KR100910229B1 - 적층 반도체 패키지 - Google Patents
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Abstract
적층 반도체 패키지가 개시되어 있다. 적층 반도체 패키지는 칩 선택 패드들 및 접속 패드을 갖는 기판, 데이터 본딩 패드, 칩 선택 본딩 패드, 상기 데이터 본딩 패드들과 전기적으로 연결된 데이터 재배선들 및 상기 데이터 본딩 패드를 관통하여 상기 데이터 재배선과 전기적으로 연결된 데이터 관통 전극을 포함하는 복수개의 반도체 칩들 포함하며, 상기 반도체 칩들이 상기 칩 선택 본딩 패드가 노출되게 적층된 반도체 칩 모듈 및 상기 칩 선택 패드 및 상기 칩 선택 본딩 패드들을 전기적으로 연결하는 도전성 와이어를 포함한다.
Description
본 발명은 적층 반도체 패키지에 관한 것이다.
최근 들어, 반도체 제조 기술의 개발에 따라 단시간 내에 보다 많은 데이터를 처리하기에 적합한 반도체 소자를 갖는 다양한 종류의 반도체 패키지들이 개발되고 있다.
최근에는 반도체 패키지에 저장되는 데이터의 양 및 반도체 패키지로부터 데이터의 처리 속도를 보다 향상시키기 위하여 복수개의 반도체 칩을 적층 및 전기적으로 연결한 적층 반도체 패키지가 개발되고 있다.
적층 반도체 패키지를 구현하기 위해서는 복수개의 반도체 칩들 중 특정 반도체 칩에 제어 신호 또는 데이터 신호를 선택적으로 인가하는 기술을 필요로 한다.
본 발명은 데이터 신호는 관통 전극을 통해 반도체 칩으로 제공하고, 칩 선택 신호는 도전성 와이어를 통해 반도체 칩으로 제공하여 고속으로 동작할 수 있는 적층 반도체 패키지를 제공한다.
본 발명에 따른 적층 반도체 패키지는 칩 선택 패드들 및 접속 패드을 갖는 기판, 데이터 본딩 패드, 칩 선택 본딩 패드, 상기 데이터 본딩 패드들과 전기적으로 연결된 데이터 재배선들 및 상기 데이터 본딩 패드를 관통하여 상기 데이터 재배선과 전기적으로 연결된 데이터 관통 전극을 포함하는 복수개의 반도체 칩들 포함하며, 상기 반도체 칩들이 상기 칩 선택 본딩 패드가 노출되게 적층된 반도체 칩 모듈 및 상기 칩 선택 패드 및 상기 칩 선택 본딩 패드들을 전기적으로 연결하는 도전성 와이어를 포함한다.
적층 반도체 패키지의 적층 된 상기 반도체 칩의 개수가 2n 개일 경우(단, n은 2 이상의 자연수), 상기 각 반도체 칩은 상기 n 개의 상기 칩 선택 본딩 패드들을 포함한다.
적층 반도체 패키지는 상기 칩 선택 본딩 패드와 전기적으로 연결된 칩 선택 재배선을 더 포함한다.
적층 반도체 패키지는 상기 칩 선택 본딩 패드를 관통하는 칩 선택 관통 전 극을 포함한다.
적층 반도체 패키지의 상기 칩 선택 패드는 접지 전압(Vss)이 인가되는 접지 전압 패드 및 전원 전압(Vcc)이 인가되는 전원 전압 패드를 포함한다.
적층 반도체 패키지의 상기 데이터 재배선으로는 어드레스 신호, 전원 신호, 데이터 신호 및 컨트롤 신호가 인가된다.
적층 반도체 패키지의 상기 데이터 재배선과 상기 관통 전극 사이에는 도전성 연결 부재가 개재된다.
적층 반도체 패키지의 상기 도전성 연결 부재는 솔더이다.
