KR101390242B1 - 아조염료, 착색 조성물, 감열전사 기록용 잉크시트,감열전사 기록방법, 컬러토너, 잉크젯용 잉크 및 컬러필터 - Google Patents

아조염료, 착색 조성물, 감열전사 기록용 잉크시트,감열전사 기록방법, 컬러토너, 잉크젯용 잉크 및 컬러필터 Download PDF

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Abstract

일반식(1)로 표현되는 아조염료:
Figure 112007048007819-pat00001
여기서 R11은 1가의 치환기를 나타내고, R12는 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, Ar1은 이하 나타낸 기와 같은 특정의 헤테로시클릭기를 나타내고, X는 환을 형성하기 위해 필요한 원자를 나타낸다;
Figure 112007048007819-pat00002
상기 헤테로시클릭기에 있어서, R61~R63은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 나타낸다.

Description

아조염료, 착색 조성물, 감열전사 기록용 잉크시트, 감열전사 기록방법, 컬러토너, 잉크젯용 잉크 및 컬러필터{AZO DYE, COLORED COMPOSITION, HEAT-SENSITIVE TRANSFER RECORDING INK SHEET, HEAT-SENSITIVE TRANSFER RECORDING METHOD, COLOR TONER, INKJET INK AND COLOR FILTER}
도 1은 실시예에 있어서 잉크젯 기록에 의해 얻어진 화상의 반사 스펙트럼을 나타낸다.
도 2는 실시예에 있어서 제조된 컬러필터의 투과 스펙트럼을 나타낸다.
본 발명은 신규한 아조염료; 및 아조 염료를 함유하는 착색 조성물, 각각 아조염료를 함유하는 감열전사 기록용 잉크시트, 감열전사 기록방법, 컬러토너, 잉크젯용 잉크, 및 컬러필터에 관한 것이다.
최근 몇 년간, 특히, 컬러 화상을 형성하는 재료가 화상 기록 재료로서 주로 사용되어왔다. 특히, 잉크젯 시스템의 기록 재료, 감열전사 시스템의 기록 재료, 전자사진 시스템의 기록재료, 전사 시스템의 할로겐화은 감광성 재료, 프린트 잉크, 기록 펜 등이 널리 사용되어 왔다. 컬러필터류는 사진 장비용 CCD와 같은 화상 감지소자, LCD 및 PDP와 같은 디스플레이에 컬러 화상을 기록하고 재생하기 위해 사용된다.
이들 컬러 화상 기록용 재료 및 컬러필터에 있어서, 3원색의 착색제(염료 또는 안료)는 소위 가색 혼합 방법 또는 감색 혼합 방법이라 불리는 것에 기초하여, 풀 컬러 화상을 기록하거나 재생(표시)하기 위해 사용된다. 바람직한 컬러 재생 범위를 획득할 수 있고, 사용을 위한 다양한 조건에 대하여 (색)견고성을 갖는 흡수성을 갖는 착색제는 아직 이용할 수 없고, 개발이 강하게 요구된다.
감열전사 기록방법으로서, 베이스 필름(지지체) 및 열감응 헤드에 의해 그 위에 형성된 열용융 잉크층을 갖는 감열전사 재료를 가열하고, 용융된 잉크를 수상 재료에 기록하는 단계를 포함하는 공정; 및 베이스 필름 및 열전사 염료를 함유하고, 열감응 헤드에 의해 베이스 필름 위에 형성된 염료 제공층을 갖는 감열전사 재료를 가열하고, 상기 염료를 수상 재료에 열 분산 전사하는 단계를 포함하는 공정이 있다. 후자의 감열전사 공정은 열감응 헤드로 공급되는 에너지의 양을 변경하여 염료의 전사량을 바꿀수 있어서 계조 기록을 쉽게 달성할 수 있다. 따라서, 이러한 공정은 고품질 풀 컬러 기록에 특히 유리하다. 그러나, 상기 공정에서 사용되는 감열전사 염료는 여러가지 관점에서 제한되기 때문에 단지 일부의 염료만이 상기 공정에서 요구되는 성능을 모두 만족시킨다.
상기 공정에서 요구되는 성능으로는, 예를 들면 컬러 재생력에 있어서 바람직한 분광 특성, 전사의 용이성, 내광성 및 내열성, 각종 화학물질에 대한 견고성, 합성의 용이성 및 감열전사 기록용 재료의 제조의 용이성 등이 있다.
컬러 재생력에 있어서 바람직한 분광 특성 및 빛과 열에 대한 견고성 모두를 갖는 염료로는 일본 특허공개 평1-225592호 및 일본 특허공개 소63-189289호에 개시된 염료가 예로서 언급될 수 있다. 이들 염료의 전사 감도는 그러한 발명들이 이들 공보에 개시되었을 때의 감열 전사 기록용으로 충분했으나, 현재의 고속 전사형 감열전사 기록용으로는 충분하지 못하다. 따라서, 전사 감도에 대한 개선이 요구된다.
전사 감도가 우수한 염료로는, 일본 특허공개 평3-108583호, 일본 특허공개 소63-182193호, 일본 특허공고 평4-47635호 및 일본 특허공고 평4-22714호에 개시된 염료가 예로서 언급될 수 있다. 그러나, 최근의 기술적 진보에 따라 전사 속도의 촉진(속도 증가)의 결과, 많은 염료들이 전사 감도에 대한 요구를 이행하는데 충분하지 못하다. 이들 중에서, 고속 전사형 감열전사 기록임에 있어서도 우수한 전사 감도를 나타내는 염료로는 일본 특허공개 평3-108583호의 공보에 개시된 염료가 예로서 언급될 수 있다. 그러나 이들 염료는 빛과 열에 대한 견고성의 관점에서 만족스럽지 못하다. 따라서, 고속 전사특성 및 견고성의 공존이 강하게 요구되고 있다.
한편, 용매에 대해 높은 용해성을 갖는 염료는 감열전사용 잉크시트를 제조할 때 염료 용해를 위한 공정 부담을 감소시킬 뿐만 아니라, 고응축된 잉크시트 용액의 제조를 가능하게 한다. 따라서, 이러한 염료는 유기 용매의 사용량을 줄이고 그 결과 환경에 대한 부담을 감소시킬 수 있기 때문에 유용하다. 따라서, 용매에 대해 높은 용해성을 갖는 감열전사 염료의 개발이 요구된다.
일반적으로, 수지 입자 내에 분산된 착색제를 함유하는 토너는 컬러 복사기 및 전자사진 시스템의 컬러 레이저 프린터에 널리 사용된다. 컬러토너에 대해 요구되는 특성으로는 바람직한 컬러 재생 범위를 획득할 수 있는 흡수 특성, OHP프로젝터에 사용할 때 특히 문제될 수 있는 높은 전달성(투명도), 및 사용시 환경 상태 하의 각종 요소들에 대한 (색)견고성이 열거된다. 입자 내에 분산된 착색제로서 안료를 함유하는 토너는 일본 특허공개 소62-157051호, 일본 특허공개 소62-255956호 및 일본 특허공개 평6-118715호에 개시되어있다. 이들 토너가 우수한 내광성을 갖지만 그들은 용매에 녹지 않기 때문에 쉽게 응집하여 투명도 감소 및 전달된 색의 색조 변성과 같은 문제를 야기한다. 한편, 착색제로서 염료를 함유하는 토너는 일본 특허공개 평3-276161호, 일본 특허공개 평2-207274호 및 일본 특허공개 평2-207273호에 개시되어있다. 이들 토너는 상당히 높은 투명도를 갖고, 색조 변화는 없지만, 내광성에 문제점이 있다.
저렴한 재료 가격, 고속 기록의 성능, 기록 작용시 노이즈 감소, 및 컬러 기록에서의 용이함 때문에, 잉크젯 기록의 광범위한 사용이 빠르게 확산되고, 잉크젯 기록이 더욱 발전하고 있다.
잉크젯 기록방법으로는 소적이 연속적으로 공급되는 연속법과, 소적이 화상 정보 신호에 반응하여 공급되는 즉시 응답법이 열거된다. 잉크 방출 시스템으로는: 1) 압전기 요소와 함께 압력을 공급하여 소적을 방출하는 것, 2) 잉크 내에서 열과 함께 공기방울을 생산하여 소적을 방출하는 것, 3) 초음파를 사용하는 것, 및 4) 정전기적 흡입에 의해 소적을 방출하는 것이 열거된다. 수성잉크, 유성잉크, 및 고 체(가융성)잉크가 잉크젯 기록용 잉크로 사용된다.
잉크젯 기록용 잉크에서 사용되는 착색제에 요구되는 특성은: 용매에서의 우수한 용해성 또는 분산성; 고밀도 기록 성능; 우수한 색조; 빛, 열, 환경 내에서의 활성 기체(예를 들면, SOX, 뿐만 아니라 오존, NOX와 같은 산화 기체류)에 대한 견고성; 물 및 화학물질에 대한 우수한 견고성; 수상 재료 상의 우수한 견고성 및 소량의 블러; 잉크로서 우수한 안정성; 독성으로부터의 안전성; 높은 순도; 및 저렴하게 사용 가능할 것 등이다. 그러나, 이러한 요구들을 높은 수준으로 만족시키는 착색제의 제공은 매우 어렵다. 특히, 착색제가 우수한 옐로우 색조, 높은 용해성, 및 빛, 습기 및 열에 대한 견고성을 가질 것이 요구되고, 특히, 빛에 대한 견고성이 강하게 요구된다.
컬러필터는 높은 투명도를 가질 필요가 있기 때문에, 컬러필터를 염료로 착색하는 소위 염색법을 수행한다. 예를 들면, 염색될 수 있는 포토레지스트는 패턴을 노광하고 현상하여 패턴을 형성하고, 그리고 나서 얻어진 패턴을 필터 색상의 염료로 염색한다. 그 후에, 이 단계를 필터의 모든 색에 대해 반복하여 컬러필터를 제조한다. 상기 염색법 외에도, 컬러필터는 또한 포지티브형 레지스트를 사용하는 방법에 의해 제조될 수 있다. 이들 방법은 염료의 사용으로 인해 높은 전달성을 갖고 따라서 광학적 특징이 우수한 컬러필터를 제공하지만, 예를 들면, 내광성 및 내열성에 대해 한계가 있다. 그러므로, 각종 요소에 대한 내성 및 우수한 투명도를 갖는 염료가 요구된다. 한편, 상기 염료 대신에 우수한 내광성 및 내열성을 갖는 유기 안료를 사용하는 방법이 널리 알려져 왔지만, 안료를 사용하는 컬러필터는 염료를 사용하는 것과 동등한 광학적 특성을 제공하기 어렵다.
상기 각종 용도에 사용되는 염료는 일반적으로 이하의 특성을 가져야 한다. 즉, 예를 들면 컬러 재생의 관점에서 바람직한 색조, 최적의 분광흡수, 내광성, 내습성 및 내화학성과 같은 우수한 견고 특성, 및 높은 용해도를 가져야 한다.
한편, 피라졸환의 3-위치에 아조 결합을 갖는 아조염료는 일본 특허공개 2005-162812호 및 일본 특허공개 2003-41160호, 일본 특허공개 2003-41161호, 일본 특허공개 2003-41162호, 일본 특허공개 2003-41163호, 일본 특허공개 2003-128953호, 일본 특허공개 2002-194258호, 및 일본 특허공개 평8-231867호 공보에 개시되어 있고, 피라졸로트리아졸 커플링 성분으로부터 형성된 특정 구조의 아조염료는 일본 특허공개 소63-110452호 및 일본 특허공개 평5-124364호, 일본 특허공개 2001-147510호, 일본 특허공개 평2-24191호 및 UK Research Disclosure(1979), 181권, 247쪽에 개시되어 있다.
본 발명은 일반식 (1)으로 표현되는 아조염료에 관한 것이다:
Figure 112007048007819-pat00003
여기서 R11은 1가의 치환기를 나타내고, R12는 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, Ar1은 하기 헤테로시클릭기의 구성요소(1)로부터 선택된 기를 나타내고, X는 환을 형성하기 위해 필요한 원자를 나타낸다.
Figure 112007048007819-pat00004
여기서, 헤테로시클릭기의 구성요소 (1)의 R61, R62, R63, R64 및 R65는 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 나타낸다.
