KR100635042B1 - 전면전극을 구비한 평판표시장치 및 그의 제조방법 - Google Patents

전면전극을 구비한 평판표시장치 및 그의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100635042B1
KR100635042B1 KR1020010079579A KR20010079579A KR100635042B1 KR 100635042 B1 KR100635042 B1 KR 100635042B1 KR 1020010079579 A KR1020010079579 A KR 1020010079579A KR 20010079579 A KR20010079579 A KR 20010079579A KR 100635042 B1 KR100635042 B1 KR 100635042B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode
source
front electrode
thin film
film transistor
Prior art date
Application number
KR1020010079579A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20030049385A (ko
Inventor
구재본
신동찬
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성에스디아이 주식회사 filed Critical 삼성에스디아이 주식회사
Priority to KR1020010079579A priority Critical patent/KR100635042B1/ko
Priority to US10/292,627 priority patent/US7173372B2/en
Priority to CNB021518602A priority patent/CN1314127C/zh
Publication of KR20030049385A publication Critical patent/KR20030049385A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100635042B1 publication Critical patent/KR100635042B1/ko
Priority to US11/634,934 priority patent/US7775846B2/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/10Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources

Abstract

본 발명은 모든 화소에 동일한 전원을 인가하는 공통전원선(Vdd line)을 전면전극으로 형성하여 인라인 쇼트(in-line short)와 전압강하를 방지할 수 있는 평판표시장치에 관한 것이다.
본 발명의 평판표시장치는 기판의 전면상에 형성된 전면 전극과; 상기 기판 중 소정부분에 형성된 소오스/드레인 전극을 구비하는 박막 트랜지스터 및 화소 전극과; 상기 전면 전극과 박막트랜지스터를 절연시켜 주기위한, 콘택홀을 구비한 절연막을 구비하는 단위화소를 적어도 2개 이상을 포함하며, 상기 콘택홀을 통해 상기 전면전극과 박막 트랜지스터의 소오스 전극을 전기적으로 연결하는 것과; 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 화소전극을 전기적으로 연결한다.