적층 반도체 패키지는 접속 패드 및 칩 선택 패드들을 갖는 기판, 복수개가 상기 기판상에 적층 되고, 데이터 본딩 패드들 및 칩 선택 본딩 패드들이 에지에 배치된 반도체 칩들, 상기 반도체 칩들 사이에 개재되며, 인접한 상기 반도체 칩들을 상호 이격시키는 스페이서, 상기 반도체 칩들을 관통하여 상기 데이터 본딩 패드들 및 상기 접속 패드와 전기적으로 연결된 관통 전극들 및 상기 칩 선택 패드 및 상기 칩 선택 본딩 패드들을 전기적으로 연결하는 도전성 와이어를 포함한다.
적층 반도체 패키지의 상기 각 관통 전극은 상기 스페이서의 두께에 대응하여 상기 반도체 칩으로부터 돌출된다.
적층 반도체 패키지의 상기 관통 전극의 두께는 상기 반도체 칩의 두께와 실질적으로 동일하고, 상기 스페이서에 의하여 이격 된 상기 각 관통 전극의 사이에는 도전성 연결 부재가 개재된다.
적층 반도체 패키지의 상기 도전성 연결 부재는 솔더이다.
적층 반도체 패키지의 적층 된 상기 반도체 칩의 개수가 2n 개일 경우(단, n은 2 이상의 자연수), 상기 각 반도체 칩은 상기 n 개의 상기 칩 선택 본딩 패드들 및 상기 칩 선택 재배선을 포함한다.
적층 반도체 패키지의 상기 칩 선택 패드는 접지 전압(Vss)이 인가되는 접지 전압 패드 및 전원 전압(Vcc)이 인가되는 전원 전압 패드를 포함한다.
본 발명에 의하면, 복수개가 적층 된 반도체 칩들의 데이터 본딩 패드들은 관통 전극을 통해 전기적으로 연결하고, 칩 선택 본딩 패드들 및 기판의 칩 선택 패드는 도전성 와이어를 통해 전기적으로 연결하여 데이터는 관통 전극을 통해 고속으로 입출력하고, 칩 선택 본딩 패드들 및 칩 선택 패드를 도전성 와이어를 통해 연결하여 제조 공정을 크게 단축 시킬 수 있는 효과를 갖는다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 적층 반도체 패키지에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명이 하기의 실시예들에 제한되는 것은 아니며, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 적층 반도체 패키지를 도시한 사시도이다.
도 1을 참조하면, 적층 반도체 패키지(400)는 기판(100), 반도체 칩 모 듈(200) 및 도전성 와이어(300)를 포함한다.
도 2는 도 1에 도시된 기판의 평면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 기판(100)은 기판 몸체(105), 칩 선택 패드(110) 및 접속 패드(120)를 포함한다. 이에 더하여, 기판(100)은 볼 랜드 패드 및 솔더볼을 더 포함할 수 있다.
기판 몸체(105)는 플레이트 형상을 갖는다. 기판 몸체(105)는, 평면에서 보았을 때, 사각형 형상을 가질 수 있고, 기판 몸체(105)는, 예를 들어, 인쇄회로기판(PCB)일 수 있다.
칩 선택 패드(110)는 기판 몸체(105)의 상면의 일측 에지를 따라 배치된다. 예를 들어, 칩 선택 패드(110)는 기판 몸체(105)의 일측 에지의 가운데 부분에 배치될 수 있다. 칩 선택 패드(110)는 접지 전압(Vss)이 인가된 접지 전압 패드(112) 및 전원 전압(Vcc)이 인가된 전원 전압 패드(114)를 포함할 수 있다.
