KR100715784B1 - 노광장치 및 디바이스 제조방법 - Google Patents

노광장치 및 디바이스 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 평면모터를 이용하여 기판을 탑재한 가동자를 구동하는 스테이지 장치에 의해 기판을 위치결정하는 노광장치에 있어서, 상기 스테이지 장치는 (ⅰ) 코일군을 가지는 고정자 유닛 및 (ⅱ) 상기 고정자 유닛 위를 이동하는 상기 가동자를 포함하고; 상기 고정자 유닛은 (a) 상기 기판을 노광하는 처리를 행하기 위한 노광영역 및 (b) 상기 기판의 위치를 측정하는 처리를 행하기 위한 측정영역을 포함하며; 상기 고정자 유닛 내의 상기 코일군은 해당 코일군의 구동에 의해 발열의 차를 일으키는 상기 노광영역과 측정영역에서 독립적으로 온도조절되는 것을 특징으로 하는 노광 장치를 제공하는 것이다.

Description

노광장치 및 디바이스 제조방법{EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD}
도 1A 및 도 1B는 제 1실시예에 따른 스테이지 장치를 표시하는 도면
도 2는 고정자 유닛의 상세를 표시하는 도면
도 3A는 홀수층의 코일 배열을 나타내는 도면
도 3B는 짝수층의 코일 배열을 나타내는 도면
도 4는 노광장치를 표시하는 도면
도 5는 디바이스 제조방법을 표시하는 플로우차트
도 6은 도 5에 있어서의 웨이퍼 프로세스를 표시하는 플로우차트
도 7은 종래의 기술에 따른 평면모터의 냉각구성을 표시하는 도면
도 8은 종래의 기술에 따른 트윈 스테이지의 구성을 표시하는 도면.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
WST1, WST2: 가동 스테이지 3: 고정자 유닛
4,5: 코일군 6,7: 냉각 재킷
10: 지지 부재 11, 12, 13, 14: 코일 열
15: 격벽 16: 냉매 유로
17: 베이스 정반 18, 19: 코일
501: 조명계 유닛 502: 레티클 스테이지
503: 투영렌즈
본 발명은 스테이지 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 얼라인먼트계와 노광계를 서로 독립적으로 구성하는 노광장치에 있어서의 스테이지 장치에 매우 적합하게 이용된다.
노광장치에 있어서, 얼라인먼트계와 노광계를 서로 독립적으로 구성하고, 또한 위치결정 스테이지로서 평면모터를 사용한 구성이 일본국 공개특허공보 제 2001-217183호에 개시되어 있다. 도 8은 일본국 공개특허공보 제 2001-217183호에서 개시되어 있는 노광장치의 스테이지 장치를 표시하는 도면이다.
도 8에 있어서, (PL)은 투영광학계이며, (ALG)는 얼라인먼트 광학계를 표시하고 있다. 베이스로서의 고정자(112)는 측정(얼라인먼트)영역과 노광영역을 가지고 있으며, 2개의 가동 스테이지(WST1 및 WST2)는 측정영역 및 노광영역에서 서로 독립적으로 이동 가능하다. 이 노광계에 있어서, 노광과 동시에 얼라인먼트측정을 실시해서, 스루풋 향상을 도모할 수 있다.
평면모터는 가동 스테이지(WST1) 및 (WST2) 하부면에 배열된 자석군(도시하지 않음)과, 고정자(112) 내에 매트릭스 형상으로 배열된 코일군(98)을 가지고, 자석군의 자속과 코일군에 흐르는 전류와의 상호작용에 의해 발생하는 로렌츠 힘으로 가동 스테이지(WST1, WST2)를 고정자(112)에 대하여 상대적으로 이동시킬 수 있다.
또, 평면모터의 코일 냉각구조에 대하여, 일본국 공개특허공보 제 2001-17 5434호에 개시되어 있는 구성을 도 7에 표시한다. 평면모터 고정자의 코일군은 고정자 본체(32)에 의해 밀폐된 구조를 하고 있으며, 도 7에 있어서, (88A)(88B)로부터 냉매를 공급하고, (92A)(92B)로부터 냉매를 배출함으로써, 고정자내의 코일군을 냉각하고 있다.
