JPWO2009107728A1 - 搬送装置、真空処理装置、及び搬送方法 - Google Patents

搬送装置、真空処理装置、及び搬送方法 Download PDF

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Abstract

装置を大型化することなく基板の搬送処理におけるスループットを向上させる搬送装置（３０）。搬送装置（３０）は、基板を立てた状態で支持しながら第１の搬送路（Ｒ１）と第２の搬送路（Ｒ２）との間で同基板を搬送する搬送トレー（１７）と、搬送トレーを支持可能なトレーステージ（３８）と、トレーステージを上昇させて搬送トレーを各搬送路から離脱させ、トレーステージを下降させて搬送トレーを各搬送路へ載置させるリフト機構（３２）と、リフト機構を第１及び第２の搬送路間で移動させるスライド機構（３１）とを含む。リフト機構（３２）は、トレーステージの上昇と連動させて搬送トレーをトレーステージにロックし、トレーステージの下降と連動させて搬送トレーのロック状態を解除するロック機構（３７）を含む。

Description

本発明は、基板の搬送装置、真空処理装置、及び搬送方法に関する。
大型ＦＰＤ（Flat Panel Display ）の製造工程においては、基板に対する成膜処理や加熱処理を実施するための各種の真空処理装置が利用されている。真空処理装置においては、基板のサイズに応じた真空空間が必要とされることから、基板サイズの大型化が進むに従い、真空空間を形成するために多大な時間が費やされてしまう。そこで、真空処理装置では、従来から、真空空間の形成頻度を低減させるため、複数の処理室の各々を互いに連通可能な真空空間で構成する提案がなされている。
特許文献１に記載する真空処理装置は、１つの列方向に沿って連結された複数の処理室と、各処理室を貫通して該列方向に延びる一対の搬送路と、一方の搬送路（往路）にある搬送トレーを他方の搬送路（復路）へ搬送する搬送室とを備えている。この真空処理装置は、往路上で搬送トレーを往動させた後、往路上の搬送トレーを復路上へ搬送し、復路上で該搬送トレーを復動させる。これによって、特許文献１に記載する真空処理装置は、連通可能な複数の真空空間で順に異なる処理工程を実行できる。
特開２００７‐３９１５７号公報
図４（ａ）〜（ｄ）及び図５（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ特許文献１に記載する真空処理装置の搬送工程を模式的に示す図である。搬送室５０には、搬送トレー５１を昇降させる昇降機構５２と、搬送トレー５１を搬送路上で非接触的に保持する保持機構５３と、往路Ｒ１と復路Ｒ２との間で搬送トレー５１をスライドさせるスライド機構５４とが配設されている。
図４（ａ）において、搬送室５０には、まず、基板を立てた状態で支持する搬送トレー５１が往路Ｒ１に沿って搬入される。搬送室５０は、以下に示すように、搬送トレー５１の昇降動作と、搬送トレー５１の保持動作とを同期させることにより、搬送工程における基板位置の安定化を図っている。
すなわち、図４（ｂ）において、搬送トレー５１が搬入されると、昇降機構５２と保持機構５３とが、搬送トレー５１と保持磁石５３ａとの間の距離を維持しながら、搬送トレー５１と保持磁石５３ａとを一旦上昇させて、搬送トレー５１を往路Ｒ１から離脱させる。搬送トレー５１が往路Ｒ１から離脱すると、図４（ｃ）に示すように、スライド機構５４が、トレーステージ５４ｆをスライドさせて、搬送トレー５１に設けられた突片５１ａの下方へフック５４ａを配置する。
図４（ｄ）において、フック５４ａが突片５１ａの下方に配置されると、昇降機構５２と保持機構５３とが、搬送トレー５１と保持磁石５３ａとの間の距離を維持しながら、搬送トレー５１と保持磁石５３ａとを一旦下降させる。そして、突片５１ａとフック５４ａとの係着によって、トレーステージ５４ｆに搬送トレー５１が吊持ちされる。
図５（ａ）において、トレーステージ５４ｆに搬送トレー５１が吊持ちされると、保持機構５３が、保持磁石５３ａを搬送トレー５１から十分に離間させて、搬送トレー５１の拘束（保持）を解除する。搬送トレー５１の拘束が解除されると、図５（ｂ）に示すように、スライド機構５４が、トレーステージ５４ｆをスライドさせて、搬送トレー５１を復路Ｒ２の上方へ配置する。
図５（ｃ）において、搬送トレー５１が復路Ｒ２の上方へ配置されると、昇降機構５２が再度上昇し、保持機構５３が保持磁石５３ａを再度下降させることにより、搬送トレー５１が復路Ｒ２の上方で昇降機構５２上に再度保持される。搬送トレー５１が再度保持されると、図５（ｄ）に示すように、昇降機構５２と保持機構５３とが、搬送トレー５１と保持磁石５３ａとの間の距離を維持しながら、搬送トレー５１と保持磁石５３ａとを上昇させて、突片５１ａとフック５４ａとの係着を解く。
