JP6800359B2 - 積層体 - Google Patents

Description

本発明は、積層体に関する。

有機ＥＬ表示装置は、発光層の光を効率よく利用するため、反射性に優れた金属電極が設けられている。その一方で、このような金属電極を用いることにより、外光反射が大きくなりコントラストが低下する不具合を生じる。そこで、反射防止機能を付与するために、有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ表示素子の視認側に円偏光板を備える。

円偏光板は、偏光子と位相差フィルムとを積層したものである。円偏光板は、広い波長域で一様に円偏光へ変換したり、斜めから見たときに反射光に色がつかないようにしたりする機能が求められている。この機能を果たすために、位相差フィルムは、複数の位相差層を備えることがある。具体的に、位相差フィルムは、λ／２板とλ／４板との積層体や、逆波長分散性のλ／４板とポジティブＣプレートとの積層体である場合がある。

位相差層の材料として重合性液晶化合物を使用することが提案されている。重合性液晶化合物を使用すると、得られる位相差層の厚さを小さくすることができる。このような位相差層を得るには、まず基材フィルムに配向膜を形成する。配向膜上に、重合性液晶化合物を含む組成物を塗布して配向させ、紫外線を照射して重合性液晶化合物を重合させる。
最後に、基材フィルムを剥離することにより、位相差層が得られる。

上述のとおり、位相差フィルムが複数の位相差層を備える場合、このような位相差フィルムは、基材フィルムと重合性液晶化合物が硬化した層（位相差層）とを含む積層体同士を、重合性液晶化合物が硬化した層が互いに貼合面となるように、接着剤で貼合し、順次、基材フィルムを剥離することにより得られる（例えば、特許文献１参照）。

また、近年では、重合性液晶化合物とともに二色性色素を用いることにより、極めて薄膜の偏光子（偏光素子層）が製造できる点で注目されている。このような偏光子も、適当な基材フィルム上に、重合性液晶化合物及び二色性色素を含む組成物層を形成させ、この組成物層に含まれる重合性液晶化合物を配向させてから重合させることで、基材フィルム上に偏光子（薄膜偏光子）を形成してから、基材フィルムを剥離することで製造される（例えば、特許文献２参照）。このような薄膜偏光子と、前記のような重合性液晶化合物を用いた位相差フィルムとを貼り合わせることで、極めて薄膜の円偏光板を製造することが可能となる。

特許第６２２１４５５号公報 特開２０１６−１７０３６８号公報

しかしながら、前記のように基材フィルムを剥離する方法では、位相差層を複数備える位相差フィルムを製造する際や、薄膜の円偏光板を製造する際には、基材フィルムを剥離する工程において、意図した界面で剥離できないという問題がある。具体的には、剥離したい基材フィルムを引き起こしたときに、反対側の基材フィルムと位相差層との間で剥離してしまうことがある。この問題に対して従来は、一方の側の剥離力と他方の側の剥離力とに差を設ける方策がとられていたが、剥離力に差を設けると、剥離力の重い基材を剥離する際にジッピングが生じたり、転写性を担保した剥離力で基材を剥離しようとすると依然として意図した界面で剥離できなかったりすることがあった。こうした問題は、基材フィルムを剥がす対象が位相差層である場合のみならず、他の光学機能層である場合でも発生する。

本発明は、基材フィルムと光学機能層とが積層された箇所が複数存在する積層体であって、所望の基材フィルムを光学機能層から優先的に剥離することができる積層体を提供することを目的とする。

本発明は、第１の基材フィルムと、第１の重合性液晶化合物が硬化した層を含む第１の光学機能層と、第２の重合性液晶化合物が硬化した層を含む第２の光学機能層と、第２の基材フィルムと、をこの順に備え、第１の基材フィルムと第１の光学機能層との間の面内剥離力Ｐ_１と、第２の基材フィルムと第２の光学機能層との間の面内剥離力Ｐ_２とが下記式（１）を満たし、第１の基材フィルムの厚さＴ_１と、第２の基材フィルムの厚さＴ_２とが下記式（２）を満たす積層体を提供する。
０．６７＜Ｐ_１／Ｐ_２＜１．５０ …（１）
１．０５≦Ｔ_１／Ｔ_２ …（２）

また、本発明は、第１の基材フィルムと、第１の重合性液晶化合物が硬化した層を含む第１の光学機能層と、第２の重合性液晶化合物が硬化した層を含む第２の光学機能層と、第２の基材フィルムと、をこの順に備え、第１の基材フィルムと第１の光学機能層との間の面内剥離力Ｐ_１と、第２の基材フィルムと第２の光学機能層との間の面内剥離力Ｐ_２とが下記式（１）を満たし、第１の基材フィルムの剛軟度Ｓ_１と、第２の基材フィルムの剛軟度Ｓ_２とが下記式（３）を満たす積層体を提供する。
０．６７＜Ｐ_１／Ｐ_２＜１．５０ …（１）
１．１０≦Ｓ_１／Ｓ_２ …（３）

本発明において、第１の光学機能層と第２の光学機能層とは接着剤層又は粘着剤層により貼合されていてもよい。

本発明において、第１の光学機能層と第２の光学機能層のうち、少なくとも一方は、位相差を有する層であってもよい。

本発明において、第１の光学機能層と第２の光学機能層のうち、少なくとも一方は偏光素子層であってもよい。

本発明において、第１の基材フィルムと第１の光学機能層との間、及び、第２の基材フィルムと第２の光学機能層との間の少なくとも一方に、配向膜を備えていてもよい。

本発明によれば、基材フィルムと光学機能層とが積層された箇所が複数存在する積層体であって、所望の基材フィルムを光学機能層から優先的に剥離することができる積層体を提供することができる。

