KR101234696B1 - 반송 장치, 진공처리 장치 및 반송 방법 - Google Patents

반송 장치, 진공처리 장치 및 반송 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101234696B1
KR101234696B1 KR1020107018722A KR20107018722A KR101234696B1 KR 101234696 B1 KR101234696 B1 KR 101234696B1 KR 1020107018722 A KR1020107018722 A KR 1020107018722A KR 20107018722 A KR20107018722 A KR 20107018722A KR 101234696 B1 KR101234696 B1 KR 101234696B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
tray
conveyance
conveying
stage
path
Prior art date
Application number
KR1020107018722A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20100101180A (ko
Inventor
다이스케 요시다
Original Assignee
가부시키가이샤 알박
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 알박 filed Critical 가부시키가이샤 알박
Publication of KR20100101180A publication Critical patent/KR20100101180A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101234696B1 publication Critical patent/KR101234696B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67712Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/063Transporting devices for sheet glass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/068Stacking or destacking devices; Means for preventing damage to stacked sheets, e.g. spaces
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67721Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrates to be conveyed not being semiconductor wafers or large planar substrates, e.g. chips, lead frames
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2249/00Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
    • B65G2249/02Controlled or contamination-free environments or clean space conditions

Abstract

장치를 대형화하지 않고 기판의 반송 처리에 있어서의 스루풋(throughput)을 향상시키는 반송 장치(30)가 개시된다. 반송 장치(30)는, 기판을 세운 상태로 지지하면서 제1 반송로(R1)와 제2 반송로(R2) 사이에 상기 기판을 반송하는 반송 트레이(17)와, 상기 반송 트레이를 지지할 수 있는 트레이 스테이지(38)와, 상기 트레이 스테이지를 상승시켜서 상기 반송 트레이를 각 반송로에서 이탈시키고, 상기 트레이 스테이지를 하강시켜서 상기 반송 트레이를 각 반송로로 재치시키는 리프트 기구(32)와, 상기 리프트 기구를 제1 및 제2 반송로 사이에서 이동시키는 슬라이드 기구(31)를 포함한다. 리프트 기구(32)는, 상기 트레이 스테이지의 상승과 연동시켜서 반송 트레이를 트레이 스테이지에 록하고, 상기 트레이 스테이지의 하강과 연동시켜서 반송 트레이 록 상태를 해제하는 록 기구(37)를 포함한다.