これによって、搬送室５０は、搬送トレー５１の昇降と保持磁石５３ａの昇降との同期によって、搬送トレー５１の昇降時における基板位置の安定性を向上できる。また、搬送室５０は、突片５１ａとフック５４ａとの係着によって、搬送路間における基板位置の安定性を向上できる。
しかしながら、特許文献１の搬送工程では、基板を搬送するたびに、トレーステージ５４ｆに固設されたフック５４ａと搬送トレー５１の突片５１ａとを係着させることから、トレーステージ５４ｆを複数回にわたり昇降させなければならない。この結果、基板の搬送工程においては、複数回にわたる搬送トレー５１の昇降に多大な時間を要し、基板処理のスループットを大幅に損なってしまうという問題があった。尚、この問題は、特許文献１の搬送装置に限定されるものでなく、基板を搬送するトレーを複数回にわたって昇降させる必要があるその他の従来の搬送装置でも同様に生じるものであった。
また、特許文献１の搬送装置では、フック５４ａがスライド機構５４上で突片５１ａと係着する位置に予め固定されている（図４ａ）。このため、搬送トレー５１を搬送室５０へ搬送する際、搬送トレー５１とフック５４ａとが接触しないようにスライド機構５４を移動させるスペースが必要となり、装置の体積が大きくなってしまうという問題があった。また、この場合には、搬送トレー５１の搬入後、搬送トレー５１を昇降するためにフック５４ａを搬送路上に移動させる必要があり、搬送工程が多くなってスループットを損なってしまうという問題があった。さらには、搬送トレー５１を昇降させる昇降機構５２と搬送トレー５１をスライドさせるスライド機構５４が往路Ｒ１の左右に別々に設けられているので、装置の体積が大きくなってしまうという問題があった。
本発明は、装置を大型化することなく基板の搬送処理におけるスループットを向上させる搬送装置及び搬送方法、並びに該搬送装置を備えた真空処理装置を提供する。
本発明の一つの態様は、基板を搬送する搬送装置である。搬送装置は、前記基板を立てた状態で支持しながら第１の搬送路と第２の搬送路との間で同基板を搬送する搬送トレーと、前記搬送トレーを支持可能なトレーステージと、前記トレーステージを上昇させて前記搬送トレーを前記各搬送路から離脱させ、前記トレーステージを下降させて前記搬送トレーを前記各搬送路へ載置するリフト機構と、前記リフト機構を前記第１及び第２の搬送路間で移動させるスライド機構と、を備え、前記リフト機構は、前記トレーステージの上昇と連動して前記搬送トレーを前記トレーステージにロックし、前記トレーステージの下降と連動して前記搬送トレーのロック状態を解除するロック機構を含む。
本発明の他の態様は、真空処理装置である。真空処理装置は、基板を立てた状態で支持する搬送トレーと、前記搬送トレーが移動可能な第１及び第２の搬送路と、前記第１及び第２の搬送路上に設置されており、前記搬送トレーに支持された前記基板を真空下で処理する真空処理室と、前記第１及び第２の搬送路上に設置されるとともに前記真空処理室に連結されており、前記搬送トレーが、前記基板を立てた状態で支持しながら前記第１の搬送路と前記第２の搬送路との間で同基板を搬送するために使用される搬送室と、を備え、前記搬送室が、前記搬送トレーを支持可能なトレーステージと、前記トレーステージを上昇させて前記搬送トレーを前記各搬送路から離脱させ、前記トレーステージを下降させて前記搬送トレーを前記各搬送路へ載置するリフト機構と、前記リフト機構を前記第１及び第２の搬送路間で移動させるスライド機構と、を含み、前記リフト機構が、前記トレーステージの上昇と連動して前記搬送トレーを前記トレーステージにロックし、前記トレーステージの下降と連動して前記搬送トレーのロック状態を解除するロック機構を含む。
本発明の更に他の態様は、基板を立てた状態で支持する搬送トレーを第１の搬送路から第２の搬送路へ移動させる搬送方法である。当該方法は、前記第１の搬送路にトレーステージを配置すること、前記トレーステージを上昇させて、前記第１の搬送路上に位置する前記搬送トレーを前記トレーステージ上へ載置すること、前記トレーステージを前記第１の搬送路から前記第２の搬送路へ移動させること、前記トレーステージを下降させて、前記トレーステージ上の前記搬送トレーを前記第２の搬送路上へ載置することを備え、前記トレーステージを上昇させることは、前記トレーステージを上昇に連動するロック機構によって、その上昇時に前記搬送トレーを前記トレーステージにロックすることを含み、前記トレーステージを下降させることは、前記トレーステージの下降に連動する前記ロック機構によって、その下降時に前記搬送トレーのロック状態を解除することを含む。
真空処理装置の全体を模式的に示す斜視図。 トラバース装置を示す側面図。 （ａ）〜（ｄ）は、それぞれトラバース装置を用いた搬送工程を示す図。 （ａ）〜（ｄ）は、それぞれ従来例のトラバース装置を用いた搬送工程を示す図。 （ａ）〜（ｄ）は、それぞれ従来例のトラバース装置を用いた搬送工程を示す図。
符号の説明
