KR100978962B1 - 기판 탑재대 및 기판 처리 장치 - Google Patents

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마사토 미나미
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

복수의 플레이트를 적층하여 이루어진 탑재대에 설치된 리프터 핀의 파손이나 전극의 판손을 방지할 수 있다.
최상부에 배치된 전극 플레이트(210)를 관통하는 핀 삽입 통과 구멍(214)을 승강 가능하게 마련된 리프터 핀(242)과, 리프터 핀(242)의 승강을 안내하는 승강 가이드체(300)를 구비하며, 승강 가이드체(300)를 전극 플레이트(210)의 아래쪽에 적층되는 온도 조정용 플레이트(220)의 통과 구멍(226)을 통과시켜서 배치하는 동시에, 전극 플레이트(210)에 대하여 수평방향으로 이동 불가능하게 되도록 위치 결정 핀(350)으로 위치 규제했다.

Description

기판 탑재대 및 기판 처리 장치{SUBSTRATE STAGE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 액정 모니터(Liquid Crystal Display)나 일렉트로 루미네선스 디스플레이(Electro-Luminescence Display) 등의 플랫 패널 디스플레이(Flat Panel Display)용 기판을 탑재한 기판 탑재대 및 기판 처리 장치에 관한 것이다.
이러한 종류의 기판을 낱장 처리하는 기판 처리 장치에서는 처리실 내에 마련된 탑재대 상에 미처리 기판을 한 장씩 반송 아암 등에 의해 반입하고, 처리 완료 기판을 처리실로부터 반출할 필요가 있다. 이 때문에, 처리실의 탑재대에 대한 로딩 및 언로딩을 보조하기 위해 기판을 탑재대의 탑재면보다도 위로 리프터 핀으로 밀어 올리기 위한 리프터 핀 기구가 많이 사용되고 있다.
이와 같은 종래의 리프터 핀 기구로서는, 예를 들면 특허문헌 1에 도시하는 바와 같이 1장의 전극판으로 된 탑재대에서는 그 전극판의 열팽창에 의한 리프터 핀 구멍과 리프터 핀의 위치 어긋남을 방지하기 위해서, 전극판의 하측에 리프터 핀 기구의 승강 가이드를 설치한 것이 알려져 있다. 또한, 특허문헌 2에 도시하는 바와 같이, 상판과 하판을 적층하여 이루어진 전극에 리프터 핀을 삽입 관통하고, 처리실의 바닥부에 리프터 핀의 승강 가이드(지지 기구)를 설치한 것도 있다.
특허문헌 1 : 일본 특허 공개 제 1998-102259 호 공보
특허문헌 2 : 일본 특허 공개 제 2001-185606 호 공보
그런데, 특허문헌 2에 기재의 탑재대와 같이, 복수의 플레이트를 적층하여 이루어진 전극을 갖는 탑재대에서는 전극의 온도를 조정하거나, 플라즈마를 발생시키거나 함으로써, 각 플레이트의 온도는 상승하기 때문에, 이들은 어느 것이나 열팽창한다. 이러한 경우, 최상부에 배치된 플레이트는 처리실 내에 그 상측의 표면이 노출되어 있기 때문에, 플라즈마의 생성에 따른 영향이나 처리실 내의 온도의 영향 등을 받기 쉬워서, 최상부의 플레이트와 그 하측의 플레이트에는 온도차가 발생한다. 이 때문에, 이들 플레이트의 열팽창량에 차이가 있으므로, 최상부의 플레이트와 그 하측의 플레이트의 사이에 수평방향의 위치 어긋남이 발생한다.
따라서, 이러한 복수의 플레이트를 적층하여 이루어진 전극을 갖는 탑재대에서는 특허문헌 1, 2의 경우와 같이, 전극, 즉 각 플레이트를 관통하는 핀 삽입 통과 구멍에 리프터 핀을 배치하면, 최상부의 플레이트의 핀 삽입 통과 구멍과 그 하측의 플레이트의 핀 삽입 통과 구멍의 사이에 수평방향의 위치 어긋남이 발생하며, 그 중에 삽입 통과된 리프터 핀에 전단력이 작용할 우려가 있다. 리프터 핀에 이러한 전단력이 작용하고 있는 상태에서, 리프터 핀을 상승시키면, 리프터 핀이 파손하거나, 플레이트가 파손하거나 할 우려가 있다.
특히, 최근에는 기판의 사이즈도 점점 대형화하고 있고, 이것을 탑재하는 탑재대의 각 플레이트의 사이즈도 대형화하고 있다. 이러한 탑재대를 구성하는 플레이트의 사이즈가 큰 만큼 그 열팽창량도 커지므로, 최상부의 플레이트와 그 하측의 플레이트의 수평방향의 위치 어긋남도 무시할 수 없을 만큼 커져서, 리프터 핀에는 전단력이 발생하기 쉽다.
따라서, 본 발명은 이러한 문제에 비추어 보아서 이루어진 것으로, 그 목적으로 하는 것은 복수의 플레이트를 적층하여 이루어진 전극을 갖는 탑재대에 마련된 리프터 핀의 파손이나 전극의 파손을 방지할 수 있는 기판 탑재대 등을 제공하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 관점에 의하면, 복수의 플레이트를 상하로 적층하여 이루어진 전극을 갖는 기판 탑재대에 있어서, 상기 복수의 플레이트 중 최상부에 배치된 최상부 플레이트를 관통하는 핀 삽입 통과 구멍을 승강 가능하게 마련된 리프터 핀과, 상기 리프터 핀의 승강을 안내하는 승강 가이드체를 구비하며, 상기 승강 가이드체는 상기 최상부 플레이트의 하측에 적층되는 하측 플레이트의 통과 구멍을 통과시켜서 배치되는 동시에, 상기 최상부 플레이트에 대해 수평방향으로 이동 불가능하게 위치 규제되는 것을 특징으로 하는 기판 탑재대가 제공된다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 다른 관점에 의하면, 기판에 대하여 플라즈마 처리를 실행하는 기판 처리 장치에 있어서, 진공 흡인 가능하게 구성된 처리실과, 처리 가스를 상기 처리실에 공급하는 가스 공급 수단과, 상기 처리실 내의 위쪽에 배치되어, 상기 가스 공급 수단으로부터의 가스를 기판을 향해서 도입하는 가스 도입 수단과, 상기 처리실 내의 아래쪽에 배치된 기판 탑재대를 구비하며, 상기 기판 탑재대는 복수의 플레이트를 상하로 적층하여 이루어진 전극과 상기 복수의 플레이트 중 최상부에 배치된 최상부 플레이트를 관통하는 핀 삽입 통과 구멍을 승강 가능하게 마련된 리프터 핀과, 상기 최상부 플레이트에 대해 수평방향으로 이동 불가능하게 위치 규제되어 상기 리프터 핀의 승강을 안내하는 승강 가이드체를 구비하는 기판 탑재대를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치가 제공된다.