또한 본 발명은 각각 상기 아조염료를 사용한 착색 조성물, 감열전사 기록용 잉크시트, 감열전사 기록방법, 컬러토너, 잉크젯용 잉크 및 컬러필터에 관한 것이다.
본 발명의 다른 형태 및 이점은 이하의 설명, 첨부된 도면의 적절한 활용을 통해 더욱 상세히 나타낸다.
본 발명에 의하면, 이하의 방법이 제공된다:
(1) 일반식 (1)으로 표현되는 것을 특징으로 하는 아조염료:
Figure 112007048007819-pat00005
여기서 R11은 1가의 치환기를 나타내고, R12는 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, Ar1은 하기 헤테로시클릭기의 구성요소(1)로부터 선택된 기를 나타내고, X는 환을 형성하기 위해 필요한 원자를 나타낸다.
Figure 112007048007819-pat00006
여기서, 헤테로시클릭기의 구성요소 (1)의 R61, R62, R63, R64 및 R65는 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 나타낸다.
(2) 상기 (1)에 있어서, 일반식 (1)의 Ar1은 헤테로시클릭기의 구성요소 (2)로부터 선택된 기를 나타내는 것을 특징으로 하는 아조염료:
Figure 112007048007819-pat00007
여기서, R61, R62 및 R63은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.
(3) 상기 (1)에 있어서, 일반식 (1)의 X는 -C(R14)=N- 또는 -N=C(R14)-를 나타내고, R14는 수소원자 또는 치환기를 나타내는 것을 특징으로 하는 아조염료.
(4) 상기 (1)에 있어서, 일반식 (1)으로 표현되는 상기 아조염료는 일반식 (2) 또는 (3)으로 표현되는 것을 특징으로 하는 아조염료:
Figure 112007048007819-pat00008
상기 일반식 (2)에 있어서, R21은 1가의 치환기를 나타내고, R22 및 R23은 각각 독립 적으로 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, Ar2는 상기 헤테로시클릭기의 구성요소 (1)로부터 선택된 기를 나타낸다;
Figure 112007048007819-pat00009
상기 일반식 (3)에 있어서, R31은 1가의 치환기를 나타내고, R32 및 R33은 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, Ar3은 상기 헤테로시클릭기의 구성요소 (1)로부터 선택된 기를 나타낸다.
(5) 상기 (4)에 있어서, 일반식 (2) 또는 (3)의 Ar2 및 Ar3은 각각 독립적으로 상기 헤테로시클릭기의 구성요소 (2)로부터 선택된 기를 나타내는 것을 특징으로 하는 아조염료:
Figure 112007048007819-pat00010
상기 헤테로시클릭기의 구성요소 (2)에 있어서, R61, R62 및 R63은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.
(6) 상기 (1)에 있어서, 상기 아조염료는 일반식 (4) 또는 (5)로 표현되는 것을 특징으로 하는 아조염료.
Figure 112007048007819-pat00011
상기 일반식 (4)에서, R41 및 R45는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, R42, R43 및 R44는 각각 독립적으로 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, EWG는 하멧의 치환상수 σp값이 0.2~1.0인 전자 끄는 기를 나타낸다;
Figure 112007048007819-pat00012
상기 일반식 (5)에서, R51 및 R55는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, R52, R53, 및 R54는 각각 독립적으로 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, EWG는 하멧의 치환상수 σp값이 0.2~1.0인 전자 끄는 기를 나타낸다.
(7) 상기 (6)에 있어서, 일반식 (4) 또는 (5)의 EWG는 카르바모일기 또는 시아 노기를 나타내는 것을 특징으로 하는 아조염료.
(8) 상기 (1)의 아조염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 조성물.
(9) 상기 (1)의 아조염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열전사 기록용 잉크시트.
(10) 상기 (9)에 있어서, 상기 감열전사 기록용 잉크시트는 염료제공층을 함유하고, 상기 염료제공층의 아조염료 함량이 0.03~1.0g/㎡의 범위인 것을 특징으로 하는 감열전사 기록용 잉크시트.
(11) 상기 (9)에 있어서, 상기 감열전사 기록용 시트는 시안 화상을 형성할 수 있는 열확산성 시안염료, 마젠타 화상을 형성할 수 있는 열확산성 마젠타염료, 옐로우 화상을 형성할 수 있는 열확산성 옐로우염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열전사 기록용 잉크시트.
(12) 상기 (9)의 감열전사 기록용 잉크시트를 사용하여 지지체와 지지체 상에 폴리머를 함유하는 잉크 수용층을 갖는 수상 재료상에 화상을 형성하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 감열전사 기록방법.
(13) 상기 (1)의 아조염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 컬러토너.
(14) 상기 (13)에 있어서, 평균 입자직경이 용량 평균 입자직경으로 환산하여 30~150㎛인 담체를 함유하는 것을 특징으로 하는 컬러토너.
(15) 상기 (1)의 아조염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 잉크젯용 잉크.
(16) 상기 (15)에 있어서, pH가 6~10인 것을 특징으로 하는 잉크.
(17) 상기 (1)의 아조염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 컬러필터.
(18) 상기 (17)에 있어서, RGB 3원색계 또는 Y.M.C. 보색계의 컬러필터인 것을 특징으로 하는 컬러필터.
이하, 본 발명의 아조염료, 및 아조염료를 함유하는 착색 조성물, 각각 상기 아조염료를 함유하는 감열전사 기록용 잉크시트, 컬러토너, 잉크젯용 잉크 및 컬러필터를 상세히 설명한다. 하기되는 구체적인 요건들은 본 발명의 대표적인 실시형태에 기초하여 구체화될 수 있다. 그러나 본 발명이 이러한 실시형태에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, "~"는 그 앞뒤에 기재된 수치를 최소값 및 최대값으로서 포함하는 기재이다.
우선, 본 발명의 상기 일반식 (1)~(5)로 표현되는 아조염료를 상세하게 설명한다.
상기 일반식 (1)으로 표현되는 아조염료는 R11이 1가의 치환기인 것을 특징으로 하는 염료이다. 상기 R11에 의해 특징지어지는 염료는 R11이 수소원자인 것을 특징으로 하는 유사한 염료와 비교해서 내광성 및 내오존성이 우수하다. 이러한 이점이 획득되는 이유는 R11에 1가의 치환기를 도입함으로써 내광성 및 내오존성에 있어서 열등한 특질을 가진 히드라조 형태가 형성되는 것으로부터 아조염료를 보호하기 때문인 것으로 추측되고, 이는 Shin Okawara, Ken Matsuoka, Koryo Hirashima, 및 Teijiro Kitao가 공동 집필한 "kinosei sikiso(기능성 염료)", Kodansya Scientific, 18~21쪽(1992) 및 "Shikizai(색재료)", 64권, [1], 29~33쪽(1991)에 기재되어 있다.
이런 특징을 갖는 염료로는 일본 특허공개 평2-24191호와 같은 공보에 기재된 염료가 예전부터 알려져 있다. 그러나, 용해성이 충분하지 못한 이들 염료는 감열전사용 잉크시트에 있어서 시간에 따른 침전과 같은 문제점을 야기한다. 따라서, 불충분한 용해성 때문에 이들 염료를 감열전사용 잉크시트용으로 사용하기 어렵게 되는 문제점이 발생한다.
대조적으로, 본 발명의 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 아조염료(특히 일반식 (4) 또는 (5)로 표현되는 아조염료)는 상기 1가의 치환기가 존재하는 것 외에도 특정한 디아조 성분이 존재함이 특징이다. 이들 아조염료는 높은 용해성을 제공하기 때문에 감열전사 잉크시트에 있어서 시간의 따른 침전을 방지한다. 따라서, 시간에 따른 침전의 문제가 해결된다. 또한, 이들 아조염료는 우수한 내광성을 나타낸다. 또한, 이러한 특정 구조를 갖는 아조염료는 지금까지 결코 공지되지 않았다. 이들 아조염료는 용해성, 내광성, 내오존성이 우수하기 때문에, 감열전사용 잉크시트용으로 적합하다. 또한, 잉크 용액과 같은 다른 용도로도 적합하게 사용될 수 있을 것으로 기대된다.
일반식 (1)에 있어서, R11은 1가의 치환기를 나타내고, R12는 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타낸다. 치환기에 대해 특별한 제한은 없다. 치환기의 예로는 할로겐원자, 알킬기(시클로알킬기 및 비시클로알킬기를 포함한 포화 지방족기), 알케 닐기(시클로알케닐기 및 비시클로알케닐기를 포함한, 이중결합을 갖는 불포화 지방족기를 의미함), 알키닐기, 아릴기, 헤테로시클릭기, 시아노기, 알콕시기, 아릴옥시기, 아실옥시기, 카르바모일옥시기, 알콕시카르보닐옥시기, 아릴옥시카르보닐옥시기, 아미노기(알킬아미노기, 아닐리노기, 헤테로시클릭 아미노기를 포함함), 아실아미노기, 아미노카르보닐아미노기, 알콕시카르보닐아미노기, 아릴옥시카르보닐아미노기, 술파모일아미노기, 알킬 또는 아릴 술포닐아미노기, 알킬티오기, 술파모일기, 알킬 또는 아릴 술피닐기, 알킬 또는 아릴 술포닐기, 아실기, 아릴옥시카르보닐기, 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 아릴 또는 헤테로시클릭 아조기, 또는 이미도기가 열거된다. 이들 각각은 추가로 치환기(들)를 가져도 좋다.
이하, R11 및 R12로 표현되는 1가의 치환기에 대해 상세히 설명한다.
R11 및 R12로 표현되는 할로겐원자에는 불소원자, 염소원자, 브롬원자 및 요오드 원자가 포함된다. 이들 중에서, 염소원자 및 브롬원자가 바람직하고, 염소원자가 특히 바람직하다.
R11 및 R12로 표현되는 알킬기는 시클로알킬기 및 비시클로알킬기를 포함한다. 상기 알킬기에는 치환 또는 비치환된, 직쇄상 또는 분기상의 알킬기가 포함된다. 상기 치환 또는 비치환된, 직쇄상 또는 분기상의 알킬기는 1~30개의 탄소원자를 갖는 알킬기가 바람직하다. 상기 알킬기의 예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, t-부틸기, n-옥틸기, 에이코실기, 2-클로로에틸기, 2-시아노에틸기, 또는 2-에틸헥실기가 열거된다. 상기 시클로알킬기에는 치환 또는 비치환된 시클로 알킬기가 포함된다. 상기 치환 또는 비치환된 시클로킬기는 3~30개의 탄소원자를 갖는 시클로알킬기인 것이 바람직하다. 상기 시클로알킬기의 예로는 시클로헥실기, 시클로페닐기 및 4-n-도데실시클로헥실기가 열거된다. 상기 비시클로알킬기에는 5~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 비시클로알킬기, 즉 5~30개의 탄소원자를 갖는 비시클로알칸으로부터 하나의 수소원자를 제거하여 얻어진 1가의 기가 포함된다. 비시클로알킬기의 예로는 비시클로[1,2,2]헵탄-2-일기 또는 비시클로[2,2,2]옥탄-3-일기, 및 3개 이상의 고리 구조를 갖는 트리시클로 이상의 구조가 열거된다. 하기의 치환기에 있어서 알킬기(예를 들면, 알킬티오기에서의 알킬기)는 상기 형태의 알킬기를 나타낸다.
R11 및 R12로 표현되는 알케닐기는 시클로알케닐기 및 비시클로알케닐기를 포함한다. 알케닐기는 치환 또는 비치환된, 직쇄형, 분기형, 또는 환형의 알케닐기를 나타낸다. 알케닐기는 2~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알케닐기인 것이 바람직하다. 상기 알케닐기의 예로는 비닐기, 알릴기, 프레닐기, 제라닐기, 또는 올레일기가 열거된다.상기 시클로알케닐기는 3~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 시클로알케닐기, 즉 3~30개의 탄소원자를 갖는 시클로알켄으로부터 하나의 수소원자를 제거하여 얻어진 1가의 기가 바람직하다. 상기 시클로알케닐기의 예로는 2-시클로펜텐-1-일기 또는 2-시클로헥센-1-일기가 열거된다. 상기 비시클로알케닐기는 치환 또는 비치환된 비시클로알케닐기를 포함하고, 5~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 비시클로알케닐기, 즉 하나의 이중결합을 갖는 비 시클로알켄으로부터 하나의 수소원자를 제거하여 얻어진 1가의 기가 바람직하다. 비시클로알케닐기의 예로는 비시클로[2,2,1]헵트-2-엔-1-일기 또는 비시클로[2,2,2]옥트-2-엔-4-일기가 열거된다.