Description

전면전극을 구비한 평판표시장치 및 그의 제조방법{Flat Panel Display Device with Face Plate and Fabrication Method thereof}
도 1a는 종래의 유기전계 발광표시소자의 단면구조도,
도 1b는 종래의 유기전계 발광표시소자의 평면구조도,
도 2a는 본 발명의 실시예에 따른 유기전계 발광표시소자의 단면구조도,
도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 유기전계 발광표시소자의 평면구조도,
도 3은 본 발명의 전면전극과 소오스/드레인 전극간의 연결구조를 도시한 도면,
*도면의 주요 부분에 대한 설명*
100 : 절연기판 105 : 전면전극
115 : 버퍼층 120 : 반도체층
121, 122 : 소오스/드레인 영역 141, 142 : 소오스/드레인 전극
125 : 게이트 절연막 131 : 게이트
135 : 층간 절연막 136, 137, 139 : 콘택홀
150 : 보호막 160 : 화소전극
170 : 평판화막 180 : 유기 EL 층
190 : 음극
본 발명은 평판표시장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 공통전원선(Vdd line)을 전면전극으로 형성하여 인라인 쇼트를 방지하고 전원전압의 강하를 방지할 수 있는 유기전계 발광표시장치에 관한 것이다.
도 1a는 종래의 유기전계 발광표시장치의 단면구조를 도시한 것이다. 도 1b는 종래의 유기전계 발광표시장치의 평면구조를 도시한 것으로서, 도 1a는 도 1b의 I-I 선에 따른 단면구조이다.
도 1a를 참조하면, 투명한 절연기판(10)은 화소전극이 형성되는 제1영역(11)과 박막 트랜지스터(TFT)와 캐패시터가 형성되는 제2영역(12)으로 구분된다. 상기 절연기판(10)상에는 버퍼층(15)이 형성되고, 버퍼층(15) 상부의 상기 제2영역(12)에는 소오스/드레인 영역(21), (22)이 형성된 반도체층(20), 게이트 전극(31) 그리고 콘택홀(41), (42)을 통해 각각 소오스/드레인 영역(21), (22)과 연결되는 소오스/드레인 전극(51), (52)을 구비한 박막 트랜지스터와, 제1전극(32)과 제2전극(53)을 구비한 캐패시터가 형성된다. 그리고, 반도체층(20), 게이트 전극(31) 및 제1전극(32) 그리고 소오스/드레인 전극(51), (52) 및 제2전극(53)사이에는 절연막, 즉 게이트 절연막(30), 층간 절연막(40) 및 보호막(60)이 형성된다.
상기 보호막(60)상에는 상기 소오스/드레인 전극(51), (52)중 하나, 예를 들 면 드레인 전극(52)과 비어홀(61)을 통해 연결되는 화소전극(70)이 애노드전극으로서 형성되고, 상기 화소전극(70)을 포함한 보호막(60)상에는 상기 화소전극(70)의 일부분을 노출시키는 개구부(81)를 구비한 평탄화막(80)이 형성된다. 상기 개구부(81)에는 유기 EL층(90)이 형성되고, 그위에 투명전극(95)이 캐소드전극(95)으로서 형성된다.
도 1b를 참조하면, 상기 유기전계 발광표시장치는 다수의 신호선, 즉 화소를 선택하는데 사용되는 게이트 라인(35)과, 데이터신호를 인가하는 데이터 라인(55) 그리고 모든 화소에 동일한 공통전압(Vdd)을 인가하여 구동용 박막 트랜지스터를 구동하는 데 필요한 기준전압을 부여하는 전원공급선(Vdd line, 56)을 구비한다.
상기 신호선들(35, 55, 56)에 의해 한정된 각 화소영역마다 화소가 각각 배열되는데, 각 화소는 상기 신호선들에 연결된 다수의 박막 트랜지스터, 예를 들면 2개의 트랜지스터와 하나의 캐패시터 및 유기 EL소자로 이루어진다.
종래의 유기전계 발광표시장치를 제조함에 있어서, 상기 게이트 전극(31)을 형성할 때, 게이트 라인(31) 및 캐패시터의 제1전극(32)이 형성되고, 상기 소오스/드레인 전극(51, 52)을 형성할 때, 데이터 라인(55) 및 전원공급선(56)과 캐패시터의 제2전극(53)이 형성된다. 이때, 상기 소오스/드레인 전극중 하나, 예를 들면 소오스 전극(51)과 캐패시터의 제2전극(53)은 상기 공통 전원선(56)으로부터 연장 형성되는 구조를 갖는다.
상기한 바와같이, 하나의 층상에서 2개의 신호선이 서로 전기적으로 분리되도록 형성되어야 하므로, 공정중 발생된 도전성 파티클에 의해 서로 인접하게 배열 되는 데이터 라인(55)과 전원공급선(56)간에 인라인 쇼트(도 1b의 59)가 발생하게 되고, 이에 따라 라인 결함(line defect)이 발생되는 문제점이 있었다.
또한, 하나의 층에 2개의 서로 다른 2개의 신호선이 존재하여야 하기 때문에 전원공급선을 전면 전극으로 형성하는 것은 불가능하고, 라인 형태로 패터닝하여 신호선을 형성하여야 한다. 이에 따라, 공통전압을 인가하는 위치에 따라 전압강하가 발생하여 전압 불균일이 발생하고, 라인형태의 패터닝으로 저항성분이 증가하여 전압강하가 발생하는 문제점이 있었다.
