KR101556028B1 - 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말, 상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용한 염소 함유 수지 안정제 및 염소 함유 수지 조성물 - Google Patents

히드로탈사이트형 화합물 입자 분말, 상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용한 염소 함유 수지 안정제 및 염소 함유 수지 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 가용성 음이온의 합계값이 70 ppm 이하인 것을 특징으로 하는 Mg-Al계 또는 Mg-Zn-Al계 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말, 해당 입자 분말을 이용한 염소 함유 수지 조성물을 안정화시키기 위한 염소 함유 수지 안정제 및 해당 입자 분말을 염소 함유 수지 중에 함유하는 염소 함유 수지 조성물에 관한 것이다. 해당 입자 분자는 히드로탈사이트형 화합물 입자를 생성 및 숙성시킨 후의 슬러리를 pH 9.5 내지 12로 조절한 후, 세정하고, 건조함으로써 제조할 수 있다.

Description

히드로탈사이트형 화합물 입자 분말, 상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용한 염소 함유 수지 안정제 및 염소 함유 수지 조성물 {PARTICULATE POWDER OF HYDROTALCITE TYPE COMPOUND, CHLORINATED-RESIN STABILIZER COMPRISING THE PARTICULATE POWDER OF HYDROTALCITE TYPE COMPOUND, AND CHLORINATED-RESIN COMPOSITION}
본 발명은 염소 함유 수지 조성물에서 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말에서 유래하여 전기 절연성의 저하를 억제할 수 있으며, 또한 염소 함유 수지의 우수한 열 안정성을 갖게 하고, 수지의 착색을 억제할 수 있는 것이다.
최근, 염소 함유 수지의 안정화제로서, Pb나 Sn으로부터 무독인 금속 비누류와 히드로탈사이트형 화합물의 조합으로 변경되고 있고, 염소 함유 수지를 이용한 재료는 전선 피복, 필름, 건재나 파이프 등 여러가지 용도로 이용되고 있다.
히드로탈사이트는 일반적으로 Mg6Al2(OH)16CO3·4H2O로 표시되는 층상의 화합물로, Mg-Al으로 이루어지는 층의 층간에 CO3, H2O, OH-가 삽입되어 있다. 구조 중 Mg2+의 일부 또는 전부를 Ni2+, Zn2+, Sr2+나 Ca2+ 등의 2가 양이온으로 치환할 수 있으며, 마찬가지로 Al3+의 일부 또는 전부를 Fe3+나 Cr3+ 등의 3가 양이온으로 치환할 수 있다. 또한, CO3 2-도 SO4 2+나 Cl- 등의 음이온으로 교환할 수 있다. 또한, 일반적으로 2가와 3가의 양이온의 몰비를 변경하여도 구조를 유지하고, 몰비가 2 내지 4인 범위에서 층상 구조를 취할 수 있다. 이들 구성 원소의 조성이나 2가와 3가의 양이온의 비율을 변경한 층상의 화합물을 일반적으로 히드로탈사이트형 화합물이라 부른다.
특히 전선 피복 용도의 안정제로는 급격히 히드로탈사이트형 화합물을 포함하는 것으로 변경되고 있다. 그러나, 전선 피복 용도의 안정제에 히드로탈사이트형 화합물을 이용하면 전기 저항이 저하되는 경향이 있어, 저전압 전선에서는 어떻게든 사용할 수 있는 수준이지만, 고전압 전선에서는 누전되기 쉬워지기 때문에 사용할 수 없어, 여전히 전기 절연성이 높은 Pb계의 안정제가 사용되고 있다.
그러나, 친환경적인 움직임으로부터 고전압 전선에서도 탈Pb가 요구되고 있어, 높은 전기 절연성을 유지할 수 있는 히드로탈사이트형 화합물이 갈망되고 있다.
일반적으로 수용액 등에서는 용해된 이온을 많이 포함할수록 도전성이 높아지고, 수지 중에서도 마찬가지로 도전성 이온이 많을수록 수지의 도전성이 높아진다. 바꿔 말하면 도전성 이온이 많을수록 수지의 전기 절연성은 저하된다.
히드로탈사이트형 화합물 입자는 그의 구조 중 및 표면 부근에 황산 이온이나 나트륨 이온과 같은 미량의 불순물 이온을 포함하고 있어, 전기 절연성을 저하시키는 원인이 되고 있다고 생각된다. 또한, 이들 이온은 수지의 착색이나 열 안정성을 악화시키는 원인을 수반하고 있다.
지금까지 염소 함유 수지의 안정제로서 히드로탈사이트형 화합물을 이용하는 것이 알려져 있고(특허문헌 1 내지 3), 히드로탈사이트형 화합물 입자가 함유하는 나트륨량이 적으면 전기 저항이 향상되는 경향이 있는 것도 알려져 있다(특허문헌 2, 3).
일본 특허 공개 제2000-290451호 공보 일본 특허 공개 제2007-106620호 공보 국제 공개 제2006/043352호 공보
상기 특허문헌 1 내지 3에 기재된 히드로탈사이트형 화합물에서는, 수지의 전기 절연성이 충분하다고 하기 어렵고, 염소 함유 수지 조성물의 안정제로서 우수한 기능을 가진다고는 하기 어려운 것이었다.
따라서, 본 발명은 용출되는 도전성 이온이 적은 히드로탈사이트형 화합물을 제공하고, 상기 히드로탈사이트형 화합물을 포함하는 높은 전기 절연성을 가진 수지를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.
상기 기술적 과제는 다음과 같은 본 발명에 의해서 달성할 수 있다.
즉, 본 발명은 가용성 음이온의 합계값이 70 ppm 이하인 것을 특징으로 하는 Mg-Al계 또는 Mg-Zn-Al계 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말이다(본 발명 1).
본 발명 1에 기재된 히드로탈사이트형 화합물 중 함유하는 나트륨이 700 ppm 이하인 것을 특징으로 하는 Mg-Al계 또는 Mg-Zn-Al계 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말이다(본 발명 2).
본 발명 1 또는 2에 기재된 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용한 염소 함유 수지 조성물을 안정화시키기 위한 염소 함유 수지 안정제이다(본 발명 3).
본 발명 1 또는 2에 기재된 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 염소 함유 수지 중에 함유하는 것을 특징으로 하는 염소 함유 수지 조성물이다(본 발명 4).
