KR100455293B1 - 친수성 영역과 소수성 영역으로 구성되는 생물분자용어레이 판의 제조방법 - Google Patents

친수성 영역과 소수성 영역으로 구성되는 생물분자용어레이 판의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 생물분자용 어레이 판의 제조방법은 (a) 기판 표면에 소수성 물질을 코팅시켜 소수성 막을 형성시키는 단계; (b) 코팅된 소수성 막 상에 식각 마스크를 배치시키고 패터닝시키는 단계; (c) 패터닝에 의해 노출된 소수성 막을 식각시키는 과정을 수행하여, 친수성의 결합 부위를 형성하는 단계; (d) 잔류하는 식각 마스크를 제거하는 단계; 및 (e) 소수성 막의 소수성을 복원시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

친수성 영역과 소수성 영역으로 구성되는 생물분자용 어레이 판의 제조방법{A process for producing array plate for a biomolecule comprising a hydrophilic region and a hydrophobic region}
본 발명은 반도체 제조 공정을 응용하여 친수성 막과 소수성 막으로 이루어지는 어레이를 제조하고, 여기에서 생물분자 용액을 주입하는 생물분자용 어레이 판의 제조방법에 관한 것이다.
종래 친수성 영역과 소수성 영역을 포함하는 핵산 어레이 판의 제조방법에 관한 발명이 미국특허 제6,210,894호(프로토젠(protogene)사 특허)에 기재되어 있었다. 이 발명은 어레이 판을 이용하여 화학반응을 일으킬 경우, 미세방울의 형태로 반응물 용액을 압전 펌프 등을 이용하여 분사하였을 때, 반응물 용액이 친수성 영역과 소수성 영역의 표면 장력의 차이로 인하여 각각의 결합 부위로 반응물 용액이 이동하도록 하는 어레이 판을 제조하는 방법에 관한 것이다.
구체적으로는, 다음 단계를 포함하는 핵산 어레이 판의 제조방법에 관한 것이다(도1 참조).
(a) 추후 노광 및 현상되어 제1차 노광된 지지체 표면의 패턴화된 영역을 형성시키는, 양성 또는 음성 포토레지스트 물질로 지지체 표면을 코팅하는 단계;
(b) 안정된 플루오로알킬실록산 소수성 매트릭스를 형성시키기 위하여, 상기 제1차 지지체 표면을 플루오로알킬실란과 반응시키는 단계;
(c) 제2차 지지체 표면을 노광시키기 위하여 잔여 포토레지스트를 제거하는단계;
(d) 유도체화된 친수성 결합 부위를 형성시키기 위하여, 상기 제2차 지지체를 히드록시 또는 아미노알킬실란과 반응시키는 단계.
또한, 상기 발명은 다음 단계를 포함하는 핵산 어레이 판의 제조방법에 관한 것이다(도2 참조).
(a) 유도체화된 친수성 결합 부위를 형성시키기 위하여, 상기 지지체 표면을 히드록시 또는 아미노알킬실란과 반응시키는 단계;
(b) 상기 (a) 단계에서 형성된 상기 지지체 표면을, 광블록된 지지체 표면을 제공하기 위한 일시적 광불안정 블록킹제로서 O-니트로벤질 카르보닐 클로라이드와 결합시키는 단계;
(c) 상기 (b) 단계의 광블록된 지지체 표면을, 블록되지 않은 히드록시 또는 아미노알킬실란을 가진 상기 지지체 표면 상에 블록되지 않은 영역을 형성시키기 이하여, 마스크를 통하여 빛에 노출시키는 단계;
(d) 상기 (c) 단계의 노출된 표면을, 안정된 소수성(퍼플루오로아실 또는 포플루오로알킬술폰아미도)알킬 실록산 매트릭스를 형성시키 위하여, 퍼플루오로알카노일 할라이드 또는 퍼플루오로알킬술포닐 할라이드와 결합시키는 단계; 및
(e) 상기 유도체화된 친수성 결합 부위를 형성시키기 위하여, 블록되지 않은 히드록시- 또는 아미노알킬실란의 패턴화된 영역을 생성시키기 위한 잔여 광블록된 지지체 표면을 노출시키는 단계.
그러나, 상기한 핵산 어레이의 제조방법은, 현실적으로 막의 두께를 조절하는 것이 불가능하며, 대부분 수십 Å의 매우 얇은 막을 이루므로, 내구성이 약하다. 또한, 얇고 투명하므로 친수성 영역과 소수성 영역의 광학적 구분이 어려워 젯팅(jetting) 시 노즐의 배열이 난이하며, 검사장비가 패턴을 인식하는 과정을 자동화하기가 어려운 문제점이 있었다. 또한, 반도체 공정에서 적용하기 힘든 물질로 구성되어 있으며, 반도체 제조 공정상 노광을 위한 배열 기준(alignment key)을 형성시키기 어려운 문제점이 있다. 또한, 포토블록킹 막을 형성시키고, 제거하는 공정은 복잡하고, 비용이 많이 든다는 문제점도 있었다.
또한, 미국특허 제6,130,098호에는 실리콘 상의 구조물에 희생층으로 사용될 Cr과 같은 금속을 코팅한 후, 포토리토그래피를 통하여 패터닝을 하고, 그 위에 OTS의 SAM과 같은 소수성 박막을 코팅한 한 다음, Cr과 같은 희생층을 제거하여 부분적으로 소수성인 영역과 친수성인 영역을 형성시키는 단계를 포함하는, 히터 및 온도 검출기의 제조방법 및 채널 및 챔버 제조방법이 기재되어 있다(도3 및 4 참조).
그러나, 상기 발명은 금속을 희생층으로 사용하고 패터닝을 하는 공정이 복잡하여 비용이 상승하고, 수율이 떨어지는 단점이 있었다. 또한, OTS의 SAM은 수 십 Å 이하의 매우 얇은 박막으로 내구성이 약하다. 또한, 얇고 투명하므로 친수성 영역과 소수성 영역의 광학적 구분이 어려워 젯팅(jetting) 시 노즐의 배열이 난이하며, 검사장비가 패턴을 인식하는 과정을 자동화하기가 어려운 문제점이 있었다. 또한, 금속 희생층을 제거할 때 소수성 영역이 손상될 우려가 있어 품질관리상의 문제점도 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 종래의 반도체 제조 공정을 응용할 수 있으면서도, 박막의 두께를 조절할 수 있고, 친수성 영역과 소수성의 영역의 구분이 확실한 생물분자용 어레이 판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 방법에 의하여 제조된 생물분자용 어레이 판을 이용하여, 높은 정밀도와 수율로 바이오 칩을 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
도1 및 2는 종래의 핵산 어레이 제조방법의 일예를 나타내는 도면이고,
도3 및 4는 종래의 히터 및 온도 검출기의 제조방법, 및 채널 및 챔버 제조방법의 일예를 나타내는 도면이고,
도5는 본 발명의 생물분자용 어레이 판의 제조방법의 일예를 나타내는 도면이고,
도6은 본 발명의 생물분자용 어레이 판의 제조방법의 또 다른 일예를 나타내는 도면이고,
도7은 친수성인 생물분자 용액이 미세방울로 어레이 상의 소수성 영역에 위치하게 될 때, 표면 장력에 의하여 친수성 결합 부위로 이동하는 현상을 도식적으로 나타낸 도면이다.
