KR100311198B1 - 탁산유도체의제조방법 - Google Patents

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Abstract

일반식 (VII)의 산을 사용하여 보호된 박카틴 III 또는 10-데아세틸박카틴 III을 에스테르화시키고, 얻은 에스테르의 보호기를 제거하고, 측쇄의 아민 관능기를 아실화시킴으로써 일반식(I)의 탁산 유도체를 제조하는 방법. 일반식(I) 및 (VII)에서 : Ar 은 아릴을 나타내고, R 은 수소 또는 아세틸이고, R1 은 벤조일 또는 R2-O-CO- (식에서, R2 는 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬,시클로알케닐, 비시클르알킬. 페닐 또는 헤테로시클릴이다)이고, R3 및 R4 는 같거나 다를 수 있으며, 수소, 알킬, 알케닐, 아르알킬, 아릴 또는 알콕시를 나타내고, R5는 하나 이상의 염소원자로 치환된 알킬 라디칼이다. (2,2,2-트리클로로에틸, (2-트리클로로메틸이소프로필).

Description

탁산 유도체의 제조 방법
본 발명은 주목할 만한 항백혈병 및 항종양 성질을 가진 하기 일반식의 탁산 유도체를 제조하는 신규 방법에 관한 것이다:
일반식(I)에서.
R은 수소 원자 또는 아세틸 라디칼을 나타내고, R1은 벤조일 라디칼 또는 R2-O-CO- 라디칼을 나타내는데 이때 R2는 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 비시클로알킬, 페닐 또는 질소함유 헤테로시클 라디칼을 나타내고, Ar은 아릴 라디칼을 나타낸다.
보다 특별히, R은 수소 원자 또는 아세틸 라디칼을 나타내고 R1은 벤조일 라디칼 또는 R2-O-CO- 라디칼을 나타내는데 이때 R2는:
- 분지되거나 분지되지 않은 C1-8 알킬 라디칼, C2-8 알케닐 라디칼, C3-8 알키닐 라디칼, C3-6 시클로알킬 라디칼, C4-6 시클로알케닐 라디칼 또는 C7-10 비시 클로알킬 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼들은 할로겐 원자 및 히드록실 라디칼, C1-4 알킬옥시 라디칼, 각 알킬 부분이 1-4개 탄소원자를 함유한 디알킬아미노 라디칼, 피페리디노 또는 몰포리노 라디칼, 1-피페라지닐 라디칼 (C1-4 알킬 라디칼, 또는 알킬 부분이 1-4개 탄소 원자를 함유한 페닐알킬 라디칼로 4 위치에서 치환되거나 치환되지 않음), C3-6 시클로알킬 라디칼, C4-6 시클로알케길 라디칼, 페닐, 시아노 또는 카르복실 라디칼 또는 알킬부분이 1-4개 탄소원자를 함유한 알킬옥시카르보닐 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환되거나 치환되지 않았고,
- 또는 R2는 하나 이상의 원자 또는 C1-4 알킬 라디칼 또는 C1-4 알킬옥시 라디칼로부터 선택된 라디칼로 치환되거나 치환되지 않은 페닐 라디칼을 나타내고, - 또는 R2는 하나 이상의 C1-4 알킬 라디칼로 치환되거나 치환되지 않은 포화 또는 불포화 5- 또는 6- 원 질소함유 헤테로시클릭 라디칼을 나타내고, 상기 시클로알킬, 시클로알케닐 또는 비시클로알킬 라디칼은 하나 이상의 C1-4 알킬 라디칼로 치환되거나 치환되지 않았고,
Ar은 할로겐 (불소, 염소, 브롬, 요오드) 원자 및 알킬, 알케닐, 알키닐, 아릴, 아릴알킬, 알콕시, 알킬티오, 아릴옥시, 아릴티오, 히드록실, 히드록시알킬,메르캅토, 포르밀, 아실, 아실아미노, 아로일아미노, 알콕시카르보닐아미노, 아미노, 알킬아미노, 디알킬아미노, 카르복실, 알콕시카르보닐, 카르바모일, 디알킬카르바모일, 시아노 및 트리플루오로메틸 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 원자 또는 라디칼로 치환되거나 치환되지 않은 페닐 또는 α- 또는 β- 나프틸 라디칼을 나타내고, 상기 알킬 라디칼 및 다른 라디칼의 알킬 부분은 1-4개 탄소 원자를 함유하고, 알케닐 및 알키닐 라디칼은 3-8개 탄소 원자를 함유하고 아릴 라디칼은 페닐 또는 α- 또는 β- 나프틸 라디칼이다.