Ｒ１：搬送路の一例である往路、Ｒ２：搬送路の一例である復路、Ｓ：基板、１０：真空処理装置、１３：真空処理室の一例である第一処理室、１４：真空処理室の一例である第二処理室、１５：搬送室、１７：搬送トレー、１７ａ：被係着部としての凸部、３０：搬送装置としてのトラバース装置、３１：スライド機構、３２：リフト機構、３７：係着部の一例であるフック、３８：トレーステージ、３９：リンクの一例であるリンク部材。
以下、本発明の一実施形態の搬送装置を図面に従って説明する。図１は、搬送装置３０を備えた真空処理装置１０を模式的に示す斜視図である。図１において、真空処理装置１０は、着脱室１１、ロード／アンロード室（以下単に、ＬＬ室１２と言う。）、第一処理室１３、第二処理室１４、及び搬送室１５がそれぞれ仕切り弁１６を介して連結されている。
真空処理装置１０には、着脱室１１から搬送室１５へ向かって延びる第一の搬送路（以下単に、往路Ｒ１と言う。）と、搬送室１５から着脱室１１へ向かって延びる第二の搬送路（以下単に、復路Ｒ２と言う。）とが設けられている。本実施形態における往路Ｒ１と復路Ｒ２とは互いに平行である。
往路Ｒ１及び復路Ｒ２においては、それぞれ複数の搬送トレー１７が、ラックアンドピニオン機構によって搬送される。各搬送トレー１７は、基板Ｓの外縁を囲う四角枠体状に形成されるのが好ましく、この場合には例えば搬送トレー１７は、その下側に設けられるラック１８と、往路Ｒ１及び復路Ｒ２に分配されたピニオン１９とが係合し、各ピニオン１９が回転することによって、往路Ｒ１及び復路Ｒ２に沿って搬送される。
各搬送トレー１７の左右両側（搬送方向における前側及び後側）には、それぞれ被係着部としての凸部１７ａが設けられている。各凸部１７ａは、搬送トレー１７の搬送工程において、該搬送トレー１７をトレーステージ３８（図２参照）にロックするために利用される。また、各搬送トレー１７の上側には、トレー磁石２１が配設されている。第一処理室１３、第二処理室１４、及び搬送室１５の各々には、搬送トレー１７のトレー磁石２１と磁気的に作用する保持装置２２が配設されている。搬送トレー１７のトレー磁石２１は、該搬送トレー１７の搬送過程において、各保持装置２２の保持磁石と作用することにより、該搬送トレー１７を各搬送路の上方で非接触的に拘束する。
本実施形態においては、往路Ｒ１における搬送トレー１７の搬送方向をＸ方向と言う。また、水平面に対して垂直の方向をＺ方向とし、Ｘ方向及びＺ方向と直交する方向であって、往路Ｒ１から復路Ｒ２へ向かう方向をＹ方向と言う。
着脱室１１は、外部から投入される処理前の基板Ｓを搬送トレー１７に取り付けて、該基板Ｓを立てた状態でＬＬ室１２へ搬出する。また、着脱室１１は、搬送トレー１７に取り付けられた処理後の基板Ｓを搬送トレー１７から取外して、真空処理装置１０の外部へ搬出する。着脱室１１は、上記基板Ｓの着脱を大気圧の下で行う。
ＬＬ室１２は、室内を大気圧にして、着脱室１１から搬送トレー１７を往路Ｒ１に沿って搬入し、その後、室内を減圧することにより、該搬送トレー１７を往路Ｒ１に沿って第一処理室１３へ搬出する。また、ＬＬ室１２は、室内を減圧して、第一処理室１３から搬送トレー１７を復路Ｒ２に沿って搬入し、その後、室内を大気に解放することにより、該搬送トレー１７を復路Ｒ２に沿って着脱室１１へ搬出する。
第一処理室１３は、ＬＬ室１２から搬送トレー１７を往路Ｒ１に沿って搬入して、保持装置２２による磁気的な作用によって、該搬送トレー１７を往路Ｒ１上に拘束する。第一処理室１３は、搬送トレー１７に取付けられた基板Ｓに成膜処理や加熱処理等の各種の処理を施した後、保持装置２２による拘束を解除して、該搬送トレー１７を往路Ｒ１に沿って第二処理室１４へ搬出する。
また、第一処理室１３は、第二処理室１４から搬送トレー１７を復路Ｒ２に沿って搬入して、保持装置２２による磁気的な作用によって、該搬送トレー１７を復路Ｒ２上に拘束する。第一処理室１３は、搬送トレー１７に取付けられた基板Ｓに成膜処理や加熱処理等の各種の処理を施した後、保持装置２２による拘束を解除して、該搬送トレー１７を復路Ｒ２に沿ってＬＬ室１２へ搬出する。第一処理室１３は、上記搬送トレー１７の搬入・搬出を減圧下で行う。
第二処理室１４は、第一処理室１３から搬送トレー１７を往路Ｒ１に沿って搬入して、保持装置２２による磁気的な作用によって、該搬送トレー１７を往路Ｒ１上に拘束する。第二処理室１４は搬送トレー１７に取付けられた基板Ｓに成膜処理や加熱処理等の各種の処理を施した後、保持装置２２による拘束を解除して、該搬送トレー１７を往路Ｒ１に沿って搬送室１５へ搬出する。
また、第二処理室１４は、搬送室１５から搬送トレー１７を復路Ｒ２に沿って搬入して、保持装置２２による磁気的な作用によって、該搬送トレー１７を復路Ｒ２上に拘束する。第二処理室１４は、搬送トレー１７に取付けられた基板Ｓに成膜処理や加熱処理等の各種の処理を施した後、保持装置２２による拘束を解除して、該搬送トレー１７を復路Ｒ２に沿って第一処理室１３へ搬出する。第二処理室１４は、上記搬送トレー１７の搬入・搬出を減圧下で行う。