本発明の一実施形態に係る積層体の断面図である。

以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。

＜積層体＞
図１に示されているとおり、本実施形態の積層体１０は、第１の原料積層体５Ａと第２の原料積層体５Ｂとを備えており、これらが接着剤層３により互いに貼合されている。第１の原料積層体５Ａは、第１の基材フィルム１Ａと、第１の重合性液晶化合物が硬化した層を含む第１の光学機能層２Ａとを備え、第２の原料積層体５Ｂは、第２の基材フィルム１Ｂと、第２の重合性液晶化合物が硬化した層を含む第２の光学機能層２Ｂとを備えている。そして、第１の光学機能層２Ａと第２の光学機能層２Ｂとが対面する向きにされて、第１の原料積層体５Ａと第２の原料積層体５Ｂとが互いに接着されている。すなわち、本実施形態の積層体１０は、第１の基材フィルム１Ａと、第１の重合性液晶化合物が硬化した層を含む第１の光学機能層２Ａと、第２の重合性液晶化合物が硬化した層を含む第２の光学機能層２Ｂと、第２の基材フィルム１Ｂと、をこの順に備えている。第１の光学機能層２Ａと第２の光学機能層２Ｂとは、接着剤層３により互いに貼合されている。ここで、接着剤層３の代わりに粘着剤層としてもよい。

ここで、第１の基材フィルム１Ａとは、二つの基材フィルム１Ａ，１Ｂのうち、積層体１０から先に剥がすことが予定されている基材フィルムをいう。第１の基材フィルム１Ａが剥がされた積層体は第１の光学機能層２Ａ及び第２の光学機能層２Ｂを用いる用途に供し、剥がした第１の基材フィルム１Ａは、通常、廃棄する。

図１に図示してはいないが、積層体１０は、第１の基材フィルム１Ａと第１の光学機能層２Ａとの間、及び、第２の基材フィルム１Ｂと第２の光学機能層２Ｂとの間の少なくとも一方に、配向膜を備えていてもよい。

図１に図示してはいないが、積層体１０は、第１の光学機能層２Ａと第２の光学機能層２Ｂとの間に、少なくとも一層の更に異なる光学機能層、接着剤層、粘着剤層を備えていてもよい。

一つの実施形態において、積層体１０は、第１及び第２の基材フィルム１Ａ，１Ｂと第１及び第２の光学機能層２Ａ，２Ｂとの間で、以下の関係性を有している。
第１の基材フィルム１Ａと第１の光学機能層２Ａとの間の面内剥離力Ｐ_１と、第２の基材フィルム１Ｂと第２の光学機能層２Ｂとの間の面内剥離力Ｐ_２とが下記式（１）を満たし、且つ、第１の基材フィルム１Ａの厚さＴ_１と、第２の基材フィルム１Ｂの厚さＴ_２とが下記式（２）を満たしている。
０．６７＜Ｐ_１／Ｐ_２＜１．５０ …（１）
１．０５≦Ｔ_１／Ｔ_２ …（２）

ここで、基材フィルムと光学機能層との間の「面内剥離力」とは、貼合されている基材フィルムと光学機能層とを互いに引き剥がすのに要する力をいう。基材フィルムと光学機能層との間に別の層が設けられている場合、当該別の層が基材フィルムとともに引き剥がされるときに要する力であっても、当該別の層が光学機能層とともに引き剥がされるときに要する力であっても、本発明でいう「面内剥離力」とする。例えば、当該別の層が２種以上あるとき、引き剥がしたときに基材フィルム側に１種以上の別の層が、光学機能層側の１種以上の別の層があってもよい。つまり、引き剥がされた一方に基材フィルムが、他方に光学機能層がある場合に、引き剥がすのに要する力を「面内剥離力」とする。このような別の層としては後述に示すように配向膜等を挙げることができる。

面内剥離力の測定（面内剥離力測定）は、基材フィルムと光学機能層とを備える膜の光学機能層側に任意の粘着剤層を貼合し、当該粘着剤層を介して膜をガラス板に貼合したうえで、引張り試験機を用いて基材フィルムを掴んで剥離することで行うことができる。面内剥離力は、基材フィルムを引き起こした後、基材フィルムを光学機能層から剥がし終わるまでの間で、力が定常状態になったときの剥離力のことをいう。面内剥離力測定の詳細は本明細書の実施例で説明する。なお、面内剥離力は、基材フィルムを引き起こした直後の引き起こし力とは区別される。面内剥離力は、０．７０＜Ｐ_１／Ｐ_２＜１．４３であることが好ましく、０．７３＜Ｐ_１／Ｐ_２＜１．３０であることがより好ましい。

また、基材フィルムの厚さは、例えば株式会社ニコン製のデジタルマイクロメーターであるＭＨ−１５Ｍを用いて測定（厚さ測定）することができる。基材フィルムの厚さは、１．５０≦Ｔ_１／Ｔ_２であることが好ましく、２．００≦Ｔ_１／Ｔ_２であることがより好ましい。Ｔ_１／Ｔ_２≦２０．０であってもよく、Ｔ_１／Ｔ_２≦１０．０であることが好ましく、Ｔ_１／Ｔ_２≦５．００であることがより好ましい。

他の実施形態において、積層体１０は、第１及び第２の基材フィルム１Ａ，１Ｂと第１及び第２の光学機能層２Ａ，２Ｂとの間で、以下の関係性を有している。
第１の基材フィルム１Ａと第１の光学機能層２Ａとの間の面内剥離力Ｐ_１と、第２の基材フィルム１Ｂと第２の光学機能層２Ｂとの間の面内剥離力Ｐ_２とが下記式（１）を満たし、且つ、第１の基材フィルム１Ａの剛軟度Ｓ_１と、第２の基材フィルム１Ｂの剛軟度Ｓ_２とが下記式（３）を満たしている。
０．６７＜Ｐ_１／Ｐ_２＜１．５０ …（１）
１．１０≦Ｓ_１／Ｓ_２ …（３）