한편, 게이트 라인과 전원공급선을 동시에 형성하고 데이터 라인을 별도로 형성하는 경우에도 마찬가지로 하나의 층에 2개의 신호선이 존재하게 하기 때문에, 상기한 바와같은 인라인 쇼트 및 전압강하문제가 발생되는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명은 상기한 바와같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 전원공급선을 전면 전극으로 형성하여 인라인 쇼트의 발생을 방지하는 평판표시장치 및 그의 제조방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적은 전원전압의 강하를 방지할 수 있는 평판표시장치 및 그의 제조방법을 제공하는 그 목적이 있다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 기판의 전면상에 형성된 전면 전극과; 상기 기판 중 소정부분에 형성된 소오스/드레인 전극을 구비하는 박막 트랜지스터 및 화소 전극과; 상기 전면 전극과 박막트랜지스터를 절연시켜 주기위한, 콘택홀을 구비한 절연막을 구비하는 단위화소를 적어도 2개 이상을 포함하며, 상기 콘택홀을 통해 상기 전면전극과 박막 트랜지스터의 소오스 전극을 전기적으로 연결하는 것과; 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 화소전극을 전기적으로 연결하는 평판표시장치를 제공하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 다수의 화소영역으로 구분되는 기판과; 상기 기판의 전면상에 형성된 전면 전극과; 상기 전면 전극상에 형성되어, 각 화소 영역의 전면 전극의 일부분을 노출시키는 콘택홀을 구비한 절연막과; 각 화소 영역마다 상기 절연막상에 형성되어 상기 콘택홀을 통해 상기 전면 전극과 전기적으로 연결되는, 섬형태의 소오스/드레인 전극을 구비한 박막 트랜지스터와; 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된 화소 전극을 포함하며, 상기 전면 전극으로부터 상기 박막 트랜지스터의 소오스/드레인 전극으로 공통전압이 공급되는 평판표시장치를 제공하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 기판상에 전면 전극을 형성하는 단계와; 상기 전면 전극상에 제1절연막을 형성하는 단계와; 상기 제1절연막상부에 반도체층 및 게이트 전극을 형성하는 단계와; 기판 전면에 제2절연막을 형성하는 단계와; 상기 제1 및 제2절연막을 식각하여 상기 반도체층의 일부분과 상기 전면 전극의 일부분을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계와; 상기 콘택홀을 통해 상기 반도체층과 상기 전면전극에 연결되는 소오스/드레인 전극을 형성하는 단계와; 상기 기판상에 보호막을 형성하고, 상기 소오스/드레인 전극의 일부분을 노출시키는 비어홀을 형성하는 단계와; 상기 보호막상에 상기 비어홀을 통해 상기 소오스/드레인 전극에 연결되는 화소전극을 포함하는 평탄화막을 형성하는 단계와; 상기 평탄화막을 식각하여 상기 화소 전극의 일부분을 노출시키는 개구부를 형성하는 단계와; 상기 개구부상에 유기 EL층 및 그 상에 캐소드 전극을 형성하는 단계를 포함하는 평판표시장치의 제조방법을 제공하는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 2a는 본 발명의 실시예에 따른 유기전계 발광표시장치의 단면구조를 도시한 것이고, 도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 유기전계 발광표시장치의 평면구조를 도시한 것이다. 이때, 도 2a는 도 2b의 II-II 선에 따른 단면구조를 도시한 것으로 서, 하나의 화소영역(104)에 대한 단면구조를 도시한 것이다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 화소전극이 형성될 제1영역(101)과, 박막 트랜지스터와 캐패시터가 형성될 제2영역(102)을 구비한 절연기판(100)이 제공된다. 절연기판(100) 전면상에 전극물질을 증착하여 전면전극형태의 전원공급선(105)을 형성한다. 상기 전면전극으로 된 전원공급선(105)상에 버퍼층(115)을 형성한다.
상기 제2영역(102)의 버퍼층(115)상에 반도체층(120)을 형성하고, 상기 반도체층(120)을 포함한 기판전면에 게이트 절연막(125)을 형성하고, 상기 반도체층(120)상부의 게이트 절연막(125)상에 게이트(131)를 형성하고, 상기 게이트(131)와 이격된 캐패시터의 제1전극(132)을 형성한다. 이어서, 상기 반도체층(120)으로 n 형 또는 p 형의 불순물중 하나, 예를 들면 p형 불순물을 이온주입하여 소오스/드레인 영역(121), (122)을 형성한다. 이때, 반도체층(120)중 게이트(131) 하부의 부분(123)은 채널층으로 작용한다.