일반식(I)에서 R이 수소 원자 또는 아세틸 라디칼을 나타내고, R1이 벤조일 또는 t-부톡시카르보닐아미노 라디칼을 나타내고 Ar이 페닐 라디칼을 나타내는 생성물이 특히 매우 중요하다.
R1이 벤조일 라디칼을 나타내는 일반식(I)의 생성물은 탁솔 및 10-데아세틸 탁솔에 해당하고, R1이 t-부톡시카르보닐 라디칼을 나타내는 일반식(I)의 생성물은 유럽 특허 0,253,738의 주제를 형성하는 생성물에 해당한다.
국제 출원 PCT WO 92/09,589에 서술된 방법에 따르면, 일반식(I)의 유도체는 하기에 의해 얻을 수 있다:
하기 일반식의 옥사졸리딘 유도체:
(식에서 Ar은 상기 정의한 바와 같고, Boc는 t-부톡시카르보닐 라디칼을 나타내고 R2' 및 R3'은 같거나 다를 수 있고, 하나 이상의 아릴 라디칼로 치환되거나 치환되지 않은 C1-4 알킬 라디칼, 또는 아릴 라디칼을 나타내거나, 또는 대안으로 R'2 및 R'3은 그들이 연결된 탄소 원자와 함께 4- 내지 7-원 고리를 형성한다)와 하기 일반식의 보호된 10-데아세틸박카틴 III 또는 박카틴 III:
(식에서 G1은 히드록실 관능성 보호기를 나타내고 G2는 아세틸 라디칼 또는 히드록실 관능성 보호기를 나타낸다)을 축합하여 하기 일반식의 생성물을 얻고,
(식에서 Ar, R2', R3', G1, G2 및 Boc는 상기 정의된 바와 같다),
- 일반식 (IV)의 생성물을 G1 및 G2에 아무런 영향을 미치지 않는 조건 하에 산 매질내에서 처리하여 하기 일반식의 생성물을 얻고:
(식에서 Ar, C1 및 G2는 상기 정의한 바와 같다).
- 일반식(V)의 생성물을 벤조일 라디칼 또는 R2-O-CO- 라디칼을 도입하는데 적합한 시약으로 처리하여 하기 일반식의 생성물을 얻고:
(식에서 Ar, R1, G1 및 G2는 상기 정의한 바와 같다),
- 일반식(VI) 생성물의 보호기 G1 및 G2를 수소 원자로 치환하여 일반식(I)의 생성물을 얻는다.
이제 일반식(I)의 생성물을 하기에 의해 얻을 수 있음이 밝혀졌고, 이는 본 발명의 주제를 형성한다:
1) 일반식(III)에서 G1 및 G2가 히드록실 관능성 보호기, 바람직하게 트리알킬실릴, 디알킬아릴실릴, 알킬디아릴실릴 또는 트리아릴실릴 라디칼 및 보다 훨씬 특별히 R5-O-CO- 라디칼 (R5는 하기에 정의된다)을 나타내고 또한 G2가 아세틸도나타낼 수 있는 박카틴 III 또는 10-데아세틸박카틴 III을 하기 일반식의 산:
(식에서 Ar은 상기 정의한 바와 같고, R3 및 R4는 같거나 다를 수 있고, 수소 원자 또는 C1-4 알킬 라디칼 또는 C2-4 알케닐 라디칼, 또는 알킬 부분이 1-4개 탄소 원자를 포함하고, 아릴 부분이 바람직하게 하나 이상의 C1-4 알콕시 라디칼로 치환되거나 치환되지 않은 페닐 라디칼을 나타내는 아르알킬 라디칼, 또는 바람직하게 하나 이상의 C1-4 알콕시 라디칼로 치환되거나 치환되지 않은 페닐 라디칼을 나타내는 아릴 라디칼을 나타내거나, 또는 대안으로 R3 및 R4는 그들이 연결된 탄소 원자와 함께 4- 내지 7-원 고리를 형성하고, R5는 하나 이상의 염소 원자가 치환된 C1-4 알킬 라디칼을 나타낸다)에 의해 에스테르화하여 하기 일반식의 생성물을 얻고:
(식에서 Ar, R3, R4, R5, G1 및 G2는 상기 정의한 바와 같다),
2) 얻어진 일반식(VIII) 생성물의 히드록실 및 아미노 관능성 보호기를 수소원자로 치환하여 하기 일반식의 생성물을 얻고:
(식에서 Ar 및 R은 상기 정의한 바와 같다),
3) 얻어진 일반식(IX) 생성물을 아미노 관능기 상에 R1 치환체를 도입시킬 수 있는 시약으로 처리하여 일반식(I)의 생성물을 얻는다.