본 발명 1 또는 2에 기재된 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 염소 함유 수지 중에 함유하는 것을 특징으로 하는 염소 함유 수지 조성물이다(본 발명 5).
본 발명 1 또는 2에 기재된 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제조 방법이며, 히드로탈사이트형 화합물 입자를 생성 및 숙성시킨 후의 슬러리를 pH 9.5 내지 12로 조절한 후, 세정하고, 건조하는 것을 특징으로 하는 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제조 방법이다(본 발명 6).
세정 공정이 옅은 알칼리 수용액으로 세정한 후, 추가로 수세하는 것인 본 발명 5에 기재된 제조 방법이다(본 발명 7).
세정 공정에서 사용하는 옅은 알칼리 수용액 및/또는 물의 온도가 30 내지 90 ℃인 본 발명 6에 기재된 제조 방법이다(본 발명 8).
본 발명에 따른 용출되는 도전성 이온이 적은 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용함으로써, 수지에 높은 전기 절연성을 갖게 할 수 있다. 또한, 열 안정성 및 착색도 개선할 수 있다.
우선, 본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말에 대해서 서술한다.
본 발명에 따른 용출되는 도전성 이온이 적은 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말에 있어서, 히드로탈사이트형 화합물은 Mg, Al, Zn 등으로 구성되어 있고, 흔히 Mg-Al계나 Mg-Zn-Al계로 표기되는 것이다.
본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 조성은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 일반적으로 알려져 있는 Mg/Al 몰비는 1.0 내지 3.5가 바람직하고, Mg-Al-Zn계에서의 아연은 Mg 및 Al의 합계 몰수에 대하여 몰비로 0.0010 내지 0.30이 바람직하며, Zn/Al의 몰비로 나타내면 0.005 내지 0.5 정도가 바람직하다.
본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말이 포함하는 가용성 음이온(가용성 황산 이온, 가용성 질산 이온 및 가용성 염화물 이온)의 합계값은 70 ppm 이하이다. 이들 가용성 음이온량이 많으면 높은 전기 절연성이 얻어지지 않는다. 특히, 가수가 2가인 황산 이온은 1가의 이온에 비하여 전기 절연성에 대한 악영향이 크다. 가용성 음이온은 바람직하게는 60 ppm 이하, 보다 바람직하게는 50 ppm 이하이다. 또한, 하한값은 통상 5 ppm 정도이다.
본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말이 포함하는 나트륨은 700 ppm 이하가 바람직하다. 함유하는 나트륨이 적으면 용해되는 나트륨이 적어질 가능성이 높아진다. 나트륨 이온은 가용성 음이온보다도 영향이 적지만, 나트륨이 적은 것이 보다 높은 전기 절연성이 얻어진다. 바람직하게는 나트륨이 600 ppm 이하이고, 더욱 보다 바람직하게는 550 ppm 이하이다. 또한, 하한값은 통상 20 ppm 정도이다.
본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 비표면적은 5 내지 150 ㎡/g이다. 5 ㎡/g 미만의 히드로탈사이트형 화합물 입자는 공업적으로 얻어지기 어렵다. 150 ㎡/g을 초과하여도 공업적으로 얻어지기 어렵다. 바람직하게는 7 내지 100 ㎡/g, 보다 바람직하게는 8 내지 50 ㎡/g이다.
본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말은 0.01 내지 5 중량％ 정도의 칼슘을 함유할 수도 있다.
본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말은 0.01 내지 8 중량％ 정도의 산화아연을 함유할 수도 있다.
본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 평균 판면(板面) 직경은 0.05 내지 0.8 ㎛가 바람직하다.
이어서, 본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제조법에 대해서 서술한다.
본 발명에서의 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말은, 음이온을 함유한 알칼리성 수용액과 마그네슘염 수용액과 알루미늄염 수용액을 혼합하고, pH값이 10 내지 14인 범위의 혼합 용액으로 한 후, 상기 혼합 용액을 80 내지 105 ℃의 온도 범위에서 숙성하여 Mg-Al계 히드로탈사이트형 입자의 코어(芯) 입자를 생성시키고, 이어서 상기 코어 입자를 포함하는 수성 현탁액에 상기 코어 입자의 생성시에 첨가한 상기 마그네슘과 상기 알루미늄의 합계 몰수에 대하여, 합계 몰수가 0.35 이하가 되는 비율로 마그네슘 및 알루미늄을 함유하는 마그네슘염 수용액과 알루미늄염 수용액을 첨가한 후, pH값이 10 내지 14인 범위, 온도가 60 내지 105 ℃인 범위에서 숙성하여 Mg-Al계 히드로탈사이트형 입자 분말을 얻는 것과 같은 상압에서의 코어 입자에 대한 성장 반응(일본 특허 공개 제2002-293535호 공보)이나, 오토클레이브를 이용하여 105 내지 350 ℃에서 생성된 것을 이용하는 것이 바람직하다. 이들은, 예를 들면 Mg, Al, Zn에 대해서는 황산염 금속, 질산염 금속, 염화물염 금속, 금속 산화물 등의 원료와, 가성 소다나 수산화칼륨 등의 알칼리, 탄산 소다나 염기성 탄산마그네슘, 탄산칼륨 등의 음이온원 원료로부터 제작할 수 있다.
가용성 음이온(가용성 황산 이온, 가용성 질산 이온 및 가용성 염화물 이온)이 적은 히드로탈사이트형 화합물 입자를 제작하기 위해서는, 목표로 하는 히드로탈사이트형 화합물 입자를 생성 및 숙성시킨 후의 슬러리, 또는 소수화 표면 처리 등의 처리를 행한 후의 슬러리를 pH 9.5 내지 12로 조절하는 것이 바람직하고, 보다 바람직한 pH는 9.8 내지 11.5이다. 상기 pH의 범위로 조정함으로써 황산 이온 등의 음이온이 세정(수세)으로 저하되기 쉬워진다. 나트륨은 수세로 비교적 용이하게 떨어지기 쉽지만, 가용성 황산 이온, 가용성 질산 이온 및 가용성 염화물 이온과 같은 가용성 음이온은 단순히 수세로는 감소시키는 것이 곤란하다. 따라서, 수세시에, 우선 옅은 알칼리 수용액으로 세정하여 황산 이온 등의 음이온을 감소시킨 후, 추가로 물로 수세함으로써, 황산 이온 등의 음이온이 저하되기 보다 쉬워진다. 상기 히드로탈사이트형 입자 분말을 함유하는 슬러리의 pH 조절 및 수세 전의 세정에서 이용하는 옅은 알칼리 수용액에는, 수산화나트륨, 탄산나트륨 등의 알칼리 수용액을 이용할 수 있다.