이어서, 상기 게이트(131) 및 캐패시터의 제1전극(132)를 포함한 게이트 절연막(125)상에 층간 절연막(135)을 형성한다. 상기 층간 절연막(135)을 식각하여 상기 소오스/드레인 영역(121), (122)을 각각 노출시키는 제1 및 제2콘택홀(136), (137)을 형성하고, 이와 동시에 상기 전면전극(105)의 일부분을 노출시키는 제3콘택홀(139)을 형성한다.
상기 층간 절연막(135)상에 소오스/드레인 전극물질을 증착한 다음 패터닝하여 상기 제1 및 제2콘택홀(136), (137)을 통해 소오스/드레인 영역(121), (122)과 각각 콘택되는 소오스/드레인 전극(141), (142)을 형성함과 동시에 상기 소오스/드 레인 전극(141), (142)중 하나, 예를 들면 소오스전극(141)으로부터 연장 형성되는 캐패시터의 제2전극(143)을 형성한다.
그러므로, 상기 소오스/드레인 전극중 하나, 예를 들면 소오스 전극(141)과 캐패시터의 제2전극(143)이 콘택홀(139)을 통해 전면 전극의 전원공급선(105)에 연결된다.
본 발명의 실시예에서는 공통전원선을 전면 전극(105)으로 형성하고 소오스/드레인 전극용 콘택홀(136), (137)을 형성할 때 전면전극(105)과 소오스/드레인 전극중 하나를 연결하기 위한 콘택홀(139)이 동시에 형성되므로, 마스크 공정이 추가되지 않는다.
도 3은 본 발명의 전면전극 형태의 전원공급선과 소오스/드레인 전극간의 연결상태를 도시한 것이다. 도 3을 참조하면, 전면전극(105)이 기판 전면에 전면전극 형태로 형성되고, 각 화소영역(104)마다 상기 전면전극(105)의 일부분을 노출시키는 콘택홀(139)이 구비되며, 콘택홀(139)을 통해 상기 전면전극(105)에 섬형태(독립된 형태)의 도전패턴(145)이 연결되어진다.
상기 도전패턴(145)은 도 2b에 도시된 바와같이, 그의 일부분은 콘택홀(139)을 통해 연결되는 소오스 전극(141)으로 작용하고, 나머지 부분은 상기 캐패시터의 제2전극(143)으로 작용한다. 즉, 종래에는 도 1b에 도시된 바와같이 전원공급선(56)으로부터 캐패시터의 제2전극(53)과 소오스 전극(51)이 연장 형성되는 구조를 갖지만, 본 발명에서는 전원공급선이 전면전극(105) 형태로 형성되므로, 소오스 전극(141)과 캐패시터의 제2전극(143)의 역할을 하는 도전패턴(145)이 섬형 태를 갖는다.
상기 소오스/드레인 전극(141), (142) 및 캐패시터의 제2전극(143)을 포함한 층간 절연막(135)상에 보호막(150)을 형성하고, 상기 소오스/드레인 전극(141), (142)중 하나, 예를 들어 드레인 전극(142)의 일부분을 노출시키는 비어홀(155)을 형성한다.
이어서, 상기 보호막(150)상에 상기 비어홀(155)을 통해 상기 노출된 드레인 전극(142)에 연결되는 화소전극(160)을 형성하고, 상기 화소전극(160)을 포함한 평탄화막(170)을 증착한다. 상기 평탄화막(170)을 식각하여 상기 화소전극(160)의 일부분을 노출시키는 개구부(175)를 형성한다. 상기 개구부(175)에는 유기 EL층(180)이 형성되며, 그위에는 투명전극(190)으로서 캐소드전극이 형성된다.
본 발명의 유기전계 발광표시소자는 전면발광구조이므로, 전원공급선을 전면전극(105)으로 형성하여도 소자의 동작에는 영향을 미치지 않는다. 또한 본 발명을 배면발광구조에 적용하는 경우에는 상기 전원공급선(105)을 투명한 전면전극으로 형성하면 소자의 동작에는 영향을 미치지 않는다.
도 2b에 도시된 바와같이 본 발명은 공통전원선이 전면전극으로 형성되므로 공통의 전원전압(Vdd)이 화살표로 표시된 바와같이 4방향으로 인가하여 전원전압강하를 최소화할 수 있을 뿐만 아니라 전압인가위치에 따른 전압불균일을 방지할 수 있다.
본 발명의 공통전원선을 전면전극으로 하는 기술을 유기전계 발광표시소자에 한정하여 설명하였으나, 이는 액티브 매트릭스 액정표시소자에도 적용가능하다. 또 한, 본 발명은 전면전극이 반도체층 하부의 기판상에 형성되는 구조를 도시하였으나, 이는 박막 트랜지스터의 구조에 따라 전면전극의 형성위치를 변경하는 것이 가능하다.
상기한 바와같은 본 발명에 따르면, 공통전원공급선을 전면극으로 형성하여 인라인 쇼트 및 전압강하현상을 방지할 수 있는 이점이 있다. 또한, 공통전원선을 전면극으로 형성할 때 공통전원선과 소오스/드레인 전극과 캐패시터를 연결하기 위한 콘택홀을 소오스/드레인 콘택홀을 형성할 때 동시에 형성하여 줌으로써 추가의 마스크공정이 요구되지 않는다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (3)