* 도면 기호의 간단한 설명
1: 기판 2: 친수성 막
3: 소수성 막 4: 포토레지스트
5: 결합 부위 6: 소수성 영역
7: 소수성 영역에 위치하는 생물분자 용액의 미세방울
본 발명의 생물분자용 어레이 판의 제조방법은 다음 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다:
(a) 기판 표면에 소수성 물질을 코팅시켜 소수성 막을 형성시키는 단계;
(b) 코팅된 소수성 막 상에 식각 마스크를 배치시키고 패터닝시키는 단계;
(c) 패터닝에 의해 노출된 소수성 막을 식각시키는 과정을 수행하여, 친수성의 결합 부위를 형성하는 단계;
(d) 잔류하는 식각 마스크를 제거하는 단계; 및
(e) 소수성 막의 소수성을 복원시키는 단계;
본 발명의 (a) 단계에서는 기판 상에 소수성 물질을 코팅시켜 소수성 막을 형성시킨다. 상기 기판은 예를 들면, 유리, 석영, 실리콘, 세라믹, 플라스틱 또는 금속이 될 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 소수성 물질은 소수성을 띄고 있고 코팅을 통하여 막을 형성할 수 있는 물질이면 어느 것이나 사용될 수 있다. 예를 들면, 플루오르화 폴리이미드, 플루오르화 폴리아크릴레이트, 플루오르화 폴리에테르와 같은 플루오르화탄소; 폴리스티렌, 폴리에틸렌 및 그 유도체, 폴리노보넨 및 그 유도체와 같은 폴리탄화수소; 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)와 같은 폴리에스테르; DLC(다이몬드 유사 탄소); 또는 테플론(폴리테트라플루오로에틸렌) 유사 필름과 같은 물질이 사용될 수 있다.
또한, 소수성 물질을 코팅시키는 과정은 박막 상에 소수성 물질을 코팅시키는 것과 관련되는 업계에서 통상적으로 사용되는 방법들이 사용될 수 있다. 이들 방법들에는, 스핀 코팅법, PECVD(플라즈마 촉진 화학기상침적)법, SAM(자가 집적 단일층: self assembled monolayer)법, 증발법 및 침지법이 포함된다. 이때 소수성 막의 침적 두께는 수 십Å∼수 ㎛의 범위인 것이 바람직하나, 여기에 한정되는 것은 아니다. 이러한 방법들에 의하여 코팅이 완료되면, 용매의 제거 및 기체의 제거(outgassing) 등의 목적으로 소프트 베이크와 하드 베이크를 100℃∼200℃에서 1∼30분 동안 실시한다. 이와 같은 코팅과정을 완료한 후, 선택적으로 포토레지스터(4) 또는 다른 마스크 재질의 스핀 코팅을 위하여, Ar 및 O2와 같은 기체를 사용하여 플라즈마 상태에서 얻어진 소수성 막을 활성화시키거나 금속 등의 하드 마스크를 코팅시킬 수 있다.
본 발명의 (b) 단계에서는 (a) 단계에서 형성된 소수성 막 상에 식각 마스크를 배치시키고 패터닝을 실시한다. 상기 (b) 단계에서, 상기 식각 마스크 재질에는 예를 들면, 포토레지스터 조성물을 포함하는 감광성 폴리머, 메탈 하드마스크(metal hard mask), SiO2, 폴리실리콘 또는 실리콘 나이트라이드가 포함된다. 음성 또는 양성 포토레지스터를 포함한 이들 마스크 재질을 코팅 한 다음, 노광 및 현상을 통하여 친수성 막이 형성될 부분을 패터닝한다. 이때 결합 부위의 위치에 따라, 결합 부위(5)인 친수성 막 부분이 소수성 막보다 내려온 음각이 될 수도 있으며(도5 및 6 참조), 또한 친수성 막 부분이 소수성 막보다 올라온 구조인 양각 구조도 가능하다.
본 발명의 (c) 단계에서는 (b) 단계의 패터닝에 의해 노출된 소수성 막을 식각하여 친수성의 결합 부위를 형성시킨다. 이때 상기 식각 과정은 건식 식각 또는 습식 식각에 의해 수행될 수 있다. 상기 습식 식각은 식각 용액에 상기 노출된 소수성 막을 침지하여, 마스크 재질의 페터닝된 부분을 통하여 소수성 막(3)을 용해시킴으로써 결합 부위를 형성시킨다. 이때 식각 용액으로 사용될 수 있는 화합물로는 예를 들면, H2SO4, H3PO4, H2O2, HF, HCl 및 NH4OH가 포함될 수 있다. 또한, 상기 건식 식각은 기체를 이용한 식각으로 주로 플라즈마를 사용하여, 반응성 이온 식각(RIE : reactive ion etching)법 및 에쉬(ashing)법 등을 통하여 소수성 막(3)을 친수성 막(2)이 들어날 때까지 식각하여 결합 부위를 형성시킨다. 이때 사용될 수 있는 기체로는 O2, Ar, SF6, CF4, BCl3, Cl2및 SiCl2가 포함된다. 바람직하기로는, 상기 기체는 O2또는 Ar이다.
본 발명의 (d) 단계는 잔류하는 식각 마스크를 제거하는 과정이다. 상기한 RIE와 같은 건식 식각 및 화학물질을 이용한 습식 식각에 의하여, 마스크 재질인포토레지스트(4)도 일부분 제거되지만, 포토레지스트의 두께가 소수성 막(3)보다 두껍거나 식각율이 낮으면 플루오로화탄소와 같은 소수성 막(3)이 전부 식각될 때까지 제거되지 않고 남아있게 된다. 이러한 잔류 포토레지스트는 H2SO4, H2O2및 아세톤과 같은 포토레지스터 스트립퍼(stripper)를 사용하여 제거할 수 있다. 또한, 이러한 식각 마스크의 제거 과정은, 소수성 막(3)이 전부 제거된 후에도, 포토레지스트(4)가 충분히 제거될 때까지 식각을 계속함으로써 수행될 수도 있다. 그리고, 금속 막과 같은 하드 마스크를 적용한 후 식각하여 할 수도 있다.
