层可以利用粘接剂层或粘合剂层贴合。
本发明中，第1光学功能层与第2光学功能层中的至少一方可以是具有相位差的层。
本发明中，第1光学功能层与第2光学功能层中的至少一方可以是偏振元件层。
本发明中，可以在第1基材膜与第1光学功能层之间、以及第2基材膜与第2光学功能层之间的至少一方具备取向膜。
发明效果
根据本发明，可以提供一种层叠体，是存在多个层叠有基材膜和光学功能层的部位的层叠体，可以从光学功能层优先地剥离所期望的基材膜。
附图说明
图1是本发明的一个实施方式的层叠体的剖视图。
具体实施方式
以下，在参照附图的同时，对本发明的合适的实施方式进行详细说明。
＜层叠体＞
如图1所示，本实施方式的层叠体10具备第1原料层叠体5A和第2原料层叠体5B，它们利用粘接剂层3相互贴合。第1原料层叠体5A具备第1基材膜1A、和包含第1聚合性液晶化合物固化而得的层的第1光学功能层2A，第2原料层叠体5B具备第2基材膜1B、和包含第2聚合性液晶化合物固化而得的层的第2光学功能层2B。此外，第1光学功能层2A与第2光学功能层2B被设为相面对的方向，第1原料层叠体5A与第2原料层叠体5B相互粘接。即，本实施方式的层叠体10依次具备：第1基材膜1A、包含第1聚合性液晶化合物固化而得的层的第1光学功能层2A、包含第2聚合性液晶化合物固化而得的层的第2光学功能层2B、和第2基材膜1B。第1光学功能层2A与第2光学功能层2B利用粘接剂层3相互贴合。此处，也可以取代粘接剂层3而设为粘合剂层。
此处，所谓第1基材膜1A，是指两个基材膜1A、1B中的预定先从层叠体10剥离的基材膜。剥掉第1基材膜1A后的层叠体用于使用第1光学功能层2A及第2光学功能层2B的用途，剥下的第1基材膜1A通常废弃。
虽然在图1中没有图示，然而层叠体10可以在第1基材膜1A与第1光学功能层2A之间、以及第2基材膜1B与第2光学功能层2B之间的至少一方具备取向膜。
虽然在图1中没有图示，然而层叠体10可以在第1光学功能层2A与第2光学功能层2B之间还具备至少一层的不同的光学功能层、粘接剂层、粘合剂层。
在一个实施方式中，层叠体10在第1及第2基材膜1A、1B与第1及第2光学功能层2A、2B之间具有以下的关系性。
第1基材膜1A与第1光学功能层2A之间的面内剥离力P1、和第2基材膜1B与第2光学功能层2B之间的面内剥离力P2满足下述式(1)，并且，第1基材膜1A的厚度T1和第2基材膜1B的厚度T2满足下述式(2)。
0.67＜P1/P2＜1.50…(1)
1.05≤T1/T2…(2)
此处，基材膜与光学功能层之间的“面内剥离力”，是指将被贴合的基材膜与光学功能层相互剥下所需的力。在基材膜与光学功能层之间设有另外的层的情况下，无论是将该另外的层与基材膜一起剥下时所需的力，还是将该另外的层与光学功能层一起剥下时所需的力，都设为本发明中所说的“面内剥离力”。例如，在该另外的层存在2种以上时，在剥下时可以在基材膜侧存在1种以上的另外的层，也可以在光学功能层侧存在1种以上的另外的层。即，在被剥下的一方存在基材膜、在另一方存在光学功能层的情况下，将剥下所需的力设为“面内剥离力”。作为此种另外的层，如后所述，可以举出取向膜等。
面内剥离力的测定(面内剥离力测定)可以通过如下操作来进行，即，在具备基材膜和光学功能层的膜的光学功能层侧贴合任意的粘合剂层，经由该粘合剂层将膜贴合于玻璃板后，使用拉伸试验机夹住基材膜地进行剥离。面内剥离力是指在拉起基材膜后、直至将基材膜从光学功能层剥离完成的期间力达到恒定状态时的剥离力。面内剥离力测定的详情在本说明书的实施例中进行说明。需要说明的是，面内剥离力有别于刚刚拉起基材膜后的拉起力。面内剥离力优选为0.70＜P1/P2＜1.43，更优选为0.73＜P1/P2＜1.30。
另外，基材膜的厚度例如可以使用株式会社Nikon制的作为数字式测微计的MH-15M进行测定(厚度测定)。基材膜的厚度优选为1.50≤T1/T2，更优选为2.00≤T1/T2。也可以是T1/T2≤20.0，优选为T1/T2≤10.0，更优选为T1/T2≤5.00。
在另一实施方式中，层叠体10在第1及第2基材膜1A、1B与第1及第2光学功能层2A、2B之间具有以下的关系性。
第1基材膜1A与第1光学功能层2A之间的面内剥离力P1、和第2基材膜1B与第2光学功能层2B之间的面内剥离力P2满足下述式(1)，并且，第1基材膜1A的硬挺度S1、和第2基材膜1B的硬挺度S2满足下述式(3)。
0.67＜P1/P2＜1.50…(1)
1.10≤S1/S2…(3)
在该实施方式中，面内剥离力也优选为0.70＜P1/P2＜1.43，更优选为0.73＜P1/P2＜1.30。
基材膜的硬挺度例如可以依照JIS L 1085：1998的6.10.3的Gurley法(日文：ガーレ法)算出(硬挺度测定)。基材膜的硬挺度优选为1.15≤S1/S2，更优选为2.00≤S1/S2，进一步优选为3.00≤S1/S2。也可以是S1/S2≤40.0，优选为S1/S2≤20.0，更优选为S1/S2≤10.0，进一步优选为S1/S2≤7.00。
所述任一实施方式的层叠体10都可以从第1光学功能层2A剥离第1基材膜1A。即，在以夹住第1基材膜1A地将其剥下的方式进行牵拉的情况下，可以不产生非意愿分离(日文：泣き別れ)、拉链现象等地优先地剥下第1基材膜1A。需要说明的是，在层叠体10具备取向膜的情况下，在进行所述“剥下第1基材膜1A”时可以在第1基材膜1A侧残留取向膜，也可以在第1光学功能层2A侧残留取向膜。