R11 및 R12로 표현되는 알키닐기로는 2~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알키닐기가 바람직하고, 에티닐기, 또는 프로파르길기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 아릴기로는 6~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 아릴기가 바람직하고, 페닐기, p-톨릴기, 나프틸기, m-클로로페닐기, 또는 o-헥사데카노일아미노페닐기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 헤테로시클릭기는 치환 또는 비치환된 방항족 또는 비방향족 헤테로시클릭 화합물로부터 하나의 수소원자를 제거하여 얻어지고, 또 다른 환과 응축되어도 좋은 1가의 기이다. 상기 헤테로시클릭기는 5 또는 6원의 헤테로시클릭기인 것이 바람직하고, 3~30개의 탄소원자를 갖는 5 또는 6원의 방향족 헤테로시클릭기인 것이 더욱 바람직하다. 헤테로 원자는 산소원자, 황원자 또는 질소원자인 것이 바람직하다. 헤테로시클릭기의 예로는 피리딘, 피라진, 피리다진, 피리미딘, 트리아진, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 시놀린, 프탈라진, 퀴녹살린, 피롤, 인돌, 푸란, 벤조푸란, 티오펜, 벤조티오펜, 피라졸, 이미다졸, 벤즈이미다졸, 트리아졸, 옥사졸, 벤즈옥사졸, 티아졸, 벤조티아졸, 이소티아졸, 벤즈이소티아졸, 티아디아졸, 이속사졸, 벤즈이속사졸, 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진, 이미다졸리딘 및 티아졸린이 열거된다.
R11 및 R12로 표현되는 알콕시기는 치환 또는 비치환된 알콕시기를 포함한다. 상기 알콕시기는 1~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알콕시기인 것이 바람직하고, 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기, n-옥틸옥시기, 메톡시에톡시기, 히드록시에톡시기, 또는 3-카르복시프로폭시기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 아릴옥시기로는 6~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 아릴옥시기가 바람직하고, 예를 들면 페녹시기, 2-메틸페녹시기, 4-t-부틸페녹시기, 3-니트로페녹시기, 또는 2-테트라데카노일아미노페녹시기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 아실옥시기로는 포르밀옥시기, 2~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬카르보닐옥시기, 6~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 아릴카르보닐옥시기가 바람직하고, 포르밀옥시기, 아세틸옥시기, 피발로일옥시기, 스테아로일옥시기, 벤조일옥시기, 또는 p-메톡시페닐카르보닐옥시기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 카르바모일옥시기로는 1~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 카르바모일옥시기가 바람직하고, 예를 들면 N,N-디메틸카르바모일옥시기, N,N-디에틸카르바모일옥시기, 모르폴리노카르보닐옥시기, N,N-디-n-옥틸아미노카르보닐옥시기, 또는 N-n-옥틸카르바모일옥시기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 알콕시카르보닐옥시기로는 2~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알콕시카르보닐옥시기가 바람직하고, 예를 들면 메톡시카르보 닐옥시기, 에톡시카르보닐옥시기, t-부톡시카르보닐옥시기, 또는 n-옥틸카르보닐옥시기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 아릴옥시카르보닐옥시기로는 7~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 아릴옥시카르보닐옥시기가 바람직하고, 예를 들면 페녹시카르보닐옥시기, p-메톡시페녹시카르보닐옥시기, 또는 p-n-헥사데실옥시페녹시카르보닐옥시기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 아미노기는 알킬아미노기, 아릴아미노기, 또는 헤테로시클릭아미노기를 포함한다. 아미노기로는 1~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬아미노기, 또는 6~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 아릴아미노기가 바람직하고, 아미노기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 아닐리노기, N-메틸-아닐리노기, 디페닐아미노기, 히드록시에틸아미노기, 카르복시에틸아미노기, 술포에틸아미노기, 3,5-디카르복시아닐리노기, 또는 4-퀴놀릴아미노기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 아실아미노기로는 포르밀아미노기, 1~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬카르보닐아미노기, 또는 6~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 아릴카르보닐아미노기가 바람직하고, 포르밀아미노기, 아세틸아미노기, 피발로일아미노기, 라우로일아미노기, 벤조일아미노기, 또는 3,4,5-트리-n-옥틸옥시페닐카르보닐아미노기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 아미노카르보닐아미노기로는 1~30개의 탄소원자를 갖 는 치환 또는 비치환된 아미노카르보닐아미노가 바람직하고, 카르바모일아미노기, N,N-디메틸아미노카르보닐아미노기, N,N-디에틸아미노카르보닐아미노기, 또는 모르폴리노카르보닐아미노기가 예시된다. 아미노카르보닐아미노기에 있어서, 아미노라는 용어는 상기 아미노기와 같은 의미이다.
R11 및 R12로 표현되는 알콕시카르보닐아미노기로는 2~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알콕시카르보닐아미노기가 바람직하고, 메톡시카르보닐아미노기, 에톡시카르보닐아미노기, t-부톡시카르보닐아미노기, n-옥타데실옥시카르보닐아미노기, 또는 N-메틸-메톡시카르보닐아미노기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 아릴옥시카르보닐아미노기로는 7~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 아릴옥시카르보닐아미노기가 바람직하고, 페녹시카르보닐아미노기, p-클로로페녹시카르보닐아미노기, 또는 m-n-옥틸옥시페녹시카르보닐아미노기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 술파모일아미노기로는 0~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 술파모일아미노기가 바람직하고, 술파모일아미노기, N,N-디메틸아미노술포닐아미노기, 또는 N-n-옥틸아미노술포닐아미노기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 알킬- 또는 아릴-술포닐아미노기로는 1~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬술포닐아미노기 또는 6~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 아릴술포닐아미노기가 바람직하고, 메틸술포닐아미노기, 부틸 술포닐아미노기, 페닐술포닐아미노기, 2,3,5-트리클로로페닐술포닐아미노기, 또는 p-메틸페닐술포닐아미노기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 알킬티오기로는 1~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬티오기가 바람직하고, 메틸티오기, 에틸티오기 또는 n-헥사데실티오기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 술파모일기로는 0~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 술파모일기가 바람직하고, N-에틸술파모일기, N-(3-도데실옥시프로필)술파모일기, N,N-디메틸술파모일기, N-아세틸술파모일기, N-벤조일술파모일기, 또는 N-(N'-페닐카르바모일)술파모일기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 알킬- 또는 아릴-술피닐기로는 1~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬술피닐기, 또는 6~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 아릴술피닐기가 바람직하고, 메틸술피닐기, 에틸술피닐기, 페닐술피닐기, 또는 p-메틸페닐술피닐기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 알킬- 또는 아릴-술포닐기로는 1~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬술포닐기, 또는 6~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 아릴술포닐기가 바람직하고, 메틸술포닐기, 에틸술포닐기, 페닐술포닐기, 또는 p-톨루엔술포닐기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 아실기로는 포르밀기, 2~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬카르보닐기, 7~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 아릴카르보닐기, 또는 4~30개의 탄소원자를 갖고 탄소원자를 통해 상기 카르보닐기에 결합되는 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭카르보닐기가 바람직하고, 아세틸기, 피발로일기, 2-클로로아세틸기, 스테아로일기, 벤조일기, p-n-옥틸옥시페닐카르보닐기, 2-피리딜카르보닐기, 또는 2-푸릴카르보닐기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 알콕시카르보닐기로는 2~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알콕시카르보닐기가 바람직하고, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, t-부톡시카르보닐기, 또는 n-옥타데실옥시카르보닐기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 아릴옥시카르보닐기로는 7~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 아릴옥시카르보닐기가 바람직하고, 페녹시카르보닐기, o-클로로페녹시카르보닐기, m-니트로페녹시카르보닐기, 또는 p-t-부틸페녹시카르보닐기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 카르바모일기로는 1~30개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 카르바모일기가 바람직하고, 카르바모일기, N-메틸카르바모일기, N,N-디메틸카르바모일기, N,N-디-n-옥틸카르바모일기, 또는 N-(메틸술포닐)카르바모일기가 예시된다.
R11 및 R12로 표현되는 아릴- 또는 헤테로시클릭-아조기로는, 예를 들면 페닐아조기, 4-메톡시페닐아조기, 4-피발로일아미노페닐아조기, 2-히드록시-4-프로파노 일페닐아조기가 포함된다.
R11 및 R12로 표현되는 이미도기로는, 예를 들면 N-숙신이미도기 또는 N-프탈이미도기가 포함된다.
일반식 (1)에서, X는 환을 형성하기 위해 필요한 원자를 나타낸다. 환을 형성하기 위해 필요한 원자에 대해 특별한 제한은 없다. 상기 원자의 전형적인 예로는 -C(R13)=N-, -N=C(R13)-, -C(=O)-C(R13)=C(R14)-, 또는 -C(=O)-N(R13)-C=(O)-로 표현되는 것들이 열거된다. R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 나타낸다. 치환기의 예는 R11 및 R12에서 기재된 것과 동일하다.
일반식 (1)에서, Ar1은 상기 헤테로시클릭기의 구성요소 (1)로부터 선택된 기를 나타낸다. 헤테로시클릭기의 구성요소 (1)로부터 선택된 각각의 기에서, R61, R62, R63, R64 및 R65는 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 나타낸다. 치환기의 예는 R11 및 R12에서 기재된 것과 동일하다.
R11은 1~4개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기(6~10개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함), 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭기 또는 치환 또는 비치환된 아실기인 것이 바람직하고, 1~4개의 탄소원자를 갖는 비치환된 알킬기인 것이 더욱 바람직하다.
R12은 수소원자, 치환 또는 비치환된 알킬기(1~4개의 탄소원자를 갖는 것이바람직함), 또는 치환 또는 비치환된 아릴기(6~10개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함), 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭기, 치환 또는 비치환된 아미노기, 치환 또는 비치환된 알콕시기 또는 히드록시기인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 치환 또는 비치환된 알킬기(1~4개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함) 또는 치환 또는 비치환된 아릴기(6~10개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이며, 더더욱 바람직하게는 치환 또는 비치환된 알킬기(1~4개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이고, 특히 바람직하게는 분기상 알킬기(1~4개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이다.
X는 -C(R14)=N- 또는 -N=C(R14)-인 것이 바람직하다.
Ar1은 상기 헤테로시클릭기의 구성요소 (2)로부터 선택된 기를 나타낸다. 헤테로시클릭기의 구성요소 (2)로부터 선택된 각각의 기에서, 각각의 R61, R62 및 R63은 헤테로시클릭기의 구성요소 (1)로부터 선택된 각각의 기에서의 R61, R62, 및 R63 각각과 동일한 의미를 갖는다. 바람직한 치환기의 예도 또한 상기된 것과 동일하다.
헤테로시클릭기의 구성요소 (1) 또는 (2)로부터 선택된 각각의 기에서, R61은 수소원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭기인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 치환 또는 비치환된 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 아릴기이다. R62, R63, R64 및 R65는 각각 독립적으로 수소원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭기, 치환 또는 비치환된 아실기, 시아노기, 카르바모일기 또는 알콕시카르보닐기인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 수소원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭기 또는 시아노기이다.
이하, 일반식 (1)으로 표현되는 염료가 가질 수 있는 다양한 치환기들(원자들)의 바람직한 조합에 관해 설명한다: 바람직한 화합물은 그 치환기들 중 적어도 하나가 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 더욱 바람직한 화합물은 많은 여러가지 치환기가 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 가장 바람직한 화합물은 화합물의 모든 치환기가 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 바람직한 조합의 구체예로는 R11이 1~6개의 탄소원자를 갖는 비치환된 알킬기이고, R12이 1~6개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 아릴기이고, X가 -C(R14)=N- 또는 -N=C(R14)-이고, Ar1이 상기 헤테로시클릭기의 구성요소 (1)로부터 선택된 기인 조합이 열거된다.
