CN101591771B - 真空设备的基座定位支撑装置 - Google Patents

Abstract

一种应用于真空设备腔体内升降承载基板的基座定位支撑装置，利用一侧向定位支撑机构自基座侧面进行夹持定位，可以避免基座在真空设备腔体内的位置偏斜情形，该侧向定位支撑机构并与基座形成简支梁支撑结构，以改善大面积基座边缘的荷重悬垂变形，使大面积基板置于基座上得以进行维持平坦性与或调整水平性的效益，于大面积基板镀膜应用时，可以显著提升大面积基板薄膜沉积厚度的均匀性。

Description

真空设备的基座定位支撑装置 

技术领域

本发明涉及一种定位支撑技术，特别是涉及一种应用于真空设备腔体内升降承载基板的基座定位支撑装置。 

背景技术

半导体、薄膜晶体管液晶显示器(TFT LCD，Thin-Film TransistorLiquid Crystal Display)、以及薄膜太阳电池等产业，无论在技术、材料、设备上均具有很高的共通性。同时，随着产品面积的日益增大，诸如硅薄膜太阳电池模块、LCD电视等基板(Substrate)送入镀膜设备中的面积也随之增大。因此，不论是在化学气相沉积(CVD，Chemical VaporDeposition)或是物理气相沉积(PVD，Physical Vapor Deposition)的镀膜设备中，进行大面积镀膜的大面积基板承接基座(Susceptor)均成为必要的组件。 

同时，尤其于真空环境下的等离子增强化学气相沉积(Plasmaenhanced CVD，PECVD)镀膜应用时，于该镀膜腔体内通常使用具有加热功能的基座作为下电极，上电极则结合于镀膜腔体的腔盖下方，以由该上电极与该基座(下电极)的两平行空间内形成电容式等离子反应区域电离(dissociation)制程气体(未图示)，并于下电极上的基板表面沉积薄膜。而在进行大面积镀膜之际，两电极间的平行度是否良好对等离子密度均匀性影响甚大，并会对薄膜品质产生关键性影响。 

以具加热功能的基座来说，如图1A所示，通常是以机器手臂(未图示)将基板20送入镀膜设备的镀膜腔体40中的基座401上，该基座401可为具有加热功能的加热装置。基座401下表面处接设升降机构60。该升降机构60包括穿设该镀膜腔体40的升降平台601、连接该镀膜腔体40底面的挠性体603、支撑该基座401的支撑架605、以及密封于该基座401与该升降平台601间的密封件607，通过该密封件607保持该镀膜腔体40于真空状态之下。此外，可设置用于驱动该升降机 构60的升降致动器80。该升降致动器80可通过导螺杆801连接该升降平台601，以致动该基座401向上上升至沉积工艺所需高度，并与该上电极403形成一平行空间，而且所上升的高度S必须可随工艺需要而调整。 

但是，该基座401与该升降平台601之间的密封间隙存在，且呈T型悬吊式设计的基座401以基座中心轴部底端作支撑，如图1B所示，当该升降平台601上升时，该基座401的悬吊设置方式会令上部较重而下部较轻，且其上部亦不受拘束，因此现有技术虽可于基座中心轴部底端固定(未图示)，但在升降基座的使用中仍会发生基座摇晃与偏转的情形；换言之，该基座401与该上电极403两者间的平行度将不易维持且无法掌握。 

同时，如图1C所示，T型悬吊式设计的基座401仅以基座中心轴部作支撑时，形成悬臂梁式的结构，在高温工艺下，且大面积镀膜应用时，如无适当的结构支撑，则该基座401与该上电极403两者之间的平行度因自重与基板荷重施加于悬臂梁式结构而变差(如虚线所示)，而同样会造成薄膜品质不佳。 

中国台湾专利证书第I228773号发明专利中，是在作为下电极的基座上设置定位销，当下电极靠近上电极时，可由定位销顶住上电极表面以控制上、下电极间的平行度。 

然而，在实际操作中，两电极间距离必须依工艺需要而为可调整的功能，然而该专利技术只能提供固定工艺间距的应用。同时，为了容纳定位销的空间，会造成该基座的面积比实际对应基板面积增大许多，当基座为加热装置时，将徒增硬件制作与能源消耗的成本；而且，应用此种现有技术时，无法解决基座在高热下因悬臂梁结构所产生的严重基座边缘的悬垂变形。 