본 발명에 따르면, 일반식(III)의 보호된 10-데아세틸박카틴 III 또는 박카틴(III)을, R5가 2,2,2-트리클로로에틸 또는 2-(트리클로로메틸)이소프로필 라디칼을 나타내는 일반식(VII)의 산을 사용한 에스테르화는 -10 내지 90℃ 온도에서, 테트라히드로퓨란, 디이소프로필 에테르, 메틸 t-부틸 에테르 또는 디옥산과 같은 에테르, 메틸 이소부틸 케톤과 같은 케톤, 에틸 아세테이트, 이소프로필 아세테이트 또는 n-부틸 아세테이트와 같은 에스테르, 아세토니트릴과 같은 니트릴, 펜탄, 헥산 또는 헵탄과 같은 지방족 탄화수소, 디클로로메탄 또는 1,2-디클로로에탄과 같은 할로겐화 지방족 탄화수소 또는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 이소프로필벤젠 또는 클로로벤젠과 같은 방향족 탄화수소로부터 선택된 유기 용매내에서, 축합제, 예를 들면 디시클로헥실 카르보디이미드와 같은 디이미드 또는 디-2-피리딜 카르보네이트와 같은 반응성 카르보네이트, 및 활성화제, 예를 들면, 4-(디메틸아미노)피리딘 또는 4-피롤리디노피리딘과 같은 아미노피리딘의 존재하에 수행할 수 있다. 약 20℃ 온도에서 방향족 탄화수소내에서 에스테르화를 수행하는 것이 특별히 유리하다.
에스테르화는 또한 0-90℃ 온도에서, 테트라히드로퓨란, 디이소프로필 에테르, 메틸 t-부틸 에테르 또는 디옥산과 같은 에테르, 메틸 이소부틸 케톤과 같은 케톤, 에틸 아세테이트, 이소프로필 아세테이트 또는 n-부틸 아세테이트와 같은 에스테르, 아세토니트릴과 같은 니트릴, 펜탄, 헥산 또는 헵탄과 같은 지방족 탄화수소, 디클로로메탄 또는 1,2-디클로로에탄과 같은 할로겐화 탄화수소 또는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 이소프로필벤젠 또는 클로로벤젠과 같은 방향족 탄화수소로부터 선택된 유기 용매내에서 활성화제, 예를 들면 4-(디메틸아미노)피리딘 또는 4-피롤리디노피리딘과 같은 아미노피리딘의 존재하에, 하기 일반식의 무수물 형태:
(식에서 Ar, R3, R4 및 R5는 상기 정의한 바와 같고, R5는 바람직하게 2,2,2-트리클로로에틸 또는 2-(트리클로로메틸)이소프로필 라디칼을 나타낸다)의 일반식(VII)의 산을 사용하여 수행할 수 있다.
에스테르화는 또한 10 내지 80℃ 및 바람직하게 약 20℃ 온도에서, 테트라 히드로퓨란, 디이소프로필 에테르, 메틸 t-부틸 에테르 또는 디옥산과 같은 에테르, 케톤, 에틸 아세테이트, 이소프로필 아세테이트 또는 n-부틸 아세테이트와 같은 에스테르, 아세토니트릴과 같은 니트릴, 펜탄, 헥산 또는 헵탄과 같은 지방족 탄화수소, 디클로로메탄 또는 1,2-디클로로에탄과 같은 할로겐화 지방족 탄화수소 또는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 이소프로필벤젠 또는 클로로벤젠과 같은 방향족 탄화수소로부터 선택된 불활성 유기 용매내에서 바람직하게 질소함유 유기 염기인 염기, 예를들면 트리에틸아민, 피리딘과 같은 3차 지방족 아민, 4-(디메틸아미노)피리딘 또는 4-피롤리디노피리딘과 같은 아미노피리딘의 존재하에, 하기 일반식의 혼합 무수물 형태:
(식에서 Ar, R3, R4 및 R5는 상기 정의한 바와 같고 R5는 바람직하게 2,2,2-트리 클로로에틸 또는 2-(트리클로로메틸)이소프로필 라디칼을 나타내고 X는 할로겐 원자 또는 아실옥시 또는 아로일옥시 라디칼을 나타낸다)이거나 또는 할라이드 형태인 일반식(VII)의 산을 사용하여 수행할 수 있다. 일반식(XI)의 화합물은 동일반응계내에서(in situ) 제조될 수 있다.