此处，所谓“非意愿分离”，是指如下的现象，即，不仅没有在层叠体10中的所期望的界面(第1基材膜1A与第1光学功能层2A之间)处剥离，而且部分地在第2基材膜1B与第2光学功能层2B之间剥离、或在粘接剂层3(或粘合剂层)的部分剥离。所谓“拉链现象”，是指如下的现象，即，在剥离第1基材膜1A时无法以一定的剥离力进行剥离，在局部剥离力变大，在第1或第2光学功能层2A、2B中产生裂纹等缺陷。
以下，对各层的详情、以及层叠体的制造方法进行说明。
＜基材膜＞
基材膜(第1及第2基材膜1A、1B)作为脱模性支承体发挥作用，可以支承转印用的光学功能层。此外，优选其表面具有能够剥离的程度的粘接力。作为基材，可以是具有透光性的(优选光学上透明的)热塑性树脂。基材膜例如可以是包含链状聚烯烃系树脂(聚丙烯系树脂等)、环状聚烯烃系树脂(降冰片烯系树脂等)之类的聚烯烃系树脂；三乙酰纤维素、二乙酰纤维素之类的纤维素系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯之类的聚酯系树脂；聚碳酸酯系树脂；甲基丙烯酸甲酯系树脂之类的(甲基)丙烯酸系树脂；聚苯乙烯系树脂；聚氯乙烯系树脂；丙烯腈-丁二烯-苯乙烯系树脂；丙烯腈-苯乙烯系树脂；聚乙酸乙烯酯系树脂；聚偏二氯乙烯系树脂；聚酰胺系树脂；聚缩醛系树脂；改性聚苯醚系树脂；聚砜系树脂；聚醚砜系树脂；聚芳酯系树脂；聚酰胺酰亚胺系树脂；聚酰亚胺系树脂等的膜。
作为基材膜的厚度，优选为5μm以上且200μm以下的范围，更优选为10μm以上且150μm以下的范围，进一步优选为20μm以上且120μm以下的范围。若基材膜的厚度为5μm以上，则可以赋予强度。另一方面，若厚度为200μm以下，则在对基材膜进行裁割加工而制成单张的基材膜时，可以抑制加工屑的增加、裁割刀的磨损。
基材膜可以从市售品中选择所期望的厚度的合适的基材膜，也可以将如前所述的热塑性树脂利用公知的方法制成所期望的厚度的基材膜。作为此种公知的方法，可以举出熔融挤出法、溶液流延法等。
需要说明的是，基材膜可以实施各种防粘连处理。作为防粘连处理，例如可以举出易粘接处理、内加填料等的处理、压花加工(滚花处理)等。通过对基材膜实施此种防粘连处理，可以有效地防止卷绕基材膜时的基材膜之间的贴附、即所谓的粘连。此种实施了防粘连处理的基材膜例如可以通过使用长条状的基材膜而连续地在基材膜上形成光学功能层，因此具备基材膜及光学功能层的膜的生产率有变得良好的趋势。
需要说明的是，基材膜可以被拉伸，也可以具有相位差。
＜光学功能层＞
光学功能层(第1及第2光学功能层2A、2B)是包含后述的聚合性液晶化合物固化而得的层的层。光学功能层例如可以是以下说明的偏振元件层，也可以是具有相位差的层(相位差层)。可以第1及第2光学功能层2A、2B的一方为偏振元件层或相位差层，也可以双方为偏振元件层或相位差层。另外，光学功能层可以具备多个偏振元件层、相位差层。
也像本说明书的背景技术中所述那样，作为本发明的层叠体中含有的光学功能层的1个，也可以应用包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏振元件层(薄膜偏振片)。由于此种偏振元件层也通常将形成于基材膜上而得的层应用于圆偏振板的制造等，因此可以享受本发明的效果。需要说明的是，通过作为第1及第2光学功能层，将彼此不同的薄膜偏振片粘接，也能够制造由多层形成的偏振元件层，然而由于通过将相位差层与偏振元件层粘接而得的圆偏振板的产业上的利用价值大，因此在第1及第2光学功能层中的一方为相位差层、另一方使用了偏振元件层的圆偏振板制造中，本发明的层叠体极为有用。以下，对该偏振元件层及相位差层进行简单说明。
(偏振元件层)
偏振元件层可以是具有如下性质的吸收型的偏振膜，即，吸收具有与其吸收轴平行的振动面的直线偏振光，透射具有与吸收轴正交的(与透射轴平行的)振动面的直线偏振光。
偏振元件层的厚度通常为30μm以下，优选为15μm以下，更优选为13μm以下，进一步优选为10μm以下，特别优选为8μm以下。偏振膜的厚度通常为1μm以上，优选为2μm以上，更优选为3μm以上。
作为偏振元件层，例如可以像专利文献2中记载的那样，使用在聚合性液晶化合物聚合而得的固化膜中使二色性色素发生取向而得的偏振元件层。
作为二色性色素，可以使用在波长380～800nm的范围内具有吸收的二色性色素，优选使用有机染料。作为二色性色素，例如可以举出偶氮化合物。聚合性液晶化合物是能够在保持取向的状态下进行聚合的液晶化合物，可以在分子内具有聚合性基团。另外，也可以像WO2011/024891中记载的那样，由具有液晶性的二色性色素形成偏振膜。
(相位差层)
相位差层可以使用公知的λ/2板、λ/4板、逆波长分散性的λ/4板、正A板、正C板、负A板、负C板等，也可以是层叠有它们中的多个的相位差层。
在相位差层为A板或C板的情况下，厚度可以设为0.1μm以上且5μm以下。若A板及C板的厚度为该范围内，则可以获得充分的耐久性，能够有助于层叠体的薄层化。当然，A板及C板的厚度可以以获得赋予λ/4的相位差的层、赋予λ/2的相位差的层、正A板、或正C板等所期望的面内相位差值、以及厚度方向的相位差值的方式调整。