美国专利公开第2006/0054090A1号案中，是于真空镀膜设备的基座的下方设置多个支撑轴杆(support shaft)配合小型的多个支撑板，以支撑该基座。但是，此现有技术是通过多个支撑板支撑基座时，并无法确知真空腔体中的基座是否为各个支撑板所平均支撑的实际情况，亦即无法确知受支撑的基座是否发生歪斜状态，因此仍旧存在薄膜品质不佳的问题。 

是故，如何设计一种提供良好的基座定位支撑技术，以避免上述的种种缺陷，实为相关领域的业者目前急待解决的问题。 

发明内容

鉴于上述现有技术的缺点，本发明的一目的是提供一种真空设备的基座定位支撑装置，从而应用于真空设备腔体内升降承载基板时，确保基座的水平性与平坦性。 

本发明的另一目的是提供一种真空设备的基座定位支撑装置，可由真空设备腔体外部回馈真空设备腔体内基座的位置与姿态。 

为达到上述目的及其他相关目的，本发明提供一种真空设备的基座定位支撑装置，应用于定位支撑基座至真空设备，该基座可于该真空设备的腔体内升降，并且具有可用于承载基板的基板承接部以及连接该基板承接部的基座中心轴部，该真空设备的基座定位支撑装置则包括：滑台机构，平行于该镀膜腔体，用于保持该基座中心轴部，且包括平行于该镀膜腔体并具有多个第一穿孔以及一第二穿孔的升降平台，而该第二穿孔供该基座中心轴部穿过；以及侧向定位支撑机构，包括固定于该滑台机构以自该基座侧面进行夹持定位的多个夹爪组、分别连接各该夹爪组以用于使各该夹爪组同步运动的多个夹爪组驱动件、连接该滑台机构且用于限制各该夹爪组位置使该基座中心线不偏斜的限位件、以及提供各该夹爪组运动的夹爪组运动组件，其中该多个夹爪组是以该升降平台的第二穿孔的中心线为对称轴心而设置。 

前述真空设备的基座定位支撑装置中，该滑台机构可包括：线性轴承，套设于各该第一穿孔；导柱，结合该线性轴承并固定至该镀膜腔体，从而用以导引该升降平台相对于该镀膜腔体升降；以及升降致动器，用以致动该升降平台。其中，该升降致动器可包括连接该升降平台的导螺杆。 

前述侧向定位支撑机构中，该多个夹爪组是以对称该升降平台的第二穿孔的中心线设置，夹爪组包括用于接触该基板承接部侧边的夹爪爪部、一端连接该夹爪爪部的夹爪本体、以及设于该夹爪本体的连接件。于一实施例中，可于该升降平台设有包括滑块与滑轨的夹爪组运动组件，该滑轨固定于该升降平台上，该夹爪本体固定结合于该滑块上以于该滑轨上滑动自如，形成多个夹爪组的平行运动方式；于另一实施例中，该夹爪组运动组件包括设于该升降平台的转轴，该夹爪本体则以该转轴结合至该升降平台，形成多个夹爪组的摇摆运动方式。同时，该连接件可选择为一体设于该夹爪本体、或者为另外连接至该夹爪本体的结构。换言之，所属技术领域中的技术人员可在本发明的概念下改变该夹爪组的相关结构与配置位置、以及该夹爪组运动组件的运动方式。 

应注意的是，该夹爪爪部与基座的侧边可具有相互对应的凸部与凹部，例如可应用于基座本身具有凸部或凹部的基板承接部，或者无凸部或凹部特征的基座；如为无凸部或凹部特征的基座，则例如可于该基板承接部的侧边设置定位件，令该定位件与该夹爪爪部具有对应的凸部与凹部，如此也可同样达到侧向定位支撑。当然，前述对应的凸部与凹部可视需要为矩形、圆柱形、圆弧形或其他可达成侧向定位支撑的等效形状。同时，该夹爪组驱动件为提供该对应夹爪组张合运动的驱动源，该夹爪组驱动件可包括诸如气压缸或马达，于一实施例中，该夹爪组驱动件包括气压缸以及结合至该气压缸的滑套，该气压缸包括固定于该升降平台的缸体以及一端由该滑套结合的气压缸杆，且该气压缸可例如为双头气压缸，该滑套则用于结合该气压缸杆至该夹爪组的夹爪本体，但均非局限于前述类型。 