  1. 기판의 전면상에 형성된 전면 전극과;
    상기 기판 중 소정부분에 형성된 소오스/드레인 전극을 구비하는 박막 트랜지스터 및 화소 전극과;
    상기 전면 전극과 박막트랜지스터를 절연시켜 주기위한, 콘택홀을 구비한 절연막을 구비하는 단위화소를 적어도 2개 이상을 포함하며,
    상기 콘택홀을 통해 상기 전면전극과 박막 트랜지스터의 소오스 전극을 전기적으로 연결하는 것과;
    상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 화소전극을 전기적으로 연결하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
  2. 다수의 화소영역으로 구분되는 기판과;
    상기 기판의 전면상에 형성된 전면 전극과;
    상기 전면 전극상에 형성되어, 각 화소 영역의 전면 전극의 일부분을 노출시키는 콘택홀을 구비한 절연막과;
    각 화소 영역마다 상기 절연막상에 형성되어 상기 콘택홀을 통해 상기 전면 전극과 전기적으로 연결되는, 섬형태의 소오스/드레인 전극을 구비한 박막 트랜지스터와;
    상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된 화소 전극을 포함하며,
    상기 전면 전극으로부터 상기 박막 트랜지스터의 소오스/드레인 전극으로 공통전압이 공급되는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
  3. 기판상에 전면 전극을 형성하는 단계와;
    상기 전면 전극상에 제1절연막을 형성하는 단계와;
    상기 제1절연막상부에 반도체층 및 게이트 전극을 형성하는 단계와;
    기판 전면에 제2절연막을 형성하는 단계와;
    상기 제1 및 제2절연막을 식각하여 상기 반도체층의 일부분과 상기 전면 전극의 일부분을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계와;
    상기 콘택홀을 통해 상기 반도체층과 상기 전면전극에 연결되는 소오스/드레인 전극을 형성하는 단계와;
    상기 기판상에 보호막을 형성하고, 상기 소오스/드레인 전극의 일부분을 노출시키는 비어홀을 형성하는 단계와;
    상기 보호막상에 상기 비어홀을 통해 상기 소오스/드레인 전극에 연결되는 화소전극을 포함하는 평탄화막을 형성하는 단계와;
    상기 평탄화막을 식각하여 상기 화소 전극의 일부분을 노출시키는 개구부를 형성하는 단계와;
    상기 개구부상에 유기 EL층 및 그 상에 캐소드 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조방법.
KR1020010079579A 2001-12-14 2001-12-14 전면전극을 구비한 평판표시장치 및 그의 제조방법 KR100635042B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010079579A KR100635042B1 (ko) 2001-12-14 2001-12-14 전면전극을 구비한 평판표시장치 및 그의 제조방법
US10/292,627 US7173372B2 (en) 2001-12-14 2002-11-13 Flat panel display device with power supply layer
CNB021518602A CN1314127C (zh) 2001-12-14 2002-12-13 具有面板的平板显示器件及其制造方法
US11/634,934 US7775846B2 (en) 2001-12-14 2006-12-07 Method of manufacturing a flat panel display incorporating a power supply layer and a storage capacitor element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010079579A KR100635042B1 (ko) 2001-12-14 2001-12-14 전면전극을 구비한 평판표시장치 및 그의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20030049385A KR20030049385A (ko) 2003-06-25
KR100635042B1 true KR100635042B1 (ko) 2006-10-17