이러한 본 발명에 따른 기판 탑재대에 있어서는, 최상부 플레이트 쪽이 하측 플레이트보다도 크게 열팽창함으로써, 이들 사이에 수평방향의 상대적인 위치 어긋남이 발생해도, 승강 가이드체는 수평방향으로 위치 규제되어 있으므로, 최상부 플레이트를 따라서 이동한다. 따라서, 승강 가이드체에 의해 상승되는 리프터 핀과 최상부 플레이트의 핀 삽입 통과 구멍은 항상 일정한 간극을 유지시킬 수 있다. 이에 의해, 최상부 플레이트가 하측 플레이트에 대해 위치 어긋나는 것에 기인하는 리프터 핀 꺽임(파손)이나 전극 플레이트의 파손을 방지할 수 있다.
또한, 상기 승강 가이드체는, 예를 들면 승강 가이드체의 상면과 상기 최상부 플레이트의 하면에 형성된 위치 결정 구멍에 끼워맞춤된 위치 결정 부재(예를 들면, 위치 결정 핀)에 의해 위치 규제된다. 이러한 위치 결정 부재를 사용함에 따라, 승강 가이드체를 최상부 플레이트의 하면에 대하여 수평방향의 위치를 간단히 규제할 수 있다.
또한, 상기 하측 플레이트의 통과 구멍의 내경은 상기 승강 가이드체의 외경보다도 크게 형성되고, 상기 내경과 상기 외경과의 차이는 상기 하측 플레이트에 대한 상기 최상부 플레이트의 최대 편차량에 따라 결정하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 처리 조건(예를 들면 설정 온도, 처리실 내 압력, 하부 전극에 전압을 가하는 고주파 전력)에 의해 최상부 플레이트의 열팽창량이 다른 경우에, 어느 처리 조건에서 기판처리를 실행할 경우에도 대응할 수 있다.
또한, 상기 승강 가이드체는 상기 하측 플레이트에 수평방향으로 이동 가능하게 설치하도록 해도 좋다. 이렇게, 승강 가이드체를 하측 플레이트 쪽에 설치할 수 있도록 함으로써 조립을 용이하게 할 수 있다.
또한, 상기 최상부 플레이트는, 예를 들어 전극 본체를 구성하는 전극 플레이트이며, 상기 하측 플레이트는, 예를 들면 전극 플레이트의 온도를 조정하기 위한 온도 조정용 플레이트이다. 온도 조정용 플레이트는 통상 일정한 온도로 유지되는 것에 대해서, 전극 플레이트는 최상부에 있으므로, 플라즈마나 주위 온도의 영향을 받기 쉽기 때문에, 전극 플레이트와 온도 조정용 플레이트의 사이에는 특히 열팽창량의 차가 발생하기 쉬우므로, 온도 조정용 플레이트의 위치 어긋남이 발생하기 쉽다. 따라서, 이와 같은 구성의 탑재대에 본 발명을 적용하는 효과는 크다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 다른 관점에 의하면, 복수의 플레이트를 상하로 적층하여 이루어진 전극을 갖는 기판 탑재대에 있어서, 상기 복수의 플레이트 중 최상부에 배치된 최상부 플레이트를 관통하는 핀 삽입 통과 구멍을 승강 가능하게 마련된 리프터 핀과, 상기 리프터 핀의 승강을 안내하는 승강 가이드체를 구비하며, 상기 승강 가이드체는 그 상부가 상기 최상부 플레이트의 하면에 형성된 위치 결정 구멍에 끼워맞춤되어 고정됨으로써 수평방향으로 이동 불가능하게 위치 규제되는 동시에, 상기 최상부 플레이트의 하측에 적층되는 하측 플레이트의 통과 구멍을 통과시켜서 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 탑재대가 제공된다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 다른 관점에 의하면, 기판에 대하여 플라즈마 처리를 실행하는 기판 처리 장치에 있어서, 진공 흡인 가능하게 구성된 처리실과, 처리 가스를 상기 처리실에 공급하는 가스 공급 수단과, 상기 처리실 내의 위쪽에 배치되어, 상기 가스 공급 수단으로부터의 가스를 기판을 향해서 도입하는 가스 도입 수단과, 상기 처리실 내의 아래쪽에 배치된 기판 탑재대를 구비하며, 상기 기판 탑재대는 복수의 플레이트를 상하로 적층하여 이루어진 전극과, 상기 복수의 플레이트 중 최상부에 배치된 최상부 플레이트를 관통하는 핀 삽입 통과 구멍을 승강 가능하게 마련된 리프터 핀과, 상기 리프터 핀의 승강을 안내하는 승강 가이드체를 구비하며, 상기 승강 가이드체는 그 상부가 상기 최상부 플레이트의 하면에 형성된 위치 결정 구멍에 끼워맞춤되어 고정됨으로써 수평방향으로 이동 불가능하게 위치 규제되는 동시에, 상기 최상부 플레이트의 하측에 적층되는 하측 플레이트의 통과 구멍을 통과시켜서 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치가 제공된다.
이러한 본 발명에 따른 기판 탑재대에 있어서는, 최상부 플레이트 쪽이 하측 플레이트보다도 크게 열팽창함으로써, 이들 사이에 수평방향의 상대적인 위치 어긋남이 생겨도, 승강 가이드체는 최상부 플레이트에 위치 결정되는 동시에 고정되어, 수평방향으로 위치 규제되어 있으므로, 최상부 플레이트를 따라서 이동한다. 따라서, 승강 가이드체에 의해 상승되는 리프터 핀과 최상부 플레이트의 핀 삽입 통과 구멍은 항상 일정한 간극을 유지시킬 수 있다. 이에 의해, 최상부 플레이트가 하측 플레이트에 대하여 위치 어긋남 하는 것에 기인하는 리프터 핀 꺽임(파손)이나 전극 플레이트의 파손을 방지할 수 있다.
또한, 최상부 플레이트의 위치 결정 구멍에 승강 가이드체의 상부를 끼워맞춤하여 고정하는 것만으로, 용이하게 승강 가이드체를 최상부 플레이트에 위치 결정할 수 있다. 이에 의해, 예를 들면 하측 플레이트 쪽에 리프터 핀을 장착하는 동시에, 최상부 플레이트 쪽에 승강 가이드체를 장착하여 승강 가이드체 내에 리프터 핀이 삽입되도록 하측 플레이트 위에 최상부 플레이트를 장착할 수 있으므로, 용이하게 조립할 수 있다.
본 발명에 의하면, 복수의 플레이트로 이루어진 전극을 갖는 탑재대에 리프터 핀을 설치할 경우에, 예를 들면 열팽창에 의해 최상부 플레이트가 하측 플레이트에 대해 위치 어긋나는 것에 기인하는 리프터 핀 꺽임(파손)이나 전극 플레이트의 파손을 방지할 수 있다.
이하에 첨부 도면을 참조하면서, 본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서 상세하게 설명한다. 또한, 본 명세서 및 도면에 있어서, 실질적으로 동일한 기능 구 성을 갖는 구성 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙임으로써 중복 설명을 생략한다.
(기판 처리 장치)
우선, 본 발명에 따른 기판 탑재대를 적용 가능한 기판 처리 장치의 실시형태에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다. 여기에서는 기판 처리 장치로서, 기판 탑재대에 탑재된 FPD용 기판(이하, 간단히 「기판」이라고도 지칭함)(G)에 대하여 에칭, 성막 등의 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치를 예로 들어서 설명한다. 도 1은 본 실시형태에 따른 플라즈마 처리 장치의 개략구성을 도시하는 종단면도이다. 도 2는 탑재대를 위쪽으로부터 본 도면이며, 도 1에 도시하는 탑재대의 단면도는 도 2에 도시하는 P-P' 단면도에 해당한다.