此外，该限位件可为垂直于该滑台机构的限位块(stopper)，是以该升降平台第二穿孔中心线而对称设置，并且位于该夹爪组驱动件的另一端。于一实施例中，该限位件可垂直固定于该升降平台，且位于该气压缸杆的另一端。 

在需要真空环境的实施例中，基座中心轴部穿过第二穿孔，可于该第二穿孔中设有一密封件，保持该镀膜腔体于真空状态，该夹爪组的连接件与该镀膜腔体的下表面之间设有第二挠性密封件，该升降平台的上表面与该镀膜腔体的下表面之间则可固设有第一挠性密封件。例如，其中该第二挠性密封件锁固至连接件以保持该镀膜腔体于真空状态之下，且较佳可随着该夹爪爪部的移动而对应活动，该第一挠性密封件则可例如锁固至该升降平台的上表面与该镀膜腔体的下表面之间以保持该镀膜腔体于真空状态，而采用仅作垂直上下相对运动的结合结构。 

另外，本发明的真空设备的基座定位支撑装置还可包括连接该夹爪组驱动件以用于表示该基座位置的基座位置指示件，该基座位置指示件可为连接该夹爪组驱动件的指针，例如连接该气压缸杆远离该滑套的一端，该滑台机构则设有对应于该指针的刻度尺，其中，该刻度尺可例如为线形或弧形的刻度尺。 

如上所述，本发明的真空设备的基座定位支撑装置是利用一具有以该升降平台的第二穿孔中心线为对称轴心而设置的侧向定位支撑机构，于基座穿设第二穿孔后，自该基座侧面进行夹持定位支撑，可控制改善该基座在真空设备的腔体内的位置偏斜情形，该机构并与该基座形成封闭简支梁支撑结构，以改善大面积基座的边缘悬垂变形问题，具有增进大面积基座的水平性与平坦性效益，使大面积镀膜应用时薄膜厚度的均匀性提升。尤其，本发明可由真空设备腔体外部掌控真空设备腔体内基座的真实位置与姿态，使应用于两平行电极电容式等离子镀膜实施例，大幅提高两电极间的平行度精度，可获得均匀的等离子密度，以提升TFT LCD以及薄膜太阳电池等须进行大面积镀膜工艺的成膜均匀性，从而获得优质的薄膜，克服了现有技术中的种种缺陷。 