본 실시예에서, 칩 선택 패드(110)의 개수는 후술 될 반도체 칩 모듈(200)에 포함된 반도체 칩의 개수에 의하여 결정된다. 본 실시예에서, 반도체 칩 모듈(200)에 포함된 반도체 칩들의 개수가 4개일 경우, 칩 선택 패드(110)는 2개로 이루어진다. 이와 다르게, 반도체 칩 모듈(200)에 포함된 반도체 칩들의 개수가 8개일 경우, 칩 선택 패드(110)는 3개로 이루어지고, 반도체 칩 모듈(200)에 포함된 반도체 칩의 개수가 16개일 경우, 칩 선택 패드(110)는 4개로 이루어진다.
접속 패드(120)는 기판 몸체(105)의 상면의 상기 일측 에지를 따라 배치되며, 복수개의 접속 패드(120)들은 칩 선택 패드(110)의 양쪽에 각각 배치된다.
도 3은 도 1의 평면도이다. 도 4는 도 3의 I-I' 선을 따라 절단한 단면도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 반도체 칩 모듈(200)은 기판 몸체(105)의 상면에 배치된다.
반도체 칩 모듈(200)은 복수개의 반도체 칩들을 포함한다. 본 실시예에서, 반도체 칩 모듈(200)은 2N 개(단, N은 1 이상의 자연수)의 반도체 칩들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 반도체 칩 모듈(200)은 2 개(N이 1), 4 개(N이 2), 8개(N이 3), 16개(N이 4), 32개(N이 5)의 반도체 칩들을 포함할 수 있다.
본 실시예에서, 반도체 칩 모듈(200)은, 예를 들어, 4 개의 반도체 칩들을 포함한다.
이하, 반도체 칩 모듈(200)들에 포함된 4 개의 반도체 칩들은 제1 반도체 칩(210), 제2 반도체 칩(220), 제3 반도체 칩(230) 및 제4 반도체 칩(240)으로서 정의된다.
기판(100) 상에 배치되는 제1 반도체 칩(210)은 제1 데이터 본딩 패드(212), 제1 칩 선택 본딩 패드(214), 제1 데이터 관통 전극(216) 및 제1 데이터 재배선(218)을 포함한다. 제1 데이터 본딩 패드(212)로는 기판 몸체(105)의 접속 패드(120)를 통해 어드레스 신호, 전원 신호, 데이터 신호 및 컨트롤 신호 등이 입력된다.
제1 데이터 본딩 패드(212)들 및 제1 칩 선택 본딩 패드(214)들은 제1 반도 체 칩(210)의 상면 에지를 따라 배치된다. 예를 들어, 제1 데이터 본딩 패드(212)들 및 제1 칩 선택 본딩 패드(214)들은 제1 방향을 따라 배치된다.
제1 데이터 본딩 패드(212)들은 도 2에 도시된 기판 몸체(105)의 각 접속 패드(120)와 대응하는 위치에 배치되며, 제1 칩 선택 본딩 패드(214)들은 도 2에 도시된 기판 몸체(105)의 칩 선택 패드(110)와 대응하는 위치에 배치된다.
제1 데이터 관통 전극(216)은 제1 데이터 본딩 패드(212) 및 제1 반도체 칩(210)을 관통하고, 이 결과 제1 반도체 칩(210)의 제1 데이터 관통 전극(216)은 기판 몸체(110)의 접속 패드(120)와 전기적으로 연결된다. 접속 패드(120) 및 제1 데이터 관통 전극(216)의 사이에는 솔더와 같은 접속 부재가 개재될 수 있다.
제1 데이터 재배선(218)은 제1 반도체 칩(210)의 상면에 배치되며, 제1 데이터 재배선(218)의 제1 단부는 제1 데이터 관통 전극(216)과 전기적으로 연결되며, 제1 데이터 재배선(218)의 제1 단부와 대향 하는 제2 단부는 제1 방향(FD)과 직교하는 제2 방향(SD)을 향해 제1 길이(L1)로 연장된다.