この実施形態においても、面内剥離力は、０．７０＜Ｐ_１／Ｐ_２＜１．４３であることが好ましく、０．７３＜Ｐ_１／Ｐ_２＜１．３０であることがより好ましい。

基材フィルムの剛軟度は、例えばＪＩＳ Ｌ １０８５：１９９８の６．１０．３ガーレ法に従って算出することができる（剛軟度測定）。基材フィルムの剛軟度は、１．１５≦Ｓ_１／Ｓ_２であることが好ましく、２．００≦Ｓ_１／Ｓ_２であることがより好ましく、３．００≦Ｓ_１／Ｓ_２であることが更に好ましい。Ｓ_１／Ｓ_２≦４０．０であってもよく、Ｓ_１／Ｓ_２≦２０．０であることが好ましく、Ｓ_１／Ｓ_２≦１０．０であることがより好ましく、Ｓ_１／Ｓ_２≦７．００であることがさらに好ましい。

前記いずれの実施形態の積層体１０も、第１の基材フィルム１Ａを第１の光学機能層２Ａから剥離することができる。すなわち、第１の基材フィルム１Ａをつまんでこれを剥がすように引張った場合に、泣き別れやジッピング等が生じることなく優先的に第１の基材フィルム１Ａを剥がすことができる。なお、積層体１０が配向膜を備えている場合は、前記「第１の基材フィルム１Ａを剥が」した場合に第１の基材フィルム１Ａ側に配向膜が残留していてもよく、第１の光学機能層２Ａ側に配向膜が残留していてもよい。

ここで、「泣き別れ」とは、積層体１０中のうち所望の界面（第１の基材フィルム１Ａと第１の光学機能層２Ａとの間）で剥離しないことのみならず、部分的に第２の基材フィルム１Ｂと第２の光学機能層２Ｂとの間で剥離したり、接着剤層３（又は粘着剤層）の部分で剥離したりしてしまう現象をいう。「ジッピング」とは、第１の基材フィルム１Ａを剥離する際に、一定の剥離力で剥離ができず、部分的に剥離力が重くなり、第１又は第２の光学機能層２Ａ，２Ｂにクラック等の欠陥が生じてしまう現象をいう。

以下、各層の詳細、及び、積層体の製造方法について説明する。

＜基材フィルム＞
基材フィルム（第１及び第２の基材フィルム１Ａ，１Ｂ）は、離型性支持体として機能し、転写用の光学機能層を支持することができる。更に、その表面が剥離可能な程度の接着力を有するものが好ましい。基材としては、透光性を有する（好ましくは光学的に透明な）熱可塑性樹脂であることができる。基材フィルムは、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂（ポリプロピレン系樹脂等）、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂等）のようなポリオレフィン系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースのようなセルロース系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートのようなポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；メタクリル酸メチル系樹脂のような（メタ）アクリル系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリ塩化ビニル系樹脂；アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン系樹脂；アクリロニトリル・スチレン系樹脂；ポリ酢酸ビニル系樹脂；ポリ塩化ビニリデン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリアセタール系樹脂；変性ポリフェニレンエーテル系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリアミドイミド系樹脂；ポリイミド系樹脂等からなるフィルムであることができる。

基材フィルムの厚さとしては、５μｍ以上２００μｍ以下の範囲であることが好ましく、１０μｍ以上１５０μｍ以下の範囲であることがより好ましく、２０μｍ以上１２０μｍ以下の範囲であることが更に好ましい。基材フィルムの厚さが５μｍ以上であると、強度が付与される。一方で、厚さが２００μｍ以下であると、基材フィルムを裁断加工して枚葉の基材フィルムとするにあたり、加工屑の増加、裁断刃の磨耗を抑制できる。

基材フィルムは市販品の中から所望の厚さの適切なものを選択することもできるし、前記のような熱可塑性樹脂を公知の手段によって、所望の厚さの基材フィルムとしてもよい。このような公知の手段としては、溶融押出法や溶液キャスト法等が挙げられる。

なお、基材フィルムは、種々のブロッキング防止処理が施されていてもよい。ブロッキング防止処理としては、例えば、易接着処理、フィラー等を練り込ませる処理、エンボス加工（ナーリング処理）等が挙げられる。このようなブロッキング防止処理を基材フィルムに対して施すことによって、基材フィルムを巻き取る際の基材フィルム同士の張り付き、いわゆるブロッキングを効果的に防止することができる。このようなブロッキング防止処理を施した基材フィルムは例えば、長尺状のものを用いることで、連続的に基材フィルム上に光学機能層を形成することができるので、基材フィルム及び光学機能層を備えたフィルムの生産性が良好となる傾向がある。

なお、基材フィルムは、延伸されていてもよく、位相差を有していてもよい。

＜光学機能層＞
光学機能層（第１及び第２の光学機能層２Ａ，２Ｂ）は、後述する重合性液晶化合物が硬化した層を含む層である。光学機能層は、例えば以下に説明する偏光素子層であってもよく、位相差を有する層（位相差層）であってもよい。第１及び第２の光学機能層２Ａ，２Ｂの一方が偏光素子層又は位相差層であってもよく、両方が偏光素子層又は位相差層であってもよい。また、光学機能層は、偏光素子層や位相差層を複数備えるものであってもよい。

本明細書の背景技術でも述べたように、本発明の積層体に含まれる光学機能層の１つとして、重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光素子層（薄膜偏光子）を適用することもできる。このような偏光素子層も通常、基材フィルム上に形成されたものが円偏光板の製造等に適用されるので、本発明の効果を享受することができる。なお、第１及び第２の光学機能層として、互いに異なる薄膜偏光子を接着することで、多層からなる偏光素子層を製造することも可能であるが、位相差層と偏光素子層とを接着することで得られる円偏光板は産業上の利用価値が大きいので、第１及び第２の光学機能層のうちの一方が位相差層で、他方が偏光素子層を用いた円偏光板製造において、本発明の積層体は極めて有用である。以下、この偏光素子層及び位相差層について簡単に説明する。