附图说明

图1A至图1C是显示现有基座的示意图； 

图2是显示本发明的真空设备的基座定位支撑装置第一实施例的剖视示意图； 

图3是显示图2所应用的基座的变化例的示意图； 

图4A是显示本发明的真空设备的基座定位支撑装置第二实施例的局部示意图，其中是改变该夹爪爪部与该基板承接部的对应结构；以及 

图4B是显示显示本发明的真空设备的基座定位支撑装置第三实施例的示意图，其中是改变夹爪组运动方式的机制、以及该夹爪爪部与该基板承接部的对应结构。 

主要元件符号说明： 

20  基板 

40  镀膜腔体 

401 基座 

403 上电极 

60  升降机构 

601 升降平台 

603 挠性体 

605 支撑架 

607 密封件 

80  升降致动器 

801 导螺杆 

10  基座 

101 基板承接部 

103 基座中心轴部 

1   滑台机构 

11  升降平台 

111 第一穿孔 

112 第二穿孔 

113 刻度尺 

13  线性轴承 

15  导柱 

17  升降致动器 

171 导螺杆 

3   侧向定位支撑机构 

31  夹爪组 

311 爪部 

313 夹爪本体 

315 连接件 

33  夹爪组驱动件 

330 滑套 

331 缸体 

333 气压缸杆 

35  限位件 

37  夹爪组运动组件 

371 滑块 

373 滑轨 

375 转轴 

39  基座位置指示件 

5   定位件 

6   密封件 

7   第一挠性密封件 

9   第二挠性密封件 

A   箭头 

S   高度 

具体实施方式

以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。 

图2是依本发明的真空设备的基座定位支撑装置第一实施例所绘制的附图，如图2所示，本实施例中的真空设备的基座定位支撑装置，是应用于定位支撑基座10至真空设备的镀膜腔体40。该基座10可于该真空设备的镀膜腔体40内升降，并且具有可用于承载基板(未图示)的基板承接部101以及连接该基板承接部101的基座中心轴部103，且两者的中心轴线即为该基座10的中心轴线。该镀膜腔体40可为腔盖设有上电极403的真空镀膜腔体，但并非局限于此，也可应用于其他类型的腔体，例如不具备该上电极403的腔体，于此仅为例示性说明。 

应注意的是，该基座10本身可为其上承载有基板的加热元件，如此，该基板承接部101可为加热板。但，也可令该基座10为单纯承载基板的承载元件，而不具加热功能；或者，该基座10本身可为电极，例如平行于该上电极403的下电极。换言之，本实施例中是例示性说明可实施的其中一实施例，而非局限于此，合先叙明。同时，本实施例可应用于电容耦合式平行电极等离子镀膜(Capacitive CouplingPlasma，CCP)系统，但并非以此为限。 

该真空设备的基座定位支撑装置包括：平行设于该镀膜腔体40下 方的滑台机构1、以及设置于该滑台机构1以自该基座10侧面进行夹持定位支撑的侧向定位支撑机构3。 

该滑台机构1是用于保持该基座中心轴部103的底端。于本实施例中，该滑台机构1包括升降平台11、设于该升降平台11的线性轴承13、连接该镀膜腔体40与该升降平台11的导柱15、以及用以致动该升降平台11的升降致动器(actuator)17。 

该升降平台11平行于该镀膜腔体40，并具有多个第一穿孔111以及一第二穿孔112。该升降平台11设置该第二穿孔112供穿设该基座中心轴部103，并于该升降平台11的上端及下端设置对应该导柱15的第一穿孔111，该线性轴承13套设于各该第一穿孔111。于本实施例中，该第二穿孔112设于该升降平台11中心处或大致中心处，且该第二穿孔112中套设一密封件6，该密封件6则可保持该镀膜腔体40为真空。例如，该密封件6可为密封环、O形环或其他可密封该第二穿孔112以保持该镀膜腔体40为真空的等效元件。 

该导柱15穿设于该升降平台11并结合该线性轴承13，并固定至该镀膜腔体40。于本实施例中，是于该镀膜腔体40外部底端垂直连接2支以上的导柱15，该导柱15结合该线性轴承13并固定至该镀膜腔体40，从而用以导引该升降平台11相对于该镀膜腔体40而平行地升降；但，该导柱15的设置数量与位置并非局限于本实施例中所述者，于此仅为例示性说明。由于该升降平台11可利用该导柱15导引，而平行于该镀膜腔体40作上下升降移动，该滑台机构1具有加工制造成本低及易组装的效果。 

于本实施例中，该升降平台11上表面与该镀膜腔体40下表面之间，固设有第一挠性密封件(flexible sealing)7。更详而言之，该第一挠性密封件7两端分别锁固至该升降平台11上表面与该镀膜腔体40下表面之间，而采用仅作垂直相对运动的结合结构，以保持该镀膜腔体40为真空。 

该升降致动器17则可包括连接该升降平台11的导螺杆171，以由该导螺杆171连接并带动该升降平台11，使该升降平台11可相对该镀膜腔体40上下升降移动，形成可单轴升降的平台，如图2的箭头A所示。于本实施例中，该导螺杆171穿设该升降平台11的下表面，并接 近该升降平台11中心之处。 