또한, 옅은 알칼리 수용액 및/또는 수세에 이용하는 옅은 알칼리 수용액 및/또는 물의 온도는 30 내지 90 ℃인 것이 바람직하다. 이 범위의 온도가 옅은 알칼리 수용액 및/또는 물을 이용하면 이온의 확산 속도가 향상되고, 추가로 물의 점도가 저하되어 수세 효과가 높아진다. 보다 바람직하게는 40 내지 70 ℃이다.
상기한 바와 같이 하여 얻어진 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말은, 기본적으로는 105 내지 150 ℃에서 건조를 행하는 것이 바람직하다. 105 ℃ 미만의 건조 온도에서는 얻어지는 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 수분이 많기 때문에 수지 중에서 발포가 일어나기 쉽고, 또한 건조시키기 위해서 장시간 필요해져 경제적이지 못하다. 150 ℃를 초과하는 경우는, 연질 내지 반경질 염소 함유 수지 조성물의 안정제 용도로서 수지에 대한 열화 억제 기능이 저하되는 경향이 있다. 연질 내지 반경질 염소 함유 수지 조성물의 안정제 용도로는, 건조 온도는 105 내지 130 ℃가 보다 바람직하다. 건조 시간은 건조량이나 건조 방법에 의해서 필요한 시간 동안 행하면 된다. 바람직하게는 3 내지 24 시간이다.
이어서, 본 발명에 따른 염소 함유 수지 안정제 및 염소 함유 수지 조성물에 대해서 서술한다.
본 발명 1 또는 2의 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 염소 함유 수지 안정제로서 염소 함유 수지 조성물에 첨가하여 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 염소 함유 수지 조성물은, 수지 100 중량부에 대하여, 상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 0.01 내지 10 중량부 함유하는 것이 바람직하다. 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 함유량이 0.01 중량부 미만인 경우에는 안정제로서의 효과가 낮다. 10 중량부를 초과하는 경우에는, 효과가 포화되기 때문에 필요 이상으로 첨가하는 의미가 없다. 또한, 히드로탈사이트형 입자 분말을 필요 이상으로 다량으로 첨가하면 발포가 발생하기 쉽고, 외관 불량이나 초기 착색 등의 악영향을 미치는 경우가 있다.
또한, 필요에 따라서 수지 중에 가소제, 기타 안정제 및 첨가제를 함유할 수도 있다.
가소제로는 트리옥틸트리멜리테이트(TOTM), 트리-n-옥틸-n-데실트리멜리테이트 등의 트리멜리트산에스테르계 가소제, 프탈산디이소데실(DIDP), 디이소노닐·프탈레이트(DINP), 디-2-에틸헥실·프탈레이트(DOP) 등의 프탈산에스테르계 가소제, 폴리프로필렌·아디페이트, 폴리프로필렌·세바케이트 등의 폴리에스테르계 가소제 등이 바람직하다.
기타 안정제로는 스테아르산아연, 라우르산아연, 리시놀산아연 등의 아연 화합물, 디벤조일메탄, 스테아로일벤조일메탄, 디히드로아세트산 등의 β-디케톤류, 알킬알릴포스페이트, 트리알킬포스페이트 등의 포스파이트류, 디펜타에리트리톨, 펜타에리트리톨, 글리세린, 디글리세린, 트리메틸올프로판 등의 다가 알코올계 화합물, 스테아르산, 라우르산, 올레산 등의 고급 지방산, 에폭시화 아마인유, 에폭시화 대두유 등의 에폭시계 화합물 등이 바람직하다.
그 밖의 첨가제로는 페놀계 화합물, 아민계 화합물, 인산계 화합물 등의 산화 방지제, 폴리에스테르의 말단을 OH기로 변경한 것, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체, 메타크릴산메틸스티렌 공중합체 등의 겔화 촉진제, 탄산칼슘, 실리카, 유리 비드, 운모, 유리 섬유 등의 증량제, 삼산화안티몬, 수산화알루미늄, 붕산아연 등의 무기 난연제, 브롬 함유 유기계 난연제, 할로겐 함유 인산에스테르계 난연제 등의 난연제, 스테아르산, 폴리에틸렌 왁스, 스테아르산칼슘, 스테아르산마그네슘, 스테아르산바륨 등의 윤활제, 트리클로산, 오소사이드, 산아이졸 100, 산아이졸 300 등 곰팡이 방지제 등이 사용된다.
본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물을 염소 함유 수지 조성물로서 이용하는 경우, 상기 히드로탈사이트형 화합물에 고급 지방산이나 음이온계 계면 활성제, 고급 지방산 인산에스테르, 커플링제 및 다가 알코올에스테르류로부터 선택되는 적어도 1종의 표면 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 표면 처리를 실시함으로써 한 층 더 염소 함유 수지 조성물의 안정성을 부여할 수 있다.
고급 지방산으로는, 예를 들면 라우르산, 스테아르산, 팔미트산, 올레산, 리놀레산 등이고, 고급 지방산 인산에스테르로는, 예를 들면 스테아릴에테르인산, 올레일에테르인산, 라우릴에테르인산 등이고, 다가 알코올에스테르로는 소르비탄모노올레에이트, 소르비탄모노라우레이트, 스테아르산모노글리세라이드 등을 들 수 있다.
음이온계 계면활성제로는, 예를 들면 라우릴황산나트륨, 도데실벤젠술폰산나트륨, 스테아르산나트륨, 올레산칼륨, 피마자유칼륨 등의 염류 등을 들 수 있다.
커플링제로는 실란계, 알루미늄계, 티탄계, 지르코늄계 커플링제 등을 사용할 수 있다.