搬送室１５におけるＸ方向の両側（搬送方向における前側及び後側）には、搬送装置としての一対のトラバース装置３０が搭載されている。搬送室１５は、第二処理室１４から搬送トレー１７を往路Ｒ１に沿って搬入して、保持装置２２による磁気的な作用によって、該搬送トレー１７を一旦往路Ｒ１上に拘束する。搬送室１５は、往路Ｒ１上における搬送トレー１７の磁気的な拘束を解きながら、トラバース装置３０を用いた搬送処理によって、該搬送トレー１７を往路Ｒ１から復路Ｒ２上へ搬送する。搬送室１５は、復路Ｒ２へ載置した搬送トレー１７を復路Ｒ２に沿って第二処理室１４へ搬出する。
搬送室１５は、往路Ｒ１から復路Ｒ２への搬送トレー１７の搬送を減圧下で行う。また、搬送室１５は、搬送トレー１７を往路Ｒ１から復路Ｒ２へ搬送する間、トラバース装置３０のロック機能によって、該搬送トレー１７をトレーステージ３８（図２参照）にロックする。
図２はトラバース装置３０（一つのみを示す）を模式的に示す図であり、図３（ａ）〜（ｄ）はそれぞれトラバース装置３０を用いた搬送工程を示す工程図である。図２において、トラバース装置３０は、スライド機構３１とリフト機構３２とを備えている。
スライド機構３１には、スライドモータＭ１と、スライドモータＭ１の駆動軸に連結された伝達部３３とが備えられている。伝達部３３の上側には、Ｙ方向に延びるガイドレール３３ａが設けられ、ガイドレール３３ａには、リフト機構３２が取り付けられている。伝達部３３は、スライドモータＭ１の駆動力をスプラインシャフト等の動力伝達シャフトで受けて、スライドモータＭ１の駆動力をリフト機構３２の移動力に変換する。
スライド機構３１は、スライドモータＭ１が正転するとき、スライドモータＭ１の駆動力によって、リフト機構３２をＹ方向へ移動させる（図２における二点鎖線位置から実線位置へ移動させる）。また、スライド機構３１は、スライドモータＭ１が逆転するとき、スライドモータＭ１の駆動力によって、リフト機構３２を反Ｙ方向へ移動させる（図２における実線位置から二点鎖線位置へ移動させる）。
本実施形態においては、Ｘ方向から見て、トレーステージ３８が往路Ｒ１の上方あるいは下方にあるときのリフト機構３２の位置を、往路位置と言う。また、Ｘ方向から見て、トレーステージ３８が復路Ｒ２の上方あるいは下方にあるときのリフト機構３２の位置を、復路位置と言う。スライド機構３１は、リフト機構３２を往路位置と復路位置との間で移動する。
リフト機構３２には、リフトモータＭ２と、リフトモータＭ２の駆動軸に連結された伝達部３５とが備えられている。伝達部３５のＹ方向における端部側には、Ｚ方向に延びる支持アーム３６が設けられ、該支持アーム３６のＹ方向における端部側には、Ｚ方向に延びるガイドレール３５ａが設けられている。ガイドレール３５ａには、Ｚ方向に沿って往復移動可能なトレーステージ３８が取り付けられている。伝達部３５は、リフトモータＭ２の駆動力をスプラインシャフト等の動力伝達シャフトで受けて、リフトモータＭ２の駆動力をトレーステージ３８の移動力に変換する。
リフト機構３２は、リフトモータＭ２が正転するとき、リフトモータＭ２の駆動力によって、トレーステージ３８をＺ方向へ移動させる（図２における実線位置から二点鎖線位置へ移動させる）。また、リフト機構３２は、リフトモータＭ２が逆転するとき、リフトモータＭ２の駆動力によって、トレーステージ３８を反Ｚ方向へ移動させる（図２における二点鎖線位置から実線位置へ移動させる）。
本実施形態においては、Ｚ方向において、トレーステージ３８が往路Ｒ１あるいは復路Ｒ２よりも下方にあるときの同トレーステージ３８の位置を、待機位置と言う。また、Ｚ方向において、トレーステージ３８が往路Ｒ１あるいは復路Ｒ２よりも上方にあるときの同トレーステージ３８の位置を、離脱位置（搬送トレー１７が搬送路Ｒ１，Ｒ２から離脱する位置）と言う。リフト機構３２は、トレーステージ３８を待機位置と離脱位置との間で移動させる。
リフト機構３２における支持アーム３６の先端（上端付近）には、帯状をなすフック３７の基端が、Ｘ方向に延びる回動軸３６ａを中心にして回動自在に支持されている。フック３７の先端には、搬送トレー１７の凸部１７ａと係着可能な切欠き３７ａが形成されている。フック３７は、搬送トレー１７がトレーステージ３８の上方に位置する状態において、その切欠き３７ａと凸部１７ａとが離間する位置と、その切欠き３７ａと凸部１７ａとが係着する位置（図２における二点鎖線位置）との間を回動する。切欠き３７ａと凸部１７ａとが係着する状態において、搬送トレー１７はトレーステージ３８にロックされる。また、切欠き３７ａと凸部１７ａとが離間する状態において、搬送トレー１７のロック状態が解除される。