본 발명의 (e) 단계는, 소수성 막의 소수성을 복원시키는 과정이다. 일반적으로, 플루로로화탄소 및 폴리탄화수소 등의 소수성 막은 Ar 활성화 과정, 식각 및 식각 마스크를 제거하는 과정을 거친 후, 그 소수성 특성을 어느 정도 잃게 된다(예를 들면, 물 접촉각(water contact angle) ≒ 50°). 상기 (e) 단계는 이러한 소수성 막의 상실된 소수성 특성을 회복시키는 과정으로서, 예를 들면 열처리를 통하여 수행될 수 있다. 상기 열처리는 플로오로화탄소와 같은 소수성 박막을 코팅한 후 베이킹 한 온도보다 더 높거나 같은 온도(100℃∼200℃)에서 1∼30분 동안 가열함으로써 수행될 수 있다. 이러한 열처리 후 소수성 막의 특성은 소수성 특성(물 접촉각 ≒ 105°)을 회복하게 된다. 이때 최종적으로 얻어지는 소수성 표면은 105°이상의 물 접촉각과 20dynes/cm 이하의 표면에너지를 갖는 것이 바람직하고, 친수성 표면은 105°이하의 물 접촉각을 갖는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 바이오 칩의 제조방법은, 상기 생물분자용 어레이 판의 제조방법에, 상기에서 얻어진 어레이 판의 친수성 결합 부위의 표면을 표면처리하고,생물분자를 함유하고 있는 용액을 주입하는 단계((f) 단계)를 더 포함하여 이루어진다.
상기 (f) 단계는, 상기와 같이 제작된 친수성 결합 부위와 소수성 매트릭스 부위를 포함하고 있는 어레이의 친수성 결합 부위의 표면을 표면처리하고, 생물분자를 함유하고 있는 용액을 주입하는 과정이다. 상기 표면 처리는 생물분자를 친수성 결합 부위에 보다 잘 결합할 수 있도록 하는 화합물을 처리하는 것을 말한다. 상기 표면 처리는, 예를 들면 아미노프로필트리에톡시실란을 처리하여 친수성 결합 부위의 표면에 아민기를 갖도록 하는 것이 포함될 수 있다. 상기 생물 분자는 생물로부터 유래된 화합물이면 어느 것이 포함될 수 있으며, 예를 들면 핵산, 단백질, 효소 기질, 보조인자 및 올리고당이 포함된다. 또한, 상기 생물분자는 그 자체뿐만 아니라 상기 생물 분자와 다른 화합물의 콘주게이트의 형태인 것도 포함될 수 있으며, 적절한 용매에 용해된 용액의 형태로 사용될 수도 있다. 바람직하기로는,매트릭스-DNA 콘주게이트의 스폿팅 용액, 즉 에폭시기를 가진 방사형 PEG와 저분자의 친수성 폴리머를 반응시켜 얻은 매트릭스에, 예를 들어 올리고뉴클레오티드를 포함한 생물분자를 공유결합시켜 제조한 용액이다(대한민국 특허출원 제10-2001-53687호 참조). 또한, 상기 주입하는 과정에는, 압전 펌프와 같은 수단을 사용하여 상기 생물분자를 포함하는 용액을 미세방울의 형태로 젯팅 또는 스폿팅하거나, 상기 생물분자를 포함하는 용액 중에 어레이의 반응성 부위를 침지하는 것과 같은 방식이 사용될 수 있다. 이와 같이 주입된 상기 생물분자는 공유 또는 비공유 결합에 의하여 어레이의 친수성 반응 부위에 결합하게 된다. 이때 친수성 생물분자는 스폿팅에의하여 소수성인 영역에 스포팅되더라도, 표면장력에 의하여 친수성 결합 부위로 이동하게 된다(도7 참조).
상기 (f) 단계의 생물분자 용액의 주입은, 여러 어레이가 제작된 하나의 기판 중에서 행하거나, 각각의 개별 어레이로 절단(dicing) 한 다음 주입과정을 거칠 수도 있다. 절단하는 경우, 절단시 입자가 상기 반응 부위로 유입되는 것을 방지하기 위하여, 중합체나 UV 테이프와 같은 막으로 상면을 보호한 다음 절단하고, 절단이 끝난 후에 제거할 수도 있다.
또한, 본 발명의 생물분자용 어레이 판의 제조방법은, 상기 (a) 단계에서 소수성 막을 코팅시키기 전에, 기판 표면에 친수성의 산화막을 자연적으로 형성시키거나 혹은 인위적으로 기판 표면에 친수성 막을 코팅시키는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 여기에서 상기 산화막 또는 친수성 막은 예를 들면, SiO2, Al2O3, SiON, 알루미늄 나이트라이드, PMMA(폴리메틸메타크릴레이트), PMA(폴리메틸아크릴레이트), PVA(폴리비닐알콜), 폴리히드록시스티렌, 폴리아세토니트릴, 폴리아크릴릭 산 또는 폴리테트라히드로퓨란으로 이루어지는 것이 포함될 수 있다. 이러한 친수성 막의 코팅은, 스핀 코팅법, 열적 습식 산화, 열적 건식 산화 및 PECVD와 같은 방법에 의하여 이루어질 수 있으나, 이들 방법에 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 발명의 생물분자용 어레이 판의 제조방법은, 상기 (f) 단계의 생물분자 용액의 주입 단계에서, 특정한 위치에 용액을 정확하게 주입할 수 있도록 하기 위한 수단으로서, 친수성 결합 부위 및 소수성 막이 있는 면의 반대면에 자성을 갖는 물질을 코팅하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이러한 단계는 (a) 단계에 앞서상기 자성물질의 일면에 코팅할 수도 있으며, 또한 (f) 단계를 거친 다음 여러 어레이판이 제작된 기판 또는 개별 어레이로 분리된 상태에서 코팅될 수도 있다. 이러한 자성 물질을 코팅시킴으로써, 배열 기준(alignment key)을 잡을 수 있게 되어 정확하게 원하는 물질을 소망하는 위치에 주입할 수 있게 된다.