（偏光素子層）
偏光素子層は、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する（透過軸と平行な）振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有する吸収型の偏光フィルムであることができる。

偏光素子層の厚さは、通常３０μｍ以下であり、好ましくは１５μｍ以下であり、より好ましくは１３μｍ以下であり、更に好ましくは１０μｍ以下であり、特に好ましくは８μｍ以下である。偏光フィルムの厚さは、通常１μｍ以上であり、２μｍ以上であることが好ましく、３μｍ以上であることがより好ましい。

偏光素子層としては、例えば特許文献２に記載されるように、重合性液晶化合物が重合した硬化膜中に、二色性色素が配向したものを使用してもよい。
二色性色素としては、波長３８０〜８００ｎｍの範囲内に吸収を有するものを用いることができ、有機染料を用いることが好ましい。二色性色素として、例えば、アゾ化合物が挙げられる。重合性液晶化合物は、配向したまま重合することができる液晶化合物であり、分子内に重合性基を有することができる。また、ＷＯ２０１１／０２４８９１に記載されるように、液晶性を有する二色性色素から偏光フィルムを形成してもよい。

（位相差層）
位相差層は、公知のλ／２板、λ／４板、逆波長分散性のλ／４板、ポジティブＡプレート、ポジティブＣプレート、ネガティブＡプレート、ネガティブＣプレート等を用いることができ、これらのうち複数が積層されたものであってもよい。

位相差層がＡプレート又はＣプレートである場合、厚さは０．１μｍ以上５μｍ以下とすることができる。Ａプレート及びＣプレートの厚さがこの範囲内であると、十分な耐久性が得られ、積層体の薄層化に貢献し得る。当然のことながら、Ａプレート及びＣプレートの厚さは、λ／４の位相差を与える層、λ／２の位相差を与える層、ポジティブＡプレート、又はポジティブＣプレート等の所望の面内位相差値、及び厚さ方向の位相差値が得られるよう調整され得る。

位相差層の形成に用いられる重合性液晶化合物の種類については、特に限定されないものの、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物）とに分類できる。更に、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。なお、高分子とは、一般に重合度が１００以上のものを言う（高分子物理・相転移ダイナミクス、土井 正男著、２頁、岩波書店、１９９２）。

本実施形態では、何れの重合性液晶化合物を用いることもできる。更に、２種以上の棒状液晶化合物や、２種以上の円盤状液晶化合物、又は棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。

なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１、又は、特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好適に用いることができる。円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］、又は、特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好適に用いることができる。

重合性液晶化合物は、２種類以上を併用してもよい。その場合、少なくとも１種類が分子内に２以上の重合性基を有している。すなわち、重合性液晶化合物が硬化した層は、重合性基を有する液晶化合物が重合によって形成された層であることが好ましい。この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。

重合性液晶化合物は、重合反応をし得る重合性基を有する。重合性基としては、例えば、重合性エチレン性不飽和基や環重合性基等の付加重合反応が可能な官能基が好ましい。
より具体的には、重合性基としては、例えば、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、オキシラニル基、及びオキセタニル基、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、アリル基等を挙げることができる。その中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基及びアクリロイル基の両者を包含する概念である。

＜基材フィルム及び光学機能層を備える積層体（原料積層体（符号５Ａ，５Ｂ））＞
本実施形態の積層体は、基材フィルム及び光学機能層を備える原料積層体を２種（第１の基材フィルム及び第１の光学機能層を備える積層体と、第２の基材フィルム及び第２の光学機能層を備える積層体）、式（１）及び式（２）を満たすように、あるいは、式（１）及び式（３）を満たすようにして選択し、例えば、後述の接着剤層又は粘着剤層を介して貼り合わせることで製造できる。

用いる２種の基材フィルム（第１及び第２の基材フィルム）は、すでに説明した厚さ測定により、それぞれの厚さを求め、式（２）を満たすようにして選択する。また、これもすでに説明した剛軟度測定により、それぞれの剛軟度を求め、式（３）を満たすようにして選択する。２種の基材フィルムそれぞれの厚さ及び剛軟度を求め、式（２）及び式（３）をともに満たすようにして選択することもできる。

基材フィルム上に光学機能層を形成することで、原料積層体を形成する。原料積層体の面内剥離力は、光学機能層を形成する重合性液晶化合物の種類や光学機能層の形成手段の差によって変わる。また、光学機能層が偏光素子層である場合には、重合性液晶化合物と合わせて用いる二色性色素の種類によっても、面内剥離力が変わる。さらには、光学機能層の形成に、配向膜を使用する場合には、この配向膜の種類や厚さによっても変わることがある。

そこで、所望の位相差層及び偏光素子層の種類によって、用いる重合性液晶化合物や二色性色素（場合により、合わせて用いる配向膜）が決定している場合、種々の基材フィルムを用いて、これら種々の基材フィルム上に光学機能層を形成せしめた原料積層体の面内剥離力を前記の面内剥離力測定で求めるといった適当な予備実験により、２種の原料積層体を選別する。もちろん、このときの基材フィルムの厚さや剛軟度が、式（２）及び／又は式（３）を満たすようにして選別されたものであることはいうまでもない。

予備実験は所望の積層体を形成するための、２種の原料積層体と同じ構成の原料積層体の試験片を準備し、この試験片の面内剥離力を測定して、原料積層体を選別することもできる。あるいは、所望の積層体として長尺状のものを得ようとする場合、当該積層体を形成する２種の長尺状の原料積層体のそれぞれから、枚葉の試験片を切り出して、切り出した試験片を用いて面内剥離力を測定するといった予備実験を実施してもよい。

＜接着剤層＞
接着剤層を形成する接着剤としては、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤又は熱硬化性接着剤を用いることができ、好ましくは水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤である。粘着剤層としては後述のものが使用できる。