本実施形態においては、切欠き３７ａと凸部１７ａとが係着するフック３７の位置を、ロック位置と言う。また、切欠き３７ａと凸部１７ａとが離間するフック３７の位置であって、フック３７が搬送トレー１７の移動軌跡から離間する位置を、解除位置と言う。なお、図２におけるフック３７の実線位置は、ロック位置と解除位置との間の位置を示す。
フック３７の先端には、反Ｚ方向に延びる棒状のリンク部材３９が、Ｘ方向に延びる軸Ｃ１を中心にして回動自在に支持されている。リンク部材３９の下端は、Ｘ方向に延びる軸Ｃ２を中心にして、トレーステージ３８の上端に回転自在に支持されている。リンク部材３９は、トレーステージ３８が上昇するとき、トレーステージ３８の上動をフック３７へ伝達し、フック３７を右回りへ回動する。また、リンク部材３９は、トレーステージ３８が下降するとき、トレーステージ３８の下動をフック３７へ伝達し、フック３７を左回りへ回動する。
詳述すると、搬送トレー１７がトレーステージ３８の上方に位置する状態において、トレーステージ３８が待機位置から離脱位置へ上方移動すると、フック３７は、リンク部材３９を介し、トレーステージ３８の上昇と連動して解除位置からロック位置へ移動する。すなわち、トレーステージ３８が上昇すると、搬送トレー１７が、トレーステージ３８にロックされる。反対に、搬送トレー１７がトレーステージ３８に載置される状態において、トレーステージ３８が離脱位置から待機位置へ下方移動すると、フック３７は、リンク部材３９を介し、トレーステージ３８の下降と連動してロック位置から解除位置へ移動する。すなわち、トレーステージ３８が下降すると、搬送トレー１７のロック状態が解除される。
本実施形態においては、これらフック３７とリンク部材３９とによってロック機構が構成されている。
図３（ａ）〜（ｄ）は、トラバース装置３０を用いた基板Ｓの搬送工程を示す図である。まず、搬送室１５の内部では、図３（ａ）に示すように、トレーステージ３８が往路Ｒ１の位置（以下単に、初期位置と言う。）に配置されている。また、フック３７が解除位置に配置されて搬送トレー１７の移動軌跡から離間している。
この状態から、第二処理室１４から搬送トレー１７が搬送室１５へ搬入されると、トラバース装置３０は、図３（ｂ）に示すように、リフト機構３２を駆動して、トレーステージ３８を初期位置から離脱位置へ（矢印方向へ）上方移動させる。これによって、搬送トレー１７が、トレーステージ３８上へ載置されて、往路Ｒ１から離脱する。
この際、保持装置２２は、トレーステージ３８が上昇した分だけ保持磁石ＭＧを上昇させて、保持磁石ＭＧとトレー磁石２１との間の距離を維持し続ける。これによって、保持装置２２は、搬送トレー１７を往路Ｒ１の上方で磁気的に拘束し続ける。しかも、リフト機構３２は、トレーステージ３８の上昇と連動して、フック３７を解除位置からロック位置へ移動させる。すなわち、トラバース装置３０は、搬送トレー１７を往路Ｒ１から離脱させながら、該搬送トレー１７をトレーステージ３８にロックする。
搬送トレー１７がトレーステージ３８にロックされると、保持装置２２は、図３（ｃ）に示すように、保持磁石ＭＧをさらに上昇させて、保持磁石ＭＧとトレー磁石２１との間の距離を十分に離間させる。これによって、保持装置２２は、搬送トレー１７への磁気的な拘束を解除する。搬送トレー１７の拘束が解除されると、トラバース装置３０は、スライド機構３１を駆動して、リフト機構３２を往路位置から復路位置へ（矢印方向へ）移動する。これによって、トレーステージ３８が復路Ｒ２の直上に配置される。
この間、搬送トレー１７は、保持装置２２による磁気的な拘束を受けない一方、トラバース装置３０のロック機構による機械的な拘束を受けることから、トレーステージ３８に対する相対的な位置を維持する。この結果、搬送トレー１７は、トレーステージ３８からの位置ズレを来たすことなく、往路Ｒ１の直上から復路Ｒ２の直上へ搬送される。
リフト機構３２が復路位置に到達すると、トラバース装置３０は、図３（ｄ）に示すように、リフト機構３２を駆動して、トレーステージ３８を離脱位置から初期位置へ（矢印方向へ）下方移動させる。これによって、搬送トレー１７がトレーステージ３８から復路Ｒ２上へ載置される。
この際、保持装置２２は、保持磁石ＭＧを下降させることによって、保持磁石ＭＧとトレー磁石２１との間の距離を縮めて、搬送トレー１７を復路Ｒ２の上方で磁気的に拘束する。また、リフト機構３２は、トレーステージ３８の下降と連動して、フック３７をロック位置から解除位置へ移動させる。すなわち、トラバース装置３０は、搬送トレー１７を復路Ｒ２へ載置させながら、該搬送トレー１７のロック状態を解除する。
搬送トレー１７が復路Ｒ２へ載置されると、トラバース装置３０は、スライド機構３１を駆動して、リフト機構３２を復路位置から初期位置へ移動する。これによって、トレーステージ３８が復路Ｒ２上から往路Ｒ１上に搬送される。以後同様に、搬送室１５は、第二処理室１４から搬送トレー１７が搬入されるたび、保持装置２２とトラバース装置３０とを駆動して、往路Ｒ１上の搬送トレー１７を復路Ｒ２へ搬送する。