도 1에 도시하는 바와 같이, 플라즈마 처리 장치(100)는 처리실(챔버)(102)을 구비한다. 처리실(102)은, 예를 들면 표면이 양극 산화 처리(알루마이트 처리)된 알루미늄으로 이루어진 대략 사각통형 형상의 처리 용기에 의해 구성된다. 처리실(102)은 그라운드에 접지되어 있다. 처리실(102) 내의 바닥부에는 하부 전극으로서 기능하는 탑재대(200)가 설치되어 있다. 탑재대(200)는 직사각형의 기판(G)을 탑재한 기판 탑재대로서 기능한다. 탑재대(200)는 도 2에 도시하는 바와 같이 직사각형 형상으로 형성된다. 이 탑재대(200)의 형상은 기판(G)의 형상에 따라 결정된다. 이러한 탑재대(200)의 구체적 구성의 상세에 대해서는 후술한다.
탑재대(200)의 위쪽에는, 이것과 평행하게 대향하도록, 상부 전극으로서 기능하는 가스 도입 수단으로서의 샤워 헤드(110)가 대향 배치되어 있다. 샤워 헤드(110)는 처리실(102)의 상부에 지지되고 있으며, 내부에 버퍼실(122)을 갖는 동 시에, 탑재대(200)와 대향하는 하면에는 처리 가스를 토출하는 다수의 토출 구멍(124)이 형성되어 있다. 상부 전극인 샤워 헤드(110)는 그라운드에 접지되어 있으며, 하부 전극인 탑재대(200)와 함께 한쌍의 평행 평판 전극을 구성하고 있다.
샤워 헤드(110)의 상면에는 가스 도입구(126)가 마련되고, 가스 도입구(126)에는 가스 도입관(128)이 접속되어 있다. 가스 도입관(128)에는 개폐 밸브(130), 매스플로우 컨트롤러(MFC)(132)를 거쳐서 처리 가스 공급원(134)으로 이루어지는 가스 공급 수단이 접속되어 있다.
처리 가스 공급원(134)으로부터의 처리 가스는 매스플로우 컨트롤러(MFC)(132)에 의해 소정의 유량으로 제어되어, 가스 도입구(126)를 통해서 샤워 헤드(110)의 버퍼실(122)로 도입된다. 처리 가스(에칭 가스)로서는, 예를 들면 CF4 가스 등의 할로겐계의 가스, O2 가스, Ar 가스 등 통상 이 분야에서 사용할 수 있는 가스를 사용할 수 있다.
처리실(102)의 측벽에는 기판 반입·반출구(104)를 개폐하기 위한 게이트 밸브(106)가 마련되어 있다. 또한, 처리실(102)의 측벽의 아래쪽에는 배기구가 마련되며, 배기구에는 배기관(108)을 거쳐서 진공 펌프(도시하지 않음)를 포함하는 배기 장치(109)가 접속된다. 이 배기 장치(109)에 의해 처리실(102)의 실내를 배기함으로써, 플라즈마 처리 중에 처리실(102) 내를 소정의 진공 분위기(예를 들면 10mTorr = 약 1.33Pa)로 유지할 수 있다.
(탑재대의 구성)
다음에, 본 실시형태에 따른 탑재대(200)의 구체적 구성에 대해서 설명한다. 탑재대(200)는 복수(여기서는 2개)의 플레이트를 상하로 적층해서 구성된다. 구체적으로는, 탑재대(200)는 그 최상부에 배치된 최상부 플레이트로서의 전극 플레이트(210)와, 그 아래쪽에 적층되는 하측 플레이트로서의 온도 조정용 플레이트(220)에 의해 구성된다. 이들 중 전극 플레이트(210)는 하부 전극의 본체를 구성하는 플레이트이며, 온도 조정용 플레이트(220)는 전극 플레이트(210)의 온도를 조정하기 위한 플레이트이다. 이들 전극 플레이트(210)와 온도 조정용 플레이트(220)는 밀착해서 장착되어 있다.
전극 플레이트(210)는, 예를 들면 세라믹이나 석영의 절연 부재로 이루어진 베이스 부재(230)를 거쳐서 처리실(102) 내의 바닥부에 설치되어 있다. 또한, 탑재대(200)의 외부 프레임을 구성해, 전극 플레이트(210), 온도 조정용 플레이트(220), 베이스 부재(230)의 주위를 둘러싸도록, 예를 들면 세라믹이나 석영의 절연 부재로 이루어진 직사각형 프레임 형상의 외부 프레임부(202)가 설치된다.
전극 플레이트(210)는, 예컨대 판형상의 알루미늄으로 구성되어 있으며, 기판(G)의 탑재면(212)이 형성되는 표면은 알루마이트 처리되어 있다. 전극 플레이트(210)에는 정합기(114)를 거쳐서 고주파 전원(116)의 출력 단자가 전기적으로 접속되어 있다. 고주파 전원(116)의 출력 주파수는 비교적 높은 주파수, 예를 들면 13.56MHz로 선택된다. 고주파 전원(116)으로부터의 고주파 전력은 전극 플레이트(210)에 인가되는 것에 의해, 탑재대(200)의 탑재면(212)에 탑재된 기판(G) 위에는 처리 가스의 플라즈마가 생성되어서, 기판(G) 상에 소정의 플라즈마 에칭 처리 가 실시된다.
온도 조정용 플레이트(220)는 전극 플레이트(210)와 마찬가지의 부재, 예컨대 판형상의 알루미늄으로 구성되어 있으며, 그 내부에는 온도 조정용 매체가 흐르는 유로(222)가 형성되어 있다. 도시하지 않는 매체 공급원으로부터 소정의 온도로 조정된 온도 조정용 매체가 유로(222)를 흐름으로써, 전극 플레이트(210)의 온도를 소정의 온도로 조정할 수 있다. 또한, 온도 조정용 플레이트(220)는 상기의 구성에 한정되는 것은 아니며, 예컨대 내부에 히터를 마련해서 전극 플레이트(210)를 가열하도록 해도 좋다.
탑재대(200)의 복수 위치에 탑재면(212)에 대한 기판(G)의 로딩 및 언로딩을 보조하기 위해 기판(G)을 밀어올리기 위한 복수의 리프터 핀(밀어 올리기 핀)(242)이 마련되어 있다. 예를 들면 도 2에 도시하는 바와 같이, 탑재대(200)의 탑재면(212)의 중앙부에 1개의 리프터 핀(중앙부 리프터 핀)(242)이 마련되는 동시에, 탑재면(212)의 주변부에 10개의 리프터 핀(주변부 리프터 핀)(242)이 각 변마다 복수 이간해서 마련되어 있다. 도 2에 도시하는 예에서는, 주변부 리프터 핀(242)은 탑재면(212)의 길이 방향의 서로 평행한 2개의 변에는 각각 3개씩 이간해서 마련되며, 다른 평행한 2개의 변에는 각각 2개씩 이간해서 마련되어 있다. 또한, 리프터 핀(242)의 수는 이것에 한정되는 것은 아니며, 기판(G)의 사이즈에 맞춰 결정하는 것이 바람직하다.