일반적으로, 얼라인먼트측정을 하기 위한 스테이지 동작과 노광을 행하기 위한 스테이지 동작은 서로 다른 점이 많다. 노광 과정에서는 노광 대상의 모든 쇼트에 대해서 스캔동작하는 것이 요구되기 때문에, 어느 정도 전역에 걸쳐서 균일하게 스테이지는 이동한다. 얼라인먼트측정에 있어서는, 추구하는 정밀도나 측정방법에 따라 스테이지에 요구되는 움직임은 여러 가지이다. 그 때문에, 통상은 노광영역에 배치되는 코일군과 측정영역에 배치되는 코일군의 통전량도 다르고, 당연히 두 코일군의 발열량도 다른 것이 예상된다.
예를 들면, 얼라인먼트측정에서는 웨이퍼 전체를 측정하는 것이 아니고, 어떤 대표점만을 측정하는 방식을 취하는 경우, 얼라인먼트측정에서 필요한 스테이지의 움직임은 노광영역에 비하여 적어도 되고, 그 만큼 코일의 통전량 및 통전시간도 노광영역의 코일보다도 작은 것이 된다. 따라서, 측정영역의 코일군의 발열량은 노광영역의 발열량보다도 작아지고, 결국 고정자내 코일군의 발열은 2개의 영역 간에서 크게 달라져 버린다.
이 때문에, 도 8에서와 같이, 노광영역과 측정영역의 2개의 영역을 독립적으로 가지는 노광장치에 있어서는, 도 7에서와 같이 고정자 내의 코일군을 일괄하여 냉각하는 구조에서 냉각의 효율이 열화되는 것이 예상된다. 통상, 도 7의 냉매배관 (89A)(89B)을 흐르는 냉매의 유량은 가장 발열이 큰 코일에 대하여 허용온도 이하가 되도록 설정된다.
그 때문에, 고정자 내의 코일군을 일괄하여 냉각하는 구성의 경우, 코일발열의 불균일이 크면, 발열이 작은 코일에 대해서는 과도한 냉매 유량에 의해 냉각하게 된다. 그 결과, 전체적으로서는 대량의 냉매를 흘리더라도, 코일 최고온도를 용이하게 억제할 수 없다.
본 발명은 다른 처리영역을 가지는 스테이지 장치에 있어서, 대상물을 탑재한 가동자의 구동에 의한 발열을 효율적으로 제거하는 것을 목적으로 한다.
상술의 목적을 달성하기 위해서 본 발명에 따르면, 평면모터를 이용하여 기판을 탑재한 가동자를 구동하는 스테이지 장치에 의해 기판을 위치결정하는 노광장치에 있어서, 상기 스테이지 장치는 (ⅰ) 코일군을 가지는 고정자 유닛 및 (ⅱ) 상기 고정자 유닛 위를 이동하는 상기 가동자를 포함하고; 상기 고정자 유닛은 (a) 상기 기판을 노광하는 처리를 행하기 위한 노광영역 및 (b) 상기 기판의 위치를 측정하는 처리를 행하기 위한 측정영역을 포함하며; 상기 고정자 유닛 내의 상기 코일군은 해당 코일군의 구동에 의해 발열의 차를 일으키는 상기 노광영역과 측정영역에서 독립적으로 온도조절되는 것을 특징으로 하고 있다.
본 발명에 따르면 다른 처리영역을 갖는 스테이지장치를 구비한 노광 장치에 있어서, 대상물을 탑재한 가동자의 구동에 의해 발생하는 열을 효과적으로 제거할 수 있다.