对于相位差层的形成中使用的聚合性液晶化合物的种类，没有特别限定，然而根据其形状，可以分类为棒状型(棒状液晶化合物)和圆盘状型(圆盘状液晶化合物、盘状液晶化合物)。此外，各自具有低分子型和高分子型。需要说明的是，所谓高分子，一般是指聚合度为100以上的化合物(高分子物理·相转移动力学(日文：高分子物理·相転移ダイナミクス)、土井正男著、第2页、岩波书店、1992)。
本实施方式中，可以使用任意的聚合性液晶化合物。此外，也可以使用2种以上的棒状液晶化合物、2种以上的圆盘状液晶化合物、或棒状液晶化合物与圆盘状液晶化合物的混合物。
需要说明的是，作为棒状液晶化合物，例如可以合适地使用日本特表平11-513019号公报的权利要求1、或日本特开2005-289980号公报的[0026]～[0098]段中记载的化合物。作为圆盘状液晶化合物，例如可以合适地使用日本特开2007-108732号公报的[0020]～[0067]段、或日本特开2010-244038号公报的[0013]～[0108]段中记载的化合物。
聚合性液晶化合物可以并用2种以上。该情况下，至少1种在分子内具有2个以上的聚合性基团。即，聚合性液晶化合物固化而得的层优选为具有聚合性基团的液晶化合物通过聚合而形成的层。该情况下，在形成层后已经无需显示液晶性。
聚合性液晶化合物具有能够进行聚合反应的聚合性基团。作为聚合性基团，例如优选聚合性烯属不饱和基团、环聚合性基团等能够进行加成聚合反应的官能团。
更具体而言，作为聚合性基团，例如可以举出环氧基、乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、环氧乙基、以及氧杂环丁烷基、(甲基)丙烯酰基、苯乙烯基、烯丙基等。其中，优选(甲基)丙烯酰基。需要说明的是，所谓(甲基)丙烯酰基，是包含甲基丙烯酰基及丙烯酰基两者的概念。
＜具备基材膜及光学功能层的层叠体(原料层叠体(符号5A，5B))＞
本实施方式的层叠体可以通过如下操作来制造，即，满足式(1)及式(2)、或者满足式(1)及式(3)地选择2种具备基材膜及光学功能层的原料层叠体(具备第1基材膜及第1光学功能层的层叠体、和具备第2基材膜及第2光学功能层的层叠体)，例如经由后述的粘接剂层或粘合剂层贴合而制造。
对所用的2种基材膜(第1及第2基材膜)利用已经说明的厚度测定求出各自的厚度，满足式(2)地进行选择。另外，对其也利用已经说明的硬挺度测定求出各自的硬挺度，满足式(3)地进行选择。也可以求出2种基材膜各自的厚度及硬挺度，同时满足式(2)及式(3)地进行选择。
通过在基材膜上形成光学功能层，形成原料层叠体。原料层叠体的面内剥离力随着形成光学功能层的聚合性液晶化合物的种类、光学功能层的形成方法的差别而改变。另外，在光学功能层为偏振元件层的情况下，面内剥离力也随着与聚合性液晶化合物一并使用的二色性色素的种类而改变。此外，在光学功能层的形成时使用取向膜的情况下，有时也随着该取向膜的种类、厚度而改变。
因而，在根据所期望的相位差层及偏振元件层的种类，确定了所用的聚合性液晶化合物、二色性色素(某种情况下是一并使用的取向膜)的情况下，使用各种基材膜，利用所述的面内剥离力测定求出在这些各种基材膜上形成有光学功能层的原料层叠体的面内剥离力，通过这样的适当的预备实验，挑选2种原料层叠体。当然，此时的基材膜的厚度、硬挺度是满足式(2)和/或式(3)地挑选的值。
预备实验也可以准备用于形成所期望的层叠体的、与2种原料层叠体相同构成的原料层叠体的试验片，测定该试验片的面内剥离力，挑选原料层叠体。或者，在作为所期望的层叠体意欲获得长条状的层叠体的情况下，也可以实施如下的预备实验，即，从形成该层叠体的2种长条状的原料层叠体中分别切出单张的试验片，使用切出的试验片测定面内剥离力。
＜粘接剂层＞
作为形成粘接剂层的粘接剂，可以使用水系粘接剂、活性能量射线固化性粘接剂或热固化性粘接剂，优选为水系粘接剂、活性能量射线固化性粘接剂。作为粘合剂层可以使用后述的粘合剂层。
作为水系粘接剂，可以举出由聚乙烯醇系树脂水溶液形成的粘接剂、水系二剂型氨基甲酸酯系乳液粘接剂等。其中，可以合适地使用由聚乙烯醇系树脂水溶液形成的水系粘接剂。作为聚乙烯醇系树脂，除了可以使用对作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯进行皂化处理而得的乙烯醇均聚物以外，还可以使用对乙酸乙烯酯与能够与之共聚的其他单体的共聚物进行皂化处理而得的聚乙烯醇系共聚物、或将它们的羟基部分地改性了的改性聚乙烯醇系聚合物等。水系粘接剂可以包含醛化合物(乙二醛等)、环氧化合物、三聚氰胺系化合物、羟甲基化合物、异氰酸酯化合物、胺化合物、多价金属盐等交联剂。
在使用水系粘接剂的情况下，优选在将光学功能层之间贴合后，实施用于除去水系粘接剂中含有的水的干燥工序。干燥工序后，可以设置例如在20～45℃的温度进行熟化的熟化工序。