일반식(XI)의 X가 할로겐 원자 또는 C1-5 아실옥시 라디칼 또는 아릴 부분이 할로겐(염소, 브롬) 원자 및 니트로, 메틸 또는 메톡시 라디칼로부터 선택된 1-5개의 같거나 다른 원자 또는 라디칼로 치환되거나 치환되지 않은 페닐 라디칼인 아로일옥시 라디칼을 나타내는 활성 유도체를 사용하는 것이 바람직하다.
R5가 바람직하게 2,2,2-트리클로로에틸 또는 2-(2-트리클로로메틸프로필) 라디칼을 나타내고, G1 및 G2가 히드록실 관능성 보호기, 바람직하게 2,2,2-트리 클로로에톡시카르보닐 또는 2-(2-트리블로로메틸프로폭시) 카르보닐 라디칼을 나타내고 또한 G2가 아세틸도 나타낼 수 있는 일반식(VIII)의 생성물의 히드록실 및 아미노 관능성 보호기의 수소 원자로의 치환은 일반적으로 30 내지 60℃ 온도에서 아세트산의 존재하에, 구리의 존·부재하에서 아연을 사용하여 처리하거나, 또는 구리의 존·부재하에서 아연의 존재하에, 1-3개 탄소 원자를 함유한 지방족 알콜 내 또는 지방족 에스테르 예를 들면, 에틸 아세테이트, 이소프로필 아세테이트 또는 n-부틸 아세테이트 내 용해된 아세트산 또는 염산과 같은 유기산 또는 무기산을 사용하여 수행된다.
R5가 바람직하게 2,2,2-트리클로로에틸 또는 2-(2-트리클로로메틸프로필) 라디칼을 나타내고, G1 및 G2가 히드록실 관능성 보호기, 바람직하게 트리알킬실릴, 디알킬아릴실릴, 알킬디아릴실릴 또는 트리아릴실릴 라디칼을 나타내고 또한 G2가 아세틸도 나타낼 수 있는 일반식(VIII)의 생성물의 히드록실 및 아미노 관능성 보호기의 수소 원자로의 치환은, 일반적으로 0 내지 40℃ 온도에서 산성 매질내, 예를 들면, 1-3개 탄소 원자를 함유한 지방족 알콜(메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올) 내 용해된 염산, 또는 수성 불화수소 산 내에서 처리하여 보호기 G1 및 G2를 치환하고, 및 30 내지 60℃ 온도에서 아세트산의 존재하에, 구리의 존·부재하에 아연을 사용하여 처리하거나, 또는 구리의 존·부재하에 아연의 존재하에, 1-3개 탄소 원자를 함유한 지방족 알콜 내 또는 지방족 에스테르 예를 들면, 에틸 아세테이트, 이소프로필 아세테이트 또는 n-부틸 아세테이트 내용해된 아세트산 또는 염산과 같은 유기산 또는 무기산을 사용하여 처리하여 R5를 치환한다.
일반식(VIII)의 생성물의 보호기의 수소 원자로의 치환은 또한 전해질 환원에 의해서 수행될 수 있다.
일반식(IX)의 생성물의 아미노 관능기 상에 치환체 R1의 도입은 중탄산 나트륨과 같은 유기 또는 무기 염기의 존재하에 유기 용매, 예를 들면 메탄올과 같은 알콜, 에틸 아세테이트와 같은 지방족 에스테르 또는 디클로로메탄과 같은 할로겐화 지방족 탄화수소 내에서, 하기 일반식의 반응성 유도체:
R2-O-CO-Y (XII)
(식에서 R2는 상기 정의한 바와 같고, Y는 할로겐(불소, 염소) 원자 또는 잔기-O-R2 또는 -O-CO-R2를 나타낸다) 또는 벤조일 클로라이드의 작용에 의해서 수행한다.
일반식(VII)의 산은 하기 일반식의 에스테르:
(식에서 Ar, R3, R4 및 R5는 상기 정의한 바와 같고 R6은 페닐로 치환되거나 치환되지 않은 1-4개 탄소 원자를 함유한 알킬 라디칼을 나타낸다)의 염기성 매질내 비누화에 의해 얻을 수 있다.