각 리프터 핀(242)은 탑재면(212)으로부터 동시에 돌몰해서, 협동하여 기판(G)을 수평으로 지지하기 위한 지지 레벨을 제공한다. 예를 들면 도시하지 않는 반송 아암에 의해 기판(G)을 탑재면(212)에 대하여 로딩 및 언로딩하는 때에는, 도 1에 도시하는 바와 같이 기판(G)은 탑재면(212)으로부터 부상된 상태로 각 리프터 핀(242)에 지지된다.
각 리프터 핀(242)은, 도 1에 도시하는 바와 같이 전극 플레이트(210)에 상하로 관통하여 형성된 핀 삽입 통과 구멍(214)을 승강 가능하게 구성된다. 각 리프터 핀(242)의 중간부에는 리프터 핀(242)의 승강을 안내하는 승강 가이드체(300)가 마련되어 있다. 이 승강 가이드체(300)의 구체적 구성예는 후술한다. 각 리프터 핀(242)의 하단부는 수평방향으로 슬라이드 이동 가능하게 구성된 지지체(243)를 거쳐서 슬라이드 플레이트(250)에 지지되어 있다. 이에 의해, 후술하는 바와 같이 리프터 핀(242)이 승강 가이드체(300)와 함께 전극 플레이트(210)를 따라서 수평방향으로 이동해도, 지지체(243)가 수평방향으로 슬라이드하므로, 리프터 핀(242)의 승강 가이드체(300)보다 아랫쪽도 항상 연직으로 유지할 수 있다.
슬라이드 플레이트(250)는 처리실(102)의 바닥부의 아래쪽에 각 리프터 핀(242)마다 마련된 슬라이드 가이드(252)를 따라서 상승하도록 되어 있다. 처리실(102)의 바닥부 아래쪽에는 슬라이드 플레이트(250)를 승강 구동시키기 위한 모터(254)가 설치되어 있다. 모터(254)는 플라즈마 처리 장치를 제어하는 도시하지 않는 제어부에 접속되어 있다. 제어부로부터의 지령에 의해 모터(254)를 구동해서 슬라이드 플레이트(250)를 승강시킴으로써, 이것에 따라 각 리프터 핀(242)이 상승하고, 각 리프터 핀(242)의 선단을 탑재면(212)으로부터 돌몰시킬 수 있다.
(리프터 핀과 승강 가이드체의 설치 위치)
그런데, 본 실시형태의 탑재대(200)와 같이, 전극 플레이트(210)와 온도 조정용 플레이트(220)를 상하로 적층한 하부 전극을 갖는 탑재대에서는, 리프터 핀(242)과 승강 가이드체(300)의 설치하는 위치에 따라서는 후술하는 바와 같이 리프터 핀(242)의 파손 등의 문제를 초래할 우려가 있어서, 본 실시형태의 탑재대(200)에서는 그러한 문제가 발생하지 않도록 리프터 핀(242)과 승강 가이드체(300)를 설치하고 있다.
여기서, 본 실시형태의 리프터 핀(242)과 승강 가이드체(300)의 설치 위치에 대해서, 비교예와 비교하면서 설명한다. 도 3a 및 도 3b는 본 실시형태의 경우와 비교하기 위한 리프터 핀과 승강 가이드체의 설치예와 그 작용을 도시한 도면이며, 도 4a 및 도 4b는 본 실시형태에 있어서의 리프터 핀과 승강 가이드체의 설치예와 그 작용을 도시한 도면이다.
도 3a는 리프터 핀(242)을 전극 플레이트(210)와 온도 조정용 플레이트(220)를 각각 관통하는 핀 삽입 통과 구멍(214, 224)에 배치하는 동시에, 승강 가이드체(300)를 아래쪽의 온도 조정용 플레이트(220)에 대하여 수평방향으로 이동할 수 없도록 위치 규제한 경우이다. 이 경우는, 예를 들면 승강 가이드체(300)를 온도 조정용 플레이트(220)의 아래쪽에 고정해서 수평방향으로 위치 규제한다. 또한, 승강 가이드체(300)의 상면과 온도 조정용 플레이트(220)의 하면에 위치 결정 핀을 마련해서 수평방향으로 위치 규제하도록 해도 좋다.
혹시, 가령 도 3a에 도시하는 바와 같이 리프터 핀(242)과 승강 가이드체(300)를 설치하면, 다음과 같은 문제가 생긴다. 이하, 그 문제점에 대해서 설명 한다. 탑재대(200)의 온도 조정용 플레이트(220)의 유로(222)에 온도 조정용 매체를 유통시켜서 온도 조정을 실행하거나 플라즈마를 발생시키거나 하면, 전극 플레이트(210)와 온도 조정용 플레이트(220)의 온도는 상승하므로, 이들은 어느 것이나 열팽창한다.
이 때, 온도 조정용 플레이트(220)의 유로(222)에는 소정의 온도로 조정된 온도 조정용 매체가 흐르고 있기 때문에, 일정한 온도로 유지된다. 이것에 대하여, 전극 플레이트(210)는 처리실 내에 그 위쪽의 표면이 노출하고 있으므로, 플라즈마의 생성에 따르는 영향이나 처리실 내의 온도의 영향 등을 받기 쉽다. 이 때문에, 전극 플레이트(210)와 온도 조정용 플레이트(220)는 온도차가 생겨서, 열팽창량에 차이가 날 개연성이 높다.
예를 들면 플라즈마가 생성되어, 전극 플레이트(210)의 온도 상승이 발생했을 경우에는, 전극 플레이트(210) 쪽이 온도 조정용 플레이트(220)보다도 온도가 높게 되므로, 전극 플레이트(210) 쪽이 온도 조정용 플레이트(220)보다도 열팽창량도 커진다.
이러한 열팽창량의 차이에 의해, 도 3b에 도시하는 바와 같이 전극 플레이트(210)와 온도 조정용 플레이트(220)의 접촉면에는 수평방향으로 상대적인 위치 어긋남이 발생하므로, 전극 플레이트(210)의 핀 삽입 통과 구멍(214)과 온도 조정용 플레이트(220)의 핀 삽입 통과 구멍(224) 사이에 위치 어긋남이 발생한다.
최근에는, 기판의 사이즈도 점점 대형화하고 있어, 이것을 탑재한 탑재대(200)의 각 플레이트의 사이즈도 대형화하고 있다. 이러한 탑재대(200)를 구성 하는 전극 플레이트(210)와 온도 조정용 플레이트(220)의 사이즈가 큰 만큼 그 열팽창량도 커지므로, 전극 플레이트(210)와 온도 조정용 플레이트(220)의 수평방향의 위치 어긋남도 무시할 수 없을 만큼 커진다.