所述活性能量射线固化性粘接剂，是含有因紫外线、可见光、电子束、X射线之类的活性能量射线的照射而固化的固化性化合物的粘接剂，优选为紫外线固化性粘接剂。例如可以举出包含聚合性化合物及光聚合性引发剂的粘接剂、包含光反应性树脂的粘接剂、包含粘结剂树脂及光反应性交联剂的粘接剂等。作为所述聚合性化合物，可以举出光固化性环氧系单体、光固化性丙烯酸系单体、光固化性氨基甲酸酯系单体等光聚合性单体、来自于这些单体的低聚物等。作为所述光聚合引发剂，可以举出包含因照射紫外线等活性能量射线而产生中性自由基、阴离子自由基、阳离子自由基之类的活性种的物质的光聚合引发剂。
粘接剂层的厚度例如可以为0.1μm以上且25μm以下，优选为0.5μm以上且20μm以下，更优选为1μm以上且15μm以下，进一步优选为2μm以上且10μm以下，特别优选为2.5μm以上且5μm以下。
＜粘合剂层＞
可以替代粘接剂层使用的粘合剂层可以由以(甲基)丙烯酸系、橡胶系、氨基甲酸酯系、酯系、硅酮系、聚乙烯基醚系之类的树脂作为主成分的粘合剂组合物形成。其中，适合为透明性、耐候性、耐热性等优异的以(甲基)丙烯酸系树脂作为基础聚合物的粘合剂组合物。粘合剂组合物可以是活性能量射线固化型、热固化型。粘合剂层的厚度通常为3～30μm，优选为3～25μm。
＜层叠体的制造方法＞
层叠体可以如下所示地制造。准备基材膜，在其上形成取向膜，在取向膜上涂布包含聚合性液晶化合物的涂布液。在使聚合性液晶化合物取向的状态下，照射活性能量射线，使聚合性液晶化合物固化。如此所述地操作，可以制作层叠有基材膜、取向膜、光学功能层的转印型光学功能膜。此后，将两片转印型光学功能膜以使光学功能层之间相互面对的方式利用粘接剂层(或粘合剂层)贴合，由此可以制造层叠体。
此处，聚合性液晶化合物固化而得的层除了可以如上所述地在设于基材膜上的取向膜上形成以外，还可以在基材膜上直接形成，然而优选形成于取向膜上。
需要说明的是，取向膜并不限于垂直取向膜，也可以是使聚合性液晶化合物的分子轴水平取向的取向膜，还可以是使聚合性液晶化合物的分子轴倾斜取向的取向膜。在制作A板的情况下，可以使用水平取向膜，在制作C板的情况下，可以使用垂直取向膜。作为取向膜，优选具有不会因后述的包含聚合性液晶化合物的组合物的涂布等而溶解的耐溶剂性，并且具有用于溶剂的除去、液晶化合物的取向的加热处理中的耐热性。作为取向膜，可以举出包含取向性聚合物的取向膜、光取向膜及在表面形成凹凸图案、多个槽并使之取向的沟槽取向膜。在制作A板的情况下，取向膜的厚度优选为10nm～500nm，更优选为10nm～200nm。在制作C板的情况下，取向膜的厚度优选为500nm～10μm，更优选为1μm～4μm。只要以使第1基材膜与第1光学功能层之间的面内剥离力P1与第2基材膜与第2光学功能层之间的面内剥离力P2的关系满足式(1)的方式调整取向膜的厚度即可。另外，面内剥离力也可以通过改变电晕处理、等离子体处理等表面活化处理的条件来调整。
取向膜使聚合性液晶化合物的液晶取向容易。水平取向、垂直取向、混合取向、倾斜取向等液晶取向的状态随着取向膜及聚合性液晶化合物的性质而变化，其组合可以任意地选择。若取向膜是作为取向限制力显现出水平取向的材料，则聚合性液晶化合物可以形成水平取向或混合取向，若为显现出垂直取向的材料，则聚合性液晶化合物可以形成垂直取向或倾斜取向。对于“水平”、“垂直”等表达，在以光学功能层平面为基准时，在棒状液晶化合物的情况下，表示发生取向的聚合性液晶化合物的长轴的方向，在圆盘状液晶化合物的情况下，表示垂直于圆盘面的方向。所谓水平取向，在棒状液晶化合物的情况下，是指在与光学功能层平面平行的方向上具有发生了取向的聚合性液晶化合物的长轴的取向，在圆盘状液晶化合物的情况下，是指在与光学功能层平面平行的方向上具有垂直于圆盘面的方向的取向。此处所说的所谓“平行”，是指相对于光学功能层平面为0°±20°的角度。所谓垂直取向，在棒状液晶化合物的情况下，是指在与光学功能层平面垂直的方向上具有发生了取向的聚合性液晶化合物的长轴的取向，在圆盘状液晶化合物的情况下，是指在与光学功能层平面垂直的方向上具有垂直于圆盘面的方向的取向。此处所说的所谓“垂直”，是指相对于光学功能层平面为90°±20°的角度。
取向膜通常可以通过将在溶剂中溶解有树脂的组合物涂布于基材膜、并除去溶剂而形成。此外可以实施摩擦处理、照射偏振紫外线的处理。通过调整取向膜的种类、厚度，可以调整基材膜与光学功能层的面内剥离力。具体而言，在2个转印型光学功能膜中，作为形成取向膜的组合物，优选使用相同组成的组合物，取向膜的厚度优选设定为上述的范围。
作为取向膜中使用的树脂，只要是作为公知的取向膜的材料使用的树脂，就没有特别限定，可以使用以往公知的使单官能或多官能的(甲基)丙烯酸酯系单体在聚合引发剂下固化而得的固化物等。具体而言，作为(甲基)丙烯酸酯系单体，例如可以例示出丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸环己酯、二乙二醇单2-乙基己基醚丙烯酸酯、二乙二醇单苯基醚丙烯酸酯、四乙二醇单苯基醚丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸月桂酯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸四氢糠基酯、丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸四氢糠基酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸、氨基甲酸酯丙烯酸酯等。需要说明的是，作为树脂，可以是它们的1种，也可以是2种以上的混合物。