该侧向定位支撑机构3设于该滑台机构1，包括固定于该滑台机构1的升降平台11以自该基座10侧面进行夹持定位的多个夹爪组31、分别连接各该夹爪组31以用于使各该夹爪组31同步运动的多个夹爪组驱动件33、连接该滑台机构1且用于限制各该夹爪组的位置以使该基座中心线不偏斜的多个限位件35、约束各该夹爪组31运动型态的多个夹爪组运动组件37、以及连接各该夹爪组驱动件33以用于表示该真空腔体40中基座10位置的多个基座位置指示件39。 

该多个夹爪组31固定于该滑台机构1且以升降平台第二穿孔112中心线为对称轴心而设置，该夹爪组31包括用于接触该基板承接部101侧边的夹爪爪部311、一端连接该夹爪爪部311的夹爪本体313、以及设于该夹爪本体313的连接件315。于本实施例中，该多个夹爪组31固定于该升降平台11，例如可设置4组夹爪组31，两相对夹爪组31并以该升降平台11的第二穿孔112中心线为对称轴心而设置，当该基座10穿设于该第二穿孔112，驱动该多个夹爪组31进行侧向定位运动时，具有与使该基座10中心自动对准第二穿孔112中心特性的功能；但，于其他实施例中，也可改变该夹爪组31的设置数量，只要依据该基座10的基板承接部101外形调整使可保持自动对准中心的特性即可。 

该夹爪爪部311与该基板承接部101包括对应的凸部与凹部，以由该夹爪爪部311的凸部自该基板承接部101侧边插入对应的凹部定位，以保持该基座10不发生位置偏转的情形，并且提供令该基板承接部101侧边为该夹爪爪部311所支撑而靠持，使该基板承接部101侧边不致因自重与基板荷重而下垂。于本实施例中，该夹爪爪部311设有大致矩形的凸部，该基板承接部101则具有对应的矩形凹部，且该凸部的凸出长度大于该凹部的凹设深度，以供该夹爪爪部311定位保持接触该基板承接部101的侧边。当然，于其他实施例中，所属技术领域中的技术人员也可令该凸部的凸出长度等于或小于该凹部的凹设深度，或如该夹爪爪部311设有大致圆柱的凸部，该基板承接部101则具有对应的圆柱孔凹部，而非局限于本实施例中所述者。换言之，只要可由该夹爪爪部311自该基座10的侧向定位支撑的等效结构，均 适用于本发明。 

此外，由于本实施例中的各该夹爪组31是穿过该升降平台11而进入该镀膜腔体40，为了保持该镀膜腔体40为真空，可设置能够随着该夹爪组31而运动的第二挠性密封件9，令该第二挠性密封件9一端固定结合于该镀膜腔体40下表面，另一端则连接该连接件315而固定结合，且不锁固至该升降平台11上表面，其中该第二挠性密封件9密封锁固至该连接件315，并例如可为金属、皮革、橡胶或其他具可挠性的真空密封元件。 

各该夹爪组31由各该夹爪组驱动件33所驱动，使各该夹爪组31对称于穿设于该第二穿孔112的基座10中心线同动，并由该限位件35使该夹爪爪部311可直接接触该基板承接部101的侧面，定位并支撑该基座10使保持水平不致倾斜以及维持该基板承接部101的平坦性，以达到基座定位支撑目的。 

于本实施例中，该夹爪组驱动件33分别对应连接各该夹爪本体313，并由该夹爪组驱动件33作为该夹爪组31的驱动源。同时，该夹爪组驱动件33可包括气压缸以及结合至该气压缸的滑套330。该气压缸包括固定于该升降平台11的缸体331、以及一端由该滑套330结合至该夹爪本体313大致中间部位的气压缸杆(Cylinder)333。于此，该夹爪组驱动件33例如可为双头气压缸，并以例如滑套330结合该气压缸杆333至对应的夹爪本体313，以驱动该夹爪组31。 

应了解的是，本实施例虽以多组夹爪组驱动件33分别对应连接多个夹爪组31，但所属技术领域中的技术人员也可采用单一组夹爪组驱动件33来控制各该夹爪组33同步运动，或以其他方式分别同步控制各该夹爪组33运动；而且，于其他实施例中，所属技术领域中的技术人员还可设置其他可驱动该夹爪组31的等效夹爪组驱动件，例如其他形式的气压缸、马达或其他可侧向驱动的夹爪组驱动件，且也可例如省略该滑套330，而直接结合该夹爪组驱动件33至该夹爪爪部311，只要可达到控制各该夹爪组33左右运动即可。 