Family

ID=19717065

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020010079579A KR100635042B1 (ko) 2001-12-14 2001-12-14 전면전극을 구비한 평판표시장치 및 그의 제조방법

Country Status (3)

Country Link
US (2) US7173372B2 (ko)
KR (1) KR100635042B1 (ko)
CN (1) CN1314127C (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10886305B2 (en) 2018-09-14 2021-01-05 Samsung Display Co., Ltd. Display device

Families Citing this family (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100895313B1 (ko) * 2002-12-11 2009-05-07 삼성전자주식회사 유기 발광 표시판
US7710019B2 (en) 2002-12-11 2010-05-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Organic light-emitting diode display comprising auxiliary electrodes
JP4351511B2 (ja) * 2003-01-16 2009-10-28 大日本印刷株式会社 有機el表示パネル
KR100521277B1 (ko) * 2003-02-05 2005-10-13 삼성에스디아이 주식회사 애노드전극층을 전원공급층으로 사용한 평판표시장치 및그의 제조방법
KR100542997B1 (ko) 2003-08-07 2006-01-20 삼성에스디아이 주식회사 평판표시장치 및 그의 제조방법
KR100560782B1 (ko) * 2003-08-25 2006-03-13 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광 표시 장치
KR20050068794A (ko) * 2003-12-30 2005-07-05 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계 발광소자와 그 제조방법
JP4507611B2 (ja) * 2004-01-29 2010-07-21 セイコーエプソン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス装置、及び電子機器
US7027044B2 (en) * 2004-02-20 2006-04-11 Au Optronics Corporation Power line arrangement for electroluminescence display devices
KR100736008B1 (ko) * 2004-06-07 2007-07-06 가시오게산키 가부시키가이샤 표시장치 및 그 제조방법
US8901268B2 (en) * 2004-08-03 2014-12-02 Ahila Krishnamoorthy Compositions, layers and films for optoelectronic devices, methods of production and uses thereof
KR100696479B1 (ko) * 2004-11-18 2007-03-19 삼성에스디아이 주식회사 평판표시장치 및 그의 제조방법
US7736964B2 (en) * 2004-11-22 2010-06-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, and method for manufacturing the same
US7888702B2 (en) * 2005-04-15 2011-02-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and manufacturing method of the display device
KR100696514B1 (ko) * 2005-04-22 2007-03-19 삼성에스디아이 주식회사 전면 발광형 유기 발광 표시장치
KR100696518B1 (ko) * 2005-05-02 2007-03-19 삼성에스디아이 주식회사 평판표시장치
US7652291B2 (en) 2005-05-28 2010-01-26 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Flat panel display
KR100696522B1 (ko) * 2005-05-28 2007-03-19 삼성에스디아이 주식회사 평판표시장치
US7898623B2 (en) * 2005-07-04 2011-03-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device, electronic device and method of driving display device
KR101219048B1 (ko) * 2005-07-14 2013-01-09 삼성디스플레이 주식회사 평판표시장치와 평판표시장치의 제조방법
KR100730154B1 (ko) * 2005-10-18 2007-06-19 삼성에스디아이 주식회사 평판표시장치 및 그 제조방법
KR100709195B1 (ko) * 2005-11-22 2007-04-18 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
KR100708856B1 (ko) * 2005-11-24 2007-04-17 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
US20070176538A1 (en) * 2006-02-02 2007-08-02 Eastman Kodak Company Continuous conductor for OLED electrical drive circuitry
JP4930704B2 (ja) * 2006-03-14 2012-05-16 セイコーエプソン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器
US7435633B2 (en) * 2006-03-14 2008-10-14 Seiko Epson Corporation Electroluminescence device, manufacturing method thereof, and electronic apparatus
CN100433361C (zh) * 2006-07-10 2008-11-12 友达光电股份有限公司 有机电致发光结构
JP2010032838A (ja) * 2008-07-30 2010-02-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 表示装置および表示装置の製造方法
JP2010055070A (ja) * 2008-07-30 2010-03-11 Sumitomo Chemical Co Ltd 表示装置および表示装置の製造方法
US8557877B2 (en) 2009-06-10 2013-10-15 Honeywell International Inc. Anti-reflective coatings for optically transparent substrates
KR101784994B1 (ko) * 2011-03-31 2017-10-13 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
US8864898B2 (en) 2011-05-31 2014-10-21 Honeywell International Inc. Coating formulations for optical elements
KR101335527B1 (ko) * 2012-02-23 2013-12-02 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광표시장치 및 그 제조 방법
KR101954973B1 (ko) 2012-09-19 2019-03-08 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
CN104685556B (zh) * 2012-10-01 2017-05-03 夏普株式会社 电路基板和显示装置
CN102916037B (zh) * 2012-10-12 2015-02-25 京东方科技集团股份有限公司 一种有源矩阵有机电致发光显示器件及显示装置