표면 처리제의 처리 방법은 특별히 한정되지 않지만, 히드로탈사이트형 화합물 입자 표면에 습식 반응에 의해서 행할 수도 있다. 또는, 히드로탈사이트형 화합물 입자 표면에, 헨셀 믹서 등에 의해서 건식 표면 처리할 수도 있다. 또는, 단순히 상기 히드로탈사이트형 화합물 입자와 표면 처리제를 혼합하는 것만을 할 수도 있다.
본 발명에 따른 염소 함유 수지 조성물은, 가소제가 전혀 포함되지 않거나 또는 소량밖에 포함되지 않은 경질 또는 반경질 재료인 경우, 하기 조성을 포함하는 염소 함유 수지 조성물에 있어서, 본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물을 이용하면, 스테아르산아연 0.8 중량부로는, 후술하는 착색 레벨에서, 레벨 3의 시간이 65 분 이상, 레벨 5의 시간이 100 분 이상이다.
염소 함유 수지(중합도 1000):
다이요엔비 가부시끼가이샤 제조 대양 PVC TH1000 100 중량부
프탈산디-2-에틸헥실(다이하찌 가가꾸 제조 DOP) 0 내지 25 중량부
히드로탈사이트형 화합물 입자 분말 3.5 중량부
스테아르산아연(일반 시약) 0.6 내지 0.9 중량부
또한, 가소제가 많이 포함되는 연질 재료의 경우, 하기 조성을 포함하는 염소 함유 수지 조성물에서, 본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물을 이용하면, 후술하는 착색 레벨에서, 레벨 3의 시간이 65 분 이상이고, 레벨 5의 시간이 100 분 이상이다.
염소 함유 수지(중합도 1000)
다이요엔비 가부시끼가이샤 제조 대양 PVC TH1000 100 중량부
프탈산디-2-에틸헥실(다이하찌 가가꾸 제조 DOP) 40 내지 80 중량부
본 발명의 히드로탈사이트형 화합물 3.0 중량부
스테아르산아연(일반 시약) 0.6 중량부
본 발명에 따른 염소 함유 수지 조성물은 용도에 따라서도 다르지만, 부피 고유 저항값이 2.0×1014 Ω·cm 이상인 것이 바람직하다.
이어서, 본 발명에 따른 염소 함유 수지 조성물의 제조법에 대해서 서술한다.
본 발명에 따른 염소 함유 수지 조성물은 통상의 제조법에 의해서 얻을 수 있지만, 예를 들면 혼련 시트를 얻는 경우에는, 수지, 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말 및 상기 각종 안정제, 첨가제를 소정량 혼합하고, 상기 혼합물을 열간 롤로 혼련하여, 혼련 시트를 얻은 후, 열간 프레스로 가압 처리함으로써 얻는다. 열간 롤의 혼련 온도는 이용하는 수지나 수지 조성물에 따라 다르지만, 140 내지 300 ℃가 바람직하다. 열간 프레스의 프레스 온도는 145 내지 320 ℃가 바람직하다.
<작용>
본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용함으로써, 수지의 전기 절연성을 저하시키는 것을 억제할 수 있고, 게다가 열 안정성의 향상 및 착색의 억제를 가져올 수 있다.
즉, 본 발명에 따른 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말은, 전기 전도성이 있는 가용성 황산 이온, 가용성 질산 이온 및 가용성 염화물 이온 등의 가용성 음이온의 함유량이 적기 때문에, 수지의 안정제로서 이용한 경우에, 높은 전기 절연성을 가지는 수지 조성물이 얻어진다. 게다가, 염에 의한 수지 소성도 억제할 수 있고, 높은 열 안정성을 가지며, 착색이 억제된 수지 조성물을 얻을 수 있다. 또한, 함유하는 나트륨이 적으면 보다 높은 효과가 얻어진다.
<실시예>
본 발명의 대표적인 실시 형태는 다음과 같다.
나트륨, 마그네슘, 알루미늄, 아연, 칼슘 등의 원소의 함유량은, 시료를 산으로 용해시키고, 플라즈마 발광 분광 분석 장치(사모일렉트론 가부시끼가이샤 제조, iCAP6500)에서 이트륨을 내부 표준으로서 이용하여 분석하고 구하였다.
가용성 음이온의 측정법에 대해서 이하에 서술한다. 시료 5 g을 에탄올 40 ㎖에 넣어 분산시키고, 초순수 100 ㎖를 추가하여 밀봉 용기에서 1 분간 흔들어서 혼합하고, 그대로 22 ℃에서 20 시간 동안 방치한 후, 이 슬러리를 여과하고, 초순수를 보급하면서 여과액을 60 분간 펄펄 끓여 에탄올을 증발시키고, 냉각하여 초순수로 액량을 100 ㎖로 조절하였다. 이를 이온 크로마토 분석 장치(동아 DKK, ICA-2000)로 분석하여 황산 이온, 질산 이온, 염화물 이온의 측정을 각각 행하였다.
비표면적값은 질소를 이용한 B.E.T.법에 의해 측정하였다.
수지의 롤 혼련은 6인치 2개 타입을 이용하여, 수지 조성물에 합쳐서 온도를 140 내지 190 ℃로 조정하였다. 혼련 시간은 5 분간 행하였다.
상기 롤 혼련한 시트를 200×200×1 내지 1.5 mm의 압축 성형체로 하였다. 압축 성형체를 제작하는 장치는 가열 프레스가 70톤 자동 프레스(램 면적 210 ㎠), 냉각 프레스가 30톤 수동 프레스(램 면적 180 ㎠)로 하였다. 압축 성형 조건은 140 내지 190 ℃에서, 예열(무압)로 3 분, 가압(6.3 MPa)으로 2 분, 냉각(3.1 MPa)으로 3 분의 절차로 행하였다.
얻어진 시트를 이용하여 전기 저항(전기 절연성)을 측정하였다. 두께 1.0 mm의 수지 프레스 시트를 제조하고, 30 ℃-60 ％의 데시케이터에 1일간 보관하고, JIS K6723에 준하여 부피 고유 저항값(Ω·cm)을 측정하였다.
열 안정성 시험은 기어-노화식 시험기(가부시끼가이샤 야스다 세이끼 세이사꾸쇼 제조, 102-SHF-77S)로 행하였다. 상기 프레스한 시트를 30×30 mm 변(角)으로 잘라내고, 유리판 상에 이 시험편을 놓고, 190 ℃에서 200 분간 시험을 하면서, 10 분마다 시험편을 2매/1샘플씩 취출하여 인쇄 용지에 첩부하였다.