한편, 제1 반도체 칩(210)은 제1 칩 선택 재배선(217)을 더 포함할 수 있다. 제1 칩 선택 재배선(217)은 제1 반도체 칩(210)의 제1 칩 선택 본딩 패드(214)와 대응하는 곳에 형성될 수 있다. 제1 칩 선택 재배선(217)은 제2 방향을 향해 제1 길이(L1)보다 짧은 제2 길이를 갖는다.
제2 반도체 칩(220)은 제2 데이터 본딩 패드(222), 제2 칩 선택 본딩 패드(224), 제2 데이터 관통 전극(226) 및 제2 데이터 재배선(228)을 포함한다.
제2 반도체 칩(220)은 제1 반도체 칩(210) 상에 계단 형태로 배치되고, 이로 인해 제1 반도체 칩(210)의 제1 칩 선택 본딩 패드(214) 또는 제1 칩 선택 재배선(217)은 제2 반도체 칩(220)에 의하여 노출된다.
제2 반도체 칩(220)의 제2 데이터 본딩 패드(222) 및 제2 칩 선택 본딩 패드(224)들은 제1 데이터 본딩 패드(212) 및 제1 칩 선택 본딩 패드(214)와 인접한 제2 반도체 칩(220)의 상면 에지를 따라 배치된다. 예를 들어, 제2 데이터 본딩 패드(222) 및 제2 칩 선택 본딩 패드(224)들은 제1 방향(FD)으로 형성된다. 제2 데이터 본딩 패드(222)는 제1 데이터 재배선(218) 상에 배치된다.
제2 데이터 관통 전극(226)은 제2 데이터 본딩 패드(222) 및 제2 반도체 칩(220)을 관통하고, 이 결과 제2 데이터 관통 전극(226)은 제1 데이터 재배선(218)과 전기적으로 접속된다. 제2 데이터 관통 전극(226) 및 제1 데이터 재배선(218) 사이에는 도전성 연결 부재가 배치될 수 있다. 도전성 연결 부재로 사용되는 물질의 예로서는 솔더를 들 수 있다.
제2 데이터 재배선(228)은 제2 반도체 칩(220)의 상면에 배치되며, 제2 데이터 재배선(228)의 제1 단부는 제2 데이터 관통 전극(226)과 전기적으로 연결되며, 제2 데이터 재배선(228)의 제1 단부와 대향 하는 제2 단부는 제1 방향(FD)과 직교하는 제2 방향(SD)을 향해 제1 길이(L1)로 연장된다.
한편, 제2 반도체 칩(220)은 제2 칩 선택 재배선(227)을 더 포함할 수 있다. 제2 칩 선택 재배선(227)은 제2 반도체 칩(220)의 제2 칩 선택 본딩 패드(224)와 대응하는 곳에 형성될 수 있다. 제2 칩 선택 재배선(227)은 제2 방향을 향해 제1 길이(L1)보다 짧은 제2 길이로 형성된다.
제3 반도체 칩(230)은 제3 데이터 본딩 패드(232), 제3 칩 선택 본딩 패드(234), 제3 데이터 관통 전극(236) 및 제3 데이터 재배선(238)을 포함한다. 제3 반도체 칩(230)은 제2 반도체 칩(220) 상에 계단 형태로 배치되고, 이로 인해 제2 반도체 칩(220)의 제2 칩 선택 본딩 패드(224) 또는 제2 칩 선택 재배선(227)은 제3 반도체 칩(230)에 의하여 노출된다.
제3 반도체 칩(230)의 제3 데이터 본딩 패드(232) 및 제3 칩 선택 본딩 패드(234)들은 제2 데이터 본딩 패드(222) 및 제2 칩 선택 본딩 패드(224)와 인접한 제2 반도체 칩(220)의 상면 에지를 따라 배치된다. 예를 들어, 제3 데이터 본딩 패드(232) 및 제3 칩 선택 본딩 패드(234)들은 제1 방향(FD)으로 형성된다. 제3 데이터 본딩 패드(232)는 제2 데이터 재배선(228) 상에 배치된다.