水系接着剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる接着剤、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等が挙げられる。中でもポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる水系接着剤が好適に用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルをケン化処理して得られるビニルアルコールホモポリマーのほか、酢酸ビニルとこれに共重合可能な他の単量体との共重合体をケン化処理して得られるポリビニルアルコール系共重合体、又はそれらの水酸基を部分的に変性した変性ポリビニルアルコール系重合体等を用いることができる。水系接着剤は、アルデヒド化合物（グリオキザール等）、エポキシ化合物、メラミン系化合物、メチロール化合物、イソシアネート化合物、アミン化合物、多価金属塩等の架橋剤を含むことができる。

水系接着剤を使用する場合は、光学機能層同士を貼合した後、水系接着剤中に含まれる水を除去するための乾燥工程を実施することが好ましい。乾燥工程後、例えば２０〜４５℃の温度で養生する養生工程を設けてもよい。

前記活性エネルギー線硬化性接着剤とは、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線のような活性エネルギー線の照射によって硬化する硬化性化合物を含有する接着剤であり、好ましくは紫外線硬化性接着剤である。例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含むもの等を挙げることができる。前記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。前記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものを挙げることができる。

接着剤層の厚さは、例えば０．１μｍ以上２５μｍ以下であってよく、好ましくは０．５μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１５μｍ以下、更に好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下、特に好ましくは２．５μｍ以上５μｍ以下である。

＜粘着剤層＞
接着剤層に代えて用いることができる粘着剤層は、（メタ）アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物で構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。粘着剤層の厚さは、通常３〜３０μｍであり、好ましくは３〜２５μｍである。

＜積層体の製造方法＞
積層体は、以下のようにして製造することができる。基材フィルムを用意し、この上に配向膜を形成し、配向膜上に重合性液晶化合物を含む塗工液を塗工する。重合性液晶化合物を配向させた状態で、活性エネルギー線を照射し、重合性液晶化合物を硬化させる。このようにして、基材フィルム、配向膜、光学機能層が積層された転写型光学機能膜を作製することができる。そして、二枚の転写型光学機能膜を、光学機能層同士が向かい合うようにして接着剤層（又は粘着剤層）にて貼合することで、積層体を製造することができる。

ここで、重合性液晶化合物が硬化した層は、前記のように基材フィルム上に設けられた配向膜上に形成するほか、基材フィルム上に直接形成してもよいが、配向膜上に形成されることが好ましい。

なお、配向膜は、垂直配向膜に限らず、重合性液晶化合物の分子軸を水平配向させる配向膜であってもよく、重合性液晶化合物の分子軸を傾斜配向させる配向膜であってもよい。Ａプレートを作製する場合には、水平配向膜を使用することができ、Ｃプレートを作製する場合には、垂直配向膜を使用することができる。配向膜としては、後述する重合性液晶化合物を含む組成物の塗工等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜及び表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させるグルブ配向膜が挙げられる。配向膜の厚さは、Ａプレートを作製する場合、１０ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜２００ｎｍであることがより好ましい。配向膜の厚さは、Ｃプレートを作製する場合、５００ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１μｍ〜４μｍであることがより好ましい。第１の基材フィルムと第１の光学機能層との間の面内剥離力Ｐ_１と、第２の基材フィルムと第２の光学機能層との間の面内剥離力Ｐ_２との関係が式（１）を満たすように、配向膜の厚さを調整すればよい。また、面内剥離力は、コロナ処理やプラズマ処理等の表面活性化処理の条件を変えることによっても調整し得る。

配向膜は、重合性液晶化合物の液晶配向を容易にする。水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の液晶配向の状態は、配向膜及び重合性液晶化合物の性質によって変化し、その組み合わせは任意に選択することができる。配向膜が配向規制力として水平配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は水平配向又はハイブリッド配向を形成することができ、垂直配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は垂直配向又は傾斜配向を形成することができる。「水平」、「垂直」等の表現は、光学機能層平面を基準とした場合、棒状液晶化合物の場合は、配向した重合性液晶化合物の長軸の方向を表し、円盤状液晶化合物の場合は、円盤面に垂直な方向を表す。水平配向とは、光学機能層平面に対して平行な方向に、棒状液晶化合物の場合は、配向した重合性液晶化合物の長軸を有する配向であり、円盤状液晶化合物の場合は、円盤面に垂直な方向を有する配向である。ここでいう「平行」とは、光学機能層平面に対して０°±２０°の角度を意味する。
垂直配向とは、光学機能層平面に対して垂直な方向に、棒状液晶化合物の場合は、配向した重合性液晶化合物の長軸を有する配向のことであり、円盤状液晶化合物の場合は、円盤面に垂直な方向を有する配向である。ここでいう「垂直」とは、光学機能層平面に対して９０°±２０°の角度を意味する。

配向膜は通常、樹脂を溶剤に溶解した組成物を基材フィルムに塗布し、溶剤を除去することで形成することができる。更にラビング処理や偏光紫外線を照射する処理が施されてもよい。配向膜の種類や厚さを調整することによって、基材フィルムと光学機能層との面内剥離力を調整することができる。具体的には、２つの転写型光学機能膜において、配向膜を形成する組成物として、同じ組成のものを使用することが好ましく、配向膜の厚さは、上述の範囲に設定することが好ましい

配向膜に用いる樹脂としては、公知の配向膜の材料として用いられる樹脂であれば特に限定されるものではなく、従来公知の単官能又は多官能の（メタ）アクリレート系モノマーを重合開始剤下で硬化させた硬化物等を用いることができる。具体的に、（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテルアクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアクリレート、テトラエチレングリコールモノフェニルエーテルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、メタクリル酸、ウレタンアクリレート等を例示することができる。なお、樹脂としては、これらの１種類であってもよいし、２種類以上の混合物であってもよい。

光配向膜は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶媒とを含む組成物から形成される。光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基等が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及び、アゾキシベンゼン構造を有する基等が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。

中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基及びカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