(제 1실시예)
제 1실시예에 따른 스테이지 장치를 도 1A 및 1B에 표시한다. 도 1A는 스테이지장치를 윗쪽으로부터 본 도면이며, 도 1B는 스테이지장치를 수평방향으로부터 본 단면도이다. 스테이지장치는 노광영역과 측정영역으로 나누어져 있고, 노광영역에는 노광용 광학계(PL)가 배치되어 있고, 측정영역에는 얼라인먼트측정용의 측정 광학계(ALG)가 배치되어 있다.
고정자 유닛(3) 위에는 2개의 가동 스테이지(WST1) 및 (WST2)가 각각의 영역에서 노광동작과 측정동작을 실시할 수 있도록 되어 있다. 또, 가동 스테이지(WST1) 및 (WST2)는 서로 측정영역과 노광영역에서 교체이동이 가능하고, 예를 들면, 웨이퍼의 측정동작을 종료한 가동 스테이지(WST2)는 노광을 종료한 가동 스테이지(WST1)와 영역의 교체를 행하며, 가동 스테이지(WST2)는 노광동작을 시작하고, 가동 스테이지(WST1)은 웨이퍼 반송계(도시하지 않음)로 노광 종료 웨이퍼를 이동시킨 후, 새로운 웨이퍼를 받아서 얼라인먼트 동작을 개시한다. 이와 같이 노광동작과 얼라인먼트 등의 측정동작을 동시에 실시할 수 있는 시스템을 구성하면, 전체로서의 웨이퍼 처리시간의 단축을 할 수 있어서 스루풋 향상을 달성할 수 있다.
가동 스테이지(WST1), (WST2)는 판 형상의 상판의 하부면에 자석군(도시하지 않음)이 각각 배치되어 있고, 또 가동 스테이지에 대면하는 고정자 유닛(3)은 다층의 코일 열로 구성된 코일군(4, 5) 및 이들 코일군을 밀폐하는 냉각 재킷(6, 7)을 포함한다. 이것에 의해, 가동 스테이지의 자석군과 코일군에 공급된 전류와의 상호작용에 의해 발생하는 로렌츠 힘에 의해, 가동 스테이지(WST1) 및 (WST2)는 고정자 유닛(3)에 대해서 이동이 가능하게 되어 있다.
또, 온도 조절된 순수나 불활성 냉매 등의 냉매가 냉각 재킷(6, 7)의 내부를 흘러서, 코일을 직접 냉각할 수 있도록 하고 있다. 선택적으로, 코일의 냉각은 코일 중에 냉각관을 배설하여 냉각해도 된다.
도 2는 해당 고정자 유닛(3) 내의 코일군(4) 또는 (5)의 부분을 확대한 도면이다. 상술한 바와 같이, 코일군은 수직방향으로 다층의 코일 열을 가지고 있다. 도 2에 있어서, 위로부터 1층째의 코일 열(11)은 X축 방향 및 ωz 방향(Z축 둘레의 회전방향)의 구동에 기여하는 코일 열이며, 이 코일 열은 도 3A와 같이 Y축 방향으로 긴 직선부를 가지는 복수의 코일(18)을 X축 방향으로 복수개 배열하여 구성된다.
마찬가지로 위로부터 2층째의 코일 열(12)은 Y축 방향 및 ωz방향의 구동에 기여하는 코일 열이며, 이 코일 열은 도 3B에 표시된 바와 같이 X축 방향으로 긴 직선부를 가지는 코일(19)을 Y축 방향으로 복수개 배열하여 구성된다. 또, 3층 째의 코일 열(13)은 Z축 방향 및 ωy방향(Y축 둘레의 회전방향)의 구동에 기여하는 코일 열이며, 이 코일 열은 도 3A에 도시한 바와 같이 형성된다. 4층 째의 코일 열(14)은 Z축 방향 및 ωx방향 (X축 둘레의 회전방향)으로의 구동에 기여하는 코일 열이고, 이 코일열은 도 4에 도시한 바와 같이 형성된다. 이들 4층의 코일 열에 의해, 가동 스테이지는 6축 방향으로 구동할 수 있다.