일반식 (1)으로 표현되는 염료는 일반식 (2) 또는 (3)으로 표현되는 아조염료인 것이 바람직하다. 이하, 일반식 (2) 또는 (3)으로 표현되는 아조염료에 대해 상세히 설명한다.
R21 및 R31은 각각 R11과 동일한 의미를 갖고, 바람직한 범위 역시 동일하다.
R22 및 R32은 각각 R12과 동일한 의미를 갖고, 바람직한 범위 역시 동일하다.
Ar2 및 Ar3은 각각 Ar1과 동일한 의미를 갖고, 바람직한 범위 역시 동일하다.
R23 및 R33은 각각 독립적으로 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타낸다. 상기 치환기의 예는 R11 및 R12에서 기재된 것과 동일하다. R23 및 R33은 각각 독립적으로 수소원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭기, 아실기인 것이 바람직하다. R23 및 R33은 수소원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭기인 것이 더욱 바람직하다.
하기의 것은 일반식 (2)으로 표현되는 염료가 가져도 좋은 각종 치환기들(원자들)의 바람직한 조합에 관한 설명이다: 바람직한 화합물은 적어도 1개의 치환기가 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 더욱 바람직한 화합물은 많은 여러가지 치환기가 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 가장 바람직한 화합물은 모든 치환기가 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 상기 바람직한 치환기는 0~12개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직하고, 1~10개의 탄소원자를 갖는 것이 더욱 바람직하다. 바람직한 조합의 구체예로는, R21이 1~6개의 탄소원자를 갖는 비치환된 알킬기이고, R22이 1~6개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬기이거나 치환 또는 비치환된 아릴기(6~10개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이고, R23이 치환 또는 비치환된 알킬기(1~6개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이거나 치환 또는 비치환된 아릴기(6~10개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이고, Ar2이 상기 헤테로시클릭기의 구성요소 (2)로부터 선택된 기인 조합이 열거된다.
하기의 것은 일반식 (3)으로 표현되는 염료가 가져도 좋은 각종 치환기들(원자들)의 바람직한 조합에 관한 설명이다: 바람직한 화합물은 적어도 1개의 치환기가 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 더욱 바람직한 화합물은 많은 여러가지 치환기들이 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 가장 바람직한 화합물은 모든 치환기가 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 바람직한 조합의 구체예로는, R31이 1~6개의 탄소원자를 갖는 비치환된 알킬기이고, R32이 1~6개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬기이거나, 치환 또는 비치환된 아릴기이고, R33이 치환 또는 비치환된 알킬기이거나 치환 또는 비치환된 아릴기이고, Ar3이 상기 헤테로시클릭기의 구성요소 (2)로부터 선택된 기인 조합이 열거된다.
일반식 (2)으로 표현되는 상기 염료는 일반식 (4)으로 표현되는 아조염료인 것이 바람직하다. 일반식 (3)으로 표현되는 상기 염료는 일반식 (5)으로 표현되는 아조염료인 것이 바람직하다. 이하, 일반식 (4) 또는 (5)으로 표현되는 염료에 대해 상세히 설명한다.
이하, 하멧의 치환상수 σp값을 설명한다.
하멧의 법칙은 1935년에 L.P.하멧에 의해 제안되었고, 벤젠 유도체의 반응 또는 평형에서 치환기의 효과를 정량적으로 기술하는 실험법칙이다. 현재에는, 이 법칙의 적용이 널리 알려져 있다. 하멧의 법칙에 의해 얻어지는 치환상수로는 σp 및 σm이 있다. 이들 값은 많은 일반서에 기술되어 있다. 예를 들면, 이들 값의 상세한 설명이 "Lange's Handbook of Chemistry" J.A.Dean편, 12판, 1979(McGraw-Hill), 및 "Extra issue of Kagakuno Ryoiki", 122호, pp.96~103, 1979(Nankodo Publishing Co., Ltd.)에 기재되어 있다. 본 발명에 있어서, 치환기에 대해 하멧의 치환상수σp를 사용하여 설명하고 정의한다. 그러나, 치환기는 상기 문헌에서 공지되고 기재된 하멧의 상수를 갖는 치환기로 한정될 필요는 없다는 것을 주의해야 한다. 따라서, 물론, 하멧의 치환상수가 문헌에 기록되어 있지 않더라도, 하멧의 치환상수가 하멧의 법칙에 기초하여 측정한 범위 내인 치환기는 본 발명의 범위에 포함된다. 또한, 비록 본 발명에서 사용된 일반식에서 벤젠 유도체 외의 소정의 다른 화합물이 포함되는 것을 주의해야 하지만, 대상의 치환기의 전자 효과를 나타내기 위한 척도로서 σp값이 치환 위치에 상관없이 사용된다. 본 발명에 있어서, σp값은 상기 의미로 사용된다.
일반식 (4) 또는 (5)에서, EWG는 하멧의 치환상수 σp값이 0.2~1.0인 전자끄는 기를 나타낸다. EWG가 σp값이 0.30 이상인 전자끄는 기 인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.45 이상인 것이며, 특히 바람직하게는 0.60 이상인 것이다. σp값의 상한은 1.0 이하인 것이 바람직하다. σp값이 0.60 이상인 전자 끄는 기의 예로는 니트로기, 시아노기, 메탄술포닐기, 트리플루오로메탄술포닐기, 트리플루오로 아세틸기, 디메틸아미노술포닐기, 및 술파모일기가 열거된다. σp값이 0.45 이상인 전자끄는 기의 예로는 알콕시카르보닐기, 아실기, 및 카르복시기가 열거된다. σp값이 0.30 이상인 전자끄는 기의 예로는 술포기 및 카르바모일기가 열거된다. 더욱 바람직하게는 시아노기, 카르복시기, 알콕시카르보닐기, 및 카르바모일기이다. 더더욱 바람직하게는 시아노기, 알콕시카르보닐기, 및 카르바모일기이다. 가장 바람직하게는 시아노기 및 카르바모일기이다.
R41 및 R51은 각각 R21 및 R31과 동일한 의미를 갖고, 바람직한 범위 또한 동일하다.
R42 및 R52은 각각 R22 및 R32과 동일한 의미를 갖고, 바람직한 범위 또한 동일하다.
R43 및 R53은 각각 R23 및 R33과 동일한 의미를 갖고, 바람직한 범위 또한 동일하다.
R44 및 R54은 각각 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타낸다. 치환기의 예는 R11 및 R12에서 기재된 것과 동일하다. R44 및 R54은 각각 독립적으로 수소원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭기, 치환 또는 비치환된 아미노기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 히드록시기인 것이 바람직하고, 치환 또는 비치환된 알킬기이거나, 치환 또는 비치환된 아릴기인 것이 더욱 바람직하고, 치환 또는 비치환된 알킬기인 것이 더더욱 바람직하며, 분기상의 알킬기인 것이 가장 바람직하다.
R45 및 R55은 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타낸다. 치환기의 예는 R11 및 R12에서 기재된 것과 동일하다. R45 및 R55는 각각 독립적으로 1~4개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭기, 치환 또는 비치환된 아실기인 것이 바람직하고, 1~4개의 탄소원자를 갖는 비치환된 알킬기인 것이 더욱 바람직하다.
하기의 것은 일반식 (4)으로 표현되는 염료의 각종 치환기들(원자들)의 바람직한 조합에 관한 설명이다: 바람직한 화합물은 적어도 하나의 치환기가 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 더욱 바람직한 화합물은 많은 여러가지 치환기들이 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 가장 바람직한 화합물은 모든 치환기가 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 바람직한 조합의 구체예로는, EWG가 카르바모일기 또는 시아노기이고, R41이 1~6개의 탄소원자를 갖는 비치환된 알킬기이고, R42이 1~6개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬기이거나 치환 또는 비치환된 아릴기(6~10개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이고, R43이 치환 또는 비치환된 알킬기(1~6개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이거나 치환 또는 비치환된 아릴기(6~10개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이고, R44이 1~6개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬기이거나 치환 또는 비치환된 아릴기(6~10개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이고, R45이 1~6개의 탄소원자를 갖는 비치환된 알킬기인 조합이 열거된다. 더욱 바람직한 조합의 구체예로는, EWG가 시아노기이고, R41이 1~6개의 탄소원자를 갖는 비치환된 알킬기이고, R42이 1~6개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬기이거나 치환 또는 비치환된 아릴기(6~10개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이고, R43이 치환 또는 비치환된 알킬기(1~6개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이거나, 치환 또는 비치환된 아릴기(6~10개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이고, R44이 1~6개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬기이거나 치환 또는 비치환된 아릴기(6~10개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직함)이고, R45이 1~6개의 탄소원자를 갖는 비치환된 알킬기인 조합이 열거된다.
하기의 것은 일반식 (5)으로 표현되는 염료의 각종 치환기들(원자들)의 바람직한 조합에 관한 설명이다: 바람직한 화합물은 적어도 하나의 치환기가 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 더욱 바람직한 화합물은 많은 여러가지 치환기들이 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 가장 바람직한 화합물은 모든 치환기가 상기 바람직한 치환기인 화합물이다. 바람직한 조합의 구체예로는 EWG가 카르바모일기이거나 시아노기이고, R51이 1~6개의 탄소원자를 갖는 비치환된 알킬기이고, R52이 1~6개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬기이거나 치환 또는 비치환된 아릴기이고, R53이 치환 또는 비치환된 알킬기이거나 치환 또는 비치환된 아릴기이고, R54 이 1~6개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬기이거나 치환 또는 비치환된 아릴기이고, R55이 1~6개의 탄소원자를 갖는 비치환된 알킬기인 조합이 열거된다. 더욱 바람직한 조합의 구체적인 예로는 EWG가 시아노기이고, R51이 1~6개의 탄소원자를 갖는 비치환된 알킬기이고, R52이 1~6개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬기이거나 치환 또는 비치환된 아릴기이고, R53이 치환 또는 비치환된 알킬기이거나 치환 또는 비치환된 아릴기이고, R54이 1~6개의 탄소원자를 갖는 치환 또는 비치환된 알킬기이거나 치환 또는 비치환된 아릴기이고, R55이 1~6개의 탄소원자를 갖는 비치환된 알킬기인 조합이 열거된다.
일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 염료의 분자량은 열확산의 관점에서 500 이하인 것이 바람직하고, 450 이하인 것이 더욱 바람직하다.
이하, 본 발명의 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 아조염료의 구체예를 나타내지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 하기 구체예에 있어서, "Ph"는 페닐기(-C6H5)를나타내고, "Et"는 에틸기(-C2H5)를 나타낸다.
Figure 112007048007819-pat00013
Figure 112007048007819-pat00014
이들 화합물은 Ar1로 표현되는 헤테로시클릭아미노기로부터 얻어진 디아조늄염과 응축된 헤테로시클릭 화합물의 디아조 커플링에 의해 용이하게 합성된다.
본 발명의 아조염료의 최대 흡수 파장은 400~480nm인 것이 바람직하고, 420~460nm인 것이 더욱 바람직하다.
[착색 조성물]
본 발명의 착색 조성물은 감열전사 기록용 잉크시트, 컬러토너, 및 잉크젯용 잉크와 같은 화상 형성 재료에 바람직하게 사용될 수 있다.
여기서, "착색 조성물"이란 본 발명의 아조염료를 사용함으로써 착색되는 조성물을 의미하고, 상기 조성물은 또 다른 염료를 함유해도 좋다.
상기 착색 조성물에는 본 발명의 아조염료를 함유하는 한 어떠한 성분이라도 포함되어도 좋다. 상기 착색 조성물은 용매에 용해 또는 분산되거나, 또는 폴리머 등에 혼합 또는 분산되거나, 또는 다른 물질과 분말로서 혼합된 형태인 것이 바람직하다.
상기 외의 착색 조성물의 성분의 예로는 폴리머, 라텍스 폴리머, 유기 또는 무기 용매(예를 들면, 메탄올, 물), 염료 안정제, 및 자외선 흡수제가 열거된다.
상기 성분의 구체적인 예로는 후술할 각 용도의 설명에서 설명된 물질이 열거된다.