이상과 같은 본 발명은, 주로 결합 부위를 친수성인 것으로 가정하여 기술하였으나, 생물분자가 주로 소수성을 띄고 있는 분자이면, 결합 부위를 소수성으로 하고 매트릭스 부위를 친수성으로 한 것을 제외하고는 상기 과정과 대응되는 과정을 거쳐 생물분자용 어레이 판을 제조할 수 있다. 상기 소수성을 띄고 있는 분자로는 예를 들면, 세포막 중에 존재하는 단백질이나, 소수성 지질 물질이 커플링된 단백질 등이 포함될 수 있다.
이하 본 발명을 실시예를 통하여 보다 상세하게 설명한다. 그러나, 이들 실시예는 본 발명을 예시적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
실시예
실시예1 : 생물분자용 어레이 판의 제조
(1) 기판 표면에 플루오로화탄소를 코팅시켜 소수성 막의 형성
SiO2막(1.05㎛)이 있는 기판(0.5mm 웨이퍼) 상에 소수성 물질로서 CytopTM(무정형 플루오로화탄소, Asahi Glass Inc., 일본)을 스핀 코팅법을 통하여 코팅하여, 소수성막을 형성하였다. 스핀 코팅 과정은 500rpm에서 10초 동안 실시한 다음, 20총 동안 0rpm에서 유지, 2000rmp에서 20초 동안 실시하였다. 이렇게 얻어진 소수성 막을 100℃에서 1분 동안 소프트 베이킹하고, 120℃에서 10분 동안 하드 베이킹하였다.
그 결과 얻어진 플루오로화탄소(무정형 플루오로화탄소) 중합체 막의 두께는 0.2∼0.3㎛이었다.
이상과 같이 얻어진 플루오로화탄소 막을 포토레지스트의 스핀 코팅을 위하여, Ar 활성화를 행하였다. 활성화는 Ar 100sccm의 유속, 0.24 torr의 압력, RF 전력 100w에서 30초 동안 실시하였다. 또한, 활성화 처리 전과 후의 소수성 막의 소수성 특성을 알아보기 위하여, 각각 소수성 막의 물접촉각, 표면 에너지 및 굴절 계수를 측정하였다. 그 결과를 하기 표1에 나타내었다.
(2) 포토레지스트의 코팅 및 포토레지스트 패터닝
상기에서 활성화된 플루오로화탄소 막 상에 포토레지스트 AZ1512TM(Clariant, 미국)를 스핀 코팅법에 의하여 코팅하였다. 스핀 코팅은 500rpm에서 10초 실시한 다음, 20초 동안 0rpm에서 유지하고, 다음으로 2000rpm에서 20초 동안 실시하였다. 그 후 100℃에서 1분 동안 소프트 베이크하였다.
그 결과 코팅된 포토레지스트의 두께는 약 1.2㎛이었다.
다음으로, 상기에서 코팅된 포토레지스트에 대하여 패터닝을 하였다. 패터닝은 12mW에서 5초 동안 노광시키고, 60초(현상액:H2O = 6:1) 동안 현상한 다음, 120℃에서 2분 동안 하드 베이크하여 실시하였다.
(3) 플루오로화탄소 막의 식각
식각은 반응성 이온 식각법(RIE: reactive ion etching)법을 사용하였다. 식삭은 O2100sccm의 유속, 압력 0.2 torr 및 전압 200W에서 30초 동안 실시하였다.
(4) 포토레지스트의 제거
H2SO4과 H2O2의 혼합용액(H2SO4;H2O2=4;1(v/v))을 에칭제(etchant)로 사용하고, 120℃에서 1분 동안 처리하여 포토레지스트를 제거하였다.
그 결과 소수성 막을 노출시켰다.
(5) 소수성 막의 소수성 특성의 복원
포토레지스트의 제거에 의하여 노출된 소수성 막의 소수성 특성을 복원시키기 위하여 열 처리를 하였다. 열 처리는 150℃에서 5분 동안 가열한 다음, 서서히 냉각시켰다. 다음으로, 소수성 특성을 알아보기 위하여, 각각 소수성 막의 물접촉각, 표면 에너지 및 굴절 계수를 측정하였다. 그 결과를 하기 표1에 나타내었다.
플루오로화탄소 막의 처리단계에 따른 표면 특성의 변화
플루오로화탄소 막의 처리단계 표면 특성
정적 물접촉각(°) 표면 에너지(dynes/cm) 굴절 계수
활성화 전 110 16.7 1.35
활성화 후 50.1 50.1 1.37
열처리 후 105 20.2 1.35
상기 표1에 나타낸 바와 같이, 상기 플루오로화탄소 막은 Ar 활성화 처리 후, 그 소수성 특성을 어느 정도 상실한다. 그런 다음, 본 발명의 열처리 단계를 통하여 그 소수성 특성이 회복됨을 알 수 있었다.
이상과 같은 단계를 거쳐 제조된 생물분자용 어레이 판은, 주로 반도체 제조 공정에 사용되는 공지의 코팅 방법을 이용함으로써 소수성 막의 두께를 일정하게 조절할 수 있었으며, 반도체 제조공정을 많이 활용할 수 있었다. 따라서, 그 제조 수율 및 정밀도를 향상시킬 수 있었다.
실시예2 : 생물분자용 어레이 판의 제조
실시예1의 (1) 플루오로화탄소의 코팅과정에 있어서, 스핀 코팅 대신에 PECVD를 사용한 것을 제외하고는, 실시예1과 동일하게 하여 생물분자용 에레이 판을 제조하였다. 이때 PECVD는 Ar 6sccm 유속, C4F84sccm 유속, 압력 0.6 Torr, 전압 30W, 기판 온도 75℃에서 6분 동안실시하였다.
그 결과 얻어진 플루오로화탄소 막의 두께는 0.2∼0.3㎛이었다.
그 결과 실시예1에서 같이, 열처리 단계에 의하여 소수성 막의 소수성 특성이 회복됨을 알 수 있었다. 또한, 이상과 같은 단계를 거쳐 제조된 생물분자용 어레이 판은, 반도체 제조공정에 주로 알려진 공지의 코팅 방법을 통하여 소수성 막의 두께를 일정하게 조절할 수 있었으며, 반도체 제조공정을 많이 활용할 수 있었다. 따라서, 그 제조 수율 및 정밀도를 향상시킬 수 있었다.
실시예3 : DNA 칩의 제조
상기 실시예1 및 2에서 얻어진 유리 기판 상에 형성된 친수성 영역과 소수성 영역으로 구성된 어레이 판에 상기 생물분자로서 DNA 분자(서열번호 1)를 결합시켜, DNA 칩을 제조하였다.