이와 같이, 전극 플레이트(210)와 온도 조정용 플레이트(220)의 위치 어긋남이 커짐에 따라서 전극 플레이트(210)의 핀 삽입 통과 구멍(214)과 리프터 핀(242)의 간극이 무너진다. 그리고, 전극 플레이트(210)의 핀 삽입 통과 구멍(214)의 벽이 리프터 핀(242)에 접촉해서, 전극 플레이트(210)가 리프터 핀(242)을 수평방향으로 꽉 누르게 되면, 리프터 핀(242) 자체에 도 3b의 화살표에 도시하는 것 같은 전단력이 작용한다.
이 때문에, 도 3b에 점선에 도시하는 바와 같이 리프터 핀(242)이 구부러질 우려가 있다. 또한, 이것보다도 더욱 위치 어긋남이 커지면, 리프터 핀(242)이 파손해 버릴 우려도 있다. 또한, 리프터 핀(242)에 상술한 것 같은 전단력이 작용하고 있는 상태에서 리프터 핀(242)을 상승시키면, 리프터 핀(242)이 파손하거나, 전극 플레이트(210)가 파손하거나 할 우려가 있다.
그래서, 본 실시형태에서는, 도 4a에 도시하는 바와 같이 리프터 핀(242)을 전극 플레이트(210)를 관통하는 핀 삽입 통과 구멍(214)에 배치하는 동시에, 온도 조정용 플레이트(220)에 승강 가이드체(300)의 직경보다도 큰 직경의 통과 구멍(226)을 형성해, 이 통과 구멍(226)에 승강 가이드체(300)를 통과시켜서, 상측의 전극 플레이트(210)에 대하여 수평방향으로 이동할 수 없도록 위치 규제한다. 예를 들면 승강 가이드체(300)의 상면과 전극 플레이트(210)의 하면에 위치 결정 핀 을 마련해서 수평방향으로 위치 규제한다. 또한, 승강 가이드체(300)를 전극 플레이트(210)의 하측에 고정해서 수평방향으로 위치 규제해도 좋다.
이에 의해, 가령 전극 플레이트(210)와 온도 조정용 플레이트(220)의 접촉면에 수평방향의 상대적인 위치 어긋남이 생겨도, 도 4b에 도시하는 바와 같이, 승강 가이드체(300)가 전극 플레이트(210)와 함께 이동하므로, 전극 플레이트(210)의 핀 삽입 통과 구멍(214)과 리프터 핀(242)의 간극은 유지된다. 이 때문에, 리프터 핀(242)이 기울어지는 일이 없고, 또 리프터 핀(242)에 전단력이 작용할 일도 없으므로, 리프터 핀(242)을 상승시켜도, 리프터 핀(242)이 파손하거나, 전극 플레이트(210)가 파손하거나 하지 않는다.
(승강 가이드체의 구체적 구성예)
다음에, 이러한 본 실시형태에 따른 승강 가이드체(300)의 구체적인 구성을 도면을 참조하면서 설명한다. 도 5는 본 실시형태에 있어서의 승강 가이드체의 구성예를 도시하는 단면도이다. 여기에서는, 승강 가이드체(300)를 온도 조정용 플레이트(220)에 대하여 수평방향으로 이동 가능하게 설치하는 동시에, 전극 플레이트(210)에 대하여는 수평방향으로 이동 불가능하게 위치 규제했을 경우의 구체예를 들어서 설명한다.
우선, 승강 가이드체(300)의 내부 구성에 대해서 설명한다. 도 5에 도시하는 바와 같이 승강 가이드체(300)는 대략 원통형의 가이드 본체(302)를 구비하며, 그 내부에 리프터 핀(242)이 삽입된다. 도 5에 도시하는 리프터 핀(242)은 선단에 배치된 핀 본체(244)와, 이 핀 본체(244)의 하단부를 지지하는 지지 바아(246)를 갖는다. 핀 본체(244)의 선단은 기판(G)의 뒷쪽에 접촉하기 때문에, 예를 들면 구면 형상으로 성형된다. 지지 바아(246)는 핀 본체(244)보다 직경이 약간 크게 형성되어 있으며, 그 하단에는 직경이 확장된 기부(248)가 마련되어 있다. 또한, 기부(248)의 하단에는 보조 바아(249)가 마련되어 있다.
가이드 본체(302) 내에는 상기 핀 본체(244)와 지지 바아(246)가 상하로 삽입 통과 가능한 삽입 통과 구멍(312)이 형성되어 있다. 이 삽입 통과 구멍(312)의 상부의 핀 구멍(314)은 전극 플레이트(210)의 핀 삽입 통과 구멍(214)과 같은 직경(또는 약간 큰 직경)으로 구성되어 있으며, 삽입 통과 구멍(312)의 하부의 심내기 구멍(316)은 상부의 핀 삽입 통과 구멍(214)보다 더욱 직경이 확장되어 있다. 구체적으로는 삽입 통과 구멍(312)의 상부의 핀 구멍(314)은 핀 본체(244)가 헐거운 끼워맞춤 가능한 직경으로 구성되며, 삽입 통과 구멍(312)의 하부의 심내기 구멍(316)은 지지 바아(246)가 헐거운 끼워맞춤 가능한 직경으로 구성된다.
심내기 구멍(316)에는 지지 바아(246)에 끼워맞춤된 심내기용 리프터 부시(320)가 설치되어 있다. 이 심내기용 리프터 부시(320)는 전극 플레이트(210)의 핀 삽입 통과 구멍(214)의 중심으로 리프터 핀(242)의 중심을 맞추기 위한 것이다.
그런데, 리프터 핀(242)의 하방[승강 가이드체(300)의 하방]은 보통 대기압 분위기(상압 분위기)로 노출되어 있어, 이것에 대하여 리프터 핀(242)의 위쪽[전극 플레이트(210)의 위쪽]의 처리실(102)은 진공압 분위기가 되기 때문에, 이들 사이의 연통을 차단할 필요가 있다. 이 때문에, 가이드 본체(302)의 하단과 지지 바아(246)의 기부(248) 사이에는, 지지 바아(246)를 둘러싸도록, 예를 들면 금속제의 신축 가능한 벨로우즈(322)가 설치된다. 구체적으로는, 벨로우즈(322)의 바닥부는 지지 바아(246)의 기부(248)에 고정되어 있는 한편, 벨로우즈(322)의 정상부에는 플랜지(324)가 설치된다. 플랜지(324)는 가이드 본체(302)의 하단에 설치되어 있다.
이러한 승강 가이드체(300) 내의 구성에 의해, 리프터 핀(242)은 승강 가이드체(300) 내의 심내기용 리프터 부시(320)에 의해 전극 플레이트(210)의 핀 삽입 통과 구멍(214)의 중심을 지나도록 상승시킬 수 있다.
다음에, 승강 가이드체(300)의 설치예에 대해서 설명한다. 승강 가이드체(300)는 그 상면이 전극 플레이트(210)의 하면에 밀착하도록, 온도 조정용 플레이트(220)의 통과 구멍(226)으로 헐거운 끼워맞춤 상태에서 온도 조정용 플레이트(220)의 상면에 설치할 수 있다.