프레스 시트 및 열 안정성 시험편의 착색 레벨은 다음과 같은 1 내지 7의 레벨로 정의하였다.
레벨 1 거의 착색이 없음
레벨 2 희미한 갈색
레벨 3 갈색
레벨 4 일부가 탄화·흑화
레벨 5 전체가 탄화·흑화
이어서 실시 형태를 서술한다.
실시예 1:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
산화마그네슘 26.9 g을 순수에 분산시킨 슬러리와 황산알루미늄8수염 결정 81.0 g의 수용액을 교반하면서 혼합하였다. 별도로, 탄산 소다 결정 35.7 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 58.3 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 산화마그네슘과 황산알루미늄8수염을 혼합한 슬러리에 투입하여 80 ℃로 승온하고, 80 ℃에서 5 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 175 ℃에서 4 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 67 ℃로 하고, pH를 10.3으로 조정하였다. 이 상태에 2.3 g의 팔미트산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.7 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 40 ℃의 pH 11.5의 옅은 가성 소다의 수용액 2 ℓ로 수세하고, 그 후 40 ℃의 순수 15 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 11.0 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(연질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 55 phr
스테아르산아연 0.6 phr
상기 시료 3.0 phr
158 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 158 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 80 분, 레벨 5의 시간은 120 분이었다.
실시예 2:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
황산마그네슘7수염 결정 141.0 g, 황산아연7수염 결정 41.5 g 결정 및 황산알루미늄8수염 결정 69.4 g을 순수에 용해시켰다. 별도로, 탄산 소다 결정 30.6 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 152.4 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 황산마그네슘7수염 결정, 황산아연7수염 결정 및 황산알루미늄8수염을 혼합한 수용액에 투입하여 85 ℃로 승온하고, 85 ℃에서 6 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 185 ℃에서 6 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 65 ℃로 하고, pH를 10.1로 조정하였다. 이 상태에 2.5 g의 스테아르산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.6 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 50 ℃의 pH 11의 옅은 가성 소다의 수용액 2 ℓ로 수세하고, 그 후 50 ℃의 순수 15 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 10.0 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(연질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 55 phr
스테아르산아연 0.6 phr
상기 시료 3.0 phr
158 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 158 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 75 분, 레벨 5의 시간은 115 분이었다.
실시예 3:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
황산마그네슘7수염 결정 176.3 g 및 황산알루미늄8수염 결정 69.4 g을 순수에 용해시켰다. 별도로, 탄산 소다 결정 30.6 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 152.4 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 황산마그네슘7수염 결정 및 황산알루미늄8수염을 혼합한 수용액에 투입하여 90 ℃로 승온하고, 90 ℃에서 10 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 145 ℃에서 6 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 65 ℃로 하고, pH를 11.2로 조정하였다. 이 상태에 1.9 g의 라우르산 소다를 열탕(80 ℃)으로 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.8 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 45 ℃의 pH 12.5의 옅은 가성 소다의 수용액 2 ℓ로 수세하고, 그 후 45 ℃의 순수 15 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 9.0 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(반경질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 20 phr
스테아르산아연 0.8 phr
상기 시료 3.5 phr
178 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 178 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 75 분, 레벨 5의 시간은 115 분이었다.
실시예 4:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
염화마그네슘6수염 결정 101.9 g, 염화아연1수염 결정 26.0 g 결정 및 염화알루미늄6수염 결정 80.5 g을 순수에 용해시켰다. 별도로, 탄산 소다 결정 35.7 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 136.1 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 염화마그네슘6수염 결정, 염화아연1수염 결정 및 염화알루미늄6수염을 혼합한 수용액에 투입하여 95 ℃로 승온하고, 95 ℃에서 8 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 165 ℃에서 7 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 70 ℃로 하고, pH를 9.9로 조정하였다. 이 상태에 2.5 g의 팔미트산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.7 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 45 ℃의 pH 11의 옅은 가성 소다의 수용액 2 ℓ로 수세하고, 그 후 45 ℃의 순수 16 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 10.2 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(연질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 55 phr
스테아르산아연 0.6 phr
상기 시료 3.0 phr
158 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 158 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 75 분, 레벨 5의 시간은 120 분이었다.
실시예 5:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
염화마그네슘6수염 결정 141.0 g 및 염화알루미늄6수염 결정 74.3 g을 순수에 용해시켰다. 별도로, 탄산 소다 결정 32.9 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 163.5 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 염화마그네슘6수염 결정 및 염화알루미늄6수염을 혼합한 수용액에 투입하여 75 ℃로 승온하고, 75 ℃에서 15 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 170 ℃에서 9 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 70 ℃로 하고, pH를 10.9로 조정하였다. 이 상태에 2.0 g의 라우르산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.9 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 40 ℃의 pH 12의 옅은 가성 소다의 수용액 2 ℓ로 수세하고, 그 후 40 ℃의 순수 15 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 10.4 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(연질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 55 phr
스테아르산아연 0.6 phr
상기 시료 3.0 phr
158 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 158 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 90 분, 레벨 5의 시간은 110 분이었다.
실시예 6:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
질산마그네슘6수염 결정 149.8 g, 질산아연6수염 결정 25.0 g 결정 및 질산알루미늄9수염 결정 125.0 g을 순수에 용해시켰다. 별도로, 탄산 소다 결정 35.7 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 126.4 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 질산마그네슘6수염 결정, 질산아연6수염 결정 및 질산알루미늄9수염을 혼합한 수용액에 투입하여 90 ℃로 승온하고, 90 ℃에서 10 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 175 ℃에서 8 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 62 ℃로 하고, pH를 10.0으로 조정하였다. 이 상태에 2.5 g의 스테아르산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.6 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 45 ℃의 pH 11.5의 옅은 가성 소다의 수용액 2 ℓ로 수세하고, 그 후 45 ℃의 순수 15 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 9.8 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(연질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
TOTM 60 phr
스테아르산아연 0.7 phr
상기 시료 3.3 phr
162 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 162 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 80 분, 레벨 5의 시간은 110 분이었다.