该限位件35可为垂直于该滑台机构1的限位块，例如垂直固定于该升降平台11，并且位于该夹爪组驱动件33的另一端。于本实施例中，该限位件35在该升降平台11上对应每一夹爪组31，而位于该气压缸 杆333另一端。 

同时，该限位件35可使各夹爪组31均以该第二穿孔112的中心线为对称轴心，即该夹爪组驱动件33可一侧停止于该限位件35，使限制各夹爪组31的夹爪爪部311位置并保持该基座10的中心线重合于该第二穿孔112的中心线，以限制该基座10上部保持水平姿态，使达到定位该基座10不致发生偏斜的目的。 

该夹爪组运动组件37可设在该滑台机构1的升降平台11，于本实施例中，该夹爪组运动组件37可为设置各该夹爪组31而对应的滑动组件，包括连接该夹爪组31的滑块371与供该滑块371自如滑动的滑轨373，将该夹爪组31的夹爪本体313与该滑块371结合，使各该夹爪组31可利用该滑轨373而滑动自如地保持平行运动，形成夹爪平行运动方式，其目的之一为使该夹爪组31的夹爪得以因应该基座10受热膨胀时所产生水平位移。 

于此，例如也可利用该滑块371来取代该滑套330，而由该夹爪组运动组件37的滑块371直接连接该夹爪本体313与该气压缸杆333。由于以该滑块371直接连接该夹爪本体313与该气压缸杆333的技术可为任何现有的连接技术，所属技术领域中的技术人员皆可据以实施，故于此不另绘附图表示。 

该基座位置指示件39可设于各该夹爪组驱动件33一侧，于本实施例中，该基座位置指示件33为连接该夹爪组驱动件33的气压缸杆333一端，例如连接该气压缸杆333远离该滑套330的一端，并可为诸如具有指示尖端的指针，该滑台机构1则可于例如该升降平台11下表面设有对应于该指针的刻度尺113，其中，该刻度尺113可例如为线形或弧形的刻度尺。 

于本实施例中，真空的镀膜腔体40内，由于该夹爪爪部311保持接触该基板承接部101的侧面，因此可通过夹爪的构造，以该位置指示件39与固定于该升降平台11上的刻度尺113，由镀膜腔体40外部准确测得该镀膜腔体40内该基座10的位置；该夹爪组驱动件33也可进行夹爪夹持力量的个别精密微调，以进行基座位置、姿态的调控定位。当然，该基座位置指示件39的设置位置并非局限于此，也可例如设于该升降平台11的内部或其他位置处。因此，只要可用以表示该基 座10于该镀膜腔体40内位置姿势的基座位置指示件39即可适用于本发明；换言之，其他可由该镀膜腔体40外部的装置来确认该真空的镀膜腔体40内部基座(例如该基座10的基板承接部101)的位置、姿态的，皆适用于本发明。而且，此种夹爪夹持力量个别精密微调以调控基座位置与姿态的机制无论在制造工艺前、制造工艺中、以及制造工艺后均适用。 

如此，由上述提供的本发明的支撑与定位机制，便可与该基座10形成一高刚性简支梁的支撑定位结构，具有增进大面积基座的水平性与平坦性效益，使大面积镀膜应用时薄膜厚度的均匀性提升。 

应注意的是，由于以诸如气压缸的夹爪组驱动件33调节压力、以及自用机械结构测距的技术与作用原理俱为现有技术，故于此不再多作说明。 

当然，本发明仍可有其他变化。举例来说，也可应用不具加热功能的基座，或者使用一般常见的基座，例如，侧面无凹部特征的基座。 

如图3所示，第一实施例也可应用于其他变化例，例如，可于该无凹部特征的基座10的侧边设置定位件5，该定位件5可采例如焊接、铆接或其他等效的固定技术来连接至该基座10的基板承接部101侧边，并可于该定位件5设置对应该夹爪爪部311的凹部。如此，便可在不改变该基座10的侧边结构下，由该夹爪爪部311与该定位件5自该基座10侧面进行夹持定位支撑。当然，前述对应的凸部与凹部可视需要为圆弧形或其他可达成侧向定位支撑的等效形状，而非局限于图2与图3所示的形状。 