제3 데이터 관통 전극(236)은 제3 데이터 본딩 패드(232) 및 제3 반도체 칩(230)을 관통하고, 이 결과 제3 데이터 관통 전극(236)은 제2 데이터 재배선(228)과 전기적으로 접속된다. 제3 데이터 관통 전극(236) 및 제2 데이터 재배선(228) 사이에는 도전성 연결 부재가 배치될 수 있다. 도전성 연결 부재로 사용되는 물질의 예로서는 솔더를 들 수 있다.
제3 데이터 재배선(238)은 제3 반도체 칩(230)의 상면에 배치되며, 제3 데이터 재배선(238)의 제1 단부는 제3 데이터 관통 전극(236)과 전기적으로 연결되며, 제3 데이터 재배선(238)의 제1 단부와 대향 하는 제2 단부는 제1 방향(FD)과 직교하는 제2 방향(SD)을 향해 제1 길이(L1)로 연장된다.
한편, 제3 반도체 칩(230)은 제3 칩 선택 재배선(237)을 더 포함할 수 있다. 제3 칩 선택 재배선(237)은 제3 반도체 칩(230)의 제3 칩 선택 본딩 패드(234)와 대응하는 곳에 형성될 수 있다. 제3 칩 선택 재배선(237)은 제2 방향을 향해 제1 길이(L1)보다 짧은 제2 길이로 형성된다.
제4 반도체 칩(240)은 제4 데이터 본딩 패드(242), 제4 칩 선택 본딩 패드(244), 제4 데이터 관통 전극(246) 및 제4 데이터 재배선(248)을 포함한다. 제4 반도체 칩(240)은 제3 반도체 칩(230) 상에 계단 형태로 배치되고, 이로 인해 제3 반도체 칩(230)의 제3 칩 선택 본딩 패드(234) 또는 제3 칩 선택 재배선(237)은 제4 반도체 칩(240)에 의하여 노출된다.
제4 반도체 칩(240)의 제4 데이터 본딩 패드(242) 및 제4 칩 선택 본딩 패드(244)들은 제3 데이터 본딩 패드(232) 및 제3 칩 선택 본딩 패드(234)와 인접한 제3 반도체 칩(230)의 상면 에지를 따라 배치된다. 예를 들어, 제4 데이터 본딩 패드(242) 및 제4 칩 선택 본딩 패드(244)들은 제1 방향(FD)으로 형성된다. 제4 데이터 본딩 패드(242)는 제3 데이터 재배선(238) 상에 배치된다.
제4 데이터 관통 전극(246)은 제4 데이터 본딩 패드(242) 및 제4 반도체 칩(240)을 관통하고, 이 결과 제4 데이터 관통 전극(246)은 제3 데이터 재배선(238)과 전기적으로 접속된다. 제4 데이터 관통 전극(246) 및 제3 데이터 재배선(238) 사이에는 도전성 연결 부재가 배치될 수 있다. 도전성 연결 부재로 사용되는 물질의 예로서는 솔더를 들 수 있다.
제4 데이터 재배선(248)은 제4 반도체 칩(240)의 상면에 배치되며, 제4 데이터 재배선(248)의 제1 단부는 제4 데이터 관통 전극(246)과 전기적으로 연결되며, 제4 데이터 재배선(248)의 제1 단부와 대향 하는 제2 단부는 제1 방향(FD)과 직교하는 제2 방향(SD)을 향해 제1 길이(L1)로 연장된다.
한편, 제4 반도체 칩(240)은 제4 칩 선택 재배선(247)을 더 포함할 수 있다. 제4 칩 선택 재배선(247)은 제4 반도체 칩(240)의 제4 칩 선택 본딩 패드(244)와 대응하는 곳에 형성될 수 있다. 제4 칩 선택 재배선(247)은 제2 방향을 향해 제1 길이(L1)보다 짧은 제2 길이로 형성된다.