실시예 7:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
질산마그네슘6수염 결정 171.2 g 및 질산알루미늄9수염 결정 125.0 g을 순수에 용해시켰다. 별도로, 탄산 소다 결정 35.7 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 126.4 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 질산마그네슘6수염 결정 및 질산알루미늄9수염을 혼합한 수용액에 투입하여 90 ℃로 승온하고, 90 ℃에서 10 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 130 ℃에서 5 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 62 ℃로 하고, pH를 10.0으로 조정하였다. 이 상태에 2.5 g의 스테아르산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.6 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 60 ℃의 pH 11의 옅은 가성 소다의 수용액 3 ℓ로 수세하고, 그 후 60 ℃의 순수 25 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 19.2 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(연질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 55 phr
스테아르산아연 0.6 phr
상기 시료 3.0 phr
158 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 158 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 80 분, 레벨 5의 시간은 115 분이었다.
실시예 8:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
황산마그네슘7수염 결정 176.3 g 및 황산알루미늄8수염 결정 69.4 g을 순수에 용해시켰다. 별도로 탄산 소다 결정 30.6 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 152.4 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 황산마그네슘7수염 결정 및 황산알루미늄8수염을 혼합한 수용액에 투입하여 90 ℃로 승온하고, 90 ℃에서 10 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 145 ℃에서 6 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 65 ℃로 하고, pH를 11.9로 조정하였다. 이 상태에 1.9 g의 라우르산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.8 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 40 ℃의 pH 13의 옅은 가성 소다의 수용액 2 ℓ로 수세하고, 그 후 45 ℃의 순수 15 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 9.3 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(반경질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 20 phr
스테아르산아연 0.8 phr
상기 시료 3.5 phr
178 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 178 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 75 분, 레벨 5의 시간은 110 분이었다.
실시예 9:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
염화마그네슘6수염 결정 101.9 g, 염화아연1수염 결정 26.0 g 결정 및 염화알루미늄6수염 결정 80.5 g을 순수에 용해시켰다. 별도로, 탄산 소다 결정 35.7 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 136.1 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 염화마그네슘6수염 결정, 염화아연1수염 결정 및 염화알루미늄6수염을 혼합한 수용액에 투입하여 95 ℃로 승온하고, 95 ℃에서 8 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 165 ℃에서 7 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 70 ℃로 하고, pH를 11.7로 조정하였다. 이 상태에 2.5 g의 팔미트산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.7 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 55 ℃의 pH 13의 옅은 가성 소다의 수용액 2 ℓ로 수세하고, 그 후 45 ℃의 순수 16 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 10.1 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(연질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 55 phr
스테아르산아연 0.6 phr
상기 시료 3.0 phr
158 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 158 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 75 분, 레벨 5의 시간은 110 분이었다.
실시예 10:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
염화마그네슘6수염 결정 141.0 g 및 염화알루미늄6수염 결정 74.3 g을 순수에 용해시켰다. 별도로, 탄산 소다 결정 32.9 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 203.5 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 염화마그네슘6수염 결정 및 염화알루미늄6수염을 혼합한 수용액에 투입하고, 그 후, 염화칼슘2수염 결정 4.50 g을 용해시킨 수용액을 투입하고, 75 ℃로 승온하였다. 75 ℃에서 15 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 170 ℃에서 9 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 70 ℃로 하고, pH를 10.9로 조정하였다. 이 상태에 2.0 g의 라우르산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.9 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 40 ℃의 pH 12의 옅은 가성 소다의 수용액 2 ℓ로 수세하고, 그 후 40 ℃의 순수 15 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 10.0 ㎡/g이었다. Mg/Ca/Al의 몰비는 2.40/0.10/1.00이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(연질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 55 phr
스테아르산아연 0.6 phr
상기 시료 3.0 phr
158 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 158 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 90 분, 레벨 5의 시간은 110 분이었다.
실시예 11:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
염화마그네슘6수염 결정 101.9 g, 염화아연1수염 결정 23.4 g 결정 및 염화알루미늄6수염 결정 80.5 g을 순수에 용해시켰다. 별도로, 탄산 소다 결정 35.7 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 136.1 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 염화마그네슘6수염 결정, 염화아연1수염 결정 및 염화알루미늄6수염을 혼합한 수용액에 투입하여 95 ℃로 승온하고, 95 ℃에서 8 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 165 ℃에서 7 시간 동안 교반하면서 에이징하였다. 그 후, 산화아연을 1.4 g 첨가하고, 혼합하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 70 ℃로 하고, pH를 11.7로 조정하였다. 이 상태에 2.5 g의 팔미트산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.7 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 45 ℃의 pH 12.5의 옅은 가성 소다의 수용액 2 ℓ로 수세하고, 그 후 45 ℃의 순수 16 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 10.7 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(연질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 55 phr
스테아르산아연 0.6 phr
상기 시료 3.0 phr
158 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 158 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 80 분, 레벨 5의 시간은 110 분이었다.
비교예 1:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
산화마그네슘 26.9 g을 순수에 분산시킨 슬러리와 황산알루미늄8수염 결정 81.0 g의 수용액을 교반하면서 혼합하였다. 별도로, 탄산 소다 결정 35.7 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 58.3 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 산화마그네슘과 황산알루미늄8수염을 혼합한 슬러리에 투입하여 80 ℃로 승온하고, 80 ℃에서 5 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 175 ℃에서 4 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 72 ℃로 하고, pH를 8.9로 조정하였다. 이 상태에 2.3 g의 팔미트산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.7 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 40 ℃의 순수 15 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 11.3 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(연질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 55 phr
스테아르산아연 0.6 phr
상기 시료 3.0 phr
158 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 158 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 50 분, 레벨 5의 시간은 90 분이었다.
비교예 2:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
황산마그네슘7수염 결정 176.3 g 및 황산알루미늄8수염 결정 69.4 g을 순수에 용해시켰다. 별도로, 탄산 소다 결정 30.6 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 152.4 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 황산마그네슘7수염 결정 및 황산알루미늄8수염을 혼합한 수용액에 투입하여 90 ℃로 승온하고, 90 ℃에서 10 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 145 ℃에서 6 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 65 ℃로 하고, pH를 9.0으로 조정하였다. 이 상태에 1.9 g의 라우르산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.8 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 45 ℃의 순수 15 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 9.5 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(반경질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 20 phr
스테아르산아연 0.8 phr
상기 시료 3.5 phr
178 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 178 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 55 분, 레벨 5의 시간은 95 분이었다.