CN102916036B (zh) * 2012-10-12 2015-05-13 京东方科技集团股份有限公司 一种有源矩阵有机电致发光显示器件及显示装置
FR2999018B1 (fr) * 2012-11-30 2016-01-22 Commissariat Energie Atomique Ecran d'affichage a diodes electroluminescentes organiques
CN103745985B (zh) * 2013-12-27 2015-03-18 京东方科技集团股份有限公司 一种有源矩阵有机发光二极管显示基板、显示装置
CN104091817B (zh) 2014-06-13 2018-06-15 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制备方法
KR102236381B1 (ko) * 2014-07-18 2021-04-06 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
EP3194502A4 (en) 2015-04-13 2018-05-16 Honeywell International Inc. Polysiloxane formulations and coatings for optoelectronic applications
CN107871757B (zh) * 2016-09-23 2020-04-14 京东方科技集团股份有限公司 有机发光二极管阵列基板及其制备方法、显示装置
CN107887328B (zh) * 2016-09-30 2020-08-25 昆山国显光电有限公司 阵列基板及其制造方法、oled结构
JP6807712B2 (ja) * 2016-11-16 2021-01-06 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
CN107117269A (zh) * 2017-04-18 2017-09-01 江苏科技大学 一种适用于北极的新型半潜式海洋平台及使用方法
CN206711895U (zh) * 2017-06-02 2017-12-05 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板、电致发光显示面板及显示装置
CN109037273B (zh) 2017-06-08 2020-06-09 京东方科技集团股份有限公司 有机发光二极管阵列基板及其制备方法、显示装置
KR20190063230A (ko) * 2017-11-29 2019-06-07 엘지디스플레이 주식회사 박막트랜지스터 어레이 기판 및 그를 포함하는 유기발광표시장치
CN109166802A (zh) * 2018-08-06 2019-01-08 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Ltps阵列基板及其制造方法、显示面板
KR102607781B1 (ko) * 2018-12-28 2023-11-28 엘지디스플레이 주식회사 고 개구율 전계 발광 조명장치
KR20220096854A (ko) * 2020-12-31 2022-07-07 엘지디스플레이 주식회사 표시 장치
CN112928157B (zh) * 2021-02-10 2022-07-29 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制作方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH043933A (ja) * 1990-04-20 1992-01-08 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH04294576A (ja) * 1991-03-23 1992-10-19 Sony Corp 半導体装置
KR940003058A (ko) * 1992-07-09 1994-02-19 이헌조 Am-lcd의 구조 및 제조방법
JP2000002890A (ja) * 1998-06-17 2000-01-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 反射型半導体表示装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3155040B2 (ja) * 1991-10-23 2001-04-09 セイコーインスツルメンツ株式会社 半導体装置
KR0141774B1 (ko) * 1994-06-17 1998-06-15 구자홍 액정표시장치 및 그 제조방법
US5536950A (en) * 1994-10-28 1996-07-16 Honeywell Inc. High resolution active matrix LCD cell design
JP3433779B2 (ja) * 1996-06-19 2003-08-04 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板およびその製造方法
TW478014B (en) * 1999-08-31 2002-03-01 Semiconductor Energy Lab Semiconductor device and method of manufacturing thereof
CN1186683C (zh) * 1999-09-08 2005-01-26 松下电器产业株式会社 显示装置及其制造方法
JP2001148291A (ja) * 1999-11-19 2001-05-29 Sony Corp 表示装置及びその製造方法
KR100322969B1 (ko) * 1999-12-22 2002-02-01 주식회사 현대 디스플레이 테크놀로지 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치 및 그의 제조방법
WO2001082273A1 (fr) 2000-04-21 2001-11-01 Seiko Epson Corporation Dispositif electro-optique
GB0014961D0 (en) * 2000-06-20 2000-08-09 Koninkl Philips Electronics Nv Light-emitting matrix array display devices with light sensing elements
US6542205B2 (en) * 2000-08-04 2003-04-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
JP3695308B2 (ja) * 2000-10-27 2005-09-14 日本電気株式会社 アクティブマトリクス有機el表示装置及びその製造方法
KR100491143B1 (ko) * 2001-12-26 2005-05-24 삼성에스디아이 주식회사 블랙매트릭스를 구비한 평판표시장치 및 그 제조방법
KR100484591B1 (ko) * 2001-12-29 2005-04-20 엘지.필립스 엘시디 주식회사 능동행렬 유기전기발광소자 및 그의 제조 방법
US6835954B2 (en) * 2001-12-29 2004-12-28 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Active matrix organic electroluminescent display device
US7045861B2 (en) * 2002-03-26 2006-05-16 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device, liquid-crystal display device and method for manufacturing same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH043933A (ja) * 1990-04-20 1992-01-08 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH04294576A (ja) * 1991-03-23 1992-10-19 Sony Corp 半導体装置
KR940003058A (ko) * 1992-07-09 1994-02-19 이헌조 Am-lcd의 구조 및 제조방법
JP2000002890A (ja) * 1998-06-17 2000-01-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 反射型半導体表示装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10886305B2 (en) 2018-09-14 2021-01-05 Samsung Display Co., Ltd. Display device

