KR100575370B1 - 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버 - Google Patents
다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (14)
- 가스를 주입받는 가스 입구와 복수개의 개구부를 갖는 중공형 방전관 헤드;가스를 배출하기 위한 가스 출구와 방전관 헤드의 개구부들과 대응되는 복수개의 개구부가 상부면에 형성되고 내측에는 작업편이 놓여지는 서셉터가 마련된 프로세스 챔버;방전관 헤드의 개구부들과 프로세스 챔버의 개구부들 사이에 연결되는 복수개의 중공형 방전관 브리지;각각의 방전관 브리지에 하나 이상 설치되는 페라이트 코어; 및페라이트 코어에 감겨 전원공급원에 연결되는 권선을 포함하고,전원공급원으로부터 권선으로 전원이 공급되어 방전관 헤드와 복수개의 중공형 방전관 브리지 및 프로세스 챔버에 플라즈마 발생을 위한 기전력이 전달됨으로서,방전관 헤드와 복수개의 중공형 방전관 브리지 및 프로세스 챔버를 연결하는 플라즈마 방전 패스가 형성되는 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
- 제1항에 있어서, 상기 방전관 헤드와 상기 복수개의 중공형 방전관 브리지 사이에는 각기 링형의 절연부재와 링형의 진공 실이 연결되는 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
- 제1항에 있어서, 상기 프로세스 챔버의 상측 일정 영역의 테두리는 상향 중심으로 기울어진 경사면을 갖는 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
- 제1항에 있어서, 상기 방전관 브리지는 방전관 헤드의 개구부에 연결되는 상 단 부분의 직경이 점차적으로 넓어지는 확장 구조를 갖고, 프로세스 챔버의 상부면은 중심부로 경사진 구조를 갖는 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
- 제1항에 있어서, 상기 방전관 헤드는 내측에 가로 방향으로 설치되는 다수의 통공이 형성된 가스 샤워판을 포함하는 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
- 제1항에 있어서, 상기 방전관 헤드는 냉각 채널을 포함하는 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
- 제1항에 있어서, 상기 복수개의 중공형 방전관 브리지는 원통 형상을 갖고, 복수개의 중고형 방전관 브리지들은 전체적으로 방사형의 균일한 대칭 구조로 배열되는 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
- 제7항에 있어서, 상기 복수개의 방전관 브리지는 중심에 하나의 방전관 브리지가 위치하고 그 주변으로 나머지의 방전관 브리지들이 동일한 간격으로 방사형으로 배열되는 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
- 제8항에 있어서, 중심의 방전관 브리지의 가로 단면적은 주변에 위치하는 나 머지 방전관 브리지들의 가로 단면적의 합의 대략 1/2인 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
- 제7항에 있어서, 방전관 헤드의 내부에는 대칭 구조로 배열된 개구부의 주변에 서로 대칭되는 개구부들 간에 플라즈마 방전 루프가 형성되도록 가스 가이드가 구비되는 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
- 제1항에 있어서, 상기 프로세스 챔버의 상부면에는 프로세스 챔버 내부에 고르게 플라즈마 방전이 이루어지도록 플라즈마 방전 경로를 유도하기 위한 다수개의 영구자석들이 배치된 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
- 중심부가 융기되어 상향 중심으로 기울어진 경사면 갖고 가스를 배출하기 위한 가스 출구와 내측에는 작업편이 놓여지는 서셉터가 마련된 프로세스 챔버;프로세스 챔버의 상부에 중심에 마련되어 가스를 주입받는 가스 입력관;프로세스 챔버의 경사면 하단 주변으로 형성되는 복수개의 개구부와 가스 입력관의 주변에 형성되는 복수개의 개구부들 간에 연결되는 복수개의 중공형 방전관 브리지;각각의 방전관 브리지에 하나 이상 설치되는 페라이트 코어; 및페라이트 코어에 감겨 전원공급원에 연결되는 권선을 포함하고,전원공급원으로부터 권선으로 전원이 공급되어 가스 입력관과 복수개의 중공형 방전관 브리지 및 프로세스 챔버에 플라즈마 발생을 위한 기전력이 전달됨으로서,가스 입력관과 복수개의 중공형 방전관 브리지 및 프로세스 챔버를 연결하는 플라즈마 방전 패스가 형성되는 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
- 제12항에 있어서, 상기 방전관 브리지는 'ㄱ'형상으로 절곡되고, 절곡된 양측으로 각기 페라이트 코어가 설치되는 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
- 제12항에 있어서, 상기 프로세스 챔버의 상부 경사면에는 프로세스 챔버 내부에 고르게 플라즈마 방전이 이루어지도록 플라즈마 방전 경로를 유도하기 위한 다수개의 영구자석들이 배치된 다중 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 챔버.
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