重合性液晶化合物が硬化した層は、後述するように、重合性液晶化合物を含む組成物を、例えば配向膜上に塗工することによって形成することができる。当該組成物を基材フィルム又は配向膜上に塗布する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗布方法が好ましく、基材フィルムが枚葉状である場合には、均一性の高いスピンコーティング法が好ましい。Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で塗布する場合、基材フィルムに配向膜を形成するための光配向膜形成用組成物等を塗布して配向膜を形成し、更に得られた配向膜上に液晶組成物を連続的に塗布することもできる。

前記組成物には、前記＜光学機能層＞の項目にて挙げた重合性液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。例えば、前記組成物には、重合開始剤が含まれていることが好ましい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて、例えば、熱重合開始剤や光重合開始剤が選択される。例えば、光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、オキシムエステル化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ等が挙げられる。重合開始剤の使用量は、前記塗工液中の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。

光重合開始剤として市販のものを用いることができる。市販の光重合開始剤としては、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７、１８４、６５１、８１９、２５０、及び３６９、３７９、１２７、７５４、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＯＸＥ０３（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）；セイクオール（登録商標）ＢＺ、Ｚ、及びＢＥＥ（精工化学株式会社製）；カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００、及びＵＶＩ−６９９２（ダウ・ケミカル株式会社製）；アデカオプトマーＳＰ−１５２、Ｎ−１７１７、Ｎ−１９１９、ＳＰ−１７０、アデカアークルズＮＣＩ−８３１、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）；ＴＡＺ−Ａ、及びＴＡＺ−ＰＰ（日本シイベルヘグナー株式会社製）；並びに、ＴＡＺ−１０４（株式会社三和ケミカル製）；等が挙げられる。液晶組成物中の光重合開始剤は、１種類でもよいし、光の光源に合わせて２種類以上の複数の光重合開始剤を混合しても良い。

また、前記組成物には、塗工膜の均一性及び膜の強度の点から、重合性モノマーが含まれていてもよい。重合性モノマーとしては、ラジカル重合性又はカチオン重合性の化合物が挙げられる。その中でも、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。

なお、重合性モノマーとしては、上述した重合性液晶化合物と共重合することができるものが好ましい。具体的な重合性モノマーとしては、例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。重合性モノマーの使用量は、重合性液晶化合物の全質量に対して、１〜５０質量％であることが好ましく、２〜３０質量％であることがより好ましい。重合性モノマーの量は、合わせて用いる重合性液晶化合物が所望の液晶状態を発現できるようにして定められる。

また、前記組成物には、塗工膜の均一性及び膜の強度の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられる。その中でも特に、フッ素系化合物が好ましい。具体的な界面活性剤としては、例えば、特開２００１−３３０７２５号公報中の段落［００２８］〜［００５６］に記載の化合物、特開２００５−６２６７３号公報中の段落［００６９］〜［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。

また、前記組成物には、溶媒が含まれていてもよく、有機溶媒が好ましく用いられる。
有機溶媒としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶剤；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等のアミド系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、前記組成物には、偏光フィルム界面側垂直配向剤、空気界面側垂直配向剤等の垂直配向促進剤、並びに、偏光フィルム界面側水平配向剤、空気界面側水平配向剤等の水平配向促進剤といった各種配向剤が含まれていてもよい。更に、前記組成物には、前記成分以外にも、密着改良剤、可塑剤、ポリマー等が含まれていてもよい。

（重合性液晶化合物の重合）
重合性液晶化合物を重合させる方法としては、光重合が好ましい。光重合は、基材フィルム又は配向膜上に重合性液晶化合物を液晶組成物が塗布された積層体に活性エネルギー線を照射することにより実施される。照射する活性エネルギー線としては、乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類）、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、及びγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、及び光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。

前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下を発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。

紫外線照射強度は、通常、１０ｍＷ／ｃｍ^２以上３，０００ｍＷ／ｃｍ^２以下である。
紫外線照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒以上１０分以下であり、好ましくは０．１秒以上５分以下であり、より好ましくは０．１秒以上３分以下であり、更に好ましくは０．１秒以上１分以下である。このような紫外線照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２以上３，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下、好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ^２以上２，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下、より好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ^２以上１，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。積算光量がこの範囲内である場合には、重合性液晶化合物の硬化が十分となり、良好な転写性が得られ易くなり、光学積層体の着色を抑制し易くなる傾向にある。

接着剤層は、粘着剤、接着剤又はこれらの組み合わせから形成することができる。接着剤層は、通常１層であるが、２層以上であってもよい。接着剤層は、接着剤組成物を、接合面に塗布することによって形成してよい。塗布方法としては、ダイコーター、カンマコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ロッドコーター、ワイヤーバーコーター、ドクターブレードコーター、エアドクターコーター等を用いた通常のコーティング技術を採用すればよい。

前記のようにして作製した転写型光学機能膜を二枚用意し、これらの光学機能層同士を接着剤層（又は粘着剤層）にて貼合することで、積層体の製造が完了する。

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は前記実施形態に何ら限定されるものではない。

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の内容をより具体的に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。実施例及び比較例中の「％」及び「部」は、特記しない限り、質量％及び質量部である。

実施例及び比較例において使用した装置及び測定方法は、以下のとおりである。
・コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のＡＧＦ−Ｂ１０を用いた。
・コロナ処理は、前記コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回行った。
・偏光ＵＶ照射装置には、ウシオ電機株式会社製の偏光子ユニット付ＳＰＯＴ ＣＵＲＥＳＰ−７を用いた。
・高圧水銀ランプには、ウシオ電機株式会社製のユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａを用いた。

＜転写型光学機能膜１の製造＞
［水平配向膜形成用組成物の調製］
下記の化学構造を有する光配向性材料５部とシクロペンタノン（溶剤）９５部とを混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、水平配向膜形成用組成物を得た。下記光配向性材料は、特開２０１３−３３２４８号公報記載の方法で合成した。