구체적으로는, 승강 가이드체(300)의 상부에는 플랜지부(330)가 형성되어 있어, 온도 조정용 플레이트(220)의 상측 표면으로 개방되는 통과 구멍(226)의 상부는 플랜지부(330)가 헐거운 끼워맞춤 가능한 정도로 직경이 확대되어 있다. 이 직경이 확대된 플랜지 삽입 구멍(228)에 플랜지부(330)가 삽입되어서, 온도 조정용 플레이트(220)의 플랜지 삽입 구멍(228)이 형성되는 표면에 볼트(340)로 설치되어 있다.
이 볼트(340)는 플랜지부(330)에 형성된 볼트 구멍(332)의 저면에, 미끄러지기 용이하게 표면 가공이 되어 있는 와셔(342)를 개재하여 장착해도 좋다. 이에 의해, 플랜지부(330)가 볼트(340)로 온도 조정용 플레이트(220)에 고정되어 있어 도, 볼트(340)와 플랜지부(330) 사이에 개재하는 와셔(342)의 표면이 미끄러지기 용이하게 되어 있으므로, 승강 가이드체(300)는 온도 조정용 플레이트(220)에 대하여 수평방향으로 이동 가능해진다.
또한, 승강 가이드체(300)의 상면은 승강 가이드체(300)의 핀 구멍(314)의 중심이 전극 플레이트(210)의 핀 삽입 통과 구멍(214)의 중심에 맞도록 수평방향으로 이동 불가능하게 위치 규제되어 있다. 구체적으로는, 승강 가이드체(300)의 상면과 전극 플레이트(210)의 하면에 형성된 위치 결정 구멍(352)에 삽입된 위치 결정 부재의 일례로서의 위치 결정 핀(350)에 의해, 수평방향으로 이동 불가능하게 위치 규제되어 있다.
이러한 위치 결정 부재를 사용함으로써, 승강 가이드체(300)를 전극 플레이트(210)의 하면에 대하여 수평방향의 위치를 간단히 규제할 수 있다. 또한, 위치 결정 핀(350)은 핀 구멍(314)의 주위에 복수(여기에서는 2개) 마련하는 것이 바람직하다.
위치 결정 구멍(352)의 직경은 위치 결정 핀(350)이 끼워 넣어져서 고정되도록 되어 있고, 위치 결정 구멍(352)은 위치 결정 핀(350)의 길이보다 약간 깊어지도록 형성되어 있다. 이에 의해, 위치 결정 핀(350)은 수평방향으로는 이동 불가능한 동시에, 위치 결정 핀(350)의 길이 방향으로 공간이 생기기 때문에, 위치 결정 핀(350)이 열팽창해도 위치 결정 구멍(352)에 내부 응력이 발생하지 않도록 할 수 있다.
또한, 승강 가이드체(300)나 그 근방에는 대기압 분위기와 진공압 분위기의 기밀성을 유지하거나, 플라즈마의 침입을 방지하거나 하기 위해서, 복수의 기밀유지 부재, 예를 들면 O링을 설치할 수 있다.
구체적으로는, 예를 들면 승강 가이드체(300)의 핀 구멍(314)에는 핀 본체(244)와의 사이에 O링(362)이 개재되어 있다. 또한, 승강 가이드체(300)의 상면에는 전극 플레이트(210)의 하면과의 사이에 핀 구멍(314)을 둘러싸도록 O링(364)이 개재되어 있다. 이들 O링(362, 364)은 주로 핀 삽입 통과 구멍(214)로부터의 플라즈마의 침입을 막기 위해서 마련되어 있다.
또한, 승강 가이드체(300)의 상면에는 전극 플레이트(210)의 하면과의 사이에 위치 결정 핀(350)보다도 외측을 둘러싸도록 O링(366)이 개재되어 있다. 온도 조정용 플레이트(220)의 상면에는 전극 플레이트(210)의 하면과의 사이에 승강 가이드체(300)의 플랜지부(330)의 주위를 둘러싸도록 O링(368)이 개재되어 있다. 이들 O링(366, 368)은 주로 리프터 핀(242)의 하방[승강 가이드체(300)의 하방]의 대기압 분위기(상압 분위기)와, 리프터 핀(242)의 위쪽[전극 플레이트(210)의 위쪽]의 처리실(102)과의 사이의 기밀성을 유지하기 위해서 마련되어 있다.
이러한 구성의 승강 가이드체(300)에 있어서는, 상술한 바와 같이 전극 플레이트(210) 쪽이 온도 조정용 플레이트(220)보다도 크게 열팽창함으로써, 이들의 접촉면에 수평방향의 상대적인 위치 어긋남이 생겨도, 승강 가이드체(300)는 위치 결정 핀(350)에 의해 수평방향으로 위치 규제되어 있으므로, 전극 플레이트(210)를 따라서 이동한다. 따라서, 전극 플레이트(210)의 핀 삽입 통과 구멍(214)과 승강 가이드체(300)의 핀 구멍(314)은 위치 어긋나지 않기 때문에, 이 상태에서 리프터 핀(242)을 상승시켜도, 리프터 핀(242)이 파손하거나, 전극 플레이트(210)가 파손하거나 하는 일은 없다. 이렇게, 본 실시형태에 따른 탑재대(200)에 의하면, 전극 플레이트(210)가 온도 조정용 플레이트(220)에 대하여 위치 어긋남에 기인하는 리프터 핀(242)이나 전극 플레이트(210)의 파손을 방지할 수 있다.
또한, 승강 가이드체(300)가 삽입 통과되는 통과 구멍(226)의 크기는, 전극 플레이트(210)와 온도 조정용 플레이트(220)가 수평방향으로 상대적으로 위치 어긋날 경우에 상정되는 최대의 위치 어긋남 량에 따라 결정하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 온도 조정용 플레이트(220)에 대한 전극 플레이트(210)의 최대 위치 어긋남 량을 L로 하면, 승강 가이드체(300)의 외경보다도 통과 구멍(226)의 내경쪽이 적어도 2L 이상 커지도록 하면 좋다. 이것에 의해, 예를 들면 처리 조건(예를 들어, 설정 온도, 처리실 내 압력, 하부 전극에 전압을 가하는 고주파 전력)에 의해 전극 플레이트(210)의 열팽창량이 다른 경우에, 어느 처리 조건에서 기판처리를 실행할 경우에도 대응할 수 있다.
도 5에 도시하는 승강 가이드체(300)는 온도 조정용 플레이트(220) 쪽에 설치하므로, 예를 들면 온도 조정용 플레이트(220)에 승강 가이드체(300)를 장착하고 나서, 그 위에 전극 플레이트(210)를 장착할 수 있으므로, 조립을 용이하게 할 수 있다.
또한, 도 5에 있어서의 승강 가이드체(300)는 온도 조정용 플레이트(220) 쪽에 설치하도록 하고 있지만, 예를 들면 도 6에 도시하는 바와 같이 승강 가이드체(300)를 전극 플레이트(210) 쪽에 볼트(344) 등으로 고정하도록 해도 좋다. 이 경우, 전극 플레이트(210)의 하면에 위치 결정 핀을 마련하는 대신에, 전극 플레이트(210)의 하면에 위치 결정 구멍으로서의 요홈부(216)를 마련하고, 이 요홈부(216)에 플랜지부(330)의 상부를 끼워맞춤하도록 해도 좋다. 이에 의해, 승강 가이드체(300)는 전극 플레이트(210)의 하면에 위치 결정되어 수평방향으로 위치 규제된다.