Description

반송 장치, 진공처리 장치 및 반송 방법{TRANSFER APPARATUS, VACUUM PROCESSING APPARATUS AND TRANSTER METHOD}
본 발명은, 기판의 반송 장치, 진공처리장치 및 반송 방법에 관한 것이다.
대형 FPD(Flat Panel Display)의 제조 공정에 있어서는, 기판에 대한 성막 처리나 가열 처리를 수행하기 위한 각종 진공처리장치가 이용되고 있다. 진공처리장치에 있어서는, 기판의 사이즈에 따른 진공공간이 필요하고, 기판 사이즈의 대형화에 따라, 진공공간을 형성하기 위해 엄청난 시간이 소비되어 버린다. 여기에서, 진공처리장치로는, 종래, 진공공간의 형성 빈도를 저감시키기 위해서, 복수의 처리실 각각을 서로 연통 가능한 진공공간으로 구성하는 제안이 실시되고 있다.
특허문헌 1에 기재하는 진공처리장치는, 1개의 열 방향을 따라 연결된 복수의 처리실과, 각 처리실을 관통해서 해당 열 방향으로 연장되는 한 쌍의 반송로와, 한 방향의 반송로(왕로)에 있는 반송 트레이를 다른 방향의 반송로(귀로)로 반송하는 반송실을 구비하고 있다. 이 진공처리장치는, 왕로 상에서 반송 트레이를 내보낸 후, 왕로 상의 반송 트레이를 귀로 상으로 반송하고, 귀로 상에서 해당 반송 트레이를 되돌린다. 이로 인해, 특허문헌 1에 기재된 진공처리장치는, 연통 가능한 복수의 진공공간에서 순서대로 다른 처리 공정을 실행할 수 있다.
[특허문헌 1] 특개 2007-39157호 공보
도 4a∼도 4d 및 도 5a∼도 5d는, 각각 특허문헌 1에서 기재하는 진공처리장치의 반송 공정을 모식적으로 나타내는 도면이다. 반송실(50)에는, 반송 트레이(51)를 승강시키는 승강 기구(52)와, 반송 트레이(51)를 반송로 위에서 비접촉적으로 지지하는 지지 기구(53)와, 왕로(R1)과 귀로(R2) 사이에 반송 트레이(51)를 슬라이딩시키는 슬라이드 기구(54)가 나누어 설치되어 있다.
도 4a에 있어서, 반송실(50)에는, 우선, 기판을 세운 상태로 지지하는 반송 트레이(51)가 왕로(R1)를 따라 반입된다. 반송실(50)은, 이하에서 가리키듯이, 반송 트레이(51)의 승강 동작과, 반송 트레이(51)의 지지 동작을 동기시키는 것에 의해, 반송 공정에 있어서의 기판위치의안정화를 도모하고 있다.
즉, 도 4b에 있어서, 반송 트레이(51)가 반입되면, 승강 기구(52)와 지지 기구(53)가, 반송 트레이(51)와 지지 자석(53a) 사이의 거리를 유지하면서, 반송 트레이(51)와 지지 자석(53a)을 일단 상승시켜서, 반송 트레이(51)를 왕로(R1)로부터 이탈시킨다. 반송 트레이(51)가 왕로(R1)로부터 이탈하면, 도 4c에서 나타내듯이, 슬라이드 기구(54)가, 트레이 스테이지(54f)를 슬라이드 시켜서, 반송 트레이(51)에 마련된 돌출 핀(51a)의 하방으로 훅(54a)을 배치한다.
도 4d에 있어서, 훅(54a)이 돌출 핀(51a)의 하방으로 배치되면, 승강 기구(52)와 지지 기구(53)가, 반송 트레이(51)와 지지 자석(53a) 사이의 거리를 유지하면서, 반송 트레이(51)와 지지 자석(53a)을 일단 하강시킨다. 그리고 돌출 핀(51a)과 훅(54a)과의 쐐기결합에 의해, 트레이 스테이지(54f)에 반송 트레이(51)가 매달리게 된다.
도 5a에 있어서, 트레이 스테이지(54f)에 반송 트레이(51)가 매달리게 되면, 지지 기구(53)가, 지지 자석(53a)을 반송 트레이(51)로부터 충분히 이간시켜서, 반송 트레이(51)의 구속(지지)을 해제한다. 반송 트레이(51)의 구속이 해제되면, 도 5b에서 나타내듯이, 슬라이드 기구(54)가, 트레이 스테이지(54f)를 슬라이드 시켜서, 반송 트레이(51)를 귀로(R2)의 상방으로 배치한다.
도 5c에 있어서, 반송 트레이(51)가 귀로(R2)의 상방으로 배치되면, 승강 기구(52)가 다시 상승하고, 지지 기구(53)가 지지 자석(53a)을 다시 하강시키는 것에 의해, 반송 트레이(51)가 귀로(R2)의 상방에서 승강 기구(52) 상에 다시 지지된다. 반송 트레이(51)가 다시 지지되면, 도 5d에서 나타내듯이, 승강 기구(52)와 지지 기구(53)가, 반송 트레이(51)와 지지 자석(53a) 사이의 거리를 유지하면서, 반송 트레이(51)와 지지 자석(53a)을 상승시키고, 돌출 핀(51a)과 훅(54a)과의 쐐기결합을 푼다.
이에 의해, 반송실(50)은, 반송 트레이(51)의 승강과 지지 자석(53a)의 승강과의 동기에 의해, 반송 트레이(51)의 승강 시에 있어서의 기판위치의 안정성을 향상시킬 수 있다. 또한, 반송실(50)은, 돌출 핀(51a)과 훅(54a)과의 쐐기결합에 의해, 반송로 간에 있어서의 기판위치의 안정성을 향상시킬 수 있다.
그러나, 특허문헌 1의 반송 공정에서는, 기판을 반송할 때마다, 트레이 스테이지(54f)에 부착된 훅(54a)과 반송 트레이(51)의 돌출 핀(51a)을 쐐기결합 시키는 것에서, 트레이 스테이지(54f)를 복수 회에 걸쳐 승강시키지 않으면 안 된다. 이 결과, 기판의 반송 공정에 있어서는, 복수 회에 걸친 반송 트레이(51)의 승강에 엄청난 시간을 필요로 하고, 기판처리의 스루풋(throughput)을 대폭 손상시켜 버린다는 문제점이 있었다. 한편, 이 문제는, 특허문헌 1의 반송 장치에 한정되는 것이 아니고, 기판을 반송하는 트레이를 복수 회에 걸쳐 승강시킬 필요가 있는 기타의 종래 반송 장치라도 동일하게 발생하는 것이었다.
또한, 특허문헌 1의 반송 장치에서는, 훅(54a)이 슬라이드 기구(54) 상에서 돌출 핀(51a)과 쐐기결합 하는 위치에 미리 고정되어 있다(도 4a). 이 때문에, 반송 트레이(51)를 반송실(50)로 반송할 때, 반송 트레이(51)와 훅(54a)이 접촉하지 않도록 슬라이드 기구(54)를 이동시키는 스페이스가 필요하게 되고, 장치의 체적이 커져버리는 문제가 있었다. 또한, 이 경우에는, 반송 트레이(51) 반입 후, 반송 트레이(51)를 승강시키기 위해서 훅(54a)을 반송로 위로 이동시킬 필요가 있으며, 반송 공정이 많아져 스루풋(throughput)을 손상시켜 버리는 문제가 있었다. 게다가 반송 트레이(51)를 승강시키는 승강 기구(52)와 반송 트레이(51)를 슬라이드 시키는 슬라이드 기구(54)가 왕로(R1)의 좌우에 각각 마련되어 있어서, 장치의 체적이 커져버리는 문제가 있었다.
본 발명은, 장치를 대형화하지 않고 기판의 반송 처리에 있어서의 스루풋(throughput)을 향상시키는 반송 장치와 반송 방법 및 상기 반송 장치를 구비한 진공처리장치를 제공한다.
본 발명의 일 형태는, 기판을 반송하는 반송 장치이다. 반송 장치는, 상기 기판을 세운 상태로 지지하면서 제1 반송로와 제2 반송로 사이에 상기 기판을 반송하는 반송 트레이와, 상기 반송 트레이를 지지할 수 있는 트레이 스테이지와, 상기 트레이 스테이지를 상승시켜서 상기 반송 트레이를 상기 각 반송로로부터 이탈시키고, 상기 트레이 스테이지를 하강시켜서 상기 반송 트레이를 상기 각 반송로로 설치하는 리프트 기구와, 상기 리프트 기구를 상기 제1 및 제2 반송로 간에서 이동시키는 슬라이드 기구를 포함하고, 상기 리프트 기구는, 상기 트레이 스테이지의 상승과 연동하여 상기 반송 트레이를 상기 트레이 스테이지에 록하고, 상기 트레이 스테이지의 하강과 연동하여 상기 반송 트레이의 록 상태를 해제하는 록 기구를 포함한다.