上記実施形態の搬送装置３０（真空処理装置１０）は以下の利点を有する。
（１）トラバース装置３０は、トレーステージ３８の下降と上昇とによって該搬送路Ｒ１，Ｒ２に対する搬送トレー１７の載置と離脱とを選択的に行うリフト機構３２と、リフト機構３２を搬送路Ｒ１，Ｒ２間で移動するスライド機構３１とを有する。そして、リフト機構３２は、トレーステージ３８の上昇と連動して搬送トレー１７をトレーステージ３８にロックし、トレーステージ３８の下降と連動して搬送トレー１７のロック状態を解除するロック機構（一実施例では、フック３７およびリンク部材３９）を有する。
したがって、トラバース装置３０は、トレーステージ３８を１回上昇させるだけで、搬送トレー１７を往路Ｒ１上から離脱させて、かつ、搬送トレー１７をトレーステージ３８にロックできる。また、トラバース装置３０は、トレーステージ３８を１回下降させるだけで、搬送トレー１７のロック状態を解除でき、かつ、搬送トレー１７を復路Ｒ２上に載置できる。言い換えれば、搬送トレー１７をトレーステージ３８にロックするのに必要な搬送トレー１７の移動は１回の上昇のみであり、搬送トレー１７とトレーステージ３８とのロックを解除するのに必要な搬送トレー１７の移動は１回の下降のみである。この結果、トラバース装置３０は、搬送処理におけるトレーステージ３８、ひいては搬送トレー１７の昇降回数を最小限に抑えられることから、スループットを向上させられる。加えて、ロック機構（３７，３９）がトレーステージ３８の上昇及び下降とに連動して駆動することから、ロック機構の駆動源を別途設ける場合に比べて、ロック機構の省スペース化を図ることができ、ひいては装置３０の小型化を図ることができる。
（２）フック３７は、搬送トレー１７の凸部１７ａと係着することによって搬送トレー１７をロックするロック位置と、凸部１７ａから離間することによって搬送トレー１７のロック状態を解除して搬送トレー１７の移動軌跡から離間する解除位置との間を回動する。また、リンク部材３９は、トレーステージ３８とフック３７との間に連結されて、トレーステージ３８の上昇と下降とをフック３７へ伝達し、フック３７をロック位置と解除位置とへ移動する。
したがって、トラバース装置３０においては、トレーステージ３８の上下動がリンク部材３９を介してフック３７の回動に変換される。この結果、トラバース装置３０は、搬送トレー１７を往路Ｒ１から離脱させるだけで搬送トレー１７をロックでき、搬送トレー１７を復路Ｒ２へ載置するだけで搬送トレー１７のロック状態を解除できる。よって、このトラバース装置３０は、搬送処理におけるトレーステージ３８の昇降回数を最小限に抑えられることから、スループットを向上させられる。また、フック３７が解除位置に移動して搬送トレー１７とのロックが解除されると、フック３７が搬送トレー１７の移動軌跡から離脱することとなる。これによって、トレーステージ３８を予め往路Ｒ１上の待機位置に配置することができる。なぜなら、トレーステージ３８が待機位置にあるときは、搬送トレー１７の移動がトレーステージ３８およびフック３７によって妨げられないためである。このことから、トレーステージ３８を往路Ｒ１から退避させるためのリフト機構３２の移動空間を削減できる。ひいては、搬送室１５や真空処理装置１０の小型化を図ることができる。
（３）ロック機構（３７，３９）は、トレーステージ３８の上下動をフック３７の回動へ変換することから、トレーステージ３８の上下動を単にフック３７の上下動として利用する場合に比べて、フック３７（切欠き３７ａ）の変位範囲を拡大できる。したがって、トラバース装置３０は、搬送トレー１７のサイズや形状、ひいては、基板Ｓのサイズや形状に関わる適用範囲を拡大できる。
（４）フック３７は、スライド機構３１に固定されず、トレーステージ３８の上下動に連動して回動する。そのため、基板処理室１４及び搬送室１５間における搬送トレー１７の搬送の際、フック３７と搬送トレー１７との接触を避けるために、スライド機構３１を移動させなくて良い。したがって、スライド機構３１の移動する空間を縮小化できることから、装置の小型化を図ることができる。
（５）搬送路（往路Ｒ１）の位置で待機しているトレーステージ３８上に搬送トレー１７を直接搬入できる。このため、基板Ｓの搬入後に往路Ｒ１上までトレーステージ３８を移動させる必要がない。このため、搬送処理におけるタクトタイムを短縮してスループットを向上させられる。
（６）リフト機構３２をスライド機構３１の上部に設けたので、搬送室１５内の空間を縮小させることができ、ひいては装置の小型化を図ることができる。
（７）真空処理装置１０は、搬送室１５にトラバース装置３０を搭載することから、搬送処理におけるトレーステージ３８（搬送トレー１７）の昇降回数を最小限に抑えられ、ひいては、基板Ｓに関わる一連の処理工程において、スループットを向上させられる。
尚、上記実施形態は、以下の態様で実施しても良い。