먼저, 상기 생물분자용 어레이 판의 친수성 결합 부위에, 아미노프로필에톡시실란을 처리하여 아민기를 갖도록 표면처리하였다. 그런 다음, 매트릭스-DNA 콘주게이트 용액을, 표면처리된 결합 부위에 스폿팅하였다. 그 후, 4시간 동안 37℃의 습한 챔버에 방치하였다. 여기서, 상기 매트릭스-DNA 콘주게이트 용액은, 에폭시기를 가진 방사형 PEG와 디아민 크로스링커를 반응시켜 얻은 매트릭스에 올리고뉴클레오티드를 공유결합시켜 제조한 용액이다(대한민국 특허출원 제10-2001-53687호 참조).
그 결과 본 실시예에서 제조된 DNA 칩은, 제조된 96개의 칩 중 90가 양호한 것이었으며, 6개가 불량한 것이었다. 이중 상기 6개의 불량 칩은, 젯팅 시에 사용되는 노즐의 튐이나 막힘에 의한 것으로 칩 자체의 결함에 의한 것은 없었다. 여기에서 "양호"하다는 의미는 DNA 함유 용액이 모두 친수성 결합 부위 영역에 포함되어 코팅되었다는 것을 의미한다. 따라서, 제조 수율이 아주 높았으며, 그 정밀도 역시 아주 높음을 알 수 있었다.
본 발명에 따르면, 반도체 제조 공정을 응용할 수 있게 됨으로써 친수성 영역과 소수성 영역을 포함하고 있는 생물분자용 어레이 판을 효율적으로 생산할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 열 처리 단계를 거침으로써 소수성 영역의 본래의
소수성 특성을 유지할 수 있어, 친수성 영역과 소수성 영역이 보다 확실하게 구별될 수 있는 생물분자용 어레이를 제조할 수 있다.
또한, 본 발명의 생물분자가 부착된 어레이 판의 제조방법에 의하면, 친수성영역과 소수성 영역이 보다 확실하게 구별될 수 있는 어레이를 사용함으로써, 높은 정밀도 및 수율로 생물분자가 부착된 어레이 판을 제조할 수 있다.
<110> SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. <120> A process for producing array plate for a biomolecule comprising a hydrophilic region and a hydrophobic region <160> 1 <170> KopatentIn 1.71 <210> 1 <211> 15 <212> DNA <213> Artificial Sequence <220> <223> Artificial polynucleotide <400> 1 tgaactttgg acttc 15

Claims (17)

  1. (a) 기판 표면에 소수성 물질을 코팅시켜 소수성 막을 형성시키는 단계;
    (b) 코팅된 소수성 막 상에 식각 마스크를 배치시키고 패터닝시키는 단계;
    (c) 패터닝에 의해 노출된 소수성 막을 식각시키는 과정을 수행하여, 친수성의 결합 부위를 형성하는 단계;
    (d) 잔류하는 식각 마스크를 제거하는 단계; 및
    (e) 소수성 막의 소수성을 복원시키는 단계를 포함하는 생물분자용 어레이 판의 제조방법으로서,
    상기 소수성 물질은 폴리테트라플루오로에틸렌, 플루오로화 폴리이미드, 플루오르화 폴리아크릴레이트 및 플루오르화 폴리에테르와 같은 플루오르화 탄소 중합체; 폴리스티렌, 폴리에틸렌 및 그 유도체, 및 폴리노르보넨 및 그 유도체와 같은 탄화수소 중합체; 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)와 같은 폴리에스테르; 및 DLC (다이몬드 유사 탄소)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, (a) 단계에서 소수성 막을 형성시키기 전에, 기판 표면에 친수성의 산화막을 자연적으로 형성시키거나 혹은 인위적으로 기판 표면에 친수성 막을 코팅시키는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 기판은 유리, 석영, 실리콘, 세라믹, 플라스틱 또는 금속인 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서, 소수성 물질의 코팅은 스핀 코팅, PECVD, SAM, 증발 및 침지법으로 구성된 그룹에서 선택되는 방법에 의하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제2항에 있어서, 상기 친수성 막은 SiO2, Al2O3, SiON, 알루미늄 나이트라이드, PMMA(폴리메틸메타크릴레이트), PMA(폴리메틸아크릴레이트), PVA(폴리비닐알콜), 폴리히드록시스티렌, 폴리아세토니트릴, 폴리아크릴산 또는 폴리테트라히드로퓨란의 물질로 이루어진 막인 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제2항에 있어서, 친수성 물질의 코팅은, 스핀 코팅, 열적 습식 산화, 열적 건식 산화 및 PECVD 방법으로 구성된 그룹에서 선택되는 방법에 의하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 식각 마스크는 감광성 폴리머, 메탈 하드 마스크,SiO2, 폴리실리콘 또는 실리콘 나이트라이드를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 감광성 폴리머는 포토레지스트인 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제1항에 있어서, (c) 단계에서의 식각과정은 건식 식각 또는 습식 식각에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제1항에 있어서, (e) 단계에서의 복원은 100~200℃의 온도에서 1~30분간 가열하므로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제1항에 있어서, 친수성 결합 부위의 표면을 표면처리하고, 생물분자를 함유하고 있는 용액을 주입하는 단계((f) 단계)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 생물분자는 핵산, 단백질, 효소 기질, 보조인자 또는 올리고당인 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제13항에 있어서, 상기 생물분자를 함유하는 용액은 젯팅, 스폿팅 또는 침지 방식으로 주입하는 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제13항에 있어서, 상기 생물분자는 공유 또는 비공유 결합에 의해 친수성 결합 부위의 표면과 화학반응하는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제13항에 있어서, (f) 단계에서, 표면은 아민기를 갖도록 처리하고, 상기 생물분자를 함유하는 용액은 에폭시기를 가진 방사형 PEG와 저분자의 친수성 폴리머를 반응시켜 얻은 매트릭스에, 생물분자를 공유결합시켜 제조한 매트릭스-생물분자 콘쥬게이트인 것을 특징으로 하는 방법.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100834745B1 (ko) 2006-12-20 2008-06-09 삼성전자주식회사 분석 친화적 레이아웃에 기반한 올리고머 프로브 어레이칩, 이의 제조에 사용되는 마스크 및 이의 혼성화 분석방법
KR100903969B1 (ko) 2007-06-12 2009-06-25 삼성전자주식회사 마이크로 어레이, 마이크로 어레이용 기판 및 이들의 제조방법
CN103055982A (zh) * 2012-12-31 2013-04-24 苏州汶颢芯片科技有限公司 一种微滴流动可控的微流控芯片及其制备方法
KR101368998B1 (ko) * 2012-08-07 2014-03-06 삼성테크윈 주식회사 표면 처리를 통한 회로 기판에서의 선택적 절연성 물질 충진 방법
US11318462B2 (en) 2019-01-29 2022-05-03 Illumina, Inc. Flow cells with a hydrophobic barrier

Families Citing this family (88)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040152083A1 (en) * 2003-01-31 2004-08-05 Leproust Eric M. Multiple arrays with surface energy transition to maintain separation of samples on the arrays
JP4505287B2 (ja) * 2003-08-27 2010-07-21 パナソニック株式会社 マイクロチップ並びにその製造方法及びそれを用いた検査方法
US20050064482A1 (en) * 2003-08-27 2005-03-24 Norihisa Mino Microchip, process of manufacturing the same, and analytical method using the same
JP3949118B2 (ja) * 2004-03-12 2007-07-25 ジーエルサイエンス株式会社 マイクロチップ