도 4를 다시 참조하면, 기판 몸체(105)의 접속 패드(120)는 제1 반도체 칩(210)의 제1 데이터 관통 전극(216)과 전기적으로 연결되고, 제1 데이터 재배선(218), 제2 데이터 관통 전극(226), 제2 데이터 재배선(228), 제3 데이터 관통 전극(236), 제3 데이터 재배선(238), 제4 데이터 관통 전극(246) 및 제4 데이터 재배선(248)은 전기적으로 연결된다.
도 1 및 도 3을 다시 참조하면, 도전성 와이어(300)는 기판 몸체(105)의 칩 선택 패드(110) 및 제1 내지 제4 반도체 칩(210,220,230,240)들의 제1 내지 제4 칩 선택 본딩 패드(214,224,234,244)들과 전기적으로 연결된다.
칩 선택 본딩 패드(P1) | 칩 선택 본딩 패드(P2) | |
제1 반도체 칩 | Vss | Vss |
제2 반도체 칩 | Vcc | Vss |
제3 반도체 칩 | Vss | Vcc |
제4 반도체 칩 | Vcc | Vcc |
<표 1>에는 도전성 와이어(300)에 의하여 칩 선택 패드(110) 및 제1 내지 제4 칩 선택 본딩 패드(214,224,234,244)들과의 전기적 연결 방법이 나타나 있다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 적층 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.
도 5를 참조하면, 적층 반도체 패키지(950)는 기판(500), 반도체 칩(600)들, 스페이서(700), 관통 전극(800)들 및 도전성 와이어(900)들을 포함한다.
도 6은 도 5에 도시된 기판을 도시한 평면도이다.
기판(500)은 플레이트 형상을 갖는 인쇄회로기판(PCB)이다. 인쇄회로기판(PCB)은 칩 선택 패드(510) 및 접속 패드(520)를 포함한다.
칩 선택 패드(510)는 접지 전압(Vss)이 인가되는 접지 전압 패드(512) 및 전원 전압(Vcc)이 인가되는 전원 전압 패드(514)를 포함한다. 본 실시예에서, 비록 칩 선택 패드(510)는 접지 전압 패드(512) 및 전원 전압 패드(514)를 포함하지만, 이와 다르게, 칩 선택 패드(510)는 적어도 3 개로 이루어질 수 있다.
반도체 칩(600)은 칩 선택 패드(510) 및 접속 패드(520)가 형성된 기판(500)의 상면에 배치된다. 본 실시예에서, 반도체 칩(600)은 기판(500) 상에, 예를 들어, 4 개가 배치된다.
본 실시예에서 4 개로 이루어진 반도체 칩(600)들은 모두 동일한 형상을 갖는다. 각 반도체 칩(600)은 기판(500)의 접속 패드(520)와 대응하는 위치에 배치된 데이터 본딩 패드(610)들 및 기판(500)의 칩 선택 패드(510)와 대응하는 위치에 배치된 칩 선택 본딩 패드(620)를 포함한다. 데이터 본딩 패드(610) 및 칩 선택 본딩 패드(620)는 각각 반도체 칩(600)의 상면 에지를 따라 배치된다.
도 7은 도 5의 II-II' 선을 따라 절단한 단면도이다.
기판(500) 상에 적층 된 인접한 한 쌍의 반도체 칩(600)들 사이에는 스페이서(700)가 개재된다. 스페이서(700)는 인접한 반도체 칩(600)들 사이에 갭을 형성한다.
관통 전극(800)은 반도체 칩(600)에 형성된 데이터 본딩 패드(610) 및 데이터 본딩 패드(610)와 대응하는 반도체 칩(600)을 관통한다. 관통 전극(800)은 기둥 형상을 갖고, 관통 전극(800)으로 사용될 수 있는 물질의 예로서는 구리 등을 들 수 있다.
