KR100785163B1 - 다중 원격 플라즈마 발생기를 구비하는 기판 처리 시스템 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 다수 개의 가스 입구를 구비한 기판 처리 챔버;기판 처리 챔버의 내부에 설치되며, 다수 개의 가스 입구에 각기 연결되는 다수 개의 가스 샤워 헤드;다수 개의 가스 입구에 독립적으로 연결되는 다수 개의 원격 플라즈마 발생기; 및다수 개의 원격 플라즈마 발생기로 공정 가스를 공급하기 위한 다수 개의 가스 공급 채널을 구비한 가스 공급 유닛을 포함하는 기판 처리 시스템.
- 제1 항에 있어서, 상기 기판 처리 챔버는 하나 이상의 기판을 배치 처리하는 배치 처리 챔버인 기판 처리 시스템.
- 제2 항에 있어서, 상기 배치 처리 챔버는 챔버 내부에 다수 개의 기판이 방사형으로 배치되어 놓이며 제1 임피던스 정합기를 통하여 제1 전원 공급원에 전기적으로 연결된 기판 지지부를 포함하고,상기 다수 개의 가스 샤워 헤드는 기판의 상부에 정렬되도록 챔버의 내부 천정에 각기 설치되며 제2 임피던스 정합기를 통하여 제2 전원 공급원에 전기적으로 연결되는 기판 처리 시스템.
- 제1 항에 있어서, 상기 원격 플라즈마 발생기는:토로이달형의 플라즈마 방전관;다수 개의 가스 공급 채널 중 어느 하나와 플라즈마 방전관에 연결되어 공정 가스를 받아들이는 가스 입구;기판 처리 챔버의 다수 개의 가스 입구들 중 어느 하나에 연결되어 기판 처리 챔버의 내부로 플라즈마 가스를 배출하는 가스 출구;플라즈마 방전관에 장착되는 하나 이상의 링형 페라이트 코어; 및링형 페라이트 코어에 감기고 제3 임피던스 정합기를 통하여 제3 전원 공급원에 전기적으로 연결되는 유도 코일을 포함하는 기판 처리 시스템.
- 제1 항에 있어서, 상기 원격 플라즈마 발생기는:토로이달형의 플라즈마 방전관;다수 개의 가스 공급 채널 중 어느 하나와 플라즈마 방전관을 연결되어 공정 가스를 받아들이는 가스 입구;기판 처리 챔버의 다수 개의 가스 입구들 중 어느 하나에 연결되어 기판 처리 챔버의 내부로 플라즈마 가스가 유입되도록 하는 가스 출구;서로 이웃하는 두 개의 플라즈마 방전관에 공통으로 장착되는 적어도 하나의 링형 페라이트 코어; 및링형 페라이트 코어에 감기고 제3 임피던스 정합기를 통하여 제3 전원 공급원에 전기적으로 연결되는 유도 코일을 포함하는 기판 처리 시스템.
- 제4 항 또는 제5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 다수 개의 원격 플라즈마 발생기의 유도 코일들은 제3 전원 공급원에 직렬, 병렬, 직렬과 병렬의 혼합 방식 중 어느 하나의 방식으로 연결되는 기판 처리 시스템.
- 제4 항 또는 제5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 다수 개의 원격 플라즈마 발생기의 유도 코일들은 각기 독립적으로 다수 개의 전원 공급원에 각기 연결되는 기판 처리 시스템.
- 제4 항 또는 제5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 토로이달형의 플라즈마 방전관은 냉각수 공급 라인을 포함하는 기판 처리 시스템.
- 제4 항 또는 제5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 토로이달형의 플라즈마 방전관은 전도성 금속과 방전관내에 전기적 불연속성을 형성하는 하나 이상의 유전체 영역을 포함하는 기판 처리 시스템.
- 제9 항에 있어서, 상기 유전체 영역은 플라즈마 방전관을 둘 이상의 영역으로 분리하는 기판 처리 시스템.
- 제1 항에 있어서, 상기 기판 처리 챔버의 다수 개의 가스 입구와 다수 개의 원격 플라즈마 발생기는 상기 기판 처리 챔버의 천정 외측에 방사형으로 배치되고,상기 가스 공급 유닛은: 가스 공급원에 연결되는 가스 입력관; 및 일단이 가스 입력관에 공통으로 연결되고 타단이 다수 개의 원격 플라즈마 발생기의 가스 입구에 각기 연결되어 방사형 배치 구조를 갖는 다수 개의 가스 공급 채널을 포함하는 기판 처리 시스템.
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