光取向膜由包含具有光反应性基团的聚合物或单体和溶剂的组合物形成。所谓光反应性基团，是指通过进行光照射而产生液晶取向能力的基团。具体而言，可以举出参与因光照射而产生的分子的取向诱导或异构化反应、二聚化反应、光交联反应或光分解反应等成为液晶取向能力的起源的光反应的基团。其中，从取向性优异的方面考虑，优选参与二聚化反应或光交联反应的基团。作为光反应性基团，优选具有不饱和键、特别是具有双键的基团，特别优选具有选自碳-碳双键(C＝C键)、碳-氮双键(C＝N键)、氮-氮双键(N＝N键)及碳-氧双键(C＝O键)中的至少1个的基团。
作为具有C＝C键的光反应性基团，可以举出乙烯基、多烯基、芪基、芪唑基、芪唑鎓基、查尔酮基及肉桂酰基等。作为具有C＝N键的光反应性基团，可以举出具有芳香族席夫碱、芳香族腙等结构的基团。作为具有N＝N键的光反应性基团，可以举出偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族杂环偶氮基、双偶氮基、甲臜基(formazan group)、以及具有氧化偶氮苯结构的基团等。作为具有C＝O键的光反应性基团，可以举出二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基及马来酰亚胺基等。这些基团可以具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧基羰基、羟基、磺酸基、卤代烷基等取代基。
其中，优选参与光二聚化反应的光反应性基团，从光取向所必需的偏振光照射量较少、并且容易获得热稳定性、经时稳定性优异的光取向膜的方面考虑，优选肉桂酰基及查尔酮基。作为具有光反应性基团的聚合物，特别优选该聚合物侧链的末端部具有成为肉桂酸结构的肉桂酰基。
聚合性液晶化合物固化而得的层如后所述，可以通过将包含聚合性液晶化合物的组合物例如涂布于取向膜上而形成。作为将该组合物涂布于基材膜或取向膜上的方法，可以举出挤出涂布法、直接槽辊涂布法、逆转槽辊涂布法、CAP涂布法、狭缝涂布法、微型凹版法、模涂法、喷墨法等。另外，也可以举出使用浸涂机、棒涂机、旋涂机等涂布机进行涂布的方法等。其中，在以卷对卷形式连续地进行涂布的情况下，优选利用微型凹版法、喷墨法、狭缝涂布法、模涂法的涂布方法，在基材膜为纸张状的情况下，优选均匀性高的旋涂法。在以卷对卷形式进行涂布的情况下，也可以在基材膜涂布用于形成取向膜的光取向膜形成用组合物等而形成取向膜，再在所得的取向膜上连续地涂布液晶组合物。
在所述组合物中，可以包含所述＜光学功能层＞的项目中举出的聚合性液晶化合物以外的成分。例如，在所述组合物中，优选包含聚合引发剂。所使用的聚合引发剂可以根据聚合反应的形式例如选择热聚合引发剂、光聚合引发剂。例如，作为光聚合引发剂，可以举出α-羰基化合物、偶姻醚、α-烃取代芳香族偶姻化合物、多核醌化合物、肟酯化合物、三芳基咪唑二聚物与对氨基苯基酮的组合等。聚合引发剂的使用量相对于所述涂布液中的全部固体成分优选为0.01～20质量％，更优选为0.5～5质量％。
作为光聚合引发剂可以使用市售的光聚合引发剂。作为市售的光聚合引发剂，可以举出Irgacure(日文：イルガキュア)(注册商标)907、184、651、819、250、以及369、379、127、754、OXE01、OXE02、OXE03(Ciba Specialty Chemicals株式会社制)；SEIKUOL(注册商标)BZ、Z、以及BEE(精工化学株式会社制)；kayacure(日文：カヤキュアー)(注册商标)BP100、以及UVI-6992(Dow Chemical株式会社制)；ADEKA OPTOMER SP-152、N-1717、N-1919、SP-170、ADEKA CRUISE NCI-831、ADEKA CRUISE NCI-930(株式会社ADEKA制)；TAZ-A、以及TAZ-PP(日本Siber Hegner株式会社制)；以及TAZ-104(株式会社三和化工制)；等。液晶组合物中的光聚合引发剂可以是1种，也可以与光的光源匹配地混合2种以上的多个光聚合引发剂。
另外，在所述组合物中，从涂布膜的均匀性及膜的强度的方面出发，可以包含聚合性单体。作为聚合性单体，可以举出自由基聚合性或阳离子聚合性的化合物。其中，优选多官能性自由基聚合性单体。
需要说明的是，作为聚合性单体，优选能够与上述的聚合性液晶化合物共聚的单体。作为具体的聚合性单体，例如可以举出日本特开2002-296423号公报中的[0018]～[0020]段中记载的单体。聚合性单体的使用量相对于聚合性液晶化合物的总质量优选为1～50质量％，更优选为2～30质量％。聚合性单体的量以使一并使用的聚合性液晶化合物能够显现出所期望的液晶状态的方式确定。
另外，在所述组合物中，从涂布膜的均匀性及膜的强度的方面出发，可以包含表面活性剂。作为表面活性剂，可以举出以往公知的化合物。其中特别优选氟系化合物。作为具体的表面活性剂，例如可以举出日本特开2001-330725号公报中的[0028]～[0056]段中记载的化合物、日本特开2005-62673号公报中的[0069]～[0126]段中记载的化合物。