EP1720015A1 (en) * 2004-03-17 2006-11-08 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Process for producing biochip, probe solution, and biochip
US20050233366A1 (en) * 2004-04-16 2005-10-20 Norihisa Mino Sample-analyzing device and process for manufacturing the same
FR2871150B1 (fr) * 2004-06-04 2006-09-22 Univ Lille Sciences Tech Dispositif de manipulation de gouttes destine a l'analyse biochimique, procede de fabrication du dispositif, et systeme d'analyse microfluidique
SE0403139D0 (sv) * 2004-12-23 2004-12-23 Nanoxis Ab Device and use thereof
KR100667298B1 (ko) * 2005-01-10 2007-01-12 삼성전자주식회사 생분자 칩 및 그의 제조 방법
US7619215B2 (en) 2005-02-07 2009-11-17 Yangsun Kim Sample plate for MALDI mass spectrometry and process for manufacture of the same
KR100544860B1 (ko) * 2005-02-07 2006-01-24 (주)프로테오니크 시료 플레이트 및 이의 제조방법
GB2465906A (en) * 2005-08-17 2010-06-09 Waters Investments Ltd Device for performing ionization desorption
JP4755871B2 (ja) * 2005-09-16 2011-08-24 株式会社山武 バイオチップ用基板及びバイオチップの製造方法
JP4760834B2 (ja) 2006-01-10 2011-08-31 株式会社村田製作所 プローブアレイ基体及びその製造方法、プローブアレイの製造方法
US20070161119A1 (en) * 2006-01-12 2007-07-12 Peck Bill J Methods for fabricating chemical arrays
CN100424186C (zh) * 2006-02-28 2008-10-08 宋家武 一种高灵敏度生物传感器基因芯片及临床诊断技术
DE502006003875D1 (de) * 2006-03-07 2009-07-16 Micronas Holding Gmbh Trägeroberfläche mit hydrophoben und hydrophilen Regionen
CN1858593B (zh) * 2006-03-23 2010-04-21 厦门大学 生物芯片专用亲疏水模式片基
US8241539B2 (en) 2006-04-25 2012-08-14 National University Of Singapore Method of patterning and product(s) obtained therefrom
KR100745990B1 (ko) * 2006-07-17 2007-08-06 삼성전자주식회사 마이크로 어레이의 제조 방법
ES2291124B1 (es) * 2006-07-28 2008-12-16 Universidad Del Pais Vasco Procedimiento para el tratamiento de superficies de soportes solidos.
DE102006051482A1 (de) * 2006-07-31 2008-02-14 Nikolaus Bartels Anordnung zum Erfassen von Substanzen, Herstellung der Anordnung und ihre Verwendung
KR100755672B1 (ko) * 2006-08-24 2007-09-05 삼성전자주식회사 기판 내에 형성된 프로브 셀 액티브를 포함하는 올리고머프로브 어레이 및 그 제조 방법
ATE496988T1 (de) 2006-10-12 2011-02-15 Massachusetts Inst Technology Multi-well-mikromusterung durch ablation
US9874501B2 (en) 2006-11-24 2018-01-23 Curiox Biosystems Pte Ltd. Use of chemically patterned substrate for liquid handling, chemical and biological reactions
WO2008063135A1 (en) * 2006-11-24 2008-05-29 Agency For Science, Technology And Research Apparatus for processing a sample in a liquid droplet and method of using the same
JP4904559B2 (ja) * 2007-01-11 2012-03-28 大学共同利用機関法人情報・システム研究機構 コーティング基板の製造方法、前記方法により製造されるコーティング基板、および、その用途
KR100819006B1 (ko) * 2007-02-13 2008-04-03 삼성전자주식회사 마이크로 어레이용 마스크 세트, 이의 제조 방법, 및마스크 세트를 이용한 마이크로 어레이의 제조 방법
US20110105366A1 (en) 2007-06-18 2011-05-05 Illumina, Inc. Microfabrication methods for the optimal patterning of substrates
GR1006042B (el) * 2007-06-20 2008-09-03 Εθνικο Κεντρο Ερευνας Φυσικων Επιστημων (Ε.Κ.Ε.Φ.Ε.)-Δημοκριτος Μεθοδος για την κατασκευη μικροσυστοιχιας
KR100858722B1 (ko) * 2007-08-16 2008-09-17 한국생산기술연구원 소수성 박막의 잉크젯 패터닝방법
KR100891097B1 (ko) * 2007-08-27 2009-03-31 삼성전자주식회사 바이오칩 및 그 제조 방법
WO2013114217A1 (en) 2012-02-05 2013-08-08 Curiox Biosystems Pte Ltd. Array plates and methods for making and using same
US10725020B2 (en) 2007-11-14 2020-07-28 Curiox Biosystems Pte Ltd. High throughput miniaturized assay system and methods
WO2009066503A1 (ja) 2007-11-22 2009-05-28 Murata Manufacturing Co., Ltd. プローブアレイ用基体およびその製造方法ならびにプローブアレイおよびその製造方法
KR100961282B1 (ko) * 2008-03-14 2010-06-03 포항공과대학교 산학협력단 친수성 표면과 소수성 표면을 갖는 멤브레인의 제조방법
AU2009228012A1 (en) * 2008-03-27 2009-10-01 President And Fellows Of Harvard College Paper-based microfluidic systems
FR2929864B1 (fr) * 2008-04-09 2020-02-07 Commissariat A L'energie Atomique Auto-assemblage de puces sur un substrat
KR101042106B1 (ko) * 2008-11-06 2011-06-16 서울대학교산학협력단 액적 충돌을 이용한 마이크로액체 패터닝 방법
US8784673B2 (en) * 2008-11-14 2014-07-22 Northeastern University Highly organized single-walled carbon nanotube networks and method of making using template guided fluidic assembly
EP2380022B1 (en) * 2008-12-11 2017-04-05 Koninklijke Philips N.V. Sensing device for detecting target elements in a fluid
KR101144064B1 (ko) * 2009-12-09 2012-05-23 (주)유 바이오메드 마이크로어레이 칩 및 그의 제조방법
DE102009059112A1 (de) * 2009-12-18 2011-06-22 Biotype Diagnostic GmbH, 01109 Eine Vorrichtung zur Bestimmung molekularer Wechselwirkungen, sowie eine Folie zur Herstellung einer solchen
KR101347854B1 (ko) * 2010-02-19 2014-01-07 한국과학기술원 표면에너지 차이를 이용한 바이오칩 제작방법