본 발명에 있어서, 화상 형성 재료의 제조를 위해 착색 조성물이 사용되는 것이 바람직하다.
[감열전사 기록용 잉크시트]
본 발명의 감열전사 기록용 잉크시트는 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 아조염료를 잉크시트 내에 함유하는 것을 특징으로 한다. 감열전사 기록용 잉 크시트는 일반적으로 지지체와 지지체 상에 형성된 염료 제공층으로 구성된 구조를 갖는다. 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 아조염료는 염료 제공층에 함유된다. 본 발명의 감열전사 기록용 잉크시트는 바인더와 함께 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 아조염료를 용매에 용해시켜서, 또는 미세 분쇄된 아조염료를 분산시켜서 잉크 용액을 제조하고, 상기 잉크용액을 지지체 상에 도포하여 잉크 제공층을 형성하고, 필요에 따라 건조하는 단계에 의해 제조될 수 있다.
본 발명의 감열전사 기록용 잉크시트에 사용되는 지지체로는, 예전부터 잉크시트용 지지체로 사용되어온 종래의 지지체 중에서 임의적으로 선택하여 사용할 수 있다. 예를 들면, 일본 특허공개 평7-137466호의 식별번호 50에 기재된 것과 같은 재료를 바람직하게 시용할 수 있다. 이들 중에서, 변형 셀룰로오스계 수지류 및 비닐형 수지류가 바람직하고; 프로피온산 변형 셀룰로오스, 폴리비닐부티랄, 및 폴리비닐아세탈이 더욱 바람직하다. 지지체의 두께는 2~30㎛의 범위가 바람직하다.
감열전사 기록용 시트의 염료 제공층에 사용할 수 있는 바인더 수지로는 바인더가 염료가 수상층으로 이동하는 것을 방해하지 않는, 내고온성을 갖는 바인더라면 그 종류에 있어서 특별한 제한은 없다. 바람직한 바인더의 예로는 일본 특허공개 평7-137466호의 식별번호 50에 기재된 것과 같은 재료가 열거된다. 유사하게, 염료 제공층 형성을 위한 용매로는, 이미 알려진 용매로부터 임의적으로 선택하여 사용할 수 있다. 구체적으로, 일본 특허공개 평7-137466호의 실시예에서 사용된 용매 등이 바람직하게 사용될 수 있다.
염료 제공층에서 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 아조염료의 함량 은 0.03~1.0g/㎡의 범위인 것이 바람직하고, 0.1~0.6g/㎡인 것이 더욱 바람직하다. 염료 제공층의 두께는 0.2~5㎛의 범위인 것이 바람직하고, 0.4~2㎛인 것이 더욱 바람직하다.
본 발명의 감열전사 기록용 잉크시트는 다른 층이 본 발명의 효과를 지나치게 억제하지 않는 한, 염료 제공층 이외의 층을 가져도 좋다. 예를 들면, 염료가 지지체로 전진 확산하는 것을 방지하도록 지지체와 염료 제공층 사이에 내부층, 또는 지지체의 염료 제공층의 반대쪽인 지지체의 표면(이하, 이러한 표면을 때때로 배면이라고 칭함)상에 배면층이 있어도 좋다. 내부층의 예로는 보조층과 확산 방지층(친수성 배리어층)이 열거된다. 배면층의 예로는 열감응헤드가 잉크시트에 접착하는 것을 방지할 수 있도록 하는 내열 슬립층이 열거된다.
상기 감열 기록용 재료를 풀 컬러 화상 기록이 가능한 감열 기록용 재료로 사용하기 위해서, 시안 화상을 형성할 수 있는 열확산성 시안염료를 함유하는 시안 잉크시트, 마젠타 화상을 형성할 수 있는 열확산성 마젠타염료를 함유하는 마젠타 잉크시트, 및 옐로우 화상을 형성할 수 있는 열확산성 옐로우염료를 함유하는 옐로우 잉크시트를, 순차적으로 적용함으로써 지지체(베이스)상에 형성되는 것이 바람직하다. 상기 잉크시트에 부가하여, 흑색 화상 형성 물질을 함유하는 잉크시트가 필요에 따라 더 형성되어도 좋다.
시안 화상을 형성할 수 있는 열확산성 시안염료를 함유하는 시안 잉크시트로는 예를 들면, 일본 특허공개 평3-103477호 및 일본 특허공개 평3-150194호에 기재된 잉크시트 등을 바람직하게 사용할 수 있다.
마젠타 화상을 형성할 수 있는 열확산성 마젠타염료를 함유하는 마젠타 잉크시트로는 예를 들면, 일본 특허공개 평5-286268호에 기재된 잉크시트를 바람직하게 사용할 수 있다.
[감열전사 기록]
감열전사 기록이 본 발명의 감열전사 기록용 잉크시트를 이용하여 수행될 때, 열감응헤드와 같은 가열 기구가 수상시트와 함께 사용된다. 구체적으로, 화상 기록은 화상 기록 신호에 따라 열감응 헤드로부터 전달된 열에너지가 잉크시트에 부여되고, 그리고 나서 열에너지가 부여된 비율로 염료가 수상시트에 전달되어 거기에 고정되는 공정에 의해 달성된다. 수상시트의 조성 및 사용가능한 재료로는 일본 특허공개 평7-137466호의 식별번호 56~74에 기재된 것 등이 바람직하게 사용될 수 있다.
[컬러토너]
본 발명의 컬러토너는 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 상기 아조염료를 함유하는 컬러토너를 의미한다. 일반적으로 사용되는 어떠한 종류의 바인더라도 본 발명의 염료의 주입용 컬러토너 바인더 수지로 사용되어도 좋다. 바인더 수지의 예로는 스티렌계 수지류, 아크릴계 수지류, 스티렌/아크릴 수지류 및 폴리에스테르 수지류가 열거된다. 무기 미립자 및 유기 미립자가 유동성 향상과 전하 특성 제어를 위해 외적으로 토너에 첨가되어도 좋다. 예를 들면, 알킬기를 함유하는 커플링제로 표면처리된 실리카 미립자와 이산화티타늄 미립자가 바람직하게 사용된다. 바람직하게, 이들 미립자는 10~500nm의 수평균 1차 입자직경을 갖고, 0.1~20질 량%의 양으로 토너에 함유된다.
관습적으로 사용되는 어떠한 이형제라도 본 발명에서 사용될 수 있다. 이형제의 구체적인 예로는 저분자량 폴리프로필렌류, 저분자량 폴리에틸렌류, 및 에틸렌/프로필렌 공중합체와 같은 올레핀류; 미정질 왁스, 카르나우바 왁스, 사졸왁스 및 파라핀 왁스가 열거된다. 상기 이형제는 1~5질량%의 양으로 토너에 첨가되는 것이 바람직하다.
상기 전하제어제는 필요에 따라 첨가되어도 좋다. 색 형성성의 관점에서, 무색의 전하제어제가 바람직하다. 전하제어제의 예로는 4차 암모늄염 구조 또는 칼릭스 알렌 구조를 갖는 것들이 열거된다.
사용되는 담체로는 철 또는 페라이트와 같은 자성 재료 입자로만 구성된 피복되지 않은 담체 또는 자성 재료 입자의 표면을 수지 등으로 피복하여 얻어진 수지 피복 담체가 되어도 좋다. 이 담체의 평균 입자 직경은 용량 평균 입자 직경으로 30~150㎛인 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 토너를 사용한 화상 형성 방법은 특별히 제한되지 않는다. 상기 방법의 예로는 컬러 화상을 반복하여 감광성 재료상에 형성하고 난 후 전사하여 화상을 형성하는 방법; 및 감광성 재료상에 형성된 화상을 거의 즉시 중간체 전사 재료 등에 전사하고 난 후 중간체 전사 재료상에 형성된 화상을 종이와 같은 화상 형성부재에 전사하여 컬러 화상을 형성하는 방법이 열거된다.
[잉크젯용 잉크]
본 발명의 잉크젯용 잉크는 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 아조염 료를 함유하는 잉크를 의미한다. 본 발명의 잉크는 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 아조염료를 매개체로서 친유성 매개체 또는 수성매개체에 용해 및/또는 분산시켜서 제조될 수 있다. 수성매개체가 바람직하게 사용된다. 본 발명의 잉크는 내후성이 우수한 염료를 함유하기 때문에, 잉크젯 기록용 잉크로 바람직하게 사용할 수 있다. 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 필요에 따라 다른 첨가물을 함유해도 좋다. 이러한 다른 첨가물로는, 예를 들면 건조방지제(침윤제), 방미제, 유화안정제, 침투촉진제, 자외선흡수제, 방부제, 방미제, pH조절제, 표면장력조절제, 소포제, 점도조절제, 분산제, 분산안정제, 방청제, 킬레이트제와 같은 공지의 첨가제들이 열거된다. 이들 첨가물은 일반적으로 염료의 분산액이 제조된 후에 분산액에 첨가되지만, 제조 중에 이들 첨가물을 유상 또는 수상에 첨가해도 좋다.
상기 건조방지제는 건조된 잉크젯 기록용 잉크에 의해 잉크젯 기록 시스템에서 사용되는 노즐이 막히는 것을 방지하기 위해 사용하는 것이 바람직하다.
상기 건조방지제는 물보다 낮은 증기압을 갖는 수용성 유기 용매인 것이 바람직하다. 건조방지제의 구체적인 예로는; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 티오디글리콜, 디티오디글리콜, 2-메틸-1,3-프로판디올, 1,2,6-헥산트리올, 아세틸렌글리콜 유도체, 글리세린, 및 트리메틸올프로판으로 대표되는 다가알콜류; 에틸렌글리콜모노메틸(또는 에틸)에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸(또는 에틸)에테르, 및 트리에틸렌글리콜모노에틸(또는 부틸)에테르와 같은 다가알콜의 저급 알킬에테르류; 2-피롤리돈, N-메틸-2-피롤리돈, 1,3-디메틸-2- 이미다졸리디논, 및 N-에틸모르폴린과 같은 헤테로시클릭 화합물; 술포란, 디메틸술폭사이드 및 3-술포렌과 같은 황함유 화합물; 디아세톤알콜, 및 디에탄올아민과 같은 다관능기 화합물; 및 요소 유도체가 열거된다. 이 중에서 글리세린 및 디에틸렌글리콜과 같은 다가알콜류가 바람직하다. 상기 건조방지제는 단독으로 또는 이들 중 둘 이상을 조합하여 사용해도 좋다. 상기 건조방지제는 잉크 내에 10~50질량%의 양으로 함유되는 것이 바람직하다.
상기 침투촉진제는 잉크젯용 잉크의 종이로의 침투를 향상시키기 위해서 사용되는 것이 바람직하다. 상기 침투촉진제로는 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 디(트리)에틸렌글리콜모노부틸에테르, 또는 1,2-헥산디올과 같은 알콜; 또는 라우릴황산나트륨 또는 올레산나트륨과 같은 비이온성 계면활성제를 사용할 수 있다. 일반적으로, 침투촉진제는 5~30질량%의 양으로 잉크 내에 함유되어 있을 때 충분한 효과를 나타낸다. 상기 침투촉진제는 인쇄된 잉크 또는 인쇄의 프린트스루 또는 번짐(블러)를 유발하지 않는 첨가량의 범위에서 사용되는 것이 바람직하다.
상기 자외선 흡수제는 화상의 보존성 향상을 위해 사용된다. 사용할 수 있는 자외선 흡수제의 예로는 일본 특허공개 소58-185677호, 일본 특허공개 소61-190537호, 일본 특허공개 평2-782호, 일본 특허공개 평5-197075호, 및 일본 특허공개 평9-34057호에 기재된 벤조트리아졸계 화합물, 일본 특허공개 소46-2784호, 일본 특허공개 평5-194483호, 및 미국 특허 제3214463호에 기재된 벤조페논계 화합물, 일본 특허공고 소48-30492호, 일본 특허공고 소56-21141호, 및 일본 특허공개 평10-88106호에 기재된 신남산계 화합물, 일본 특허공개 소4-298503호, 일본 특허공개 소8-53427호, 일본 특허공개 소8-239368호, 일본 특허공개 소10-182621호, 및 일본 국제특허출원공개 평8-501291호에 기재된 트리아진계 화합물, Research Disclosure 제24239호에 기재된 화합물, 및 자외선 흡수에 의해 형광을 방사하는 화합물, 즉 스틸벤계 또는 벤조옥사졸계 화합물로 대표되는 소위 형광광택제가 열거된다.