另外，在所述组合物，可以包含溶剂，优选使用有机溶剂。
作为有机溶剂，可以举出甲醇、乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚及丙二醇单甲醚等醇溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁内酯或丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶剂；丙酮、甲乙酮、环戊酮、环己酮、2-庚酮及甲基异丁基酮等酮溶剂；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烃溶剂；甲苯及二甲苯等芳香族烃溶剂、乙腈等腈溶剂；四氢呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶剂；氯仿及氯苯等含氯溶剂；二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮等酰胺系溶剂等。这些溶剂可以单独使用，也可以组合使用2种以上。
另外，在所述组合物中，可以包含偏振膜界面侧垂直取向剂、空气界面侧垂直取向剂等垂直取向促进剂、以及偏振膜界面侧水平取向剂、空气界面侧水平取向剂等水平取向促进剂之类的各种取向剂。此外，在所述组合物中，也可以在所述成分以外还包含密合改良剂、增塑剂、聚合物等。
(聚合性液晶化合物的聚合)
作为使聚合性液晶化合物聚合的方法，优选光聚合。通过在基材膜或取向膜上涂布聚合性液晶化合物并对涂布有液晶组合物的层叠体照射活性能量射线来实施光聚合。作为所照射的活性能量射线，可以根据干燥被膜中含有的聚合性液晶化合物的种类(特别是聚合性液晶化合物所具有的光聚合性官能团的种类)、包含光聚合引发剂时的光聚合引发剂的种类、以及它们的量适当地选择。具体而言，可以举出选自可见光、紫外光、红外光、X射线、α射线、β射线、以及γ射线中的一种以上的光。其中，从易于控制聚合反应的进行的方面、以及作为光聚合装置能够使用该领域中广泛使用的光聚合装置的方面考虑，优选紫外光，优选以能够利用紫外光进行光聚合的方式选择聚合性液晶化合物的种类。
作为所述活性能量射线的光源，例如可以举出低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、氙灯、卤素灯、碳弧灯、钨灯、镓灯、准分子激光器、发出波长范围380nm以上且440nm以下的光的LED光源、化学灯、黑光灯、微波激发水银灯、金属卤化物灯等。
紫外线照射强度通常为10mW/cm2以上且3000mW/cm2以下。
紫外线照射强度优选为对于阳离子聚合引发剂或自由基聚合引发剂的活化有效的波长区域中的强度。照射光的时间通常为0.1秒以上且10分钟以下，优选为0.1秒以上且5分钟以下，更优选为0.1秒以上且3分钟以下，进一步优选为0.1秒以上且1分钟以下。若以此种紫外线照射强度照射1次或多次，则其累积光量为10mJ/cm2以上且3000mJ/cm2以下，优选为50mJ/cm2以上且2000mJ/cm2以下，更优选为100mJ/cm2以上且1000mJ/cm2以下。在累积光量为该范围内的情况下，有聚合性液晶化合物的固化充分、易于获得良好的转印性、易于抑制光学层叠体的着色的趋势。
粘接剂层可以由粘合剂、粘接剂或它们的组合形成。粘接剂层通常为1层，也可以为2层以上。粘接剂层可以通过将粘接剂组合物涂布于接合面来形成。作为涂布方法，只要采用使用了模涂机、逗点型刮刀涂布机、逆转辊涂布机、凹版涂布机、棒式涂布机、绕线棒涂布机、刮板涂布机、气刀涂布机等的通常的涂布技术即可。
准备两片如前所述地制作的转印型光学功能膜，将这些光学功能层之间利用粘接剂层(或粘合剂层)贴合，由此完成层叠体的制造。
以上，对本发明的合适的实施方式进行了说明，然而本发明不受所述实施方式的任何限定。
实施例
以下，举出实施例及比较例而对本发明的内容进行更具体的说明。需要说明的是，本发明不受下述实施例限定。实施例及比较例中的“％”及“份”只要没有特别指出，就是质量％及质量份。
实施例及比较例中使用的装置及测定方法如下所示。
·电晕处理装置使用了春日电机株式会社制的AGF-B10。
·电晕处理使用所述电晕处理装置在输出功率0.3kW、处理速度3m/分钟的条件下进行1次。
·偏振UV照射装置使用了USHIO电机株式会社制的带有偏振片组件的SPOTCURESP-7。
·高压水银灯使用了USHIO电机株式会社制的UNICURE VB-15201BY-A。
＜转印型光学功能膜1的制造＞
[水平取向膜形成用组合物的制备]
将具有下述的化学结构的光取向性材料5份和环戊酮(溶剂)95份混合，将所得的混合物在80℃搅拌1小时，由此得到水平取向膜形成用组合物。下述光取向性材料利用日本特开2013-33248号公报记载的方法合成。
[化1]
Figure BDA0003236368420000181
[包含聚合性液晶化合物的组合物的制备]
将具有下述的化学结构的聚合性液晶化合物A、聚丙烯酸酯化合物(流平剂)(BYK-361N；BYK-Chemie公司制)、和光聚合引发剂(Irgacure OXE-03；BASF JAPAN株式会社制)混合，得到包含聚合性液晶化合物的组合物。