본 발명의 다른 형태는, 진공처리장치다. 진공처리장치는, 기판을 세운 상태로 지지하는 반송 트레이와, 상기 반송 트레이가 이동할 수 있는 제1 및 제2 반송로와, 상기 제1 및 제2 반송로 위에 설치되어 있으며, 상기 반송 트레이에 지지된 상기 기판을 진공 상태에서 처리하는 진공처리실과, 상기 제1 및 제2 반송로 상에 설치됨과 함께 상기 진공 처리실에 연결되어 있으며, 상기 반송 트레이가, 상기 기판을 세운 상태로 지지하면서 상기 제1 반송로와 상기 제2 반송로 사이에 같은 기판을 반송하기 위해서 사용되는 반송실을 포함하고, 상기 반송실은, 상기 반송 트레이를 지지할 수 있는 트레이 스테이지와, 상기 트레이 스테이지를 상승시켜서 상기 반송 트레이를 상기 각 반송로로부터 이탈시키고, 상기 트레이 스테이지를 하강시켜서 상기 반송 트레이를 상기 각 반송로에 설치하는 리프트 기구와, 상기 리프트 기구를 상기 제1 및 제2 반송로 사이에서 이동시키는 슬라이드 기구를 포함하고, 상기 리프트 기구가, 상기 트레이 스테이지의 상승과 연동하여 상기 반송 트레이를 상기 트레이 스테이지에 록하고, 상기 트레이 스테이지의 하강과 연동해서 상기 반송 트레이의 록 상태를 해제하는 록 기구를 포함한다.
본 발명의 또 다른 형태는, 기판을 세운 상태로 지지하는 반송 트레이를 제1 반송로에서 제2 반송로로 이동시키는 반송 방법이다. 이 방법은, 상기 제1 반송로에 트레이 스테이지를 배치하는 단계, 상기 트레이 스테이지를 상승시켜서, 상기 제1 반송로 위에 위치하는 상기 반송 트레이를 상기 트레이 스테이지 위로 재치(載置)하는 단계, 상기 트레이 스테이지를 상기 제1 반송로에서 상기 제2 반송로로 이동시키는 단계, 상기 트레이 스테이지를 하강시켜서, 상기 트레이 스테이지 위의 상기 반송 트레이를 상기 제2 반송로 위로 재치(載置)하는 단계를 포함하고, 상기 트레이 스테이지를 상승시키는 단계는, 상기 트레이 스테이지를 상승하도록 연동하는 록 기구에 의해, 그 상승 시에 상기 반송 트레이를 상기 트레이 스테이지에 록 하는 단계를 포함하고, 상기 트레이 스테이지를 하강시키는 단계는, 상기 트레이 스테이지의 하강하도록 연동하는 상기 록 기구에 의해, 그 하강 시에 상기 반송 트레이의 록 상태를 해제하는 단계를 포함한다.
상술한 반송 장치와 반송 방법 및 상기 반송 장치를 구비한 진공처리장치에 따르면, 장치를 대형화하지 않고 기판의 반송 처리에 있어서의 스루풋(throughput)을 향상시킬 수 있다.
도 1은 진공처리장치의 전체를 모식적으로 나타내는 사시도이다.
도 2는 트라버스 장치를 나타내는 측면도이다.
도 3a 내지 도 3d는, 각각 트라버스 장치를 채용한 반송 공정으로 나타내는 도면이다.
도 4a 내지 도 4d는, 각각 종래예의 트라버스 장치를 채용한 반송 공정으로 나타내는 도면이다.
도 5a 내지 도 5d는, 각각 종래예의 트라버스 장치를 채용한 반송 공정으로 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명의 일 실시형태의 반송 장치를 도면을 따라서 설명한다. 도 1은, 반송 장치(30)를 갖춘 진공처리장치(10)를 모식적으로 나타내는 사시도이다. 도 1에 있어서, 진공처리장치(10)는, 탈착실(11), 로드/언로드실(이하, LL실(12)이라고 한다.), 제1 처리실(13), 제2 처리실(14) 및 반송실(15)이 각각 게이트 밸브(16)를 통해서 연결되어 있다.
진공처리장치(10)에는, 탈착실(11)에서 반송실(15)로 향하여 연장되는 제1 반송로(이하, 왕로(R1)라고 한다.)와, 반송실(15)에서 탈착실(11)로 향하여 연장되는 제2 반송로(이하, 귀로(R2)라고 한다.)가 설치되어 있다. 본 실시형태에 있어서의 왕로(R1)와 귀로(R2)는 서로 평행하다.
왕로(R1) 및 귀로(R2)에 있어서는, 각각 복수의 반송 트레이(17)가, 랙크피니언 기구에 의해 반송된다. 각 반송 트레이(17)는, 기판(S)의 바깥측 가장자리를 둘러싸는 사각 테두리체 형상으로 형성되는 것이 바람직하며, 이 경우에는 예를 들면 반송 트레이(17)는, 그 하방에 마련된 랙(18)과, 왕로(R1) 및 귀로(R2)로 분배된 피니언(pinion)(19)이 쐐기결합 되고, 각 피니언(19)이 회전함으로써, 왕로(R1) 및 귀로(R2)를 따라 반송된다.
각 반송 트레이(17)의 좌우 양측(반송 방향에 있어서의 전측 및 후측)에는, 각각 피쐐기결합부로서의 돌출부(17a)가 마련되어 있다. 각 돌출부(17a)는, 반송 트레이(17)의 반송 공정에 있어서, 해당 반송 트레이(17)를 트레이 스테이지(38)(도 2 참조)에 록 하기 위해서 이용된다. 또한, 각 반송 트레이(17)의 상측에는, 트레이 자석(21)이 설치되어 있다. 제1 처리실(13), 제2 처리실(14) 및 반송실(15) 각각에는, 반송 트레이(17)의 트레이 자석(21)과 자기적으로 작용하는 지지 장치(22)가 설치되어 있다. 반송 트레이(17)의 트레이 자석(21)은, 해당 반송 트레이(17)의 반송 과정에 있어서, 각 지지 장치(22)의 보유 자석과 작용하는 것에 의해, 해당 반송 트레이(17)를 각 반송로의 상측에서 비접촉적으로 구속한다.
본 실시형태에 있어서는, 왕로(R1)에 있어서의 반송 트레이(17)의 반송 방향을 X방향이라고 한다. 또한, 수평면에 대하여 수직하는 방향을 Z방향이라 하고, X방향 및 Z방향과 직교하는 방향이며, 왕로(R1)에서 귀로(R2)로 향하는 방향을 Y방향이라고 한다.
탈착실(11)은, 외부에서 투입되는 처리 전 기판(S)을 반송 트레이(17)에 설치하고, 해당 기판(S)을 세운 상태로 LL실(12)로 반출한다. 또한, 탈착실(11)은, 반송 트레이(17)에 설치된 처리 후 기판(S)을 반송 트레이(17)로부터 떼어내어, 진공처리장치(10)의 외부로 반출한다. 탈착실(11)은, 상기 기판(S)의 탈착을 대기압 하에서 실시한다.
LL실(12)은, 실내를 대기압으로 하여, 탈착실(11)로부터 반송 트레이(17)를 왕로(R1)를 따라 반입하고, 그 후, 실내를 감압하는 것에 의해, 해당 반송 트레이(17)를 왕로(R1)를 따라 제1 처리실(13)로 반출한다. 또한, LL실(12)은, 실내를 감압하여, 제1 처리실(13)로부터 반송 트레이(17)를 귀로(R2)를 따라 반입하고, 그 후, 실내를 대기로 해방하는 것에 의해, 해당 반송 트레이(17)를 귀로(R2)를 따라 탈착실(11)로 반출한다.
제1 처리실(13)은, LL실(12)로부터 반송 트레이(17)를 왕로(R1)를 따라 반입하고, 지지 장치(22)에 의한 자기적인 작용에 의해, 해당 반송 트레이(17)를 왕로(R1) 상에 구속한다. 제1 처리실(13)은, 반송 트레이(17)에 설치할 수 있었던 기판(S)에 성막 처리나 가열 처리 등의 각종의 처리를 실시한 후, 지지 장치(22)에 의한 구속을 해제하고, 해당 반송 트레이(17)를 왕로(R1)를 따라 제2 처리실(14)로 반출한다.
또한, 제1 처리실(13)은, 제2 처리실(14)로부터 반송 트레이(17)를 귀로(R2)를 따라 반입하고, 지지 장치(22)에 의한 자기적인 작용에 의해, 해당 반송 트레이(17)를 귀로(R2) 상에 구속한다. 제1 처리실(13)은, 반송 트레이(17)에 설치할 수 있었던 기판(S)에 성막 처리나 가열 처리 등의 각종의 처리를 실시한 후, 지지 장치(22)에 의한 구속을 해제하고, 해당 반송 트레이(17)를 귀로(R2)를 따라 LL실(12)로 반출한다. 제1 처리실(13)은, 상기 반송 트레이(17)의 반입/반출을 감압하에서 실시한다.
제2 처리실(14)은, 제1 처리실(13)로부터 반송 트레이(17)를 왕로(R1)를 따라 반입하고, 지지 장치(22)에 의한 자기적인 작용에 의해, 해당 반송 트레이(17)를 왕로(R1) 상에 구속한다. 제2 처리실(14)은 반송 트레이(17)에 설치할 수 있었던 기판(S)에 성막 처리나 가열 처리 등의 각종의 처리를 실시한 후, 지지 장치(22)에 의한 구속을 해제하고, 해당 반송 트레이(17)를 왕로(R1)를 따라 반송실(15)로 반출한다.