반도체 칩(600)을 관통하는 관통 전극(800)의 길이는 반도체 칩(600)의 두께와 실질적으로 동일할 수 있다. 관통 전극(800)의 길이가 반도체 칩(600)의 두께와 실질적으로 동일할 경우, 인접한 반도체 칩(600)들의 관통 전극(800) 사이에 솔더와 같은 연결 부재를 개재하여 스페이서(700)에 의하여 이격 된 반도체 칩(600)들의 관통 전극(800)들을 전기적으로 연결한다.
한편, 도 7에 도시된 바와 같이, 반도체 칩(600)을 관통하는 관통 전극(800)의 길이는 반도체 칩(600)의 두께보다 다소 길게 형성하여 인접한 반도체 칩(600)들의 관통 전극(800)들을 전기적으로 연결한다.
도전성 와이어(900)는 기판(500)에 형성된 칩 선택 패드(510) 및 각 반도체 칩(600)에 형성된 칩 선택 본딩 패드를 도 1에 도시된 바와 같은 방법으로 전기적으로 연결한다.
이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 복수개가 적층 된 반도체 칩들의 데이터 본딩 패드들은 관통 전극을 통해 전기적으로 연결하고, 칩 선택 본딩 패드들 및 기판의 칩 선택 패드는 도전성 와이어를 통해 전기적으로 연결하여 데이터는 관통 전극을 통해 고속으로 입출력하고, 칩 선택 본딩 패드들 및 칩 선택 패드를 도전성 와이어를 통해 연결하여 제조 공정을 크게 단축시킬 수 있는 효과를 갖는다.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술 될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 적층 반도체 패키지를 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 기판의 평면도이다.
도 3은 도 1의 평면도이다.
도 4는 도 3의 I-I' 선을 따라 절단한 단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 적층 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.
도 6은 도 5에 도시된 기판을 도시한 평면도이다.
도 7은 도 5의 II-II' 선을 따라 절단한 단면도이다.
Claims (14)
- 칩 선택 패드들 및 접속 패드을 갖는 기판;데이터 본딩 패드, 칩 선택 본딩 패드, 상기 데이터 본딩 패드들과 전기적으로 연결된 데이터 재배선들 및 상기 데이터 본딩 패드를 관통하여 상기 데이터 재배선과 전기적으로 연결된 데이터 관통 전극을 포함하는 복수개의 반도체 칩들 포함하며, 상기 반도체 칩들이 상기 칩 선택 본딩 패드가 노출되게 적층된 반도체 칩 모듈; 및상기 칩 선택 패드 및 상기 칩 선택 본딩 패드들을 전기적으로 연결하는 도전성 와이어를 포함하는 적층 반도체 패키지.
- 제1항에 있어서,적층 된 상기 반도체 칩의 개수가 2n 개일 경우(단, n은 2 이상의 자연수), 상기 각 반도체 칩은 상기 n 개의 상기 칩 선택 본딩 패드들을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 반도체 패키지.
- 제1항에 있어서,상기 칩 선택 본딩 패드와 전기적으로 연결된 칩 선택 재배선을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 반도체 패키지.
- 삭제
- 제1항에 있어서,상기 칩 선택 패드는 접지 전압(Vss)이 인가되는 접지 전압 패드 및 전원 전압(Vcc)이 인가되는 전원 전압 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 반도체 패키지.
- 제1항에 있어서,상기 데이터 재배선으로는 어드레스 신호, 전원 신호, 데이터 신호 및 컨트롤 신호가 인가되는 것을 특징으로 하는 적층 반도체 패키지.
- 제1항에 있어서,상기 데이터 재배선과 상기 관통 전극 사이에는 도전성 연결 부재가 개재된 것을 특징으로 하는 적층 반도체 패키지.
- 제7항에 있어서,상기 도전성 연결 부재는 솔더인 것을 특징으로 하는 적층 반도체 패키지.