상기 방미제는 화상의 보존성을 향상시키기 위해 사용된다. 상기 방미제로는 각종 유기 또는 금속 착물계 방미제를 사용할 수 있다. 유기 방미제의 예로는 히드로퀴논류, 알콕시페놀류, 디알콕시페놀류, 페놀류, 아닐린류, 아민류, 인단류, 크로만류, 알콕시아닐린류, 및 헤테로시클릭 화합물이 열거된다. 금속 착물의 예로는 니켈착물과 아연착물이 열거된다. 사용될 수 있는 방미제의 구체예로는 Research Disclosure 17643호의 VII장의 I~J절에서 인용된 특허, Research Disclosure 15162호, Research Disclosure 18176호의 650쪽의 왼쪽 단락, Research Disclosure 36544호의 527쪽, Research Disclosure 307105호의 872쪽, 및 Research Disclosure 15162호에 개시된 화합물; 및 일본 특허공개 소62-215272의 127~137쪽에 기재된 전형적인 화합물의 일반식 및 예시 화합물에 포함되는 화합물이 열거된다.
방미제의 예로는 나트륨디히드로아세테이트, 나트륨벤조에이트, 나트륨피리딘티온-1-옥시드, p-히드록시벤조산 에틸에스테르, 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온, 및 이들의 염이 열거된다. 방미제는 0.02~1.00질량%의 양으로 잉크 내에서 사용되는 것이 바람직하다.
상기 pH조절제로서, 상기 중화제(유기계, 무기계 알칼리)를 사용할 수 있다. 상기 pH조절제는 잉크젯용 잉크의 pH가 잉크젯용 잉크의 저장안정성 항샹을 위해 6~10, 더욱 바람직하게는 7~10가 되도록 첨가되는 것이 바람직하다.
상기 표면장력조절제로서는, 비이온성, 양이온성 또는 음이온성 계면활성제를 들 수 있다. 본 발명의 잉크젯용 잉크의 표면장력은 20~60mN/m인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 25~45mN/m이다. 본 발명의 잉크젯용 잉크의 점도는 30mPa·s 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 20mPa·s 이하이다.
상기 계면활성제의 예로는: 지방산염류, 알킬황산에스테르염류, 알킬벤젠술폰산염류, 알킬나프탈렌술폰산염류, 디알킬술포숙신산염류, 알킬인산에스테르염류, 나프탈렌술폰산포르말린 축합물, 및 폴리옥시에틸렌 알킬황산에스테르염류와 같은 음이온성 계면활성제; 및 폴리옥시에틸렌 알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌 알킬알릴에테르류, 폴리옥시에틸렌 지방산에스테르류, 소르비탄 지방산에스테르류, 폴리옥시에틸렌소르비탄 지방산에스테르류, 폴리옥시에틸렌 알킬아민류, 글리세린 지방산에스테르류, 및 옥시에틸렌 옥시프로필렌 블록공중합체와 같은 비이온성 계면활성제가 열거된다. 아세틸렌계 폴리옥시에틸렌옥시드 계면활성제인 SURFYNOLS(상품명, Air Products & Chemicals, Inc.제품) 또한 바람직하게 사용될 수 있다. N,N-디메틸-N-알킬아민옥시드와 같은 산화아민형 양쪽성 계면활성제도 더더욱 바람직하다. 또한, 일본 특허공개 소59-157636호의 (37)~(38)쪽, 및 Research Disclosure 308119호(1989)에 열거된 계면활성제도 사용해도 좋다.
상기 소포제로는, 필요에 따라 불소 함유 또는 실리콘계 화합물이나 EDTA로 대표되는 킬레이트제를 사용할 수 있다.
본 발명의 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 화합물를 수성매개체에 분산시키기 위해서, 일본 특허공개 평11-286637호, 일본 특허공개 2001-240763호, 일본 특허공개 2001-262039호 및 일본 특허공개 2001-247788호에 기재된 바와 같이, 본 발명의 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 염료를 함유하는 착색 미립자 및 지용성 폴리머가 수성매개체에 분산되거나, 일본 특허공개 2001-262018호, 일본 특허공개 2001-240763호, 일본 특허공개 2001-355734호 및 일본 특허공개 2002-80772호에 기재된 바와 같이, 고비등점 유기 용매에 용해되고 본 발명의 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 상기 염료가 수성매개체에 분산되는 것이 바람직하다. 본 발명의 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 염료를 수성매개체에 분산시키는 구체적인 방법 및 그 방법에서 사용되기 위한 상기 지용성폴리머, 고비등점 유기용매 및 첨가물, 및 그들의 사용량에 대해서는 상기 특허 공보에 기재된 것들이 바람직하게 채용된다. 대안적으로는, 고체상의 상기 비스아조 화합물이 미립자의 형태로 직접 분산되어도 좋다. 분산시에, 분산제 또는 계면활성제가 사용되어도 좋다.
사용할 수 있는 분산 장치의 예로는 심플 교반기 또는 임펠러, 인라인믹서, 밀(예를 들면, 콜로이드밀, 볼밀, 샌드밀, 아트리터, 롤러밀, 또는 교반기밀), 초음파 분산기, 및 고압유화 분산기(고압균질기: 시판중인 장치로는 gorille 호모지나이저, 마이크로 플루다이저, BEE Internationl Co.Ltd.,의 제품인 DeBEE2000(상품명) 등)가 열거된다. 상기 특허 공보 외에도, 잉크젯 기록용 잉크의 제조방법의 상세한 설명이 일본 특허공개 평5-148436호, 일본 특허공개 평5-295312호, 일본 특허공개 평7-97541호, 일본 특허공개 평7-82515호, 일본 특허공개 평7-118584호, 일 본 특허공개 평11-286637호, 및 일본 특허공개 2001-271003호에 개시되어 있다. 이들 방법은 또한 본 발명의 잉크젯 기록용 잉크의 제조에도 사용될 수 있다.
상기 수성매개체는 주성분으로서 물과 임의의 성분으로서 수혼화성 유기 용매로 구성된 혼합물일 수 있다. 상기 수혼화성 유기용매의 예로는 알콜류(예를 들면, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 이소부탄올, sec-부탄올, t-부탄올, 펜탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 및 벤질알콜), 폴리히드릭알콜류(예를 들면, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 헥산디올, 펜탄디올, 글리세린, 헥산트리올, 및 티오디글리콜), 글리콜 유도체(예를 들면, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 디아세테이트, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 및 에틸렌글리콜 모노페닐에테르), 아민류(예를 들면, 에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, N-메틸디에탄올아민, N-에틸디에탄올아민, 모르폴린, N-에틸모르폴린, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라아민, 폴리에틸렌이민, 및 테트라메틸프로필렌디아민), 및 그 밖의 극성용매(예를 들면, 포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드, 술포란, 2-피롤리돈, N-메틸-2-피롤리돈, N-비닐-2-피롤리돈, 2-옥사졸리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 아세토니트릴, 및 아세톤)가 열거된다. 이들 수혼화성 유기용매는 이들의 둘 이상을 조합하여 사용되어도 좋다.
[컬러필터]
본 발명의 컬러필터는 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 아조염료를 함유하는 컬러필터를 의미한다. 컬러필터의 형성 방법으로는, 감광성 수지로 패턴을 형성하고 나서 염색하는 방법; 및 일본 특허공개 평4-163552호, 일본 특허공개 평4-128703호 및 일본 특허공개 평4-175753호에 개시된, 염료를 함유한 감광성 수지에 의해 패턴을 형성하는 방법이 언급될 수 있다. 본 발명의 일반식 (1)~(5) 중 어느 하나로 표현되는 염료를 컬러필터에 도입하는 것으로는, 상기 어떠한 방법이라도 사용될 수 있다. 바람직한 방법의 예로는, 일본 특허공개 평4-175753호 및 일본 특허공개 평6-35182에 기재된 바와 같이, 열경화성 수지, 퀴논디아지도 화합물, 가교제, 착색제 및 용매를 함유하는 포지티브형 레지스트 조성물; 및 상기 조성물을 베이스 상에 도포하고, 도포된 베이스를 마스크를 통하여 노광하고, 그 노광부를 현상하고, 포지티브형 레지스트 패턴을 형성시키고, 상기 포지티브형 레지스트 패턴 전체를 노광하고, 노광된 포지티브형 레지스트 패턴을 경화하는 것을 포함하는 컬러필터 형성방법이 열거된다. 또한, 통상적 방법에 따라 블랙 매트릭스를 형성하여 RGB 원색계 또는 Y.M.C.보색계 컬러필터를 얻을 수 있다.
사용되는 열경화성 수지, 퀴논디아지도 화합물, 가교제 및 용매, 및 이들의 사용량은 상기 특허 공보에 개시된 것이 바람직하게 사용될 수 있다.
이하, 실시예에 근거하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명이 이에 한정되지는 않는다.
실시예
본 발명의 본질로부터 벗어나지 않는 한, 재료, 사용량, 비율, 상세한 공정 및 공정 단계는 임의적으로 변경될 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 하기 구체적인 실시예에 한정되어 해석되지 않는다.
실시예 1
합성예 1<예시 화합물(7)의 제조>
Figure 112007048007819-pat00015
<중간체(7a)의 제조>
4.93g(0.03몰)의 3-아미노-5-tert-부틸-2H-피라졸-4-카르보니트릴을 아세트산(6㎖), 프로피온산(10㎖), 및 진한 염산(10㎖)의 혼합물에 용해시키고, 0℃로 냉각시켰다. 상기 용액에 내부온도 5℃ 이하에서 물 5㎖ 당 2.07g(0.03몰)의 아질산 나트륨을 적하하고, 그 후 0~5℃ 범위의 내부온도에서 15분 동안 교반하여, 디아조 용액을 제조하였다. 이와는 별도로, 90㎖의 아세토니트릴에 5.34g(0.03몰)의 6-tert-부틸-3-메틸-1H-피아졸로[5,1-c][1,2,4]트리아졸을 분산시키고, 그 후 내부온도 5℃로 냉각시켰다. 얻어진 분산액에 앞서 준비한 디아조 용액을 5℃ 이하의 내부온도에서 적하하였다. 그리고 나서, 5℃에서 1시간 동안 교반하고, 실온에서 30 분간 교반하면서, 100㎖의 물을 적하하였다. 빙욕에서 1시간 동안 교반한 후, 침전된 결정을 여과하여 수집하였다. 그리하여, 9.13g(86%)의 수율로 중간체 (7a)의 옐로우 분말을 얻었다.
<예시 화합물(7)의 제조>
3.53g의 중간체(7a)(0.01몰), 2.76g의 탄산칼륨(0.02몰) 및 디메틸아세트아미드(15㎖)의 혼합물을 0℃에서 교반하였다. 상기 혼합물에 4.23g(0.03몰)의 요오드화 메틸을 서서히 적하하였다. 실온에서 3시간 동안 교반한 후, 50㎖의 물을 첨가하였다. 50㎖의 에틸아세테이트로 추출한 후, 추출된 용액을 포화 식염수에서 세척하였다. 그리고 나서, 추출된 용액을 회전증발기로 응축하였다. 이렇게 얻어진 잔여물을 실리카겔크로마토그래피(전개용매: 에틸아세테이트/헥산=1/4,v/v)를 사용하여 정제하였다. 예시 화합물(7)인 옐로우 분말을 얻었다. 수율: 3.01g(82%), 융점: 192℃. 예시 화합물(7)의 최대파장(λmax)(에틸아세테이트 용액)은 442nm였다.
예시 화합물(1), (5), (8), (9), (10), (13) 및 (23)을 상기와 같은 방법으로 합성하였다. 하기 표 1에 얻어진 예시 화합물(1), (5), (8), (9), (10), (13) 및 (23)의 에틸아세테이트 용액(밀도: 1×10- 6몰/L, 광로길이: 10mm)에서의 흡수 스펙트럼 각각의 최대 흡수 파장 및 이들 화합물 각각의 융점을 상기 합성예에서 얻어진 예시 화합물(7)의 것과 함께 나타낸다.