또한, 제2 처리실(14)은, 반송실(15)로부터 반송 트레이(17)를 귀로(R2)를 따라 반입하고, 지지 장치(22)에 의한 자기적인 작용에 의해, 해당 반송 트레이(17)를 귀로(R2) 상에 구속한다. 제2 처리실(14)은, 반송 트레이(17)에 설치할 수 있었던 기판(S)에 성막 처리나 가열 처리 등의 각종의 처리를 실시한 후, 지지 장치(22)에 의한 구속을 해제하고, 해당 반송 트레이(17)를 귀로(R2)를 따라 제1 처리실(13)로 반출한다. 제2 처리실(14)은, 상기 반송 트레이(17)의 반입/반출을 감압하에서 실시한다.
반송실(15)에 있어서의 X방향의 양측(반송 방향에 있어서의 앞측 및 후측)에는, 반송 장치로서의 한 쌍의 트라버스 장치(30)가 탑재되어 있다. 반송실(15)은, 제2 처리실(14)로부터 반송 트레이(17)를 왕로(R1)를 따라 반입하고, 지지 장치(22)에 의한 자기적인 작용에 의해, 해당 반송 트레이(17)를 일단 왕로(R1) 상에 구속한다. 반송실(15)은, 왕로(R1) 상에 놓을 수 있는 반송 트레이(17)의 자기적인 구속을 풀면서, 트라버스 장치(30)를 채용한 반송 처리에 의해, 해당 반송 트레이(17)를 왕로(R1)로부터 귀로(R2) 상으로 반송한다. 반송실(15)은, 귀로(R2)로 재치(載置)한 반송 트레이(17)를 귀로(R2)를 따라 제2 처리실(14)로 반출한다.
반송실(15)은, 왕로(R1)로부터 귀로(R2)로의 반송 트레이(17)의 반송을 감압하에서 실시한다. 또한, 반송실(15)은, 반송 트레이(17)를 왕로(R1)로부터 귀로(R2)로 반송하는 사이, 트라버스 장치(30)의 록 기능에 의해, 해당 반송 트레이(17)를 트레이 스테이지(38)(도 2 참조)에 록 한다.
도 2는 트라버스 장치(30)(하나만 나타낸다)을 모식적으로 나타내는 도면으로, 도 3a 내지 도 3d은 각각 트라버스 장치(30)를 채용한 반송 공정을 나타내는 공정도이다. 도 2에 있어서, 트라버스 장치(30)는, 슬라이드 기구(31)와 리프트 기구(32)을 구비하고 있다.
슬라이드 기구(31)에는, 슬라이드 모터(M1)와, 슬라이드 모터(M1)의 구동축으로 연결된 전달부(33)가 구비되어 있다. 전달부(33)의 상측에는, Y방향으로 연장되는 가이드 레일(33a)이 마련되며, 가이드 레일(33a)에는, 리프트 기구(32)가 설치되어 있다. 전달부(33)는, 슬라이드 모터(M1)의 구동력을 스플라인 샤프트 등의 동력전달 샤프트로 받아서, 슬라이드 모터(M1)의 구동력을 리프트 기구(32)의 이동력으로 변환한다.
슬라이드 기구(31)는, 슬라이드 모터(M1)가 정 회전할 때, 슬라이드 모터(M1)의 구동력에 의해, 리프트 기구(32)를 Y방향으로 이동시킨다(도 2에 있어서의 2점 긴 쇄선 위치에서 실선 위치로 이동시킨다). 또한, 슬라이드 기구(31)는, 슬라이드 모터(M1)가 역전할 때, 슬라이드 모터(M1)의 구동력에 의해, 리프트 기구(32)를 반Y방향으로 이동시킨다(도 2에 있어서의 실선 위치에서 2점 긴 쇄선 위치로 이동시킨다).
본 실시형태에 있어서는, X방향에서 보아, 트레이 스테이지(38)가 왕로(R1)의 상방 혹은 하방에 있을 때의 리프트 기구(32)의 위치를, 왕로 위치라고 한다. 또한, X방향에서 보아, 트레이 스테이지(38)가 귀로(R2)의 상방 혹은 하방에 있을 때의 리프트 기구(32)의 위치를, 귀로 위치라고 한다. 슬라이드 기구(31)는, 리프트 기구(32)를 왕로위치와 귀로위치 사이로 이동시킨다.
리프트 기구(32)에는, 리프트 모터(M2)와, 리프트 모터(M2)의 구동축으로 연결된 전달부(35)가 구비되어 있다. 전달부(35)의 Y방향에 있어서의 가장자리부측에는, Z방향으로 연장되는 지지 암(36)이 마련되며, 해당 지지 암(36)의 Y방향에 있어서의 가장자리부측에는, Z방향으로 연장되는 가이드 레일(35a)이 마련되어 있다. 가이드 레일(35a)에는, Z방향을 따라 왕복 이동이 가능한 트레이 스테이지(38)가 부착되어 있다. 전달부(35)는, 리프트 모터(M2)의 구동력을 스플라인 샤프트 등의 동력전달 샤프트로 받고, 리프트 모터(M2)의 구동력을 트레이 스테이지(38)의 이동력으로 변환한다.
리프트 기구(32)는, 리프트 모터(M2)가 정 회전할 때, 리프트 모터(M2)의 구동력에 의해, 트레이 스테이지(38)를 Z방향으로 이동시킨다(도 2에 있어서의 실선위치에서 2점 긴 쇄선 위치로 이동시킨다). 또한, 리프트 기구(32)는, 리프트 모터(M2)가 역전할 때, 리프트 모터(M2)의 구동력에 의해, 트레이 스테이지(38)를 반Z방향으로 이동시킨다(도 2에 있어서의 2점 긴 쇄선 위치에서 실선위치로 이동시킨다).
본 실시형태에 있어서는, Z방향에 있어서, 트레이 스테이지(38)가 왕로(R1) 혹은 귀로(R2)보다도 하방에 있을 때의 같은 트레이 스테이지(38)의 위치를, 대기 위치라고 한다. 또한, Z방향에 있어서, 트레이 스테이지(38)가 왕로(R1) 혹은 귀로(R2)보다도 상방에 있을 때의 같은 트레이 스테이지(38)의 위치를, 이탈 위치(반송 트레이(17)가 반송로(R1, R2)로부터 이탈하는 위치)라고 한다. 리프트 기구(32)는, 트레이 스테이지(38)를 대기 위치와 이탈 위치 사이에서 이동시킨다.
리프트 기구(32)에 있어서의 지지 암(36)의 선단(상단 부근)에는, 띠 형상을 하는 훅(37)의 기단(基端)이, X방향으로 연장되는 회동축(36a)을 중심으로 하여 회동이 자유롭도록 지지되어 있다. 훅(37)의 첨단에는, 반송 트레이(17)의 돌출부(7a)와 쐐기결합이 가능한 노치(notch)(37a)가 형성되어 있다. 훅(37)은, 반송 트레이(17)가 트레이 스테이지(38)의 상방에 위치하는 상태에 있어서, 그 노치(37a)와 돌출부(7a)가 이간하는 위치와, 그 노치(37a)와 돌출부(7a)가 쐐기결합하는 위치(도 2에 있어서의 2점 긴 쇄선 위치) 사이를 회동한다. 노치(37a)와 돌출부(7a)가 쐐기결합하는 상태에 있어서, 반송 트레이(17)는 트레이 스테이지(38)에 록 된다. 또한, 노치(37a)와 돌출부(7a)가 이간하는 상태에 있어서, 반송 트레이(17)의 록 상태가 해제된다.
본 실시형태에 있어서는, 노치(37a)와 돌출부(7a)가 쐐기결합하는 훅(37)의 위치를, 록 위치라고 한다. 또한, 노치(37a)와 돌출부(7a)가 이간하는 훅(37)의 위치이며, 훅(37)이 반송 트레이(17)의 이동 궤적으로부터 이간하는 위치를, 해제 위치라고 한다. 한편, 도 2에 있어서의 훅(37)의 실선위치는, 록 위치와 해제 위치 사이의 위치를 나타낸다.
훅(37)의 첨단에는, 반Z방향으로 연장되는 봉 형상의 링크 부재(39)가, X방향으로 연장되는 축(C1)을 중심으로 하여 회동이 자유롭도록 지지되어 있다. 링크 부재(39)의 하단은, X방향으로 연장되는 축(C2)을 중심으로 하여, 트레이 스테이지(38)의 상단에 회전이 자유롭도록 지지되어 있다. 링크 부재(39)은, 트레이 스테이지(38)가 상승할 때, 트레이 스테이지(38) 상동(上動)을 훅(37)으로 전달하고, 훅(37)을 오른쪽으로 돌려서 회동시킨다. 또한, 링크 부재(39)는, 트레이 스테이지(38)가 하강할 때, 트레이 스테이지(38) 하동(下動)을 훅(37)으로 전달하고, 훅(37)을 왼쪽으로 돌려서 회동시킨다.
상세히 서술하면, 반송 트레이(17)가 트레이 스테이지(38)의 상방에 위치하는 상태에 있어서, 트레이 스테이지(38)가 대기 위치에서 이탈 위치로 상방 이동하면, 훅(37)은, 링크 부재(39)를 통하여, 트레이 스테이지(38)의 상승과 연동하여 해제 위치에서 록 위치로 이동한다. 다시 말해, 트레이 스테이지(38)가 상승하면, 반송 트레이(17)가, 트레이 스테이지(38)에 록 된다. 반대로, 반송 트레이(17)가 트레이 스테이지(38)로 재치(載置)되는 상태에 있어서, 트레이 스테이지(38)가 이탈 위치에서 대기 위치로 하방 이동하면, 훅(37)은, 링크 부재(39)를 통하여, 트레이 스테이지(38)의 하강과 연동하여 록 위치에서 해제 위치로 이동한다. 다시 말해, 트레이 스테이지(38)가 하강하면, 반송 트레이(17)의 록 상태가 해제된다.