- 접속 패드 및 칩 선택 패드들을 갖는 기판;복수개가 상기 기판상에 적층 되고, 데이터 본딩 패드들 및 칩 선택 본딩 패드들이 에지에 배치된 반도체 칩들;상기 반도체 칩들 사이에 개재되며, 인접한 상기 반도체 칩들을 상호 이격시키는 스페이서;상기 반도체 칩들을 관통하여 상기 데이터 본딩 패드들 및 상기 접속 패드와 전기적으로 연결된 관통 전극들; 및상기 칩 선택 패드 및 상기 칩 선택 본딩 패드들을 전기적으로 연결하는 도전성 와이어를 포함하는 적층 반도체 패키지.
- 제9항에 있어서,상기 각 관통 전극은 상기 스페이서의 두께에 대응하여 상기 반도체 칩으로부터 돌출된 것을 특징으로 하는 적층 반도체 패키지.
- 제9항에 있어서,상기 관통 전극의 두께는 상기 반도체 칩의 두께와 실질적으로 동일하고, 상기 스페이서에 의하여 이격 된 상기 각 관통 전극의 사이에는 도전성 연결 부재가 개재된 것을 특징으로 하는 적층 반도체 패키지.
- 제11항에 있어서,상기 도전성 연결 부재는 솔더인 것을 특징으로 하는 적층 반도체 패키지.
- 제9항에 있어서,적층 된 상기 반도체 칩의 개수가 2n 개일 경우(단, n은 2 이상의 자연수), 상기 각 반도체 칩은 상기 n 개의 상기 칩 선택 본딩 패드들 및 상기 칩 선택 재배선을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 반도체 패키지.
- 제9항에 있어서,상기 칩 선택 패드는 접지 전압(Vss)이 인가되는 접지 전압 패드 및 전원 전압(Vcc)이 인가되는 전원 전압 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 반도체 패키지.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070115700A KR100910229B1 (ko) | 2007-11-13 | 2007-11-13 | 적층 반도체 패키지 |
US11/954,027 US7994621B2 (en) | 2007-11-13 | 2007-12-11 | Stacked semiconductor package |
CN2008100029517A CN101436584B (zh) | 2007-11-13 | 2008-01-11 | 层叠半导体封装 |
US13/170,586 US8203204B2 (en) | 2007-11-13 | 2011-06-28 | Stacked semiconductor package |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070115700A KR100910229B1 (ko) | 2007-11-13 | 2007-11-13 | 적층 반도체 패키지 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090049442A KR20090049442A (ko) | 2009-05-18 |
KR100910229B1 true KR100910229B1 (ko) | 2009-07-31 |
Family
ID=40622942
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070115700A KR100910229B1 (ko) | 2007-11-13 | 2007-11-13 | 적층 반도체 패키지 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7994621B2 (ko) |
KR (1) | KR100910229B1 (ko) |
CN (1) | CN101436584B (ko) |
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US9025340B2 (en) | 2013-09-30 | 2015-05-05 | Freescale Semiconductor, Inc. | Devices and stacked microelectronic packages with in-trench package surface conductors and methods of their fabrication |
KR102108325B1 (ko) | 2013-10-14 | 2020-05-08 | 삼성전자주식회사 | 반도체 패키지 |
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-
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- 2007-11-13 KR KR1020070115700A patent/KR100910229B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-12-11 US US11/954,027 patent/US7994621B2/en active Active
-
2008
- 2008-01-11 CN CN2008100029517A patent/CN101436584B/zh not_active Expired - Fee Related
-
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- 2011-06-28 US US13/170,586 patent/US8203204B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110254145A1 (en) | 2011-10-20 |
US20090121336A1 (en) | 2009-05-14 |
CN101436584A (zh) | 2009-05-20 |
US8203204B2 (en) | 2012-06-19 |
KR20090049442A (ko) | 2009-05-18 |
CN101436584B (zh) | 2011-04-06 |
US7994621B2 (en) | 2011-08-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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|
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