또한, 코일군의 배치는 이것에 한정되는 것은 아니고, 도 8에 도시한 바와 같이, 매트릭스 형상으로 코일이 배열된 구성이라도 된다. 다시 말하면, 평면모터는 고정자 유닛에 발열부로서의 코일군을 가지고 있으면 된다.
각 코일 열은 지지 부재(10)에 의해 베이스 정반(17)에 지지되어 있고, 각 코일 열의 사이의 갭에는 냉매의 흐름통로가 형성되어 있다. 즉, 보다 구체적으로는, 코일의 상부면과 하부면은 순환하는 냉매와 접촉하여 직접적으로 냉각될 수 있도록 되어 있다. 이와 같이 코일군을 포위하는 냉각 재킷 내에서 냉매를 순환시키는 것에 의해 코일군을 냉각시킴으로써, 코일로부터 발생하는 열이 신속하게 제거되어서, 코일온도의 과도한 상승, 및 고정자 유닛의 온도상승을 방지하고 있다.
여기서, 냉각 재킷(6, 7)은 노광영역과 측정영역에서 서로 독립적으로 구성되어 있고, 해당 영역에 대해서 독립적으로 최적의 냉각이 가능하게 되어 있다. 종래기술과 같이 평면모터의 고정자 전체를 일괄해서 냉각하면, 전체의 냉각효율이 떨어져서 냉매 온도조절장치 및 냉매 순환장치 등이 대규모가 되어 버린다. 스테이지의 이동이 다른 측정영역과 노광영역에서 서로 독립적으로 냉각될 수 있는 경우에는, 각각의 영역에서 스테이지의 이동에 대하여 최적의 냉각(예를 들면, 냉매유량, 온도, 냉매종류 등)을 행할 수 있으므로 냉각효율의 향상이 기대되어서, 온도조절과 관계되는 장치도 소규모로 할 수 있다.
이에 대해서 보다 상세하게 설명하면, 냉각이 코일의 과열을 방지하는 것이 목적인 경우, 발열이 가장 큰 코일에 대해서 냉각량(냉매유량, 냉매온도, 냉매종류)을 조정한다. 2개의 영역, 즉 측정영역 및 노광영역을 일괄적으로 냉각하는 경우, 코일 전체에서 가장 발열이 큰 코일에 대한 값으로 냉각량을 설정한다.
그러나, 통상 측정영역과 노광영역에서의 스테이지의 이동이 서로 크게 다르기 때문에, 당연히 측정영역과 노광영역에서의 코일의 발열량은 크게 다르다. 예를 들면 노광영역의 스테이지의 이동이 격렬하고, 측정영역에서의 스테이지의 이동은 웨이퍼 운송 등으로, 스테이지로서는 그다지 격렬하게 이동하지 않는다고 하면, 노광영역의 코일군만 크게 발열하고, 측정영역의 코일군은 거의 발열하지 않는다.
그러나, 두 영역을 일괄해서 냉각하는 경우, 노광영역의 코일에 대한 냉각량의 냉매를 냉각 재킷 전체에 유입시키기 때문에, 결과적으로 측정영역의 코일군에는 과잉량의 냉매가 쓸데없이 흐르는 것이 된다. 예를 들면 고정자 전체에 대해 과잉으로 큰 냉매유량이 필요하게 되고, 냉각효율(냉매유량에 대한 코일에 의한 발열 제거율)이 저하되어서 온도조절에 관계된 장치가 커진다.
이들 사정을 감안하여, 도 1A 및 1B에서는 측정영역과 노광영역의 냉각을 서로 독립적으로 행할 수 있다. 보다 구체적으로는, 측정영역과 노광영역에서 스테이지의 이동방식이 크게 다르기 때문에, 각 영역의 냉각을 독립적으로 최적화해서, 스테이지 전체의 냉각효율을 향상시키고 있다. 냉각의 최적화로서는, 예를 들면 측정영역과 노광영역에서의 냉매유량, 온도, 냉매종류 중 적어도 1개를 변경하는 것을 들 수 있다.