일반적으로, 비누화는 10 내지 40℃ 및 바람직하게 약 20℃의 온도에서, 메탄올/물 혼합물과 같은 수성-알콜성 매질내, 알칼리금속 수산화물(수산화 리튬, 수산화칼륨, 수산화나트륨) 또는 알칼리 금속 탄산염 또는 중탄산염(중탄산나트륨, 탄산칼륨 또는 중탄산칼륨)과 같은 무기 염기를 사용하여 수행한다.
일반식(XIII)의 에스테르는, 0℃ 내지 반응 혼합물의 비점 온도에서, 황산과 같은 강한 무기산, 또는 p-톨루엔설폰산 또는 이의 피리디늄 염과 같은 강한 유기산 존재하에 불활성 유기 용매내에서, 일반식(XIV)의 생성물, 또는 이의 디알킬 아세탈 또는 에놀 알킬 에테르의 형태를:
(식에서 R3 및 R4는 상기 정의한 바와 같다) 라세믹 형태이거나 바람직하게 2R, 3S 형태인 하기 일반식의 페닐이소세린 유도체:
(식에서 Ar, R5 및 R6는 상기 정의한 바와 같다)에 대해 작용시킴으로써 얻을 수 있다. 특히 적합한 용매는 방향족 탄화수소이다.
일반식(XV)의 생성물은 국제 출원 PCT WO 92/09,589에 서술된 조건하에 제조할 수 있다.
일반식(X)의 무수물은 0 내지 30℃ 온도에서, 수소 첨가된 지방족 탄화수소 및 방향족 탄화수소로부터 선택된 유기 용매내에서 디시클로헥실카르보디이미드와 같은 탈수제와 일반식(VII)의 산을 반응시켜 얻을 수 있다.
일반식(XI)의 활성 산은 0 내지 30℃ 온도에서 테트라히드로퓨란과 같은 적합한 유기 용매내에서 유기 염기, 예를 들면 트리에틸아민과 같은 3차 아민의 존재하에 설피릴 할라이드, 바람직하게 클로라이드, 또는 하기 일반식의 생성물:
R7 - CO - Z (XVI)
(식에서 R7는 C1-4 알킬 라디칼 또는 할로겐 원자 및 니트로, 메틸 및 메톡시 라디칼로부터 선택된 1-5개 같거나 다른 원자 또는 라디칼로 치환되거나 치환되지않은 페닐 라디칼을 나타내고, Z는 할로겐 원자, 바람직하게 염소 원자를 나타낸다)을 일반식(VII)의 산에 작용시켜 얻을 수 있다.
하기 실시예는 본 발명을 예시한다.
실 시 예 1
2,2,2-트리클로로에톡시카르보닐 클로라이드 9.48㎤을 0℃에서 50분동안 염화 메틸렌 180㎤내 메틸 (2R,3S)-페닐이소세리네이트 11.7g (60mmol) 및 피리딘 5.22g의 용액에 첨가한다. 반응 혼합물의 온도를 혼합물이 3시간동안 교반되는 동안 20℃의 영역내 값으로 다시 올라가게 한다. 용액을 0.1N 염산 수용액 100㎤으로, 이어서 물 50㎤으로 2회 세척한다. 유기상의 건조 및 감압 하에서 이의 농축 후, 잔류물을 시클로헥산 300㎤으로 용해시킨다. 그리고 나서, 용매를 처음 결정이 나타낼 때까지 40℃에서 감압(60kPa) 하에 부분적으로 농축시킨다. 이로써 얻어진침전물을 여과로 단리시키고, 이어서 시클로헥산으로 세척하고 건조시킨다. 이로써 메틸 (2R,3S)-2-히드록시-3-페닐-3-(2,2,2-트리 클로로에톡시-카르보닐아미노)프로피오네이트를 86% 수율로 얻으며, 상기의 특징은 다음과 같다:
-양성자 NMR 스펙트럼 (360MHZ; DMSO-d6; 화학적 이동 (ppm); 커플링 상수 J (H2)): 8.12(d, J=9.2, 1H); 7.20(M, 5H); 5.63(M, 1H); 4.89(dd, J=5.1 및 9.2, 1H); 4.77 및 4.67(AB syst, J = -12.3, 1H); 4.29(m, 1H); 3.46(s, 3H).