图4A为依本发明的真空设备的基座定位支撑装置第二实施例所绘制的附图，与第一实施例相同或近似的元件以相同或近似的元件符号表示，并省略详细的说明。 

与第一实施例不同的是，第二实施例也可令该夹爪爪部311包括具有圆弧形轮廓的凸部，该基座10侧边则可具有对应的圆弧形轮廓的凹部。于此，该夹爪爪部311可具有一较大半径的圆弧形凸部，被夹持的基板承接部101侧面则具有对应的较小半径的圆弧形凹部，而不一定要夹紧该基板承接部101。如此，通过提供侧向的夹爪夹持力维持与基板承接部101接触，使该夹爪爪部311可以支撑该基板承接部101 的周围端部，以与该基座10形成高刚性的封闭简支梁支撑结构，且通过监控回馈基座位置的基座位置指示件39以及调整该夹爪组驱动件33的夹爪夹持力，可以达成基座水平定位、以及形成简支梁结构支撑该基板承接部101的端部边缘等效益，可供维持与调整大面积基座的水平性与增进其平坦性。 

于其他实施例中，还可采用具有对应该夹爪爪部311的凸部形状(例如圆弧形凹部)的定位框(未图示)来固定并包覆该基板承接部101侧面，以取代图2中该基板承接部101侧面具有圆弧形凹部的基座10、或者是取代图3中该基座10的侧边所设置的定位件5；当然，该夹爪爪部311与该基板承接部101所对应设置的凸部与凹部并非局限于前述矩形、圆柱形或圆弧形的形状，也可应用可自该基座10侧面进行支撑/夹持定位的其他等效形状的凸部与凹部。 

此外，虽前述实施例中可采用具有凹部的基板承接部101、该定位件5、或定位框，但于其他实施例中也可改变该基板承接部101、该定位件5、或该定位框的结构，例如设计具有凸部的该基板承接部101、该定位件5、或该定位框，该夹爪爪部311则可具有对应的凹部。换言之，只要可供支撑/夹持该基座10的周围端部的等效结构，均适用于本发明。 

图4B为依本发明的真空设备的基座定位支撑装置第三实施例所绘制的附图，与前述实施例相同或近似的元件是以相同或近似的元件符号表示，并省略详细的说明。 

第三实施例与前述实施例不同的是，改变了夹爪组运动方式，例如，修改该夹爪组运动组件，设置包括转轴的夹爪组运动组件来取代前述的滑块与滑轨。 

如图4B所示，可由转轴375将该夹爪组31的夹爪本体313结合至该升降平台11，形成夹爪摇摆运动结构。于此实施例中，该夹爪爪部311与该基板承接部101可具有对应的圆弧形凸部与圆弧形凹部。由于该夹爪组31是与该基座10接触形成简支梁的结构，并由该夹爪组驱动件33具有维持该结构不变的功效，此时该夹爪本体313轴接该转轴375的一端，即转轴375可以承受该基座10端部边缘因自重下压夹爪的负荷而形成支撑，同时在该夹爪爪部311的圆弧形凸部与被夹 持的基板承接部101侧面对应的较小半径的圆弧形凹部是形成点接触，以作为本发明另一顺应基座受热膨胀实施例。因此，当该基座10加热时，虽然该基板承接部101可能会产生热变形，但仍可一直保持简支梁结构的支撑功能不变，且通过监控回馈基座位置的基座位置指示件39以及必要时调整该夹爪组驱动件33的夹爪夹持力，可以达成基座水平定位、以及形成简支梁结构支撑该基板承接部101的端部边缘等效益，可供维持与调整大面积基座的水平性与增进其平坦性。 

由于本发明可解决现有技术中大面积基座在调整间距的升降运动过程中，产生摇晃导致最终基座姿态偏转以及大面积基座存在的边缘悬垂等情形，使大面积基板置于基座上得以进行维持平坦性与或调整水平性的效益，于应用于两平行电极电容式等离子镀膜实施例，可大幅提高两电极间的平行度精度，以提升TFT LCD以及薄膜太阳电池等须进行大面积镀膜工艺的成膜均匀性，从而获得优质的薄膜，克服了现有技术中的种种缺陷。 