・フック３７は、トレーステージ３８の上下動を受けて上下動する構成であっても良い。すなわち、フック３７は、トレーステージ３８の上下動に連動して、搬送トレー１７をロックするロック位置と搬送トレー１７のロック状態を解除する解除位置との間を（例えば支持アーム３６に沿って上下に）移動する構成でも良い。この場合、好ましくは、フック３７を下方に移動させると同時に、もしくは下方に移動させた後に、該フック３７を搬送トレー１７の移動軌跡から退避させるのがよい。
・被係着部を凸部１７ａの代わりに、例えば、搬送トレー１７が有する凹部としても良い。すなわち、フック３７と係着することによって、搬送トレー１７をトレーステージ３８にロックし、フック３７から離間することによって、搬送トレー１７のロック状態を解除する被係着部は、当業者であれば任意の構成を採用できる。
・上記実施形態においては、フック３７の切欠き３７ａと搬送トレー１７の凸部１７ａとが係着することによって、搬送トレー１７がトレーステージ３８にロックされる。これに限らず、ロック機構は磁石機構でもよい。一例として、切欠き３７ａと凸部１７ａとをそれぞれ磁石に変更してもよい。この場合、フック３７に設けられるＮ極と搬送トレー１７に設けられるＳ極とが近接することによって、搬送トレー１７がトレーステージ３８にロックされる。すなわち、トレーステージ３８の上昇と連動して搬送トレー１７をトレーステージ３８にロックし、トレーステージ３８の下降と連動して搬送トレー１７のロック状態を解除するロック機構は、当業者であれば種々の構成を採用できる。
・ロック機構をフック３７のみで構成してもよい（即ち、リンク部材３９を省略してもよい）。この場合には、トレーステージ３８の上昇前にフック３７を解除位置（搬送トレー１７の移動軌跡から離間する位置）に位置させておき、トレーステージ３８の上昇後にフック３７をロック位置に移動させればよい。
・上記実施形態においては、搬送路が往路Ｒ１と復路Ｒ２とによって構成されて、往路Ｒ１と復路Ｒ２とが互いに平行に設けられている。これに限らず、例えば、搬送路は３本以上であっても良く、各搬送路が交差する構成であっても良い。
・上記実施形態における搬送路は、ラックアンドピニオン機構を用いるが、搬送路は、ローラー搬送式、コンベア搬送式、あるいは真空処理室底面に固定されたレール上を車輪をもった搬送トレーが走るレール搬送式機構でもよく、またこれらの搬送方法のみに限定されるものでもない。
・上記実施形態におけるトレーステージ３８の初期位置及び離脱位置、トレーステージ３８による搬送トレー１７の載置位置、および搬送トレー１７の係着位置の高さは、搬送トレー１７が搬出入される真空処理室１０の最下辺から最上辺までの間で任意に変更できる。これらの位置は、搬送トレー１７が、トラバース装置３０の搬送処理によって、一つの搬送路から他の搬送路へ搬送できる位置であれば良い。ただし、トレーステージ３８の初期位置は、トレーステージ３８の上面（搬送トレー１７の下面を支持する面）が搬送路Ｒ１，Ｒ２の上面よりも低くなるように設定することが望ましい。こうすれば、搬送トレー１７を第二処理室１４から搬送室１５へと搬入する際にも、トレーステージ３８によって搬送トレー１７の移動が妨げられない。このため、往路Ｒ１から復路Ｒ２へのトレーステージ３８の移動距離を最小にすることができる。しかしながら、この初期位置は本発明を制限するものではない。たとえ、搬送トレー１７の移動軌跡から退避させるべくトレーステージ３８を下方に移動させる必要が生じても、搬送トレー１７を上下動させる回数は増加しないからである。
・上記実施形態においては、２つの搬送路を往路Ｒ１と復路Ｒ２とによって構成した。これに限らず、２つの搬送路の各々を搬送トレー１７の往路と復路の両方に利用しても良い。この場合、例えば、搬送トレー１７が一つの搬送路から他の搬送路へ移載されると、トラバース装置３０がトレーステージ３８を該他の搬送路上に待機させて、該他の搬送路にある搬送トレー１７を再度該一つの搬送路へ移動する構成であっても良い。
・上記実施形態においては、複数の搬送路が一つの往路Ｒ１と一つの復路Ｒ２とによって構成されるが、これに限らず、複数の搬送路が複数の往路Ｒ１と複数の復路Ｒ２とによって構成されても良い。

Claims (13)

  1. 基板を搬送する搬送装置であって、
    前記基板を立てた状態で支持しながら第１の搬送路と第２の搬送路との間で同基板を搬送する搬送トレーと、
    前記搬送トレーを支持可能なトレーステージと、
    前記トレーステージを上昇させて前記搬送トレーを前記各搬送路から離脱させ、前記トレーステージを下降させて前記搬送トレーを前記各搬送路へ載置するリフト機構と、
    前記リフト機構を前記第１及び第２の搬送路間で移動させるスライド機構と、を備え、
    前記リフト機構は、
    前記トレーステージの上昇と連動して前記搬送トレーを前記トレーステージにロックし、前記トレーステージの下降と連動して前記搬送トレーのロック状態を解除するロック機構を含むことを特徴とする搬送装置。