또, 도 1A 및 1B에서 표시하고 있는 바와 같이, 냉매가 흐르는 방향을 변경할 수 있다. 예를 들면, 노광영역과 측정영역에서 냉매가 흐르는 방향을 변경하는 경우, 각각의 영역으로 최대발열의 코일 근방으로부터 냉매를 유입하는 것이 가능하게 되어서, 최적의 냉각을 행하는 것이 가능하게 된다.
상술의 예는 측정영역과 노광영역에서 독립적으로 냉각의 최적화를 도모하는 것이 주된 취지이며, 당연히, 각 영역에서 냉각을 최적화한 결과로서, 냉매의 흐름 방향이 두 영역사이에서 동일해지는 경우가 있고, 냉매의 유량이 두 영역에서 동일해질 수도 있기 때문에, 반드시 측정영역과 노광영역에서의 냉각방법(냉매유량, 온도, 냉매종류 등)을 변경시킬 필요는 없다.
또, 도 1A 및 1B에서는 고정자 유닛(3)은 측정영역과 노광영역에서 각각 독립적으로 구성되어 있도록 도시하고 있으나, 고정자 유닛 자체는 각 영역에서 독립이라도 되고, 일체 구성이라도 되며, 냉각 재킷(6, 7)의 내부가 독립적으로 서로 온도 조절될 수 있으면 된다.
도 1A 및 1B에서와 같이 고정자 유닛(3)을 노광영역과 측정영역에서 서로 독립적으로 구성하는 배경을 이하에 설명한다.
얼라인먼트계와 노광계를 독립적으로 지니는 노광장치에 있어서의 평면모터에서는 고정자의 제작 및 보수유지의 관점에서도 문제가 발생한다. 보다 구체적으로는, 평면모터의 고정자 유닛의 최소 크기는 웨이퍼의 크기에 의해 실질적으로 결정된다. 12인치(300mm) 웨이퍼를 피처리체로 하는 경우, 각 측정영역 및 노광영역에 있어서의 가동 스테이지의 필요 스트로크는 400mm정도(웨이퍼 전역을 이동하기 위한 거리 + 스테이지의 가/감속영역용의 거리)이다. 즉, 가동 스테이지(WST1) 및 (WST2)의 크기를 400mm정도라고 하면, 고정자 유닛은 최저라도 700mm이상(웨이퍼 크기 300mm + 스트로크 400mm)의 크기가 필요한 것으로 생각된다.
그 때문에, 측정영역과 노광영역을 포함하는 고정자 유닛의 크기는 최소라도 700mm(도 8중 X방향)×1400mm(도 8중 Y방향)로 된다. 실제로는, 고정자 유닛의 크기는 여러가지 요인으로부터 더욱 커지는 경향이다. 이 크기의 고정자 유닛을 일체로 제작하려고 하면, 필요한 재료의 입수가 곤란하거나, 가공도구의 제약에 의해 가공의 자유도가 크게 제한될 가능성이 높다. 따라서, 코스트도 높아지게 되는 것이 예상된다. 즉, 측정영역과 노광영역을 독립적으로 구성하는 경우, 고정자 치수가 증대하여 제작상의 어려움의 원인으로 될 가능성이 있다.
도 1A 및 1B에 도시한 바와 같이, 고정자 유닛을 노광영역과 측정영역으로 분할한 유닛으로 구성하는 경우, 각 제작규모는 절반으로 된다. 고정자 유닛의 제작에 있어서도, 노광영역용 유닛과 측정영역용 유닛을 병행해서 제작이 가능하게 되므로, 제작 리드타임의 삭감도 가능하게 된다. 보수유지의 관점에서도 트러블이 있는 유닛만 대책이 필요하므로, 보수유지도 소규모로 해결되는 수가 많다.
또, 상술의 설명에서는 평면모터를 이용한 스테이지 장치를 예로 하였으나, 노광영역과 측정영역에서의 스테이지를 구동하기 위한 별도의 리니어 모터를 각각 설치한 스테이지 장치에 있어서도, 각각의 구동수단의 온도조절을 서로 독립적으로 행하는 것은 냉각효율의 관점에서 효과를 가진다. 다만, 평면모터를 이용한 스테이지 장치는 간략한 구성으로 노광영역과 측정영역의 냉각을 서로 독립적으로 할 수 있는데다가, 코일의 발열량이 크기 때문에 효과적이다.