또한, 승강 가이드체(300)는, 도 6에 도시하는 바와 같이 플랜지부(330)와 가이드 본체(302)를 별개로 해서 이들을 볼트 등으로 연결해서 구성해도 좋고, 일체로 구성해도 좋다.
또한, 벨로우즈(322)는 그 플랜지(324)를 승강 가이드체(300)에 장착하는 대신에, 온도 조정용 플레이트(220)의 밑에 마련한 장착 부재(304)에 장착하도록 해도 좋다. 이 장착 부재(304)는 온도 조정용 플레이트(220)로부터 아래쪽으로 돌출한 가이드 본체(302)를 틈새를 열어서 덮는 형상(예를 들면 컵 형상)으로 형성되며, 통과 구멍(226)의 하측의 개구를 둘러싸도록 마련된다. 그리고, 장착 부재(304)의 하면에 형성된 관통 구멍으로부터 리프터 핀(242)의 지지 바아(246)가 관통하도록 온도 조정용 플레이트(220)에 장착한다. 벨로우즈(322)의 플랜지(324)는 장착 부재(304)의 하면에 형성된 관통 구멍을 둘러싸도록 장착된다.
또한, 온도 조정용 플레이트(220)와 장착 부재(304)의 사이에는 밀봉용의 O링(306)을 마련하는 것이 바람직하다. 또한, 심내기용 리프터 부시(320)는, 도 6에 도시하는 바와 같이 이격해서 복수(예를 들면 2개) 마련하도록 해도 좋다. 이에 의해, 리프터 핀(242)의 심내기 정밀도를 보다 향상시킬 수 있다.
이러한 구성의 승강 가이드체(300)에 있어서는, 상술한 바와 같이 전극 플레이트(210) 쪽이 온도 조정용 플레이트(220)보다도 크게 열팽창함으로써, 이들의 접촉면에 수평방향의 상대적인 위치 어긋남이 생겨도, 승강 가이드체(300)는 전극 플레이트(210)에 고정되어 있는 동시에, 요홈부(216)에 의해 수평방향으로 위치 규제되어 있으므로, 전극 플레이트(210)를 따라서 이동한다. 따라서, 전극 플레이트(210)의 핀 삽입 통과 구멍(214)과 승강 가이드체(300)의 핀 구멍(314)은 위치 어긋나지 않기 때문에, 이 상태로 리프터 핀(242)을 상승시켜도, 리프터 핀(242)이 파손하거나, 전극 플레이트(210)가 파손하거나 하는 일은 없다.
또한, 전극 플레이트(210)의 요홈부(216)에 플랜지부(330)의 상부를 끼워 넣어서 볼트(344)로 고정하는 것만으로, 용이하게 승강 가이드체(300)를 전극 플레이트(210)에 위치 결정할 수 있다. 이것에 의해, 전극 플레이트(210) 쪽에 승강 가이드체(300)를 장착하는 동시에, 온도 조정용 플레이트(220) 쪽에 리프터 핀(242)을 벨로우즈(322)를 거쳐서 장착해서, 승강 가이드체(300) 내에 리프터 핀(242)이 삽입되도록 온도 조정 플레이트(220) 위에 전극 플레이트(210)를 장착할 수 있으므로, 용이하게 조립할 수 있다.
그런데, 상술한 바와 같은 탑재대(200)에 마련되는 복수의 리프터 핀(242) 중, 전부의 리프터 핀(242)에 대해서 도 4a, 도 5 및 도 6에 도시하는 것 같은 구성으로 해도 좋고, 또 열팽창에 의해 온도 조정용 플레이트(220)에 대한 전극 플레이트(210)의 위치 어긋남 량이 커질 개연성이 높은 위치에 배치되어 있는 리프터 핀(242)에 대해서만, 도 4a, 도 5 및 도 6에 도시하는 것 같은 구성으로 해도 좋 다.
예를 들면 도 2에 도시하는 바와 같이 배치된 복수의 리프터 핀(242) 중, 탑재대(200)의 탑재면(212)의 중앙부에 배치된 리프터 핀(242)에 대해서는 열팽창에 의한 전극 플레이트(210)의 위치 어긋남이 거의 발생하지 않는 것에 비하여, 중앙부로부터 이격될수록 전극 플레이트(210)의 위치 어긋남이 커지는 경향이 있다. 이것은 전극 플레이트(210)의 열팽창이 그 중앙부로부터 주변부로 향해서 방사상으로 팽창하기 때문이다.
따라서, 전극 플레이트(210)의 위치 어긋남이 커지는 탑재면(212)의 주변부에 배치된 주변부 리프터 핀(242)만을 도 4a, 도 5 및 도 6에 도시하는 것 같은 구성으로 하도록 해도 좋다. 이 경우, 탑재면(212)의 중앙부에 배치된 중앙부 리프터 핀(242)은, 예를 들면 도 3a에 도시하는 것 같은 구성으로 해도 좋다.
이상 첨부 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해서 설명했지만, 본 발명은 관련된 예에 한정되지 않는 것은 말할 필요도 없다. 당업자라면 특허청구의 범위에 기재된 범위 내에 있어서, 각종의 변경예 또는 수정예에 도달할 수 있는 것은 명확하며, 그것에 관해서도 당연하게 본 발명의 기술적 범위에 속하는 것이라고 양해된다.
본 발명은 액정 모니터용 기판 등의 기판을 탑재하는 탑재대 및 기판 처리 장치에 적용가능하다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 기판 처리 장치의 구성을 도시하는 단면도,
도 2는 도 1에 도시하는 탑재대를 상측으로부터 본 도면,
도 3a는 본 실시형태의 경우와 비교하기 위한 리프터 핀 승강 가이드체의 설치예를 도시한 도면,
도 3b는 도 3a의 경우에 온도 조정용 플레이트에 대하여 전극 플레이트가 위치 어긋났을 때의 작용을 설명하는 도면,
도 4a는 본 실시형태에 있어서의 리프터 핀 승강 가이드체의 설치예를 도시한 도면,
도 4b는 도 4a의 경우에 온도 조정용 플레이트에 대하여 전극 플레이트가 위치 어긋났을 때의 작용을 설명하는 도면,
도 5는 본 실시형태에 있어서의 승강 가이드체의 구성예를 도시하는 단면도,
도 6은 본 실시형태에 있어서의 승강 가이드체의 다른 구성예를 도시하는 단면도.