본 실시형태에 있어서는, 이들 훅(37)과 링크 부재(39)에 의해 록 기구가 구성되어 있다.
도 3a 내지 도 3d은, 트라버스 장치(30)를 채용한 기판(S)의 반송 공정을 나타내는 도면이다. 우선, 반송실(15)의 내부에서는, 도3a에서 나타내듯이, 트레이 스테이지(38)가 왕로(R1)의 위치(이하, 초기 위치라고 한다.)에 배치되어 있다. 또한, 훅(37)이 해제 위치에 배치되어 반송 트레이(17)의 이동 궤적으로부터 이간되어 있다.
이 상태에서, 제2 처리실(14)로부터 반송 트레이(17)가 반송실(15)로 반입되면, 트라버스 장치(30)는, 도 3b에서 나타내듯이, 리프트 기구(32)을 구동하고, 트레이 스테이지(38)를 초기 위치에서 이탈 위치로(화살표 방향으로) 상방 이동시킨다. 이에 의해, 반송 트레이(17)가, 트레이 스테이지(38) 위로 재치(載置)되어서, 왕로(R1)로부터 이탈한다.
이때, 지지 장치(22)는, 트레이 스테이지(38)가 상승한 만큼만 지지 자석(MG)을 상승시키고, 지지 자석(MG)과 트레이 자석(21)과의 사이의 거리를 계속해서 유지한다. 이에 의해, 지지 장치(22)는, 반송 트레이(17)를 왕로(R1)의 상방에서 자기적으로 계속해서 구속한다. 게다가, 리프트 기구(32)는, 트레이 스테이지(38)의 상승과 연동하여, 훅(37)을 해제 위치에서 록 위치로 이동시킨다. 다시 말해, 트라버스 장치(30)는, 반송 트레이(17)를 왕로(R1)에서 이탈시키면서, 해당 반송 트레이(17)를 트레이 스테이지(38)에 록 한다.
반송 트레이(17)가 트레이 스테이지(38)에 록 되면, 지지 장치(22)는, 도 3c에서 나타내듯이, 지지 자석(MG)을 더욱 상승시키고, 지지 자석(MG)과 트레이 자석(21) 사이의 거리를 충분히 이간시킨다. 이에 의해, 지지 장치(22)는, 반송 트레이(17)로의 자기적인 구속을 해제한다. 반송 트레이(17)의 구속이 해제되면, 트라버스 장치(30)는, 슬라이드 기구(31)를 구동하고, 리프트 기구(32)를 왕로위치에서 귀로위치로(화살표 방향으로) 이동한다. 이에 의해, 트레이 스테이지(38)이 귀로(R2)의 바로 위에 배치된다.
이 동안, 반송 트레이(17)는, 지지 장치(22)에 의한 자기적인 구속을 받지 않을 뿐, 트라버스 장치(30)의 록 기구에 의한 기계적인 구속을 받는 것에서, 트레이 스테이지(38)에 대한 상대적인 위치를 유지한다. 이 결과, 반송 트레이(17)는, 트레이 스테이지(38)로부터의 위치 엇갈림을 초래하는 일없이, 왕로(R1)의 바로 위에서 귀로(R2)의 바로 위로 반송된다.
리프트 기구(32)가 귀로위치에 도달하면, 트라버스 장치(30)은, 도 3d에서 나타내듯이, 리프트 기구(32)를 구동하고, 트레이 스테이지(38)를 이탈 위치에서 초기 위치로(화살표 방향으로) 하방 이동시킨다. 이에 의해, 반송 트레이(17)가 트레이 스테이지(38)에서 귀로(R2) 위로 재치(載置)된다.
이때, 지지 장치(22)는, 지지 자석(MG)을 하강시키는 것에 의해, 지지 자석(MG)과 트레이 자석(21) 사이의 거리를 단축하고, 반송 트레이(17)를 귀로(R2)의 상방에서 자기적으로 구속한다. 또한, 리프트 기구(32)는, 트레이 스테이지(38)의 하강과 연동하여, 훅(37)을 록 위치에서 해제 위치로 이동시킨다. 다시 말해, 트라버스 장치(30)는, 반송 트레이(17)를 귀로(R2)로 재치(載置)시키면서, 해당 반송 트레이(17)의 록 상태를 해제한다.
반송 트레이(17)가 귀로(R2)로 재치(載置)되면, 트라버스 장치(30)는, 슬라이드 기구(31)를 구동하고, 리프트 기구(32)를 귀로위치에서 초기 위치로 이동한다. 이에 의해, 트레이 스테이지(38)가 귀로(R2) 상에서 왕로(R1) 상으로 반송된다. 이후 동일하게, 반송실(15)은, 제2 처리실(14)로부터 반송 트레이(17)가 반입될 때마다, 지지 장치(22)와 트라버스 장치(30)을 구동하여, 왕로(R1) 상의 반송 트레이(17)를 귀로(R2)로 반송한다.
상기 실시형태의 반송 장치(30)(진공처리장치(10))는 이하의 이점을 갖는다.
(1) 트라버스 장치(30)는, 트레이 스테이지(38)의 하강과 상승에 의해 해당 반송로(R1, R2)에 대한 반송 트레이(17)의 재치(載置)와 이탈을 선택적으로 실시하는 리프트 기구(32)와, 리프트 기구(32)를 반송로(R1, R2) 사이에서 이동시키는 슬라이드 기구(31)를 소유한다. 그리고 리프트 기구(32)는, 트레이 스테이지(38)의 상승과 연동하여 반송 트레이(17)를 트레이 스테이지(38)에 록 하고, 트레이 스테이지(38)의 하강과 연동하여 반송 트레이(17)의 록 상태를 해제하는 록 기구 (일 실시예에서는, 훅(37) 및 링크 부재(39))을 갖는다.
따라서, 트라버스 장치(30)는, 트레이 스테이지(38)를 1회 상승시키는 것만으로, 반송 트레이(17)를 왕로(R1) 상에서 이탈시키면서, 동시에, 반송 트레이(17)를 트레이 스테이지(38)에 록 할 수 있다. 또한, 트라버스 장치(30)는, 트레이 스테이지(38)를 1회 하강시키는 것만으로, 반송 트레이(17)의 록 상태를 해제할 수 있으면서, 동시에, 반송 트레이(17)를 귀로(R2) 위로 재치(載置)할 수 있다. 다시 말해, 반송 트레이(17)를 트레이 스테이지(38)에 록 하는데 필요한 반송 트레이(17)의 이동은 1회의 상승만이며, 반송 트레이(17)와 트레이 스테이지(38)와의 록을 해제하는데 필요한 반송 트레이(17)의 이동은 1회의 하강만이다. 이 결과, 트라버스 장치(30)는, 반송 처리에 있어서의 트레이 스테이지(38), 나아가서는 반송 트레이(17)의 승강 회수를 최소한으로 억제할 수 있다는 것에서, 스루풋(throughput)을 향상시킬 수 있다. 게다가, 록 기구(37, 39)가 트레이 스테이지(38)의 상승 및 하강에 연동하여 구동되는 것에서, 록 기구의 구동원을 별도로 마련할 경우에 비하여, 록 기구의 공간 절약화를 도모할 수 있고, 나아가서는 장치(30)의 소형화를 도모할 수 있다.
(2) 훅(37)은, 반송 트레이(17)의 돌출부(7a)와 쐐기결합함으로써 반송 트레이(17)를 록 하는 록 위치와, 돌출부(7a)로부터 이간함으로써 반송 트레이(17)의 록 상태를 해제하여 반송 트레이(17)의 이동 궤적으로부터 이간되는 해제 위치 사이를 회동한다. 또한, 링크 부재(39)는, 트레이 스테이지(38)와 훅(37) 사이에 연결되어서, 트레이 스테이지(38)의 상승과 하강을 훅(37)으로 전달하고, 훅(37)을 록 위치와 해제 위치로 이동한다.
따라서, 트라버스 장치(30)에 있어서는, 트레이 스테이지(38)의 상하 움직임이 링크 부재(39)을 통해서 훅(37)의 회동으로 변환된다. 그 결과, 트라버스 장치(30)는, 반송 트레이(17)를 왕로(R1)로부터 이탈시키는 것만으로 반송 트레이(17)를 록 할 수 있고, 반송 트레이(17)를 귀로(R2)로 재치(載置)하는 것만으로 반송 트레이(17)의 록 상태를 해제할 수 있다. 따라서, 상기 트라버스 장치(30)는, 반송 처리에 있어서의 트레이 스테이지(38)의 승강 회수를 최소한으로 억제할 수 있다는 것에서, 스루풋(throughput)을 향상시킬 수 있다. 또한, 훅(37)이 해제 위치로 이동하여 반송 트레이(17)와의 록이 해제되면, 훅(37)이 반송 트레이(17)의 이동 궤적으로부터 이탈하게 된다. 따라서 트레이 스테이지(38)를 미리 왕로(R1) 상의 대기 위치에 배치할 수 있다. 왜냐하면, 트레이 스테이지(38)가 대기 위치에 있을 때는, 반송 트레이(17)의 이동이 트레이 스테이지(38) 및 훅(37)에 의해 방해받지 않도록 하기 위해서 다. 이것으로, 트레이 스테이지(38)를 왕로(R1)로부터 대피시키기 위한 리프트 기구(32)의 이동 공간을 삭감할 수 있다. 나아가서는, 반송실(15)이나 진공처리장치(10)의 소형화를 도모할 수 있다.