[化2]
Figure BDA0003236368420000191
聚合性液晶A利用日本特开2010-31223号公报中记载的方法合成。聚丙烯酸酯化合物的量相对于聚合性液晶A 100份设为0.01份。光聚合引发剂的量相对于聚合性液晶A100份设为3.0份。
在所得的包含聚合性液晶化合物的组合物中，以使固体成分浓度为13％的方式添加作为溶剂的N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)，在80℃搅拌1小时。将其设为“涂布液”。
[光学功能层的制造]
准备作为基材膜的厚度100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜。使用株式会社Nikon制的作为数字式测微计的MH-15M测定出基材膜的厚度。另外，依照JIS L 1085：1998的6.10.3Gurley法算出基材膜的硬挺度。使用棒涂机在该基材膜的表面涂布上述的水平取向膜形成用组合物，在80℃干燥1分钟后，使用偏振UV照射装置以100mJ/cm2的累积光量实施偏振UV曝光而得到水平取向膜。所得的水平取向膜的膜厚为122nm。
对水平取向膜的表面使用电晕处理装置进行电晕处理。使用棒涂机在实施了电晕处理的取向膜上涂布上述的涂布液，在120℃干燥1分钟后，使用高压水银灯，从涂布液的涂布面侧照射紫外线，由此形成光学功能层。光学功能层为λ/4板。
利用以上操作，得到依次具备基材膜、取向膜、光学功能层(具有相位差的层)的转印型光学功能膜1。
[面内剥离力的测定]
在该转印型光学功能膜1的光学功能层侧，贴合粘合剂层(LINTEC株式会社制压敏式丙烯酸系粘合剂厚度25μm)。从形成有该粘合剂层的层叠体中，裁割宽25mm×长约150mm的试验片，将其粘合剂层的面贴合于玻璃板。在试验片的基材膜侧的表面、且在试验片的宽25mm的一边粘贴剥离用胶带(宽25mm×长约180mm)。使用拉伸试验机，夹住剥离用胶带的一端，在温度23℃、相对湿度60％的气氛下，以十字头速度(夹持夹具的移动速度)300mm/分钟进行剥离角度为180°的剥离试验，进行了面内剥离力的测定。面内剥离力设为从拉起基材膜后直至将基材膜从光学功能层剥离完成的期间中力达到恒定状态时的剥离力。
＜转印型光学功能膜2的制造＞
[垂直取向膜形成用组合物的制备]
作为垂直取向膜形成用组合物，使用如下得到的混合物，即，将丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸四氢糠基酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、和双(2-乙烯氧基乙基)醚以1：1：4：5的比例混合，作为聚合引发剂以4％的比例添加LUCIRIN TPO。
[包含聚合性液晶化合物的组合物的制备]
包含聚合性液晶化合物的组合物含有光聚合性向列型液晶(Merck公司制，RMM28B)，作为溶剂，含有以质量比(MEK：MIBK：CHN)计为35：30：35的比例混合有甲乙酮(MEK)、甲基异丁基酮(MIBK)、和沸点为155℃的环己酮(CHN)的混合溶剂。
此后，以使固体成分为1～1.5g的方式制备。
[光学功能层的制造]
使用厚度38μm的PET基材作为透明基材膜，在其一面以使膜厚为3μm的方式涂布垂直取向膜形成用组合物，照射紫外线而制作出垂直取向膜。
对垂直取向膜的表面使用电晕处理装置进行电晕处理。在垂直取向膜上涂布包含聚合性液晶化合物的组合物后，将干燥温度设为75℃、将干燥时间设为120秒而实施干燥处理。其后，利用紫外线照射使液晶化合物聚合，制作出光学功能层。光学功能层为正C层。
利用以上操作，得到依次具备基材膜、取向膜、光学功能层的转印型光学功能膜2。
＜转印型光学功能膜3的制造＞
除了使用厚度40μm的三乙酰纤维素(TAC)膜作为基材膜以外，利用与＜转印型光学功能膜1的制造＞同样的步骤，得到转印型光学功能膜3。
＜转印型光学功能膜4的制造＞
除了使用厚度40μm的TAC膜作为基材膜以外，利用与＜转印型光学功能膜2的制造＞同样的步骤，得到转印型光学功能膜4。
＜转印型光学功能膜5的制造＞
除了使用厚度80μm的TAC膜作为基材膜、以达到表1中记载的面内剥离力的方式调整取向膜的厚度以外，利用与日本特开2015-187717号公报的[0039]～[0051]段中记载的方法同样的步骤得到转印型光学功能膜5。所得的光学功能层的厚度为2.0μm，550nm处的面内方向的相位差值Re为250nm。即，光学功能层为λ/2板。
＜转印型光学功能膜6的制造＞
除了使用厚度40μm的TAC膜作为基材膜、以达到表1中记载的面内剥离力的方式调整取向膜的厚度以外，利用与日本特开2015-187717号公报的[0053]～[0062]段中记载的方法同样的步骤得到转印型光学功能膜6。所得的光学功能层的厚度为0.8μm，550nm处的面内方向的相位差值Re为120nm。即，光学功能层为λ/4板。
＜转印型光学功能膜7的制造＞
除了使用厚度100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜作为基材膜、以达到表1中记载的面内剥离力的方式调整取向膜的厚度以外，利用与＜转印型光学功能膜6的制造＞同样的步骤，得到转印型光学功能膜7。