비교예 3:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
염화마그네슘6수염 결정 101.9 g, 염화아연1수염 결정 26.0 g 결정 및 염화알루미늄6수염 결정 80.5 g을 순수에 용해시켰다. 별도로, 탄산 소다 결정 35.7 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 136.1 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 염화마그네슘6수염 결정, 염화아연1수염 결정 및 염화알루미늄6수염을 혼합한 수용액에 투입하여 95 ℃로 승온하고, 95 ℃에서 8 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 165 ℃에서 7 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 70 ℃로 하고, pH를 9.1로 조정하였다. 이 상태에 2.5 g의 팔미트산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.7 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 45 ℃의 순수 16 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 9.5 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(연질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 55 phr
스테아르산아연 0.6 phr
상기 시료 3.0 phr
158 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 158 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 60 분, 레벨 5의 시간은 95 분이었다.
비교예 4:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
질산마그네슘6수염 결정 171.2 g 및 질산알루미늄9수염 결정 125.0 g을 순수에 용해시켰다. 별도로, 탄산 소다 결정 35.7 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 126.4 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 질산마그네슘6수염 결정 및 질산알루미늄9수염을 혼합한 수용액에 투입하여 90 ℃로 승온하고, 90 ℃에서 10 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 130 ℃에서 5 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 62 ℃로 하고, pH를 8.6으로 조정하였다. 이 상태에 2.5 g의 스테아르산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.6 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 60 ℃의 순수 25 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 18.9 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(연질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 55 phr
스테아르산아연 0.6 phr
상기 시료 3.0 phr
158 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 158 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 60 분, 레벨 5의 시간은 85 분이었다.
비교예 5:
(히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제작)
황산마그네슘7수염 결정 176.3 g 및 황산알루미늄8수염 결정 69.4 g을 순수에 용해시켰다. 별도로, 탄산 소다 결정 30.6 g을 순수로 용해시키고, 추가로 가성 소다(12 N) 122.4 ㎖와 순수를 가하였다. 이 알칼리 용액을 앞서 황산마그네슘7수염 결정 및 황산알루미늄8수염을 혼합한 수용액에 투입하여 90 ℃로 승온하고, 90 ℃에서 10 시간 동안 교반하였다. 전량을 1 ℓ로 하고, 이를 오토클레이브에 옮겨 145 ℃에서 6 시간 동안 교반하면서 에이징하였다.
계속해서, 이 반응 슬러리를 교반하면서 65 ℃로 하고, pH를 7.4로 조정하였다. 이 상태에 1.9 g의 라우르산 소다를 열탕(80 ℃)에 용해시킨 용액을 투입하였다. 이를 0.8 시간 동안 에이징하였다. 여과 후, 45 ℃의 순수 15 ℓ로 수세하고, 125 ℃에서 8 시간 동안 건조를 행하였다. 얻어진 시료의 비표면적은 9.7 ㎡/g이었다.
(염소 함유 수지 조성물의 제작 및 평가)
상기 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용하여 이하의 염소 함유 수지 조성물로 하였다(반경질 조성).
염소 함유 수지 조성물 100 phr
DOP 20 phr
스테아르산아연 0.8 phr
상기 시료 3.5 phr
178 ℃에서 5 분간 롤 혼련하고, 178 ℃에서 압축 성형 프레스 처리를 행하였다. 얻어진 시트의 레벨 3의 시간은 60 분, 레벨 5의 시간은 95 분이었다.
Figure 112010061762939-pct00001
<산업상의 이용 가능성>
본 발명에 따른 히드로탈사이트 입자 분말을 이용함으로써 염소 함유 수지 조성물 재료에 있어서, 수지 조성물의 전기 절연성, 착색 및 열 안정성을 개선시킬 수 있다. 이 때문에, 보다 많은 어플리케이션으로의 전개가 가능해진다.

Claims (7)

  1. Mg-Al계 또는 Mg-Zn-Al계 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말이며, 가용성 음이온의 합계값이 70 ppm 이하이고, 히드로탈사이트형 화합물 입자를 함유하는 슬러리의 pH를 9.5 내지 12로 조절한 후, 고급 지방산, 음이온계 계면 활성제, 고급 지방산 인산에스테르, 커플링제 및 다가 알코올에스테르류로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물에 의해 히드로탈사이트형 화합물 입자의 표면 처리를 행한 후, pH가 11 내지 13인 알칼리 수용액으로 세정하고, 이어서 수세함으로써 얻어지는 것을 특징으로 하는 Mg-Al계 또는 Mg-Zn-Al계 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말.
  2. 제1항에 기재된 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말에 있어서, 함유하는 나트륨이 700 ppm 이하인 것을 특징으로 하는 Mg-Al계 또는 Mg-Zn-Al계 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말.
  3. 제1항 또는 제2항에 기재된 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 이용한 염소 함유 수지 조성물을 안정화시키기 위한 염소 함유 수지 안정제.
  4. 제1항 또는 제2항에 기재된 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말을 염소 함유 수지 중에 함유하는 것을 특징으로 하는 염소 함유 수지 조성물.
  5. 가용성 음이온의 합계값이 70 ppm 이하인 것을 특징으로 하는 Mg-Al계 또는 Mg-Zn-Al계 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제조 방법이며, 히드로탈사이트형 화합물 입자를 생성 및 숙성시킨 후의 슬러리를 pH 9.5 내지 12로 조절한 후, 세정하고, 건조하는 것을 특징으로 하는 히드로탈사이트형 화합물 입자 분말의 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서, 세정 공정이 옅은 알칼리 수용액으로 세정한 후, 추가로 수세하는 것인 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서, 세정 공정에서 사용하는 옅은 알칼리 수용액 및/또는 물의 온도가 30 내지 90 ℃인 제조 방법.