(3) 록 기구(37, 39)는, 트레이 스테이지(38)의 상하 움직임을 훅(37)의 회동으로 변환하는 것에서, 트레이 스테이지(38)의 상하 움직임을 단지 훅(37)의 상하 움직임으로서 이용할 경우에 비하여, 훅(37)(노치(37a))의 변위 범위를 확대할 수 있다. 따라서 트라버스 장치(30)는, 반송 트레이(17)의 사이즈나 형상, 나아가서는, 기판(S)의 사이즈나 형상에 관계되는 적용 범위를 확대할 수 있다.
(4) 훅(37)은, 슬라이드 기구(31)에 고정되지 않고, 트레이 스테이지(38)의 상하 움직임으로 연동하여 회동한다. 그 때문에, 기판 처리실(14) 및 반송실(15) 사이에 있어서의 반송 트레이(17)의 반송 시, 훅(37)과 반송 트레이(17)와의 접촉을 피하기 위해서, 슬라이드 기구(31)를 이동시키지 않을 수 있다. 따라서 슬라이드 기구(31)의 이동하는 공간을 축소화할 수 있다는 것에서, 장치의 소형화를 도모할 수 있다.
(5) 반송로(왕로(R1))의 위치에서 대기하고 있는 트레이 스테이지(38) 상에 반송 트레이(17)를 직접 반입할 수 있다. 이 때문에, 기판(S)의 반입 후에 왕로(R1) 위까지 트레이 스테이지(38)을 이동시킬 필요가 없다. 이 때문에, 반송 처리에 있어서의 택트 타임을 단축해서 스루풋(throughput)을 향상시킬 수 있다.
(6) 리프트 기구(32)를 슬라이드 기구(31)의 상부에 마련했기 때문에, 반송실(15) 내의 공간을 축소시킬 수 있고, 나아가서는 장치의 소형화를 도모할 수 있다.
(7) 진공처리장치(10)는, 반송실(15)에 트라버스 장치(30)를 탑재한다는 것에서, 반송 처리에 있어서의 트레이 스테이지(38)(반송 트레이(17))의 승강 회수를 최소한으로 억제할 수 있으며, 나아가서는, 기판(S)에 관계되는 일련의 처리 공정에 있어서, 스루풋(throughput)을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 실시형태는, 이하의 형태에서 실시할 수도 있다.
훅(37)은, 트레이 스테이지(38)의 상하 움직임을 받아서 상하로 움직이는 구성일 수도 있다. 즉, 훅(37)은, 트레이 스테이지(38)의 상하 움직임에 연동하여, 반송 트레이(17)를 록 하는 록 위치와 반송 트레이(17)의 록 상태를 해제하는 해제 위치 사이를 (예를 들면 지지 암(36)를 따라 상하로) 이동하는 구성일 수도 있다. 이 경우, 바람직하게는, 훅(37)을 아래쪽으로 이동시킴과 동시에, 혹은 아래쪽으로 이동시킨 후에, 해당 훅(37)을 반송 트레이(17)의 이동 궤적으로부터 벗어나게 할 수 있다.
피쐐기결합부를 돌출부(7a) 대신, 예를 들면, 반송 트레이(17)가 갖는 오목부일 수도 있다. 즉, 훅(37)과 쐐기결합함으로써, 반송 트레이(17)를 트레이 스테이지(38)에 록 하고, 훅(37)으로부터 이간시킴으로써, 반송 트레이(17)의 록 상태를 해제하는 피쐐기결합부는, 당업자라면임의의 구성을 채용할 수 있다.
상기 실시형태에 있어서는, 훅(37)의 노치(37a)와 반송 트레이(17)의 돌출부(7a)가 쐐기결합함으로써, 반송 트레이(17)가 트레이 스테이지(38)에 록 된다. 이에 한하지 않고, 록 기구는 자석기구일 수도 있다. 일례로서, 노치(37a)와 돌출부(7a)를 각각 자석으로 변경할 수도 있다. 이 경우, 훅(37)에 마련되는 N극과 반송 트레이(17)에 마련되는 S극이 근접함으로써, 반송 트레이(17)가 트레이 스테이지(38)에 록 된다. 즉, 트레이 스테이지(38)의 상승과 연동하여 반송 트레이(17)를 트레이 스테이지(38)에 록 하고, 트레이 스테이지(38)의 하강과 연동하여 반송 트레이(17)의 록 상태를 해제하는 록 기구는, 당업자라면 여러 가지 구성을 채용할 수 있다.
록 기구를 훅(37)만으로 구성할 수도 있다(즉, 링크 부재(39)를 생략할 수도 있다). 이 경우에는, 트레이 스테이지(38)의 상승 전에 훅(37)을 해제 위치(반송 트레이(17)의 이동 궤적으로부터 이간되는 위치)에 위치시켜 두고, 트레이 스테이지(38)의 상승 후에 훅(37)을 록 위치로 이동시킬 수 있다.
상기 실시형태에 있어서는, 반송로가 왕로(R1)와 귀로(R2)에 의해 구성되어, 왕로(R1)와 귀로(R2)가 서로 평행하게 설치되어 있다. 이에 한하지 않고, 예를 들면, 반송로는 3개 이상일 수도 있고, 각 반송로가 교차하는 구성일 수도 있다.
상기 실시형태에 있어서의 반송로는, 랙크 피니언 기구를 채용하지만, 반송로는, 롤러 반송식, 컨베이어 반송식 혹은 진공 처리실 저면에 고정된 레일 위를 차륜을 가진 반송 트레이가 달리는 레일 반송식 기구일 수도 있고, 또한 이 반송 방법들에만 한정되는 것도 아니다.
상기 실시형태에 있어서의 트레이 스테이지(38)의 초기 위치 및 이탈 위치, 트레이 스테이지(38)에 의한 반송 트레이(17)의 재치(載置) 위치, 및 반송 트레이(17)의 쐐기결합 위치의 높이는, 반송 트레이(17)가 반출입되는 진공 처리실(10)의 최하변에서 최상변까지의 사이에서 임의로 변경할 수 있다. 이 위치들은, 반송 트레이(17)가, 트라버스 장치(30)의 반송 처리에 의해, 하나의 반송로에서 다른 반송로로 반송할 수 있는 위치일 수 있다. 단, 트레이 스테이지(38)의 초기 위치는, 트레이 스테이지(38)의 표면(반송 트레이(17)의 하면(下面)을 지지하는 면)이 반송로(R1, R2)의 표면보다도 낮아지도록 설정하는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 반송 트레이(17)를 제2 처리실(14)에서 반송실(15)로 반입할 때에도, 트레이 스테이지(38)에 의해 반송 트레이(17)의 이동을 방해할 수 없다. 이로 인해, 왕로(R1)에서 귀로(R2)로의 트레이 스테이지(38)의 이동 거리를 최소한으로 할 수 있다. 그렇지만, 이 초기 위치는 본 발명을 제한하는 것이 아니다. 가령, 반송 트레이(17)의 이동 궤적으로부터 벗어나도록 하기 위해 트레이 스테이지(38)을 하방으로 이동시킬 필요가 생겨도, 반송 트레이(17)를 상하로 움직이게 하는 횟수는 증가하지 않기 때문이다.
상기 실시형태에 있어서는, 2개의 반송로를 왕로(R1)와 귀로(R2)에 의해 구성했다. 이에 한하지 않고, 2개의 반송로 각각을 반송 트레이(17)의 왕로와 귀로의 양쪽에 이용할 수도 있다. 이 경우, 예를 들면, 반송 트레이(17)가 하나의 반송로에서 다른 반송로로 이동하여 재치되면, 트라버스 장치(30)가 트레이 스테이지(38)를 상기 기타의 반송로 위에 대기시켜서, 상기 기타의 반송로에 있는 반송 트레이(17)를 다시 상기 하나의 반송로로 이동하는 구성일 수도 있다.
상기 실시형태에 있어서는, 복수의 반송로가 하나의 왕로(R1)과 하나의 귀로(R2)에 의해 구성되지만, 이에 한하지 않고, 복수의 반송로가 복수의 왕로(R1)과 복수의 귀로(R2)에 의해 구성될 수도 있다.
R1 반송로의 일례인 왕로 R2 반송로의 일례인 귀로
S 기판 10 진공처리장치
13 진공처리실의 일례인 제1 처리실
14 진공처리실의 일례인 제2 처리실
15 반송실 17 반송 트레이
17a 피쐐기결합부로서의 돌출부
30 반송 장치로서의 트라버스 장치
31 슬라이드 기구 32 리프트 기구
37 쐐기결합부의 일례인 훅 38 트레이 스테이지
39 링크의 일례인 링크 부재