［重合性液晶化合物を含む組成物の調製］
下記の化学構造を有する重合性液晶化合物Ａと、ポリアクリレート化合物（レベリング剤）（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）と、光重合開始剤（イルガキュアＯＸＥ−０３；ＢＡＳＦジャパン株式会社製）とを混合し、重合性液晶化合物を含む組成物を得た。

重合性液晶Ａは、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法で合成した。ポリアクリレート化合物の量は、重合性液晶Ａ１００部に対して０．０１部とした。光重合開始剤の量は、重合性液晶Ａ１００部に対して３．０部とした。

得られた重合性液晶化合物を含む組成物に、固形分濃度が１３％となるように溶剤としてＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌した。これを「塗工液」とする。

［光学機能層の製造］
基材フィルムとしての厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを準備した。基材フィルムの厚さを、株式会社ニコン製のデジタルマイクロメーターであるＭＨ−１５Ｍを用いて測定した。また、基材フィルムの剛軟度をＪＩＳ Ｌ １０８５：１９９８の６．１０．３ガーレ法に従って算出した。この基材フィルムの表面に、バーコーターを用いて上述した水平配向膜形成用組成物を塗布し、８０℃で１分間乾燥した後、偏光ＵＶ照射装置を用いて１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施して水平配向膜を得た。得られた水平配向膜の膜厚は、１２２ｎｍであった。

水平配向膜の表面を、コロナ処理装置を用いてコロナ処理した。コロナ処理を施した配向膜上にバーコーターを用いて上述した塗工液を塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、塗工液の塗布面側から紫外線を照射することにより、光学機能層を形成した。光学機能層は、λ／４板であった。

以上により、基材フィルム、配向膜、光学機能層（位相差を有する層）をこの順に備える転写型光学機能膜１を得た。

［面内剥離力の測定］
この転写型光学機能膜１の光学機能層側に、粘着剤層（リンテック株式会社製 感圧式アクリル系粘着剤 厚さ２５μｍ）を貼合した。この粘着剤層を形成した積層体から、幅２５ｍｍ×長さ約１５０ｍｍの試験片を裁断し、その粘着剤層の面をガラス板に貼合した。試験片の基材フィルム側の表面であって、試験片における幅２５ｍｍの一辺に剥離用テープ（幅２５ｍｍ×長さ約１８０ｍｍ）を貼り付けた。引張り試験機を用いて、剥離用テープの一端をつかみ、温度２３℃、相対湿度６０％の雰囲気下、クロスヘッドスピード（つかみ冶具の移動速度）３００ｍｍ／分で、剥離角度が１８０°である剥離試験を行い、面内剥離力の測定を行った。面内剥離力は、基材フィルムを引き起こした後、基材フィルムを光学機能層から剥がし終わるまでの間で、力が定常状態になったときの剥離力とした。

＜転写型光学機能膜２の製造＞
［垂直配向膜形成用組成物の調製］
垂直配向膜形成用組成物としては、２−フェノキシエチルアクリレートと、テトラヒドロフルフリルアクリレートと、ジペンタエリスリトールトリアクリレートと、ビス（２−ビニルオキシエチル）エーテルとを１：１：４：５の割合で混合し、重合開始剤としてＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯを４％の割合で添加した混合物を用いた。

［重合性液晶化合物を含む組成物の調製］
重合性液晶化合物を含む組成物は、光重合性ネマチック液晶（メルク社製，ＲＭＭ２８Ｂ）を含有し、溶媒として、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）と、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と、沸点が１５５℃であるシクロヘキサノン（ＣＨＮ）とを、質量比（ＭＥＫ：ＭＩＢＫ：ＣＨＮ）で３５：３０：３５の割合で混合させた混合溶媒を含んでいた。
そして、固形分が１〜１．５ｇとなるように調製した。

［光学機能層の製造］
厚さ３８μｍのＰＥＴ基材を透明基材フィルムとして用い、その片面に垂直配向膜形成用組成物を膜厚３μｍになるようにコーティングし、紫外線を照射して垂直配向膜を作製した。

垂直配向膜の表面を、コロナ処理装置を用いてコロナ処理した。垂直配向膜上に重合性液晶化合物を含む組成物を塗工した後、乾燥温度を７５℃、乾燥時間を１２０秒間として乾燥処理を施した。その後、紫外線照射により液晶化合物を重合させて、光学機能層を作製した。光学機能層は、ポジティブＣ層であった。

以上により、基材フィルム、配向膜、光学機能層をこの順に備える転写型光学機能膜２を得た。

＜転写型光学機能膜３の製造＞
厚さ４０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを基材フィルムとして用いたこと以外は、＜転写型光学機能膜１の製造＞と同様の手順で、転写型光学機能膜３を得た。

＜転写型光学機能膜４の製造＞
厚さ４０μｍのＴＡＣフィルムを基材フィルムとして用いたこと以外は、＜転写型光学機能膜２の製造＞と同様の手順で、転写型光学機能膜４を得た。

＜転写型光学機能膜５の製造＞
厚さ８０μｍのＴＡＣフィルムを基材フィルムとして用い、表１に記載された面内剥離力となるように配向膜の厚さを調整したこと以外は、特開２０１５−１８７７１７号公報の段落［００３９］〜［００５１］に記載された方法と同様の手順で転写型光学機能膜５を得た。得られた光学機能層の厚さは２．０μｍで、５５０ｎｍにおける面内方向の位相差値Ｒｅは２５０ｎｍであった。すなわち、光学機能層は、λ／２板であった。

＜転写型光学機能膜６の製造＞
厚さ４０μｍのＴＡＣフィルムを基材フィルムとして用い、表１に記載された面内剥離力となるように配向膜の厚さを調整したこと以外は、特開２０１５−１８７７１７号公報の［００５３］〜［００６２］に記載された方法と同様の手順で転写型光学機能膜６を得た。得られた光学機能層の厚さは０．８μｍで、５５０ｎｍにおける面内方向の位相差値Ｒｅは１２０ｎｍであった。すなわち、光学機能層は、λ／４板であった。