도 4는 상기와 마찬가지의 스테이지 장치를 웨이퍼 스테이지로 하는 반도체 디바이스 제조용의 노광장치를 표시한다.
이 노광장치는 예를 들면 반도체 집적회로 등의 반도체 디바이스나, 마이크로머신, 박막 자기헤드 등의 미세한 패턴이 형성된 디바이스의 제조에 이용되고, 원판인 레티클을 개재하여 기판으로서의 반도체 웨이퍼 W 위에 조명계 유닛(501)으로부터의 노광 에너지로서의 노광광(이 용어는 가시광, 자외광, EUV광, X선, 전자선, 하전 입자선 등의 총칭이다)을 투영계로서의 투영렌즈(503)(이 용어는 굴절 렌즈, 반사 렌즈, 반사굴절 렌즈 시스템, 하전입자 렌즈 등의 총칭이다)를 개재하여 조사함으로써, 웨이퍼 스테이지(504)에 탑재된 기판 위에 소망의 패턴을 형성하고 있다. 노광광이 단파장 광으로 됨에 따라서, 노광장치는 진공분위기에서의 노광을 필요로 하게 된다.
웨이퍼 스테이지(504)에 탑재한 척 위에 기판인 웨이퍼(대상물)를 유지하고, 조명계 유닛(501)에 의해, 레티클 스테이지(502)에 탑재된 원판인 레티클의 패턴을 웨이퍼 위의 각 영역으로 스텝 앤드 리피트 또는 스텝 앤드 스캔에 따라서 전사한다. 여기서 상술한 스테이지 장치는 이들 웨이퍼 스테이지(504)로서 이용된다.
상기한 방법으로 상술의 스테이지 장치를 노광장치에 적용함으로써, 가동 코스트를 저감시킨 노광장치를 제공할 수 있다.
다음에, 이 노광장치를 이용한 반도체 디바이스의 제조 프로세스를 설명한다. 도 5는 반도체 디바이스의 전체적인 제조 프로세스의 흐름을 표시하는 플로우차트이다. 스텝 1(회로설계)에서는 반도체 디바이스의 회로설계를 실시한다. 스텝 2(마스크 제작)에서는 설계한 회로패턴에 의거해서 마스크를 제작한다.
한편, 스텝 3(웨이퍼 제조)에서는 실리콘 등의 재료를 이용하여 웨이퍼를 제조한다. 전공정으로 불리우는 스텝 4(웨이퍼 프로세스)에서는 상기의 마스크와 웨이퍼를 이용하여, 상기의 노광장치에 의해 리소그래피 기술을 이용해서 웨이퍼 위에 실제의 회로를 형성한다. 후공정으로 불리우는 다음의 스텝 5(조립)에서는 스텝 4에 의해 제작된 웨이퍼로부터 반도체 칩화하는 공정이며, 이 스텝 5는 어셈블리 공정(다이싱 및 본딩), 패키징 공정(칩 봉입) 등의 조립공정을 포함한다. 스텝 6(검사)에서는 스텝 5에서 제작된 반도체 디바이스의 동작확인 테스트, 내구성 테스트 등의 검사를 실시한다. 이러한 공정을 거쳐서 반도체 디바이스가 완성되고, 스텝 7에서 이것을 출하한다.