피리디늄 파라-톨루엔설포네이트 151mg을 톨루엔 100㎤내 메틸(2R,3S)-2-히드록시-3-페닐-3-(2,2,2-트리클로로에톡시카르보닐아미노)프로피 오네이트 11.1g (30mmol) 및 2-메톡시프로펜 3.24g의 용액에 첨가한다. 반응 혼합물을 끓을 때까지 가열한다. 2-메톡시프로펜 19.5g을 함유한 톨루엔 용액 50㎤을 2시간동안 첨가한다. 증류물 80㎤을 얻을 때까지 증류를 수행한다. 반응 혼합물을 20℃ 범위 온도로 냉각시키고, 중탄산나트륨으로 처리하고, 이어서 물로 세척한다. 유기 용액을 건조시키고, 이어서 감압하에 농축시킨다. 이로써 오일성 미정제 생성물 14.5g을 얻고, 상기 생성물을 시클로헥산/에틸 아세테이트 혼합물(90:10 부피비)로 용리하며, 실리카 컬럼 상 크로마토그래피한다. 정제 (4S,5R)-5-메톡시카르보닐-2,2-디메틸-4-페닐-3-(2,2,2-트리클로로 에톡시카르보닐)-1,3-옥사졸리딘 5.68g (수율=46%) 및 정제 (4S,5R)-5-메톡시 카르보닐-2-메틸-2-이소부테닐-4-페닐-3-(2,2,2-트리클로로에톡시카르보닐)-11,3-옥사졸리딘 4.95g (수율=36.7%)을 단리시킨다.
실 시 예 2
수산화 칼륨의 6% (w/v) 메탄을 용액을 (4S,5R)-5-메톡시카르보닐-2,2-디메틸-4-페닐-3-(2,2,2-트리클로로에톡시카르보닐)-1,3-옥사졸리딘 1.24g (3mmol)의 용액에 첨가한다. 반응 혼합물을 20℃ 범위 온도에서 4시간동안 교반시켜둔다. 물 5㎤을 첨가하고 약 20℃의 온도에서 30분동안 교반시킨 후에, 반응 혼합물을 건조될 때까지 농축시킨다. 오일성 잔류물을 물 20㎤으로 용해시키고, 디이소프로필 에테르 20㎤으로 2회 추출한다. 수성상을 pH가 2가 될 때까지 1N 염산 수용액을 첨가함으로써 산성화시키고, 이어서 염화 메틸렌 20㎤으로 추출한다. 유기상을 건조시키고,이어서 감압하에 농축시킨다. 이로써 (4S,5R)-5-카르복실-2,2-디메틸-4-페닐-3-(2,2,2-트리클로로에톡시카르보닐)-1,3-옥사졸리딘 1.15g을 96% 수율로 얻는다.
유사한 결과를 (4S,5R)-5-메톡시카르보닐-2-메틸-2-이소부테닐-4-패닐-3-(2,2,2-트리클로로에톡시카르보닐)-11,3-옥사졸리딘을 사용하여 얻는다.
실 시 예 3
디클로로헥실카르보디이미드 0.495g을 약 20℃ 온도에서 무수 톨루엔 20㎤내 (4S,5R)-5-카르복시-2,2-디메틸-4-페닐-3-(2,2,2-트리클로로에톡시카르보닐)-1,3-옥사졸리딘 0.95g 및 4-아세톡시-2α-벤조일옥시-5B,20-에폭시-1β-13α-디히드록시-9-옥소-7β,10β-비스(2,2,2-트리클로로에톡시카르보닐옥시)-11-탁센 1.43g 및 4-(디메틸아미노)피리딘 0.039g의 교반된 용액에 첨가한다. 반응 혼합물을 2시간동안 교반시킨다. 디시클로헥실우레아를 여과시켜 분리하고, 이어서 톨루엔으로 세척한다. 톨루엔 상을 합하고, 0.1N 염산 수용액 및 중탄산나트륨 포화 수용액으로 계속하여 세척하고, 황산나트륨 상에서 건조시키고, 여과하고, 이어서 감압하에서 건조될 때까지 농축시킨다. 이로써 4-아세톡시-2α-벤조일옥시-5β,20-에폭시-1-히드록시-9-옥소-7β,10β-비스(2,2,2-트리클로로에톡시카르보닐옥시)-11-탁센-13α-일(4S,5R)-3-(2,2,2-트리클로로에톡시카르보닐-2,2-디메틸-4-페닐-5-옥사졸리딘카르복실레이트 2.15g을 약 78% 수율로 얻는다.