对于转印型光学功能膜2～7，也与转印型光学功能膜1的情况同样地测定出基材膜的硬挺度及面内剥离力。
＜实施例1＞
[层叠体的制造]
将转印型光学功能膜1与转印型光学功能膜2利用紫外线固化型粘接剂以使各自的光学功能层(与基材膜相反的一侧的面)为贴合面的方式贴合。照射紫外线而使紫外线固化型粘接剂固化。如此所述地操作，制作出包含转印型光学功能膜1及转印型光学功能膜2的两层光学功能层的层叠体1。
[剥离性的评价]
从实施例中得到的层叠体中裁割出宽约1000mm×长约500mm的试验片。
使用剥离机，夹住想要剥下的一方的基材膜的端部，在温度23℃、相对湿度60％的气氛下，以夹具移动速度5m/分钟进行剥离试验，
·将没有产生非意愿分离、拉链现象的样品设为“A”
·将产生非意愿分离、拉链现象的样品设为“B”。
＜实施例2＞
除了使用转印型光学功能膜3和转印型光学功能膜2以外，与实施例1同样地得到层叠体2。
＜实施例3＞
除了使用转印型光学功能膜5和转印型光学功能膜6以外，与实施例1同样地得到层叠体3。
＜比较例1＞
除了使用转印型光学功能膜3和转印型光学功能膜4以外，与实施例1同样地得到层叠体。
＜比较例2＞
除了使用转印型光学功能膜7和转印型光学功能膜5以外，与实施例1同样地得到层叠体。
对于实施例2～3、比较例1～2，也与实施例1同样地进行了剥离性的评价。
将各种测定的结果表示于表1及表2中。需要说明的是，在表2中，“转印型光学功能膜的组合”一栏中所示的编号表示表1中所示的7种转印型光学功能膜的编号。另外，“第1”和“第2”当中的“第1”一栏中所示的转印型光学功能膜是所述“[剥离性的评价]”中的具有“想要剥下的一方的基材膜”的转印型光学功能膜。另外，在表2中，厚度比(T1/T2)、硬挺度比(S1/S2)、面内剥离力比(P1/P2)在两个基材膜中的“剥离性的评价”中作为剥下的对象的基材膜一方的值上附加有“1”的下角标。
[表1]
Figure BDA0003236368420000231
[表2]
Figure BDA0003236368420000232
从表2的结果可以清楚地看到用于发挥良好的剥离性的厚度比、硬挺度比、面内剥离力比。实施例1～3即使在组合了的转印型光学功能层之间的面内剥离力的差小的情况下，也可以实现良好的剥离性。
<实施例4>
在实施例1中，将转印型光学功能膜2的光学功能层(正C层)替换为由聚合性液晶化合物及二色性色素形成的偏振元件层，使用所得的膜(将面内剥离力与转印型光学功能膜2同样地设为0.07N/25mm)作为第2转印型光学功能膜，除此以外与实施例1同样地制造本发明的层叠体。该层叠体的剥离性与实施例1相同程度地良好(剥离性A)。
产业上的可利用性
本发明的层叠体例如可以适用于有机EL显示装置。
附图标记说明
1A第1基材膜，1B第2基材膜，2A第1光学功能层，2B第2光学功能层，3粘接剂层，5A第1原料层叠体，5B第2原料层叠体，10层叠体。

Claims (6)

1.一种层叠体，
其依次具备：第1基材膜、包含第1聚合性液晶化合物固化而得的层的第1光学功能层、包含第2聚合性液晶化合物固化而得的层的第2光学功能层和第2基材膜，
所述第1基材膜是两个基材膜中的预定先从层叠体剥离的基材膜，
所述第1基材膜与所述第1光学功能层之间的面内剥离力P1、和所述第2基材膜与所述第2光学功能层之间的面内剥离力P2满足下述式(1)，
所述第1基材膜的厚度T1和所述第2基材膜的厚度T2满足下述式(2)：
0.67＜P1/P2＜1.50…(1)
1.05≤T1/T2…(2)。
2.一种层叠体，
其依次具备：第1基材膜、包含第1聚合性液晶化合物固化而得的层的第1光学功能层、包含第2聚合性液晶化合物固化而得的层的第2光学功能层和第2基材膜，
所述第1基材膜是两个基材膜中的预定先从层叠体剥离的基材膜，
所述第1基材膜与所述第1光学功能层之间的面内剥离力P1、和所述第2基材膜与所述第2光学功能层之间的面内剥离力P2满足下述式(1)，
所述第1基材膜的硬挺度S1和所述第2基材膜的硬挺度S2满足下述式(3)：
0.67＜P1/P2＜1.50…(1)
1.10≤S1/S2…(3)。
3.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，
所述第1光学功能层与所述第2光学功能层利用粘接剂层或粘合剂层贴合。
4.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，
所述第1光学功能层和所述第2光学功能层中的至少一方为具有相位差的层。
5.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，
所述第1光学功能层和所述第2光学功能层中的至少一方为偏振元件层。
6.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，
在所述第1基材膜与所述第1光学功能层之间、以及所述第2基材膜与所述第2光学功能层之间的至少一方具备取向膜。
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