부호의 설명
100 : 플라즈마 처리 장치 102 : 처리실
104 : 기판 반입·반출구 106 : 게이트 밸브
108 : 배기관 109 : 배기 장치
110 : 샤워 헤드 114 : 정합기
116 : 고주파 전원 122 : 버퍼실
124 : 토출 구멍 126 : 가스 도입구
128 : 가스 도입관 130 : 개폐 밸브
132 : 매스플로우 컨트롤러(MFC) 134 : 처리 가스 공급원
200 : 탑재대 202 : 외부 프레임부
210 : 전극 플레이트 212 : 탑재면
214, 224 : 핀 삽입 통과 구멍 216 : 요홈부
220 : 온도 조정용 플레이트 222 : 유로
226 : 통과 구멍 228 : 플랜지 삽입 통과 구멍
230 : 베이스 부재
242 : 리프터 핀(중앙부 리프터 핀, 주변부 리프터 핀)
243 : 지지체 244 : 핀 본체
246 : 지지 바아 248 : 기부
250 : 슬라이드 플레이트 252 : 슬라이드 가이드
254 : 모터 300 : 승강 가이드체
302 : 가이드 본체 304 : 장착 부재
306 : O링 312 : 삽입 통과 구멍
314 : 핀 구멍 316 : 심내기 구멍
320 : 심내기용 리프터 부시 322 : 벨로우즈
324 : 플랜지 330 : 플랜지부
332 : 볼트 구멍 340 : 볼트
342 : 와셔 344 : 볼트
350 : 위치 결정 핀 352 : 위치 결정 구멍
362, 364 : O링 366, 368 : O링
369 : O링 G : 기판

Claims (8)

  1. 복수의 플레이트(210, 220)를 상하로 적층하여 이루어지는 전극을 갖는 기판 탑재대(200)에 있어서,
    상기 복수의 플레이트(210, 220) 중 최상부에 배치되는 최상부 플레이트(210)를 관통하는 핀 삽입 통과 구멍(214)을 승강 가능하게 마련한 리프터 핀(242)과,
    상기 리프터 핀(242)의 승강을 안내하는 승강 가이드체(300)를 구비하고,
    상기 승강 가이드체(300)는 상기 최상부 플레이트(210)의 하측에 적층되는 하측 플레이트(220)의 통과 구멍(226)을 통과시켜서 배치되는 동시에, 상기 최상부 플레이트(210)에 대해 수평방향으로 이동 불가능하게 위치 규제되며,
    상기 하측 플레이트(220)의 통과 구멍(226)의 내경은 상기 승강 가이드체(300)의 외경보다도 크게 형성되는 것을 특징으로 하는
    기판 탑재대.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 승강 가이드체(300)는 그 상면과 상기 최상부 플레이트(210)의 하면에 형성된 위치 결정 구멍(352)에 끼워진 위치 결정 부재(350)에 의해 위치 규제되는 것을 특징으로 하는
    기판 탑재대.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 하측 플레이트(220)의 통과 구멍(226)의 내경과 상기 승강 가이드체(300)의 외경과의 차이는, 상기 하측 플레이트(220)에 대한 상기 최상부 플레이트(210)의 최대 어긋남량에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는
    기판 탑재대.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 승강 가이드체(300)는 상기 하측 플레이트(220)에 수평방향으로 이동 가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는
    기판 탑재대.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 최상부 플레이트(210)는 상기 전극 본체를 구성하는 전극 플레이트(210)이고, 상기 하측 플레이트(220)는 상기 전극 플레이트(210)의 온도를 조정하기 위한 온도 조정용 플레이트(220)인 것을 특징으로 하는
    기판 탑재대.
  6. 기판(G)에 대하여 플라즈마 처리를 행하는 기판 처리 장치(100)에 있어서,
    진공 흡인 가능하게 구성된 처리실(102)과,
    처리 가스를 상기 처리실(102)에 공급하는 가스 공급 수단(134)과,
    상기 처리실(102) 내의 위쪽에 배치되고, 상기 가스 공급 수단(134)으로부터의 가스를 기판(G)을 향해서 도입하는 가스 도입 수단(110)과,
    상기 처리실(102) 내의 아래쪽에 배치된 기판 탑재대(200)를 구비하고,
    상기 기판 탑재대(200)는, 복수의 플레이트(210, 220)를 상하로 적층하여 이루어지는 전극과, 상기 복수의 플레이트(210, 220) 중 최상부에 배치되는 최상부 플레이트(210)를 관통하는 핀 삽입 통과 구멍(214)을 승강 가능하게 마련한 리프터 핀(242)과, 상기 최상부 플레이트(210)에 대해 수평방향으로 이동 불가능하게 위치 규제되고 상기 리프터 핀(242)의 승강을 안내하는 승강 가이드체(300)를 구비하며,
    상기 승강 가이드체(300)는 상기 최상부 플레이트(210)의 하측에 적층되는 하측 플레이트(220)의 통과 구멍(226)을 통과시켜서 배치되는 동시에, 상기 하측 플레이트(220)의 통과 구멍(226)의 내경은 상기 승강 가이드체(300)의 외경보다도 크게 형성되는 것을 특징으로 하는
    기판 처리 장치.
  7. 복수의 플레이트(210, 220)를 상하로 적층하여 이루어지는 전극을 갖는 기판 탑재대(200)에 있어서,
    상기 복수의 플레이트(210, 220) 중 최상부에 배치되는 최상부 플레이트(210)를 관통하는 핀 삽입 통과 구멍(214)을 승강 가능하게 마련한 리프터 핀(242)과,
    상기 리프터 핀(242)의 승강을 안내하는 승강 가이드체(300)를 구비하고,
    상기 승강 가이드체(300)는 그 상부가 상기 최상부 플레이트(210)의 하면에 형성된 위치 결정 구멍(216)에 끼워져 고정됨으로써 수평방향으로 이동 불가능하게 위치 규제되는 동시에, 상기 최상부 플레이트(210)의 하측에 적층되는 하측 플레이트(220)의 통과 구멍(226)을 통과시켜서 배치되며,
    상기 하측 플레이트(220)의 통과 구멍(226)의 내경은 상기 승강 가이드체(300)의 외경보다도 크게 형성되는 것을 특징으로 하는
    기판 탑재대.
  8. 기판(G)에 대하여 플라즈마 처리를 행하는 기판 처리 장치(100)에 있어서,
    진공 흡인 가능하게 구성된 처리실(102)과,
    처리 가스를 상기 처리실(102)에 공급하는 가스 공급 수단(134)과,
    상기 처리실(102) 내의 위쪽에 배치되고, 상기 가스 공급 수단(134)으로부터의 가스를 기판(G)을 향해서 도입하는 가스 도입 수단(110)과,
    상기 처리실(102) 내의 아래쪽에 배치된 기판 탑재대(200)를 구비하고,
    상기 기판 탑재대(200)는, 복수의 플레이트(210, 220)를 상하로 적층하여 이루어지는 전극과, 상기 복수의 플레이트(210, 220) 중 최상부에 배치되는 최상부 플레이트(210)를 관통하는 핀 삽입 통과 구멍(214)을 승강 가능하게 마련한 리프터 핀(242)과, 상기 리프터 핀(242)의 승강을 안내하는 승강 가이드체(300)를 구비하며,
    상기 승강 가이드체(300)는 그 상부가 상기 최상부 플레이트(210)의 하면에 형성된 위치 결정 구멍(216)에 끼워져 고정됨으로써 수평방향으로 이동 불가능하게 위치 규제되는 동시에, 상기 최상부 플레이트(210)의 하측에 적층되는 하측 플레이트(220)의 통과 구멍(226)을 통과시켜서 배치되며,
    상기 하측 플레이트(220)의 통과 구멍(226)의 내경은 상기 승강 가이드체(300)의 외경보다도 크게 형성되는 것을 특징으로 하는
    기판 처리 장치.
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