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Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2336237A4 (en) * 2008-10-09 2014-05-21 Adeka Corp VINYL CHLORIDE RESIN COMPOSITION FOR A TRANSPARENT PRODUCT AND TRANSPARENT FORMPRODUCT PRODUCED BY SHAPING THE COMPOSITION
JP5446772B2 (ja) * 2009-11-20 2014-03-19 戸田工業株式会社 Ｍｇ−Ａｌ系複合酸化物粒子粉末、並びに該Ｍｇ−Ａｌ系複合酸化物粒子粉末を含有する樹脂組成物
WO2011108195A1 (ja) * 2010-03-03 2011-09-09 国立大学法人大阪大学 ハイドロタルサイト様化合物の製造法ならびにハイドロタルサイト様化合物もしくは複合酸化物、陰イオン吸着剤および固体塩基触媒
JP5952676B2 (ja) * 2012-04-27 2016-07-13 花王株式会社 疎水化処理した酸化亜鉛粒子の製造方法
JP6011381B2 (ja) * 2012-12-13 2016-10-19 日立金属株式会社 ポリ塩化ビニル樹脂組成物を用いたコネクタ圧接接続用絶縁電線
JP6340791B2 (ja) * 2013-12-25 2018-06-13 住友金属鉱山株式会社 非水系電解質二次電池用正極活物質の製造方法
JP6237229B2 (ja) * 2013-12-27 2017-11-29 住友金属鉱山株式会社 非水電解質二次電池用正極活物質の前駆体とその製造方法及び非水電解質二次電池用正極活物質とその製造方法
JP6206229B2 (ja) * 2014-02-05 2017-10-04 日立金属株式会社 塩化ビニル樹脂組成物およびそれを用いた絶縁電線ならびに絶縁電線の製造方法
JP6237330B2 (ja) * 2014-02-27 2017-11-29 住友金属鉱山株式会社 非水電解質二次電池用正極活物質の前駆体とその製造方法、及び非水電解質二次電池用正極活物質の製造方法
JP6237331B2 (ja) * 2014-02-27 2017-11-29 住友金属鉱山株式会社 非水電解質二次電池用正極活物質の前駆体とその製造方法、及び非水電解質二次電池用正極活物質とその製造方法
JP6323117B2 (ja) * 2014-03-28 2018-05-16 住友金属鉱山株式会社 非水電解質二次電池用正極活物質の前駆体の製造方法、及び非水電解質二次電池用正極活物質の製造方法
JP6344007B2 (ja) * 2014-03-28 2018-06-20 住友金属鉱山株式会社 非水電解質二次電池用正極活物質の前駆体の製造方法、及び非水電解質二次電池用正極活物質の製造方法
CN106280056A (zh) * 2015-05-13 2017-01-04 日立金属株式会社 氯乙烯树脂组合物和使用其的绝缘电线及绝缘电线的制造方法
JP6524228B2 (ja) * 2015-07-09 2019-06-05 住友精化株式会社 耐部分放電用電気絶縁樹脂組成物
JP6589724B2 (ja) * 2016-03-31 2019-10-16 堺化学工業株式会社 複合体の製造方法
US10947377B2 (en) 2016-07-14 2021-03-16 Sakai Chemical Industry Co., Ltd. Chlorine-containing resin composition
JP2018154526A (ja) * 2017-03-17 2018-10-04 堺化学工業株式会社 ハイドロタルサイト類組成物、および、該組成物を含む樹脂添加剤
CN108328630B (zh) * 2018-03-30 2019-12-27 岭南师范学院 一种层状双金属氢氧化物LDH-Cl3-NO3晶须的制备方法及其应用
CN110183592B (zh) * 2019-04-23 2021-06-29 莆田学院 一种纳米铜/银类水滑石导电复合材料及其制备方法
CN110182833B (zh) * 2019-06-03 2021-06-15 肇庆学院 一种交联类水滑石的制备方法、水性涂料及其制备方法
WO2023135927A1 (ja) * 2022-01-14 2023-07-20 セトラスホールディングス株式会社 亜鉛含有ハイドロタルサイト

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000247633A (ja) * 1999-02-26 2000-09-12 Toda Kogyo Corp 板状Ｍｇ−Ａｌ系ハイドロタルサイト型粒子粉末及びその製造法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS493760B1 (ko) * 1970-07-31 1974-01-28
JPS516040B2 (ko) * 1972-06-05 1976-02-24
JP2000290451A (ja) * 1999-04-06 2000-10-17 Toda Kogyo Corp Ｍｇ−Ａｌ系ハイドロタルサイト型粒子粉末、塩素含有樹脂安定剤及びＭｇ−Ａｌ系ハイドロタルサイト型粒子粉末の製造法
JP4288452B2 (ja) * 2001-04-03 2009-07-01 戸田工業株式会社 Ｍｇ−Ａｌ系ハイドロタルサイト型粒子粉末の製造法及び塩素含有樹脂安定剤並びに塩素含有樹脂組成物
WO2004056705A1 (en) * 2002-12-23 2004-07-08 Council Of Scientific And Industrial Research Process for preparing hydrotalcite and brucite type posite charged layers
AU2005297293B2 (en) * 2004-10-20 2010-08-19 Sakai Chemical Industry Co., Ltd. Hydrotalcite and synthetic resin composition
JP2007106620A (ja) * 2005-10-12 2007-04-26 Sakai Chem Ind Co Ltd 流動性ハイドロタルサイト粉体及びその製造方法
WO2007077779A1 (ja) * 2006-01-06 2007-07-12 Toagosei Co., Ltd. 硫酸イオン無機捕捉剤、無機捕捉組成物並びにそれらを用いた電子部品封止用樹脂組成物、電子部品封止材、電子部品、ワニス、接着剤、ペーストおよび製品
JP4785134B2 (ja) 2006-06-20 2011-10-05 協和化学工業株式会社 電気絶縁性が改良された受酸剤、それを含む組成物およびその成形品
JP2008056506A (ja) * 2006-08-29 2008-03-13 Toda Kogyo Corp 珪酸被覆ハイドロタルサイト類化合物粒子粉末、該粒子粉末を用いた含塩素樹脂安定剤及び含塩素樹脂組成物

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000247633A (ja) * 1999-02-26 2000-09-12 Toda Kogyo Corp 板状Ｍｇ−Ａｌ系ハイドロタルサイト型粒子粉末及びその製造法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5423824B2 (ja) 2014-02-19
CN101980963A (zh) 2011-02-23
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WO2009122681A1 (ja) 2009-10-08
JP2009263221A (ja) 2009-11-12
JP4968484B2 (ja) 2012-07-04
CN101980963B (zh) 2015-07-01
KR20100138966A (ko) 2010-12-31

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