  2. 請求項１に記載する搬送装置において、
    前記トレーステージが、前記第１搬送路上及び第２搬送路上に選択的に配置されることを特徴とする搬送装置。
  3. 請求項１に記載する搬送装置において、
    前記トレーステージが、前記リフト機構に上下動可能に支持されていることを特徴とする搬送装置。
  4. 請求項３に記載する搬送装置は更に、
    前記ロック機構と前記トレーステージとを連結し、前記トレーステージの上下動に連動して前記ロック機構を作動させるリンクを備えることを特徴とする搬送装置。
  5. 請求項４に記載する搬送装置において、
    前記搬送トレーが前記各搬送路に載置されるまで前記トレーステージが下降するとき、前記リンクは、前記ロック機構を前記搬送トレーの移動軌跡から外れる位置まで移動させることを特徴とする搬送装置。
  6. 請求項１〜３のいずれか一項に記載する搬送装置において、
    前記ロック機構は、
    前記搬送トレーの被係着部と係着することによって前記トレーステージに前記搬送トレーをロックするロック位置と、前記被係着部から離間することによって前記搬送トレーのロック状態を解除する解除位置との間を移動する係着部を含むことを特徴とする搬送装置。
  7. 請求項６に記載する搬送装置において、
    前記係着部は、前記ロック位置と前記解除位置とに選択的に位置するように前記リフト機構に回動自在に支持されていることを特徴とする搬送装置。
  8. 請求項７に記載する搬送装置において、
    前記リフト機構は、前記係着部を回動自在に支持する支持アームを含み、
    前記支持アームに前記トレーステージが上下動可能に支持されていることを特徴とする搬送装置。
  9. 請求項８に記載する搬送装置において、
    前記ロック機構は、
    前記係着部として機能するフックと、
    前記トレーステージと前記フックとの間に連結され、前記トレーステージの上昇と下降とを前記フックへ伝達して前記フックを前記ロック位置と前記解除位置とへ選択的に移動させるリンクとを含むことを特徴とする搬送装置。
  10. 請求項９に記載する搬送装置において、
    前記フックは、前記ロック位置と前記解除位置との間を回動し、
    前記リンクは、前記トレーステージの上下動を前記フックの回動に変換することを特徴とする搬送装置。
  11. 請求項１〜１０のいずれか１つに記載の搬送装置であって、
    前記リフト機構が、前記スライド機構の上部に設けられたことを特徴とする搬送装置。
  12. 真空処理装置であって、
    基板を立てた状態で支持する搬送トレーと、
    前記搬送トレーが移動可能な第１及び第２の搬送路と、
    前記第１及び第２の搬送路上に設置されており、前記搬送トレーに支持された前記基板を真空下で処理する真空処理室と、
    前記第１及び第２の搬送路上に設置されるとともに前記真空処理室に連結されており、前記搬送トレーが、前記基板を立てた状態で支持しながら前記第１の搬送路と前記第２の搬送路との間で同基板を搬送するために使用される搬送室と、を備え、
    前記搬送室が、
    前記搬送トレーを支持可能なトレーステージと、
    前記トレーステージを上昇させて前記搬送トレーを前記各搬送路から離脱させ、前記トレーステージを下降させて前記搬送トレーを前記各搬送路へ載置するリフト機構と、
    前記リフト機構を前記第１及び第２の搬送路間で移動させるスライド機構と、を含み、
    前記リフト機構が、
    前記トレーステージの上昇と連動して前記搬送トレーを前記トレーステージにロックし、前記トレーステージの下降と連動して前記搬送トレーのロック状態を解除するロック機構を含むことを特徴とする真空処理装置。
  13. 基板を立てた状態で支持する搬送トレーを第１の搬送路から第２の搬送路へ移動させる搬送方法であって、
    前記第１の搬送路にトレーステージを配置すること、
    前記トレーステージを上昇させて、前記第１の搬送路上に位置する前記搬送トレーを前記トレーステージ上へ載置すること、
    前記トレーステージを前記第１の搬送路から前記第２の搬送路へ移動させること、
    前記トレーステージを下降させて、前記トレーステージ上の前記搬送トレーを前記第２の搬送路上へ載置することを備え、
    前記トレーステージを上昇させることは、前記トレーステージの上昇に連動するロック機構によって、その上昇時に前記搬送トレーを前記トレーステージにロックすることを含み、
    前記トレーステージを下降させることは、前記トレーステージの下降に連動する前記ロック機構によって、その下降時に前記搬送トレーのロック状態を解除することを含むことを特徴とする搬送方法。
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