또한, 화학적 관점에서, 상기 예시된 화합물 이외의 화합물들이 또한 앞의 실시예에서 기재된 방법에 따라 합성될 수 있다.
Figure 112007048007819-pat00016
실시예 2
적용예 1(감열전사 기록용 잉크시트의 제조)
지지체로서, 배면을 1㎛ 두께의 열경화성 아크릴 수지로 내열 윤활공정 처리한 6㎛ 두께의 폴리에스테르 필름(상품명:Lumirror, Toray Industries,Inc. 제조)이 사용되었다. 상기 지지체의 전면에, 하기 염료 제공층 도포 조성물을 와이어바 도포에 의해 도포하여 염료 제공층의 건조 두께가 1㎛가 되었다. 그리하여, 잉크시트 1을 제조하였다.
(염료 제공층 도포 조성물)
예시 화합물(1) 5.5 질량부
폴리비닐부티랄 수지 4.5 질량부
(상품명: ESLEC BX-1, Sekisui Chemical Co.,Ltd. 제품)
메틸에틸케톤/톨루엔(1/1, 질량비) 90 질량부
잉크시트 2~9 및 비교군 10~12를, 상기 예시 화합물 (1)을 표 2에 나타난 하 기 염료로 각각 변경한 것을 제외하고는, 상기 잉크시트 1의 제조와 같은 방법으로 제조하였다.
이들 잉크시트에 함유된 염료의 용해성을 이하의 3등급에 따라 평가하였다:
A: 염료가 쉽게 용해됨.
B: 염료가 용해됨.
C: 염료가 난용해성이지만, 용해됨.
또한, 잉크시트에서 시간의 경과에 따른 염료의 침전을 육안으로 관찰하여, 이하의 3등급에 따라 평가하였다.
A: 침전이 관찰되지 않음.
B: 침전이 약간 관찰됨.
C: 침전이 분명히 관찰됨.
이렇게 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
실시예 3
적용예 2(감열전사 기록)
(수상 재료의 제조)
하기 조성을 갖는 백색 중간층 및 수용층을 바코터에 의해 지지체의 한 면에 순서대로 도포하기 위한 지지체로서 합성지(상품명: Yupo FPG200, Yupo Corporation 제품, 두께: 200㎛)를 사용하였다. 각 층을 건조한 후의 백색 중간층 및 수용층의 양은 1.0g/㎡및 4.0g/㎡이었고, 이들 층을 각각 110℃에서 30초간 건조시켰다.
백색 중간층 도포 조성물
폴리에스테르 수지(상품명: Vylon 200, Toyobo Co.,Ltd 제품) 10 질량부
형광증백제(상품명: Uvitex OB, Ciba Specialty Chemicals 제품) 1 질량부
산화티타늄 30 질량부
메틸에틸케톤/톨루엔(1/1, 질량비) 90 질량부
수용층 도포 조성물
비닐클로라이드/비닐아세테이트 수지 100 질량부
(상품명: Solbin A, Nisshin Chemicals Co.,Ltd. 제품)
아미노 변성 실리콘 5 질량부
(상품명: X22-3050C, Shin-Etsu Chemical co.,Ltd. 제품)
에폭시 변성 실리콘 5 질량부
(상품명: X22-300E, Shin-Etsu Chemical co.,Ltd. 제품)
메틸에틸케톤/톨루엔(1/1, 질량비) 400 질량부
벤조트리아졸형 자외선흡수제 5 질량부
(상품명: Tinuvin 900, Ciba Specialty Chemicals 제품)
<화상 기록 및 평가>
이렇게 얻어진 잉크시트 1과 수상 재료를 겹쳐 놓아서 염료제공층과 수상층이 서로 접촉하도록 하였다. 인쇄를 위해, 열감응헤드를 하기 조건 하에서 염료 제공 재료의 배면에서부터 사용하였다:
열감응헤드의 출력: 0.25W/dot; 진동간격: 0.15~15밀리세컨드(ms); 화점밀도: 6dots/mm. 그리고 나서, 수상 재료의 수상층에 옐로우 염료를 화상방식으로 착색하였다. 그리하여, 전사 인쇄의 불균일 없이 우수한 화상 기록을 달성하였다. 잉크시트 1을 각각 잉크시트 2~11로 대체한 것을 제외하고는 상기 화상 기록과 같은 방법으로 화상 기록을 반복하였다.
얻어진 화상 각각의 고체 밀도를 나타내는 비율로 상태A 반사 밀도를 측정하고, 이하의 3단계로 평가하였다:
A(매우 우수함): 반사 밀도 1.8 이상
B(우수함): 반사 밀도 1.6 이상 1.8 미만
C(보통임): 반사 밀도 1.0 이상 1.6 미만
다음으로, 상기 화상이 기록된 열적전사 수상 재료 각각을 7일 동안 크세논 광(17000lux)에 노광하여 염료 화상의 광안정성(내광성)을 평가하였다. 1.0의 상태A 반사 밀도를 나타내는 비율로 노광 후의 상태A 반사 밀도를 측정하였다. 노광 전의 반사 밀도에 기초한 잔여 비율(백분율)로 환산하여 화상 안정성을 이하의 3단계로 평가하였다:
A: 80% 이상 100% 이하
B: 60% 이상 100% 미만
C: 60% 미만
그 결과를 표 2에 나타낸다.
Figure 112007048007819-pat00017
비교염료 1
Figure 112012043582683-pat00034
삭제
비교염료 2 (일본 특허공개 평2-24191호: 예시 화합물30)
Figure 112007048007819-pat00019
비교염료 3 (일본 특허공개 2002-67517호: 예시 화합물 Y-2)
Figure 112007048007819-pat00020
상기 화상 기록 평가의 결과, 일반식 (1)으로 표현되는 아조염료를 함유하는 잉크시트로부터 수상층에 전사된 화상은 우수한 색조를 갖고, 상기 화상은 비교염료를 함유하는 잉크시트와 대조적으로 용해성 특성이 우수하고, 상기 염료는 잉크시트의 제조시에 염료의 용해에 대한 부담을 뚜렷이 감소시킬 수 있음을 알 수 있다. 또한, 상기 잉크시트 내에서 시간의 경과에 따라 염료의 침전이 나타나지 않기 때문에 상기 잉크시트가 장기간의 보존성에 있어서도 우수하다는 것을 알 수 있다.
또한, 본 발명의 각 아조염료는 비교염료에 비해 광 안정성이 향상되어서, 우수한 화상 보존성이 얻어짐을 알 수 있다. 또한, 전사 감도도 향상되어서 예전부터 해결하기 어렵다고 믿어져오던, 화상 보존성 및 전사 감도의 양립 문제를 동시에 해결한다.
실시예 4
적용예 3(컬러토너의 제조)
본 발명의 염료(1) 3질량부와 토너수지(스티렌/아크릴레이트 공중합체; 상품명: Himer TB-1000F, Sanyo Chemical Industries, Ltd. 제품) 100질량부를 함께 혼합하고 볼 밀로 분쇄하고, 그리고 나서 얻어진 혼합물을 150℃에서 가열에 의해 함께 융해혼합 하고, 냉각하고, 해머 밀로 굵게 분쇄한 후, 에어 제트형 미세 그라인더로 미세하게 분쇄하였다. 얻어진 미립자를 토너로서 사용하기 위해 1~20㎛ 만큼 미세한 입자를 선택하여 분류하였다. 그리고 나서, 상기 토너 10질량부와 담체 철 분말(상품명: EFV250/400, Nippon Teppun Co.,Ltd. 제품) 900질량부를 균일하게 혼합하여 현상액을 제조하였다. 상기 현상액을 사용하여 건조 PPC 전자사진 복사기(상품명:NP-5000, Canon Inc. 제품)로 재생(복사)하였다. 그 결과, 상기 아조염료가 우수한 분광 특성을 갖고, 동시에 토너로서의 사용에 대해서도 우수한 특성을 가짐을 확인하였다.
실시예 5
적용예 4(잉크젯용 잉크의 제조)
본 발명의 아조염료(예시 화합물(7)) 5.0g과 나트륨디옥틸술포숙시네이트 7.04g을 70℃에서 하기한 고비등점 유기용매(S-2) 4.22g, 하기한 고비등점 유기용매(S-11) 5.63g 및 에틸아세테이트 50㎖에 용해시켰다. 그 후, 얻어진 용액에 자교반기로 교반하면서 500㎖의 탈이온수를 첨가하여 수중유적형의 거친 분산액을 제조하였다. 얻어진 상기 거친 분산액을 마이크로 플루다이저(MICROFLUIDEX INC. 제품)로 60MPa의 압력하에서 5회 통과시켜서 더욱 미세한 입자를 갖는 에멀전을 얻었다. 그리고 나서, 얻어진 에멀전을 에틸아세테이트의 냄새가 없어질 때까지 회전증발기로 탈용매 처리하였다. 이런 식으로, 소수성 염료의 미세 에멀전을 얻었다. 그리고 나서, 140g의 디에틸렌글리콜, 50g의 글리세린, 7g의 SURFYNOL 465(상품명, Air Products & Chemicals Inc. 제품), 및 900㎖의 탈이온수를 상기 미세 에멀전에 첨가하여, 잉크젯용 잉크를 제조하였다.
(S-2)
Figure 112007048007819-pat00021
(S-11)
Figure 112007048007819-pat00022
상기 얻어진 잉크용액을 잉크젯 프린터(PM-G800(상품명), Seiko Epson 제품)의 카트리지에 채웠다. 상기 프린터를 이용하여, 화상을 잉크젯 페이퍼 컬러 포토피니싱 Pro(상품명, Fuji Film Corporation 제품)에 기록하였다. 상기 얻어진 화상의 반사 스펙트럼을 도 1에 나타낸다. 도 1의 결과로부터 명백하듯이, 얻어진 화상은 우수한 스펙트럼 특성 색상 및 우수한 내광성을 가져서 잉크젯용 잉크로서 우수한 특성을 제공함을 알 수 있다.
실시예 6
적용예 5(컬러필터의 제조)
<포지티브 레지스트 조성물의 제조>
m-크레졸/p-크레졸/포름알데히드(반응 몰비= 5/5/7.5)의 혼합물로부터 얻어진 3.4질량부의 크레졸노볼락 수지(폴리스티렌 환산 질량평균 분자량이 4300), 하기 일반식으로 표현되는 페놀 화합물을 사용하여 제조된 1.8질량부의 o-나프토퀴논디아지도-5-술폰산에스테르(평균 2개의 히드록시기가 에스테르화됨), 0.8질량부의 헥사메톡시메틸올멜라민, 20질량부의 에틸락테이트, 및 1질량부의 본 발명의 염료를 함께 혼합하여, 포지티브 레지스트 조성물을 얻었다.
Figure 112007048007819-pat00023
<컬러필터의 제조>
상기 얻어진 포지티브 작용 레지스트 조성물을 스핀 코트로 실리콘 웨이퍼 상에 도포하고, 이어서 용매를 증발시켰다. 그리고 나서, 상기 실리콘 웨이퍼를 마스크로 노광하여 퀴논디아지드 화합물을 분해하였다. 그 후에, 노광부를 100℃에서 가열하여 제거하고, 이어서 알칼리 현상하여 0.8㎛의 해상도를 갖는 포지티브 작용 컬러 패턴을 얻었다. 그것을 전면 노광한 후, 150℃에서 15분 동안 가열하여 황색 보색계 컬러필터를 얻었다. 노광은 아이라인 노광장비 HITACHI LD-5010-i(상품명, Hitachi Corporation 제품, NA=0.40)를 사용하여 수행하였다. 현상액으로는, SOPD 또는 SOPD-B(각각이 상품명이며, Sumitomo Chemical 제품)를 사용하였다. 이렇게 얻어진 컬러필터의 투과 스펙트럼을 도 2에 나타낸다. 도 2의 결과로부터 명백하듯이, 상기 얻어진 컬러필터가 우수한 분광특성 및 광투과율을 가져서, 컬러필터로서 우수한 특성을 제공함을 알 수 있다.
본 실시형태에 관한 것으로서 본 발명에 기재한 내용은, 별도의 조건이 없는 한 본 발명이 상기 기재의 상세한 설명의 일부에 의해 한정되지 않고, 오히려 첨부 된 청구항에서 나타나는 본질 및 범위 내에서 넓게 해석될 수 있다는 것이 우리의 의도이다.