Claims (13)

  1. 기판을 반송하는 반송 장치이며,
    상기 기판을 세운 상태로 지지하면서 제1 반송로와 제2 반송로 사이에 상기 기판을 반송하는 반송 트레이;
    상기 반송 트레이를 지지할 수 있는 트레이 스테이지;
    상기 트레이 스테이지를 상승시켜서 상기 반송 트레이를 상기 각 반송로에서 이탈시키고, 상기 트레이 스테이지를 하강시켜서 상기 반송 트레이를 상기 각 반송로로 재치(載置)하는 리프트 기구; 및
    상기 리프트 기구를 상기 제1 및 제2 반송로 사이에서 이동시키는 슬라이드 기구를 포함하고,
    상기 리프트 기구는, 상기 트레이 스테이지의 상승과 연동하여 상기 반송 트레이를 상기 트레이 스테이지에 록 하고, 상기 트레이 스테이지의 하강과 연동하여 상기 반송 트레이 록 상태를 해제하는 록 기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 트레이 스테이지가, 상기 제1 반송로 위 및 제2 반송로 위에 선택적으로 배치되는 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 트레이 스테이지가, 상기 리프트 기구에 상하 이동이 가능하도록 지지되어 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 록 기구와 상기 트레이 스테이지를 연결하고, 상기 트레이 스테이지의 상하 움직임에 연동하여 상기 록 기구를 작동시키는 링크를 구비하는 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 반송 트레이가 상기 각 반송로로 재치(載置)될 때까지 상기 트레이 스테이지가 하강할 때, 상기 링크는, 상기 록 기구를 상기 반송 트레이의 이동 궤적으로부터 벗어나는 위치까지 이동시키는 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 록 기구는,
    상기 반송 트레이의 피쐐기결합부와 쐐기결합함으로써 상기 트레이 스테이지에 상기 반송 트레이를 록 하는 록 위치와, 상기 피쐐기결합부에서 이간됨으로써 상기 반송 트레이 록 상태를 해제하는 해제 위치 사이를 이동하는 쐐기결합부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 쐐기결합부는, 상기 록 위치와 상기 해제 위치에 선택적으로 위치하도록 상기 리프트 기구에 회동이 자유롭도록 지지되어 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 리프트 기구는, 상기 쐐기결합부를 회동이 자유롭도록 지지하는 지지 암을 포함하고,
    상기 지지 암에 상기 트레이 스테이지가 상하 움직임이 가능하도록 지지되어 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 록 기구는,
    상기 쐐기결합부로서 기능하는 훅; 및
    상기 트레이 스테이지와 상기 훅 사이에 연결되어, 상기 트레이 스테이지의 상승과 하강을 상기 훅으로 전달하여 상기 훅을 상기 록 위치와 상기 해제 위치에 선택적으로 이동시키는 링크를 포함하는 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 훅은, 상기 록 위치와 상기 해제 위치 사이를 회동하고,
    상기 링크는, 상기 트레이 스테이지의 상하 움직임을 상기 훅의 회동으로 변환하는 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 리프트 기구가, 상기 슬라이드 기구의 상부에 마련된 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  12. 진공처리장치이며,
    기판을 세운 상태로 지지하는 반송 트레이;
    상기 반송 트레이가 이동이 가능한 제1 및 제2 반송로;
    상기 제1 및 제2의 반송로 상에 설치되어 있으며, 상기 반송 트레이에 지지된 상기 기판을 진공하에서 처리하는 진공처리실; 및
    상기 제1 및 제2의 반송로 상에 설치되면서 동시에 상기 진공 처리실에 연결되어 있으며, 상기 반송 트레이가, 상기 기판을 세운 상태로 지지하면서 상기 제1 반송로와 상기 제2 반송로 사이에 같은 기판을 반송하기 위해서 사용되는 반송실을 포함하고,
    상기 반송실은,
    상기 반송 트레이를 지지 가능한 트레이 스테이지;
    상기 트레이 스테이지를 상승시켜서 상기 반송 트레이를 상기 각 반송로에서 이탈시키고, 상기 트레이 스테이지를 하강시켜서 상기 반송 트레이를 상기 각 반송로로 재치(載置)하는 리프트 기구; 및
    상기 리프트 기구를 상기 제1 및 제2 반송로 사이에서 이동시키는 슬라이드 기구를 포함하고,
    상기 리프트 기구가, 상기 트레이 스테이지의 상승과 연동하여 상기 반송 트레이를 상기 트레이 스테이지에 록 하고, 상기 트레이 스테이지의 하강과 연동해서 상기 반송 트레이 록 상태를 해제하는 록 기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
  13. 기판을 세운 상태로 지지하는 반송 트레이를 제1 반송로에서 제2 반송로로 이동시키는 반송 방법이며,
    상기 제1 반송로에 트레이 스테이지를 배치하는 단계;
    상기 트레이 스테이지를 상승시켜서, 상기 제1의 반송로 위에 위치하는 상기 반송 트레이를 상기 트레이 스테이지 위로 재치(載置)하는 단계;
    상기 트레이 스테이지를 상기 제1 반송로에서 상기 제2 반송로로 이동시키는 단계; 및
    상기 트레이 스테이지를 하강시켜서, 상기 트레이 스테이지 위의 상기 반송 트레이를 상기 제2의 반송로 위로 재치(載置)하는 단계를 포함하고,
    상기 트레이 스테이지를 상승시키는 단계는, 상기 트레이 스테이지의 상승에 연동하는 록 기구에 의해, 그 상승 시에 상기 반송 트레이를 상기 트레이 스테이지에 록 하는 단계를 포함하고,
    상기 트레이 스테이지를 하강시키는 단계는, 상기 트레이 스테이지의 하강에 연동하는 상기 록 기구에 의해, 그 하강 시에 상기 반송 트레이의 록 상태를 해제하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반송 방법.
KR1020107018722A 2008-02-28 2009-02-26 반송 장치, 진공처리 장치 및 반송 방법 KR101234696B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008047945 2008-02-28
JPJP-P-2008-047945 2008-02-28
PCT/JP2009/053570 WO2009107728A1 (ja) 2008-02-28 2009-02-26 搬送装置、真空処理装置、及び搬送方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100101180A KR20100101180A (ko) 2010-09-16
KR101234696B1 true KR101234696B1 (ko) 2013-02-19