综上所述，本发明的真空设备的基座定位支撑装置是利用各夹爪组以保持基座的中心线不偏斜并由基座的侧面进行定位支撑，且与基座形成高刚性的简支梁支撑结构，以供维持与调整大面积基座的水平性与平坦性。而且，尤其在电容耦合式基板承接部等离子镀膜(CCP)的应用时，可提高两电极间的平行度精度，以增加大面积镀膜薄膜厚度的均匀性。同时，可由真空腔体外部掌控真空设备腔体内基座的真实位置与姿态。因此，应用本发明可克服现有技术的前述诸多缺点，而具高度产业利用价值。 

上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何本领域技术人员均可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰与改变。因此，举凡所属技术领域中的技术人员在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由权利要求书的范围所涵盖。 

Claims (13)

1.一种真空设备的基座定位支撑装置，应用于定位支撑基座至真空设备，该基座可于该真空设备的腔体内升降，并且具有用于承载基板的基板承接部以及连接该基板承接部的基座中心轴部，其特征在于，该真空设备的基座定位支撑装置包括：

滑台机构，平行于该镀膜腔体，用于保持该基座中心轴部，且包括平行于该镀膜腔体并具有多个第一穿孔以及一第二穿孔的升降平台，而该第二穿孔供该基座中心轴部穿过；以及

侧向定位支撑机构，包括固定于该滑台机构以自该基座侧面进行夹持定位的多个夹爪组、分别连接各该夹爪组以用于使各该夹爪组同步运动的多个夹爪组驱动件、连接该滑台机构且用于限制各该夹爪组位置使该基座中心线不偏斜的限位件、以及提供各该夹爪组运动的夹爪组运动组件，其中该多个夹爪组是以该升降平台的第二穿孔的中心线为对称轴心而设置。

2.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置，其特征在于，该滑台机构包括：

线性轴承，套设于各该第一穿孔；

导柱，结合该线性轴承并固定至该镀膜腔体，从而用以导引该升降平台相对于该镀膜腔体而平行地升降；以及

升降致动器，用以致动该升降平台。

3.根据权利要求2所述的真空设备的基座定位支撑装置，其特征在于：该升降平台的上表面与该镀膜腔体的下表面之间固设有第一挠性密封件，该第二穿孔中设有一密封件，该夹爪组与该镀膜腔体的下表面之间则设有第二挠性密封件。

4.根据权利要求2所述的真空设备的基座定位支撑装置，其特征在于：该升降致动器包括连接该升降平台的导螺杆。

5.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置，其特征在于：该夹爪组包括用于接触该基板承接部侧边的夹爪爪部、一端连接该夹爪爪部的夹爪本体、以及设于该夹爪本体的连接件。

6.根据权利要求5所述的真空设备的基座定位支撑装置，其特征在于：该夹爪爪部与该基板承接部侧边包括对应的凸部与凹部。

7.根据权利要求6所述的真空设备的基座定位支撑装置，其特征在于：该凸部的凸出长度大于该凹部的凹设深度。

8.根据权利要求5所述的真空设备的基座定位支撑装置，其特征在于：该基板承接部的侧边设置定位件，该定位件与该夹爪爪部具有对应的凸部与凹部。

9.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置，其特征在于：该夹爪组驱动件包括气压缸以及结合至该气压缸的滑套。

10.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置，其特征在于：该夹爪组运动组件包括连接该夹爪组的滑块以及设于该滑台机构以供该滑块自如滑动的滑轨。

11.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置，其特征在于：该夹爪组运动组件包括定位该夹爪组至该滑台机构的转轴。

12.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置，其特征在于：该限位件为垂直于该滑台机构的限位块，并且位于该夹爪组驱动件的另一端。

13.根据权利要求1所述的真空设备的基座定位支撑装置，其特征在于：还包括连接该夹爪组驱动件以用于表示该基座位置的基座位置指示件。

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