Also Published As

Publication number Publication date
US7173372B2 (en) 2007-02-06
KR20030049385A (ko) 2003-06-25
US20070077848A1 (en) 2007-04-05
CN1430287A (zh) 2003-07-16
US20030111954A1 (en) 2003-06-19
CN1314127C (zh) 2007-05-02
US7775846B2 (en) 2010-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100635042B1 (ko) 전면전극을 구비한 평판표시장치 및 그의 제조방법
KR100696479B1 (ko) 평판표시장치 및 그의 제조방법
KR100521277B1 (ko) 애노드전극층을 전원공급층으로 사용한 평판표시장치 및그의 제조방법
KR100491143B1 (ko) 블랙매트릭스를 구비한 평판표시장치 및 그 제조방법
US8130174B2 (en) Organic electroluminescent display device
US7211826B2 (en) Organic electroluminescent display
EP2184780A2 (en) Organic light emitting display device and method of manufacturing the same
KR100611153B1 (ko) 평판 표시 소자
KR20150002422A (ko) 유기발광표시장치 및 그의 제조방법
JP2010039229A (ja) 表示装置
KR20060054665A (ko) 평판표시소자 및 그 제조방법
US8704305B2 (en) Thin film transistor
KR100543001B1 (ko) 박막 트랜지스터 및 액티브 매트릭스 평판 표시 장치
KR101071607B1 (ko) 표시장치, 표시 장치의 제조 방법
KR100852252B1 (ko) 표시장치 및 그 제조 방법
KR100669728B1 (ko) 분할된 화소전극을 구비한 유기전계 발광표시장치
KR100669715B1 (ko) 유기전계 발광표시장치 및 그의 제조방법
CN109285962B (zh) 显示基板及制造方法、显示装置
KR100552977B1 (ko) 블랙매트릭스를 구비한 평판표시장치 및 그 제조방법
US6274886B1 (en) Thin-film-transistor-array substrate and liquid-crystal display device
KR100776507B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
KR100669742B1 (ko) 테스트패드를 구비한 유기전계 발광표시장치
KR100611158B1 (ko) 유기전계발광 표시장치
US10872829B2 (en) Method for repairing a display substrate
KR20240020303A (ko) 표시 장치 및 그 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
AMND Amendment
E801 Decision on dismissal of amendment
B601 Maintenance of original decision after re-examination before a trial
J301 Trial decision

Free format text: TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20050304

Effective date: 20060825

S901 Examination by remand of revocation
GRNO Decision to grant (after opposition)
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120928

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130930

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141001

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170928

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181001

Year of fee payment: 13

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191001

Year of fee payment: 14