Family

ID=41016115

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020107018722A KR101234696B1 (ko) 2008-02-28 2009-02-26 반송 장치, 진공처리 장치 및 반송 방법

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP4991004B2 (ko)
KR (1) KR101234696B1 (ko)
CN (1) CN101952950B (ko)
TW (1) TWI404665B (ko)
WO (1) WO2009107728A1 (ko)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110051247A (ko) * 2008-10-08 2011-05-17 가부시키가이샤 아루박 진공 처리 장치
KR101243743B1 (ko) * 2010-02-18 2013-03-13 주식회사 아바코 기판 이송 장치, 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법
KR101477370B1 (ko) * 2010-05-27 2014-12-30 가부시키가이샤 아루박 트래버스 장치 및 기판 처리 장치
EP2753157B1 (en) * 2011-08-29 2021-12-01 Yokota Technica Limited Company Conveyor
JP6118254B2 (ja) * 2011-08-29 2017-04-19 有限会社ヨコタテクニカ 搬送装置
JP6755169B2 (ja) * 2016-12-15 2020-09-16 東京エレクトロン株式会社 輸送用架台および輸送方法
WO2019037873A1 (en) * 2017-08-25 2019-02-28 Applied Materials, Inc. LIFTING OR LOWERING ASSEMBLY OF A SUPPORT, APPARATUS FOR TRANSPORTING A SUPPORT IN A VACUUM CHAMBER, AND METHOD OF LIFTING OR LOWERING A SUPPORT
CN109716499B (zh) * 2017-08-25 2024-03-08 应用材料公司 用于在真空腔室内运输载体的设备及用于在真空腔室内运输载体的方法
CN112189058B (zh) * 2018-05-24 2022-12-20 应用材料公司 用于运输载体的设备、用于竖直地处理基板的处理系统以及切换载体的运输路径的方法
WO2020001751A1 (en) * 2018-06-26 2020-01-02 Applied Materials, Inc. Magnetic levitation system for transporting a carrier, carrier for a magnetic levitation system, apparatus for transportation of a carrier, processing system for vertically processing a substrate, and method of switching a transport path of a carrier
CN110498261A (zh) * 2018-12-12 2019-11-26 广东天酿智能装备有限公司 装卸设备及装卸方法
CN114258584A (zh) * 2019-08-14 2022-03-29 应用材料公司 路径切换组件、具有该路径切换组件的腔室和基板处理系统及其方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005212917A (ja) * 2004-01-27 2005-08-11 Shin Meiwa Ind Co Ltd サークルライン型真空成膜装置
KR20060050029A (ko) * 2004-08-11 2006-05-19 시마쯔 코포레이션 진공처리장치
JP2007039157A (ja) * 2005-08-01 2007-02-15 Ulvac Japan Ltd 搬送装置、真空処理装置および搬送方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005212917A (ja) * 2004-01-27 2005-08-11 Shin Meiwa Ind Co Ltd サークルライン型真空成膜装置
KR20060050029A (ko) * 2004-08-11 2006-05-19 시마쯔 코포레이션 진공처리장치
JP2007039157A (ja) * 2005-08-01 2007-02-15 Ulvac Japan Ltd 搬送装置、真空処理装置および搬送方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2009107728A1 (ja) 2009-09-03
CN101952950B (zh) 2012-08-01
TW200940430A (en) 2009-10-01
CN101952950A (zh) 2011-01-19
JP4991004B2 (ja) 2012-08-01
JPWO2009107728A1 (ja) 2011-07-07
KR20100101180A (ko) 2010-09-16
TWI404665B (zh) 2013-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101234696B1 (ko) 반송 장치, 진공처리 장치 및 반송 방법
CN101873981B (zh) 移送装置
JP4711770B2 (ja) 搬送装置、真空処理装置および搬送方法
JP2019018983A (ja) 搬送車及び搬送設備
US8499430B2 (en) Assembly method of transfer mechanism and transfer chamber
JP6460015B2 (ja) 容器搬送設備
TWI403447B (zh) 零件移送裝置及方法
JP5682595B2 (ja) ロードポート装置の取付け方法及び当該方法に用いられる運搬架台
KR101416433B1 (ko) 이동 재치 장치
JP2011071434A (ja) 容器搬送設備
JP4731815B2 (ja) 基板収納装置
JP2009043846A (ja) 基板搬送装置
KR101821636B1 (ko) 기판 안착 장치
KR101649299B1 (ko) 선형 기판이송장치를 갖는 기판처리시스템
JP3230924U (ja) パレタイザ
KR101453222B1 (ko) 기판 처리 시스템
JP2008066534A (ja) 基板搬送システムおよび基板搬送方法
KR101555245B1 (ko) 스토커 및 스토커용 픽업유닛
JP2005142480A (ja) カセット装置とこれを用いた薄型基板移載システム
JP2005145713A (ja) 基板の搬送装置
JP4595887B2 (ja) マガジン処理・回収装置
JP5688838B2 (ja) 基板処理装置
KR20060039274A (ko) 기판 적재 장치
CN116175121A (zh) 电容安装装置
CN109850779A (zh) 一种炉辊吊装平台

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151210

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161129

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171228

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181130

Year of fee payment: 7