실 시 예 4
아연 분말 0.65g을 에틸 아세테이트 5㎤내 실시예 3에서 얻은 생성물 1.28g의 교반된 용액에 첨가하고, 이어서 빙초산 1.8㎤을 5분동안 적가한다. 약간의 발열 반응 및 기체의 방출이 관찰된다. 이어서, 반응 혼합물을 90분동안 45℃에서 유지시키고 나서, 약 20℃ 온도로 냉각시킨다. 아연을 여과시켜 분리시키고 나서 에틸 아세테이트로 세척한다. 합한 유기상을 감압하에서 건조될 때까지 농축시킨다. 잔류물을 톨루엔으로 용해시킨다. 얻은 용액을 다시 감압하에서 건조될 때까지 농축시킨다. 상기 작용을 먼저 헵탄으로 이어서 에틸 아세테이트로 반복한다. 잔류물을 에틸 아세테이트로 용해시킨다. 이어서, 상기 용액을 0.1N 염산 수용액 10㎤으로 추출시킨다. 수성 상을 1N 수산화나트륨 용액을 첨가하여 중화시킨다. 에틸 아세테이트 10㎤을 첨가하고 나서, 이어서 중탄산나트륨 포화 수용액을 첨가하여 pH를 8로 조정한다. 분리시킨 후, 수성상을 에틸 아세테이트 25㎤으로 2회 추출한다. 유기상을 합하고, 황산나트륨 상에서 건조시키고, 여과시키고 나서, 감압하에서 건조될 때까지 농축시킨다. 이로써 4-아세톡시-2α-벤조일옥시-5β,20-에폭시-1β,7α,10α-트리히드록시-9-옥소-11-탁센-13α-일(2R,3S)-3-아미노-2-히드록시-3-페닐프로피오네이트 0.355g을 49% 수율로 얻는다.
실 시 예 5
디-터트-부틸 카르보네이트 0,108g을 메탄올 5㎤내 실시예 4에서 얻은 생성물 0.3g의 용액에 첨가한다. 반응 혼합물을 약 20℃ 온도에서 15시간동안 교반시켜 둔다. 물 20㎤의 첨가 후에, 반응 혼합물을 염화메틸렌 15㎤으로 3회 추출한다. 수성상을 합하고, 황산나트륨 상에서 건조시키고, 이어서 감압하에 건조될 때까지 농축시킨다. 이로써 4-아세톡시-2α-벤조일옥시-5β,20-에폭시-1,7β,10β-트리히드록시-9-옥소-11-탁센-13α-일(2R,3S)-3-터트-부톡시카르 보닐아미노-2-히드록시-3-페닐프로피오네이트 0.395g을 70% 수율로 얻는다.

Claims (6)

  1. 하기 일반식의 탁산 유도체를 제조하는 방법으로서:
    (식에서: R은 수소 원자 또는 아세틸 라디칼을 나타내고, R1은 벤조일 라디칼 또는 R2-O-CO- 라디칼을 나타내는데 이때 R2는
    - 분지되지 않거나 분지된 C1-8 알킬 라디칼, C2-8 알케닐 라디칼, C3-8 알키닐 라디칼, C3-6 시클로알킬 라디칼, C4-6 시클로알케닐 라디칼 또는 C7-10 비시클로알킬 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼들은 할로겐 원자 및 히드록실 라디칼, C1-4 알킬옥시 라디칼, 각 알킬 부분이 1-4개 탄소원자를 함유한 디알킬아미노 라디칼, 피페리디노 또는 몰포리노 라디칼, 1-피페라지닐 라디칼 (C1-4 알킬 라디칼, 또는 알킬 부분이 1-4개 탄소 원자를 함유한 페닐알킬 라디칼로 4 위치에서 치환되거나 치환되지 않음), C3-6 시클로알킬 라디칼, C4-6 시클로알케닐 라디칼, 페닐, 시아노 또는 카르복실 라디칼 또는 알킬부분이 1-4개 탄소원자를 함유한 알킬옥시카르보닐 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환되거나 치환되지 않았고,
    - 또는 R2는 하나 이상의 원자 또는 C1-4 알킬 라디칼 또는 C1-4 알킬옥시라디칼로부터 선택된 라디칼로 치환되거나 치환되지 않은 페닐 라디칼을 나타내고,
    - 또는 R2는 하나 이상의 C1-4 알킬 라디칼로 치환되거나 치환되지 않은 포화 또는 불포화 5- 또는 6- 원 질소함유 헤테로시클릭 라디칼을 나타내고,
    상기 시클로알킬, 시클로알케닐 또는 비시클로알킬 라디칼은 하나 이상의 C1-4 알킬 라디칼로 치환되거나 치환되지 않았고,