본 발명에 의하면, 좁은 흡수, 높은 견고성의 관점에서 우수한 분광 특성 및 용매에 대해 우수한 용해성을 갖는 신규한 아조염료 및 그 아조염료를 함유하는 착색 조성물; 및 또한 각각 상기 아조 염료를 함유하고, 우수한 보존 안정성을 갖는 감열전사 기록용 잉크시트, 감열전사 기록방법을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명은 상기 아조염료를 각각 함유하는 컬러토너, 잉크젯용 잉크 및 컬러필터를 제공한다. 그러므로 본 발명은 고품질 풀컬러 기록용 등으로 효과적으로 사용될 것이 기대된다. 따라서, 산업에 있어서 높은 적용가능성이 기대된다.
본 발명의 아조염료 및 그 아조염료를 함유하는 착색조성물은 색 재현성에 있어서 바람직한 색조를 갖고, 또한 내광성, 내습성, 및 내화학성과 같은 견고성이 우수하며, 또한 우수한 용해성을 가져서 컬러 화상 기록재료 및 컬러 필터에 대해 바람직하게 사용될 수 있다.
본 발명의 감열전사 기록용 잉크시트는 우수한 전사감도를 가질 뿐만 아니라, 현재의 고속 전사형 감열전사 기록에 있어서 예전부터 공존하기 어렵다고 믿어져온 좁은 흡수 및 우수한 견고성의 관점에서 우수한 분광 특성도 갖는다. 또한, 본 발명의 잉크시트는 용매에 대해 우수한 용해성을 가져서, 상기 잉크 시트의 제조시 작업 부담 및 환경에 대한 부담을 감소시킬 수 있다. 상기 잉크시트를 사용하는 감열전사 기록 방법은 인쇄 화상의 우수한 색 재현성, 화상 보존성, 및 전사 감 도의 모든 요구를 충족시킨다.
본 발명의 아조염료를 함유하는 컬러토너는 우수한 색 재현 범위를 달성할 수 있는 흡수 특성을 갖는다. 본 발명의 컬러토너는 또한 내광성에 있어서 우수하다.
본 발명의 아조염료를 함유하는 잉크젯 잉크는 우수한 황색 색조, 높은 용해성 및 우수한 내광성을 갖는다.
본 발명의 아조염료를 함유하는 컬러필터는 높은 투과율 및 우수한 내광성 및 내열성을 갖는다.

Claims (18)

  1. 일반식 (1)으로 표현되는 것을 특징으로 하는 아조염료:
    Figure 112013116925417-pat00024
    여기서 R11은 치환 또는 비치환된, 직쇄상 또는 분기상의 알킬기를 나타내고, R12는 수소원자, 할로겐원자, 알킬기, 시클로알킬기, 비시클로알킬기, 알케닐기, 시클로알케닐기, 비시클로알케닐기, 알키닐기, 아릴기, 헤테로시클릭기, 시아노기, 알콕시기, 아릴옥시기, 아실옥시기, 카르바모일옥시기, 알콕시카르보닐옥시기, 아릴옥시카르보닐옥시기, 아미노기, 알킬아미노기, 아닐리노기, 헤테로시클릭 아미노기, 아실아미노기, 아미노카르보닐아미노기, 알콕시카르보닐아미노기, 아릴옥시카르보닐아미노기, 술파모일아미노기, 알킬 술포닐아미노기, 아릴 술포닐아미노기, 알킬티오기, 술파모일기, 알킬 술피닐기, 아릴 술피닐기, 알킬 술포닐기, 아릴 술포닐기, 아실기, 아릴옥시카르보닐기, 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 아릴 아조기, 헤테로시클릭 아조기, 또는 이미도기를 나타내고, Ar1은 하기 헤테로시클릭기의 구성요소(1)로부터 선택된 기를 나타내고, X는 환을 형성하기 위해 필요한 원자를 나타낸다.
    Figure 112013116925417-pat00025
    여기서, 헤테로시클릭기의 구성요소 (1)에 있어서, R61, R62, R63, R64 및 R65는 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 나타낸다.
  2. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1)의 Ar1은 헤테로시클릭기의 구성요소 (2)로부터 선택된 기를 나타내는 것을 특징으로 하는 아조염료:
    Figure 112007048007819-pat00026
    여기서, R61, R62 및 R63은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.
  3. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1)의 X는 -C(R14)=N- 또는 -N=C(R14)-를 나타내고, R14는 수소원자 또는 치환기를 나타내는 것을 특징으로 하는 아조염료.
  4. 제 1 항에 있어서, 일반식 (1)으로 표현되는 상기 아조염료는 일반식 (2) 또는 (3)으로 표현되는 아조염료인 것을 특징으로 하는 아조염료:
    Figure 112013116925417-pat00027
    상기 일반식 (2)에 있어서, R21은 치환 또는 비치환된, 직쇄상 또는 분기상의 알킬기를 나타내고, R22 및 R23은 각각 독립적으로 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, Ar2는 상기 헤테로시클릭기의 구성요소 (1)로부터 선택된 기를 나타내며, 상기 1가의 치환기는 할로겐원자, 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 시클로알케닐기, 알키닐기, 아릴기, 헤테로시클릭기, 시아노기, 알콕시기, 아릴옥시기, 아실옥시기, 카르바모일옥시기, 알콕시카르보닐옥시기, 아릴옥시카르보닐옥시기, 아미노기, 알킬아미노기, 아닐리노기, 헤테로시클릭 아미노기, 아실아미노기, 아미노카르보닐아미노기, 알콕시카르보닐아미노기, 아릴옥시카르보닐아미노기, 술파모일아미노기, 알킬 술포닐아미노기, 아릴 술포닐아미노기, 알킬티오기, 술파모일기, 알킬 술피닐기, 아릴 술피닐기, 알킬 술포닐기, 아릴 술포닐기, 아실기, 아릴옥시카르보닐기, 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 아릴 아조기, 헤테로시클릭 아조기 또는 이미도기이다;
    Figure 112013116925417-pat00028
    상기 일반식 (3)에 있어서, R31은 치환 또는 비치환된, 직쇄상 또는 분기상의 알킬기를 나타내고, R32 및 R33은 각각 독립적으로 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, Ar3은 상기 헤테로시클릭기의 구성요소 (1)로부터 선택된 기를 나타내며, 상기 1가의 치환기는 할로겐원자, 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 시클로알케닐기, 알키닐기, 아릴기, 헤테로시클릭기, 시아노기, 알콕시기, 아릴옥시기, 아실옥시기, 카르바모일옥시기, 알콕시카르보닐옥시기, 아릴옥시카르보닐옥시기, 아미노기, 알킬아미노기, 아닐리노기, 헤테로시클릭 아미노기, 아실아미노기, 아미노카르보닐아미노기, 알콕시카르보닐아미노기, 아릴옥시카르보닐아미노기, 술파모일아미노기, 알킬 술포닐아미노기, 아릴 술포닐아미노기, 알킬티오기, 술파모일기, 알킬 술피닐기, 아릴 술피닐기, 알킬 술포닐기, 아릴 술포닐기, 아실기, 아릴옥시카르보닐기, 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 아릴 아조기, 헤테로시클릭 아조기 또는 이미도기이다.
  5. 제4항에 있어서, 일반식 (2) 또는 (3)의 Ar2 및 Ar3은 각각 독립적으로 상기 헤테로시클릭기의 구성요소 (2)로부터 선택된 기를 나타내는 것을 특징으로 하는 아조염료:
    Figure 112007048007819-pat00029
    상기 헤테로시클릭기의 구성요소 (2)에 있어서, R61, R62 및 R63은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 아조염료는 일반식 (4) 또는 (5)로 표현되는 아조염료인 것을 특징으로 하는 아조염료:
    Figure 112013116925417-pat00030
    상기 일반식 (4)에서, R41은 치환 또는 비치환된, 직쇄상 또는 분기상의 알킬기를 나타내고, R45는 1가의 치환기를 나타내고, R42, R43 및 R44는 각각 독립적으로 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, EWG는 하멧의 치환상수 σp값이 0.2~1.0인 전자 끄는 기를 나타내며, 상기 1가의 치환기는 할로겐원자, 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 시클로알케닐기, 알키닐기, 아릴기, 헤테로시클릭기, 시아노기, 알콕시기, 아릴옥시기, 아실옥시기, 카르바모일옥시기, 알콕시카르보닐옥시기, 아릴옥시카르보닐옥시기, 아미노기, 알킬아미노기, 아닐리노기, 헤테로시클릭 아미노기, 아실아미노기, 아미노카르보닐아미노기, 알콕시카르보닐아미노기, 아릴옥시카르보닐아미노기, 술파모일아미노기, 알킬 술포닐아미노기, 아릴 술포닐아미노기, 알킬티오기, 술파모일기, 알킬 술피닐기, 아릴 술피닐기, 알킬 술포닐기, 아릴 술포닐기, 아실기, 아릴옥시카르보닐기, 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 아릴 아조기, 헤테로시클릭 아조기 또는 이미도기이다;
    Figure 112013116925417-pat00031
    상기 일반식 (5)에서, R51은 치환 또는 비치환된, 직쇄상 또는 분기상의 알킬기를 나타내고, R55는 1가의 치환기를 나타내고, R52, R53, 및 R54는 각각 독립적으로 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, EWG는 하멧의 치환상수 σp값이 0.2~1.0인 전자 끄는 기를 나타내며, 상기 1가의 치환기는 할로겐원자, 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 시클로알케닐기, 알키닐기, 아릴기, 헤테로시클릭기, 시아노기, 알콕시기, 아릴옥시기, 아실옥시기, 카르바모일옥시기, 알콕시카르보닐옥시기, 아릴옥시카르보닐옥시기, 아미노기, 알킬아미노기, 아닐리노기, 헤테로시클릭 아미노기, 아실아미노기, 아미노카르보닐아미노기, 알콕시카르보닐아미노기, 아릴옥시카르보닐아미노기, 술파모일아미노기, 알킬 술포닐아미노기, 아릴 술포닐아미노기, 알킬티오기, 술파모일기, 알킬 술피닐기, 아릴 술피닐기, 알킬 술포닐기, 아릴 술포닐기, 아실기, 아릴옥시카르보닐기, 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 아릴 아조기, 헤테로시클릭 아조기 또는 이미도기이다.
  7. 제 6 항에 있어서, 일반식 (4) 또는 (5)의 EWG는 카르바모일기 또는 시아노기를 나타내는 것을 특징으로 하는 아조염료.
  8. 제 1 항에 기재된 아조염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 조성물.
  9. 제 1 항에 기재된 아조염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열전사 기록용 잉크시트.
  10. 제 9 항에 있어서, 염료제공층을 함유하고, 상기 염료제공층의 아조염료 함량이 0.03~1.0g/㎡의 범위인 것을 특징으로 하는 감열전사 기록용 잉크시트.
  11. 제 9 항에 있어서, 시안 화상을 형성할 수 있는 열확산성 시안염료, 마젠타 화상을 형성할 수 있는 열확산성 마젠타염료, 옐로우 화상을 형성할 수 있는 열확산성 옐로우염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열전사 기록용 잉크시트.
  12. 제 9 항에 기재된 감열전사 기록용 잉크시트를 사용하여 지지체와 지지체 상에 폴리머를 함유하는 잉크 수용층을 갖는 수상 재료상에 화상을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 감열전사 기록방법.
  13. 제 1 항에 기재된 아조염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 컬러토너.
  14. 제 13 항에 있어서, 평균 입자직경이 용량 평균 입자직경으로 환산하여 30~150㎛인 담체를 함유하는 것을 특징으로 하는 컬러토너.
  15. 제 1 항에 기재된 아조염료를 함유하는 잉크젯용 잉크.
  16. 제 15 항에 있어서, pH가 6~10인 것을 특징으로 하는 잉크젯용 잉크.
  17. 제 1 항에 기재된 아조염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 컬러필터.
  18. 제 17 항에 있어서, RGB 3원색계 또는 Y.M.C. 보색계의 컬러필터인 것을 특징으로 하는 컬러필터.
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