JP5593736B2 (ja) 2010-03-02 2014-09-24 セイコーエプソン株式会社 造形方法及び造形装置
US9878328B2 (en) 2010-07-23 2018-01-30 Curiox Biosystems Pte Ltd. Apparatus and method for multiple reactions in small volumes
KR101324199B1 (ko) * 2010-09-16 2013-11-06 한국과학기술원 혼합된 자기조립 단분자 막을 이용한 단백질 결합 방법 및 그 방법을 이용한 단백질 칩
JP5757515B2 (ja) * 2010-10-15 2015-07-29 学校法人立命館 撥水層を有する液滴保持ツールの製造方法
JP5548925B2 (ja) * 2010-10-15 2014-07-16 学校法人立命館 液滴保持ツールの製造方法
PT105960A (pt) * 2010-12-07 2012-08-16 Ass For The Advancement Of Tissue Engineering Cell Based Technologies And Therapies A4Tec Associacao Processo para deposição de biomateriais em substratos repelentes a água e resultantes biomateriais
US20120156767A1 (en) * 2010-12-17 2012-06-21 Stmicroelectronics S.R.L. Pcr device
EP3270141B1 (en) 2011-03-08 2020-05-20 Universite Laval Fluidic centripetal device
CN102399290B (zh) * 2011-11-04 2014-02-26 上海交通大学 一种在固体表面固定蛋白质的方法
KR101925344B1 (ko) * 2012-05-10 2018-12-05 리쿠아비스타 비.브이. 전기 습윤 표시장치
KR101977413B1 (ko) * 2012-06-14 2019-05-10 리쿠아비스타 비.브이. 전기 습윤 표시 장치 및 이의 제조 방법
CN102748987A (zh) * 2012-07-11 2012-10-24 北京工业大学 一种提高排水性能的换热器翅片
EP2684601B1 (en) * 2012-07-13 2019-11-20 Karlsruher Institut für Technologie Formation of droplet or hydrogel arrays using hydrophilic-hydrophobic patterned surfaces for high-throughput screening applications
KR101589203B1 (ko) * 2013-04-25 2016-01-28 한국과학기술원 초소수성 영역과 친수성 영역을 가지는 표면체의 제조방법 및 제조장치
US9557318B2 (en) 2013-07-09 2017-01-31 Curiox Biosystems Pte Ltd. Array plates for washing samples
CN104338333A (zh) * 2014-05-28 2015-02-11 中国科学院力学研究所 一种空间水基液滴定位基片及其制备方法
CN104357917A (zh) * 2014-09-24 2015-02-18 中国科学院天津工业生物技术研究所 一种用于微阵列生物芯片的载体、其制备方法及微阵列生物芯片
US10545139B2 (en) 2015-06-16 2020-01-28 Curiox Biosystems Pte Ltd. Methods and devices for performing biological assays using magnetic components
USD799715S1 (en) 2015-10-23 2017-10-10 Gene POC, Inc. Fluidic centripetal device
US10900076B2 (en) 2016-05-18 2021-01-26 Illumina, Inc. Self assembled patterning using patterned hydrophobic surfaces
US9872399B1 (en) * 2016-07-22 2018-01-16 International Business Machines Corporation Implementing backdrilling elimination utilizing anti-electroplate coating
WO2018131731A1 (ko) * 2017-01-12 2018-07-19 한밭대학교 산학협력단 액상 시료를 나노 단위로 분배하는 기구
FR3063832B1 (fr) * 2017-03-08 2019-03-22 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Procede d'auto-assemblage de composants microelectroniques
WO2018185554A1 (en) 2017-04-05 2018-10-11 Curiox Biosystems Pte Ltd. Methods, devices, and apparatus for washing samples on array plates
EP3415230A1 (en) * 2017-06-16 2018-12-19 Danmarks Tekniske Universitet Regulation of droplet size on an element post fabrication
CN107195764A (zh) * 2017-06-27 2017-09-22 常州瑞丰特科技有限公司 匀光装置及其制备方法
CN108660068B (zh) * 2018-02-13 2022-04-05 臻准生物工程(山西)有限公司 生物反应芯片及其制备方法
WO2020147013A1 (zh) 2019-01-15 2020-07-23 京东方科技集团股份有限公司 检测芯片及其制备方法、检测系统
CN109759151A (zh) * 2019-01-30 2019-05-17 浙江工业大学 一种基于条状的梯度阵列与楔形流道构成的自驱动纸基微流控芯片
JP7228129B2 (ja) * 2019-03-28 2023-02-24 株式会社豊田中央研究所 レーザー脱離／イオン化質量分析用の有機シリカ基板、及び、それを用いたレーザー脱離／イオン化質量分析法
CN112020551B (zh) 2019-03-29 2022-11-25 京东方科技集团股份有限公司 检测芯片及其使用方法、反应系统
CN112386399B (zh) * 2019-08-12 2023-05-09 湖南早晨纳米机器人有限公司 一种纳米手术机器人以及制作方法
CN111266142A (zh) * 2020-03-19 2020-06-12 京东方科技集团股份有限公司 一种检测芯片、其修饰方法及反应系统
CN114153013A (zh) * 2020-09-07 2022-03-08 合肥工业大学 一种微透镜阵列的制备方法及微透镜阵列
AU2022232933A1 (en) 2021-03-11 2023-09-07 Nautilus Subsidiary, Inc. Systems and methods for biomolecule retention
CN113385393B (zh) * 2021-05-31 2022-12-27 中物院成都科学技术发展中心 一种仿沙漠甲虫结构复合材料及其制备方法
KR20230000037A (ko) * 2021-06-23 2023-01-02 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그의 제조 방법
CN113655053A (zh) * 2021-08-09 2021-11-16 立讯电子科技（昆山）有限公司 一种比色杯及其制备方法
CN113716876B (zh) * 2021-09-01 2022-08-02 电子科技大学 一种具有调控玻璃模糊度的智能玻璃制备方法
CN113713868B (zh) * 2021-09-13 2023-05-12 北京京东方技术开发有限公司 一种微流控制芯片及其制作方法
CN114308158A (zh) * 2021-12-30 2022-04-12 广东昭宇生物科技有限公司 一种具备菌群平衡与修复功能的生物酶芯片的制备方法
CN114460135A (zh) * 2022-01-10 2022-05-10 成都齐碳科技有限公司 成膜支架、生物芯片、装置、制备方法及其应用
WO2023244832A1 (en) * 2022-06-17 2023-12-21 Saudi Arabian Oil Company Manufacturing mixed wettability surfaces
CN116377759B (zh) * 2023-03-23 2023-12-08 因达孚先进材料(苏州)股份有限公司 一种燃料电池用亲水-疏水碳纸的制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4954218A (en) * 1988-09-08 1990-09-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for etching a pattern
US6130098A (en) * 1995-09-15 2000-10-10 The Regents Of The University Of Michigan Moving microdroplets