＜転写型光学機能膜７の製造＞
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを基材フィルムとして用い、表１に記載された面内剥離力となるように配向膜の厚さを調整したこと以外は、＜転写型光学機能膜６の製造＞と同様の手順で、転写型光学機能膜７を得た。

転写型光学機能膜２〜７についても、転写型光学機能膜１の場合と同様に、基材フィルムの剛軟度及び面内剥離力を測定した。

＜実施例１＞
［積層体の製造］
転写型光学機能膜１と転写型光学機能膜２とを、紫外線硬化型接着剤により、それぞれの光学機能層（基材フィルムとは反対側の面）が貼合面となるように貼り合わせた。紫外線を照射して紫外線硬化型接着剤を硬化させた。このようにして、転写型光学機能膜１及び転写型光学機能膜２の二層の光学機能層を含む積層体１を作製した。

［剥離性の評価］
実施例で得た積層体から、幅約１０００ｍｍ×長さ約５００ｍｍの試験片を裁断した。
剥離機を用いて、剥がしたいほうの基材フィルムの端部をつかみ、温度２３℃、相対湿度６０％の雰囲気下、つかみ移動速度５ｍ／分で、剥離試験を行い、
・泣き別れやジッピングが生じないものを「Ａ」、
・泣き別れやジッピングが生じたものを「Ｂ」
とした。

＜実施例２＞
転写型光学機能膜３と転写型光学機能膜２とを使用した以外は、実施例１と同様にして積層体２を得た。

＜実施例３＞
転写型光学機能膜５と転写型光学機能膜６とを使用した以外は、実施例１と同様にして積層体３を得た。

＜比較例１＞
転写型光学機能膜３と転写型光学機能膜４とを使用した以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。

＜比較例２＞
転写型光学機能膜７と転写型光学機能膜５とを使用した以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。

実施例２〜３、比較例１〜２についても、実施例１と同様に剥離性の評価を行った。

各種測定の結果を表１及び表２に示す。なお、表２において、「転写型光学機能膜の組み合わせ」の欄に示した番号は、表１に示した７種類の転写型光学機能膜の番号を示している。また、「第１」と「第２」のうち、「第１」の欄に示した転写型光学機能膜が、前記「［剥離性の評価］」における「剥がしたいほうの基材フィルム」を有する転写型光学機能膜である。また、表２において、厚さ比（Ｔ_１／Ｔ_２）、剛軟度比（Ｓ_１／Ｓ_２）、面内剥離力比（Ｐ_１／Ｐ_２）は、二つの基材フィルムのうち「剥離性の評価」において剥がす対象であった基材フィルムのほうの値に「１」の添え字を付している。

表２の結果から、良好な剥離性を発揮するための厚さ比、剛軟度比、面内剥離力比が明らかとなった。実施例１〜３は、組み合わせた転写型光学機能層同士の面内剥離力の差が小さい場合でも、良好な剥離性を達成することができた。

＜実施例４＞
実施例１において、転写型光学機能膜２における光学機能層（ポジティブＣ層）を、重合性液晶化合物及び二色性色素から形成される偏光素子層に置き換えたもの（面内剥離力は、転写型光学機能膜２と同様に、０．０７Ｎ／２５ｍｍとする）を第２の転写型光学機能膜として用い、その他は実施例１と同様にして本発明の積層体を製造する。かかる積層体の剥離性は、実施例１と同程度に良好（剥離性Ａ）となる。

本発明の積層体は、例えば有機ＥＬ表示装置に適用することができる。

１Ａ…第１の基材フィルム、１Ｂ…第２の基材フィルム、２Ａ…第１の光学機能層、２Ｂ…第２の光学機能層、３…接着剤層、５Ａ…第１の原料積層体、５Ｂ…第２の原料積層体、１０…積層体。

Claims (6)

1. 第１の基材フィルムと、第１の重合性液晶化合物が硬化した層を含む第１の光学機能層と、第２の重合性液晶化合物が硬化した層を含む第２の光学機能層と、第２の基材フィルムと、をこの順に備え、
   前記第１の光学機能層と前記第２の光学機能層とが、接着剤層又は粘着剤層により互いに貼合されており、
   前記第１の基材フィルム及び前記第２の基材フィルムは、いずれも離型性支持体として機能するものであり、
   前記第１の基材フィルムと前記第１の光学機能層との間の面内剥離力Ｐ_１と、前記第２の基材フィルムと前記第２の光学機能層との間の面内剥離力Ｐ_２とが下記式（１）を満たし、
   前記第１の基材フィルムの厚さＴ_１と、前記第２の基材フィルムの厚さＴ_２とが下記式（２）を満たす、積層体。
   ０．６７＜Ｐ_１／Ｐ_２＜１．５０ …（１）
   １．０５≦Ｔ_１／Ｔ_２ …（２）
2. 前記第１の光学機能層と前記第２の光学機能層とが、接着剤層により互いに貼合されている、請求項１記載の積層体。
3. 前記第１の基材フィルム及び前記第２の基材フィルムは、いずれも透光性を有する熱可塑性樹脂からなる、請求項１又は２記載の積層体。
4. 前記第１の光学機能層と前記第２の光学機能層のうち、少なくとも一方は、位相差を有する層である、請求項１〜３のいずれか一項記載の積層体。
5. 前記第１の光学機能層と前記第２の光学機能層のうち、少なくとも一方は偏光素子層である、請求項１〜３のいずれか一項記載の積層体。
6. 前記第１の基材フィルムと前記第１の光学機能層との間、及び、前記第２の基材フィルムと前記第２の光学機能層との間の少なくとも一方に、配向膜を備える、請求項１〜５のいずれか一項記載の積層体。