    Ar은 할로겐 (불소, 염소, 브롬, 요오드) 원자 및 알킬, 알케닐, 알키닐, 아릴, 아릴알킬, 알콕시, 알킬티오, 아릴옥시, 아릴티오, 히드록실, 히드록시알킬, 메르캅토, 포르밀, 아실, 아실아미노, 아로일아미노, 알콕시카르보닐아미노, 아미노, 알킬아미노, 디알킬아미노, 카르복실, 알콕시카르보닐, 카르바모일, 디알킬카르바모일, 시아노 및 트리플루오로메틸 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 원자 또는 라디칼로 치환되거나 치환되지 않은 페닐 또는 α- 또는 β- 나프틸 라디칼을 나타내고, 알킬 라디칼 및 다른 라디칼의 알킬 부분은 1-4개 탄소 원자를 함유하고, 상기 알케닐 및 알키닐 라디칼은 3-8개 탄소 원자를 함유하고 아릴 라디칼은 페닐 또는 α- 또는 β- 나프틸 라디칼이다.)
    a) 하기 일반식의 보호된 10-데아세틸박카틴 III 또는 박카틴 III 유도체:
    (식에서, G1 및 G2는 히드록실 관능성 보호기를 나타내고 또한 G2는 아세틸도 나타낼 수 있다)를 하기 일반식의 산:
    (식에서 Ar은 상기 정의한 바와 같고, R3 및 R4는 같거나 다를 수 있고, 수소원자 또는 C1-4 알킬 라디칼 또는 C2-4 알케닐 라디칼, 또는 알킬 부분이 1-4개 탄소 원자를 포함하고, 아릴 부분이 하나 이상의 C1-4 알콕시 라디칼로 치환되거나 치환되지 않은 페닐 라디칼을 나타내는 아르알킬 라디칼, 또는 하나 이상의 C1-4 알콕시 라디칼로 치환되거나 치환되지 않은 페닐 라디칼을 나타내는 아릴 라디칼을 나타내거나, 또는 대안으로 R3 및 R4는 그들이 연결된 탄소 원자와 함께 4- 내지 -7-원 고리를 형성하고, R5는 하나 이상의 염소 원자가 치환된 C1-4 알킬 라디칼을 나타낸다) 또는, 상기 산의 활성화된 유도체에 의해 에스테르화하여 하기 일반식의 생성물을 얻고:
    (식에서 Ar, R3. R4, R5, G1 및 G2는 상기 정의한 바와 같다).
    b) 얻어진 생성물의 히드록실 및 아미노 관능성 보호기를 수소 원자로 치환하여 하기 일반식의 생성물을 얻고:
    (식에서 Ar 및 R은 상기 정의한 바와 같다), 이어서
    c) 얻어진 생성물을 아미노 관능기 상에 R1 치환체를 도입시킬 수 있는 시약으로 처리하고,
    d) 얻어진 생성물을 단리시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 에스테르화를 -10 내지 90℃ 온도에서, 유기 용매내 축합제 또는 활성화제의 존재하에 하기 일반식의 산:
    (식에서, Ar, R3, R4 및 R5는 제1항에 정의된 바와 같다)을 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 에스테르화를 0 내지 90℃의 온도에서 유기 용매내 활성화제 존재하에 하기 일반식의 무수물:
    (식에서, Ar, R3, R4 및 R5는 제1항에 정의된 바와 같다)을 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, 에스테르화를 10 내지 80℃의 온도에서 유기 용매내 염기의 존재하에 하기 일반식의 활성화된 산:
    (식에서, Ar, R3, R4 및 R5는 상기 정의된 바와 같고, X는 할로겐 또는 아실옥시 또는 아로일옥시 라디칼을 나타낸다)을 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 하기 일반식의 산:
    (식에서, Ar, R3, R4 및 R5는 제1항에 정의된 바와 같다), 또는 이의 염 또는 예스테르, 무수물, 혼합된 무수물 또는 할로겐화물.
  6. 하기 일반식의 화합물:
    (식에서, Ar, R3, R4, R5, G1 및 G2는 제1항에 정의된 바와 같다)
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