US6210894B1 (en) * 1991-09-04 2001-04-03 Protogene Laboratories, Inc. Method and apparatus for conducting an array of chemical reactions on a support surface
KR20010096293A (ko) * 2000-04-18 2001-11-07 윤종용 소수성화 처리를 이용한 선택적 원자층 증착막 형성방법
KR20030023192A (ko) * 2001-09-12 2003-03-19 학교법인 포항공과대학교 저에너지 전자빔을 이용하는 고정밀 패턴 형성 방법

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6026432B2 (ja) * 1977-11-24 1985-06-24 三井東圧化学株式会社 塗料組成物
US5079600A (en) * 1987-03-06 1992-01-07 Schnur Joel M High resolution patterning on solid substrates
US5063081A (en) * 1988-11-14 1991-11-05 I-Stat Corporation Method of manufacturing a plurality of uniform microfabricated sensing devices having an immobilized ligand receptor
US6589726B1 (en) * 1991-09-04 2003-07-08 Metrigen, Inc. Method and apparatus for in situ synthesis on a solid support
US6121048A (en) * 1994-10-18 2000-09-19 Zaffaroni; Alejandro C. Method of conducting a plurality of reactions
US5688642A (en) * 1994-12-01 1997-11-18 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Selective attachment of nucleic acid molecules to patterned self-assembled surfaces
US5702754A (en) * 1995-02-22 1997-12-30 Meadox Medicals, Inc. Method of providing a substrate with a hydrophilic coating and substrates, particularly medical devices, provided with such coatings
US6207369B1 (en) * 1995-03-10 2001-03-27 Meso Scale Technologies, Llc Multi-array, multi-specific electrochemiluminescence testing
CA2260807C (en) 1996-07-18 2006-03-28 Basf Aktiengesellschaft Solid supports for analytical measuring processes, a process for their preparation, and their use
DE19628928A1 (de) * 1996-07-18 1998-01-22 Basf Ag Feste Träger für analytische Meßverfahren, ein Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung
US5958345A (en) * 1997-03-14 1999-09-28 Moxtek, Inc. Thin film sample support
US6008892A (en) * 1997-05-23 1999-12-28 Molecular Dynamics, Inc. Optical substrate for enhanced detectability of fluorescence
CA2244414A1 (en) * 1997-08-01 1999-02-01 Canon Kabushiki Kaisha Reaction site array, preparation process of it, reaction process using it and quantitative determination method of substance in sample solution using it
JP4313861B2 (ja) * 1997-08-01 2009-08-12 キヤノン株式会社 プローブアレイの製造方法
DE19754978C2 (de) * 1997-12-11 2000-07-13 Bruker Daltonik Gmbh Probenträger für die MALDI-Massenspektrometrie nebst Verfahren zur Herstellung der Platten und zum Aufbringen der Proben
CN1109109C (zh) * 1999-09-20 2003-05-21 中国科学院力学研究所 多元蛋白芯片及其制法和用途
CN100478292C (zh) * 2000-06-20 2009-04-15 日挥触媒化成株式会社 无机化合物颗粒及其制备方法
JP3632837B2 (ja) * 2000-10-31 2005-03-23 住友ベークライト株式会社 金属ベースメラミン樹脂化粧板
US6833542B2 (en) * 2000-11-13 2004-12-21 Genoptix, Inc. Method for sorting particles
CN1156700C (zh) * 2001-10-30 2004-07-07 东南大学 在线单生物分子检测芯片的制作方法
US7007710B2 (en) * 2003-04-21 2006-03-07 Predicant Biosciences, Inc. Microfluidic devices and methods

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4954218A (en) * 1988-09-08 1990-09-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for etching a pattern
US6210894B1 (en) * 1991-09-04 2001-04-03 Protogene Laboratories, Inc. Method and apparatus for conducting an array of chemical reactions on a support surface
US6130098A (en) * 1995-09-15 2000-10-10 The Regents Of The University Of Michigan Moving microdroplets
KR20010096293A (ko) * 2000-04-18 2001-11-07 윤종용 소수성화 처리를 이용한 선택적 원자층 증착막 형성방법
KR20030023192A (ko) * 2001-09-12 2003-03-19 학교법인 포항공과대학교 저에너지 전자빔을 이용하는 고정밀 패턴 형성 방법

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100834745B1 (ko) 2006-12-20 2008-06-09 삼성전자주식회사 분석 친화적 레이아웃에 기반한 올리고머 프로브 어레이칩, 이의 제조에 사용되는 마스크 및 이의 혼성화 분석방법
KR100903969B1 (ko) 2007-06-12 2009-06-25 삼성전자주식회사 마이크로 어레이, 마이크로 어레이용 기판 및 이들의 제조방법
KR101368998B1 (ko) * 2012-08-07 2014-03-06 삼성테크윈 주식회사 표면 처리를 통한 회로 기판에서의 선택적 절연성 물질 충진 방법
CN103055982A (zh) * 2012-12-31 2013-04-24 苏州汶颢芯片科技有限公司 一种微滴流动可控的微流控芯片及其制备方法
US11318462B2 (en) 2019-01-29 2022-05-03 Illumina, Inc. Flow cells with a hydrophobic barrier
US11819843B2 (en) 2019-01-29 2023-11-21 Illumina, Inc. Flow cells with a hydrophobic barrier

Also Published As

Publication number Publication date
EP1364702A3 (en) 2004-05-06
JP2004004076A (ja) 2004-01-08
EP1364702A2 (en) 2003-11-26
CN1313623C (zh) 2007-05-02
US7794799B1 (en) 2010-09-14
KR20030088782A (ko) 2003-11-20
JP3828878B2 (ja) 2006-10-04
CN1460723A (zh) 2003-12-10

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