상기 스텝 4의 웨이퍼 프로세스는 이하의 스텝(도 6), 즉, 웨이퍼의 표면을 산화시키는 산화스텝, 웨이퍼 표면에 절연막을 성막하는 CVD스텝, 웨이퍼 위에 전극을 증착에 의해 형성하는 전극형성 스텝, 웨이퍼에 이온을 주입하는 이온 주입스텝, 웨이퍼에 감광제를 도포하는 레지스트 처리 스텝, 상기의 노광장치에 의해 회로패턴을 레지스트 처리스텝 후의 웨이퍼에 전사하는 노광스텝, 노광스텝에서 노광한 웨이퍼를 현상하는 현상스텝, 현상스텝에서 현상한 레지스트 상 이외의 부분을 제거하는 에칭스텝, 에칭이 종료하여 불필요하게 된 레지스트를 제거하는 레지스트 박리스텝을 가진다. 이들의 스텝을 반복하여 실시함으로써, 웨이퍼 위에 다중으로 회로패턴을 형성한다.
이와 같이, 상술한 노광장치를 디바이스 제조공정의 일부에 이용함으로써, 결과적으로, 염가의 디바이스를 제조할 수 있다.
본 발명에 의하면, 다른 처리영역을 가진 스테이지 장치를 구비한 노광장치에 있어서, 대상물을 탑재한 가동자의 구동과 관련되는 발열을 효율적으로 냉각할 수 있다.
본 발명은 현재 바람직한 실시예로 간주되는 것에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 개시된 실시예에 한정되는 것이 아닌 것으로 이해되어야 한다. 본 발명은 이후에 기재된 청구항의 정신과 영역내에 포함되어 있는 다양한 변경과 균등한 구성을 포함하는 것이다.

Claims (12)

  1. 평면모터를 이용하여 기판을 탑재한 가동자를 구동하는 스테이지 장치에 의해 기판을 위치결정하는 노광장치에 있어서,
    상기 스테이지 장치는
    (ⅰ) 코일군을 가지는 고정자 유닛; 및
    (ⅱ) 상기 고정자 유닛 위를 이동하는 상기 가동자를 포함하고,
    상기 고정자 유닛은
    (a) 상기 기판을 노광하는 처리를 행하기 위한 노광영역; 및
    (b) 상기 기판의 위치를 측정하는 처리를 행하기 위한 측정영역을 포함하며,
    상기 고정자 유닛 내의 상기 코일군은 해당 코일군의 구동에 의해 발열의 차를 일으키는 상기 노광영역과 측정영역에서 독립적으로 온도조절되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 고정자 유닛은 상기 코일군을 포위하는 냉각 재킷을 가지고, 상기 코일군은 상기 냉각 재킷에 냉매를 공급함으로써 냉각되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  3. 제 2항에 있어서, 상기 냉매는 상기 노광영역과 상기 측정영역에서 상이한 방향으로 흐르는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 코일군을 냉각하는 냉매의 냉각량은 상기 노광영역과 상기 측정영역에서 다른 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 코일군을 냉각하는 냉매의 유량, 온도 및 매체의 적어도 하나가 상기 노광영역과 상기 측정영역에서 다른 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 고정자 유닛은 상기 노광영역과 상기 측정영역에서 분할되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 가동자는 2개의 가동자를 포함하고, 상기 2개의 가동자는 평면모터를 사용하여 상기 노광영역과 상기 측정영역에서 교체 가능하게 되어있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 가동자는 상기 고정자 유닛과 대향하는 면에 자석군을 가지고, 상기 자석군은 상기 고정자 유닛의 상기 코일군에 대하여 힘을 발생하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  9. 삭제
  10. 기판을 노광하기 위한 노광영역과 상기 기판의 위치를 측정하기 위한 측정영역을 지닌 노광장치에 있어서,
    상기 노광영역에서 상기 기판을 탑재한 가동자를 구동하기 위한 제 1구동수단과;
    상기 측정영역에서 상기 가동자를 구동하기 위한 제 2구동수단을 포함하고,
    상기 제 1구동수단과 상기 제 2구동수단은 이들 제 1구동수단과 제 2구동수단을 구동함으로써 발생되는 발열의 차에 따라서 서로 독립적으로 온도 조절되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  11. 제 1항에 기재된 노광장치를 사용하여 기판을 노광하는 공정과, 웨이퍼를 현상하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  12. 제 10항에 기재된 노광장치를 사용하여 기판을 노광하는 공정과, 웨이퍼를 현상하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
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